JPWO2018038133A1 - 炭化珪素半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(構成)
図1〜図3を参照して、MOSFET101(炭化珪素半導体装置)は縦型nチャネルMOSFETである。MOSFET101は、半導体基板20と、ドレイン電極13と、ドリフト層21と、複数の第1ウェル領域41と、ソース領域80と、第2ウェル領域42と、ゲート絶縁膜30と、フィールド絶縁膜31と、ゲート電極50と、層間絶縁膜32と、ソース電極10と、絶縁体層90と、導電体層99と、ゲートパッド11と、ウェルコンタクト領域46とを有している。
次にMOSFET101の製造方法について、図4〜図11を参照しつつ、以下に説明する。なお、図4、図6、図8および図10の視野は図2の視野に対応しており、図5、図7、図9および図11の視野は図3の視野に対応している。
第2ウェル領域42上に絶縁体層90および導電体層99が設けられることにより、第2ウェル領域42上にコンデンサ構造が構成される。コンデンサは、交流電流に対して抵抗のように振る舞う。これは容量リアクタンスと呼ばれ、Xcで表される。容量リアクタンスXcは、一般に、以下の(1)式
Xc=1/(2πfC) ・・・(1)
で表される。ここで、fは交流周波数、Cはコンデンサの静電容量を示す。
C=εS/d ・・・(2)
で表される。ここで、εは誘電体の誘電率、Sは導電体の面積、dは誘電体の厚みを示す。
ε=εr×ε0 ・・・(3)
で表される。ここで、εrは誘電体の比誘電率、ε0は真空の誘電率を示す。
本実施の形態によれば、第2ウェル領域42上に絶縁体層90と導電体層99とが設けられる。これにより第2ウェル領域42上に、コンデンサ構造による容量が設けられる。この容量は、絶縁体層90がフィールド絶縁膜31よりも薄いことにより、単位面積当たりで大きな値を有し得る。これにより、MOSFET101の高速スイッチング時において第2ウェル領域42に沿って流れる変位電流が、上記容量を介して導電体層99へと十分に分岐される。よって、第2ウェル領域42に沿った変位電流が流れる領域の実効的なシート抵抗が低減される。よって、第2ウェル領域42に沿った電位降下の大きさが抑制される。よって、この電位降下に起因して発生する、第2ウェル領域42と、ゲート電位を有する領域との間の電圧の増大が抑制される。よって、これらの領域の間での絶縁破壊が防止される。以上から、スイッチング時の素子破壊を防止することができる。
(構成)
図12および図13のそれぞれは、本実施の形態2におけるMOSFET102(炭化珪素半導体装置)の構成を、図2および図3と同様の視野で概略的に示す部分断面図である。MOSFET102においては、フィールド絶縁膜31は、第2ウェル領域42上において絶縁体層90に挟まれた部分を含む。言い換えれば、厚み方向に沿った断面視において、フィールド絶縁膜31は、絶縁体層90を挟む複数の部分を含む。これら複数の部分は第2ウェル領域42上に、図示されているように異なる寸法を有していてもよく、あるいは、等しい寸法を有していてもよい。
次にMOSFET102の製造方法について説明する。まず実施の形態1の図4および図5と同様の工程が行われる。その後の工程について、図14〜図19を参照しつつ、以下に説明する。なお、図14、図16および図18の視野は図12の視野に対応しており、図15、図17および図19の視野は図13の視野に対応している。
図20は、本実施の形態におけるMOSFET103(炭化珪素半導体装置)の構成を、図2と同様の視野で概略的に示す、部分断面図である。MOSFET103においては、導電体層99は絶縁体層90上において不連続的に延在している。導電体層99の、不連続箇所によって分断された複数の部分は、図示されているように異なる寸法を有していてもよく、あるいは、等しい寸法を有していてもよい。
図21〜図23を参照して、本実施の形態におけるMOSFET104(炭化珪素半導体装置)においては、ソース電極10は、実施の形態1の場合と同様の構成を有するソースパッド部10pに加えて、このソースパッド部10pとつながったソース配線部10wを有している。ソースパッド部10pとソース配線部10wとの接続箇所は、少なくとも1つあればよい。ソース配線部10wは、平面レイアウト(図21参照)において、中央部に配置されたソースパッド部10pの外側に配置されている。ゲート配線部11wが設けられる場合、ソース配線部10wはゲート配線部11wよりも外側に(すなわち、MOSFET104の外縁の近くに)配置され得る。言い換えれば、平面レイアウトにおいて、ソースパッド部10pとソース配線部10wとの間にゲート配線部11wが配置され得る。ソース配線部10wは、ゲートパッド11およびゲート配線部11wから電気的に絶縁されている。よって図21において、ソースパッド部10pとソース配線部10wとが電気的に接続されている箇所には、ゲート配線部11wが設けられていない。なお、実施の形態1と同様、ゲート配線部11wは省略されてもよい。
