JPWO2018154744A1 - 半導体装置、半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 114
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 58
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 46
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 224
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 224
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 17
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 15
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 33
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3737—Organic materials with or without a thermoconductive filler
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/561—Batch processing
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/291—Oxides or nitrides or carbides, e.g. ceramics, glass
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3135—Double encapsulation or coating and encapsulation
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- H01L23/42—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
- H01L23/433—Auxiliary members in containers characterised by their shape, e.g. pistons
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- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
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- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49568—Lead-frames or other flat leads specifically adapted to facilitate heat dissipation
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
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- H01L23/49575—Assemblies of semiconductor devices on lead frames
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- H01L23/49579—Lead-frames or other flat leads characterised by the materials of the lead frames or layers thereon
- H01L23/49586—Insulating layers on lead frames
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/48091—Arched
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
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Abstract
Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置10の断面図である。半導体装置10はリードフレーム12を備えている。リードフレーム12の上面に半導体チップ14が固定されている。半導体チップ14は例えばSi又はSiCで形成されたスイッチング素子である。リードフレーム12の下面に第1樹脂20が接触している。この第1樹脂20の上に第2樹脂22が設けられている。第1樹脂20と第2樹脂22で半導体チップ14が覆われている。第1樹脂20と第2樹脂22がパッケージとして機能する。第1樹脂20は第2樹脂22よりも熱伝導率が高い。この条件を満たせば第1樹脂20と第2樹脂22の材料は特に限定されない。第1樹脂20は例えばアルミナであり、第2樹脂22は例えばシリカである。第1樹脂20の熱伝導率は2W/m・K以上であることが好ましい。
図11は、実施の形態2に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。実施の形態2に係る半導体装置の製造方法では、まず、樹脂提供工程で、プランジャチップ32の上に樹脂23を提供する。次いで、搭載工程で、下面に半導体チップ14が固定されたリードフレーム12を、凹部30Aの上面にのせる。リードフレーム12のダイパッド部が半導体チップ14より上にある。
図12は、実施の形態3に係る半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。図12に沿って半導体装置の製造方法を説明する前に、図13を参照して半導体装置の製造に使用する装置の構成を説明する。下金型90には少なくとも2つの凹部90A、90Bが形成されている。凹部90Aに設けられた穴にプランジャチップ32Aがある。プランジャチップ32Aはプランジャロッド34Aに支持されている。凹部90Bに設けられた穴にプランジャチップ32Bがある。プランジャチップ32Bはプランジャロッド34Bに支持されている。プランジャロッド34A、34Bにはモータ100が接続されている。モータ100によってプランジャチップ32A、32Bはy正負方向に移動させられる。
図17は、実施の形態4に係る半導体装置の製造方法を示す図である。図17は注入工程におけるプランジャチップ32等を示す図である。上段に断面図が示され、下段に平面図が示されている。下段の平面図には、プランジャチップ32は平面視で円形であることが示されている。プランジャチップ32を平面視で円形にすることで、同じ面積の非円形のプランジャチップよりも外周を短くできる。つまり、円形のプランジャチップ32の外周は他のどのような形状のプランジャチップの外周よりも小さい。プランジャチップ32の外周を小さくすることで、プランジャチップ32とポット30Bの間に入りこむ樹脂バリ量を抑制できる。これにより、プランジャチップ32とポット30Bの摩擦を最小にできる。
Claims (16)
- リードフレームと、
前記リードフレームの上面に固定された半導体チップと、
前記リードフレームの下面と接する第1樹脂と、
