JPWO2015182116A1 - ナノシリコン材料とその製造方法及び二次電池の負極 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明のナノシリコン材料は、フッ素とナノサイズのシリコン結晶子を含んでいる。このナノシリコン材料は、本発明の製造方法を用いることで、容易にかつ安定して製造することができる。以下、本発明の製造方法を説明する。
本発明のナノシリコン材料を特定するには、ラマンシフトの520cm-1より低い波数側にピークをもち、ピークの半値幅が30〜100cm-1の範囲にあることをもって、その指標とすることができる。上記ピークは、シリコン結晶子とアモルファスシリコンの混合状態に由来するものである。
本発明のナノシリコン材料は、リチウムイオン二次電池などの二次電池における負極活物質として用いることができる。本発明のナノシリコン材料を用いて、例えば非水系二次電池の負極を作製するには、本発明のナノシリコン材料を含む負極活物質粉末と、炭素粉末などの導電助剤と、バインダーと、適量の有機溶剤を加えて混合しスラリーにしたものを、ロールコート法、ディップコート法、ドクターブレード法、スプレーコート法、カーテンコート法などの方法で集電体上に塗布し、バインダーを乾燥あるいは硬化させることによって作製することができる。
濃度40質量%のテトラフルオロホウ酸水溶液20mlを氷浴中で0℃とし、アルゴンガス気流中にてそこへ2.0gの二ケイ化カルシウム(CaSi2)を加えて撹拌した。発泡が完了したのを確認した後に室温まで昇温し、室温でさらに2時間撹拌した後、蒸留水20mlを加えてさらに10分間撹拌した。このとき黄色粉末が浮遊した。
濃度46質量%のHF水溶液2mlと、濃度36質量%のHCl水溶液63mlとの混合溶液を氷浴中で0℃とし、アルゴンガス気流中にてそこへ3.3gの二ケイ化カルシウム(CaSi2)を加えて撹拌した。発泡が完了したのを確認した後に室温まで昇温し、室温でさらに2時間撹拌した後、蒸留水20mlを加えてさらに10分間撹拌した。このとき黄色粉末が浮遊した。
実施例1で得られた層状シリコン化合物を用い、熱処理温度を900℃としたこと以外は実施例1と同様にしてナノシリコン材料を得た。このナノシリコン材料は、X線回折測定結果の(111)面の回折ピーク(2θが27°〜30°の位置に存在)の半値幅からシェラーの式より算出される結晶子サイズが9.1nmであった。またナノシリコン材料のBET比表面積は7.7m2/gであった。TEM-EDXによって測定されたナノシリコン材料における各元素の原子比を表1に示す。
実施例2で得られた層状シリコン化合物を用い、熱処理温度を900℃としたこと以外は実施例2と同様にしてナノシリコン材料を得た。このナノシリコン材料は、X線回折測定結果の(111)面の回折ピークの半値幅からシェラーの式より算出される結晶子サイズが6.7nmであった。またナノシリコン材料のBET比表面積は11.2m2/gであった。TEM-EDXによって測定されたナノシリコン材料における各元素の原子比を表1に示す。
濃度36質量%のHCl水溶液65mlを氷浴中で0℃とし、アルゴンガス気流中にてそこへ3.3gの二ケイ化カルシウム(CaSi2)を加えて撹拌した。発泡が完了したのを確認した後に室温まで昇温し、室温でさらに2時間撹拌した後、蒸留水20mlを加えてさらに10分間撹拌した。このとき黄色粉末が浮遊した。得られた混合溶液を濾過し、残渣を10mlの蒸留水で洗浄した後、10mlのエタノールで洗浄し、真空乾燥して3.5gの層状シリコン化合物を得た。
比較例1と同様に製造された層状シリコン化合物3.5gを、O2の量が1体積%以下のアルゴンガス中にて800℃で1時間保持する熱処理を行い、褐色のナノシリコン材料2.6gを得た。このナノシリコン材料のBET比表面積は5.5m2/gであった。
比較例1,2のナノシリコン材料に対して、CuKα線を用いたX線回折測定(XRD測定)を行った。結果を図18,19にそれぞれ示す。図19から、比較例2ではシリコン結晶子由来の三つのピークが認められるが、実施例に比べるとかなりブロードなピークであり、非晶質シリコンが多く生成していると認められる。また図18から、比較例1では明瞭なピークが認められず、非晶質シリコンが大部分であってシリコン結晶子はほとんど生成していないと考えられる。