図24および図25のそれぞれは、本実施の形態におけるMOSFET105(炭化珪素半導体装置)の構成を、図22および図23と同様の視野で概略的に示す、部分断面図である。MOSFET105においては、層間絶縁膜32は第2ウェル領域42上のウェルコンタクトホールHW2(第2ウェルコンタクトホール)を有している。ソース電極10のソース配線部10wは、ウェルコンタクトホールHW2を通って第2ウェル領域42に接続されている。具体的には、ソース電極10のソース配線部10wは、ウェルコンタクトホールHW2において第2ウェル領域42に接するオーミック電極10mを含む。第2ウェル領域42上においてウェルコンタクトホールHW1とウェルコンタクトホールHW2との間に絶縁体層90が配置されている。
(構成)
図26は、本実施の形態におけるMOSFET106(炭化珪素半導体装置)の平面レイアウトを示す。なお、図を見やすくするために、導体からなる部分には砂地模様が付されている。図27は、図26の線XXVII−XXVIIに沿う部分断面図である。本実施の形態のMOSFET106は、MOSFET101(実施の形態1)と異なり、温度センスダイオード59(内蔵温度センサ)と、センスパッド19と、層間絶縁膜33とを有している。ここで「内蔵温度センサ」とは、半導体基板20上に直接的または間接的に形成されている温度センサであり、典型的には半導体基板20と層間絶縁膜32との間に配置されている。本実施の形態においては、温度センスダイオード59は、厚み方向(図27における縦方向)において層間絶縁膜32と層間絶縁膜33との間に配置されている。層間絶縁膜33は、導電体層99、ゲート電極50、およびそれらに覆われていないフィールド絶縁膜31の上に設けられている。
次に、温度センスダイオード59の動作について説明する。外部回路からセンスアノード領域55およびセンスカソード領域56のそれぞれに正および負の電圧を与えることによって、pnダイオードである温度センスダイオード59に順方向電流が流れる。このときの順方向電圧は、温度上昇に対して単調に減少する傾向を示す。よって、順方向電圧を測定することによって、駆動中のMOSFET106の温度がモニタされる。
MOSFET106の製造方法は、MOSFET101(実施の形態1)の製造方法に対して、温度センスダイオード59と、センスパッド19と、層間絶縁膜33とを形成する工程が加えられればよい。層間絶縁膜33は、たとえば、CVD法などの堆積法によって二酸化珪素膜として形成される。温度センスダイオード59は、堆積法によって形成された半導体膜をパターニングすることによって形成され得る。堆積法としてはCVD法が用いられてよく、たとえば多結晶シリコンが堆積される。温度センスダイオード59を構成するセンスアノード領域55およびセンスカソード領域56のそれぞれがp型およびn型を有するようにするためのアクセプタおよびドナーの添加は、CVDにおいて用いられる原料ガスの選択によって堆積時に行われてもよいし、材料堆積後のイオン注入によって行われてもよい。センスアノードパッド15およびセンスカソードパッド16は、堆積法によって形成された金属膜をパターニングすることによって形成されてよい。堆積法としてはスパッタ法または蒸着法が用いられてよく、たとえばアルミニウムが堆積される。パターニングは、フォトリソグラフィーおよびエッチングによって行われる。センスアノードパッド15およびセンスカソードパッド16は、ソース電極10およびゲートパッド11と同時に形成されてもよい。
センスパッド19および温度センスダイオード59に絶縁体層90を介して対向する部分は、絶縁体層90に高電圧が印加されるのを防ぐためには、ドリフト層21ではなく、第2ウェル領域42である必要がある。ここで、センスアノードパッド15およびセンスカソードパッド16は、外部との電気的接続を容易とするために、ある程度大きな面積を必要とする。特にワイヤボンディングを可能とするためには、たとえば100um四方程度以上の広い面積が必要とされる。このため、平面レイアウトにおいてこれらを内包するものである第2ウェル領域42も、広い面積を必要とする。MOSFET106のスイッチングにおいては、この広い第2ウェル領域42から大きな変位電流が流れる。
なお本実施の形態は、実施の形態1だけでなく、実施の形態2〜5のいずれかと組み合わせることも可能である。言い換えれば、MOSFET102〜105のいずれかに、本実施の形態において説明した温度センスダイオード59と、センスパッド19と、層間絶縁膜33とが設けられてもよい。
