JPWO2014175312A1 - 転写材料、転写層付き基材及びタッチパネル、それらの製造方法、並びに情報表示装置 - Google Patents
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Abstract
転写層の転写性が良好であり、転写層の剥がれが無く、かつ、剥離層が転写層側に残らず現像工程が不要となる転写材料を提供する。転写材料は、仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、前記保護フィルムを転写材料から剥がすときに前記保護フィルムが前記転写層から剥がれ、かつ、前記転写層が前記剥離層側に残り、前記転写層を前記ガラスまたはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写し、前記仮支持体を剥離したときに、剥離した前記仮支持体側に前記剥離層がある。
Description
本発明は、転写材料とその製造方法、転写材料を用いた転写層付き基材とその製造方法、転写層付き基材を備えたタッチパネルとその製造方法、およびタッチパネルを備えた情報表示装置に関する。
携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタッチパネル型の入力装置が配置されているものがある。タッチパネル型の入力装置では、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指やタッチペンなどを触れることによって、指示画像に対応する情報の入力が行われる。
このような入力装置(タッチパネル)には、抵抗膜型や静電容量型などがある。静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。静電容量型の入力装置においては、表示装置の引き回し回路等を使用者から視認されないようにするため、また見栄えをよくするため、指やタッチペンなどで触れる情報表示部(画像表示部)を囲む枠状に加飾材が配置されて、加飾が行われることがある。
このような入力装置(タッチパネル)には、抵抗膜型や静電容量型などがある。静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。静電容量型の入力装置においては、表示装置の引き回し回路等を使用者から視認されないようにするため、また見栄えをよくするため、指やタッチペンなどで触れる情報表示部(画像表示部)を囲む枠状に加飾材が配置されて、加飾が行われることがある。
タッチパネルの作製以外の技術分野では、転写材料を用いて、所望の層を形成する方法が知られている。例えば、特許文献1には、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層(クッション層)、中間層(酸素遮断層)、着色感光性組成物層、更に着色感光性組成物層上にカバーシートが設けられた感光性転写材料を永久支持体上に転写して、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離して仮支持体を除去し、永久支持体、着色感光性樹脂組成物からなる層及び酸素遮断層をこの順に形成し、露光後に現像処理して熱可塑性樹脂層と中間層を除き、永久支持体上に色材層を形成する方法が記載されている。
また、特許文献2には、仮支持体と剥離層からなる離型フィルムが開示されている。特許文献2では、離型フィルムの剥離層面に、図柄層および接着層などの加飾層を有する転写フィルムを構成することが記載されている。しかし、特許文献2では転写フィルムを製造した例はなく、転写フィルムを用いて加飾層などを転写した例もなく、転写法として成形同時転写法(インモールドで転写した後、仮支持体を剥離する方法)が想定されている。
本発明者がタッチパネルの製造において、転写材料を用いて加飾層などを形成しようとしたところ、特許文献1に記載の仮支持体上にクッション層や酸素遮断層を有する転写材料を用いると、転写層を転写した後にカバーシートを剥離するときに、クッション層や酸素遮断層が転写層側に残ってしまう問題があることがわかった。特許文献1では、これらのクッション層や酸素遮断層を現像によって除去しているが、製造コスト低減の観点から改善が求められる。
また、仮支持体上に、クッション層や酸素遮断層を設けることなく転写層を設けた転写材料を用いると、転写層を転写した後に仮支持体を剥離するときに、転写層の一部が仮支持体に残ったり、転写層が内部で破断したりしてしまう問題があることがわかった。
転写層の上に保護フィルムを設けない場合、ロール状に転写材料を保管するときに、この転写層の一部が仮支持体の裏面に接着して転写できなくなり、転写性が悪くなる問題があることがわかった。また、転写層の上に保護フィルムを設けたとしても、他の層との剥離力を調整しなければ、保護フィルム剥離時に転写層の一部がこの保護フィルム側に接着して転写できなくなり、転写性が悪くなる問題もあることがわかった。
また、仮支持体上に、クッション層や酸素遮断層を設けることなく転写層を設けた転写材料を用いると、転写層を転写した後に仮支持体を剥離するときに、転写層の一部が仮支持体に残ったり、転写層が内部で破断したりしてしまう問題があることがわかった。
転写層の上に保護フィルムを設けない場合、ロール状に転写材料を保管するときに、この転写層の一部が仮支持体の裏面に接着して転写できなくなり、転写性が悪くなる問題があることがわかった。また、転写層の上に保護フィルムを設けたとしても、他の層との剥離力を調整しなければ、保護フィルム剥離時に転写層の一部がこの保護フィルム側に接着して転写できなくなり、転写性が悪くなる問題もあることがわかった。
本発明が解決しようとする課題は、転写層の転写性が良好であり、かつ、転写した転写層への剥がれ残りが抑制された転写材料、転写層付き基材及びタッチパネル、それらの製造方法、並びに情報表示装置を提供することである。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む構成とし、各層間の剥離力の大きさを特定の関係を満たすように制御することで、転写層の転写性が良好であり、かつ、転写した転写層への剥がれ残りが抑制された転写材料が得られることを見出した。
すなわち、以下に示す構成の本発明により、上記課題が解決できることを見出し、本発明の完成に至った。
すなわち、以下に示す構成の本発明により、上記課題が解決できることを見出し、本発明の完成に至った。
[1] 仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、
保護フィルムが転写材料から剥がされる場合に保護フィルムが転写層から剥がれ、かつ、前記転写層が前記剥離層側に残り、
転写層をガラスからなる被転写基材、またはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写後、仮支持体を剥がした場合に、剥離層が仮支持体とともに剥離されることを特徴とする、転写材料。
[2] [1]に記載の転写材料は、保護フィルムを転写材料から剥がすときの保護フィルムと転写層間の剥離力が、10〜200mN/mであることが好ましい。[3] [1]または[2]に記載の転写材料は、被転写基材に転写した転写層から、剥離層および仮支持体の積層体を剥離するときの剥離力が、40〜400mN/mであることが好ましい。
[4] [1]〜[3]のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、マット剤を含み、剥離層からマット剤が150〜500nm隆起していることが好ましい。[5] [1]〜[4]のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
[6] [1]〜[5]のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
[7] [1]〜[6]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも1層以上からなり、転写層のうち少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含むことが好ましい。
[8] [1]〜[7]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、
転写層のうち他の層が、バインダー樹脂を含むことが好ましい。
[9] [7]または[8]に記載の転写材料は、転写層のうち少なくとも1層に含まれる前記バインダー樹脂がシロキサン結合を有することが好ましい。
[10] [7]〜[9]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層のうち少なくとも1層の転写層が、顔料または染料として黒色顔料、黒色染料、および白色顔料、から選ばれる少なくとも1つの顔料または染料を含むことが好ましい。
[11] [1]〜[10]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層が少なくとも1つの黒色顔料および黒色染料から選ばれる顔料または染料を含み、
前記保護フィルムと隣接する層が白色顔料を含むことが好ましい。
[12] [1]〜[11]のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち剥離層側の転写層ほど光学濃度が前記保護フィルム側の転写層の光学濃度より大きいことが好ましい。
[13] [1]〜[12]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層の光学濃度が1.0〜6.0であることが好ましい。
[14] [1]〜[13]のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層の膜厚が0.5〜3.0μmであることが好ましい。
[15] [1]〜[14]のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち保護フィルム層と隣接する層の膜厚が5.0〜50.0μmであることが好ましい。
[16] [1]〜[15]のいずれか一項に記載の転写材料は、仮支持体が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、およびシクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含むことが好ましい。
[17] [1]〜[16]のいずれか一項に記載の転写材料は、保護フィルムが、ポリオレフィンフィルムであることが好ましい。
[18] [1]〜[17]のいずれか一項に記載の転写材料は、被転写基材がガラスからなることが好ましい。
[19] [1]〜[17]のいずれか一項に記載の転写材料は、被転写基材がシクロオレフィンポリマーフィルムからなることが好ましい。
[20] 以下の(1)〜(3)の工程を含む[1]〜[19]のいずれか一項に記載の転写材料の製造方法。
(1)剥離層を有する仮支持体を準備する。
(2)仮支持体の剥離層側に転写層を形成する。
(3)転写層側に保護フィルムを貼合する。
[21] [1]〜[19]のいずれか一項に記載の転写材料を用い、以下の工程を含む、転写層付き基材の製造方法。
(11)転写材料から保護フィルムを剥離する。
(12)転写材料の転写層側を、前記ガラスからなる被転写基材、またはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写する。
(13)転写層から、剥離層と仮支持体を一度に剥離する。
[22] [21]に記載の転写層付き基材の製造方法は、転写層を被転写基材に転写する際の被転写基材の温度が、40〜150℃であることが好ましい。
[23] [21]または[22]に記載の転写層付き基材の製造方法で製造された転写層付き基材。
[24] [23]に記載の転写層付き基材は、25℃における転写層の表面抵抗が1.0×1010Ω/□以上であることが好ましい。
[25] [23]または[24]に記載の転写層付き基材を用い、以下の工程を含むことを特徴とする、タッチパネルの製造方法。
(21)転写層付き基材の転写層側に導電層を形成する。
(22)導電層を一部除去し、電極パターンを形成する。
[26] [23]または[24]に記載の転写層付き基材を含むことを特徴とするタッチパネル。
[27] [26]に記載のタッチパネルを有することを特徴とする情報表示装置。
保護フィルムが転写材料から剥がされる場合に保護フィルムが転写層から剥がれ、かつ、前記転写層が前記剥離層側に残り、
転写層をガラスからなる被転写基材、またはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写後、仮支持体を剥がした場合に、剥離層が仮支持体とともに剥離されることを特徴とする、転写材料。
[2] [1]に記載の転写材料は、保護フィルムを転写材料から剥がすときの保護フィルムと転写層間の剥離力が、10〜200mN/mであることが好ましい。[3] [1]または[2]に記載の転写材料は、被転写基材に転写した転写層から、剥離層および仮支持体の積層体を剥離するときの剥離力が、40〜400mN/mであることが好ましい。
[4] [1]〜[3]のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、マット剤を含み、剥離層からマット剤が150〜500nm隆起していることが好ましい。[5] [1]〜[4]のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
[6] [1]〜[5]のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
[7] [1]〜[6]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも1層以上からなり、転写層のうち少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含むことが好ましい。
[8] [1]〜[7]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、
転写層のうち他の層が、バインダー樹脂を含むことが好ましい。
[9] [7]または[8]に記載の転写材料は、転写層のうち少なくとも1層に含まれる前記バインダー樹脂がシロキサン結合を有することが好ましい。
[10] [7]〜[9]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層のうち少なくとも1層の転写層が、顔料または染料として黒色顔料、黒色染料、および白色顔料、から選ばれる少なくとも1つの顔料または染料を含むことが好ましい。
[11] [1]〜[10]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層が少なくとも1つの黒色顔料および黒色染料から選ばれる顔料または染料を含み、
前記保護フィルムと隣接する層が白色顔料を含むことが好ましい。
[12] [1]〜[11]のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち剥離層側の転写層ほど光学濃度が前記保護フィルム側の転写層の光学濃度より大きいことが好ましい。
[13] [1]〜[12]のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層の光学濃度が1.0〜6.0であることが好ましい。
[14] [1]〜[13]のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層の膜厚が0.5〜3.0μmであることが好ましい。
[15] [1]〜[14]のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも2層からなり、
転写層のうち保護フィルム層と隣接する層の膜厚が5.0〜50.0μmであることが好ましい。
[16] [1]〜[15]のいずれか一項に記載の転写材料は、仮支持体が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、およびシクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含むことが好ましい。
[17] [1]〜[16]のいずれか一項に記載の転写材料は、保護フィルムが、ポリオレフィンフィルムであることが好ましい。
[18] [1]〜[17]のいずれか一項に記載の転写材料は、被転写基材がガラスからなることが好ましい。
[19] [1]〜[17]のいずれか一項に記載の転写材料は、被転写基材がシクロオレフィンポリマーフィルムからなることが好ましい。
[20] 以下の(1)〜(3)の工程を含む[1]〜[19]のいずれか一項に記載の転写材料の製造方法。
(1)剥離層を有する仮支持体を準備する。
(2)仮支持体の剥離層側に転写層を形成する。
(3)転写層側に保護フィルムを貼合する。
[21] [1]〜[19]のいずれか一項に記載の転写材料を用い、以下の工程を含む、転写層付き基材の製造方法。
(11)転写材料から保護フィルムを剥離する。
(12)転写材料の転写層側を、前記ガラスからなる被転写基材、またはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写する。
(13)転写層から、剥離層と仮支持体を一度に剥離する。
[22] [21]に記載の転写層付き基材の製造方法は、転写層を被転写基材に転写する際の被転写基材の温度が、40〜150℃であることが好ましい。
[23] [21]または[22]に記載の転写層付き基材の製造方法で製造された転写層付き基材。
[24] [23]に記載の転写層付き基材は、25℃における転写層の表面抵抗が1.0×1010Ω/□以上であることが好ましい。
[25] [23]または[24]に記載の転写層付き基材を用い、以下の工程を含むことを特徴とする、タッチパネルの製造方法。
(21)転写層付き基材の転写層側に導電層を形成する。
(22)導電層を一部除去し、電極パターンを形成する。
[26] [23]または[24]に記載の転写層付き基材を含むことを特徴とするタッチパネル。
[27] [26]に記載のタッチパネルを有することを特徴とする情報表示装置。
本発明によれば、転写層の転写性が良好であり、かつ、転写した転写層への剥がれ残りが抑制された転写材料、転写層付き基材及びタッチパネル、それらの製造方法、並びに情報表示装置を提供することができる。
以下、本発明の転写材料、転写層付き基材およびタッチパネル、それらの製造方法、並びに情報表示装置について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされるものである。本発明は、以下の実施態様に限定されるものではない。本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされるものである。本発明は、以下の実施態様に限定されるものではない。本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
[転写材料]
転写材料は、仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、この保護フィルムを転写材料から剥がすときに保護フィルムが転写層から剥がれ、かつ、転写層が剥離層側に残り、転写層をガラスまたはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写し、仮支持体を剥離したときに、剥離した仮支持体側に剥離層があることを特徴とする。
このような構成により、転写層の転写性が良好であり、転写層の剥がれが無く、かつ、剥離層が転写層側に残らず現像工程が不要となる。
開口部8(図2参照)を有する静電容量型入力装置としてのタッチパネル10において、白色層2aや遮光層2b等(図1A及び図1B参照)を、転写材料20(図9参照)を用いて形成すると、開口部8を有する被転写基材としての前面板1」でも、この開口部8の部分からレジスト成分のモレが抑制される。特に、前面板1の境界ギリギリまで遮光パターンを形成する必要のある白色層2aや遮光層2bにおいて、ガラス端からのレジスト成分のはみ出しが抑制される。このため、前面板の裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層及び軽量化のメリットがあるタッチパネル10の製造が可能となる。
被転写基材としての前面板1は、ガラス基材101a(カバーガラス)及びフィルム基材101bのうち少なくともいずれかにより構成される。図1Aにおいては、前面板1は、ガラス基材101aにより構成されている。図1Bにおいては、前面板1は、ガラス基材101a及びフィルム基材101bにより構成されている。フィルム基材101bは、例えば、TAC(トリアセチルセルロース)や、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、COP(シクロオレフィンポリマー)などから選ばれるフィルムからなる。
以下、本発明の転写材料の好ましい態様について説明する。
転写材料は、仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、この保護フィルムを転写材料から剥がすときに保護フィルムが転写層から剥がれ、かつ、転写層が剥離層側に残り、転写層をガラスまたはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写し、仮支持体を剥離したときに、剥離した仮支持体側に剥離層があることを特徴とする。
このような構成により、転写層の転写性が良好であり、転写層の剥がれが無く、かつ、剥離層が転写層側に残らず現像工程が不要となる。
開口部8(図2参照)を有する静電容量型入力装置としてのタッチパネル10において、白色層2aや遮光層2b等(図1A及び図1B参照)を、転写材料20(図9参照)を用いて形成すると、開口部8を有する被転写基材としての前面板1」でも、この開口部8の部分からレジスト成分のモレが抑制される。特に、前面板1の境界ギリギリまで遮光パターンを形成する必要のある白色層2aや遮光層2bにおいて、ガラス端からのレジスト成分のはみ出しが抑制される。このため、前面板の裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層及び軽量化のメリットがあるタッチパネル10の製造が可能となる。
被転写基材としての前面板1は、ガラス基材101a(カバーガラス)及びフィルム基材101bのうち少なくともいずれかにより構成される。図1Aにおいては、前面板1は、ガラス基材101aにより構成されている。図1Bにおいては、前面板1は、ガラス基材101a及びフィルム基材101bにより構成されている。フィルム基材101bは、例えば、TAC(トリアセチルセルロース)や、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、COP(シクロオレフィンポリマー)などから選ばれるフィルムからなる。
以下、本発明の転写材料の好ましい態様について説明する。
<構成>
まず、転写材料20の構成を説明する。
図9に本発明の転写材料の好ましい態様の一例を示す。転写材料20は、仮支持体11と、剥離層12と、遮光層2b及び白色層2aからなる転写層2と、保護フィルム13とを、この順で含む。転写材料20は、これら仮支持体11、剥離層12、転写層2及び保護フィルム13が、この順に積層して構成される。