前記第1樹脂の上に設けられた第2樹脂と、を備え、
前記第1樹脂は前記第2樹脂よりも熱伝導率が高く、
前記第1樹脂と前記第2樹脂で前記半導体チップを覆うことを特徴とする半導体装置。 - 前記第1樹脂はアルミナであり、前記第2樹脂はシリカであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体チップの下方では前記第1樹脂が露出し、前記半導体チップの上方では前記第2樹脂が露出したことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 前記第1樹脂は前記リードフレームの下面よりも下方にだけ設けられたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 下金型の凹部に形成された穴にプランジャチップを設け、前記プランジャチップの上に第1樹脂を提供し、前記第1樹脂の上に前記第1樹脂よりも熱伝導率が低い第2樹脂を提供する樹脂提供工程と、
上面に半導体チップが固定されたリードフレームを、前記凹部の上面にのせる搭載工程と、
前記下金型の上に上金型を置き、前記下金型と前記上金型によって提供されたキャビティに前記半導体チップを収容した状態で型締めする型締め工程と、
前記第1樹脂と前記第2樹脂を溶融させた後、前記プランジャチップを上昇させて前記キャビティの中に前記第2樹脂を提供しその後前記第1樹脂を提供することで、前記リードフレームの下面に前記第1樹脂を接触させる注入工程と、
前記プランジャチップから前記第1樹脂と前記第2樹脂に圧力を及ぼし保圧する保圧工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記注入工程と前記保圧工程では、可動ピンを前記リードフレームの上面に接触させて前記リードフレームの浮き上がりを防止することを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1樹脂はアルミナであり、前記第2樹脂はシリカであることを特徴とする請求項5又は6に記載の半導体装置の製造方法。
- 下金型の凹部に形成された穴にプランジャチップを設け、前記プランジャチップの上に樹脂を提供する樹脂提供工程と、
下面に半導体チップが固定されたリードフレームを、前記凹部の上面にのせる搭載工程と、
前記樹脂よりも熱伝導率が高い放熱シートを前記リードフレームと上金型の間に挟みつつ、前記下金型の上に前記上金型を置き、前記下金型と前記上金型によって提供されたキャビティに前記半導体チップを収容した状態で型締めする型締め工程と、
前記樹脂を溶融させた後、前記プランジャチップを上昇させて前記キャビティの中に前記樹脂を提供する注入工程と、
前記プランジャチップから前記樹脂に圧力を及ぼし保圧する保圧工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記放熱シートは、絶縁層と、前記絶縁層に積層して設けられたヒートシンクとを有することを特徴とする請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
- 複数の凹部を有する下金型に形成された穴にプランジャチップを設け前記プランジャチップの上に樹脂を提供する樹脂提供工程と、
半導体チップが固定されたリードフレームを、前記下金型の上面にのせる搭載工程と、
前記下金型の上に上金型を置き、前記複数の凹部により形成された複数のキャビティと、前記複数のキャビティをつなぐランナーゲートとを形成した状態で型締めする型締め工程と、
前記樹脂を溶融させた後、前記プランジャチップを予め定められた位置まで上昇させて、前記複数のキャビティ及び前記ランナーゲートの中に前記樹脂を提供する注入工程と、
前記プランジャチップから前記樹脂に圧力を及ぼし保圧する保圧工程と、を備え、
前記プランジャチップが前記予め定められた位置まで上昇したとき、前記ランナーゲートの内の前記樹脂が前記ランナーゲートの中の可動ブロックに及ぼす圧力を検知し、前記圧力が予め定められた圧力より大きいときは前記可動ブロックを前記ランナーゲートから退避させる方向へ移動させ、前記圧力が予め定められた圧力より小さいときは前記可動ブロックを前記ランナーゲートの中へ進出させる方向へ移動させることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 平面視で前記プランジャチップの面積は前記凹部の底面の面積より小さいことを特徴とする請求項5〜10のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 平面視で前記プランジャチップの面積は前記凹部の底面の面積の半分以下であることを特徴とする請求項5〜10のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 平面視で前記プランジャチップは前記凹部の前記底面の中央にあることを特徴とする請求項11又は12に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記プランジャチップは平面視で円形であることを特徴とする請求項5〜13のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記プランジャチップはプランジャロッドに支持され、
前記プランジャロッドの側面にボールプランジャを接触させたことを特徴とする請求項5〜14のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記注入工程と前記保圧工程を、複数のキャビティに対して一括して実施することを特徴とする請求項5〜15のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/007311 WO2018154744A1 (ja) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | 半導体装置、半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018154744A1 true JPWO2018154744A1 (ja) | 2019-11-07 |
JP6806232B2 JP6806232B2 (ja) | 2021-01-06 |
Family
ID=63252476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019500977A Active JP6806232B2 (ja) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190371625A1 (ja) |
JP (1) | JP6806232B2 (ja) |
KR (1) | KR102303894B1 (ja) |
CN (1) | CN110326102B (ja) |
DE (1) | DE112017007135T5 (ja) |
WO (1) | WO2018154744A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6824913B2 (ja) * | 2016-02-09 | 2021-02-03 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置及びその製造方法 |