図28は、本実施の形態におけるMOSFET107(炭化珪素半導体装置)の平面レイアウトを示す。なお、図を見やすくするために、導体からなる部分には砂地模様が付されている。図29は、図28の破線部XXIXの拡大図である。図30および図31のそれぞれは、図29の線XXX−XXXおよび線XXXI−XXXIに沿う部分断面図である。
図32は、本実施の形態におけるMOSFET108(炭化珪素半導体装置)の構成を、図2(実施の形態1)と同様の視野で概略的に示す部分断面図である。本実施の形態においても、MOSFET101(図2:実施の形態1)と同様、層間絶縁膜32の下層に(言い換えれば、下方に)、導電体層99が設けられている。本実施の形態においては、実施の形態1と異なり絶縁体層90が設けられておらず、導電体層99が絶縁体層90(図2:実施の形態1)を介することなく第2ウェル領域42上に設けられている。導電体層99は第2ウェル領域42にショットキー接触している。言い換えれば、導電体層99と第2ウェル領域42との界面はショットキー接合を形成している。好ましくは、第2ウェル領域42のうち大部分が導電体層99とショットキー接触している。具体的には、図31に示されているように、第2ウェル領域42のうちフィールド絶縁膜31に覆われていない部分のほとんどが導電体層99とショットキー接触していることが好ましい。第2ウェル領域42のうちフィールド絶縁膜31に覆われていない部分の全部が導電体層99とショットキー接触していてもよい。
Claims (16)
- 第1面と、前記第1面と反対の第2面とを有する半導体基板(20)と、
前記半導体基板(20)の前記第1面上に設けられたドレイン電極(13)と、
前記半導体基板(20)の前記第2面上に設けられ、炭化珪素からなり、第1導電型を有するドリフト層(21)と、
前記ドリフト層(21)上に設けられ、前記第1導電型と異なる第2導電型を有する複数の第1ウェル領域(41)と、
前記第1ウェル領域(41)上に設けられ、前記第1導電型を有し、前記第1ウェル領域(41)によって前記ドリフト層(21)から隔てられたソース領域(80)と、
前記ドリフト層(21)上に設けられ、前記ドリフト層(21)を介して前記第1ウェル領域(41)に隣接する端部を有し、前記第2導電型を有する第2ウェル領域(42)と、
前記第1ウェル領域(41)上と、前記第2ウェル領域(42)の前記端部上とに設けられたゲート絶縁膜(30)と、
前記第2ウェル領域(42)上に設けられ、前記ゲート絶縁膜(30)よりも厚いフィールド絶縁膜(31)と、
前記ゲート絶縁膜(30)上の部分と、前記フィールド絶縁膜(31)上の部分とを有するゲート電極(50)と、
前記ソース領域(80)上のソースコンタクトホール(HS)と、前記第2ウェル領域(42)上の第1ウェルコンタクトホール(HW1)とを有する層間絶縁膜(32)と、
前記ソースコンタクトホール(HS)を通って前記ソース領域(80)に接続され、かつ前記第1ウェルコンタクトホール(HW1)を通って前記第2ウェル領域(42)に接続されるソース電極(10)と、
前記第2ウェル領域(42)上に設けられ、前記フィールド絶縁膜(31)よりも薄い絶縁体層(90)と、
前記絶縁体層(90)のみを介して前記第2ウェル領域(42)上に配置された部分を有する導電体層(99)と、
を備える、炭化珪素半導体装置(101〜107)。 - 第1面と、前記第1面と反対の第2面とを有する半導体基板(20)と、
前記半導体基板(20)の前記第1面上に設けられたドレイン電極(13)と、
前記半導体基板(20)の前記第2面上に設けられ、炭化珪素からなり、第1導電型を有するドリフト層(21)と、
前記ドリフト層(21)上に設けられ、前記第1導電型と異なる第2導電型を有する複数の第1ウェル領域(41)と、
前記第1ウェル領域(41)上に設けられ、前記第1導電型を有し、前記第1ウェル領域(41)によって前記ドリフト層(21)から隔てられたソース領域(80)と、
前記ドリフト層(21)上に設けられ、前記ドリフト層(21)を介して前記第1ウェル領域(41)に隣接する端部を有し、前記第2導電型を有する第2ウェル領域(42)と、
前記第1ウェル領域(41)上と、前記第2ウェル領域(42)の前記端部上とに設けられたゲート絶縁膜(30)と、
前記第2ウェル領域(42)上に設けられ、前記ゲート絶縁膜(30)よりも厚いフィールド絶縁膜(31)と、
前記ゲート絶縁膜(30)上の部分と、前記フィールド絶縁膜(31)上の部分とを有するゲート電極(50)と、
前記ソース領域(80)上のソースコンタクトホール(HS)と、前記第2ウェル領域(42)上の第1ウェルコンタクトホール(HW1)とを有する層間絶縁膜(32)と、
前記ソースコンタクトホール(HS)を通って前記ソース領域(80)に接続され、かつ前記第1ウェルコンタクトホール(HW1)を通って前記第2ウェル領域(42)に接続されるソース電極(10)と、