このような構成とすることで、転写材料20は、転写層2を、ガラス基材101a、または、TAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルム基材101bに転写して、仮支持体11を剥離したときに、剥離した仮支持体11側に剥離層12がある。
まず、転写材料20の構成を説明する。
図9に本発明の転写材料の好ましい態様の一例を示す。転写材料20は、仮支持体11と、剥離層12と、遮光層2b及び白色層2aからなる転写層2と、保護フィルム13とを、この順で含む。転写材料20は、これら仮支持体11、剥離層12、転写層2及び保護フィルム13が、この順に積層して構成される。
このような構成とすることで、転写材料20は、転写層2を、ガラス基材101a、または、TAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルム基材101bに転写して、仮支持体11を剥離したときに、剥離した仮支持体11側に剥離層12がある。
<層間の剥離力>
保護フィルム13と転写層2の間の剥離力が、転写層2と剥離層12の間の剥離力よりも小さいことが好ましい。つまり、転写層2に対して、保護フィルム13の方が剥離層12よりもはがれ易い。剥離力の関係が逆の場合は、転写層2と剥離層12との間で剥離することとなり、望ましい形態を得られないことがある。
保護フィルム13と転写層2との間の剥離力は、10〜200mN/mの範囲であることが好ましい。この剥離力が10mN/m未満で有る場合は、ハンドリング中に保護フィルム13が転写材料20から無用に剥がれやすくなり、好ましくない。また、200mN/mより大きい場合は、保護フィルム13を剥がす際、転写層2と剥離層12の間で剥がれたり、保護フィルム13に転写層2が凝集破壊によりくっ付いたりして、好ましくない。
保護フィルム13と転写層2との間の剥離力は、15〜150mN/mであることがより好ましく、20〜100mN/mであることがさらに好まく、30〜60mN/mであることが特に好ましい。
保護フィルム13と転写層2の間の剥離力が、転写層2と剥離層12の間の剥離力よりも小さいことが好ましい。つまり、転写層2に対して、保護フィルム13の方が剥離層12よりもはがれ易い。剥離力の関係が逆の場合は、転写層2と剥離層12との間で剥離することとなり、望ましい形態を得られないことがある。
保護フィルム13と転写層2との間の剥離力は、10〜200mN/mの範囲であることが好ましい。この剥離力が10mN/m未満で有る場合は、ハンドリング中に保護フィルム13が転写材料20から無用に剥がれやすくなり、好ましくない。また、200mN/mより大きい場合は、保護フィルム13を剥がす際、転写層2と剥離層12の間で剥がれたり、保護フィルム13に転写層2が凝集破壊によりくっ付いたりして、好ましくない。
保護フィルム13と転写層2との間の剥離力は、15〜150mN/mであることがより好ましく、20〜100mN/mであることがさらに好まく、30〜60mN/mであることが特に好ましい。
被転写基材に転写した転写層2から、剥離層12および仮支持体11の積層体を剥離するときの剥離力が、40〜400mN/mであることが好ましく、50〜300mN/mであることがより好ましく、60〜250mN/mであることが特に好ましい。剥離力がこの範囲にある場合、転写層2をガラス基材101a、またはフィルム基材101bに転写して、仮支持体11を剥離したときに、剥離した仮支持体11側に剥離層12があるようにしやすくなる。
<仮支持体>
転写材料20は仮支持体11を有する。
仮支持体11は、可撓性を有することが好ましい。また、仮支持体11は、加圧下、又は、加圧及び加熱下においても、著しい変形、収縮又は伸びを生じないことが好ましい。仮支持体11としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができる。仮支持体11が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、シクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含むことが好ましく、その中でも2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを含むことが特に好ましい。
仮支持体11の厚みには特に限定はないが、5〜300μmが好ましく、20〜200μmがより好ましい。
仮支持体11は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
仮支持体11には、特開2005−221726号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
転写材料20は仮支持体11を有する。
仮支持体11は、可撓性を有することが好ましい。また、仮支持体11は、加圧下、又は、加圧及び加熱下においても、著しい変形、収縮又は伸びを生じないことが好ましい。仮支持体11としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができる。仮支持体11が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、シクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含むことが好ましく、その中でも2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを含むことが特に好ましい。
仮支持体11の厚みには特に限定はないが、5〜300μmが好ましく、20〜200μmがより好ましい。
仮支持体11は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
仮支持体11には、特開2005−221726号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
<剥離層>
転写材料20は、剥離層12を含む。
剥離層12は、アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、オレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
転写材料20は、剥離層12を含む。
剥離層12は、アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、オレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体としては、ポリオレフィンポリオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体が好ましい。ポリオレフィンポリオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体としては、特開2012−162625号公報、特開2011−94096号公報に記載のものを用いることができる。
ポリオレフィンポリオールとしては、以下のものが好ましい。
エポール(出光興産(株)製)、ユニストールP−801(三井化学(株)製)。
2官能以上のイソシアネートとしては、以下のものが好ましい。
コロネートL、コロネートHL、ミリオネートMT(以上、日本ポリウレタン工業(株)製)、タケネートD110N(三井化学(株)製)。
ポリオレフィンポリオールとしては、以下のものが好ましい。
エポール(出光興産(株)製)、ユニストールP−801(三井化学(株)製)。
2官能以上のイソシアネートとしては、以下のものが好ましい。
コロネートL、コロネートHL、ミリオネートMT(以上、日本ポリウレタン工業(株)製)、タケネートD110N(三井化学(株)製)。
オレフィン樹脂としては、以下のものが好ましい。
タフマーP−0080K、タフマーP−0280、タフマーA−35070S、タフマーP−0680、タフマーA−1070S、タフマーA−4085S、ルーカントHC−2000(以上、三井化学(株)製)、エンゲージ8180(ダウケミカル(株製))。
酸変性ポリオレフィン樹脂としては、特開2011−126043号、特開2012−152965号、特開2012−171153号に記載のものを用いることが出来る以下のものが好ましい。
酸変性ポリオレフィン樹脂としては、以下のものが好ましい。
polyvest OC800S(エボニック・デグザ社製)、クラプレン LIR−403、LIR−410(以上、クラレ社製)、ボンダイン LX−4110、HX−8210、HX−8290(以上、アルケマ社製)。ベストブラスト708、ベストブラスト408(以上、ヒュルスジャパン社製)を無水マレイン酸で変性したもの。
タフマーP−0080K、タフマーP−0280、タフマーA−35070S、タフマーP−0680、タフマーA−1070S、タフマーA−4085S、ルーカントHC−2000(以上、三井化学(株)製)、エンゲージ8180(ダウケミカル(株製))。
酸変性ポリオレフィン樹脂としては、特開2011−126043号、特開2012−152965号、特開2012−171153号に記載のものを用いることが出来る以下のものが好ましい。
酸変性ポリオレフィン樹脂としては、以下のものが好ましい。
polyvest OC800S(エボニック・デグザ社製)、クラプレン LIR−403、LIR−410(以上、クラレ社製)、ボンダイン LX−4110、HX−8210、HX−8290(以上、アルケマ社製)。ベストブラスト708、ベストブラスト408(以上、ヒュルスジャパン社製)を無水マレイン酸で変性したもの。
転写材料20は、仮支持体11および剥離層12として、仮支持体11の少なくとも片面に剥離層12が形成された「剥離フィルム」を用いてもよい。
剥離フィルムに用いられる剥離層12は、シリコーン樹脂およびフッ素樹脂の中から選ばれた1種以上を主成分として含有することが好ましい。
剥離フィルムに用いられる剥離層12は、シリコーン樹脂およびフッ素樹脂の中から選ばれた1種以上を主成分として含有することが好ましい。
シリコーン樹脂としては、一般に離型剤に利用されているシリコーン樹脂を用いることができる。シリコーン樹脂としては、例えば、「シリコーン材料ハンドブック」(東レダウコーニング編、1993.8)などに記載の当該分野で一般に使用されるシリコーン樹脂の中から選んで使用することができる。一般的には、熱硬化型シリコーン樹脂または電離放射線硬化型シリコーン樹脂(樹脂および樹脂組成物を包含して言う)が用いられる。熱硬化型シリコーン樹脂としては、例えば縮合反応型および付加反応型のシリコーン樹脂、電離放射線硬化型シリコーン樹脂としては、紫外線もしくは電子線硬化型のシリコーン樹脂などを用いることができる。これらを、基材であるフィルム上に塗布し、乾燥または硬化させることにより剥離層が形成される。
上記硬化型シリコーン樹脂は、その硬化後の重合度が50〜20万程度、特に1000〜10万程度であることが好ましく、これらの具体例としては、次の樹脂が挙げられる:信越化学工業(株)製のKS−718、KS−774、KS−775、KS−778、KS−779H、KS−830、KS−835、KS−837、KS−838、KS−839、KS−841、KS−843、KS−847、KS−847H、X−62−2418、X−62−2422、X−62−2125、X−62−2492、X−62−2494、X−62−5048、X−62−470、X−62−2366、X−62−630、X−92−140、X−92−128、KS−723A・B、KS−705F、KS−708A、KS−883、KS−709、KS−719;東芝シリコン(株)製のTPR−6701、TPR−6702、TPR−6703、TPR−3704、TPR−6705、TPR−6721、TPR−6722、TPR−6700、XSR−7029、YSR−3022、YR−3286;ダウコーニング(株)製のDK−Q3−202、DK−Q3−203、DK−Q3−204、DK−Q3−205、DK−Q3−210、DK−Q3−240、DK−Q3−3003、DK−Q3−3057、SFXF−2560;東レ・ダウコ一ニング・シリコーン(株)製のSD−7226、SD−7229、SD−7320、BY−24−900、BY−24−171、BY−24−312、BY−24−374、SRX−375、SYL−OFF23、SRX−244、SEX−290;アイ・シー・アイ・ジャパン(株)製のSILCOLEASE425など。さらに、特開昭47−34447号公報、特公昭52−40918号公報などに記載のシリコーン樹脂も用いることができる。これらの硬化型シリコーン樹脂は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
フッ素樹脂としては、一般に離型剤に利用されているフッ素樹脂を用いることができる。フッ素樹脂としては、例えば、フッ素含有ビニル重合性単量体からなる重合体(オリゴマーを含む)またはその共重合体、フッ素含有ビニル重合性単量体とフッ素原子を含有しないビニル重合性単量体との共重合体、または、これらの混合物であって、フッ素原子を5〜80モル%有する樹脂が挙げられる。
仮支持体11および剥離層12を含む剥離フィルムの市販品としては、ユニピール TR4、TR6、TR9(以上、ユニチカ株式会社製)、6501、6502(以上、リンテック株式会社製)、セラピール BLK(東レフィルム加工株式会社製)、HP−A3、HP−A5(以上、フジコー株式会社製)、NSD(藤森工業株式会社製)、TN110(東洋紡績株式会社製)、などを好ましく用いることができる。
剥離層12には、上記樹脂以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、当該分野で通常使用される添加剤が含有されていてもよい。添加剤としては、例えば、マット剤、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、磁化剤、染料などが挙げられる。
剥離層12は、ロール形態でのブロッキング防止のためマット剤を含むことが出来る。マット剤は、(メタ)アクリルポリマーからなるもの、シリカからなるもの等、本発明に合致するものを選ぶことが出来る。マット剤は、平均粒径が100〜1000nmであることが好ましい。平均粒径が小さい場合はブロッキング防止効果が十分でない可能性があり、大きい場合は転写層2にその跡が残り転写材料20の品質が劣る原因になる可能性がある。
剥離層12は、マット剤を含み、この剥離層12からマット剤が150〜500nm隆起していることが好ましく、200〜400nm隆起していることがより好ましく、200〜350nm隆起しているこがさらに好ましく、200〜300nm隆起していることが特に好ましい。この範囲であれば、上述のブロッキング防止効果や転写層2へのマット剤の跡がない転写材料20を得ることが出来る。
剥離層12からマット剤が隆起している量は、光学計測器「Zygo New View 6200」で測定した剥離層12の表面凹凸の値から求めることができる。後述の実施例における剥離層からのマット剤隆起高さも、この方法で測定した。
剥離層12は、ロール形態でのブロッキング防止のためマット剤を含むことが出来る。マット剤は、(メタ)アクリルポリマーからなるもの、シリカからなるもの等、本発明に合致するものを選ぶことが出来る。マット剤は、平均粒径が100〜1000nmであることが好ましい。平均粒径が小さい場合はブロッキング防止効果が十分でない可能性があり、大きい場合は転写層2にその跡が残り転写材料20の品質が劣る原因になる可能性がある。
剥離層12は、マット剤を含み、この剥離層12からマット剤が150〜500nm隆起していることが好ましく、200〜400nm隆起していることがより好ましく、200〜350nm隆起しているこがさらに好ましく、200〜300nm隆起していることが特に好ましい。この範囲であれば、上述のブロッキング防止効果や転写層2へのマット剤の跡がない転写材料20を得ることが出来る。
剥離層12からマット剤が隆起している量は、光学計測器「Zygo New View 6200」で測定した剥離層12の表面凹凸の値から求めることができる。後述の実施例における剥離層からのマット剤隆起高さも、この方法で測定した。
<転写層>
(層構成)
転写材料20は、1層のみからなる転写層2を有していてもよいし、少なくとも2層からなる転写層2を有していてもよい。つまり、転写層2は、1層により構成されていてもよいし、2層以上により構成されていてもよい。
転写層2のうち少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方、を含むことが好ましい。転写層2のうち、顔料および染料のうち少なくとも一方を含む層のことを、「色材層」とも言う。
転写層2が少なくとも2層からなり、そのうちの少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、他の層が、バインダー樹脂を含むことがより好ましい。
転写層2のうち少なくとも1層が、顔料または染料として、黒色顔料、黒色染料および白色顔料から選ばれる少なくとも1つを含むことが特に好ましい。
転写層2が少なくとも2層からなり、剥離層12側の層が黒色顔料および黒色染料から選ばれる少なくとも1つを含み、保護フィルム13側の層2が白色顔料を含むことが、より特に好ましい。
以下、転写層2が色材層を含む場合について説明するが、本発明は、転写層2が色材層を含む場合に限定されるものではない。
(層構成)
転写材料20は、1層のみからなる転写層2を有していてもよいし、少なくとも2層からなる転写層2を有していてもよい。つまり、転写層2は、1層により構成されていてもよいし、2層以上により構成されていてもよい。
転写層2のうち少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方、を含むことが好ましい。転写層2のうち、顔料および染料のうち少なくとも一方を含む層のことを、「色材層」とも言う。
転写層2が少なくとも2層からなり、そのうちの少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、他の層が、バインダー樹脂を含むことがより好ましい。
転写層2のうち少なくとも1層が、顔料または染料として、黒色顔料、黒色染料および白色顔料から選ばれる少なくとも1つを含むことが特に好ましい。
転写層2が少なくとも2層からなり、剥離層12側の層が黒色顔料および黒色染料から選ばれる少なくとも1つを含み、保護フィルム13側の層2が白色顔料を含むことが、より特に好ましい。
以下、転写層2が色材層を含む場合について説明するが、本発明は、転写層2が色材層を含む場合に限定されるものではない。
転写材料20は、遮光層2bおよび白色層2a(以下、まとめて「色材層」ともいう)のうち、少なくとも一方を少なくとも有することが好ましい。
転写材料20に含まれる遮光層2bおよび白色層2aを、前面板1に転写することで、「転写層付き基材」の加飾層(遮光層2bおよび白色層2a)を形成することができる。
(色材層の材料)
色材層2aは、色材と、この色材を色材層として形成するためのバインダー樹脂材とを含む。また、使用する環境、用途に応じて、色材層は、重合性化合物および重合開始剤をさらに含むことが好ましい。その他、色材層は、酸化防止剤、重合禁止剤、を含むことができる。
色材層2aは、色材と、この色材を色材層として形成するためのバインダー樹脂材とを含む。また、使用する環境、用途に応じて、色材層は、重合性化合物および重合開始剤をさらに含むことが好ましい。その他、色材層は、酸化防止剤、重合禁止剤、を含むことができる。
転写材料20は、転写層2として、遮光層2bおよび白色層2aを含むことが好ましい。転写材料20における遮光層2bおよび白色層2aは、転写層付き基材における加飾層に含まれる遮光層2bおよび白色層2aと同じ組成であることが好ましい。しかし、転写材料20における遮光層2bおよび白色層2aは、前面板1への転写後の製造工程によっては組成が異なっていてもよい。例えば、転写材料20における遮光層2bおよび白色層2aが重合性化合物を有する場合、転写層付き基材における加飾層に含まれる遮光層2bおよび白色層2aでは、重合性化合物の含有割合が変化していてもよい。
色材:−保護フィルム側の転写層、白色層−
白色層2aは、白色顔料を含むことがより好ましい。
白色層2aは、白色顔料を含むことがより好ましい。
白色層2aは、特に見栄えがわかりやすいため、以下の白色層2a用の色材を用いることが好ましい。白色層2a用の色材としては、顔料が好ましく、白色無機顔料がより好ましい。
白色無機顔料としては、特開2005−7765公報の段落[0015]や[0114]に記載の白色顔料を用いることができる。
具体的には、白色無機顔料としては酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及び硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン及び酸化亜鉛がより好ましい。白色層2aは、酸化チタンであることが好ましく、その中でもルチル型またはアナターゼ型酸化チタンがより好ましく、ルチル型酸化チタンが特に好ましい。
白色無機顔料としては、特開2005−7765公報の段落[0015]や[0114]に記載の白色顔料を用いることができる。
具体的には、白色無機顔料としては酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及び硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン及び酸化亜鉛がより好ましい。白色層2aは、酸化チタンであることが好ましく、その中でもルチル型またはアナターゼ型酸化チタンがより好ましく、ルチル型酸化チタンが特に好ましい。
酸化チタンの表面は、シリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、有機物処理及びそれらを併用して処理することができる。
これにより、酸化チタンの触媒活性を抑制でき、耐熱性、褪光性等を改善することができる。
加熱後の白色層2aのb値を抑制する観点から、酸化チタンの表面処理は、アルミナ処理又はジルコニア処理が好ましく、アルミナおよびジルコニア併用処理が特に好ましい。
これにより、酸化チタンの触媒活性を抑制でき、耐熱性、褪光性等を改善することができる。
加熱後の白色層2aのb値を抑制する観点から、酸化チタンの表面処理は、アルミナ処理又はジルコニア処理が好ましく、アルミナおよびジルコニア併用処理が特に好ましい。
白色層2aの全固形分に対する白色無機顔料の含有率が20〜75質量%であることが好ましく、25〜60質量%であることがより好ましく、30〜50質量%であることが更に好ましい。白色無機顔料の含有量がこの範囲にある場合、導電性層をスパッタにより蒸着するときと同程度の加熱をした後の良好な明度および白色度(b値が小さいこと)が良好な範囲となり、その他の求められる特性を同時に満たす加飾材を形成することができる。
「全固形分」とは、白色層2aから溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
「全固形分」とは、白色層2aから溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
白色無機顔料(なお、遮光層2bに用いられるその他の顔料についても同様である)は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、白色無機顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒(またはビヒクル)に添加して分散させることによって調製することができる。「ビヒクル」とは、塗料が液体状態にある場合に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって顔料と結合して塗膜を形成する成分(バインダー)と、これを溶解希釈する成分(有機溶媒)とを含む。
