JPWO2016084755A1 - 狭帯域化レーザ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
1.概要
2.波長計測器を有する狭帯域化レーザ装置(第1の実施形態)
2.1 レーザチャンバ
2.2 狭帯域化モジュール
2.3 出力結合ミラー
2.4 エネルギーセンサ
2.5 エタロン分光器
2.6 制御部
2.7 パルスレーザ光の出力パターン
2.8 波長制御
2.9 フローチャート
2.9.1 波長制御
2.9.2 波長オフセットパラメータの計算
3.現在の波長λ2の計算のバリエーション(第2の実施形態)
4.リファレンス波長λ20の計算のバリエーション(第3の実施形態)
5.エタロン分光器のバリエーション(第4の実施形態)
6.制御部の構成
ダブルパターンやトリプルパターンによる露光を行う露光装置においては、狭帯域化レーザ装置の発振波長の変動により縮小投影レンズの焦点の位置ずれが起こり得る。従って、狭帯域化レーザ装置の発振波長の制御が重要であり得る。波長制御のために、狭帯域化レーザ装置にはエタロン分光器が搭載されてもよい。エタロン分光器によるレーザ光の波長の計測結果に基づいて、波長制御が行われてもよい。
第1の波長計測器は、第1の頻度で計測結果を出力してもよい。第2の波長計測器は、第1の頻度より低い第2の頻度で計測結果を出力してもよい。
図1A及び図1Bは、第1の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を模式的に示す。図1A及び図1Bに示される狭帯域化レーザ装置は、レーザチャンバ10と、一対の放電電極11a及び11bと、電源12と、狭帯域化モジュール14と、出力結合ミラー15と、を含んでもよい。狭帯域化レーザ装置は、さらに、エネルギーセンサ16cと、第1のエタロン分光器18と、第2のエタロン分光器19と、レーザ制御部20と、波長制御部21と、を含んでもよい。狭帯域化レーザ装置は、図示しない増幅器に入射させるシード光をレーザ発振して出力するマスターオシレータであってもよい。
レーザチャンバ10は、例えば、レアガスとしてアルゴンガスやクリプトンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガスや塩素ガス、バッファガスとしてネオンガスやヘリュームガスを含むレーザガスが封入されるチャンバでもよい。レーザチャンバ10の両端にはウインドウ10a及び10bが設けられてもよい。
狭帯域化モジュール14は、2つのプリズム14a及び14bと、グレーティング14cと、ホルダ24a〜24cと、を含んでもよい。プリズム14aはホルダ24aに支持され、プリズム14bはホルダ24bに支持され、グレーティング14cはホルダ24cに支持されてもよい。
出力結合ミラー15の表面には、部分反射膜がコーティングされていてもよい。従って、出力結合ミラー15は、レーザチャンバ10のウインドウ10bから出力される光のうちの一部を透過させて出力し、他の一部を反射させてレーザチャンバ10内に戻してもよい。
出力結合ミラー15と露光装置4との間のパルスレーザ光の光路には、ビームスプリッタ16aが配置されていてもよい。ビームスプリッタ16aは、出力結合ミラー15から出力されたパルスレーザ光を高い透過率で透過させ、出力結合ミラー15から出力されたパルスレーザ光の一部を反射してもよい。ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の光路に、別のビームスプリッタ16bが配置されていてもよい。ビームスプリッタ16bは、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の一部を透過させ、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の他の一部を反射してもよい。
ビームスプリッタ16bを透過したパルスレーザ光の光路には、ビームスプリッタ17aが配置されていてもよい。ビームスプリッタ17aは、ビームスプリッタ16bを透過したパルスレーザ光の一部を透過させ、ビームスプリッタ16bを透過したパルスレーザ光の他の一部を反射してもよい。ビームスプリッタ17aを透過したパルスレーザ光の光量は、ビームスプリッタ17aによって反射されたパルスレーザ光の光量より高くてもよい。
ビームスプリッタ17aによって反射されたパルスレーザ光の光路には、高反射ミラー17bが配置されてもよい。高反射ミラー17bは、ビームスプリッタ17aによって反射されたパルスレーザ光を高い反射率で反射してもよい。高反射ミラー17bによって反射されたパルスレーザ光の光路には、第2のエタロン分光器19が配置されてもよい。
エタロン18bに入射した光の入射角θに応じて、2枚の部分反射ミラーの間で往復せずにエタロン18bを透過する光と、2枚の部分反射ミラーの間で往復した後でエタロン18bを透過する光との光路差が異なり得る。エタロン18bに入射した光は、上記の光路差が波長λの整数m倍の時に高い透過率でエタロン18bを透過し得る。
エタロンの基本式を以下に示す。
mλ=2ndcosθ (1)
ここで、nはエアギャップ間での屈折率であってもよい。
エタロン18bに入射した波長λの光は、(1)式を満たす入射角θになった時に、高い透過率でエタロンを通過し得る。
従って、エタロン18bに入射する光の波長に応じて、エタロン18bを高い透過率で透過する光の入射角θが異なり得る。エタロン19bについても同様となり得る。
エタロン18b及び19bを透過した光は、それぞれ、集光レンズ18c及び19cに入射してもよい。
特許文献5に記載されているように、(1)式から、この干渉縞の半径の2乗は、パルスレーザ光の波長λと比例関係となり得る。
具体的なエタロンの仕様としては、第1のエタロン分光器18と第2のエタロン分光器19のフリースペクトトラルレンジ(=λ2/(2nd))をそれぞれFSR1とFSR2とすると、FSR1がFSR2より大きいことが好ましい。さらに好ましくは、FSR1/FSR2の値が5以上、7以下であってもよい。そして、好ましくは、集光レンズ19cの焦点距離が集光レンズ18cの焦点距離よりも長くてもよい。