前記第2ウェル領域(42)上に設けられ、前記第2ウェル領域(42)にショットキー接触する導電体層(99)と、
を備える、炭化珪素半導体装置(108)。 - 前記第2ウェル領域(42)は、
第1部分(42L)と、
前記第1部分(42L)の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有し、前記ソース電極(10)が前記第1ウェルコンタクトホール(HW1)を通って接続された第2部分(42H)と、
を含む、請求項1または請求項2に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記導電体層(99)は、前記第2ウェル領域(42)のシート抵抗よりも低いシート抵抗を有する、請求項1または請求項3に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記絶縁体層(90)は厚さ10nm以上0.2μm以下の酸化珪素層である、請求項1、請求項3、および請求項4のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記絶縁体層(90)および前記ゲート絶縁膜(30)は、同じ材料からなり、かつ同じ厚さを有する、請求項1、および請求項3から請求項5のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記導電体層(99)は前記絶縁体層(90)上において連続的に延在している、請求項1、および請求項3から請求項6のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記導電体層(99)は前記絶縁体層(90)上において不連続的に延在している、請求項1、および請求項3から請求項6のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記フィールド絶縁膜(31)は、前記第2ウェル領域(42)上において前記絶縁体層(90)に挟まれた部分を含む、請求項1、および請求項3から請求項8のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記導電体層(99)は前記ソース電極(10)に短絡されている、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記層間絶縁膜(32)は前記第2ウェル領域(42)上の第2ウェルコンタクトホール(HW2)を有し、前記ソース電極(10)は前記第2ウェルコンタクトホール(HW2)を通って前記第2ウェル領域(42)に接続されており、前記第2ウェル領域(42)上において前記第1ウェルコンタクトホール(HW1)と前記第2ウェルコンタクトホール(HW2)との間に前記絶縁体層(90)が配置されている、請求項1、および請求項3から請求項10のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記層間絶縁膜(32)は、前記ゲート電極(50)を介して前記フィールド絶縁膜(31)上に配置されたゲートコンタクトホール(HG)を有し、
前記層間絶縁膜(32)の前記ゲートコンタクトホール(HG)を通って前記ゲート電極(50)に接続されるゲートパッド(11)をさらに備える、
請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記層間絶縁膜(32)の前記ゲートコンタクトホール(HG)において前記ゲート電極(50)と前記ゲートパッド(11)との界面がシリサイド化されている、請求項12に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記導電体層(99)の少なくとも一部は、前記ゲートパッド(11)と前記第2ウェル領域(42)との間に挟まれた領域の外に配置されている、請求項12または請求項13に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記炭化珪素半導体装置は、内蔵温度センサ(59)と、前記内蔵温度センサ(59)に接続され、かつ前記導電体層(99)上に配置された少なくとも1つのセンスパッド(19)とをさらに備える、請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記炭化珪素半導体装置は、内蔵ゲート抵抗(51)と、前記内蔵ゲート抵抗(51)に接続され、かつ前記導電体層(99)上に配置されたモニタパッド(17)とをさらに備える、請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
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