白色無機顔料を分散させる分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、2000年、438項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライター、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献310頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用して白色無機顔料を微粉砕してもよい。
白色無機顔料(白色層用の色材)は、分散安定性及び隠ぺい力の観点から、一次粒子の平均粒径0.16μm〜0.3μmのものが好ましく、0.18μm〜0.27μmのものがより好ましく、0.19μm〜0.25μmのものが特に好ましい。一次粒子の平均粒径が0.16μm以上であると、隠ぺい力が高く、遮光層2bの下地が見えにくくなり、粘度上昇を起こしにくい。一方、一次粒子の平均粒径が0.3μm以下であると、白色度が十分に高く、同時に隠ぺい力が高く、また塗布した際の面状が良好となる。
「一次粒子の平均粒径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径をいう。「数平均粒径」とは、多数の粒子について一次粒子の平均粒径を求め、そのうちの100個の平均値をいう。
分散液や塗布液中の平均粒径を測定する場合には、レーザー散乱HORIBA H(株式会社堀場アドバンスドテクノ社製)を用いることができる。
「一次粒子の平均粒径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径をいう。「数平均粒径」とは、多数の粒子について一次粒子の平均粒径を求め、そのうちの100個の平均値をいう。
分散液や塗布液中の平均粒径を測定する場合には、レーザー散乱HORIBA H(株式会社堀場アドバンスドテクノ社製)を用いることができる。
−剥離層側の転写層、遮光層−
遮光層2b用の色材としては、染料または顔料を含むことが好ましく、顔料を含むことがより好ましく、黒色顔料がさらに好ましい。黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられる。転写層付き基材では、遮光層2bが酸化チタンおよびカーボンブラックのうち少なくとも一つを含むことが好ましく、カーボンブラックを含むことがより好ましい。
遮光層2b用の色材としては、染料または顔料を含むことが好ましく、顔料を含むことがより好ましく、黒色顔料がさらに好ましい。黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられる。転写層付き基材では、遮光層2bが酸化チタンおよびカーボンブラックのうち少なくとも一つを含むことが好ましく、カーボンブラックを含むことがより好ましい。
バインダー樹脂:
転写層2用のバインダー樹脂としては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。
転写層2用のバインダー樹脂としては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。
転写材料20は、転写層2の少なくとも1層に含まれるバインダー樹脂がシロキサン結合を有することが好ましく、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂を有することがより好ましい。
このような構成により、転写材料20は、高温処理後の白色層2aのb値が小さくなる。シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は、高温処理後(例えば、280℃で30分間の処理)においても分解しにくい。このため、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂を用いた白色層2aおよび遮光層2bは、高温処理後でも、分解などが生じ難く、b値が小さい。特に、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂を白色層2a自体にのみ含む場合よりも、白色層2aおよび遮光層2bがいずれもシロキサン結合を主鎖に有する樹脂を含む場合の方が、高温処理後のb値を小さくすることができる。
このような構成により、転写材料20は、高温処理後の白色層2aのb値が小さくなる。シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は、高温処理後(例えば、280℃で30分間の処理)においても分解しにくい。このため、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂を用いた白色層2aおよび遮光層2bは、高温処理後でも、分解などが生じ難く、b値が小さい。特に、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂を白色層2a自体にのみ含む場合よりも、白色層2aおよび遮光層2bがいずれもシロキサン結合を主鎖に有する樹脂を含む場合の方が、高温処理後のb値を小さくすることができる。
シロキサン結合を主鎖に有する樹脂としては、特に制限はないが、シリコーン系レジンが好ましい。
シリコーン系レジンとしては、公知のものが使用できる。メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジン、ポリエステル樹脂変性シリコーンレジン、エポキシ樹脂変性シリコーンレジン、アルキッド樹脂、変性シリコーンレジン及びゴム系のシリコーンレジン等が使用できる。
より好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン及びアクリル樹脂変性シリコーンレジンであり、特に好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン及びメチルフェニル系ストレートシリコーンレジンである。
シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は、1種のみを用いても、2種以上を混合して用いてもよい。これらを任意の比率で混合することにより、膜物性を制御することもできる。
シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は有機溶媒などに溶解されたものを用いてもよく、例えば、キシレン溶液に溶解されたものを用いることができる。
また、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂には、硬化性を高める観点から、重合触媒として公知の化合物を添加することが好ましく、亜鉛系の重合触媒を添加することがより好ましい。
シリコーン系レジンとしては、公知のものが使用できる。メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジン、ポリエステル樹脂変性シリコーンレジン、エポキシ樹脂変性シリコーンレジン、アルキッド樹脂、変性シリコーンレジン及びゴム系のシリコーンレジン等が使用できる。
より好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン及びアクリル樹脂変性シリコーンレジンであり、特に好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン及びメチルフェニル系ストレートシリコーンレジンである。
シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は、1種のみを用いても、2種以上を混合して用いてもよい。これらを任意の比率で混合することにより、膜物性を制御することもできる。
シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は有機溶媒などに溶解されたものを用いてもよく、例えば、キシレン溶液に溶解されたものを用いることができる。
また、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂には、硬化性を高める観点から、重合触媒として公知の化合物を添加することが好ましく、亜鉛系の重合触媒を添加することがより好ましい。
但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて転写層2中の「上記バインダー樹脂を含む層」は、「その他のバインダー樹脂」を含んでいてもよい。
その他のバインダー樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/エチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/ブチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/シロクヘキシル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/イソボニル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、などを挙げることができる。
中でも、加熱圧着時の気泡の混入を回避する点で、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート共重合体及び(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/エチル(メタ)アクリレート共重合体、が好ましい。
その他のバインダー樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/エチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/ブチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/シロクヘキシル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/イソボニル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、などを挙げることができる。
中でも、加熱圧着時の気泡の混入を回避する点で、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート共重合体及び(メタ)アクリル酸/ベンジルメタクリレート/メチル(メタ)アクリレート/エチル(メタ)アクリレート共重合体、が好ましい。
その他のバインダー樹脂のガラス転移温度Tg(b)としては、70〜140℃の範囲が好ましく、より好ましくは80〜110℃の範囲である。Tg(b)は、70℃以上であると、加熱圧着(ラミネート)時のエア(気泡)の巻き込みを抑制でき、140℃以下であると、加熱圧着時のエア(気泡)の巻き込みが充分となり、現像も良好に行える。
その他のバインダー樹脂の重量平均分子量Mw(b)としては、10,000〜50,000の範囲が好ましく、より好ましくは15,000〜40,000の範囲である。Mw(b)は、10,000以上であると加熱圧着時のエア(気泡)の巻き込みを抑止でき、50,000以下であると加熱圧着時のエア(気泡)の巻き込みが充分となり、現像も良好に行える。
その他のバインダー樹脂の重量平均分子量Mw(b)としては、10,000〜50,000の範囲が好ましく、より好ましくは15,000〜40,000の範囲である。Mw(b)は、10,000以上であると加熱圧着時のエア(気泡)の巻き込みを抑止でき、50,000以下であると加熱圧着時のエア(気泡)の巻き込みが充分となり、現像も良好に行える。
転写層2中の「上記バインダー樹脂を含む層」におけるその他のバインダー樹脂の含有量としては、この「上記バインダー樹脂を含む層」の全固形分に対して、30質量%以上とすることが好ましい。その他のバインダー樹脂の量が上記範囲内であると、加熱圧着時の遮光層の溶融粘度を層が柔らかくなり過ぎない程度に維持でき、ある程度の硬さを保って圧着時の気泡の混入を効果的に抑制することができる。
その他のバインダー樹脂の含有量としては、10〜40質量%がより好ましく、20〜35質量%が更に好ましい。
その他のバインダー樹脂の含有量としては、10〜40質量%がより好ましく、20〜35質量%が更に好ましい。
酸化防止剤:
転写層2には、酸化防止剤を添加してもよい。特に転写層2の白色層2aは、酸化防止剤が添加されることが好ましい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、セミヒンダードフェノール系、リン酸系、分子内にリン酸/ヒンダードフェノールを持つハイブリッド型酸化防止剤が使用できる。
ヒンダードフェノール系化合物として、アデカスタブ AO−60(ADEKA社製)を挙げることができる。
酸化防止剤は、着色を抑制する観点から、リン酸系酸化防止剤、例えばIRGAFOS168(BASF社製)が好ましい。
転写層2には、酸化防止剤を添加してもよい。特に転写層2の白色層2aは、酸化防止剤が添加されることが好ましい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、セミヒンダードフェノール系、リン酸系、分子内にリン酸/ヒンダードフェノールを持つハイブリッド型酸化防止剤が使用できる。
ヒンダードフェノール系化合物として、アデカスタブ AO−60(ADEKA社製)を挙げることができる。
酸化防止剤は、着色を抑制する観点から、リン酸系酸化防止剤、例えばIRGAFOS168(BASF社製)が好ましい。
溶剤:
転写層2を塗布により製造する際の溶剤としては、特開2011−95716号公報の段落[0043]〜[0044]に記載の溶剤を用いることができる。
転写層2を塗布により製造する際の溶剤としては、特開2011−95716号公報の段落[0043]〜[0044]に記載の溶剤を用いることができる。
添加剤:
転写層2には、その他の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、例えば特許第4502784号公報の段落[0017]、特開2009−237362号公報の段落[0060]〜[0071]に記載の界面活性剤や、特許第4502784号公報の段落[0018]に記載の熱重合防止剤、さらに、特開2000−310706号公報の段落[0058]〜[0071]に記載のその他の添加剤が挙げられる。
転写層2には、その他の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、例えば特許第4502784号公報の段落[0017]、特開2009−237362号公報の段落[0060]〜[0071]に記載の界面活性剤や、特許第4502784号公報の段落[0018]に記載の熱重合防止剤、さらに、特開2000−310706号公報の段落[0058]〜[0071]に記載のその他の添加剤が挙げられる。
−保護フィルム側の転写層、白色層−
白色層2a中に含まれていてもよい顔料以外の成分としては、特に制限はないが、公知のバインダー樹脂や、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂に加えて、公知の顔料分散安定剤、公知の塗布助剤等、を用いることができる。なかでも、白色層2aの色味が変わらない、または望ましい色味に変わるものが望ましい。
本発明の効果を得る観点から、白色層2a中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合は、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。
白色層2a中に含まれていてもよい顔料以外の成分としては、特に制限はないが、公知のバインダー樹脂や、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂に加えて、公知の顔料分散安定剤、公知の塗布助剤等、を用いることができる。なかでも、白色層2aの色味が変わらない、または望ましい色味に変わるものが望ましい。
本発明の効果を得る観点から、白色層2a中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合は、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。
白色層2a中において、「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および顔料以外」の成分の含有量としては、白色層2aの全固形分に対して、30質量%以上とすることが好ましい。「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および顔料以外の成分の含有量」が上記範囲内であると、白色層2aの色味に好ましい影響を与えることが出来る。
白色層2a中において、「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および顔料以外」の成分の含有量としては、30〜60質量%がより好ましく、35〜55質量%が更に好ましく、40〜50質量%がより特に好ましい。
白色層2a中において、「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および顔料以外」の成分の含有量としては、30〜60質量%がより好ましく、35〜55質量%が更に好ましく、40〜50質量%がより特に好ましい。
−剥離層側の転写層、遮光層−
遮光層2bに用いることができる、「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂や顔料以外」の成分は、白色層2aに用いることができるものとそれぞれ同様である。
本発明の効果を得る観点から、遮光層2b中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合は、60質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。
転写層付き基材は、白色層2a中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合が90質量%以上であり、かつ、遮光層2b中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合が70質量%以上であることが好ましい。この場合の、より好ましい範囲は、白色層2aまたは遮光層2b中における、より特に好ましい範囲、よりさらに特に好ましい範囲と同様である。
遮光層2bに用いることができる、「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂や顔料以外」の成分は、白色層2aに用いることができるものとそれぞれ同様である。
本発明の効果を得る観点から、遮光層2b中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合は、60質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。
転写層付き基材は、白色層2a中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合が90質量%以上であり、かつ、遮光層2b中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合が70質量%以上であることが好ましい。この場合の、より好ましい範囲は、白色層2aまたは遮光層2b中における、より特に好ましい範囲、よりさらに特に好ましい範囲と同様である。
(色材層の特性)
−保護フィルム側の転写層、白色層−
保護フィルム13側の転写層2の膜厚が10μm〜40μmであることが、白色層2aの隠蔽力を高めるための観点から、好ましい。
白色層2aの厚みは15〜40μmが更に好ましく、20〜38μmが特に好ましい。
−保護フィルム側の転写層、白色層−
保護フィルム13側の転写層2の膜厚が10μm〜40μmであることが、白色層2aの隠蔽力を高めるための観点から、好ましい。
白色層2aの厚みは15〜40μmが更に好ましく、20〜38μmが特に好ましい。
白色層2aの隠蔽力を高めるための観点から、白色層2aの光学濃度(ODとも言う)が0.5以上であることが好ましく、1.0以上であることが特に好ましい。
−剥離層側の転写層、遮光層−
転写材料20は、転写層2が少なくとも2層からなり、転写層2のうち剥離層12側の層の光学濃度が、保護フィルム13側の層の光学濃度より大きいことが好ましい。転写材料20は、転写層2のうち、剥離層12側の層ほど光学濃度が大きいことがより好ましい。
前記遮光層の隠蔽力を高める観点から、転写材料20は、転写層2が少なくとも2層からなり、転写層2のうち剥離層12側の層の光学濃度が1.0〜6.0であることが好ましく、3.5〜6.0であることがより好ましく、4.0〜6.0であることが特に好ましい。
転写材料20は、転写層2が少なくとも2層からなり、転写層2のうち剥離層12側の層の光学濃度が、保護フィルム13側の層の光学濃度より大きいことが好ましい。転写材料20は、転写層2のうち、剥離層12側の層ほど光学濃度が大きいことがより好ましい。
前記遮光層の隠蔽力を高める観点から、転写材料20は、転写層2が少なくとも2層からなり、転写層2のうち剥離層12側の層の光学濃度が1.0〜6.0であることが好ましく、3.5〜6.0であることがより好ましく、4.0〜6.0であることが特に好ましい。
転写材料20は、転写層2が少なくとも2層からなり、転写層2のうち剥離層12側の層の膜厚が0.5〜3.0μmであることが好ましく、1.0〜3.0μmであることがより好ましく、1.5〜3.0μmであることが特に好ましい。
タッチパネル10の製造方法に用いる転写層つき基材の転写材料20は、この転写材料20の近傍から基材に向けて配線や透明導電層を形成することから、十分な表面抵抗を有することが好ましい。具体的には、転写材料20を用いて得られた転写層付き基材の転写層2の表面抵抗が、1.0×1010Ω/□以上であることが好ましく、1.0×1011Ω/□以上であることがより好ましく、1.0×1012Ω/□以上であることがさらに好ましく、1.0×1013Ω/□以上であることが特に好ましい。
<保護フィルム>
転写材料20には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために、色材層2aを覆うようにして保護フィルム13(カバーフィルムとも言う)が設けられることが好ましい。保護フィルム13は仮支持体11と同じか又は類似の材料からなってもよいが、色材層2aから比較的容易に分離される必要がある。保護フィルム13の材料としては、例えば、シリコーン紙、ポリオレフィンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンシートなどが適当である。
転写材料20には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために、色材層2aを覆うようにして保護フィルム13(カバーフィルムとも言う)が設けられることが好ましい。保護フィルム13は仮支持体11と同じか又は類似の材料からなってもよいが、色材層2aから比較的容易に分離される必要がある。保護フィルム13の材料としては、例えば、シリコーン紙、ポリオレフィンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンシートなどが適当である。