露光装置4は、露光装置制御部40を含んでいてもよい。露光装置制御部40は、図示しないウエハステージの移動などの制御を行ってもよい。露光装置制御部40は、レーザ制御部20に対し、目標波長λtのデータと、目標パルスエネルギーのデータと、発振トリガ信号とを出力してもよい。
レーザ制御部20は、露光装置制御部40から受信した目標パルスエネルギーのデータと、エネルギーセンサ16cから受信したパルスエネルギーのデータとを参照して、電源12における充電電圧の設定値を制御してもよい。レーザ制御部20が電源12における充電電圧の設定値を制御することにより、パルスレーザ光のパルスエネルギーが制御されてもよい。
レーザ制御部20は、露光装置制御部40から受信した発振トリガ信号に基づいて、発振インターバルΔTを計測してもよい。レーザ制御部20は、発振インターバルΔTを計測するためのタイマー20aを有していてもよい。発振インターバルΔTは、1つの発振トリガ信号を受信してから次の発振トリガ信号を受信するまでの期間であってもよい。レーザ制御部20は、計測した発振インターバルΔTのデータを、波長制御部21に出力してもよい。
波長制御部21は、第2のエタロン分光器19から干渉縞のデータの積算値を受信して、干渉縞の半径を計測し、干渉縞の半径に基づいて、現在の波長λ2を計算してもよい。
波長制御部21は、第1のエタロン分光器18による計測波長λ1と、波長オフセットパラメータλofstとに基づいて、較正波長λ1cを計算してもよい。波長制御部21は、較正波長λ1cが目標波長λtに近づくように、プリズム14bを支持するホルダ24bの回転ステージを制御してもよい。回転ステージの制御は、ホルダ24bの回転ステージに接続されたドライバ21bに、波長制御部21が制御信号を送信することによって行われてもよい。
図2は、狭帯域化レーザ装置によるパルスレーザ光の出力パターンの例を示す。図2における上側のグラフには、第1の半導体ウエハを露光するための発光期間Tw1と、第2の半導体ウエハを露光するための発光期間Tw2と、これらの発光期間の間のウエハ交換期間Twcとが示されている。ウエハ交換期間Twcにおいては、発光が行われなくてもよい。あるいは、ウエハ交換期間Twcにおいて、後述の調整発振が行われてもよい。
Duty=(Ton/(Ton+Toff))×100(%)
ここで、Tonは、1つのチップ領域を露光するための発振期間であってよい。Toffは、次の発振期間までの間の発振休止期間であってよい。
Duty=(N/(fmax・Ts))×100(%)
ここで、fmaxは、当該狭帯域化レーザ装置の最大繰り返し周波数であってよい。Tsは、デューティDutyを取得するためのサンプル期間であってよい。Nは、サンプル期間Tsにおける発振パルス数であってよい。
以上のように、本明細書では、所定の時間Tonの間に所定の繰り返し周波数fで発振し、所定時間Toff発振を休止するようなレーザ発振の運転パターンをバースト運転と呼ぶことがある。
図3Aは、波長の計測結果を較正しない場合に第1のエタロン分光器18が検出する干渉縞に基づく計測波長λ1の例を示すグラフである。波長の計測結果を較正しない場合、波長制御部21は、計測波長λ1が目標波長λtに近づくように、プリズム14bを支持するホルダ24bの回転ステージを制御してもよい。従って、計測波長λ1は、目標波長λt付近の略一定値に維持されてもよい。
第1に、エタロンに入射するパルスレーザ光のエネルギーによってエタロンの温度が変化し、その結果、計測波長がずれたと推定される。
第2に、エタロン分光器の分解能が低いために、スペクトル波形が変化したときの波長の変化によって、計測波長がずれたと推定される。
2.9.1 波長制御
図4は、図1に示される波長制御部による波長制御の処理を示すフローチャートである。波長制御部21は、以下の処理により、目標波長λtに基づいて、狭帯域化レーザ装置の発振波長を制御してもよい。図5のS241を参照しながら後述するように、図4に示される波長制御の処理は、パルスレーザ光に含まれる1つのパルス毎に実行されてもよい。
λ1c=λ1+λofst
Δλ=λ1c−λt
以上の処理により、波長制御部21は、目標波長λtに基づく制御を行ってもよい。
図6は、図1に示される波長制御部による波長オフセットパラメータの計算処理を示すフローチャートである。波長制御部21は、以下の処理により、第2のエタロン分光器19から干渉縞のデータの積算値を受信して、波長オフセットパラメータλofstを計算してもよい。
次に、S500において、波長制御部21は、バースト運転が始まったか否かを判定してもよい。ここで、バースト運転とは、発振インターバルΔTが閾値Kmax以下で繰り返しパルス発振する状態を意味し得る。閾値Kmaxは、例えば、1秒以上、2秒以下の値でもよい。バースト運転が始まっていない場合(S500;NO)、波長制御部21は、処理を上述のS300に戻してもよい。バースト運転が始まった場合(S500;YES)、波長制御部21は、処理をS600に進めてもよい。
Δλ2=λ2−λ20
λofst=λofst+Δλ2
以上のようにして、波長制御部21は、波長オフセットパラメータλofstを計算してもよい。こうして計算された波長オフセットパラメータλofstの値が、図5を参照しながら上述したS245及びS246において、計測波長λ1を較正するために用いられてもよい。
(1)露光装置制御部40からリファレンス波長λ20を取得する命令を受信した場合
(2)第1の半導体ウエハを露光するための発光期間Tw1と第2の半導体ウエハを露光するための発光期間Tw2との間のウエハ交換期間Twcである場合
(3)レーザ装置が半導体ウエハを露光するための露光運転をする前の立ち上げ時
