JPWO2019142557A1 - 塗布システム、作業システム及び姿勢変化ユニット - Google Patents

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Abstract

塗布システムはワークにシール剤を吐出するノズルを備えた塗布ユニットと塗布ユニットを移動させる移動装置とを備える。移動装置は第一の水平方向に移動可能に設けられ、第一の水平方向と直交する第二の水平方向に延びる可動ユニットと、第二の水平方向に移動可能に設けられる昇降ユニットと、昇降ユニットによって昇降され、塗布ユニットを支持する姿勢変化ユニットとを含む。ノズルは根元部とシール剤を吐出する先端部とを含む。姿勢変化ユニットは塗布ユニットを鉛直軸回りに回動させる回動機構と塗布ユニットを水平軸回りに回動させる回動機構と、を含み、鉛直軸とノズルとが同軸上に位置し、鉛直軸と水平軸とがノズルの中心軸線上で交差する。

Description

本発明はワークに作業を行う技術に関し、例えば、シール剤を塗布する塗布システムに関する。
互いに貼り合わされる二部材間の一方にシール剤を塗布するシステムが提案されている。例えば、特許文献1には、ワークの姿勢を変化させつつ、ノズルからシール剤を吐出することでワークの立体形状に沿ってシール剤を塗布可能なシステムが提案されている。また、特許文献2や3には、ワークを固定する一方、シール剤を吐出するノズルを垂直多関節タイプのロボットで移動させることで、ワークの立体形状に沿ってシール剤を塗布可能なシステムが提案されている。
特許第2866294号公報 特開2007−263599号公報 特開2006−122740号公報
シール剤の塗布対象となるワークとして、自動車のウィンドシールドを構成するガラス材のように比較的大きなワークの場合、特許文献1のシステムのようにワークの姿勢を変化させると、その為の装置が大掛かりなものとなる。この点で特許文献2及び3のシステムの方が有利である。しかし、特許文献2及び3のシステムでは、ワークを固定するスペースに隣接して垂直多関節タイプのロボットを設置するスペースが必要となり、システムの専有面積が大きくなる傾向にある。また、垂直多関節タイプのロボットでは複数の動作軸の回動の組合せによってノズルの向きや位置の制御を行うため、制御が複雑になる場合がある。
本発明の目的は、システムの専有面積や制御の容易性を改善することにある。
本発明によれば、
ワークにシール剤を吐出するノズルを備えた塗布ユニットと、
前記塗布ユニットを移動させる移動装置と、
を備えた塗布システムであって、
前記移動装置は、
第一の水平方向に延設された案内部に沿って該第一の水平方向に移動可能に設けられ、前記第一の水平方向と直交する第二の水平方向に延びる支持部を含む可動ユニットと、
前記支持部に対して前記第二の水平方向に移動可能に設けられる昇降ユニットと、
前記昇降ユニットによって昇降され、前記塗布ユニットを支持する姿勢変化ユニットと、を含み、
前記塗布ユニットは、前記ノズルに前記シール剤を供給する供給部を含み、
前記ノズルは、前記供給部から前記シール剤が供給される根元部と、前記シール剤を吐出する先端部と、を含み、
前記姿勢変化ユニットは、
前記塗布ユニットを鉛直軸回りに回動させる第一の回動機構と、
前記塗布ユニットを水平軸回りに回動させる第二の回動機構と、を含み、
前記塗布ユニットが、前記ノズルの軸方向が鉛直方向を向いた姿勢において、
前記鉛直軸と前記ノズルとが同軸上に位置し、
前記鉛直軸と前記水平軸とが、前記ノズルの中心軸線上で交差する、
ことを特徴とする塗布システムが提供される。
また、本発明によれば、
ワークの作業箇所に対して作業を行う作業部を含む作業ユニットと、
前記作業ユニットを移動させる移動装置と、
を備えた作業システムであって、
前記移動装置は、
第一の水平方向に延設された案内部に沿って該第一の水平方向に移動可能に設けられ、
前記第一の水平方向と直交する第二の水平方向に延びる支持部を含む可動ユニットと、
前記支持部に対して前記第二の水平方向に移動可能に設けられる昇降ユニットと、
前記昇降ユニットによって昇降され、前記作業ユニットを支持する姿勢変化ユニットと、を含み、
前記作業部は、中実又は中空の軸体であり、
前記姿勢変化ユニットは、
前記作業ユニットを鉛直軸回りに回動させる第一の回動機構と、
前記作業ユニットを水平軸回りに回動させる第二の回動機構と、を含み、
前記作業ユニットが、前記作業部の軸方向が鉛直方向を向いた姿勢において、
前記鉛直軸と前記作業部とが同軸上に位置し、
前記鉛直軸と前記水平軸とが前記作業部の中心軸線上で交差する、
ことを特徴とする作業システムが提供される。
また、本発明によれば、
水平方向における少なくとも一方向と鉛直方向とに移動可能に設けられ、かつ、ワークの作業箇所に対して作業を行う作業部を含む作業ユニットを支持する姿勢変化ユニットであって、
前記作業部は、中実又は中空の軸体であり、
前記姿勢変化ユニットは、
前記作業ユニットを鉛直軸回りに回動させる第一の回動機構と、
前記作業ユニットを水平軸回りに回動させる第二の回動機構と、を含み、
前記作業ユニットが、前記作業部の軸方向が鉛直方向を向いた姿勢において、
前記鉛直軸と前記作業部とが同軸上に位置し、
前記鉛直軸と前記水平軸とが前記作業部の中心軸線上で交差する、
ことを特徴とする姿勢変化ユニットが提供される。
本発明によれば、システムの専有面積や制御の容易性を改善することができる。
本発明の一実施形態に係る作業システムの概略図。 貼り合わされるワークの例を示す斜視図。 姿勢変化ユニット及び作業ユニットの斜視図。 姿勢変化ユニットの部分分解斜視図及び作業ユニットの斜視図。 姿勢変化ユニット、作業ユニット及び計測ユニットの斜視図。 保持ユニットの斜視図。 ワークの位置決め態様を示す図。 図1の作業システムの動作説明図。 ノズルの移動及び姿勢変化の例を示す動作説明図。 図1の作業システムの動作説明図。 図1の作業システムの動作説明図。 図1の作業システムの制御装置のブロック図。