色材層2aの現像後の白抜け発生をより効果的に抑制する観点から、保護フィルム13のヘイズ度の最大値は3.0%以下であることが好ましく、2.5%以下がより好ましく、2.0%以下がさらに好ましく、1.0%以下が特に好ましい。
保護フィルム13の厚みは1〜100μmであることが好ましく、5〜50μmであることがより好ましく、10〜30μmであることが特に好ましい。この厚みが1μm以上であれば保護フィルム13の強度が十分なため、感光性樹脂層にこの保護フィルム13を張り合わせる際に、保護フィルム13が破断しにくい。100μm以下であると保護フィルム13の価格が高くならず、また、保護フィルム13をラミネートする際にシワが発生しにくい。
このような保護フィルム13は市販のものとして、例えば、王子製紙(株)製アルファンMA−410、E−200C、E−501、信越フィルム(株)製等のポリプロピレンフィルム、帝人(株)製PS−25等のPSシリーズなどのポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられる。なお、保護フィルム13は、これらに限られるものではない。また、保護フィルム13は、市販のフィルムをサンドブラスト加工することにより、製造してもよい。
保護フィルム13として、ポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルムを好ましく用いることができる。通常、保護フィルム13として用いられるポリオレフィンフィルムは、原材料を熱溶融し、混練、押し出し、2軸延伸、キャスティングまたはインフレーション法によって製造される。
保護フィルム13が、ポリプロピレンフィルムであることが好ましい。
以上、転写材料20を説明したが、この転写材料20は、必要に応じてネガ型材料又はポジ型材料であってもよい。
[転写材料の製造方法]
転写材料20の製造方法は、以下の(1)〜(3)の工程を含む。
(1)剥離層12を有する仮支持体11を準備する。
(2)仮支持体11の剥離層12側に転写層2を形成する。
(3)転写層2側に保護フィルム13を貼合する(貼り合わせる)。
転写材料20の製造方法は、以下の(1)〜(3)の工程を含む。
(1)剥離層12を有する仮支持体11を準備する。
(2)仮支持体11の剥離層12側に転写層2を形成する。
(3)転写層2側に保護フィルム13を貼合する(貼り合わせる)。
転写材料20を製造する方法としては、上記(1)〜(3)の工程を含むこと以外は特に限定はないが、例えば特開2005−3861号公報の段落[0064]〜[0066]に記載の工程によって製造することができる。また、転写材料20は、例えば特開2009−116078号公報に記載の方法で作成することもできる。
(1)剥離層12を有する仮支持体を準備する工程
転写材料20の製造方法は、(1)剥離層12を有する仮支持体11を準備する工程を含む。
剥離層12を有する仮支持体11を準備する方法としては特に制限は無く、公知の剥離層12付きの仮支持体11を商業的に入手してもよい。
転写材料20の製造方法は、(1)剥離層12を有する仮支持体11を準備する工程を含む。
剥離層12を有する仮支持体11を準備する方法としては特に制限は無く、公知の剥離層12付きの仮支持体11を商業的に入手してもよい。
(2)仮支持体11の剥離層12側に転写層2を形成する工程
転写材料20の製造方法は、(2)仮支持体11の剥離層12側に転写層2を形成する工程を含む。
仮支持体11の剥離層12側に転写層2を形成する工程の一例としては、剥離層12を有する仮支持体1上に樹脂組成物を塗布し、乾燥させて転写層2を形成する工程が挙げられる。
転写材料20の製造方法は、(2)仮支持体11の剥離層12側に転写層2を形成する工程を含む。
仮支持体11の剥離層12側に転写層2を形成する工程の一例としては、剥離層12を有する仮支持体1上に樹脂組成物を塗布し、乾燥させて転写層2を形成する工程が挙げられる。
転写材料20は、転写層2として、白色層2aおよび遮光層2bの2層を少なくとも形成してもよい。この場合、転写材料20は、仮支持体11上に、剥離層12、白色層2aおよび遮光層2bをこの順番で積層したものを用いてもよい。この態様によれば、被転写基材に転写材料20を転写することによって、この被転写基材上に、一度に白色加飾材としての白色層2aと遮光材としての遮光層2bとを設けることができるため、工程的に好ましい。
あるいは、転写層2として、白色層2aおよび遮光層2bのうち少なくとも1層を形成したものを用いてもよい。この場合、仮支持体11、剥離層12および白色層2aを有する転写材料20を被転写基材上に転写した後にこの仮支持体11を取り除き、この白色層2a上に、仮支持体11および遮光層2bを含む転写材料20を転写する。
転写材料20は、本発明の趣旨に反しない限りにおいてさらにその他の層を形成してもよい。
仮支持体11上に転写層2形成用の組成物を塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。
あるいは、転写層2として、白色層2aおよび遮光層2bのうち少なくとも1層を形成したものを用いてもよい。この場合、仮支持体11、剥離層12および白色層2aを有する転写材料20を被転写基材上に転写した後にこの仮支持体11を取り除き、この白色層2a上に、仮支持体11および遮光層2bを含む転写材料20を転写する。
転写材料20は、本発明の趣旨に反しない限りにおいてさらにその他の層を形成してもよい。
仮支持体11上に転写層2形成用の組成物を塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。
−溶剤−
転写材料20の転写層2を形成するための感光性組成物は、この感光性組成物に含まれる各成分と共に溶剤を用いて好適に調製することができる。
転写材料20の転写層2を形成するための感光性組成物は、この感光性組成物に含まれる各成分と共に溶剤を用いて好適に調製することができる。
溶剤としては、
エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、3−オキシプロピオン酸メチル及び3−オキシプロピオン酸エチルなどの3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル)、並びに、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、及び2−オキシプロピオン酸プロピルなどの2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル)、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等;
エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、3−オキシプロピオン酸メチル及び3−オキシプロピオン酸エチルなどの3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル)、並びに、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、及び2−オキシプロピオン酸プロピルなどの2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル)、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等;
エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等;
ケトン類、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;
芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン;
等が挙げられる。
等が挙げられる。
これらのうち、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
溶剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(3)転写層2側に保護フィルム13を貼合する工程
転写材料20の製造方法は、(3)転写層2側に保護フィルム13を貼合する工程を含む。
保護フィルム13によって転写層2を覆う方法としては特に限定はないが、仮支持体11上の転写層2に保護フィルム13を重ね、圧着する方法を用いることができる。
圧着には、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
圧着の条件としては、雰囲気温度40〜130℃、線圧1000〜10000N/mが好ましい。雰囲気温度及び線圧のうち少なくともいずれかが上記範囲よりも低い場合、ラミネート時に巻き込まれうる空気が、被転写基材と転写層2との間から十分に押し出されない可能性がある。また、雰囲気温度が上記範囲よりも高い場合は、転写層2が熱で硬化することによって好ましくない形態になる可能性がある。線圧が上記範囲よりも高い場合は、転写層2が変形する可能性がある。
転写材料20の製造方法は、(3)転写層2側に保護フィルム13を貼合する工程を含む。
保護フィルム13によって転写層2を覆う方法としては特に限定はないが、仮支持体11上の転写層2に保護フィルム13を重ね、圧着する方法を用いることができる。
圧着には、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
圧着の条件としては、雰囲気温度40〜130℃、線圧1000〜10000N/mが好ましい。雰囲気温度及び線圧のうち少なくともいずれかが上記範囲よりも低い場合、ラミネート時に巻き込まれうる空気が、被転写基材と転写層2との間から十分に押し出されない可能性がある。また、雰囲気温度が上記範囲よりも高い場合は、転写層2が熱で硬化することによって好ましくない形態になる可能性がある。線圧が上記範囲よりも高い場合は、転写層2が変形する可能性がある。
[転写層付き基材、転写層付き基材の製造方法]
転写層付き基材の製造方法は、転写材料20を用い、以下の工程を含むことを特徴とする。
(11)転写材料20から、保護フィルム13を剥離する。
(12)転写材料20の転写層2側を、ガラス基材101a、またはフィルム基材101bに転写する。
(13)転写層2から、剥離層12と仮支持体11を一度に剥離する。
以下、転写層付き基材とその製造方法の好ましい態様について説明する。
転写層付き基材の製造方法は、転写材料20を用い、以下の工程を含むことを特徴とする。
(11)転写材料20から、保護フィルム13を剥離する。
(12)転写材料20の転写層2側を、ガラス基材101a、またはフィルム基材101bに転写する。
(13)転写層2から、剥離層12と仮支持体11を一度に剥離する。
以下、転写層付き基材とその製造方法の好ましい態様について説明する。
<転写層付き基材の特性>
転写層付き基材における「加飾材」とは、白色層2aと遮光層2bとの積層体のことを意味する。白色層2aのみを被転写基材に転写した場合、光学濃度が低い。このため、このような態様の転写層付き基材を、表示装置の基材として用いたときには、表示装置の光漏れや回路のすけが見える場合がある。転写層付き基材では、基材(フィルムまたはガラス)側から、白色層2aおよび遮光層2bをこの順で含む構成とすることで光漏れ等を抑えることが出来る。
転写層付き基材における「加飾材」とは、白色層2aと遮光層2bとの積層体のことを意味する。白色層2aのみを被転写基材に転写した場合、光学濃度が低い。このため、このような態様の転写層付き基材を、表示装置の基材として用いたときには、表示装置の光漏れや回路のすけが見える場合がある。転写層付き基材では、基材(フィルムまたはガラス)側から、白色層2aおよび遮光層2bをこの順で含む構成とすることで光漏れ等を抑えることが出来る。
転写層付き基材は光学濃度が、3.5〜6.5であることが好ましく、4.0〜6.0であることがより好ましく、4.5〜5.5であることが特に好ましい。なお、光学濃度は各層ごとの合計として求めてもよい。光学濃度計で測定できる光学濃度の上限を超える場合は、遮光層2bの光学濃度と、白色層2aの光学濃度とを合計して転写層付き基材の光学濃度とする。例えば、光学濃度計で6.0までしか測れない場合、遮光層単独分で5.5の光学濃度、白色層単独分で1.0の光学濃度とそれぞれ測定し、両者の光学濃度の合計6.5を転写層付き基材の光学濃度とする。
<被転写基材>
転写層付き基材に用いる被転写基材は、ガラス、またはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる。この被転写基材はフィルム基材101bであることが好ましく、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものを用いることがより好ましい。転写層付き基材では、被転写基材は、全光透過率が、80%以上であることが好ましい。
転写層付き基材に用いる被転写基材は、ガラス、またはTAC、PET、PCまたはCOPから選ばれるフィルムからなる。この被転写基材はフィルム基材101bであることが好ましく、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものを用いることがより好ましい。転写層付き基材では、被転写基材は、全光透過率が、80%以上であることが好ましい。
フィルム基材101bの具体的な素材としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィンポリマー(COP)などをあげることができる。
被転写基材は、ガラス基材101aでもよい。
転写層付き基材では、被転写基材は、ガラス、またはCOPからなるフィルムであることが好ましい。
被転写基材は、ガラス基材101aでもよい。
転写層付き基材では、被転写基材は、ガラス、またはCOPからなるフィルムであることが好ましい。
被転写基材の表面には、種々の機能を付加しても良い。具体的には、反射防止層、防眩層、位相差層、視野角向上層、耐傷層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層などをあげることができる。
転写層付き基材では、被転写基材は、この被転写基材表面に導電性層を有することが好ましい。導電性層としては、特表2009−505358号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
被転写基材は、さらに少なくとも、耐傷層および防眩層のうち少なくとも一つを有することが好ましい。
転写層付き基材では、被転写基材は、この被転写基材表面に導電性層を有することが好ましい。導電性層としては、特表2009−505358号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
被転写基材は、さらに少なくとも、耐傷層および防眩層のうち少なくとも一つを有することが好ましい。
転写層付き基材では、被転写基材は、膜厚が40〜200μmであることが好ましく、40〜150μmであることがより好ましく、50〜120μmであることが特に好ましい。
また、転写工程におけるラミネートによる転写層2の密着性を高めるために、予め被転写基材(前面板)の非接触面に表面処理を施すことができる。表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理(シランカップリング処理)を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液(N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン0.3質量%水溶液、商品名:KBM603、信越化学(株)製)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネーターの被転写基材予備加熱を用いて反応を促進してもよい。
−転写材料を所望の形状に形成する工程−
転写層付き基材の製造方法は、(11)転写材料20から保護フィルム13を剥離する工程の前に、転写材料20を所望の形状に形成する工程を含んでいてもよい。転写材料20を所望の形状に形成する方法としては、特に制限はないが、仮支持体11、剥離層12および転写層2を含む転写材料20に対して、少なくとも転写層2を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れることが好ましい。切り込みの深さには、特に制限はない。
転写層付き基材の製造方法は、(11)転写材料20から保護フィルム13を剥離する工程の前に、転写材料20を所望の形状に形成する工程を含んでいてもよい。転写材料20を所望の形状に形成する方法としては、特に制限はないが、仮支持体11、剥離層12および転写層2を含む転写材料20に対して、少なくとも転写層2を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れることが好ましい。切り込みの深さには、特に制限はない。
転写材料20への切り込みを、面内方向に4カ所以上直線部分(本明細書中、「直線部分」とは直線状の部分を意味し、線分と同義である)を有するように入れることが好ましい。なお、転写材料20への切り込みは、「大半径の円弧」や「正弦波」で構成することもできるが、本発明の製造方法は特に直線部分を有する切り込みを入れるときに有用である。
本発明の製造方法は、転写材料20への切り込みを入れる方法としては特に制限はないが、トムソン刃加工またはレーザー光加工から選ばれる方法で入れることが好ましい。
転写材料20への切り込みの深さとしては、(A−1)転写材料20への切り込みを転写材料20の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れてもよく、(A−2)着色層を貫通し、かつ仮支持体11を貫通しない深さの切り込みを入れてもよい。
(A−1)転写材料20への切り込みを転写材料20の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることを打ち抜きともいう。なお、打ち抜きを(A)工程で行う場合は、後述の(B)転写材料20の面内方向の一部の領域から切り込みの深さまでの転写層2を取り除く工程も同時に行われることが好ましい。なお、打ち抜きと転写層の除去を同時に行うことを、「くり抜き」とも言う。
一方、(A−2)転写層2を貫通し、かつ仮支持体11を貫通しない深さの切り込みを入れることをハーフカットともいう。
これらの中でも、(A−1)転写材料20への切り込みを、転写材料20の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることが好ましい。
(A−1)転写材料20への切り込みを転写材料20の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることを打ち抜きともいう。なお、打ち抜きを(A)工程で行う場合は、後述の(B)転写材料20の面内方向の一部の領域から切り込みの深さまでの転写層2を取り除く工程も同時に行われることが好ましい。なお、打ち抜きと転写層の除去を同時に行うことを、「くり抜き」とも言う。
一方、(A−2)転写層2を貫通し、かつ仮支持体11を貫通しない深さの切り込みを入れることをハーフカットともいう。
これらの中でも、(A−1)転写材料20への切り込みを、転写材料20の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることが好ましい。
(打ち抜き方法)
転写材料20のうち抜きには、公知の手段を用いることが出来る。
機械式打ち抜き方法としては、例えば、トムソン刃による平抜き、ダイカットロールによる円筒抜きが挙げられる。
光学式打ち抜き方法としては、CO2レーザーカッターを挙げることができる。
また、枚葉式でも連続式(ロールトゥロール式)でもよい。
転写材料20のうち抜きには、公知の手段を用いることが出来る。
機械式打ち抜き方法としては、例えば、トムソン刃による平抜き、ダイカットロールによる円筒抜きが挙げられる。
光学式打ち抜き方法としては、CO2レーザーカッターを挙げることができる。
また、枚葉式でも連続式(ロールトゥロール式)でもよい。
機械式打ち抜き方法に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製 L−CPNC550などを挙げることができる。
(ハーフカット方法)
ハーフカット方法において、切り込みを入れる方法としては特に制限は無く、刃、レーザーなど任意の方法で切り込みを入れることができる。ハーフカット方法としては、刃で切り込みを入れることが好ましい。また、刃の構造は特に限定されることはない。
例えば、図13に示すように、刃30もしくはレーザーを用いて、保護フィルム13の上から、この保護フィルム13、転写層2および剥離層12を貫き、仮支持体11の一部にまで至る切り込みを入れることで、転写する転写層2(画像部)と転写しない転写層2(非画像部)の間を分離することができる。
ハーフカット方法において、切り込みを入れる方法としては特に制限は無く、刃、レーザーなど任意の方法で切り込みを入れることができる。ハーフカット方法としては、刃で切り込みを入れることが好ましい。また、刃の構造は特に限定されることはない。
例えば、図13に示すように、刃30もしくはレーザーを用いて、保護フィルム13の上から、この保護フィルム13、転写層2および剥離層12を貫き、仮支持体11の一部にまで至る切り込みを入れることで、転写する転写層2(画像部)と転写しない転写層2(非画像部)の間を分離することができる。
−(11)転写材料20から保護フィルム13を剥離する工程−
転写層付き基材の製造方法は、転写材料20から保護フィルム13を剥離する工程を含む。
図11に、転写材料20から、保護フィルム13を剥離する方法を示す。保護フィルム13を剥離する具体的な方法は特に制限は無い。転写材料20は、この転写材料20から保護フィルム13を剥離する工程において、保護フィルム13を転写材料20から剥がすときに、この保護フィルム13が転写層2から剥がれ、かつ、転写層2が剥離層12側に残る。
転写層付き基材の製造方法は、転写材料20から保護フィルム13を剥離する工程を含む。
図11に、転写材料20から、保護フィルム13を剥離する方法を示す。保護フィルム13を剥離する具体的な方法は特に制限は無い。転写材料20は、この転写材料20から保護フィルム13を剥離する工程において、保護フィルム13を転写材料20から剥がすときに、この保護フィルム13が転写層2から剥がれ、かつ、転写層2が剥離層12側に残る。
−(12)転写材料20の転写層2側を、前面板1に転写する工程−
転写層付き基材の製造方法は、転写材料20の転写層2側を、被転写基材(ガラス基材101aまたはフィルム基材101b)に転写する工程を含む。「転写材料20の転写層2側」とは、転写材料20から保護フィルム13を剥離した後に、この転写材料20の表面に露出した転写層2の側を意味する。
図12に、転写材料20から、転写層2(白色層2a)側を前面板1に転写する方法を示す。
転写層付き基材の製造方法は、少なくとも仮支持体11、剥離層12、遮光層2bおよび白色層2aを含む転写材料20を、前面板1上に転写することが好ましい。
転写層付き基材の製造方法は、二つの転写材料20を前面板1に転写するようにしてもよい。例えば、仮支持体11、剥離層12および遮光層2bを含む転写材料20と、仮支持体11、剥離層12および白色層2aの順に含む転写材料20とを、前面板1上に転写することにより、白色層2aおよび遮光層2bを形成するようにしてもよい。
