JPWO2018101239A1 - R−Fe−B系焼結磁石及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1.12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta及びWから選ばれる1種以上の元素)、(4.8+2×m〜5.9+2×m)原子%(mはM2で表される元素の含有率(原子%))のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下のC、1.5原子%以下のO、0.5原子%以下のN、及び残部のFeの組成を有し、R2(Fe,(Co))14B金属間化合物を含む主相と、粒界相とを有するR−Fe−B系焼結磁石であって、
上記粒界相の二粒子間粒界に、二粒子間幅が10nm以下の狭幅部で囲まれた、狭幅部の粒界幅と比べて二粒子間幅方向に膨らんだ構造の拡幅部を有し、
上記拡幅部の二粒子間幅が30nm以上であり、
上記拡幅部中の、Rに対するFeの原子比であるFe/Rが0.01〜2.5であり、
上記主相が、その表面部に、(R’,HR)2(Fe,(Co))14B(R’はYを含み、Dy,Tb及びHoを除く希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とし、HRはDy,Tb及びHoから選ばれる1種以上の元素)で表されるHRリッチ相を含み、上記HRリッチ相中のHRの含有量が、上記主相の中心部におけるHRの含有量より高いことを特徴とするR−Fe−B系焼結磁石。
2.上記拡幅部の二粒子間幅Wに対する二粒子間粒界の広がり方向の最大長さLの比L/Wが8以下であることを特徴とする1記載のR−Fe−B系焼結磁石。
3.上記拡幅部の最大断面積が7,000nm2以上であることを特徴とする1又は2記載のR−Fe−B系焼結磁石。
4.磁石断面における、磁石全体の面積に対する上記拡幅部の合計面積の割合が0.1%以上であることを特徴とする1乃至3のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
5.表面部から内部に向かってHR含有量に分布があり、表面部のHR含有量が内部のHR含有量より高いことを特徴とする1乃至4のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
6.上記HRリッチ相が、上記主相の表面部に不均一に形成されていることを特徴とする1乃至5のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
7.上記HRリッチ相中のNdの含有量が、上記主相の中心部におけるNdの含有量の0.8倍以下であることを特徴とする1乃至6のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
8.R−Fe−B系焼結磁石の表面から200μm内部の断面において評価されるHRリッチ相の面積が、主相全体の面積に対して2%以上であることを特徴とする1乃至7のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
9.12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta及びWから選ばれる1種以上の元素)、(4.8+2×m〜5.9+2×m)原子%(mはM2で表される元素の含有率(原子%))のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下のC、1.5原子%以下のO、0.5原子%以下のN、及び残部のFeの組成を有する合金微粉を調製する工程、
該合金微粉を磁場印加中で圧粉成形して成形体を得る工程、
該成形体を900〜1,250℃の範囲の温度で焼結して焼結体を得る工程、
該焼結体を400℃以下の温度まで冷却する工程、
HR(HRはDy,Tb及びHoから選ばれる1種以上の元素)を含有する金属、化合物又は金属間化合物を上記焼結体の表面に配置し、950℃を超えて1,100℃以下の範囲の温度で加熱して、HRを焼結体に粒界拡散させ、400℃以下まで冷却する高温熱処理工程、
該高温熱処理後に、600〜750℃の範囲の温度で加熱する中温熱処理工程、及び
該中温熱処理後に、400〜550℃の範囲の温度で加熱して、300℃以下まで冷却する低温熱処理工程
を含むことを特徴とするR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
まず、本発明の磁石組成について説明すると、本発明のR−Fe−B系焼結磁石は、12〜17原子%のR、0.1〜3原子%のM1、0.05〜0.5原子%のM2、(4.8+2×m〜5.9+2×m)原子%(mはM2で表される元素の含有率(原子%))のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下のC(炭素)、1.5原子%以下のO(酸素)、0.5原子%以下のN(窒素)、及び残部Feからなる組成を有し、不可避不純物を含んでいてもよい。
0.5〜50原子%がSi、残部がAl,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素であること、