図1は本発明の一実施形態に係る作業システム1の概略図である。本実施形態の作業システム1は二つのワークの一方にシール剤を塗布し、他方のワークを重ねて両者を貼り合わせる塗布システムである。以下、図2は処理対象となるワークの例を示す斜視図である。ワークW2は、本体となるワークW1に装着される装着体であり、本実施形態の場合、ワークW1の上側に被せられるカバーである。ワークW1には位置決め用の複数の穴H1が、ワークW2にはそれぞれの穴H1の位置に対応して位置決め用の複数の穴H2がそれぞれ形成されている。作業システム1はワークW1の周縁に設定された作業位置(シール塗布位置)Wpに沿ってシール剤100を無端状に塗布する。シール剤100はシール機能を有する接着剤の一種であり、シール剤100が塗布されたワークW1にワークW2を上方から重ねて被せることで、両者を貼り合わせることができる。なお、各図において、矢印X及びYは互いに直交する水平方向を示し、矢印Zは鉛直方向を示す。
図1に戻り、作業システム1は、そのフレームを構成すると共に作業システム1の専有面積を画定する板状のベース部材10を備える。ベース部材10はY方向に長い矩形状を有している。ベース部材10には複数の支柱11が立設される設置部が設けられる。本実施形態の場合、Y方向に離間して支柱11が三列、X方向に離間して支柱11が二列設けられ、設置部は、ベース部材10の周縁領域とされている。支持装置4が設置されるベース部材10のY方向の一端側の略半分の領域は設置部10aとされ、支持装置5が設置される他端側の略半分の領域は設置部10bとされている。設置部10aは、Y方向の中央における二本の支柱11と一端側における二本の支柱11の計四本の支柱11に囲まれた領域とされている。設置部10bは、Y方向の中央における二本の支柱11と他端端側における二本の支柱11の計4本の支柱11に囲まれた領域とされている。
支持装置4はワークW1を支持する装置である。本実施形態の場合、後述するパレット8(図7等)を介してワークW1を支持する。支持装置4は、一対の移載機構4aと、一対の移載機構4aを支持する架台4bとを含む。一対の移載機構4aは、それぞれがX方向に延設され、Y方向に離間して配置されており、パレット8をX方向の一方側から他方側に搬送する機構である。一対の移載機構4aは、作業システム1のX方向両側に配置された搬送機構(不図示)と連続して配置されており、この搬送機構および一対の移載機構4aにより図1の手前側(一方側)から移送されてくるパレット8(未処理のワークW1が載置される)を、システム1の外部から内部に向けてX方向に移送し、処理後にはパレット8(互いに貼り付けられたワークW1、W2が載置される)をシステム1の外部となるX方向(他方側)へ移送する。各移載機構4aは例えばベルトコンベアやローラコンベアである。支持装置4は後述する可動ユニット31及び60の移動範囲の下方に配置されている。
支持装置5はワークW2を支持する装置である。本実施形態の場合、後述するパレット8(図7等)を介してワークW2を支持する。支持装置5は支持装置4と同様の構成であり、一対の移載機構5aと、一対の移載機構5aを支持する架台5bとを含む。一対の移載機構5aは、それぞれがX方向に延設されて、Y方向に離間して配置されており、パレット8をX方向の一方側から他方側に搬送する機構である。一対の移載機構5aは、作業システム1のX方向両側に配置された搬送機構(不図示)と連続して配置されており、この搬送機構および一対の移載機構5aにより図1の手前側(一方側)から移送されてくるパレット8(ワークW2が載置される)を、システム1の外部から内部に向けて移送する。各移載機構5aは例えばベルトコンベアやローラコンベアである。支持装置5は後述する可動ユニット60の移動範囲の下方に配置されている。
作業システム1は、作業ユニット2を移動させる移動装置3を含む。移動装置3は、可動ユニット31と、一対の案内フレーム32と、昇降ユニット33と、姿勢変化ユニット34とを含む。一対の案内フレーム32は、可動ユニット31のY方向の移動を案内する案内部として機能する。一対の案内フレーム32は、それぞれがY方向に延設され、X方向に離間して支柱11に支持されている。
可動ユニット31は、一対の案内フレーム32上に架設された梁状のユニットである。可動ユニット31は、X方向に延びる支持部31aと、支持部31aのX方向の両端部に配置された駆動部31bとを含む。図1において駆動部31bは一つのみ図示されている。各駆動部31bは駆動源としてモータを含み、案内フレーム32に対して走行力を発揮する。モータの駆動力の伝達機構として、案内フレーム32には、例えば、ラック又はボールねじ軸が設けられ、駆動部31bは、ラックに噛み合うピニオン又はボールねじ軸に噛み合うボールナットを備える。二つの駆動部31bが同期的に駆動制御されることで、可動ユニット31が一対の案内フレーム32の案内によってY方向に平行移動可能である。
支持部31aには、スライダ31cがX方向に移動可能に設けられており、支持部31aはスライダ31cの移動を案内する案内フレームとして機能する。スライダ31cには駆動部31dが設けられている。駆動部31dは駆動源としてモータを含み、支持部31aに沿ってスライダ31cが走行される。モータの駆動力の伝達機構として、支持部31aには、例えば、ラック又はボールねじ軸が設けられ、駆動部31dは、ラックに噛み合うピニオン又はボールねじ軸に噛み合うボールナットを備える。
なお、本実施形態では、可動ユニット31が梁状のユニットであるが、門型のユニットであってもよい。この場合、一対の案内フレーム32に相当する構成は、複数の支柱11を用いずに、ベース部材10上に支持される。
昇降ユニット33はスライダ31cに固定されており、スライダ31cの移動によって支持部31aに沿って昇降ユニット33がX方向に移動される。昇降ユニット33は駆動部33aを有する。駆動部33aは駆動源としてモータを含み、モータの駆動力により姿勢変化ユニット34及び作業ユニット2がZ方向に移動(昇降)される。昇降機構としては、ボールねじ機構やラック−ピニオン機構等を採用可能である。
以上の構成により、作業ユニット2及び姿勢変化ユニット34は、X、Y、Zの各方向に平行移動可能である。なお、本実施形態では作業ユニット2及び姿勢変化ユニット34を水平方向における二方向(X、Y)で移動可能な構成としたが、水平方向については、作業の目的に応じて、X方向のみ、又は、Y方向のみに移動可能な構成であってもよい。