あるいは、仮支持体11、剥離層12および白色層2aを有する転写材料20を前面板1上に転写した後にこの仮支持体11を取り除き、次いで仮支持体11、剥離層12および遮光層2bを含む転写材料20を白色層2a上に転写することにより白色層2aおよび遮光層2bを形成するようにしてもよい。
転写層付き基材の製造方法は、転写材料20の転写層2側を、被転写基材(ガラス基材101aまたはフィルム基材101b)に転写する工程を含む。「転写材料20の転写層2側」とは、転写材料20から保護フィルム13を剥離した後に、この転写材料20の表面に露出した転写層2の側を意味する。
図12に、転写材料20から、転写層2(白色層2a)側を前面板1に転写する方法を示す。
転写層付き基材の製造方法は、少なくとも仮支持体11、剥離層12、遮光層2bおよび白色層2aを含む転写材料20を、前面板1上に転写することが好ましい。
転写層付き基材の製造方法は、二つの転写材料20を前面板1に転写するようにしてもよい。例えば、仮支持体11、剥離層12および遮光層2bを含む転写材料20と、仮支持体11、剥離層12および白色層2aの順に含む転写材料20とを、前面板1上に転写することにより、白色層2aおよび遮光層2bを形成するようにしてもよい。
あるいは、仮支持体11、剥離層12および白色層2aを有する転写材料20を前面板1上に転写した後にこの仮支持体11を取り除き、次いで仮支持体11、剥離層12および遮光層2bを含む転写材料20を白色層2a上に転写することにより白色層2aおよび遮光層2bを形成するようにしてもよい。
転写層2がその形態を維持する観点から、この転写層2を前面板1に転写する際のこの前面板1の温度は、40〜130℃であることが好ましく、40〜110℃であることがより好ましく、40〜100℃であることが特に好ましい。
転写層2の前面板1表面への転写(貼り合わせ)は、この転写層2を前面板1の表面に重ねて、加圧及び加熱することによって行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
ラミネート方法は、打ち抜いた転写材料20を前面板1に転写する。このため、枚葉式であることが、精度よく、前面板1と転写材料20間に気泡が入らず、得率を上げられる観点から好ましい。
転写層2を前面板1の表面へ転写する方法としては、真空ラミネーターが好ましい。
ラミネート方法は、打ち抜いた転写材料20を前面板1に転写する。このため、枚葉式であることが、精度よく、前面板1と転写材料20間に気泡が入らず、得率を上げられる観点から好ましい。
転写層2を前面板1の表面へ転写する方法としては、真空ラミネーターが好ましい。
ラミネート(連続式及び枚葉式)に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製 V−SE340aaHなどを挙げることができる。
真空ラミネーター装置としては、例えば、高野精機有限会社製の装置や、大成ラミネーター株式会社製、FVJ−540R、FV700などを挙げることができる。
真空ラミネーター装置としては、例えば、高野精機有限会社製の装置や、大成ラミネーター株式会社製、FVJ−540R、FV700などを挙げることができる。
ラミネート時に気泡が侵入することを抑制する観点から、転写材料20を前面板1に貼り付ける前に、仮支持体11の転写層2と反対側に、支持体を積層する工程をさらに含むことが好ましい。このときに用いる支持体としては特に制限はないが、例えば、以下のものを挙げることができる。
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー。
また、膜厚は、50〜200μmの範囲で選ぶことが出来る。
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー。
また、膜厚は、50〜200μmの範囲で選ぶことが出来る。
−(13)転写層2から、剥離層12と仮支持体11を一度に剥離する工程−
転写層付き基材の製造方法は、転写層2から、剥離層12と仮支持体11を一度(同時)に剥離する工程を含む。仮支持体11を剥がすことによって、この仮支持体11及び剥離層12が、転写層2から剥がれる。
図12に、転写層2の遮光層2bから、剥離層12と仮支持体11とを一度に剥離する工程を示す。
ラミネート後、転写材料20からの剥離フィルムの剥離力(転写層2からの剥離層12の剥離力)は、400mN/m以下であることが好ましい。400mN/m以下であれば、剥離フィルムを剥がす際に、この剥離フィルムに粘着テープを貼り付けて、剥離フィルムごと粘着テープをはがすことで、転写層2に無用の影響を与えずに済む。
400mN/mを超える場合は、剥離フィルムを剥がす際に、例えば、転写層2と剥離フィルムとの間に薄い刃物や冶具を差し込んで剥がす必要があり、このとき、転写層2が傷つく可能性がある。また、転写層2にスティッキング等の跡がつき、転写層2の品質に好ましくない影響を与えることがある。
転写層付き基材の製造方法は、転写層2から、剥離層12と仮支持体11を一度(同時)に剥離する工程を含む。仮支持体11を剥がすことによって、この仮支持体11及び剥離層12が、転写層2から剥がれる。
図12に、転写層2の遮光層2bから、剥離層12と仮支持体11とを一度に剥離する工程を示す。
ラミネート後、転写材料20からの剥離フィルムの剥離力(転写層2からの剥離層12の剥離力)は、400mN/m以下であることが好ましい。400mN/m以下であれば、剥離フィルムを剥がす際に、この剥離フィルムに粘着テープを貼り付けて、剥離フィルムごと粘着テープをはがすことで、転写層2に無用の影響を与えずに済む。
400mN/mを超える場合は、剥離フィルムを剥がす際に、例えば、転写層2と剥離フィルムとの間に薄い刃物や冶具を差し込んで剥がす必要があり、このとき、転写層2が傷つく可能性がある。また、転写層2にスティッキング等の跡がつき、転写層2の品質に好ましくない影響を与えることがある。
−ポストベーク工程−
転写工程後にポストベーク工程を含むことが好ましい。
転写材料20の製造方法は、転写材料20の白色層2aおよび遮光層2bを0.08〜1.2atmの環境下で180〜300℃に加熱して形成することが、白色度と生産性の両立の観点から好ましい。
ポストベークの加熱は、0.5atm以上の環境下で行うことがより好ましく、1.1atm以下の環境下で行うことがさらに好ましく、1.0atm以下の環境下で行うことが特に好ましい。特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から、約1atm(大気圧)環境下で行うことがより特に好ましい。従来は、白色層2aおよび遮光層2bを加熱により硬化して形成する場合、非常に低い圧力の減圧環境下で行い、酸素濃度を低くすることでベーク後の白色度を維持していた。これに対して、転写材料20を用いることにより、上記圧力の範囲でベークした後も、転写層付き基材の白色層2aおよび遮光層2bの色味を改善し(b値を小さくし)、白色度を高めることができる。
ポストベークの温度は、200〜280℃であることがより好ましく、220〜260℃であることが特に好ましい。
ポストベークの時間は、20〜150分であることがより好ましく、30〜100分であることが特に好ましい。
ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよい。特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から、ポストベークは、空気環境下で行うことが、特に好ましい。
転写工程後にポストベーク工程を含むことが好ましい。
転写材料20の製造方法は、転写材料20の白色層2aおよび遮光層2bを0.08〜1.2atmの環境下で180〜300℃に加熱して形成することが、白色度と生産性の両立の観点から好ましい。
ポストベークの加熱は、0.5atm以上の環境下で行うことがより好ましく、1.1atm以下の環境下で行うことがさらに好ましく、1.0atm以下の環境下で行うことが特に好ましい。特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から、約1atm(大気圧)環境下で行うことがより特に好ましい。従来は、白色層2aおよび遮光層2bを加熱により硬化して形成する場合、非常に低い圧力の減圧環境下で行い、酸素濃度を低くすることでベーク後の白色度を維持していた。これに対して、転写材料20を用いることにより、上記圧力の範囲でベークした後も、転写層付き基材の白色層2aおよび遮光層2bの色味を改善し(b値を小さくし)、白色度を高めることができる。
ポストベークの温度は、200〜280℃であることがより好ましく、220〜260℃であることが特に好ましい。
ポストベークの時間は、20〜150分であることがより好ましく、30〜100分であることが特に好ましい。
ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよい。特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から、ポストベークは、空気環境下で行うことが、特に好ましい。
−その他の工程−
転写材料20の製造方法は、ポスト露光工程等、その他の工程を有していてもよい。
転写層2が光硬化性樹脂を有する場合に白色層2aおよび遮光層2bを形成するときは、ポスト露光工程を含むことが好ましい。ポスト露光工程は、白色層2aおよび遮光層2bの基材と接している側の表面方向のみから行っても、前面板1と接していない側の表面方向のみから行っても、両面方向から行ってもよい。
転写材料20の製造方法は、ポスト露光工程等、その他の工程を有していてもよい。
転写層2が光硬化性樹脂を有する場合に白色層2aおよび遮光層2bを形成するときは、ポスト露光工程を含むことが好ましい。ポスト露光工程は、白色層2aおよび遮光層2bの基材と接している側の表面方向のみから行っても、前面板1と接していない側の表面方向のみから行っても、両面方向から行ってもよい。
なお、露光工程およびその他の工程の例としては、特開2006−23696号公報の段落番号[0035]〜[0051]に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
[タッチパネル、タッチパネルの製造方法]
タッチパネル10は、転写層付き基材を有する。
タッチパネル10は、静電容量型入力装置であることが好ましい。
タッチパネル10の製造方法は、転写層付き基材を用い、以下の工程を含むことを特徴とする。
(21)転写層付き基材の転写層2側に導電性層を形成する。
(22)導電性層を一部除去し、電極パターンを形成する。
タッチパネル10は、転写層付き基材を有する。
タッチパネル10は、静電容量型入力装置であることが好ましい。
タッチパネル10の製造方法は、転写層付き基材を用い、以下の工程を含むことを特徴とする。
(21)転写層付き基材の転写層2側に導電性層を形成する。
(22)導電性層を一部除去し、電極パターンを形成する。
(21)転写層付き基材の転写層2側に導電性層を形成する工程
転写層付き基材は、遮光層2b上に、さらに導電性層を有することが好ましい。
導電性層としては、特表2009−505358号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
転写層付き基材は、遮光層2b上に、さらに導電性層を有することが好ましい。
導電性層としては、特表2009−505358号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
(22)導電性層を一部除去し、電極パターンを形成する工程
導電性層の構成や、この導電性層を一部除去して電極パターンを形成する工程、導電性層を一部除去して形成された電極パターン形状については、第一の透明電極パターン3、第二の電極パターン4および第三の導電性層6の説明として後述する。
転写層付き基材は、導電性層が、インジウム(ITOやインジウム合金など、インジウム含有化合物を含む)を含むことが好ましい。
転写層付き基材は高温処理後の白色層2aのb値が小さい場合は、導電層をスパッタにより蒸着してなる場合でも、得られた加飾付き基材の白色層2aのb値を小さくすることができる。
導電性層の構成や、この導電性層を一部除去して電極パターンを形成する工程、導電性層を一部除去して形成された電極パターン形状については、第一の透明電極パターン3、第二の電極パターン4および第三の導電性層6の説明として後述する。
転写層付き基材は、導電性層が、インジウム(ITOやインジウム合金など、インジウム含有化合物を含む)を含むことが好ましい。
転写層付き基材は高温処理後の白色層2aのb値が小さい場合は、導電層をスパッタにより蒸着してなる場合でも、得られた加飾付き基材の白色層2aのb値を小さくすることができる。
《タッチパネル10、およびタッチパネル10を構成要素として備えた情報入力装置》
タッチパネル10は、前面板1としての前面板と、この前面板の非接触側(図1A及び図1Bにおいて上側)に少なくとも下記(31)〜(34)の要素と、を有する転写層付き基材、を含むことが好ましい。
(31)遮光層2bおよび白色層2aを含む加飾材
(32)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の導電性層(第一の透明電極パターン3)
(33)第一の透明電極パターン3と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の導電性層(第二の電極パターン4)
(34)第一の透明電極パターン3と第二の電極パターン4とを電気的に絶縁する絶縁層5
第二の電極パターン4は、透明電極パターンであってもよい。
タッチパネル10は、下記(35)をさらに有していてもよい。
(35)第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方に電気的に接続され、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4とは別の導電性要素である第三の導電性層6(以下、単に「導電性要素6」という場合がある)
タッチパネル10は、前面板と、(31)遮光層2bおよび白色層2aを含む加飾材と、導電性層として(32)、(33)および(35)のうち少なくとも1つの電極パターンと、を有する積層体として転写層付き基材、を含むことがより好ましい。
タッチパネル10は、前面板1としての前面板と、この前面板の非接触側(図1A及び図1Bにおいて上側)に少なくとも下記(31)〜(34)の要素と、を有する転写層付き基材、を含むことが好ましい。
(31)遮光層2bおよび白色層2aを含む加飾材
(32)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の導電性層(第一の透明電極パターン3)
(33)第一の透明電極パターン3と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の導電性層(第二の電極パターン4)
(34)第一の透明電極パターン3と第二の電極パターン4とを電気的に絶縁する絶縁層5
第二の電極パターン4は、透明電極パターンであってもよい。
タッチパネル10は、下記(35)をさらに有していてもよい。
(35)第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方に電気的に接続され、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4とは別の導電性要素である第三の導電性層6(以下、単に「導電性要素6」という場合がある)
タッチパネル10は、前面板と、(31)遮光層2bおよび白色層2aを含む加飾材と、導電性層として(32)、(33)および(35)のうち少なくとも1つの電極パターンと、を有する積層体として転写層付き基材、を含むことがより好ましい。
<タッチパネル10の構成>
まず、タッチパネル10の構成について説明する。図1Aおよび図1Bは、タッチパネル10の好ましい構成を示す断面図である。図1Aにおいてタッチパネル10は、ガラス基材101aと、白色層2aと、遮光層2bと、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、透明保護層7と、から構成されている。
まず、タッチパネル10の構成について説明する。図1Aおよび図1Bは、タッチパネル10の好ましい構成を示す断面図である。図1Aにおいてタッチパネル10は、ガラス基材101aと、白色層2aと、遮光層2bと、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、透明保護層7と、から構成されている。
前面板は、透光性基材で構成されていることが好ましい。透光性基材は、ガラス基材101aに加飾材を設けた構成(図1A参照)、又は、ガラス基材101a、フィルム基材101bの順に積層して、このフィルム基材101bに加飾材を設けた構成(図1B参照)、いずれをも用いることが出来る。ガラス基材101aに加飾材を設けた構成は、タッチパネル10の薄型化の観点から好ましい。フィルム基材101bに加飾材を設け、それをカバーガラス101aに張り合わせた構成は、タッチパネル10の生産性の観点から好ましい。
フィルム基材101bの電極の反対側に、更に ガラス基材101aを設けるようにしてもよい。ガラス基材101aとしては、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また前面板1に対して各要素が設けられている側(図1A及び図1Bにおいて上側)を、「非接触面1a」と称する。タッチパネル10においては、前面板1の接触面(非接触面1aの反対の面、図1A及び図1Bにおいて下側)に、指などを接触させることによって所定の指示が入力される。
フィルム基材101bの電極の反対側に、更に ガラス基材101aを設けるようにしてもよい。ガラス基材101aとしては、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また前面板1に対して各要素が設けられている側(図1A及び図1Bにおいて上側)を、「非接触面1a」と称する。タッチパネル10においては、前面板1の接触面(非接触面1aの反対の面、図1A及び図1Bにおいて下側)に、指などを接触させることによって所定の指示が入力される。
前面板1の非接触面1a上には、加飾材として、白色層2aと遮光層2bとが設けられている。加飾材は、タッチパネル10の前面板の非接触側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンである。加飾材は、引回し配線等が見えないようにする目的や、加飾する目的として形成される。
タッチパネル10には、配線取出し口(不図示)を設けることができる。加飾材形成用の液体レジストやスクリーン印刷インクを用いて加飾材を形成する場合、配線取出し部からのレジスト成分のモレや、加飾材でのガラス端からのレジスト成分のはみ出しを生じて、前面板1の裏側を汚染することがある。これに対して、転写材料20を用いて加飾材を形成する場合、レジスト成分のモレやはみ出しを抑制して、基材裏側の汚染が防止される。
タッチパネル10には、配線取出し口(不図示)を設けることができる。加飾材形成用の液体レジストやスクリーン印刷インクを用いて加飾材を形成する場合、配線取出し部からのレジスト成分のモレや、加飾材でのガラス端からのレジスト成分のはみ出しを生じて、前面板1の裏側を汚染することがある。これに対して、転写材料20を用いて加飾材を形成する場合、レジスト成分のモレやはみ出しを抑制して、基材裏側の汚染が防止される。
前面板1の非接触面1aには、複数の第一の透明電極パターン3と、複数の第二の電極パターン4と、絶縁層5とが形成されている。第一の透明電極パターン3は、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成される。第二の透明電極パターン4は、第一の透明電極パターン3と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる。絶縁層5は、第一の透明電極パターン3と第二の透明電極パターン4とを電気的に絶縁する。
第一の透明電極パターン3と、第二の電極パターン4と、導電性要素6とは、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ITO膜;Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属膜;SiO2等の金属酸化膜などが挙げられる。
各要素の、膜厚は10〜200nmとすることができる。焼成して、アモルファスのITO膜を多結晶のITO膜とすることにより、電気的抵抗を低減することもできる。また、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、導電性要素6とは、導電性繊維を用いた光硬化樹脂層を有する転写フィルムを用いて製造することもできる。その他、ITO等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第4506785号公報の段落[0014]〜[0016]等を参考にすることができる。
第一の透明電極パターン3と、第二の電極パターン4と、導電性要素6とは、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ITO膜;Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属膜;SiO2等の金属酸化膜などが挙げられる。
各要素の、膜厚は10〜200nmとすることができる。焼成して、アモルファスのITO膜を多結晶のITO膜とすることにより、電気的抵抗を低減することもできる。また、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、導電性要素6とは、導電性繊維を用いた光硬化樹脂層を有する転写フィルムを用いて製造することもできる。その他、ITO等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第4506785号公報の段落[0014]〜[0016]等を参考にすることができる。
第一の透明電極パターン3および第二の電極パターン4の少なくとも一方は、前面板1の非接触面1a、および、遮光層2bの非接触側(図1Aおよび図1Bにおいて上側)の面、これら両方の領域にまたがって設置することができる。
図1Aおよび図1Bにおいては、第二の電極パターン4が前面板1の非接触面1a、および、遮光層2bの非接触側の面、これら両方の領域にまたがって設置され、白色層2aの側面を第二の透明電極パターン4が覆っている。
白色層2aの幅を、遮光層2bの幅よりも狭くすることもできる。その場合は、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方は、前面板1の非接触面1a、白色層2aおよび遮光層2bの非接触側の面の領域にまたがって設置することができる。
このように、一定の厚みが必要な白色層2aおよび遮光層2bを含む加飾材と、前面板1の裏面と、にまたがって転写フィルムをラミネートする場合でも、転写材料20(特に後述の熱可塑性樹脂層を有する転写材料)を用いることで真空ラミネーターなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程で加飾材の部分境界における泡の発生が抑制される。
図1Aおよび図1Bにおいては、第二の電極パターン4が前面板1の非接触面1a、および、遮光層2bの非接触側の面、これら両方の領域にまたがって設置され、白色層2aの側面を第二の透明電極パターン4が覆っている。