1.0〜80原子%がGa、残部がSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素であること、又は
0.5〜50原子%がAl、残部がSi,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素
であることが好ましい。
R−Fe−B系焼結磁石の製造における各工程は、基本的には、通常の粉末冶金法と同様であり、所定の組成を有する合金微粉を調製する工程(この工程には、原料を溶解して原料合金を得る溶融工程と、原料合金を粉砕する粉砕工程とが含まれる)、合金微粉を磁場印加中で圧粉成形し成形体を得る工程、成形体を焼結し焼結体を得る焼結工程、及び焼結後の冷却工程を含む。
(1)HR元素を含有する、金属、化合物又は金属間化合物からなる粉末を焼結体表面に配置し、真空中又は不活性ガス雰囲気中で熱処理する方法(例えばディップコーティング法)、
(2)HR元素を含有する、金属、化合物又は金属間化合物の薄膜を、高真空中で焼結体表面に形成し、真空中又は不活性ガス雰囲気中で熱処理する方法(例えばスパッタ法)、
(3)HR元素を含有する金属、化合物又は金属間化合物を高真空中で加熱し、HR元素を含有する蒸気相を形成し、蒸気相を介して焼結体にHR元素を供給、拡散させる方法(例えば蒸気拡散法)
などが挙げられ、特に(1)又は(2)、とりわけ(1)の方法が好適である。
希土類金属(Nd又はジジム(NdとPrとの混合物))、電解鉄、Co、M1元素及びM2元素の金属又は合金、及びFe−B合金(フェロボロン)を使用して所定の組成となるように秤量し、Arガス雰囲気中、高周波誘導炉で溶解し、水冷銅ロール上で溶融合金をストリップキャストすることによって合金薄帯を製造した。得られた合金薄帯の厚さは約0.2〜0.3mmであった。
参考例1で得た焼結体を20mm×20mm×2.2mmのサイズの直方体形状に加工後、平均粒径0.5μmの酸化テルビウム粒子を質量分率50%でエタノールと混合したスラリー中に浸漬し、乾燥させ、焼結体表面に酸化テルビウムの塗膜を形成した。次に、塗膜が形成された焼結体を真空中で、表2に示される保持温度、保持時間で加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する高温熱処理を実施し、次いで、表2に示される保持温度で1時間加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する中温熱処理、更に、表2に示される保持温度で2時間加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する低温熱処理を実施して、焼結磁石を得た。得られた焼結磁石の組成を表1に、その磁気特性及び構造特性((A)表面から200μm内部の断面において評価される、主相全体の面積に対するHRリッチ相の面積の割合、(B)磁石断面における、磁石全体の面積に対する拡幅部の合計面積の割合、(C)拡幅部中のRに対するFeの原子比Fe/R、以下同じ。)を表3に示す。なお、磁気特性は、得られた焼結磁石の中心部を6mm×6mm×2mmのサイズの直方体形状に切り出して評価した。比較例1の焼結磁石に比べて、中温熱処理を施し、拡幅部の割合が増加した実施例1の焼結磁石の方が、保磁力が高く、角形性をHk−HcJで評価した際の角形性が良好であることがわかった。
参考例2で得た焼結体を20mm×20mm×2.2mmのサイズの直方体形状に加工後、平均粒径0.5μmの酸化テルビウム粒子を質量分率50%でエタノールと混合したスラリー中に浸漬し、乾燥させ、焼結体表面に酸化テルビウムの塗膜を形成した。次に、塗膜が形成された焼結体を真空中で、表2に示される保持温度、保持時間で加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する高温熱処理を実施し、次いで、表2に示される保持温度で1時間加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する中温熱処理、更に、表2に示される保持温度で2時間加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する低温熱処理を実施して、焼結磁石を得た。得られた焼結磁石の組成を表1に、その磁気特性及び構造特性を表3に示す。なお、磁気特性は、得られた焼結磁石の中心部を6mm×6mm×2mmのサイズの直方体形状に切り出して評価した。比較例の焼結磁石に比べて、中温熱処理を施し、拡幅部の割合が増加した実施例の焼結磁石の方が、保磁力が高く、角形性をHk−HcJで評価した際の角形性が良好であることがわかった。
