JPWO2016068061A1 - アセトニトリルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
酢酸とアンモニアとをゼオライト触媒の存在下に気相反応させて含水粗アセトニトリルを得る気相反応工程を有し、前記ゼオライト触媒が、酸素８員環細孔構造を有する、アセトニトリルの製造方法。
Description
本発明は、アセトニトリルの製造方法に関する。
アセトニトリルは、化学反応用の溶媒、特には医薬中間体の合成や精製に用いられる溶媒や、高速液体クロマトグラフィーの移動相溶媒などに用いられる。また、最近はＤＮＡ合成用溶媒及び精製用溶媒、有機ＥＬ材料合成用溶媒、電子部品の洗浄用溶剤としてもアセトニトリルが用いられるようになっている。
さて現在、一般に市販されているアセトニトリルは、主に、プロピレン又はイソブテンと、アンモニアと、酸素との接触的アンモ酸化反応によってアクリロニトリル又はメタクリロニトリルを製造する際に副生成物として得られる粗アセトニトリルを、回収及び精製して得られるものである。このようにして得られるアンモ酸化反応によって得られた粗アセトニトリルには、様々な不純物が含まれているため、現在までに粗アセトニトリルを精製するための方法が多く提案されている。
例えば、特許文献１には、含水粗アセトニトリルに、その中に存在する水を抽出するのに十分な量のアルカリを加えて１０〜５０℃で混合し、次いで分離した水性相を除去する粗アセトニトリルの脱水精製方法が開示されている。また、特許文献２には、アンモ酸化反応によって副生した粗アセトニトリルを６０℃でアルカリ処理し、シアン化水素及びアクリロニトリルを分解させた後、脱水塔でさらにアルカリを加えてアセトニトリルを脱水する方法が開示されている。
一方、アセトニトリルを直接製造する方法として、酢酸とアンモニアとを触媒の存在下に気相反応させてアセトニトリルを製造する方法も公知であり、上記の粗アセトニトリルを副生させる方法に替わる粗アセトニトリル製造方法として注目されている（例えば、特許文献３、４参照）。この製造方法の反応式は次のとおりである。この反応によって得られた粗アセトニトリルは、生成したアセトニトリル、未反応の酢酸やアンモニア、生成した水が含まれ得る。
ＣＨ３ＣＯＯＨ＋ＮＨ３→ＣＨ３ＣＮ＋２Ｈ２Ｏ
ＣＨ３ＣＯＯＨ＋ＮＨ３→ＣＨ３ＣＮ＋２Ｈ２Ｏ
例えば、特許文献３には、酢酸とアンモニアとを触媒の存在下に気相反応させてアセトニトリルを製造する方法に於いて、反応生成ガスを強酸と接触させてアセトニトリルを水溶液として回収することで、アンモニアが強酸との塩を形成し、炭酸アンモニウムの生成・析出を抑止する方法が開示されている、この方法で用いられる触媒は、酸点及び／又は塩基点を有する脱水触媒であればよく、実施例に開示される触媒は、ジルコニアである。
また、特許文献４には、各種ゼオライト触媒を用いてカルボン酸とアンモニアからニトリルを製造する方法において、アンモニア／カルボン酸のモル比を１／１〜１０／１とし、触媒としてＨ−ＺＳＭ−５、ＮａＹ、Ｈ−モルデナイト等のゼオライト、ＳＡＰＯ−４０、シリカアルミナ等を用い、反応温度を３００〜５００℃とし、液体生成物基準のＷＨＳＶを０．４ｈ−１とする方法が開示されている。
しかしながら、特許文献３では、炭酸アンモニウム析出が該方法の課題であり、反応生成ガスを強酸と接触させる方法により、炭酸アンモニウム塩結晶析出を抑制できることは開示されているが、反応により生成する副生物に関する記載はなく、含水粗アセトニトリルを高純度アセトニトリルに精製する際の問題点が示されていない。
また、特許文献４では、各種ゼオライト触媒を用いて、酢酸とアンモニアからアセトニトリルを製造する方法が開示されており、該実施例によれば、収率は１００％と開示されている。しかしながら、触媒使用量が多く工業的に実施する上では不利であり、微量不純物に関する記載もなく、高純度アセトニトリルに精製する際の問題点が示されていない。
さて、本発明者らの検討によれば、ゼオライト触媒を用いて酢酸とアンモニアとの気相反応を実施する場合、酢酸の脱炭酸反応によって副生するアセトンを経由し、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物の副生が認められることが判明した。芳香族化合物の副生は、ゼオライト触媒を用いた場合の特有のものと認められる。また、芳香族化合物の副生は、アセトニトリルを高収率で得る場合により顕著になる傾向がある。このような課題は、本願発明者らにより初めて見出された課題である。
アセトニトリルは、化学反応用の溶媒、特には医薬中間体の合成や精製に用いられる溶媒や、高速液体クロマトグラフィーの移動相溶媒などに用いられる。従って、極微量であっても、芳香族化合物の副生は、アセトニトリルの製品品質における大きな課題である。
しかしながら、特許文献３、４に記載の方法には、微量副生物に関する検討が全く為されておらず、かかる課題の提起がない。例えば、特許文献３では、酢酸原料の溶媒として芳香族炭化水素に溶解させて供給する方法を提案している程である。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ゼオライト触媒を用いて酢酸とアンモニアとの気相反応を実施する際の芳香族化合物の副生を抑止することができるアセトニトリルの製造方法を提供することを目的とする。このようにして得られるアセトニトリルは、化学反応用の溶媒、特には医薬中間体の合成用溶媒及び精製用溶媒、高速液体クロマトグラフィーの移動相溶媒、ＤＮＡ合成用溶媒及び精製用溶媒、有機ＥＬ材料合成用溶媒、或いは、電子部品の洗浄溶剤として好適に用いることができる。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意、検討を重ねた結果、所定のゼオライト触媒を用いることによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
〔１〕
酢酸とアンモニアとをゼオライト触媒の存在下に気相反応させて含水粗アセトニトリルを得る気相反応工程を有し、
前記ゼオライト触媒が、酸素８員環細孔構造を有する、アセトニトリルの製造方法。
〔２〕
前記含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量が、アセトニトリル１００質量％に対して、１質量ｐｐｍ未満である、前項〔１〕に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔３〕
