JP5799422B2 - 樹脂モールド方法および樹脂モールド装置 - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 214
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 214
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000003826 tablet Substances 0.000 description 1
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
図1に、本実施形態における樹脂モールド装置1のモールド金型2(モールド金型機構)を模式的に示す。この図1では、モールド金型2でワークWを保持して型締めした状態が示されている。なお、本実施形態では、配線基板Sの片面でマトリクス状に複数の半導体チップCが搭載されたワークWに対して樹脂モールドして成形品を形成する場合について説明する。
前記実施形態では、図1および図2に示したように、キャビティ凹部5の底面の中央部に1つのポット27を設け、それに対応する1つのプランジャ31を設けた場合について説明した。本実施形態では、複数のポット27、プランジャ31を設ける場合について説明する。例えば、図9および図10に示すように、キャビティ凹部5の底面にマトリクス状に9つポット27を設け、それぞれに対応する9つのプランジャ31を設ける。なお、図10のA−A線に対応するモールド金型2の断面が図9で示されている。
前記実施形態では、図9および図10に示したように、複数のポット27、プランジャ31をキャビティ凹部5の底面に均等に配置した場合について説明した。本実施形態では、キャビティ凹部5の底面にポット27(図2、図10参照)より大きいサイズのポットを設ける場合について説明する。例えば、図11および図12に示すように、キャビティ凹部5の底面に平面視矩形状のポット27Aを設け、それに対応する平面視矩形状のプランジャ31Aを設ける。なお、図12のA−A線に対応するモールド金型2の断面が図11で示されている。
本実施形態では、前記実施形態3の他例について説明する。なお、本実施形態においても、キャビティ凹部5の底面にポット27(図2参照)より大きいサイズのポットを設ける点については図12と同様である。例えば、図13および図14に示すように、キャビティ凹部5の底面に平面視円形状のポット27Bを設け、それに対応する平面視円形状のプランジャ31Bを設ける。なお、図14のA−A線に対応するモールド金型2の断面が図13で示されている。
本実施形態は、プランジャ先端面が、キャビティ凹部5の底面を形成する場合について説明する。例えば、図15および図16に示すように、キャビティ凹部5の底面に平面視矩形状のポット27Cを設け、それに対応する平面視矩形状のプランジャ31Cを設ける。なお、図16のA−A線に対応するモールド金型2の断面が図15で示されている。
本実施形態は、キャビティ凹部5の底面にポット27より小さいサイズのポットを複数設ける場合について説明する。例えば、図17および図18に示すように、キャビティ凹部5の底面の外周に沿って複数のポット27Dを設け、それぞれに対応する複数のプランジャ27Dを設ける。なお、図18のA−A線に対応するモールド金型2の断面が図17で示されている。
2 モールド金型
3 上型
4 下型
5 キャビティ凹部
6 溶融樹脂
6a、6b 樹脂
11 上型ベース
12 上型チェイス
13 上型ガイド
14 上型インサート
15 上型シールブロック
16 エア吸引路
17 シール部材
21 下型ベース
22 下型チェイス
23 可動キャビティブロック
24 下型シールブロック
25 支持シールブロック
26 可動シールブロック
27 ポット
31 プランジャ
31a 周溝
32、33 弾性部材
34a、34b シール部材
35 真空吸引路
36、37 搬送部
41 減圧装置
42 搬送部
43 リリースフィルム
44 キャビティ凹部
C 半導体チップ
S 配線基板
W ワーク
Claims (7)
- (a)金型クランプ面で開口するキャビティ凹部の底面に設けられたポットと、前記ポット内で型締め動作に応じて相対的に往復動するように設けられたプランジャとを有するモールド金型を準備する工程と、
(b)前記ポット内に第1樹脂を供給した後、前記キャビティ凹部内に第2樹脂を供給する工程と、
(c)前記モールド金型を型締めすることによって、溶融した前記第1および第2樹脂を混ぜ合わせるように前記プランジャで押圧し、前記キャビティ凹部内に溶融樹脂を充填する工程と、
(d)前記(c)工程後、前記キャビティ凹部内の溶融樹脂を所定の樹脂圧で保圧して加熱硬化させる工程と、
を含み、
前記(a)工程では、第1金型ブロックと、前記第1金型ブロックに弾性部材を介して組み付けられ、前記キャビティ凹部が形成された第2金型ブロックと、前記第2金型ブロックを貫通する穴に組み付けられた前記ポットと、前記第1金型ブロックに組み付けられた前記プランジャとを有する前記モールド金型を準備し、
前記(b)工程では、前記第1および第2樹脂の組み合わせを粉末状、顆粒状、液状の樹脂のうち同一形態の樹脂を供給し、
前記(c)工程では、前記モールド金型の内部空間を減圧しながら、前記モールド金型の型締めの際、前記弾性部材が縮んで前記第2金型ブロックが動くことにより、前記プランジャが相対的に動いて溶融樹脂を押圧することを特徴とする樹脂モールド方法。 - 請求項1記載の樹脂モールド方法において、
前記(b)工程前に、前記キャビティ凹部を含む金型クランプ面でリリースフィルムを吸着保持することを特徴とする樹脂モールド方法。 - 金型クランプ面で開口するキャビティ凹部の底面に設けられたポットと、前記ポット内で型締め動作に応じて相対的に往復動するように設けられたプランジャとを有するモールド金型と、
前記ポット内に供給される粉末状、顆粒状または液状の第1樹脂を搬送する第1搬送部と、
前記キャビティ凹部内に供給される前記第1樹脂と同一形態の第2樹脂を搬送する第2搬送部と、
を備えており、
前記モールド金型は、第1金型ブロックと、前記第1金型ブロックに弾性部材を介して組み付けられ、前記キャビティ凹部が形成された第2金型ブロックと、前記第2金型ブロックを貫通する穴に組み付けられた前記ポットと、前記第1金型ブロックに組み付けられた前記プランジャとを有し、前記モールド金型の内部空間を減圧しながら、前記モールド金型の型締めの際、前記弾性部材を縮ませて前記第2金型ブロックを動かすことにより、前記プランジャを相対的に動かして溶融樹脂を押圧させ、