白色層2aの幅を、遮光層2bの幅よりも狭くすることもできる。その場合は、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方は、前面板1の非接触面1a、白色層2aおよび遮光層2bの非接触側の面の領域にまたがって設置することができる。
このように、一定の厚みが必要な白色層2aおよび遮光層2bを含む加飾材と、前面板1の裏面と、にまたがって転写フィルムをラミネートする場合でも、転写材料20(特に後述の熱可塑性樹脂層を有する転写材料)を用いることで真空ラミネーターなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程で加飾材の部分境界における泡の発生が抑制される。
−熱可塑性樹脂層−
導電性層などの形成に用いられる転写フィルムは、熱可塑性樹脂層を少なくとも1層有していてもよい。熱可塑性樹脂層は、仮支持体と光硬化樹脂層との間に設けられることが好ましい。すなわち、上記転写フィルムは、仮支持体、熱可塑性樹脂層および光硬化樹脂層をこの順で含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平5−72724号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーVicat法(具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーASTMD1235によるポリマー軟化点測定法)による軟化点が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。
導電性層などの形成に用いられる転写フィルムは、熱可塑性樹脂層を少なくとも1層有していてもよい。熱可塑性樹脂層は、仮支持体と光硬化樹脂層との間に設けられることが好ましい。すなわち、上記転写フィルムは、仮支持体、熱可塑性樹脂層および光硬化樹脂層をこの順で含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平5−72724号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーVicat法(具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーASTMD1235によるポリマー軟化点測定法)による軟化点が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。
熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、N−アルコキシメチル化ナイロン、N−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
熱可塑性樹脂層の厚みは6〜100μmが好ましく、6〜50μmがより好ましい。熱可塑性樹脂層の厚みが6〜100μmの範囲では、基材上に凹凸がある場合であってもこの凹凸を吸収することができる。
−中間層−
導電性層などの形成に用いられる転写フィルムは、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を少なくとも1層有していてもよい。中間層は、仮支持体と色材層との間(熱可塑性樹脂層を有する場合には、熱可塑性樹脂層と光硬化樹脂層との間)に設けられることが好ましい。すなわち、上記転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層および光硬化樹脂層をこの順で含むことが好ましい。
中間層としては、特開平5−72724号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
導電性層などの形成に用いられる転写フィルムは、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を少なくとも1層有していてもよい。中間層は、仮支持体と色材層との間(熱可塑性樹脂層を有する場合には、熱可塑性樹脂層と光硬化樹脂層との間)に設けられることが好ましい。すなわち、上記転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層および光硬化樹脂層をこの順で含むことが好ましい。
中間層としては、特開平5−72724号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
中間層の厚みは、0.1〜5.0μmが好ましく、0.5〜2.0μmがより好ましい。0.1〜5.0μmの範囲では酸素遮断能が低下することもなく、現像時または中間層除去時に時間がかかりすぎることもない。
−熱可塑性樹脂層を除去する工程、中間層を除去する工程−
さらに、導電性層などの形成に用いられる転写フィルムが熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程と有することが好ましい。
熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程は、一般にフォトリソ方式で使用されるアルカリ現像液を用いて行うことができる。アルカリ現像液としては、特に制約はなく、特開平5−72724号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。現像液は、加飾材が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、pKa=7〜13の化合物を0.05〜5mol/Lの濃度で含むものが好ましい。現像液には、水と混和性を有する有機溶剤を更に少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は0.1質量%〜30質量%が好ましい。
また、前記アルカリ現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は0.01質量%〜10質量%が好ましい。
さらに、導電性層などの形成に用いられる転写フィルムが熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程と有することが好ましい。
熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程は、一般にフォトリソ方式で使用されるアルカリ現像液を用いて行うことができる。アルカリ現像液としては、特に制約はなく、特開平5−72724号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。現像液は、加飾材が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、pKa=7〜13の化合物を0.05〜5mol/Lの濃度で含むものが好ましい。現像液には、水と混和性を有する有機溶剤を更に少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は0.1質量%〜30質量%が好ましい。
また、前記アルカリ現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は0.01質量%〜10質量%が好ましい。
熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程の方式としては、パドル、シャワー、シャワー&スピン、ディップ等のいずれでもよい。現像液をシャワーにより吹き付けることにより、熱可塑性樹脂層や中間層を除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、残渣を除去することが好ましい。液温度は20℃〜40℃が好ましく、また、pHは8〜13が好ましい。
図1Aおよび図1Bにおいて、遮光層2bの非接触側の面には、導電性要素6が設置されている。導電性要素6は、第一の透明電極パターン3および第二の電極パターン4の少なくとも一方に電気的に接続されており、第一の透明電極パターン3および第二の電極パターン4とは別の要素である。図1Aおよび図1Bにおいては、導電性要素6が第二の電極パターン4に接続されている。
図1Aおよび図1Bにおいては、各構成要素全体を覆うように透明保護層7が設置されている。透明保護層7は、各構成要素の一部のみを覆うように設置されていてもよい。透明保護層7は、絶縁層5と、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。透明保護層7と絶縁層5とを構成する材料としては、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが用いられる。
タッチパネル10、およびこのタッチパネル10を構成要素として備えた情報入力装置は、『最新タッチパネル技術』(2009年7月6日発行(株)テクノタイムズ)、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版(2004,12)、FPD International 2009 Forum T−11講演テキストブック、Cypress Semiconductor Corporation アプリケーションノートAN2292等に開示されている構成を適用することができる。
[情報表示装置]
情報表示装置は、タッチパネル10を有する。
タッチパネル10が用いられる情報表示装置としては、モバイル機器が好ましく、例えば、以下の情報表示装置を挙げることができる。
iPhone4、iPad(以上、米国 アップル社製)、Xperia(SO−01B)(ソニー・エリクソン・モバイルコミュニケーション社製)、Galaxy S(SC−02B)、Galaxy Tab(SC−01C)(以上、韓国 サムスン電子社製)、BlackBerry 8707h(加国 リサーチ・イン・モーション社製)、Kindle(米国 アマゾン社製)、Kobo Touch(楽天株式会社製)。
情報表示装置は、タッチパネル10を有する。
タッチパネル10が用いられる情報表示装置としては、モバイル機器が好ましく、例えば、以下の情報表示装置を挙げることができる。
iPhone4、iPad(以上、米国 アップル社製)、Xperia(SO−01B)(ソニー・エリクソン・モバイルコミュニケーション社製)、Galaxy S(SC−02B)、Galaxy Tab(SC−01C)(以上、韓国 サムスン電子社製)、BlackBerry 8707h(加国 リサーチ・イン・モーション社製)、Kindle(米国 アマゾン社製)、Kobo Touch(楽天株式会社製)。
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。下記実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は、本発明の範囲から逸脱しない限り適宜変更することができる。本発明は、以下に示す実施例に限定されるものではない。なお、下記実施例において、特に断りのない限り、「%」及び「部」はいずれも質量基準であり、分子量は重量平均分子量を表す。
[実施例1〜8および比較例2]
<黒色着色液および白色着色液の調製>
黒色着色液1、2及び白色着色液1〜3を調製した。黒色着色液1、2及び白色着色液1〜3の組成を、下記表1に示す。
<黒色着色液および白色着色液の調製>
黒色着色液1、2及び白色着色液1〜3を調製した。黒色着色液1、2及び白色着色液1〜3の組成を、下記表1に示す。
・黒色分散液(GB4016、山陽色素株式会社製、下記組成)
黒色顔料(カーボンブラック) 25.0質量%
分散助剤 9.5質量%
分散溶媒(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 65.5質量%
黒色顔料(カーボンブラック) 25.0質量%
分散助剤 9.5質量%
分散溶媒(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 65.5質量%
・白色分散液(FP White B422、山陽色素株式会社製、下記組成)
白色顔料(二酸化チタン) 70.0質量%
分散助剤 3.5質量%
分散溶媒(メチルエチルケトン) 26.5質量%
白色顔料(二酸化チタン) 70.0質量%
分散助剤 3.5質量%
分散溶媒(メチルエチルケトン) 26.5質量%
・シリコーン樹脂溶液1(KR300、信越シリコーン株式会社製、下記組成)
シリコーン樹脂のキシレン溶液(固形分50質量%)
シリコーン樹脂のキシレン溶液(固形分50質量%)
・シリコーン樹脂溶液2(KR311、信越シリコーン株式会社製、下記組成)
シリコーン樹脂のキシレン溶液(固形分60質量%)
シリコーン樹脂のキシレン溶液(固形分60質量%)
・シリコーン樹脂溶液3(KR251、信越シリコーン株式会社製、下記組成)
シリコーン樹脂のキシレン溶液(固形分20質量%)
シリコーン樹脂のキシレン溶液(固形分20質量%)
・シリコーン樹脂溶液4(X−40−9246、信越シリコーン株式会社製、下記組成)シリコーン樹脂(固形分100質量%)
・重合触媒(D−15、信越化学株式会社製、下記組成)
亜鉛含有触媒のキシレン溶液(固形分50質量%)
亜鉛含有触媒のキシレン溶液(固形分50質量%)
・塗布助剤(メガファックF−780F、DIC株式会社製、下記組成)
界面活性剤 30質量%
メチルエチルケトン 70質量%
界面活性剤 30質量%
メチルエチルケトン 70質量%
・アクリル樹脂溶液(下記組成)
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸ランダム共重合体
(モル比78/22、重量平均分子量 38,000) 27質量%
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート 73質量%
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸ランダム共重合体
(モル比78/22、重量平均分子量 38,000) 27質量%
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート 73質量%
・アクリルモノマー溶液(日本化薬株式会社製、下記組成)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 76質量%
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート 24質量%
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 76質量%
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート 24質量%
・有機溶媒1(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート)
・有機溶媒2(メチルエチルケトン)
・有機溶媒3(シクロヘキサノン)
・有機溶媒2(メチルエチルケトン)
・有機溶媒3(シクロヘキサノン)
<剥離フィルムの準備>
剥離層付きの仮支持体として、以下の剥離フィルムを準備した。
・ユニピール TR6(ユニチカ株式会社製、厚さ75μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が200nm隆起しているオレフィン系の剥離層を有する)
・6502(リンテック株式会社製、厚さ50μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が320nm隆起している非シリコーン系の剥離層を有する)
・セラピール BLK(東レフィルム加工株式会社製、厚さ50μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が200nm隆起している非シリコーン系の剥離層を有する)
・HP−A5(フジコー株式会社、厚さ75μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が400nm隆起している非シリコーン系の剥離層を有する)
・フィルムバイナ NSD(藤森工業株式会社、厚さ50μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が270nm隆起している非シリコーン系の剥離層を有する)
・東洋紡エステルフィルム TN110(東洋紡績株式会社製、厚さ75μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が320nm隆起しているシリコーン系の剥離層を有する)
剥離層付きの仮支持体として、以下の剥離フィルムを準備した。
・ユニピール TR6(ユニチカ株式会社製、厚さ75μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が200nm隆起しているオレフィン系の剥離層を有する)
・6502(リンテック株式会社製、厚さ50μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が320nm隆起している非シリコーン系の剥離層を有する)
・セラピール BLK(東レフィルム加工株式会社製、厚さ50μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が200nm隆起している非シリコーン系の剥離層を有する)
・HP−A5(フジコー株式会社、厚さ75μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が400nm隆起している非シリコーン系の剥離層を有する)
・フィルムバイナ NSD(藤森工業株式会社、厚さ50μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が270nm隆起している非シリコーン系の剥離層を有する)
・東洋紡エステルフィルム TN110(東洋紡績株式会社製、厚さ75μmのPETフィルム上に、剥離層からマット剤が320nm隆起しているシリコーン系の剥離層を有する)
<保護フィルムの準備>
次に、以下の保護フィルムを準備した。
・アルファンE−501(王子エフテックス株式会社製、厚さ12μmのポリプロピレンフィルム)
次に、以下の保護フィルムを準備した。
・アルファンE−501(王子エフテックス株式会社製、厚さ12μmのポリプロピレンフィルム)
<仮支持体上への色材層(遮光層および白色層からなる転写層)の作製>
E型塗布機を使用し、剥離層付きの仮支持体の剥離層上に、遮光層を形成するための上記表1に記載の黒色着色液1または2を、乾燥厚み2.0μmとなるように塗布し、乾燥させた。
遮光層の上に、白色層を形成するための上記表1に記載の白色着色液1〜3のいずれかを、乾燥厚み32.0μmとなるように塗布し、乾燥させた。
白色層の上に、上記の保護フィルムを圧着し、仮支持体幅260mm、転写層240mm、塗布長20mの転写材料を作製した。具体的な層の構成は下記表2のとおりである。得られた転写材料を、実施例1〜8および比較例2の転写材料とした。
E型塗布機を使用し、剥離層付きの仮支持体の剥離層上に、遮光層を形成するための上記表1に記載の黒色着色液1または2を、乾燥厚み2.0μmとなるように塗布し、乾燥させた。
遮光層の上に、白色層を形成するための上記表1に記載の白色着色液1〜3のいずれかを、乾燥厚み32.0μmとなるように塗布し、乾燥させた。
白色層の上に、上記の保護フィルムを圧着し、仮支持体幅260mm、転写層240mm、塗布長20mの転写材料を作製した。具体的な層の構成は下記表2のとおりである。得られた転写材料を、実施例1〜8および比較例2の転写材料とした。
<フィルム転写法による転写層付き基材の作製>
図2のような開口部8(15mmΦ)が形成された強化処理ガラス(300mm×400mm×0.7mm)を、25℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより20秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄した。このガラス基板を基材予備加熱装置で90℃、2分間予備加熱した。
図2のような開口部8(15mmΦ)が形成された強化処理ガラス(300mm×400mm×0.7mm)を、25℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより20秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄した。このガラス基板を基材予備加熱装置で90℃、2分間予備加熱した。
実施例1〜8および比較例2の転写材料を、ガラス基板の四辺に対応するサイズの額縁状に成形した後で、上記のガラス基板上に転写した。詳細を以下に示す。
転写材料を1辺が98mmとなり、更に額縁幅が10mmとなるよう、打ち抜く。1辺が120mm、厚さ100μmのPETシートを準備する。このPETシートの中心を基準に、1辺が90mmとなるように粘着剤SKダイン1604N(綜研化学(株))を塗布して、粘着フィルムを形成する。そして、このPETシートに、打ち抜いた転写材料の仮支持体側を貼り付ける。これとは別に、1辺が70mm、厚さ50μmのPETシートを準備して、粘着フィルムの粘着剤が転写材料を貼り付けた範囲外に影響しないように、このPETシートを貼り付ける。次に転写材料から保護フィルムを取り除く。次いで、1辺が100mmのガラス基板を準備する。ラミネート装置を用いて、転写材料を貼り付けたPETシート側から、粘着フィルムごとこの転写材料をガラス基板に転写する。転写材料をガラス基板に転写する際のガラス基板の温度は、40℃とした。ついで仮支持体を粘着シートごとガラスシートから取り除く。
こうして、転写層つきガラス基板を得る。
転写材料を1辺が98mmとなり、更に額縁幅が10mmとなるよう、打ち抜く。1辺が120mm、厚さ100μmのPETシートを準備する。このPETシートの中心を基準に、1辺が90mmとなるように粘着剤SKダイン1604N(綜研化学(株))を塗布して、粘着フィルムを形成する。そして、このPETシートに、打ち抜いた転写材料の仮支持体側を貼り付ける。これとは別に、1辺が70mm、厚さ50μmのPETシートを準備して、粘着フィルムの粘着剤が転写材料を貼り付けた範囲外に影響しないように、このPETシートを貼り付ける。次に転写材料から保護フィルムを取り除く。次いで、1辺が100mmのガラス基板を準備する。ラミネート装置を用いて、転写材料を貼り付けたPETシート側から、粘着フィルムごとこの転写材料をガラス基板に転写する。転写材料をガラス基板に転写する際のガラス基板の温度は、40℃とした。ついで仮支持体を粘着シートごとガラスシートから取り除く。
こうして、転写層つきガラス基板を得る。
<転写層付き基材の作製>
次いで、ITOスパッタを想定した、280℃、30分の加熱を行い、ガラス基板、白色層、遮光層がこの順で積層された実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材を得た。
次いで、ITOスパッタを想定した、280℃、30分の加熱を行い、ガラス基板、白色層、遮光層がこの順で積層された実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材を得た。
<剥離力の測定>
(1)保護フィルムを転写層から剥離する工程
保護フィルムと転写層(白色層)との間の剥離力を、以下の方法で測定した。その結果を下記表2に記載した。