前記含水粗アセトニトリルを精製して、製品アセトニトリルを得る精製工程を有し、
前記製品アセトニトリル中のトルエンの含有量が、アセトニトリル１００質量％に対して、１質量ｐｐｍ未満である、前項〔１〕又は〔２〕に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔４〕
前記ゼオライト触媒が、ＣＨＡで示される構造を有する、前項〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔５〕
前記ゼオライト触媒が、ＳＡＰＯ−３４及び／又はＳＳＺ−１３を含む、前項〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔６〕
前記気相反応工程において、ＷＨＳＶが、０．５〜２０ｈ−１である、前項〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔７〕
前項〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法により製造された、アセトニトリル。
〔１〕
酢酸とアンモニアとをゼオライト触媒の存在下に気相反応させて含水粗アセトニトリルを得る気相反応工程を有し、
前記ゼオライト触媒が、酸素８員環細孔構造を有する、アセトニトリルの製造方法。
〔２〕
前記含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量が、アセトニトリル１００質量％に対して、１質量ｐｐｍ未満である、前項〔１〕に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔３〕
前記含水粗アセトニトリルを精製して、製品アセトニトリルを得る精製工程を有し、
前記製品アセトニトリル中のトルエンの含有量が、アセトニトリル１００質量％に対して、１質量ｐｐｍ未満である、前項〔１〕又は〔２〕に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔４〕
前記ゼオライト触媒が、ＣＨＡで示される構造を有する、前項〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔５〕
前記ゼオライト触媒が、ＳＡＰＯ−３４及び／又はＳＳＺ−１３を含む、前項〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔６〕
前記気相反応工程において、ＷＨＳＶが、０．５〜２０ｈ−１である、前項〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
〔７〕
前項〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法により製造された、アセトニトリル。
本発明によれば、ゼオライト触媒を用いて酢酸とアンモニアとの気相反応を実施する際の芳香族化合物の副生を抑止することができるアセトニトリルの製造方法を提供することができる。本発明のアセトニトリルの製造方法は、ゼオライト触媒を用いた酢酸とアンモニアとの気相反応を工業的に実施する上で極めて有利である。このようにして得られるアセトニトリルは、化学反応用の溶媒、特には医薬中間体の合成用溶媒、精製用溶媒、高速液体クロマトグラフィーの移動相溶媒、ＤＮＡ合成用溶媒及び精製用溶媒、有機ＥＬ材料合成用溶媒、或いは、電子部品の洗浄溶剤として好適に用いることができる。
以下、本発明の実施の形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。なお、数値範囲における「Ａ〜Ｂ」の表現は、特に記載がない限り「Ａ以上Ｂ以下」の数値範囲を示すものとする。
〔アセトニトリルの製造方法〕
本実施形態のアセトニトリルの製造方法は、酢酸とアンモニアとをゼオライト触媒の存在下に気相反応させて含水粗アセトニトリルを得る気相反応工程を有し、前記ゼオライト触媒が、酸素８員環細孔構造を有する。
本実施形態のアセトニトリルの製造方法は、酢酸とアンモニアとをゼオライト触媒の存在下に気相反応させて含水粗アセトニトリルを得る気相反応工程を有し、前記ゼオライト触媒が、酸素８員環細孔構造を有する。
本実施形態によれば、触媒として細孔径が酸素８員環細孔構造を有するゼオライト触媒を用いることにより、驚くべきことに、得られる含水粗アセトニトリル中のトルエン等の芳香族化合物の副生量を顕著に抑制することが可能となる。これにより、得られた含水粗アセトニトリルを従来公知の方法にて、抽出脱水し、蒸留精製することによって、トルエン等の芳香族化合物を実質的に含まない高純度アセトニトリルを製造することができる。「芳香族化合物を実質的に含まない」とは、芳香族化合物の含有量が１質量ｐｐｍ未満であることをいう。具体的には、波長２００〜４００ｎｍにおける紫外線吸収の吸光度の低い高純度なアセトニトリルを得ることができる。芳香族化合物の副生が抑制できることは、本発明を工業的に実施する上で、極めて有利である。
〔気相反応工程〕
気相反応工程は、酢酸とアンモニアとをゼオライト触媒の存在下に気相反応させて含水粗アセトニトリルを得る工程である。具体的には、ゼオライト触媒を充填した反応器内で、所定の温度にて、酢酸とアンモニアとゼオライト触媒とを気相接触させることにより、実施することができるが、特に限定されない。
気相反応工程は、酢酸とアンモニアとをゼオライト触媒の存在下に気相反応させて含水粗アセトニトリルを得る工程である。具体的には、ゼオライト触媒を充填した反応器内で、所定の温度にて、酢酸とアンモニアとゼオライト触媒とを気相接触させることにより、実施することができるが、特に限定されない。
（原料）
気相反応の原料となる酢酸及びアンモニアとしては、特に限定されず、各種化学合成法などから製造されたものを用いることができる。酢酸及びアンモニアは、必ずしも高純度である必要はなく、工業グレードのものでよい。例えば、酢酸としては、冬季の凍結を防止する目的で７０〜９０質量％水溶液として工業的に流通しているものを用いることができる。
気相反応の原料となる酢酸及びアンモニアとしては、特に限定されず、各種化学合成法などから製造されたものを用いることができる。酢酸及びアンモニアは、必ずしも高純度である必要はなく、工業グレードのものでよい。例えば、酢酸としては、冬季の凍結を防止する目的で７０〜９０質量％水溶液として工業的に流通しているものを用いることができる。
（ゼオライト触媒）