US11621181B2 (en) * | 2020-05-05 | 2023-04-04 | Asmpt Singapore Pte. Ltd. | Dual-sided molding for encapsulating electronic devices |
JP7446156B2 (ja) | 2020-05-21 | 2024-03-08 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置、電力変換装置、半導体装置の検査方法、半導体装置の製造方法、学習装置および推論装置 |
JP2022037739A (ja) * | 2020-08-25 | 2022-03-09 | 富士電機株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
KR102554393B1 (ko) * | 2022-12-12 | 2023-07-12 | 에스피반도체통신 주식회사 | 반도체 칩의 처짐을 방지하는 반도체 패키지용 몰딩 금형 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09148352A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止方法、電子部品製造方法及び電子部品 |
JPH10144827A (ja) * | 1996-11-13 | 1998-05-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止半導体装置、その製造方法及びその金型 |
JP2001326238A (ja) * | 2000-05-17 | 2001-11-22 | Toshiba Corp | 半導体装置、半導体装置の製造方法、樹脂封止金型及び半導体製造システム |
JP2012235014A (ja) * | 2011-05-06 | 2012-11-29 | Toyota Motor Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2013020997A (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Semiconductor Components Industries Llc | 半導体装置の製造方法 |
JP2014183302A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体モジュール及びその製造方法 |
JP2015135907A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置及びその製造方法 |
JP2015162598A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置の製造方法および製造装置 |
WO2015173906A1 (ja) * | 2014-05-14 | 2015-11-19 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5607447B2 (ja) * | 2010-07-22 | 2014-10-15 | セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | 回路装置 |
JP5799422B2 (ja) | 2011-02-14 | 2015-10-28 | アピックヤマダ株式会社 | 樹脂モールド方法および樹脂モールド装置 |
-
2017
- 2017-02-27 WO PCT/JP2017/007311 patent/WO2018154744A1/ja active Application Filing
- 2017-02-27 DE DE112017007135.6T patent/DE112017007135T5/de active Pending
- 2017-02-27 CN CN201780087194.5A patent/CN110326102B/zh active Active
- 2017-02-27 KR KR1020197024301A patent/KR102303894B1/ko active IP Right Grant
- 2017-02-27 JP JP2019500977A patent/JP6806232B2/ja active Active
- 2017-02-27 US US16/473,560 patent/US20190371625A1/en active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09148352A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止方法、電子部品製造方法及び電子部品 |
JPH10144827A (ja) * | 1996-11-13 | 1998-05-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止半導体装置、その製造方法及びその金型 |
JP2001326238A (ja) * | 2000-05-17 | 2001-11-22 | Toshiba Corp | 半導体装置、半導体装置の製造方法、樹脂封止金型及び半導体製造システム |
JP2012235014A (ja) * | 2011-05-06 | 2012-11-29 | Toyota Motor Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2013020997A (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Semiconductor Components Industries Llc | 半導体装置の製造方法 |
JP2014183302A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体モジュール及びその製造方法 |
JP2015135907A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置及びその製造方法 |
JP2015162598A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置の製造方法および製造装置 |
WO2015173906A1 (ja) * | 2014-05-14 | 2015-11-19 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6806232B2 (ja) | 2021-01-06 |
CN110326102A (zh) | 2019-10-11 |
DE112017007135T5 (de) | 2019-11-07 |
WO2018154744A1 (ja) | 2018-08-30 |
CN110326102B (zh) | 2023-06-09 |
US20190371625A1 (en) | 2019-12-05 |
KR20190105639A (ko) | 2019-09-17 |
KR102303894B1 (ko) | 2021-09-17 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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