作業ユニット2及び姿勢変化ユニット34について、図1に加えて図3〜図5を参照して説明する。図3は姿勢変化ユニット34及び姿勢変化ユニット34に支持される作業ユニット2の斜視図である。図4は図3の斜視図において、姿勢変化ユニット34のカバー36dを取り外した状態を示す。図5は視線を変えた姿勢変化ユニット34及び作業ユニット2の斜視図であり、計測ユニット7の外観も図示されている。
作業ユニット2は、シール剤100をワークW1に塗布する塗布ユニットである。作業ユニット2は、シール剤100を吐出するノズル21と、ノズル21にシール剤100(図2参照)を供給する供給部22とを含む。また、作業ユニット2は、ノズル21からのシール剤100の吐出を制御する塗布制御装置(図12に示す制御装置9B)を含む。ノズル21は、シール剤100を吐出する作業を行う作業部である。ノズル21は、中空の軸体であり、先端部21aと根元部21bとを含む円筒状の管である。根元部21bは供給部22に接続されており、供給部22からシール剤100が供給される。供給部22によって根元部21bに圧送されたシール剤100は先端部21aの開口から吐出される。供給部22は、シール剤100の供給源(不図示)と配管を介して接続される。供給部22は、シール剤100を貯留する貯留部と、貯留部内のシール剤100をノズル21へ圧送する駆動機構とを含む。
制御装置9Bは、ノズル21からのシール剤100の吐出の開始および停止と、シール剤100の吐出量と、を制御する。また、制御装置9Bは、移動装置3および姿勢変化ユニット34の動作を制御する後述の制御装置9A(図12)と通信を行い、ノズル21の先端の移動速度に応じてシール剤100の吐出量を制御する。作業ユニット2に貯留部や制御装置9Bが含まれることでシール剤の温度やシール剤を供給する供給路の圧力変化の影響を防止することができ、より正確にシール剤100の吐出量を制御できる。こうした作業ユニット2としては、公知の塗布ユニットを採用可能である。
計測ユニット7は、ノズル21から吐出されたシール剤100の塗布状態を計測するセンサである。計測ユニット7は、本実施形態の場合、レーザ光7aを出射してその反射光を計測する測距計である。レーザ光7aの照射先はノズル21の軸方向の略延長線上に設定される。計測ユニット7により、ワークW1へ吐出されたシール剤100の形状(厚み、幅等)を監視することで、シール剤100の吐出異常がないか等、シール剤100が適切に塗布されているか否かを判定することができる。例えば、厚みにおいては、シール塗布位置Wpを基準に塗布済みのシール剤100の高さを監視し、幅においては、予め設定された設置値を基準に塗布済みのシール剤100の幅を監視することで判定することができる。
姿勢変化ユニット34は、上部フレーム34aと、下部フレーム34cと、これらをZ方向のZA軸回りに回動自在に連結する連結部34bと、を含む。上部フレーム34aは昇降ユニット33の下端部に固定されており、昇降ユニット33によって姿勢変化ユニット34及び作業ユニット2並びに計測ユニット7が全体として昇降される。
上部フレーム34aには、回動機構35が設けられている。回動機構35は、上部ユニット34aに対してZA軸回りに下部ユニット34cを回動させる機構であり、駆動源であるモータ35aと、伝達機構35bとを含む。伝達機構35aは例えばベルト伝動機構であり、モータ35aにより駆動される駆動プーリと、連結部34bに設けられ、下部フレーム34cに固定されたた回転軸側の従動プーリとを備え、モータ35aの駆動によって下部フレーム34cがZA軸回りに回動される。
下部フレーム34cは、板状の水平支持部材34dと、板状の垂直支持部材34eとを含み、水平支持部材34dの一方側の端部と垂直支持部材34eの上端部とが連結されてこれらが逆L字型に組み合わされている。水平支持部材34dの中央部には連結部34b(その回転軸)が連結されている。垂直支持部材34eは、その上端部が水平支持部材34dの一方側の端部に固定されており、下方へ延設されている。垂直支持部材34eの下端部には、水平方向に延びる円筒形状の軸支部34fが設けられており、この軸支部34fを介して支持部材37が連結されている。
支持部材37は、作業ユニット2及び計測ユニット7を支持する部材である。支持部材37は、逆L字型の下部フレーム34cの下側に位置しており、作業ユニット2の供給部22の側部が固定される固定部37aと、計測ユニット7が固定される固定部37bとを含む。固定部37aは板状の部材であり、固定部37bは固定部37aを構成する板状の部材に取り付けられたブラケットである。支持部材37の下端部には水平方向に延びる軸状の連結部37cが設けられている。連結部37cは、軸支部34fと同軸に接続され、支持部材37は軸支部34f及び連結部37cの中心軸である水平方向の軸XA回りに回動自在である。つまり、作業ユニット2及び計測ユニット7並びに支持部材37は軸XA回りに一体的に回動可能となっている。
垂直支持部材34eには、回動機構36が設けられている。回動機構36は、下部フレーム34cに対してZX軸回りに支持部材37を回動させる機構であり、駆動源であるモータ36aと、伝達機構36eと、伝達機構36bと、回転軸36cとを含む。モータ36aは、垂直支持部材34eの他方側面(逆L字型の下部フレーム34cの下側となる面)に配置されており、伝達機構36b及び回転軸36cは垂直支持部材34eの一方側面に配置されている。このように垂直支持部材34eの二側面に回動機構36の構成要素を区分けして配置することで、伝達機構36bの設置スペースのコンパクト化や、重量配分による支持バランスが図れる。
伝達機構36eはモータ36aの駆動力を伝達機構36bに伝達する中継伝達機構であり、垂直支持部材34eに構成される。伝達機構36eは、モータ36aと駆動ギア362との間に設けられ、モータ36aの駆動力を所定の比率で伝達する伝達要素36g(例えば、減速機)とを含む。伝達要素36gは、モータ36aの出力軸に接続される不図示の伝達入力部と、駆動ギア362が接続される伝達出力部36goと、垂直支持部材34eに取り付ける不図示の伝達取付部とを含み、伝達出力部36goが垂直支持部材34eに形成された開口を通って回転可能に垂直支持部材34eに取り付けられる。回転軸36cは、連結部37cに固定される水平軸であり、垂直支持部材34eの下端部に位置している。