本実施の形態に用いられるゼオライト触媒は、酸素８員環細孔構造を有する。本発明者らは、ゼオライト触媒が酸素８員環細孔構造を有することにより芳香族化合物の副生が抑制されることを見出した。ここで、「ゼオライト」とは一般的に結晶性の多孔質アルミノシリケートの総称である。ゼオライトは、四面体構造である（ＳｉＯ４）４−と（ＡｌＯ４）５−とを基本構造単位として有し、これらが三次元的に連結することで結晶が形成される。また、アルミニウムイオン以外の３価あるいは４価の元素をシリケート骨格に組み込んだメタロシリケートもゼオライトに含まれる。ゼオライトは構造及び組成が多様であるため、構造コード、生成過程、鉱物学、細孔径、細孔の次元、アルミニウム濃度、他のカチオン濃度及び構造元素などのさまざまな観点から異なる分類がなされている（ゼオライトの科学と工学、小野嘉夫・八嶋建明／編、講談社サイエンティフィック参照）。また、国際ゼオライト学会（ＩＺＡ）により多様なフレームワーク型コードが規定されている。
本実施の形態に用いられるゼオライト触媒は、酸素８員環細孔構造を有する。本発明者らは、ゼオライト触媒が酸素８員環細孔構造を有することにより芳香族化合物の副生が抑制されることを見出した。ここで、「ゼオライト」とは一般的に結晶性の多孔質アルミノシリケートの総称である。ゼオライトは、四面体構造である（ＳｉＯ４）４−と（ＡｌＯ４）５−とを基本構造単位として有し、これらが三次元的に連結することで結晶が形成される。また、アルミニウムイオン以外の３価あるいは４価の元素をシリケート骨格に組み込んだメタロシリケートもゼオライトに含まれる。ゼオライトは構造及び組成が多様であるため、構造コード、生成過程、鉱物学、細孔径、細孔の次元、アルミニウム濃度、他のカチオン濃度及び構造元素などのさまざまな観点から異なる分類がなされている（ゼオライトの科学と工学、小野嘉夫・八嶋建明／編、講談社サイエンティフィック参照）。また、国際ゼオライト学会（ＩＺＡ）により多様なフレームワーク型コードが規定されている。
（酸素８員環細孔構造を有するゼオライトの構造）
酸素８員環細孔構造を有するゼオライト触媒の構造としては、特に限定されないが、例えば、国際ゼオライト学会（ＩＺＡ）が規定するフレームワーク型コード（ＦＴＣ）において、ＡＦＸ、ＣＡＳ、ＣＨＡ、ＤＤＲ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＧＩＳ、ＧＯＯ、ＩＴＥ、ＪＢＷ、ＫＦＩ、ＬＥＶ、ＬＴＡ、ＭＥＲ、ＭＯＮ、ＭＴＦ、ＰＡＵ、ＰＨＩ、ＲＨＯ、ＲＴＥ、及びＲＴＨ等で示される構造が挙げられる。このなかでも、ＣＨＡで示される構造を有するゼオライト触媒が好ましい。このようなＣＨＡで示される構造を有するゼオライト触媒は、例えば、天然に産出するチャバサイト（chabazite）と同等の結晶構造を有する。
酸素８員環細孔構造を有するゼオライト触媒の構造としては、特に限定されないが、例えば、国際ゼオライト学会（ＩＺＡ）が規定するフレームワーク型コード（ＦＴＣ）において、ＡＦＸ、ＣＡＳ、ＣＨＡ、ＤＤＲ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＧＩＳ、ＧＯＯ、ＩＴＥ、ＪＢＷ、ＫＦＩ、ＬＥＶ、ＬＴＡ、ＭＥＲ、ＭＯＮ、ＭＴＦ、ＰＡＵ、ＰＨＩ、ＲＨＯ、ＲＴＥ、及びＲＴＨ等で示される構造が挙げられる。このなかでも、ＣＨＡで示される構造を有するゼオライト触媒が好ましい。このようなＣＨＡで示される構造を有するゼオライト触媒は、例えば、天然に産出するチャバサイト（chabazite）と同等の結晶構造を有する。
ＣＨＡ構造を有するゼオライト触媒としては、特に限定されないが、具体的には、アルミノケイ酸塩及び／又はアルミノリン酸塩から構成されるものが挙げられる。このなかでも、ケイ素とアルミニウムからなるアルミノケイ酸塩「ＳＳＺ−１３」、アルミニウムとリンからなるアルミノリン酸塩「ＡＬＰＯ−３４」、及びケイ素とアルミニウムとリンからなるシリコアルミノリン酸塩「ＳＡＰＯ−３４」が好ましく、ＳＳＺ−１３及び／又はＳＡＰＯ−３４がより好ましい。このようなゼオライト触媒を用いることにより、得られる含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量がより低減する傾向にある。
（ゼオライト触媒の成形方法）
ゼオライト触媒の形状は、粉状でも粒状でもよく、気相反応工程等のプロセスに応じて適した形状に成型加工した成形体とすることができる。ゼオライト触媒の成形方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いることが可能である。例えば、触媒の前駆体を噴霧乾燥する方法、触媒成分を圧縮成型する方法、触媒成分を押出し成型する方法が挙げられる。これら成形方法においては、バインダーや成形用希釈剤（マトリックス）を用いてもよい。バインダー及び成形用希釈剤としては、特に限定されないが、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、カオリン、ケイソウ土、粘土等の多孔性耐火性無機酸化物が挙げられる。これらは、一種単独で用いても、二種以上を併用してもよい。
ゼオライト触媒の形状は、粉状でも粒状でもよく、気相反応工程等のプロセスに応じて適した形状に成型加工した成形体とすることができる。ゼオライト触媒の成形方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いることが可能である。例えば、触媒の前駆体を噴霧乾燥する方法、触媒成分を圧縮成型する方法、触媒成分を押出し成型する方法が挙げられる。これら成形方法においては、バインダーや成形用希釈剤（マトリックス）を用いてもよい。バインダー及び成形用希釈剤としては、特に限定されないが、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、カオリン、ケイソウ土、粘土等の多孔性耐火性無機酸化物が挙げられる。これらは、一種単独で用いても、二種以上を併用してもよい。
（反応器）
気相反応工程において用いられる反応器としては、特に限定されないが、例えば、固定床式反応器、流動床式反応器、移動床式反応器等が挙げられる。反応方式としては、バッチ式及び流通式のいずれもが使用可能であるが、生産性を考慮すれば、流通式が好ましい。なお、本明細書の記載は当業者が容易に調節しうる程度の反応条件の変更を妨げるものではない。
気相反応工程において用いられる反応器としては、特に限定されないが、例えば、固定床式反応器、流動床式反応器、移動床式反応器等が挙げられる。反応方式としては、バッチ式及び流通式のいずれもが使用可能であるが、生産性を考慮すれば、流通式が好ましい。なお、本明細書の記載は当業者が容易に調節しうる程度の反応条件の変更を妨げるものではない。