調整発振が可能でない場合(S210;NO)、波長制御部21は、調整発振が可能となるまで待機してもよい。調整発振が可能である場合(S210;YES)、波長制御部21は、処理をS220に進めてもよい。
以上のようにして、波長制御部21は、リファレンス波長λ20を計算してもよい。
次に、S244において、波長制御部21は、干渉縞のデータに基づいて、計測波長λ1を計算してもよい。
以上のようにして、波長制御部21は、計測波長λ1を計算してもよい。
λ2=(λ21+λ22+...+λ2n)/n
以上の処理により、波長制御部21は、現在の波長λ2を計算してもよい。以上のようにして計算された現在の波長λ2が、図7を参照しながら上述したS270においてリファレンス波長λ20を設定するために用いられてもよい。また、以上のようにして計算された現在の波長λ2が、図6を参照しながら上述したS700及びS800において波長オフセットパラメータλofstを更新するために用いられてもよい。
図10は、本開示の第2の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置において現在の波長λ2を計算する処理の詳細を示すフローチャートである。第2の実施形態は、現在の波長λ2の計算において第1の実施形態と異なってもよい。
図11は、本開示の第3の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置における波長オフセットパラメータの計算処理を示すフローチャートである。第3の実施形態は、波長オフセットパラメータλofstを計算するためのリファレンス波長λ20の計算において、第1の実施形態と異なってもよい。
S904a又はS905aの後、波長制御部21は、本フローチャートの処理を終了して図11に示される処理に戻ってもよい。
図15は、本開示の第4の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置において用いられる第2のエタロン分光器の構成を示す。第4の実施形態において、第2のエタロン分光器19は、拡散プレート19aとエタロン19bとの間に、光ファイバー19eが配置されてもよい。
さらに、光ファイバー19eを振動させる加振装置19iが設けられてもよい。加振装置19iは図示しないアクチュエータを備えてもよい。パルスレーザ光の干渉性が高い場合に、加振装置19iによって光ファイバー19eを振動させることにより、干渉縞に加算されるスペックルノイズが低減し得る。その結果、パルスレーザ光の波長の計測精度が向上し得る。
図16は、制御部の概略構成を示すブロック図である。
上述した実施の形態におけるレーザ制御部20、波長制御部21等の制御部は、コンピュータやプログラマブルコントローラ等汎用の制御機器によって構成されてもよい。例えば、以下のように構成されてもよい。
制御部は、処理部1000と、処理部1000に接続される、ストレージメモリ1005と、ユーザインターフェイス1010と、パラレルI/Oコントローラ1020と、シリアルI/Oコントローラ1030と、A/D、D/Aコンバータ1040とによって構成されてもよい。また、処理部1000は、CPU1001と、CPU1001に接続された、メモリ1002と、タイマー1003と、GPU1004とから構成されてもよい。
処理部1000は、ストレージメモリ1005に記憶されたプログラムを読出してもよい。また、処理部1000は、読出したプログラムを実行したり、プログラムの実行に従ってストレージメモリ1005からデータを読出したり、ストレージメモリ1005にデータを記憶させたりしてもよい。
シリアルI/Oコントローラ1030に接続される、シリアルI/Oポートを介して通信可能な機器1031〜103xは、露光装置制御部40、他の制御部等のデータの受送信に使用してもよい。
A/D、D/Aコンバータ1040に接続される、アナログポートを介して通信可能な機器1041〜104xは、エネルギーセンサ16c、ラインセンサ18d、19d等の各種センサであってもよい。
以上のように構成されることで、制御部は各実施形態に示された動作を実現可能であってよい。
Claims (12)
- スペクトル幅を狭帯域化する光学素子を含むレーザ共振器と、
前記レーザ共振器におけるパルスレーザ光の光路を挟んで配置された一対の放電電極と、
前記一対の放電電極にパルス状の電圧を印加する電源と、
前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の波長を計測して、第1の計測結果を出力する第1の波長計測器と、
前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の波長を計測して、第2の計測結果を出力する第2の波長計測器と、
前記第2の計測結果に基づいて前記第1の計測結果を較正する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
第1の繰り返し周波数で前記電源が前記一対の放電電極にパルス状の電圧を印加するように前記電源を制御したときの前記第2の計測結果と、
前記第1の繰り返し周波数より高い第2の繰り返し周波数で前記電源が前記一対の放電電極にパルス状の電圧を印加するように前記電源を制御したときの前記第2の計測結果との差に基づいて、前記第1の計測結果を較正する、
狭帯域化レーザ装置。 - 前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の一部を、第1の光量の第1のパルスレーザ光と前記第1の光量より低い第2の光量の第2のパルスレーザ光とに分岐させる光学系をさらに備え、
前記第1の波長計測器は、前記第1のパルスレーザ光の光路に配置され、前記第1のパルスレーザ光の波長を計測して前記第1の計測結果を出力し、
前記第2の波長計測器は、前記第2のパルスレーザ光の光路に配置され、前記第2のパルスレーザ光の波長を計測して前記第2の計測結果を出力する、
請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記第2の波長計測器は、前記第1の波長計測器よりも分解能が高い、