伝達機構36bは、本実施形態の場合、駆動ギア362、ラック363、従動ギア361及び364を含むラック−ピニオン機構である。駆動ギア362はラック363と噛み合わされる。ラック363はZ方向にギア歯が配列された部材であり、板状のブラケット363aの一側面に固定されている。ブラケット363aの他側面にはZ方向に離間して配置された複数のスライダ363bが設けられている。Z方向に延びるレール部材363cが垂直支持部材34eに固定され、このレール部材363cに複数のスライダ363bが係合され、レール部材363cに沿ってスライドされる。これらの構成によって、ラック363はZ方向に移動可能に垂直支持部材34eに支持されている。モータ36aの駆動に伴う駆動ギア362の回動がラック363に伝達され、ラック363が昇降移動される。なお、伝達機構36bは、ラック−ピニオン機構に限定するものではなく、ベルト伝動機構等、他の種類の伝達機構であってもよい。
従動ギア361は垂直支持部材34eの下部において垂直支持部材34eに対して回転自在に支持されており、ラック363と噛み合わされる。ラック363の昇降により従動ギア361が回動される。従動ギア364は回転軸36cの端部に固定され、従動ギア361と噛み合わされる。従動ギア364は、回転軸36cを介して連結部37cに接続されている。したがって、駆動ギア362の回転は、ラック363、従動ギア361を介して従動ギア364に伝達され、更に、回転軸36cを介して連結部37cに伝達される。こうした機構によって、モータ36aを回動させることによって支持部材37を軸XA回りに回動させることができる。本実施形態では、支持部材37はモータ36aの回動と逆方向に回動される。
本実施形態の場合、垂直支持部材34eの下端部に軸支部34fを設け、連結部37cを支持する一方、モータ36aを垂直支持部材34eの下端部よりも上側、特に、垂直支持部材34eの上部に配置している。換言するとモータ36aをノズル21から上方に離れた位置に配置している。これは、ノズル21からワークW1へシール剤100を吐出する際に、モータ36aがワークW1と干渉することを防止することに役立つ。モータ36aは装置を構成する部材の中で、サイズが大きい部品の一つであり、ワークW1との干渉を考慮すべき部品の一つである。モータ36aをノズル21の近傍に位置させると、モータ36aとワークW1との干渉が生じるため、ワークW1にノズル21を近づけてシール剤100を吐出させることが難しくなる。本実施形態では、伝達機構36bを設けてモータ36aをノズル21から遠ざけることによって、モータ36aとワークW1とが干渉することを防止し、ワークW1にノズル21を近づけてシール剤100を吐出させることが可能となる。
伝達機構36bの周囲はカバー36dで覆われ、これによって、伝達機構36bへの異物の付着を抑制している。カバー36dは垂直支持部材34eに固定されている。
以上の構成により、回動機構35によって作業ユニット2が軸ZA回りに回動され、回動機構36によって作業ユニット2が軸XA回りに回動される。これによりノズル21の向き、つまり、シール剤100の吐出方向を任意の方向に変更することができる。本実施形態の場合、計測ユニット7は、作業ユニット2に対する相対位置関係を保ったまま、作業ユニット2と一体的に回動されるため、作業ユニット2の姿勢に左右されずに、常に安定してシール剤100の塗布状態を計測することができる。
ここで、図5を参照して軸ZA、軸XAとノズル21との位置関係について説明する。同図は、作業ユニット2は、ノズル21の軸方向がZ方向下向きである初期姿勢(或いは基準姿勢)にある場合を示している。この初期姿勢において、ノズル21の中心軸線と軸ZAとは同軸上に位置し、また、軸ZAと軸XAとがノズル21の部位21c上で交差している。ここで、ノズル21の部位21cと先端部21aとの距離は既知であるので、作業ユニット2の姿勢を変化させたときの先端部21aの位置は演算により容易に求めることができる。このため、例えば、作業ユニット2の姿勢を変化させたとしても先端部21aの位置とシール塗布位置Wpとの距離を、お互いが接触しないように、かつ、供給するシール剤が安定して供給できる程度の距離に維持することができる。その結果、ワークW1に対するシール剤100の塗布制御を比較的簡易に行うことができる。また、ノズル21の姿勢変更(特に軸XA周りの姿勢変更)における先端部21aの移動速度(軸XAを中心とした先端部21aの周速に移動装置3による作業ユニット2の移動速度を合わせた速度)に応じてシール剤100の吐出量が制御される。
本実施形態の場合、部位21cは、先端部21a及び根元部21bの双方から離れた位置であり、ノズル21の軸方向の中間部に位置している。軸ZA(初期姿勢におけるノズル21の中心軸線)と軸XAとの交点である部位21cは、本実施形態に限定されるものではなく、例えば、先端部21aに位置させてもよい。この場合、作業ユニット2の姿勢を変化させ、ノズル21の姿勢を変更させても、ノズル21の先端部21aの位置は常に一定となる。よって、ワークW1に対するシール剤100の塗布位置の演算、制御を行う必要がなくなる。一方、軸支部34f等の周囲の構成とワークW1との距離が近くなる。このため、周囲の構成とワークW1との干渉を避けるためにノズル21の先端部21aをワークW1に十分に近づけることができなくなる。ワークW1との干渉を避ける場合、部位21cは先端部21aから根元部21b側へ離れた部位が好ましい。
軸ZAと軸XAとの交点である部位21cは、根元部21bに位置させてもよい。この場合、周囲の構成とワークW1との干渉が殆ど問題とならなくなるため、ノズル21の先端部21aをワークW1に十分に近づけることができる。一方、作業ユニット2の姿勢の変化の際に、先端部21aの位置の変化量が大きくなるため、ワークW1の形状によっては作業ユニット2を移動させながらシール剤100を連続的に塗布することが難しい場合がある。
以上の点で、本実施形態のように部位21cがノズル21の軸方向の中間部に位置していることは、ワークW1との干渉回避とシール剤100の連続塗布の点でバランスがよい。
図1に戻り、作業システム1は、支持装置5から支持装置4へワークW2を搬送する搬送装置6を備える。搬送装置6は、可動ユニット60と、昇降ユニット61と、回動ユニット62と、保持ユニット63とを含む。本実施形態の場合、一対の案内フレーム32を、可動ユニット60のY方向の移動を案内する案内部としても兼用している。しかし、可動ユニット60に専用の案内部を設けてもよい。