なお、反応器に触媒を充填する場合、触媒層の温度分布を小さく抑えるために、石英砂やセラミックボール等の反応に不活性な粒状物を、触媒と混合して充填してもよい。この場合、石英砂等の反応に不活性な粒状物の使用量は特に限定はない。なお、この粒状物は、触媒との均一混合性の観点から、触媒と同程度の粒径であることが好ましい。
また、気相反応は吸熱反応であるため、所望反応温度に制御するには、熱供給機構を備えることが好ましい。例えば、工業的に固定床で実施する場合には、多管式シェル＆チューブ方式反応器を採用することが考えられる。また、反応器には、反応に伴う吸熱を分散させることを目的に、反応基質（反応原料）を分割して供給してもよい。
（アンモニア／酢酸のモル比）
気相反応工程において、反応器に供給するアンモニア／酢酸のモル比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０〜２．０であり、さらに好ましくは１．１〜１．５の範囲である。アンモニア／酢酸のモル比が１．０以上であることにより、反応効率がより向上する傾向にある。また、アンモニア／酢酸のモル比が１．５以下であることにより、精製工程において、後述する含水粗アセトニトリルからアンモニアを分離除去するためのエネルギー消費量をより低減できる傾向にある。
気相反応工程において、反応器に供給するアンモニア／酢酸のモル比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０〜２．０であり、さらに好ましくは１．１〜１．５の範囲である。アンモニア／酢酸のモル比が１．０以上であることにより、反応効率がより向上する傾向にある。また、アンモニア／酢酸のモル比が１．５以下であることにより、精製工程において、後述する含水粗アセトニトリルからアンモニアを分離除去するためのエネルギー消費量をより低減できる傾向にある。
（ＷＨＳＶ（重量空間速度））
ＷＨＳＶ（重量空間速度）は、反応器への触媒充填重量に対する、１時間あたりに流れる原料重量であり、下式にて求めることができる。
ＷＨＳＶ［ｈ−１］＝１時間あたりに流れる原料重量［ｇ／ｈ］／触媒充填重量［ｇ］
ＷＨＳＶ（重量空間速度）は、反応器への触媒充填重量に対する、１時間あたりに流れる原料重量であり、下式にて求めることができる。
ＷＨＳＶ［ｈ−１］＝１時間あたりに流れる原料重量［ｇ／ｈ］／触媒充填重量［ｇ］
ここで、「触媒充填重量」とは、本実施形態におけるゼオライト触媒の反応器への充填重量を意味し、ゼオライト触媒が成形体である場合は、該成形体を構成するバインダーや成形用希釈剤を含む成形体全体の反応器充填重量である。なお、上述の不活性な粒状物は触媒充填重量には含まれない。また、ここで「原料重量」とは、反応器へ流れる原料の合計重量であり、「原料」には、本実施形態における原料である、酢酸又は酢酸水溶液、及びアンモニアの他、後述する希釈剤も含まれる。
ＷＨＳＶは、生産性と触媒寿命、反応収率との兼ね合いで適宜調整することができる。例えば、気相反応工程におけるＷＨＳＶは、好ましくは０．５〜５０ｈ−１であり、より好ましくは０．５〜２０ｈ−１であり、さらに好ましくは０．５〜１０ｈ−１である。ＷＨＳＶが０．５ｈ−１以上であることにより、一定の生産量を得るのに必要な触媒量を低減でき、反応器をコンパクトにすることができ、アセトンやトルエン等の好ましくない副生物の副生を抑制でき、高純度アセトニトリルへの精製負荷をより小さくできる傾向にある。また、ＷＨＳＶが５０ｈ−１以下であることにより、酢酸の転化率がより向上し、また、アセトニトリルの選択率がより向上する傾向にある。
（希釈剤）
気相反応工程においては、酢酸及びアンモニアの他に、希釈剤を用いてもよい、希釈剤としては、特に限定されないが、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素、水、パラフィン系炭化水素ガス類、及びそれらの混合物など、反応に不活性な気体が挙げられる。このなかでも、窒素及び水が好ましい。希釈剤は、反応原料に含まれている不純物をそのまま使用してもよいし、別途調製した希釈剤を反応原料と混合して用いてもよい。また、希釈剤は反応器に入れる前に反応原料と混合してもよいし、反応原料とは別に反応器に供給してもよい。
気相反応工程においては、酢酸及びアンモニアの他に、希釈剤を用いてもよい、希釈剤としては、特に限定されないが、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素、水、パラフィン系炭化水素ガス類、及びそれらの混合物など、反応に不活性な気体が挙げられる。このなかでも、窒素及び水が好ましい。希釈剤は、反応原料に含まれている不純物をそのまま使用してもよいし、別途調製した希釈剤を反応原料と混合して用いてもよい。また、希釈剤は反応器に入れる前に反応原料と混合してもよいし、反応原料とは別に反応器に供給してもよい。
（反応温度）
気相反応の反応温度は、好ましくは２５０℃以上であり、より好ましくは３００℃以上であり、さらに好ましくは３５０℃以上である。また、気相反応の反応温度は、好ましくは６００℃以下であり、より好ましくは５５０℃以下であり、さらに好ましくは５２０℃以下である。反応温度が２５０℃以上であることにより、反応収率がより向上する傾向にある。また、反応温度が６００℃以下であることにより、副生物の生成をより抑制でき、触媒の劣化も抑制できる傾向にある。尚、本実施形態における気相反応は脱水反応（吸熱反応）であるので、反応器内を所望の反応温度に制御するためには、反応器に熱源を設置することが好ましい。例えば、固定床反応器で工業的に気相反応を実施する場合には、多管式シェル＆チューブ方式反応器を用いることが考えられる。
気相反応の反応温度は、好ましくは２５０℃以上であり、より好ましくは３００℃以上であり、さらに好ましくは３５０℃以上である。また、気相反応の反応温度は、好ましくは６００℃以下であり、より好ましくは５５０℃以下であり、さらに好ましくは５２０℃以下である。反応温度が２５０℃以上であることにより、反応収率がより向上する傾向にある。また、反応温度が６００℃以下であることにより、副生物の生成をより抑制でき、触媒の劣化も抑制できる傾向にある。尚、本実施形態における気相反応は脱水反応（吸熱反応）であるので、反応器内を所望の反応温度に制御するためには、反応器に熱源を設置することが好ましい。例えば、固定床反応器で工業的に気相反応を実施する場合には、多管式シェル＆チューブ方式反応器を用いることが考えられる。