請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記光学系は、
少なくとも前記第2の波長計測器に入射するパルスレーザ光が通過する光ファイバーと、
前記光ファイバーを振動させる加振装置と、
を含む、請求項2記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記第1の波長計測器は、第1の頻度で前記第1の計測結果を出力し、
前記第2の波長計測器は、前記第1の頻度より低い第2の頻度で前記第2の計測結果を出力する、
請求項3記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記第1の波長計測器は、パルスレーザ光の波長を1つのパルス毎に計測して、1つのパルス毎に前記第1の計測結果を出力し、
前記第2の波長計測器は、パルスレーザ光の波長を複数のパルス毎に計測して、複数のパルスの波長を平均して前記第2の計測結果を出力する、
請求項5記載の狭帯域化レーザ装置。 - スペクトル幅を狭帯域化する光学素子を含むレーザ共振器と、
前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の波長を計測して、第1の計測結果を出力する第1の波長計測器と、
前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の波長を計測して、第2の計測結果を出力する第2の波長計測器と、
前記第2の計測結果に基づいて前記第1の計測結果を較正する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
目標波長が一定量以上変更された場合、パルスレーザ光の出力停止状態が一定時間以上続いた場合、及び、波長計測に関わるパラメータが更新された場合のうちのいずれか1つ以上の場合に、前記第2の計測結果をリファレンス波長として取得し、
前記リファレンス波長を取得した後の前記第2の計測結果をさらに取得し、
前記リファレンス波長と、前記リファレンス波長を取得した後の前記第2の計測結果との差に基づいて、前記第1の計測結果を較正する、狭帯域化レーザ装置。 - 前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の一部を、第1の光量の第1のパルスレーザ光と前記第1の光量より低い第2の光量の第2のパルスレーザ光とに分岐させる光学系をさらに備え、
前記第1の波長計測器は、前記第1のパルスレーザ光の光路に配置され、前記第1のパルスレーザ光の波長を計測して前記第1の計測結果を出力し、
前記第2の波長計測器は、前記第2のパルスレーザ光の光路に配置され、前記第2のパルスレーザ光の波長を計測して前記第2の計測結果を出力する、
請求項7記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記第2の波長計測器は、前記第1の波長計測器よりも分解能が高い、
請求項7記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記光学系は、
少なくとも前記第2の波長計測器に入射するパルスレーザ光が通過する光ファイバーと、
前記光ファイバーを振動させる加振装置と、
を含む、請求項8記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記第1の波長計測器は、第1の頻度で前記第1の計測結果を出力し、
前記第2の波長計測器は、前記第1の頻度より低い第2の頻度で前記第2の計測結果を出力する、
請求項9記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記第1の波長計測器は、パルスレーザ光の波長を1つのパルス毎に計測して、1つのパルス毎に前記第1の計測結果を出力し、
前記第2の波長計測器は、パルスレーザ光の波長を複数のパルス毎に計測して、複数のパルスの波長を平均して前記第2の計測結果を出力する、
請求項11記載の狭帯域化レーザ装置。
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Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN109314366A (zh) * | 2016-07-22 | 2019-02-05 | 极光先进雷射株式会社 | 窄带化KrF准分子激光装置 |
WO2018105002A1 (ja) | 2016-12-05 | 2018-06-14 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置 |
WO2018138819A1 (ja) | 2017-01-26 | 2018-08-02 | ギガフォトン株式会社 | レーザシステム |
US11588293B2 (en) * | 2017-11-21 | 2023-02-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Methods and systems for aligning master oscillator power amplifier systems |
CN111194510B (zh) * | 2017-11-27 | 2022-12-20 | 极光先进雷射株式会社 | 准分子激光装置和电子器件的制造方法 |
CN112204831B (zh) | 2018-07-05 | 2024-03-12 | 极光先进雷射株式会社 | 能量计测装置和准分子激光装置 |
WO2020157839A1 (ja) * | 2019-01-29 | 2020-08-06 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置の波長制御方法及び電子デバイスの製造方法 |