可動ユニット60は、一対の案内フレーム32上に架設された梁状のユニットである。可動ユニット60のX方向の両端部には駆動部60aが設けられている。各駆動部60aは駆動源としてモータを含み、案内フレーム32に沿って可動ユニット60が走行される。二つの駆動部60aが同期的に駆動制御されることで、可動ユニット60が一対の案内フレーム32の案内によってY方向に平行移動可能である。
なお、本実施形態では、可動ユニット60が梁状のユニットであるが、門型のユニットであってもよい。
昇降ユニット61は、可動ユニット60のX方向における任意の位置(図1中では中央部)に設けられており、回動ユニット62を昇降する。昇降ユニット61は駆動部61aを有する。駆動部61aは駆動源としてモータを含み、モータの駆動力により回動ユニット62をZ方向に移動(昇降)させる。昇降機構としては、ボールねじ機構やラック−ピニオン機構等を採用可能である。
回動ユニット62は、昇降ユニット61により昇降される柱状の昇降体であると共に、その下端部に保持ユニット63をZ軸回りに回動させる機構(例えば、モータと減速機)を含む。
保持ユニット63は、回動ユニット62の下端部に支持されており、支持装置5上のワークW2を保持するユニットである。昇降ユニット61の駆動により保持ユニット63は昇降され、回動ユニット62の駆動により保持ユニット63のZ軸と直交する平面における向きを補正可能である。
図6は保持ユニット63の斜視図である。保持ユニット63は、回動ユニット62の下端部に連結されるフレーム631を備える。このフレーム631には、ワークW2を保持する複数の保持部632が支持されている。保持部632は、例えば、エアの吸引によりワークW2を吸着する。フレーム631には、また、保持されるワークW2の位置決めを行う複数の位置決め部633及び634が設けられている。複数の位置決め部633は、軸状の部材であり、ワークW2の位置決め用の穴H2に嵌合してそのX及びY方向の位置決め(水平方向の位置きめ)を行う。複数の位置決め部634は、ロッド状の部材であり、ワークW2の上面に当接してそのZ方向の上方向への位置決めを行う。複数の位置決め部634は、当接する部位とフレーム631との高さに応じて、異なる長さを有している。
図7は保持ユニット63によるワークW2の保持態様の一例を図示している。同図の例では、パレット8を介して支持装置4上に支持されたワークW1にワークW2を重ねる工程を例示している。同図に示すように、ワークW2の上面を複数の保持部632が吸着することによりワークW2が保持ユニット63に支持される。また、位置決め部633が穴H2に嵌合してそのX及びY方向の位置決めが維持されている。更に、位置決め部634の先端がワークW2の上面に当接してそのZ方向の位置決めが維持されている。ワークW2の上面は立体的な形状を有しているが、長さが異なる複数の位置決め部634が当接することで、そのZ方向の位置決めを精度よく行うことができる。
なお、ワークW1はパレット8上で以下の通り位置決めされている。すなわち、パレット8は、その本体をなすフレーム81に、軸状の位置決め部82が立設されている。位置決め部82はワークW1の位置決め用の穴H1に嵌合し、これによりパレット8とワークW1との間の位置決めがなされる。フレーム81は、また、側方に突出した当接部83を有している。当接部83にはV字型の切欠きが形成されている。支持装置4には位置決め部4cが設けられている。位置決め部4cは、当接部83のV字の切欠きに当接する当接片と、当接片を切欠きに進入させ、また、退避させるアクチュエータ(例えばエアシリンダ、電動シリンダ)を含む。図7は、位置決め部4cが当接部83と当接してパレット8を水平方向に位置決めしている状態を示している。なお、支持装置5にも位置決め部4cと同様の位置決め部が設けられている(不図示)。
次に、図12を参照して作業システム1の制御装置9Aおよび制御装置9Bの構成について説明する。本実施形態では制御装置9Aにより主にノズル21の位置や姿勢の制御を行い、制御装置9Bにより主にシール剤の吐出量を制御する。しかし、これらの制御を一つの制御装置で行う構成も採用可能である。
制御装置9Aは、CPU等の処理部91Aと、RAM、ROM等の記憶部92Aと、外部デバイスと処理部91Aとをインターフェースするインターフェース部93Aと、を含む。インターフェース部93Aには、ホストコンピュータとの通信や制御装置9Bのインターフェース部93B3との通信を行う通信インターフェースも含まれる。ホストコンピュータは、例えば、作業システム1が配置された製造設備全体の管理を制御するコンピュータである。
処理部91Aは記憶部92Aに記憶されたプログラムを実行し、入力デバイスとなる各種のセンサ95Aの検出結果や上位のコンピュータ等の指示に基づいて、出力デバイスとなる各種のアクチュエータ94Aを制御する。記憶部92Aには処理対象のワークの種類に対するシール剤100の塗布経路の座標情報等、シール剤の塗布に関わる情報もそれぞれ記憶する。各種のセンサ95Aには、例えば、上述した計測ユニット7や、可動の構成の位置を検知するセンサ等が含まれる。各種のアクチュエータ94Aには、上述した各種のモータ等が含まれる。
制御装置9Bは、CPU等の処理部91Bと、RAM、ROM等の記憶部92Bと、外部デバイスと処理部91Bとをインターフェースするインターフェース部93Bと、を含む。インターフェース部93Bには、制御装置9Aとの通信を行う通信インターフェースも含まれる。
処理部91Bは記憶部92Bに記憶されたプログラムを実行し、入力デバイスとなる各種のセンサ95Bの検出結果や制御装置9Aとの通信に基づいて、出力デバイスとなる各種のアクチュエータ94Bを制御する。記憶部92Bにはシール剤の種類に対する吐出量等、シール剤の塗布に関わる情報もそれぞれ記憶する。各種のセンサ95Bには、例えば、作業ユニット2の周囲温度や、供給されるシール剤100の量を検知するセンサ等が含まれる。各種のアクチュエータ94Bには、供給されたシール剤100の吐出を制御する各種アクチュエータ等が含まれる。
<制御例>