（反応圧力）
気相反応の反応圧力は、本実施形態の気相反応の反応平衡上は、低圧が有利であるが、圧力が高いと反応速度は向上する。従って、平衡転化率と反応速度の兼ね合いであり、好ましくは常圧〜０．３ＭＰａＧ（ゲージ圧、以下同様。）であり、より好ましくは０．０３〜０．２５ＭＰａＧであり、さらに好ましくは、０．０５〜０．２０ＭＰａＧである。
気相反応の反応圧力は、本実施形態の気相反応の反応平衡上は、低圧が有利であるが、圧力が高いと反応速度は向上する。従って、平衡転化率と反応速度の兼ね合いであり、好ましくは常圧〜０．３ＭＰａＧ（ゲージ圧、以下同様。）であり、より好ましくは０．０３〜０．２５ＭＰａＧであり、さらに好ましくは、０．０５〜０．２０ＭＰａＧである。
（含水粗アセトニトリル）
「含水粗アセトニトリル」とは、１０質量％以上７０質量％以下のアセトニトリルと、３０質量％以上９０質量％以下の水と、を含み、その他に０質量％以上６０質量％以下の不純物を含み得る組成物である。該不純物としては、特に限定されないが、例えば、アンモニア、酢酸、アセトアミド、アセトンが挙げられる。
「含水粗アセトニトリル」とは、１０質量％以上７０質量％以下のアセトニトリルと、３０質量％以上９０質量％以下の水と、を含み、その他に０質量％以上６０質量％以下の不純物を含み得る組成物である。該不純物としては、特に限定されないが、例えば、アンモニア、酢酸、アセトアミド、アセトンが挙げられる。
本実施形態の気相反応により得られる含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量は、アセトニトリル１００質量％に対して、好ましくは１質量ｐｐｍ未満であり、より好ましくは０．５質量ｐｐｍ未満であり、さらに好ましくは０．２質量ｐｐｍ未満である。含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量の下限は、特に限定されないが、好ましくは検出限界量以下であり、より好ましくはアセトニトリル１００質量％に対して０質量％である。トルエンは、後述する精製工程においては極めて除去しにくい不純物である。そのため、気相反応により得られる含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量が上記範囲であることにより、精製工程を経て得られる製品アセトニトリルのトルエン含有量も低いものとなる。このようにして得られる製品アセトニトリルは、各種溶媒に適した製品となる。得られる含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量は、本実施の形態の規定する８員環細孔構造を有するゼオライト触媒を用いることにより低減することができる。なお、含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量は、実施例に記載の方法により測定することができる。
〔精製工程〕
本実施形態のアセトニトリルの製造方法は、含水粗アセトニトリルを精製して、製品アセトニトリルを得る精製工程を有してもよい。精製工程に含まれる工程としては、含水粗アセトニトリルから水、アンモニア及びその他不純物を除去するように構成されていれば特に限定されないが、例えば、濃縮工程、脱水工程、低沸分除去工程、高沸分除去工程などが挙げられる。
本実施形態のアセトニトリルの製造方法は、含水粗アセトニトリルを精製して、製品アセトニトリルを得る精製工程を有してもよい。精製工程に含まれる工程としては、含水粗アセトニトリルから水、アンモニア及びその他不純物を除去するように構成されていれば特に限定されないが、例えば、濃縮工程、脱水工程、低沸分除去工程、高沸分除去工程などが挙げられる。
（濃縮工程）
濃縮工程は、含水粗アセトニトリルからアンモニアを分離し、粗アセトニトリルを得る工程である。アンモニアの分離方法としては、特に限定されないが、例えば、蒸留塔を用いる方法が挙げられる。ここで、「粗アセトニトリル」とは、含水粗アセトニトリルから、アンモニアが除かれて濃縮されたアセトニトリルであり、主に５０質量％以上７５質量％未満のアセトニトリルと、２５質量％以上５０質量％以下の水と、その他不純物と、を含み得る混合物である。
濃縮工程は、含水粗アセトニトリルからアンモニアを分離し、粗アセトニトリルを得る工程である。アンモニアの分離方法としては、特に限定されないが、例えば、蒸留塔を用いる方法が挙げられる。ここで、「粗アセトニトリル」とは、含水粗アセトニトリルから、アンモニアが除かれて濃縮されたアセトニトリルであり、主に５０質量％以上７５質量％未満のアセトニトリルと、２５質量％以上５０質量％以下の水と、その他不純物と、を含み得る混合物である。
（脱水工程）
脱水工程は、粗アセトニトリルから水を分離し、脱水アセトニトリルを得る工程である。水の分離方法としては、特に限定されないが、例えば、粗アセトニトリルにアルカリを添加し、抽出脱水を行う方法が挙げられる。用い得るアルカリとしては、特に限定されないが、例えば、苛性ソーダが挙げられる。また、アルカリの使用量は、粗アセトニトリル中の水分含有量によって適宜調整することができ、粗アセトニトリルの水分含有量に対して、好ましくは１０〜９０質量％であり、より好ましくは３０〜６０質量％である。抽出温度は、好ましくは５〜６０℃であり、より好ましくは１０〜３５℃である。
脱水工程は、粗アセトニトリルから水を分離し、脱水アセトニトリルを得る工程である。水の分離方法としては、特に限定されないが、例えば、粗アセトニトリルにアルカリを添加し、抽出脱水を行う方法が挙げられる。用い得るアルカリとしては、特に限定されないが、例えば、苛性ソーダが挙げられる。また、アルカリの使用量は、粗アセトニトリル中の水分含有量によって適宜調整することができ、粗アセトニトリルの水分含有量に対して、好ましくは１０〜９０質量％であり、より好ましくは３０〜６０質量％である。抽出温度は、好ましくは５〜６０℃であり、より好ましくは１０〜３５℃である。
抽出脱水方法としては、特に限定されないが、例えば、連続式向流接触塔を用いる方法が好ましい。連続式向流接触塔の充填物としては、特に限定されないが、例えば、ラシヒリング、レッシングリング、ポールリング、ベルルサドル、インターロックサドル、テラレットパッキング、ディクソンリング、マクマホンパッキングが好ましく、規則充填物としては、特に限定されないが、例えば、網目構造の充填物が好ましい。
（脱水アセトニトリル）