WO2020183644A1 (ja) * | 2019-03-13 | 2020-09-17 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 |
CN113439371B (zh) * | 2019-03-26 | 2023-12-08 | 国立大学法人长冈技术科学大学 | 高电压脉冲产生装置、气体激光装置和电子器件的制造方法 |
WO2021048947A1 (ja) * | 2019-09-11 | 2021-03-18 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 |
CN111289124B (zh) * | 2020-03-31 | 2021-03-05 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 激光器波长测量装置及方法 |
WO2022044308A1 (ja) * | 2020-08-31 | 2022-03-03 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置、波長制御方法、及び電子デバイスの製造方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04127488A (ja) * | 1990-06-06 | 1992-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ装置 |
JP2001196679A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-19 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザ装置及びその波長制御装置 |
JP2001298234A (ja) * | 2000-04-13 | 2001-10-26 | Komatsu Ltd | 紫外線レーザ装置及びその波長安定化方法 |
JP2003185502A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Gigaphoton Inc | レーザ装置及び波長検出方法 |
JP2003249707A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Komatsu Ltd | 狭帯域化ガスレーザ装置 |
US6807205B1 (en) * | 2000-07-14 | 2004-10-19 | Lambda Physik Ag | Precise monitor etalon calibration technique |
JP2005003595A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光強度測定方法及び光強度測定装置 |
JP2007027624A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-01 | Komatsu Ltd | 2ステージ狭帯域化レーザ装置 |
JP2008098282A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 |
JP2013033932A (ja) * | 2011-07-06 | 2013-02-14 | Gigaphoton Inc | 波長検出器、波長較正システム |
JP2013214772A (ja) * | 2004-06-23 | 2013-10-17 | Cymer Inc | 帯域幅スペクトル制御のためのレーザ出力ビーム波面スプリッタ |
WO2014030645A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | ギガフォトン株式会社 | 光源装置及びデータ処理方法 |
WO2014156407A1 (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-02 | ギガフォトン株式会社 | レーザ光の波長を制御する方法およびレーザ装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02273981A (ja) * | 1989-04-14 | 1990-11-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 狭帯域化レーザ装置 |
US5130998A (en) * | 1990-02-21 | 1992-07-14 | Mitsubiski Denki Kaubshiki Kaisha | Laser device with oscillation wavelength control |
JP2997956B2 (ja) | 1991-06-27 | 2000-01-11 | 株式会社小松製作所 | 波長検出装置 |
JP3219879B2 (ja) | 1992-12-21 | 2001-10-15 | 株式会社小松製作所 | 波長検出装置 |
US5420877A (en) | 1993-07-16 | 1995-05-30 | Cymer Laser Technologies | Temperature compensation method and apparatus for wave meters and tunable lasers controlled thereby |
EP1139521A4 (en) * | 1999-09-10 | 2006-03-22 | Nikon Corp | LIGHT SOURCE AND WAVELENGTH STABILIZATION CONTROL METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD, METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE THEREOF |