1辺が100mmのガラス基板を準備する。ガラス基板上に、1辺が90mmの転写材料を保護フィルムが空気側となるように、仮支持体側を両面接着テープNo.5610(日東電工(株)製)を用いて貼り付ける。保護フィルムを一部剥離し、デジタル荷重機/引張圧縮試験機SV−55((株)今田製作所製)を用いて剥離力を測定する。
(1)保護フィルムを転写層から剥離する工程
保護フィルムと転写層(白色層)との間の剥離力を、以下の方法で測定した。その結果を下記表2に記載した。
1辺が100mmのガラス基板を準備する。ガラス基板上に、1辺が90mmの転写材料を保護フィルムが空気側となるように、仮支持体側を両面接着テープNo.5610(日東電工(株)製)を用いて貼り付ける。保護フィルムを一部剥離し、デジタル荷重機/引張圧縮試験機SV−55((株)今田製作所製)を用いて剥離力を測定する。
(2)転写層を被転写基材(ガラス基板)に転写し、仮支持体を剥離する工程
被転写基材(ガラス基板)と転写層(白色層)との間の剥離力を、以下の方法で測定した。その結果を下記表2に記載した。
1辺が100mmのガラス基板を準備する。1辺が90mmの転写材料を用意する。転写材料から保護フィルムを剥がした後、転写層をガラス基板側にして、40℃としたガラス基板にラミネートする。ラミネートした転写材料から仮支持体を一部剥離し、テンシロン万能試験機RTG−1210((株)エー・アンド・ディー製)を用いて剥離力を測定する。
被転写基材(ガラス基板)と転写層(白色層)との間の剥離力を、以下の方法で測定した。その結果を下記表2に記載した。
1辺が100mmのガラス基板を準備する。1辺が90mmの転写材料を用意する。転写材料から保護フィルムを剥がした後、転写層をガラス基板側にして、40℃としたガラス基板にラミネートする。ラミネートした転写材料から仮支持体を一部剥離し、テンシロン万能試験機RTG−1210((株)エー・アンド・ディー製)を用いて剥離力を測定する。
<評価>
(遮光層の品質)
得られた実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材について、色材層を基材に転写して、保護フィルム及び剥離層を剥離した後の遮光層の品質を、目視にて評価した。
色材層の転写性が良好であり、色材層の剥がれが無く、かつ、剥離層が色材層側に残らない(現像工程が不要となる)場合を、「良い」評価とした。
一方、色材層の転写性に問題があるか、色材層の剥がれがあるか、剥離層が色材層側に残る場合(現像工程が必要となる場合)は、いずれの場合も実用上問題がある。
評価した結果を下記表2に示した。
(遮光層の品質)
得られた実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材について、色材層を基材に転写して、保護フィルム及び剥離層を剥離した後の遮光層の品質を、目視にて評価した。
色材層の転写性が良好であり、色材層の剥がれが無く、かつ、剥離層が色材層側に残らない(現像工程が不要となる)場合を、「良い」評価とした。
一方、色材層の転写性に問題があるか、色材層の剥がれがあるか、剥離層が色材層側に残る場合(現像工程が必要となる場合)は、いずれの場合も実用上問題がある。
評価した結果を下記表2に示した。
(光学濃度)
上記で作製した実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材の、転写層(遮光層と白色層)と被転写基材との積層体の光学濃度を、サカタインクス株式会社製 BMT−1を用いて測定した。
評価した結果を下記表2に示した。
上記で作製した実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材の、転写層(遮光層と白色層)と被転写基材との積層体の光学濃度を、サカタインクス株式会社製 BMT−1を用いて測定した。
評価した結果を下記表2に示した。
(遮光層上の表面抵抗)
上記で作製した実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材の遮光層上の表面抵抗を、株式会社アドバンテスト製、R8340A ULTRA HIGH RESISTANCE METERを用いて測定した。
実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材の遮光層の表面抵抗が、25℃において1.0x1013Ω/□以上であることがわかった。
上記で作製した実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材の遮光層上の表面抵抗を、株式会社アドバンテスト製、R8340A ULTRA HIGH RESISTANCE METERを用いて測定した。
実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材の遮光層の表面抵抗が、25℃において1.0x1013Ω/□以上であることがわかった。
(表面元素分析)
上記で作製した実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材の遮光層上に、剥離層が残っていないことを確認するために、転写材料の状態での剥離層の表面と、転写層剥離後の剥離層の表面について、X線光電子分光分析装置(AXIS−HSi、(株)島津製作所製)を用い元素分析を行った。
結果を下記表2に示した。
なお、実施例1では、転写材料の状態(剥離前)での剥離層の表面にO,N,Cが確認され、転写層を剥離した後の剥離層の表面にO,N,C,Siが確認された。これは転写層を剥離した後に、剥離層が仮支持体側にあることを示している。
後述するように、剥離層を有していない比較例1では、転写材料の状態で仮支持体の表面元素を確認し、転写層を剥離した後にも仮支持体の表面を確認したところ、転写層を剥離した後に、仮支持体の表面にN、Siが観察された。これは仮支持体を剥離した時に遮光層が剥げたことを示している。
上記で作製した実施例1〜8および比較例2の転写層付き基材の遮光層上に、剥離層が残っていないことを確認するために、転写材料の状態での剥離層の表面と、転写層剥離後の剥離層の表面について、X線光電子分光分析装置(AXIS−HSi、(株)島津製作所製)を用い元素分析を行った。
結果を下記表2に示した。
なお、実施例1では、転写材料の状態(剥離前)での剥離層の表面にO,N,Cが確認され、転写層を剥離した後の剥離層の表面にO,N,C,Siが確認された。これは転写層を剥離した後に、剥離層が仮支持体側にあることを示している。
後述するように、剥離層を有していない比較例1では、転写材料の状態で仮支持体の表面元素を確認し、転写層を剥離した後にも仮支持体の表面を確認したところ、転写層を剥離した後に、仮支持体の表面にN、Siが観察された。これは仮支持体を剥離した時に遮光層が剥げたことを示している。
[比較例1]
剥離フィルムの代わりに、剥離層がない仮支持体(ユニピール TR6の剥離層が無い側のPETを使用した)上に色材層(遮光層および白色層からなる転写層)を作製した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例1と同様に、各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価とを行った。得られた結果を下記表2に示した。
下記表2中、比較例1の転写層と被転写基材の光学濃度は、遮光層が剥げたことにより光学濃度の低い部分ができたことを意味する。
剥離フィルムの代わりに、剥離層がない仮支持体(ユニピール TR6の剥離層が無い側のPETを使用した)上に色材層(遮光層および白色層からなる転写層)を作製した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例1と同様に、各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価とを行った。得られた結果を下記表2に示した。
下記表2中、比較例1の転写層と被転写基材の光学濃度は、遮光層が剥げたことにより光学濃度の低い部分ができたことを意味する。
[比較例3および5]
<熱可塑性樹脂層と中間層付き仮支持体の作製>
以下の方法で、仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層を形成した。
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方H1からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方P1からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。
<熱可塑性樹脂層と中間層付き仮支持体の作製>
以下の方法で、仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層を形成した。
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方H1からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方P1からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。
(熱可塑性樹脂層用塗布液:処方H1)
・メタノール :11.1質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート :6.36質量部
・メチルエチルケトン :52.4質量部
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジル
メタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=
55/11.7/4.5/28.8、分子量=10万、Tg≒70℃)
:5.83質量部
・スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=63/37、
重量平均分子量=1万、Tg≒100℃) :13.6質量部
・モノマー1(商品名:BPE−500、新中村化学工業(株)製)
:9.1質量部
・塗布助剤 :0.54質量部
なお、熱可塑性樹脂層用塗布液H1の溶剤除去後の120℃の粘度は1500Pa・s
ecであった。
・メタノール :11.1質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート :6.36質量部
・メチルエチルケトン :52.4質量部
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジル
メタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=
55/11.7/4.5/28.8、分子量=10万、Tg≒70℃)
:5.83質量部
・スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=63/37、
重量平均分子量=1万、Tg≒100℃) :13.6質量部
・モノマー1(商品名:BPE−500、新中村化学工業(株)製)
:9.1質量部
・塗布助剤 :0.54質量部
なお、熱可塑性樹脂層用塗布液H1の溶剤除去後の120℃の粘度は1500Pa・s
ecであった。
(中間層用塗布液:処方P1)
・ポリビニルアルコール :32.2質量部
(商品名:PVA205、(株)クラレ製、鹸化度=88%、重合度550)
・ポリビニルピロリドン :14.9質量部
(商品名:K−30、アイエスピー・ジャパン(株)製)
・蒸留水 :524質量部
・メタノール :429質量部
・ポリビニルアルコール :32.2質量部
(商品名:PVA205、(株)クラレ製、鹸化度=88%、重合度550)
・ポリビニルピロリドン :14.9質量部
(商品名:K−30、アイエスピー・ジャパン(株)製)
・蒸留水 :524質量部
・メタノール :429質量部
<転写材料の作製>
剥離フィルムの代わりに、得られた熱可塑性樹脂層と中間層付き仮支持体の中間層上に色材層を作製した以外は、実施例1と同様にして、比較例3の転写材料および転写層付き基材を作製した。
また、黒色着色液および白色着色液を変更した以外は、比較例3と同様にして、比較例5の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例1と同様に各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価を行った。得られた結果を下記表2に示した。
剥離フィルムの代わりに、得られた熱可塑性樹脂層と中間層付き仮支持体の中間層上に色材層を作製した以外は、実施例1と同様にして、比較例3の転写材料および転写層付き基材を作製した。
また、黒色着色液および白色着色液を変更した以外は、比較例3と同様にして、比較例5の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例1と同様に各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価を行った。得られた結果を下記表2に示した。
[比較例4]
実施例1に対し、保護フィルム無しとした以外は実施例1と同様にして、比較例4の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例1と同様に、各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価を行った。得られた結果を下記表2に示した。
実施例1に対し、保護フィルム無しとした以外は実施例1と同様にして、比較例4の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例1と同様に、各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価を行った。得られた結果を下記表2に示した。
上記表2より、実施例1〜8の転写材料は、色材層の転写性が良好であり、転写層を基材(ガラス基板)に転写してこの基材から仮支持体を剥離するときに色材層の剥がれが無く、かつ、剥離層が色材層側に残らない(転写層側に剥離層が付着せず、仮支持体と剥離層が一体ではがれる)ものであることがわかった。転写層への剥離層の剥がれ残りが生じた場合(剥離層の一部が転写層から剥がれずにこの転写層の表面に残った場合)には、この剥がれ残りを除去する工程(例えば、現像工程)が必要となる。これに対して、本実施例1〜8の転写材料によれば、剥離層の剥がれ残りが抑制されているため、この剥がれ残りを除去する工程が不要となる。
一方、比較例1より、転写材料に対する仮支持体(仮支持体と遮光層との間)の剥離力が所定の上限値を上回る転写材料を用いると、仮支持体を剥離した時に、遮光層が白色層から剥がれることがわかった。
比較例2より、剥離層と転写層(遮光層)との間の剥離力が、保護フィルムと転写層(白色層)との間の剥離力よりも小さい転写材料を用いると、保護フィルムに白色層が付き、所望の転写が出来ないことがわかった。
比較例3および5より、仮支持体と剥離層との間の剥離力が、剥離層と転写層(遮光層)との間の剥離力よりも小さい転写材料を用いると、仮支持体を剥離した際に、剥離層が遮光層に残る(現像工程が必要となってしまう)ことがわかった。
比較例4より、保護フィルムを用いない場合(保護フィルム無しの場合)、仮支持体の反塗布面に白色層が付き、所望の転写が出来ないことがわかった。具体的には、保護フィルムが存在しないため、比較例4の転写材料をロール状とした場合に、被転写基材に転写される白色層が仮支持体と接触した状態となる。このため、転写する前の段階において、白色層の表面は外部からの影響を受けやすくなる。したがって、比較例4の転写材料は、被転写基材に対する転写が不良となる。
一方、比較例1より、転写材料に対する仮支持体(仮支持体と遮光層との間)の剥離力が所定の上限値を上回る転写材料を用いると、仮支持体を剥離した時に、遮光層が白色層から剥がれることがわかった。
比較例2より、剥離層と転写層(遮光層)との間の剥離力が、保護フィルムと転写層(白色層)との間の剥離力よりも小さい転写材料を用いると、保護フィルムに白色層が付き、所望の転写が出来ないことがわかった。
比較例3および5より、仮支持体と剥離層との間の剥離力が、剥離層と転写層(遮光層)との間の剥離力よりも小さい転写材料を用いると、仮支持体を剥離した際に、剥離層が遮光層に残る(現像工程が必要となってしまう)ことがわかった。
比較例4より、保護フィルムを用いない場合(保護フィルム無しの場合)、仮支持体の反塗布面に白色層が付き、所望の転写が出来ないことがわかった。具体的には、保護フィルムが存在しないため、比較例4の転写材料をロール状とした場合に、被転写基材に転写される白色層が仮支持体と接触した状態となる。このため、転写する前の段階において、白色層の表面は外部からの影響を受けやすくなる。したがって、比較例4の転写材料は、被転写基材に対する転写が不良となる。
[実施例101:タッチパネルの作製]
《第一の透明電極パターンの形成》
<透明電極層の形成>
実施例1〜8の転写層付き基材を、真空チャンバー内に導入し、SnO2含有率が10質量%のITOターゲット(インジウム:錫=95:5(モル比))を用いて、DCマグネトロンスパッタリング(条件:基材の温度250℃、アルゴン圧0.13Pa、酸素圧0.01Pa)により、厚さ40nmのITO薄膜を形成して、透明電極層を形成した前面板(前面板A)を得た。ITO薄膜の表面抵抗は80Ω/□であった。
《第一の透明電極パターンの形成》
<透明電極層の形成>
実施例1〜8の転写層付き基材を、真空チャンバー内に導入し、SnO2含有率が10質量%のITOターゲット(インジウム:錫=95:5(モル比))を用いて、DCマグネトロンスパッタリング(条件:基材の温度250℃、アルゴン圧0.13Pa、酸素圧0.01Pa)により、厚さ40nmのITO薄膜を形成して、透明電極層を形成した前面板(前面板A)を得た。ITO薄膜の表面抵抗は80Ω/□であった。
<エッチング用転写フィルムE1の調製>
比較例5の転写材料の調製において、黒色着色液1を下記処方E1からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液に代え、白色着色液1を用いなかった以外はこの比較例5の転写材料の調製と同様にして、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層(酸素遮断膜)、エッチング用光硬化性樹脂層および保護フィルムとが一体となった、エッチング用転写フィルムE1を得た。エッチング用光硬化性樹脂層の膜厚は2.0μmであった。
比較例5の転写材料の調製において、黒色着色液1を下記処方E1からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液に代え、白色着色液1を用いなかった以外はこの比較例5の転写材料の調製と同様にして、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層(酸素遮断膜)、エッチング用光硬化性樹脂層および保護フィルムとが一体となった、エッチング用転写フィルムE1を得た。エッチング用光硬化性樹脂層の膜厚は2.0μmであった。
(エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液:処方E1)
・メチルメタクリレート/スチレン/メタクリル酸共重合体
(共重合体組成(質量%):31/40/29、質量平均分子量60000、
酸価163mgKOH/g) :16質量部
・モノマー1(商品名:BPE−500、新中村化学工業(株)製) :5.6質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノ
メタクリレート0.5モル付加物 :7質量部
・分子中に重合性基を1つ有する化合物としてのシクロヘキサンジ
メタノールモノアクリレート :2.8質量部
・2−クロロ−N−ブチルアクリドン :0.42質量部
・2,2−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
ビイミダゾール :2.17質量部
・ロイコクリスタルバイオレット :0.26質量部
・フェノチアジン :0.013質量部
・界面活性剤(商品名:メガファックF−780F、大日本インキ(株)製)
:0.03質量部
・メチルエチルケトン :40質量部
・1−メトキシ−2−プロパノール :20質量部
・メチルメタクリレート/スチレン/メタクリル酸共重合体
(共重合体組成(質量%):31/40/29、質量平均分子量60000、
酸価163mgKOH/g) :16質量部
・モノマー1(商品名:BPE−500、新中村化学工業(株)製) :5.6質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノ
メタクリレート0.5モル付加物 :7質量部
・分子中に重合性基を1つ有する化合物としてのシクロヘキサンジ
メタノールモノアクリレート :2.8質量部
・2−クロロ−N−ブチルアクリドン :0.42質量部
・2,2−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
ビイミダゾール :2.17質量部
・ロイコクリスタルバイオレット :0.26質量部
・フェノチアジン :0.013質量部
・界面活性剤(商品名:メガファックF−780F、大日本インキ(株)製)
:0.03質量部
・メチルエチルケトン :40質量部
・1−メトキシ−2−プロパノール :20質量部
<第一の透明電極パターンの形成>
上述した前面板Aを洗浄して、保護フィルムを除去したエッチング用転写フィルムE1をラミネートした(基材温度:130℃、ゴムローラー温度120℃、線圧100N/cm、搬送速度2.2m/分)。仮支持体を剥離後、露光マスク(透明電極パターンを有す石英露光マスク)面と該エッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を200μmに設定し、露光量50mJ/cm2(i線)でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液(トリエタノールアミン30質量%含有、商品名:T−PD2(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて25℃で100秒間処理し、界面活性剤含有洗浄液(商品名:T−SD3(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて33℃で20秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで熱可塑性樹脂層と中間層との残渣除去を行った。続いて、130℃、30分間のポストベーク処理を行って、白色層、遮光層、透明電極層、及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板(前面板B)を得た。