ここで、「脱水アセトニトリル」とは、７５質量％以上９９質量％以下のアセトニトリルと、０質量％以上２５質量％未満の水と、その他不純物と、を含み得る混合物である。
ここで、「脱水アセトニトリル」とは、７５質量％以上９９質量％以下のアセトニトリルと、０質量％以上２５質量％未満の水と、その他不純物と、を含み得る混合物である。
（低沸分及び高沸分除去工程）
低沸分及び高沸分除去工程は、脱水アセトニトリルからアセトニトリルの沸点未満の低沸成分と、アセトニトリルの沸点超過の高沸成分と、を除去し、後述する製品アセトニトリルを得る工程である。低沸分除去方法及び高沸分除去方法としては、特に限定されないが、例えば、蒸留塔を用いる方法が挙げられる。
低沸分及び高沸分除去工程は、脱水アセトニトリルからアセトニトリルの沸点未満の低沸成分と、アセトニトリルの沸点超過の高沸成分と、を除去し、後述する製品アセトニトリルを得る工程である。低沸分除去方法及び高沸分除去方法としては、特に限定されないが、例えば、蒸留塔を用いる方法が挙げられる。
含水粗アセトニトリルは、既に公知であるプロピレン又はイソブテンとアンモニア及び分子状酸素との接触的アンモ酸化反応によってアクリロニトリル又はメタクリロニトリルを製造する際に副生成物として得られる副生粗アセトニトリルの蒸留精製方法と同様に、或いは、該蒸留精製方法に倣って精製することもできる。参考となる従来技術としては、特に限定されないが、例えば、特許文献１、特許第３１０４３１２号公報、ＷＯ２０１３／１４６６０９号パンフレット等を挙げることができる。
（製品アセトニトリル）
「製品アセトニトリル」とは、アセトニトリルの含有量が９９質量％超であり、アセトニトリル以外の不純物の含有量が１質量％未満のアセトニトリルをいう。製品アセトニトリルに含まれるアセトニトリルの含有量は、好ましくは９９．５〜１００質量％であり、より好ましくは９９．９〜１００質量％であり、さらに好ましくは９９．９９〜１００質量％である。
「製品アセトニトリル」とは、アセトニトリルの含有量が９９質量％超であり、アセトニトリル以外の不純物の含有量が１質量％未満のアセトニトリルをいう。製品アセトニトリルに含まれるアセトニトリルの含有量は、好ましくは９９．５〜１００質量％であり、より好ましくは９９．９〜１００質量％であり、さらに好ましくは９９．９９〜１００質量％である。
（製品アセトニトリル中のトルエンの含有量）
製品アセトニトリル中のトルエンの含有量は、アセトニトリル１００質量％に対して、好ましくは１質量ｐｐｍ未満であり、より好ましくは０．５質量ｐｐｍ未満であり、さらに好ましくは０．１質量ｐｐｍ未満である。製品アセトニトリルに含まれるトルエンの含有量の下限は、特に限定されないが、好ましくは検出限界量以下であり、より好ましくはアセトニトリル１００質量％に対して０質量％である。製品アセトニトリル中のトルエンの含有量が上記範囲内であることにより、より高品質なアセトニトリルとなる。
製品アセトニトリル中のトルエンの含有量は、アセトニトリル１００質量％に対して、好ましくは１質量ｐｐｍ未満であり、より好ましくは０．５質量ｐｐｍ未満であり、さらに好ましくは０．１質量ｐｐｍ未満である。製品アセトニトリルに含まれるトルエンの含有量の下限は、特に限定されないが、好ましくは検出限界量以下であり、より好ましくはアセトニトリル１００質量％に対して０質量％である。製品アセトニトリル中のトルエンの含有量が上記範囲内であることにより、より高品質なアセトニトリルとなる。
また、製品アセトニトリルの波長２００ｎｍでの紫外線吸収の吸光度は、好ましくは０．３以下であり、より好ましくは０．２５以下であり、さらに好ましくは０．２以下である。また、製品アセトニトリルの波長２００ｎｍでの紫外線吸収の吸光度の下限は特に制限されず、低いほど好ましく、より好ましくは０である。波長２００ｎｍでの紫外線吸収の吸光度は、製品アセトニトリル中の芳香族化合物の含有量の指標となる。この観点から、製品アセトニトリルの波長２００ｎｍでの紫外線吸収の吸光度が上記範囲内であることにより、より高品質なアセトニトリルとなる。
〔アセトニトリル〕
本実施形態のアセトニトリルは、上記製造方法により得られる。このようにして得られるアセトニトリルは、化学反応用の溶媒、特には医薬中間体の合成用溶媒、精製用溶媒、高速液体クロマトグラフィーの移動相溶媒、ＤＮＡ合成用溶媒及び精製用溶媒、有機ＥＬ材料合成用溶媒、或いは、電子部品の洗浄溶剤として好適に用いることができる。なお、本実施形態のアセトニトリルは、製品アセトニトリルと同義である。
本実施形態のアセトニトリルは、上記製造方法により得られる。このようにして得られるアセトニトリルは、化学反応用の溶媒、特には医薬中間体の合成用溶媒、精製用溶媒、高速液体クロマトグラフィーの移動相溶媒、ＤＮＡ合成用溶媒及び精製用溶媒、有機ＥＬ材料合成用溶媒、或いは、電子部品の洗浄溶剤として好適に用いることができる。なお、本実施形態のアセトニトリルは、製品アセトニトリルと同義である。
以下、本実施の形態を実施例によりさらに具体的に説明するが、本実施の形態はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
［実施例１］
ＳＡＰＯ−３４粉末（日揮ユニバーサル社製、オライトサンプルキッド、ＳｉＯ２ ３ｗｔ％、Ａｌ２Ｏ３ ４３ｗｔ％、Ｐ２Ｏ５ ５３ｗｔ％）を圧縮成型した後、破砕し、８〜２０メッシュの大きさの触媒に分級した。得られた触媒３．１２ｇを内径２０ｍｍφの石英ガラス製反応器に充填し、常圧で窒素を６０Ｎｃｃ／ｍｉｎ供給しながら外部電気炉温度４９０℃で加熱した。
ＳＡＰＯ−３４粉末（日揮ユニバーサル社製、オライトサンプルキッド、ＳｉＯ２ ３ｗｔ％、Ａｌ２Ｏ３ ４３ｗｔ％、Ｐ２Ｏ５ ５３ｗｔ％）を圧縮成型した後、破砕し、８〜２０メッシュの大きさの触媒に分級した。得られた触媒３．１２ｇを内径２０ｍｍφの石英ガラス製反応器に充填し、常圧で窒素を６０Ｎｃｃ／ｍｉｎ供給しながら外部電気炉温度４９０℃で加熱した。
その後、８０％酢酸水溶液を１５．６ｇ／ｈ、アンモニアを１０２Ｎｃｃ／ｍｉｎにて供給し、窒素供給を停止して気相反応を行った。アンモニア／酢酸モル比は１．３であり、ＷＨＳＶは、６．４９ｈ−１であった。また、反応温度（触媒層平均温度）は、４４０℃となった。
反応器から排出されたガスを、付設のコンデンサーにより冷却し、含水粗アセトニトリル（アセトニトリル水溶液）として回収した。気相反応は７２時間継続して行い、適宜、得られた含水粗アセトニトリルをガスクロマトグラフィーによって組成分析と、微量成分の詳細分析を行った。結果を表１に示す。
（１）組成分析は以下の条件で実施した（以下同様）。