US6597462B2 (en) * | 2000-03-01 | 2003-07-22 | Lambda Physik Ag | Laser wavelength and bandwidth monitor |
WO2001076026A1 (en) * | 2000-03-30 | 2001-10-11 | National Institute Of Standards And Technology ('nist') | Mode-locked pulsed laser system and method |
US7088758B2 (en) * | 2001-07-27 | 2006-08-08 | Cymer, Inc. | Relax gas discharge laser lithography light source |
US6700916B1 (en) * | 2001-09-26 | 2004-03-02 | Lambda Physik Ag | E-diagnostic, laser simulator, automated testing and deconvolution of spectra for lithographic exposure radiation generating systems such as excimer or molecular fluorine laser or EUV source systems |
JP2003214958A (ja) | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Gigaphoton Inc | 波長検出装置、レーザ装置及び波長検出方法 |
JP4325846B2 (ja) * | 2003-06-09 | 2009-09-02 | ギガフォトン株式会社 | 分光器およびこの分光器を備えたレーザ装置 |
CN100538259C (zh) * | 2003-09-30 | 2009-09-09 | 西默股份有限公司 | 气体放电mopa激光光谱分析模块 |
CN103022888B (zh) * | 2012-12-21 | 2015-04-22 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种偏振光泵浦的碱金属蒸汽激光器 |
-
2014
- 2014-11-28 WO PCT/JP2014/081660 patent/WO2016084263A1/ja active Application Filing
-
2015
- 2015-11-20 CN CN201580053741.9A patent/CN107112712B/zh active Active
- 2015-11-20 JP JP2016561566A patent/JP6752718B2/ja active Active
- 2015-11-20 WO PCT/JP2015/082798 patent/WO2016084755A1/ja active Application Filing
-
2017
- 2017-04-13 US US15/486,323 patent/US9882343B2/en active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04127488A (ja) * | 1990-06-06 | 1992-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ装置 |
JP2001196679A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-19 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザ装置及びその波長制御装置 |
JP2001298234A (ja) * | 2000-04-13 | 2001-10-26 | Komatsu Ltd | 紫外線レーザ装置及びその波長安定化方法 |
US6807205B1 (en) * | 2000-07-14 | 2004-10-19 | Lambda Physik Ag | Precise monitor etalon calibration technique |
JP2003185502A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Gigaphoton Inc | レーザ装置及び波長検出方法 |
JP2003249707A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Komatsu Ltd | 狭帯域化ガスレーザ装置 |
JP2005003595A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光強度測定方法及び光強度測定装置 |
JP2013214772A (ja) * | 2004-06-23 | 2013-10-17 | Cymer Inc | 帯域幅スペクトル制御のためのレーザ出力ビーム波面スプリッタ |
JP2007027624A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-01 | Komatsu Ltd | 2ステージ狭帯域化レーザ装置 |
JP2008098282A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 |
JP2013033932A (ja) * | 2011-07-06 | 2013-02-14 | Gigaphoton Inc | 波長検出器、波長較正システム |
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