参考例1で得た焼結体を20mm×20mm×2.2mmのサイズの直方体形状に加工後、平均粒径0.5μmの酸化ジスプロシウム粒子を質量分率50%でエタノールと混合したスラリー中に浸漬し、乾燥させ、焼結体表面に酸化ジスプロシウムの塗膜を形成した。次に、塗膜が形成された焼結体を真空中で、表2に示される保持温度、保持時間で加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する高温熱処理を実施し、次いで、表2に示される保持温度で1時間加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する中温熱処理、更に、表2に示される保持温度で2時間加熱した後、200℃まで表2に示される冷却速度で冷却する低温熱処理を実施して、焼結磁石を得た。得られた焼結磁石の組成を表1に、その磁気特性及び構造特性を表3に示す。なお、磁気特性は、得られた焼結磁石の中心部を6mm×6mm×2mmのサイズの直方体形状に切り出して評価した。比較例4の焼結磁石に比べて、中温熱処理を施し、拡幅部の割合が増加した実施例5の焼結磁石の方が、保磁力が高くなることがわかった。
参考例3で得た焼結体を20mm×20mm×2.2mmのサイズの直方体形状に加工後、平均粒径0.5μmの酸化テルビウム粒子を質量分率50%でエタノールと混合したスラリー中に浸漬し、乾燥させ、焼結体表面に酸化テルビウムの塗膜を形成した。次に、塗膜が形成された焼結体を真空中で、表5に示される保持温度、保持時間で加熱した後、200℃まで表5に示される冷却速度で冷却する高温熱処理を実施し、次いで、表5に示される保持温度で1時間加熱した後、200℃まで表5に示される冷却速度で冷却する中温熱処理、更に、表5に示される保持温度で2時間加熱した後、200℃まで表5に示される冷却速度で冷却する低温熱処理を実施して、焼結磁石を得た。得られた焼結磁石の組成を表4に、その磁気特性及び構造特性を表6に示す。なお、磁気特性は、得られた焼結磁石の中心部を6mm×6mm×2mmのサイズの直方体形状に切り出して評価した。比較例の焼結磁石に比べて、中温熱処理を施し、拡幅部の割合が増加した実施例の焼結磁石の方が、保磁力が高く、角形性をHk−HcJで評価した際の角形性が良好であることがわかった。
1.12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta及びWから選ばれる1種以上の元素)、(4.8+2×m〜5.9+2×m)原子%(mはM2で表される元素の含有率(原子%))のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下のC、1.5原子%以下のO、0.5原子%以下のN、及び残部のFeの組成を有し、R2(Fe,(Co))14B金属間化合物を含む主相と、粒界相とを有するR−Fe−B系焼結磁石であって、
上記粒界相の二粒子間粒界に、二粒子間幅が10nm以下の狭幅部で囲まれた、狭幅部の粒界幅と比べて二粒子間幅方向に膨らんだ構造の拡幅部を有し、
上記拡幅部の二粒子間幅が30nm以上であり、
上記拡幅部中の、Rに対するFeの原子比であるFe/Rが0.01〜2.5であり、
上記主相が、その表面部に、(R’,HR)2(Fe,(Co))14B(R’はYを含み、Dy,Tb及びHoを除く希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とし、HRはDy,Tb及びHoから選ばれる1種以上の元素)で表されるHRリッチ相を含み、上記HRリッチ相中のHRの含有量が、上記主相の中心部におけるHRの含有量より高く、磁石断面における、磁石全体の面積に対する上記拡幅部の合計面積の割合が0.1%以上であることを特徴とするR−Fe−B系焼結磁石。
2.上記拡幅部の二粒子間幅Wに対する二粒子間粒界の広がり方向の最大長さLの比L/Wが8以下であることを特徴とする1記載のR−Fe−B系焼結磁石。
3.上記拡幅部の最大断面積が7,000nm2以上であることを特徴とする1又は2記載のR−Fe−B系焼結磁石。
4.表面部から内部に向かってHR含有量に分布があり、表面部のHR含有量が内部のHR含有量より高いことを特徴とする1乃至3のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
5.上記HRリッチ相が、上記主相の表面部に不均一に形成されていることを特徴とする1乃至4のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
6.上記HRリッチ相中のNdの含有量が、上記主相の中心部におけるNdの含有量の0.8倍以下であることを特徴とする1乃至5のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
7.R−Fe−B系焼結磁石の表面から200μm内部の断面において評価されるHRリッチ相の面積が、主相全体の面積に対して2%以上であることを特徴とする1乃至6のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
8.12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta及びWから選ばれる1種以上の元素)、(4.8+2×m〜5.9+2×m)原子%(mはM2で表される元素の含有率(原子%))のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下のC、1.5原子%以下のO、0.5原子%以下のN、及び残部のFeの組成を有する合金微粉を調製する工程、
該合金微粉を磁場印加中で圧粉成形して成形体を得る工程、
該成形体を900〜1,250℃の範囲の温度で焼結して焼結体を得る工程、
該焼結体を400℃以下の温度まで冷却する工程、