各実施例及び各比較例のナノシリコン材料それぞれ45質量部と、天然黒鉛粉末40質量部と、アセチレンブラック5質量部と、バインダー溶液33質量部とを混合してそれぞれのスラリーを調製した。バインダー溶液には、ポリアミドイミド(PAI)樹脂がN-メチル-2-ピロリドン(NMP)に30質量%溶解した溶液を用いた。これらのスラリーを、厚さ約20μmの電解銅箔(集電体)の表面にドクターブレードを用いてそれぞれ塗布し、乾燥させて銅箔上に負極活物質層を形成した。その後、ロールプレス機により、集電体と負極活物質層を強固に密着接合させた。これを100℃で2時間真空乾燥し、負極活物質層の厚さが16μmの負極をそれぞれ形成した。
各実施例及び各比較例のナノシリコン材料の製法の一部と特性値を表1に示す。
Claims (17)
- 層状シリコン化合物を熱処理することで製造され、フッ素とナノサイズのシリコン結晶子とを含むことを特徴とするナノシリコン材料。
- 前記シリコン結晶子は、X線回折測定結果の(111)面の回折ピークの半値幅からシェラーの式より算出される結晶子サイズが0.5nm〜300nmである請求項1に記載のナノシリコン材料。
- ラマンスペクトルにおいてラマンシフトの520cm-1より低い波数側にピークをもち、該ピークの半値幅が30〜100cm-1の範囲にある請求項1又は請求項2に記載のナノシリコン材料。
- 非晶質シリコン、酸化ケイ素(SiOx,0<x<2)、又はケイ素化合物の少なくとも一種をさらに含む複合体粒子からなる請求項1〜3のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- 前記シリコン結晶子は、非晶質シリコン、酸化ケイ素(SiOx,0<x<2)、又はケイ素化合物の少なくとも一種の内部又は表面に存在する請求項4に記載のナノシリコン材料。
- 複数枚の板状体が厚さ方向に積層されてなり、該板状体は厚さが1nm〜200nmである請求項1〜5のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- 前記板状体どうしが化学的又は物理的に結合した結合部をもち、前記板状体と該結合部とで囲まれた中空部をもつ請求項6に記載のナノシリコン材料。
- 元素組成が原子比でSiOxClyFz(0<(x+y+z)≦1、x<0.5)の関係にある請求項1〜7のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- 前記フッ素は前記ナノシリコン材料の全体に分散して存在している請求項1〜8のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- 前記フッ素は0.01〜10質量%含まれている請求項1〜9のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- BET比表面積が3m2/g以上である請求項1〜10のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- 含まれる酸素(O)量が20質量%以下である請求項1〜11のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- 請求項1〜12のいずれかに記載のナノシリコン材料を製造する方法であって、少なくともアニオンにフッ素を含む酸が0.01質量%以上含まれた薬液とCaSi2を反応させて得られた層状シリコン化合物を非酸化性雰囲気にて350℃以上で熱処理することを特徴とするナノシリコン材料の製造方法。
- 前記層状シリコン化合物は、ラマンスペクトルにおいてラマンシフトの330±20cm-1、360±20cm-1、498±20cm-1、638±20cm-1、734±20cm-1にピークが存在する請求項13に記載のナノシリコン材料の製造方法。
- 請求項1〜14のいずれかに記載のナノシリコン材料を含むことを特徴とする負極活物質。
- 請求項15に記載の負極活物質を含むことを特徴とする負極。
- 請求項16に記載の負極を有することを特徴とする二次電池。
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