前記モールド金型を型締めして、前記ポット内を相対的に移動する前記プランジャで溶融した第1樹脂を押圧しながら前記キャビティ凹部で溶融した第2樹脂へ混ざり合うように充填し、前記キャビティ凹部内の溶融樹脂を所定の樹脂圧で保圧して加熱硬化させることを特徴とする樹脂モールド装置。 - 請求項3記載の樹脂モールド装置において、
前記モールド金型は、前記キャビティ凹部の底面に均等に配置して設けられた複数の前記ポットと、前記複数のポットのそれぞれに対応する複数の前記プランジャとを有していることを特徴とする樹脂モールド装置。 - 請求項3記載の樹脂モールド装置において、
前記ポットの平面視の形状が、前記キャビティ凹部の底面形状と相似形に形成され、
前記キャビティ凹部を含む前記金型クランプ面を覆うリリースフィルムが、吸着保持され、
前記キャビティ凹部の底面を前記プランジャの先端面で形成していることを特徴とする樹脂モールド装置。 - 請求項3記載の樹脂モールド装置において、
前記モールド金型は、前記キャビティ凹部の底面の外周に沿って設けられた複数の前記ポットと、前記複数のポットのそれぞれに対応する複数の前記プランジャとを有していることを特徴とする樹脂モールド装置。 - 請求項3〜6のいずれか一項に記載の樹脂モールド装置において、
前記キャビティ凹部は、ウエハレベルのワークに対応する容積を有していることを特徴とする樹脂モールド装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011028655A JP5799422B2 (ja) | 2011-02-14 | 2011-02-14 | 樹脂モールド方法および樹脂モールド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011028655A JP5799422B2 (ja) | 2011-02-14 | 2011-02-14 | 樹脂モールド方法および樹脂モールド装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012166432A JP2012166432A (ja) | 2012-09-06 |
JP5799422B2 true JP5799422B2 (ja) | 2015-10-28 |
Family
ID=46971074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011028655A Active JP5799422B2 (ja) | 2011-02-14 | 2011-02-14 | 樹脂モールド方法および樹脂モールド装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5799422B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6089260B2 (ja) * | 2013-05-13 | 2017-03-08 | アピックヤマダ株式会社 | 樹脂モールド装置及び樹脂モールド方法 |
JP6770426B2 (ja) * | 2016-12-26 | 2020-10-14 | アピックヤマダ株式会社 | 成形金型、樹脂成形装置 |
JP6919041B2 (ja) * | 2016-12-26 | 2021-08-11 | アピックヤマダ株式会社 | 成形金型、樹脂成形装置 |
US20190371625A1 (en) | 2017-02-27 | 2019-12-05 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
US10199299B1 (en) | 2017-08-07 | 2019-02-05 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor mold compound transfer system and associated methods |
JP2019034445A (ja) * | 2017-08-10 | 2019-03-07 | Towa株式会社 | 樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法 |
JP6876637B2 (ja) * | 2018-01-22 | 2021-05-26 | Towa株式会社 | 成形型、樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法 |
JP7360368B2 (ja) * | 2020-08-18 | 2023-10-12 | Towa株式会社 | 樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001088170A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-04-03 | Matsushita Electric Works Ltd | 樹脂成形体の製造方法及び成形用金型 |
JP5036563B2 (ja) * | 2006-01-17 | 2012-09-26 | スパンション エルエルシー | 半導体装置およびその製造方法 |
-
2011
- 2011-02-14 JP JP2011028655A patent/JP5799422B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012166432A (ja) | 2012-09-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141014 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141118 |
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A02 | Decision of refusal |
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