制御装置9A及び9Bの制御による作業システム1の動作例について図8〜図11を参照して説明する。図8はワークW1、W2のシステム内への移載動作及び塗布ヘッド2の塗布動作を示している。ワークW1、W2は不図示の搬送機構を介して支持装置4、5にそれぞれ移載される。移載の際、支持装置4の移載機構4aは、ワークW1が搭載されたパレット8を取り込んで位置決めする。また、支持装置5の移載機構5aは、ワークW2が搭載されたパレット8を取り込んで位置決めする。
支持装置4上にワークW1が移載されると、作業ユニット2及び移動装置3によりワークW1に対するシール剤100の塗布が行われる。塗布動作は、例えば、作業ユニット2を移動させながらノズル21からシール剤100を吐出することにより行う。作業ユニット2は移動装置3によって、X、Y、Zの各方向に移動されつつ、ワークW1の形状に対応して軸ZA、軸XA回りに回動されて姿勢を変化される。図9は姿勢変化の一例を示す模式図である。シール剤100の吐出は、例えば、インクジェットノズルのように所定量を間欠的に吐出する不連続吐出タイプ、または所定量を連続的に吐出する連続吐出タイプのいずれであっても良い。
ノズル21は、例えば、ワークW1の表面の法線方向に常時起立した状態となるように、その傾きが制御される。図9の例では、ワークW1における面W1A、W1B、W1Cに設定されたシール塗布位置Wpに沿って、ノズル21によるシール剤100の塗布が行われる。なお、ノズル21のよるシール剤の塗布作業は、ワークW1と接触しないように所定の距離離間させた状態で行われる。先ず、面W1Aにおいて、ノズル21は、ノズル21A、21Bのように面W1Aに対して垂直な姿勢に直立される。この、直立状態のノズル21A、21BをY方向に移動させる。これにより、面W1Aにシール剤100が塗布される。面W1Aの塗布完了後、傾斜面である面W1Bへのシール剤100の塗布が行われる。このとき、直立させていたノズル21A、21Bの上部を後傾させるように傾ける。具体的には、回動機構36を駆動させることによりノズル21を回動させ、ノズル21C、21Dが、面W1Bに対して垂直な姿勢になるように傾けられる。この傾動状態のノズル21C、21DをX方向に移動させる。これにより、面W1Bにシール剤100が塗布される。面W1Bの塗布完了後、再び平面部である面W1Cの塗布が行われる。このとき、ノズル21C、21Dの傾きを戻し、ノズル21は面W1Cに対して垂直な姿勢に直立される。この直立状態のノズル21E、21FをY方向に移動させることで、面W1Cにシール剤100が塗布される。
前述したノズル21の姿勢制御は、ノズル21の移動を停止させることなく、シール剤100の塗布面の傾きに応じてリアルタイムに行われる。
このとき、移動装置3によるノズル21の移動速度に応じて作業ユニット2によるシール剤100の吐出量を制御することでシール剤100をより均一に塗布することができる。例えば、ノズル21を低速で移動する部位においてはシール剤100の吐出量を少なくし、高速で移動する部位においてはシール剤100の吐出量を多くする。作業ユニット2を軸XA回りに回動させる場合は、ノズル21の周速度に応じてシール剤100の吐出量を制御することで、作業ユニット2の姿勢変化の前後においても、シール剤100をより均一に塗布することができる。
具体的には、制御装置9Aが移動装置3および姿勢変化ユニット34の移動制御を行う過程でノズル21の先端部21aの移動速度を算出する。ノズル21aの先端移動速度の算出は、可動ユニット31と昇降ユニット33と姿勢変化ユニット34とによって移動されるノズル21の部位21cの第1移動速度情報と、部位21cを中心に移動する先端部21aの第2移動速度情報とに基づいて行われる。そして、算出された先端移動速度情報はインターフェース部93Aを介して制御装置9Bへ送信される。制御装置9Bは、インターフェース部93Bを介して先端移動速度情報を受信し、受信した先端移動速度情報に基づいてシール剤100の吐出量を制御する。シール剤100の吐出量は、所定の先端速度に対して吐出量が予め設定されている。なお、シール塗布位置Wpとノズル21の先端部21aとの距離は、シール剤100の粘度や材質等により最適な高さに設定され、制御される。
ワークW1に対するシール剤100の塗布が完了すると、ワークW2をワークW1上に重ねる工程に移る。移動装置3は、予め設定された待機位置に移動し、待機する。図10は支持装置5上のワークW2を保持ユニット63で保持する工程を示している。保持ユニット63は昇降ユニット61により一旦降下されてワークW2を保持する。保持の際に、複数の位置決め部633及び634によってワークW2が保持ユニット63に対して位置決めされると共に、適切な姿勢で保持される。保持ユニット63がワークW2を保持すると、昇降ユニット61により保持ユニット63を上昇してワークW2を支持装置5から上方へ移動させる。
続いて図11に示すように可動ユニット60をY方向に移動させ、ワークW2をワークW1の上方の位置へ搬送する。保持ユニット63を昇降ユニット61により降下してワークW2をワークW1に重ねる。これによりワークW1にシール剤100を介してワークW2が貼り合わせられる。その後、搬送装置6は初期位置(図8の位置)に戻る。互いに貼り合わせられたワークW1及びW2は、移載機構4aによって、システム外の搬送機構(不図示)へと移載される。以降、同様の工程が繰り返されることになる。
このようにして本実施形態では、ワークW1に対するシール剤100の塗布作業等を行うことができる。作業ユニット2を移動する移動装置3が、ワークW1の上方で動作する構成としたので、作業システム1の専有面積は、実質的にワークW1の大きさよりやや大きい程度で足りる。よって、垂直多関節タイプのロボットをワークの側方に配置したレイアウトよりも、システムの専有面積を小型化できる。特に複数の作業を行う作業システムを複数並べて形成させた生産システムにおいては、生産システム全体の専有面積を小さくすることができ、工場を有効に活用することが可能になる。また、作業ユニット2の移動は、X、Y、Zの各平行移動であり、また、初期姿勢において作業ユニット2の姿勢変化の軸ZAがノズル21と同軸上で軸XAもノズル21上で軸ZAと交差するので、垂直多関節タイプのロボットのように複数の動作軸の回動の組合せによる場合よりも吐出位置に対するノズル先端部の位置制御およびノズル先端部の速度に応じた塗布制御を容易化することができる。
<他の実施形態>