HR(HRはDy,Tb及びHoから選ばれる1種以上の元素)を含有する金属、化合物又は金属間化合物を上記焼結体の表面に配置し、950℃を超えて1,100℃以下の範囲の温度で加熱して、HRを焼結体に粒界拡散させ、400℃以下まで冷却する高温熱処理工程、
該高温熱処理後に、600〜750℃の範囲の温度で加熱する中温熱処理工程、及び
該中温熱処理後に、400〜550℃の範囲の温度で加熱して、300℃以下まで冷却する低温熱処理工程
を含むことを特徴とするR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
Claims (9)
- 12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta及びWから選ばれる1種以上の元素)、(4.8+2×m〜5.9+2×m)原子%(mはM2で表される元素の含有率(原子%))のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下のC、1.5原子%以下のO、0.5原子%以下のN、及び残部のFeの組成を有し、R2(Fe,(Co))14B金属間化合物を含む主相と、粒界相とを有するR−Fe−B系焼結磁石であって、
上記粒界相の二粒子間粒界に、二粒子間幅が10nm以下の狭幅部で囲まれた、狭幅部の粒界幅と比べて二粒子間幅方向に膨らんだ構造の拡幅部を有し、
上記拡幅部の二粒子間幅が30nm以上であり、
上記拡幅部中の、Rに対するFeの原子比であるFe/Rが0.01〜2.5であり、
上記主相が、その表面部に、(R’,HR)2(Fe,(Co))14B(R’はYを含み、Dy,Tb及びHoを除く希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とし、HRはDy,Tb及びHoから選ばれる1種以上の元素)で表されるHRリッチ相を含み、上記HRリッチ相中のHRの含有量が、上記主相の中心部におけるHRの含有量より高いことを特徴とするR−Fe−B系焼結磁石。 - 上記拡幅部の二粒子間幅Wに対する二粒子間粒界の広がり方向の最大長さLの比L/Wが8以下であることを特徴とする請求項1記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 上記拡幅部の最大断面積が7,000nm2以上であることを特徴とする請求項1又は2記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 磁石断面における、磁石全体の面積に対する上記拡幅部の合計面積の割合が0.1%以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 表面部から内部に向かってHR含有量に分布があり、表面部のHR含有量が内部のHR含有量より高いことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 上記HRリッチ相が、上記主相の表面部に不均一に形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 上記HRリッチ相中のNdの含有量が、上記主相の中心部におけるNdの含有量の0.8倍以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- R−Fe−B系焼結磁石の表面から200μm内部の断面において評価されるHRリッチ相の面積が、主相全体の面積に対して2%以上であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素で、かつNdを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb及びBiから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta及びWから選ばれる1種以上の元素)、(4.8+2×m〜5.9+2×m)原子%(mはM2で表される元素の含有率(原子%))のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下のC、1.5原子%以下のO、0.5原子%以下のN、及び残部のFeの組成を有する合金微粉を調製する工程、
該合金微粉を磁場印加中で圧粉成形して成形体を得る工程、
該成形体を900〜1,250℃の範囲の温度で焼結して焼結体を得る工程、
該焼結体を400℃以下の温度まで冷却する工程、
HR(HRはDy,Tb及びHoから選ばれる1種以上の元素)を含有する金属、化合物又は金属間化合物を上記焼結体の表面に配置し、950℃を超えて1,100℃以下の範囲の温度で加熱して、HRを焼結体に粒界拡散させ、400℃以下まで冷却する高温熱処理工程、
該高温熱処理後に、600〜750℃の範囲の温度で加熱する中温熱処理工程、及び
該中温熱処理後に、400〜550℃の範囲の温度で加熱して、300℃以下まで冷却する低温熱処理工程
を含むことを特徴とするR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
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