上述した前面板Aを洗浄して、保護フィルムを除去したエッチング用転写フィルムE1をラミネートした(基材温度:130℃、ゴムローラー温度120℃、線圧100N/cm、搬送速度2.2m/分)。仮支持体を剥離後、露光マスク(透明電極パターンを有す石英露光マスク)面と該エッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を200μmに設定し、露光量50mJ/cm2(i線)でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液(トリエタノールアミン30質量%含有、商品名:T−PD2(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて25℃で100秒間処理し、界面活性剤含有洗浄液(商品名:T−SD3(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて33℃で20秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで熱可塑性樹脂層と中間層との残渣除去を行った。続いて、130℃、30分間のポストベーク処理を行って、白色層、遮光層、透明電極層、及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板(前面板B)を得た。
前面板Bを、ITOエッチャント(塩酸、塩化カリウム水溶液。液温30℃)を入れたエッチング槽に浸漬し、100秒処理して、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去した。このようにして、白色層、遮光層及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板(前面板C)を得た。
次に、前面板Cを、レジスト剥離液(N−メチル−2−ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤(商品名:サーフィノール465、エアープロダクツ製)液温45℃)を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、200秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去した。このようにして、白色層と、遮光層と、前面板の非接触面および遮光層の非接触面側の面の両方の領域にまたがって設置された第一の透明電極パターン(図1A参照)とを形成した前面板(前面板D)を得た。
《絶縁層の形成》
<絶縁層形成用転写フィルムW1の調製>
比較例5の転写材料の調製において、黒色着色液1を下記処方W1からなる絶縁層形成用塗布液に代え、白色着色液1を用いなかった以外は、この比較例5と同様にして、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層(酸素遮断膜)、絶縁層用光硬化性樹脂層および保護フィルムとが一体となった、絶縁層形成用転写フィルムW1を得た。絶縁層用光硬化性樹脂層の膜厚は1.4μmであった。
<絶縁層形成用転写フィルムW1の調製>
比較例5の転写材料の調製において、黒色着色液1を下記処方W1からなる絶縁層形成用塗布液に代え、白色着色液1を用いなかった以外は、この比較例5と同様にして、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層(酸素遮断膜)、絶縁層用光硬化性樹脂層および保護フィルムとが一体となった、絶縁層形成用転写フィルムW1を得た。絶縁層用光硬化性樹脂層の膜厚は1.4μmであった。
(絶縁層形成用塗布液:処方W1)
・バインダー3(シクロヘキシルメタクリレート(a)/メチルメタクリレート(b)/メタクリル酸共重合体(c)のグリシジルメタクリレート付加物(d)(組成(質量%):a/b/c/d=46/1/10/43、質量平均分子量:36000、酸価66mgKOH/g)の1−メトキシ−2−プロパノール、メチルエチルケトン溶液(固形分:45%)) :12.5質量部
・DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬(株)製)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液(76質量%)
:1.4質量部
・ウレタン系モノマー(商品名:NKオリゴUA−32P、新中村化学(株)製:不揮発分75%、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:25%)
:0.68質量部
・トリペンタエリスリトールオクタアクリレート(商品名:V#802、大阪有機化学工業(株)製) :1.8質量部
・ジエチルチオキサントン :0.17質量部
・2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1− [4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン(商品名:Irgacure379、BASF製) :0.17質量部
・分散剤(商品名:ソルスパース20000、アビシア製) :0.19質量部
・界面活性剤(商品名:メガファックF−780F、大日本インキ製)
:0.05質量部
・メチルエチルケトン :23.3質量部
・MMPGAc(ダイセル化学(株)製) :59.8質量部
なお、絶縁層形成用塗布液W1の溶剤除去後の100℃の粘度は4000Pa・secであった。
・バインダー3(シクロヘキシルメタクリレート(a)/メチルメタクリレート(b)/メタクリル酸共重合体(c)のグリシジルメタクリレート付加物(d)(組成(質量%):a/b/c/d=46/1/10/43、質量平均分子量:36000、酸価66mgKOH/g)の1−メトキシ−2−プロパノール、メチルエチルケトン溶液(固形分:45%)) :12.5質量部
・DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬(株)製)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液(76質量%)
:1.4質量部
・ウレタン系モノマー(商品名:NKオリゴUA−32P、新中村化学(株)製:不揮発分75%、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:25%)
:0.68質量部
・トリペンタエリスリトールオクタアクリレート(商品名:V#802、大阪有機化学工業(株)製) :1.8質量部
・ジエチルチオキサントン :0.17質量部
・2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1− [4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン(商品名:Irgacure379、BASF製) :0.17質量部
・分散剤(商品名:ソルスパース20000、アビシア製) :0.19質量部
・界面活性剤(商品名:メガファックF−780F、大日本インキ製)
:0.05質量部
・メチルエチルケトン :23.3質量部
・MMPGAc(ダイセル化学(株)製) :59.8質量部
なお、絶縁層形成用塗布液W1の溶剤除去後の100℃の粘度は4000Pa・secであった。
前面板Dを洗浄して、保護フィルムを除去した絶縁層形成用転写フィルムW1をラミネートした(基材温度:100℃、ゴムローラー温度120℃、線圧100N/cm、搬送速度2.3m/分)。仮支持体を剥離後、露光マスク(絶縁層用パターンを有す石英露光マスク)面と該エッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を100μmに設定し、露光量30mJ/cm2(i線)でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液(トリエタノールアミン30質量%含有、商品名:T−PD2(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて33℃で60秒間処理し、炭酸ナトリウム/炭酸水素ナトリウム系現像液(商品名:T−CD1(富士フイルム(株)製)を純水で5倍に希釈した液)を用いて25℃で50秒間処理し、界面活性剤含有洗浄液(商品名:T−SD3(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて33℃で20秒間処理して、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行った。次いで、230℃、60分間のポストベーク処理を行って、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン及び絶縁層パターンを形成した前面板(前面板E)を得た。
《第二の透明電極パターンの形成》
<透明電極層の形成>
第一の透明電極パターンの形成と同様にして、前面板Eを、DCマグネトロンスパッタリング処理して(条件:基材の温度50℃、アルゴン圧0.13Pa、酸素圧0.01Pa)、厚さ80nmのITO薄膜を形成し、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン及び透明電極層を形成した前面板(前面板F)を得た。ITO薄膜の表面抵抗は110Ω/□であった。
<透明電極層の形成>
第一の透明電極パターンの形成と同様にして、前面板Eを、DCマグネトロンスパッタリング処理して(条件:基材の温度50℃、アルゴン圧0.13Pa、酸素圧0.01Pa)、厚さ80nmのITO薄膜を形成し、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン及び透明電極層を形成した前面板(前面板F)を得た。ITO薄膜の表面抵抗は110Ω/□であった。
第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用転写フィルムE1を用いて、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、透明電極層及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板(前面板G)を得た。ポストベーク処理は、130℃で30分間とした。
さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング(30℃、50秒間)して、エッチング用光硬化性樹脂層を除去(45℃、200秒間)した。このようにして、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、前面板の非接触面および遮光層の非接触面側の面の両方の領域にまたがって設置された第二の透明電極パターン(図1A参照)を形成した前面板(前面板H)を得た。
さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング(30℃、50秒間)して、エッチング用光硬化性樹脂層を除去(45℃、200秒間)した。このようにして、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、前面板の非接触面および遮光層の非接触面側の面の両方の領域にまたがって設置された第二の透明電極パターン(図1A参照)を形成した前面板(前面板H)を得た。
《第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素の形成》
第一および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、前面板Hを、DCマグネトロンスパッタリング処理し、厚さ200nmのアルミニウム(Al)薄膜を形成した前面板(前面板I)を得た。
第一および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、前面板Hを、DCマグネトロンスパッタリング処理し、厚さ200nmのアルミニウム(Al)薄膜を形成した前面板(前面板I)を得た。
第一および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用転写フィルムE1を用いて、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、アルミニウム薄膜及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板(前面板J)を得た(ポストベーク処理;130℃、30分間)。
さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング(30℃、50秒間)して、エッチング用光硬化性樹脂層を除去(45℃、200秒間)することにより、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、及び導電性要素を形成した前面板(前面板K)を得た。
さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング(30℃、50秒間)して、エッチング用光硬化性樹脂層を除去(45℃、200秒間)することにより、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、及び導電性要素を形成した前面板(前面板K)を得た。
《透明保護層の形成》
絶縁層の形成と同様にして、前面板Kに、保護フィルムを除去した絶縁層形成用転写フィルムW1をラミネートして、仮支持体を剥離後、露光マスクを介さずに露光量50mJ/cm2(i線)で前面露光し、現像、ポスト露光(1000mJ/cm2)、ポストベーク処理を行った。このようにして、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、及び導電性要素の全てを覆うように絶縁層(透明保護層)を積層した前面板(前面板L)(図1A参照)を得た。得られた前面板Lを実施例1〜8のタッチパネルとした。
絶縁層の形成と同様にして、前面板Kに、保護フィルムを除去した絶縁層形成用転写フィルムW1をラミネートして、仮支持体を剥離後、露光マスクを介さずに露光量50mJ/cm2(i線)で前面露光し、現像、ポスト露光(1000mJ/cm2)、ポストベーク処理を行った。このようにして、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、及び導電性要素の全てを覆うように絶縁層(透明保護層)を積層した前面板(前面板L)(図1A参照)を得た。得られた前面板Lを実施例1〜8のタッチパネルとした。
《情報表示装置の作製》
特開2009−47936公報に記載の方法で製造した液晶表示素子に、前面板L(実施例1〜8のタッチパネル)を貼り合せ、公知の方法でタッチパネルを構成要素として備えた実施例1〜8の情報表示装置を作製した。
特開2009−47936公報に記載の方法で製造した液晶表示素子に、前面板L(実施例1〜8のタッチパネル)を貼り合せ、公知の方法でタッチパネルを構成要素として備えた実施例1〜8の情報表示装置を作製した。
《前面板および情報表示装置の全体評価》
前面板L(実施例1〜8のタッチパネル)は、開口部、および裏面に汚れがなく、洗浄が容易であり、かつ、他部材の汚染がなかった。
また、白色層にはピンホールがなく、白色度、ムラも問題なかった。遮光層には同様にピンホールがなく、光遮蔽性に優れていた。
そして、第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターン、および導電性要素の、各々の導電性には問題がなかった。また、第一の透明電極パターンと第二の電極パターンとの間では絶縁性を有していた。
さらに、透明保護層にも気泡等の欠陥がなく、表示特性に優れた情報表示装置が得られた。
前面板L(実施例1〜8のタッチパネル)は、開口部、および裏面に汚れがなく、洗浄が容易であり、かつ、他部材の汚染がなかった。
また、白色層にはピンホールがなく、白色度、ムラも問題なかった。遮光層には同様にピンホールがなく、光遮蔽性に優れていた。
そして、第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターン、および導電性要素の、各々の導電性には問題がなかった。また、第一の透明電極パターンと第二の電極パターンとの間では絶縁性を有していた。
さらに、透明保護層にも気泡等の欠陥がなく、表示特性に優れた情報表示装置が得られた。
1 前面板
1a 非接触面
2 転写層(加飾材)
2a 白色層
2b 遮光層
3 第一の透明電極パターン
4 第二の電極パターン
5 絶縁層
6 導電性要素
7 透明保護層
8 開口部
10 タッチパネル
11 仮支持体
12 剥離層
13 保護フィルム
20 転写材料
30 刃
101a ガラス基材
101b フィルム基材
1a 非接触面
2 転写層(加飾材)
2a 白色層
2b 遮光層
3 第一の透明電極パターン
4 第二の電極パターン
5 絶縁層
6 導電性要素
7 透明保護層
8 開口部
10 タッチパネル
11 仮支持体
12 剥離層
13 保護フィルム
20 転写材料
30 刃
101a ガラス基材
101b フィルム基材
Claims (27)
- 仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、
前記保護フィルムが前記転写材料から剥がされる場合に、前記保護フィルムが前記転写層から剥がれ、かつ、前記転写層が前記剥離層側に残り、
前記転写層を、ガラスからなる被転写基材、または、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートまたはシクロオレフィンポリマーから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写後、前記仮支持体を剥がした場合に、前記剥離層が前記仮支持体とともに剥離されることを特徴とする、転写材料。
- 前記保護フィルムを前記転写材料から剥がすときの前記保護フィルムと前記転写層間の剥離力が、10〜200mN/mである、請求項1に記載の転写材料。
- 前記被転写基材に転写した前記転写層から、前記剥離層および前記仮支持体の積層体を剥離するときの剥離力が、40〜400mN/mである、請求項1または2に記載の転写材料。
- 前記剥離層が、マット剤を含み、前記剥離層から前記マット剤が150〜500nm隆起していることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記剥離層が、アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記剥離層が、アルキルジオールと2官能以上のイソシアネートとの縮重合体およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記転写層が少なくとも1層以上からなり、
前記転写層のうち少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記転写層が少なくとも2層からなり、
前記転写層のうち少なくとも1層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、
前記転写層のうち他の層が、バインダー樹脂を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記転写層のうち少なくとも1層に含まれる前記バインダー樹脂がシロキサン結合を有する、請求項7または8に記載の転写材料。
- 前記転写層のうち少なくとも1層が、前記顔料または染料として黒色顔料、黒色染料、および白色顔料、から選ばれる少なくとも1つの顔料または染料を含む、請求項7〜9のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記転写層が少なくとも2層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層が少なくとも1つの黒色顔料および黒色染料から選ばれる顔料または染料を含み、
前記転写層のうち前記保護フィルムと隣接する層が白色顔料を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記転写層が少なくとも2層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層側の層ほど光学濃度が大きい、請求項1〜11のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記転写層が少なくとも2層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層の光学濃度が1.0〜6.0である、請求項1〜12のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記転写層が少なくとも2層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層の膜厚が0.5〜3.0μmである、請求項1〜13のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記転写層が少なくとも2層からなり、
前記転写層のうち前記保護フィルム層と隣接する層の膜厚が5.0〜50.0μmである、請求項1〜14のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記仮支持体が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、およびシクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含む、請求項1〜15のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記保護フィルムが、ポリオレフィンフィルムである、請求項1〜16のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記被転写基材がガラスからなる、請求項1〜17のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記被転写基材がシクロオレフィンポリマーフィルムからなる、請求項1〜17のいずれか一項に記載の転写材料。
- 以下の(1)〜(3)の工程を含む、請求項1〜19のいずれか一項に記載の転写材料の製造方法。
(1)前記剥離層を有する前記仮支持体を準備する。
(2)前記仮支持体の前記剥離層側に前記転写層を形成する。
(3)前記転写層側に前記保護フィルムを貼合する。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載の転写材料を用い、以下の工程を含む、転写層付き基材の製造方法。
(11)前記転写材料から前記保護フィルムを剥離する。
(12)前記転写材料の前記転写層側を、前記ガラスからなる被転写基材、またはトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートまたはシクロオレフィンポリマーから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写する。
(13)前記転写層から、前記剥離層と前記仮支持体を一度に剥離する。
- 前記転写層を前記被転写基材に転写する際の前記被転写基材の温度が、40〜150℃である、請求項21に記載の転写層付き基材の製造方法。
- 請求項21または22に記載の転写層付き基材の製造方法で製造された転写層付き基材。
- 25℃における前記転写層の表面抵抗が1.0×1010Ω/□以上である、請求項23に記載の転写層付き基材。
- 請求項23または24に記載の転写層付き基材を用い、以下の工程を含む、タッチパネルの製造方法。
(21)前記転写層付き基材の前記転写層側に導電層を形成する。
(22)前記導電層を一部除去し、電極パターンを形成する。
- 請求項23または24に記載の転写層付き基材を含むタッチパネル。
- 請求項26に記載のタッチパネルを有する情報表示装置。
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