上記実施形態においては、シール剤の連続塗布の作業に関する作業システムを例示したが、本発明は、シール剤の塗布作業以外の作業にも適用可能である。すなわち、本発明は、ワークの作業箇所に対して作業を行う作業部を含む作業ユニットを備えた作業システムや該作業ユニットを支持する姿勢変化ユニットに適用可能である。作業部は、中実又は中空の軸体である。例えば、レーザ切断やレーザ加工を行うためにレーザを照射するノズル(例えばレーザガン)、面取り加工や切削加工を行うドリルや切削工具、溶接(例えば、MIG溶接やMAG溶接など)を行う溶接材の供給機能を有するノズルを挙げることができる。
本発明は上記実施の形態に制限されるものではなく、本発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、本発明の範囲を公にするために、以下の請求項を添付する。
上部フレーム34aには、回動機構35が設けられている。回動機構35は、上部ユニット34aに対してZA軸回りに下部ユニット34cを回動させる機構であり、駆動源であるモータ35aと、伝達機構35bとを含む。伝達機構35は例えばベルト伝動機構であり、モータ35aにより駆動される駆動プーリと、連結部34bに設けられ、下部フレーム34cに固定されたた回転軸側の従動プーリとを備え、モータ35aの駆動によって下部フレーム34cがZA軸回りに回動される。
垂直支持部材34eには、回動機構36が設けられている。回動機構36は、下部フレーム34cに対してXA軸回りに支持部材37を回動させる機構であり、駆動源であるモータ36aと、伝達機構36eと、伝達機構36bと、回転軸36cとを含む。モータ36aは、垂直支持部材34eの他方側面(逆L字型の下部フレーム34cの下側となる面)に配置されており、伝達機構36b及び回転軸36cは垂直支持部材34eの一方側面に配置されている。このように垂直支持部材34eの二側面に回動機構36の構成要素を区分けして配置することで、伝達機構36bの設置スペースのコンパクト化や、重量配分による支持バランスが図れる。
制御装置9Aは、CPU等の処理部91Aと、RAM、ROM等の記憶部92Aと、外部デバイスと処理部91Aとをインターフェースするインターフェース部93Aと、を含む。インターフェース部93Aには、ホストコンピュータとの通信や制御装置9Bのインターフェース部93Bとの通信を行う通信インターフェースも含まれる。ホストコンピュータは、例えば、作業システム1が配置された製造設備全体の管理を制御するコンピュータである。
具体的には、制御装置9Aが移動装置3および姿勢変化ユニット34の移動制御を行う過程でノズル21の先端部21aの移動速度を算出する。ノズル21の先端移動速度の算出は、可動ユニット31と昇降ユニット33と姿勢変化ユニット34とによって移動されるノズル21の部位21cの第1移動速度情報と、部位21cを中心に移動する先端部21aの第2移動速度情報とに基づいて行われる。そして、算出された先端移動速度情報はインターフェース部93Aを介して制御装置9Bへ送信される。制御装置9Bは、インターフェース部93Bを介して先端移動速度情報を受信し、受信した先端移動速度情報に基づいてシール剤100の吐出量を制御する。シール剤100の吐出量は、所定の先端速度に対して吐出量が予め設定されている。なお、シール塗布位置Wpとノズル21の先端部21aとの距離は、シール剤100の粘度や材質等により最適な高さに設定され、制御される。

Claims (18)

  1. ワークにシール剤を吐出するノズルを備えた塗布ユニットと、
    前記塗布ユニットを移動させる移動装置と、
    を備えた塗布システムであって、
    前記移動装置は、
    第一の水平方向に延設された案内部に沿って該第一の水平方向に移動可能に設けられ、前記第一の水平方向と直交する第二の水平方向に延びる支持部を含む可動ユニットと、
    前記支持部に対して前記第二の水平方向に移動可能に設けられる昇降ユニットと、
    前記昇降ユニットによって昇降され、前記塗布ユニットを支持する姿勢変化ユニットと、を含み、
    前記塗布ユニットは、前記ノズルに前記シール剤を供給する供給部を含み、
    前記ノズルは、前記供給部から前記シール剤が供給される根元部と、前記シール剤を吐出する先端部と、を含み、
    前記姿勢変化ユニットは、
    前記塗布ユニットを鉛直軸回りに回動させる第一の回動機構と、
    前記塗布ユニットを水平軸回りに回動させる第二の回動機構と、を含み、
    前記塗布ユニットが、前記ノズルの軸方向が鉛直方向を向いた姿勢において、
    前記鉛直軸と前記ノズルとが同軸上に位置し、
    前記鉛直軸と前記水平軸とが前記ノズルの中心軸線上で交差する、
    ことを特徴とする塗布システム。
  2. 請求項1に記載の塗布システムであって、
    前記姿勢変化ユニットは、前記塗布ユニットを支持する支持部材を更に含み、
    前記支持部材は、
    前記供給部が固定される第一の固定部と、
    前記第二の回動機構に連結される連結部と、を含む、
    ことを特徴とする塗布システム。
  3. 請求項1に記載の塗布システムであって、
    前記鉛直軸と前記水平軸とが交差する前記中心軸線上の部位が前記先端部から前記根元部側へ離れた部位である、
    ことを特徴とする塗布システム。
  4. 請求項2に記載の塗布システムであって、
    前記ノズルから吐出された前記シール剤の塗布状態を計測する計測ユニットを更に含み、
    前記支持部材は、前記計測ユニットが固定される第二の固定部を更に含む、ことを特徴とする塗布システム。
  5. 請求項1に記載の塗布システムであって、
    前記移動装置を制御する制御装置を更に備え、
    前記制御装置は、前記ワークに対する前記シール剤の塗布経路に沿って、前記ノズルの吐出方向を変化させつつ、前記ノズルの位置を制御する、
    ことを特徴とする塗布システム。
  6. 請求項1に記載の塗布システムであって、
    前記塗布ユニットを制御する制御装置を更に備え、
    前記制御装置は、前記移動装置による前記ノズルの移動速度に応じて前記塗布ユニットによる前記シール剤の吐出量を制御する、
    ことを特徴とする塗布システム。
  7. 請求項1に記載の塗布システムであって、
    前記姿勢変化ユニットは、