・装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ２０１０」
・カラム：アジレント・テクノロジー株式会社製「ＨＰ−ＩＮＮＯＷＡＸ」
・検出器：ＴＣＤ
・カラム温度：６０℃（１分保持）→１００℃（昇温速度１０℃／分）→１８０℃（昇温速度２０℃／分）
・インジェクション温度：２００℃
・検出器温度：２００℃
・キャリアガス：ヘリウム
（２）微量成分であるベンゼンおよびメチルエチルケトンの詳細分析は以下の条件で実施した（以下同様）。
・装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ２０１０」
・カラム：アジレント・テクノロジー株式会社製「ＨＰ−ＩＮＮＯＷＡＸ」
・検出器：ＦＩＤ
・カラム温度：５０℃（５分保持）→（昇温速度１０℃／分）→２００℃（１０分保持）
・インジェクション温度：２００℃
・検出器温度：２５０℃
・キャリアガス：ヘリウム
（３）微量成分であるブテンおよびニトリル化合物類の詳細分析は以下の条件で実施した（以下同様）。
・装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ−１７Ａ」
・カラム：シグマアルドリッチジャパン社製「ＳＰＢ−１」
・検出器：ＦＩＤ
・カラム温度：４０℃（１３分保持）→（昇温速度５℃／分）→２００℃（２５分保持）
・インジェクション温度：２５０℃
・検出器温度：２５０℃
・キャリアガス：窒素
（４）微量成分であるトルエンの詳細分析は以下の条件で実施した（以下同様）。
・装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ−１７Ａ」
・カラム：アジレント・テクノロジー株式会社製「ＨＰ−５」
・検出器：ＦＩＤ
・カラム温度：５０℃（３分保持）→２００℃（昇温速度１０℃／分）
・インジェクション温度：２５０℃
・検出器温度：２５０℃
・キャリアガス：窒素
（１）組成分析は以下の条件で実施した（以下同様）。
・装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ２０１０」
・カラム：アジレント・テクノロジー株式会社製「ＨＰ−ＩＮＮＯＷＡＸ」
・検出器：ＴＣＤ
・カラム温度：６０℃（１分保持）→１００℃（昇温速度１０℃／分）→１８０℃（昇温速度２０℃／分）
・インジェクション温度：２００℃
・検出器温度：２００℃
・キャリアガス：ヘリウム
（２）微量成分であるベンゼンおよびメチルエチルケトンの詳細分析は以下の条件で実施した（以下同様）。
・装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ２０１０」
・カラム：アジレント・テクノロジー株式会社製「ＨＰ−ＩＮＮＯＷＡＸ」
・検出器：ＦＩＤ
・カラム温度：５０℃（５分保持）→（昇温速度１０℃／分）→２００℃（１０分保持）
・インジェクション温度：２００℃
・検出器温度：２５０℃
・キャリアガス：ヘリウム
（３）微量成分であるブテンおよびニトリル化合物類の詳細分析は以下の条件で実施した（以下同様）。
・装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ−１７Ａ」
・カラム：シグマアルドリッチジャパン社製「ＳＰＢ−１」
・検出器：ＦＩＤ
・カラム温度：４０℃（１３分保持）→（昇温速度５℃／分）→２００℃（２５分保持）
・インジェクション温度：２５０℃
・検出器温度：２５０℃
・キャリアガス：窒素
（４）微量成分であるトルエンの詳細分析は以下の条件で実施した（以下同様）。
・装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ−１７Ａ」
・カラム：アジレント・テクノロジー株式会社製「ＨＰ−５」
・検出器：ＦＩＤ
・カラム温度：５０℃（３分保持）→２００℃（昇温速度１０℃／分）
・インジェクション温度：２５０℃
・検出器温度：２５０℃
・キャリアガス：窒素
なお、気相反応においては、下記反応式に示した酢酸２モルからアセトンと二酸化炭素が等モル量生成する副反応が起きる。本実施例では、含水粗アセトニトリル溶液のみをガスクロマトグラフィーで分析しており、含水粗アセトニトリル溶液に溶解しない二酸化炭素は分析できない。そのため、分析によって検出されたアセトンの生成量から二酸化炭素の生成量を推定し、アセトニトリルの収率（モル％）を求めた。
２ＣＨ３ＣＯＯＨ→ＣＨ３ＣＯＣＨ３＋ＣＯ２＋Ｈ２Ｏ
２ＣＨ３ＣＯＯＨ→ＣＨ３ＣＯＣＨ３＋ＣＯ２＋Ｈ２Ｏ
次いで、以下の手順にて含水粗アセトニトリルを蒸留精製し、製品アセトニトリルを得た。
手順１：濃縮工程
段数２０段を有するガラス製オールダーショー蒸留塔を用い還流比２０の条件で含水粗アセトニトリルの常圧連続蒸留を行い、塔頂よりアンモニアガスを除去した。続いて、得られたアンモニアガスを除去した溶液を同蒸留塔にて再蒸留し、塔頂より粗アセトニトリルを得た。得られた粗アセトニトリルの組成は、アセトニトリル６４質量％、水３５質量％、その他不純物１質量％であった。
段数２０段を有するガラス製オールダーショー蒸留塔を用い還流比２０の条件で含水粗アセトニトリルの常圧連続蒸留を行い、塔頂よりアンモニアガスを除去した。続いて、得られたアンモニアガスを除去した溶液を同蒸留塔にて再蒸留し、塔頂より粗アセトニトリルを得た。得られた粗アセトニトリルの組成は、アセトニトリル６４質量％、水３５質量％、その他不純物１質量％であった。
手順２：脱水工程
濃縮工程で得られた粗アセトニトリルを、ディクソンパッキング充填塔により、４８％苛性ソーダ水溶液と向流接触させ、脱水アセトニトリルを得た。脱水アセトニトリルの組成は、アセトニトリル９８質量％、水２質量％であった。
濃縮工程で得られた粗アセトニトリルを、ディクソンパッキング充填塔により、４８％苛性ソーダ水溶液と向流接触させ、脱水アセトニトリルを得た。脱水アセトニトリルの組成は、アセトニトリル９８質量％、水２質量％であった。
手順３：低沸、高沸分離塔
５０段を有するガラス製オールダーショー蒸留塔を用い、還流比１５の条件で、脱水アセトニトリルの常圧連続蒸留を２回実施することにより、微量低沸、高沸物質の除去精製を行い、製品アセトニトリルを得た。製品アセトニトリルの組成は、アセトニトリル９９．９９質量％、水０．０１質量％であった。
５０段を有するガラス製オールダーショー蒸留塔を用い、還流比１５の条件で、脱水アセトニトリルの常圧連続蒸留を２回実施することにより、微量低沸、高沸物質の除去精製を行い、製品アセトニトリルを得た。製品アセトニトリルの組成は、アセトニトリル９９．９９質量％、水０．０１質量％であった。