    鉛直方向に延設された支持部材を備え、
    前記塗布ユニットは、前記支持部材の下端部に前記水平軸回りに回動自在に支持され、
    前記第二の回動機構は、
    前記下端部よりも上側において前記支持部材に支持されたモータと、
    前記支持部材に支持され、前記モータの駆動力を前記塗布ユニットへ伝達させて前記塗布ユニットを前記水平軸回りに回動させる伝達機構と、を含む、
    ことを特徴とする塗布システム。
  8. 請求項7に記載の塗布システムであって、
    前記伝達機構は、
    前記塗布ユニットの回動軸に接続された従動ギアと、
    前記従動ギアよりも上側に配置され、前記モータの駆動力により駆動される駆動ギアと、
    前記駆動ギアの回転を前記従動ギアに伝達するラックと、を含む、
    ことを特徴とする塗布システム。
  9. 請求項1に記載の塗布システムであって、
    前記第一の水平方向に延設され、前記第二の水平方向に離間した、前記案内部としての一対のフレームと、
    前記一対のフレームを支持する複数の支柱と、
    前記ワークを支持する支持装置と、を更に備え、
    前記可動ユニットは、前記一対のフレームに架設され、
    前記支持装置は、前記可動ユニットの移動範囲の下方に配置され、かつ、前記ワークを位置決めする位置決め部を含み、
    前記塗布システムは、前記複数の支柱及び前記支持装置を支持するベース部材を更に含み、
    前記ベース部材は、前記複数の支柱が設置される設置部と、前記支持装置が設置される設置部と、を含む、
    ことを特徴とする塗布システム。
  10. 請求項9に記載の塗布システムであって、
    前記支持装置は、前記ワークを前記塗布システムの外部と内部との間で移送する移送機構を更に含む、
    ことを特徴とする塗布システム。
  11. 請求項9に記載の塗布システムであって、
    前記支持装置に支持されたワーク上に、該ワークと前記シール剤を介して装着される装着体を搬送する搬送装置を更に備え、
    前記搬送装置は、
    前記一対のフレームに架設され、前記第一の水平方向に移動する第二の可動ユニットと、
    前記第二の可動ユニットに支持された第二の昇降ユニットと、
    前記装着体を保持し、前記第二の昇降ユニットによって昇降される保持ユニットと、
    前記第二の昇降ユニットに支持され、前記保持ユニットを鉛直軸回りに回動させる第三の回動機構と、を含む、
    ことを特徴とする塗布システム。
  12. 請求項11に記載の塗布システムであって、
    前記保持ユニットは、前記装着体を保持する保持部と、保持する前記装着体を水平方向および鉛直方向に位置決めする位置決め部と、を含む、
    ことを特徴とする塗布システム。
  13. 請求項11に記載の塗布システムであって、
    前記支持装置は、前記装着体を前記塗布システムの外部と内部との間で移送する移送機構を更に含む、
    ことを特徴とする塗布システム。
  14. ワークの作業箇所に対して作業を行う作業部を含む作業ユニットと、
    前記作業ユニットを移動させる移動装置と、
    を備えた作業システムであって、
    前記移動装置は、
    第一の水平方向に延設された案内部に沿って該第一の水平方向に移動可能に設けられ、
    前記第一の水平方向と直交する第二の水平方向に延びる支持部を含む可動ユニットと、
    前記支持部に対して前記第二の水平方向に移動可能に設けられる昇降ユニットと、
    前記昇降ユニットによって昇降され、前記作業ユニットを支持する姿勢変化ユニットと、を含み、
    前記作業部は、中実又は中空の軸体であり、
    前記姿勢変化ユニットは、
    前記作業ユニットを鉛直軸回りに回動させる第一の回動機構と、
    前記作業ユニットを水平軸回りに回動させる第二の回動機構と、を含み、
    前記作業ユニットが、前記作業部の作業軸が鉛直方向を向いた姿勢において、
    前記鉛直軸と前記作業部とが同軸上に位置し、
    前記鉛直軸と前記水平軸とが前記作業部の中心軸線上で交差する、
    ことを特徴とする作業システム。
  15. 水平方向における少なくとも一方向と鉛直方向とに移動可能に設けられ、かつ、ワークの作業箇所に対して作業を行う作業部を含む作業ユニットを支持する姿勢変化ユニットであって、
    前記作業部は、中実又は中空の軸体であり、
    前記姿勢変化ユニットは、
    前記作業ユニットを鉛直軸回りに回動させる第一の回動機構と、
    前記作業ユニットを水平軸回りに回動させる第二の回動機構と、を含み、
    前記作業ユニットが、前記作業部の軸方向が鉛直方向を向いた姿勢において、
    前記鉛直軸と前記作業部とが同軸上に位置し、
    前記鉛直軸と前記水平軸とが前記作業部の中心軸線上で交差する、
    ことを特徴とする姿勢変化ユニット。
  16. 請求項15に記載の姿勢変化ユニットであって、
    前記姿勢変化ユニットは、前記作業部を支持する支持部材を更に含み、
    前記支持部材は、
    前記第二の回動機構に連結される連結部を含む、
    ことを特徴とする姿勢変化ユニット。
  17. 請求項15に記載の姿勢変化ユニットであって、
    前記姿勢変化ユニットは、
    鉛直方向に延設された支持部材を備え、
    前記作業ユニットは、前記支持部材の下端部に前記水平軸回りに回動自在に支持され、
    前記第二の回動機構は、
    前記下端部よりも上側において前記支持部材に支持されたモータと、
    前記支持部材に支持され、前記モータの駆動力を前記作業ユニットへ伝達させて前記作業ユニットを前記水平軸回りに回動させる伝達機構と、を含む、
    ことを特徴とする姿勢変化ユニット。
  18. 請求項17に記載の姿勢変化ユニットであって、
    前記伝達機構は、
    前記作業ユニットの回動軸に接続された従動ギアと、
    前記従動ギアよりも上側に配置され、前記モータの駆動力により駆動される駆動ギアと、
    前記駆動ギアの回転を前記従動ギアに伝達するラックと、を含む、
    ことを特徴とする姿勢変化ユニット。
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