この製品アセトニトリル中のトルエン含有量を上記と同様の方法により詳細分析した結果、トルエンの含有量はガスクロマトグラフィー検出限界以下（アセトニトリル１００質量％に対して０．１質量ｐｐｍ未満）であった。
［実施例２］
ＳＳＺ−１３を国際ゼオライト学会（ＩＺＡ）で公開されている合成方法に準じて、以下の通りに合成した。１モル濃度の水酸化ナトリウム（和光純薬製、特級）３２．０ｇ、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアダマンタンアンモニウム水酸化物（２５質量％溶液）１３．５ｇ、水酸化アルミニウム（和光純薬製）０．４ｇ、ヒュームドシリカ（日本アエロジル製、ＡＥＲＯＳＩＬ ＯＸ５０）４．８０ｇを２００ｍＬのオートクレーブに仕込み、水熱合成を１６０℃で５日間行った。得られたゼオライトスラリーをろ過し、１Ｌのイオン交換水及び２００ｍＬのアセトン（和光純薬製）とメタノール（和光純薬製）で洗浄した後、１２０℃の乾燥機で終夜乾燥し、更にマッフル炉で空気雰囲気下に６００℃で１時間焼成した。得られたゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３（モル比）は、ＸＲＦ測定により得られたＳｉおよびＡｌ含有量から導出し、２１であった。また、得られたゼオライトがＳＳＺ−１３であることは、ＸＲＤ測定により確認した。その後、焼成したゼオライトのカチオンタイプをＮＨ４ ＋型に変換するために、１モル濃度の塩化アンモニウム水溶液を用いて室温で２時間のイオン交換を２回行い、更に水洗後にマッフル炉で空気雰囲気下に５５０℃で５時間焼成し、Ｈ＋型のＳＳＺ−１３を得た。
ＳＳＺ−１３を国際ゼオライト学会（ＩＺＡ）で公開されている合成方法に準じて、以下の通りに合成した。１モル濃度の水酸化ナトリウム（和光純薬製、特級）３２．０ｇ、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアダマンタンアンモニウム水酸化物（２５質量％溶液）１３．５ｇ、水酸化アルミニウム（和光純薬製）０．４ｇ、ヒュームドシリカ（日本アエロジル製、ＡＥＲＯＳＩＬ ＯＸ５０）４．８０ｇを２００ｍＬのオートクレーブに仕込み、水熱合成を１６０℃で５日間行った。得られたゼオライトスラリーをろ過し、１Ｌのイオン交換水及び２００ｍＬのアセトン（和光純薬製）とメタノール（和光純薬製）で洗浄した後、１２０℃の乾燥機で終夜乾燥し、更にマッフル炉で空気雰囲気下に６００℃で１時間焼成した。得られたゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３（モル比）は、ＸＲＦ測定により得られたＳｉおよびＡｌ含有量から導出し、２１であった。また、得られたゼオライトがＳＳＺ−１３であることは、ＸＲＤ測定により確認した。その後、焼成したゼオライトのカチオンタイプをＮＨ４ ＋型に変換するために、１モル濃度の塩化アンモニウム水溶液を用いて室温で２時間のイオン交換を２回行い、更に水洗後にマッフル炉で空気雰囲気下に５５０℃で５時間焼成し、Ｈ＋型のＳＳＺ−１３を得た。
得られたＳＳＺ−１３を用いたこと以外は、実施例１と同様に反応を行って、含水粗アセトニトリルを得た。組成分析結果、微量成分の詳細分析結果を表２に示す。
［比較例１］
触媒として、日揮ユニバーサル社製のＨ−ＭＦＩ４０／アルミナバインダー成型体触媒を用いたこと以外は、実施例１と同様に反応を行って、含水粗アセトニトリルを得た。組成分析結果、微量成分の詳細分析結果を表３に示す。
触媒として、日揮ユニバーサル社製のＨ−ＭＦＩ４０／アルミナバインダー成型体触媒を用いたこと以外は、実施例１と同様に反応を行って、含水粗アセトニトリルを得た。組成分析結果、微量成分の詳細分析結果を表３に示す。
実施例１、２及び比較例１から、いわゆる中間細孔径ゼオライトであるＭＦＩを触媒として用いた場合には、アセトニトリルの用途展開上、好ましくない副生物であるトルエンが含水粗アセトニトリル中で副生することが不可避であるが、酸素８員環細孔構造を有するゼオライト触媒を用いることで、トルエン副生を抑止できることが判る。
従って、本実施の形態に於いて得られた含水粗アセトニトリルを、従来公知の方法で濃縮、脱水、精製して得られる、アセトニトリルにもトルエンを含まないものであることが、明白である。
本出願は、２０１４年１０月３１日に日本国特許庁へ出願された日本特許出願（特願２０１４−２２３２９７）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
本発明は、化学反応用の溶媒や、特には医薬中間体の合成、精製に、或いは、高速液体クロマトグラフィーの移動相溶媒などに用いられる高純度アセトニトリルを酢酸とアンモニアから製造方法として産業上の利用可能性を有する。本発明によれば、得られる含水粗アセトニトリル中の芳香族化合物の副生を抑止することができるので工業的製造方法として有用である。
Claims (7)
- 酢酸とアンモニアとをゼオライト触媒の存在下に気相反応させて含水粗アセトニトリルを得る気相反応工程を有し、
前記ゼオライト触媒が、酸素８員環細孔構造を有する、アセトニトリルの製造方法。 - 前記含水粗アセトニトリル中のトルエンの含有量が、アセトニトリル１００質量％に対して、１質量ｐｐｍ未満である、請求項１に記載のアセトニトリルの製造方法。
- 前記含水粗アセトニトリルを精製して、製品アセトニトリルを得る精製工程を有し、
前記製品アセトニトリル中のトルエンの含有量が、アセトニトリル１００質量％に対して、１質量ｐｐｍ未満である、請求項１又は２に記載のアセトニトリルの製造方法。 - 前記ゼオライト触媒が、ＣＨＡで示される構造を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
- 前記ゼオライト触媒が、ＳＡＰＯ−３４及び／又はＳＳＺ−１３を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
- 前記気相反応工程において、ＷＨＳＶが、０．５〜２０ｈ−１である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法。
- 請求項１〜６のいずれか１項に記載のアセトニトリルの製造方法により製造された、アセトニトリル。
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