JPWO2014156783A1 - 香料組成物及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、ジヒドロジャスモン酸メチル及び下記化合物（Ｉ）を含有する香料組成物であって、該組成物中の、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９４．５〜９９質量％、下記化合物（Ｉ）の含有量が１〜５質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体濃度が２０モル％以上である香料組成物、並びに、ジヒドロジャスモン酸メチル及び前記化合物（Ｉ）を含有する組成物であって、該組成物中の、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９０〜９９．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が０．１〜１．５質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体濃度が２０モル％未満である組成物を、濃縮蒸留工程、及び、薄膜蒸留工程に順次供することを特徴とする前記香料組成物の製造方法である。
Description
本発明は、特定の立体異性体の存在割合が高いジヒドロジャスモン酸メチルを主成分とする香料組成物及びその製造方法に関する。
ジヒドロジャスモン酸アルキル類は、優れた香り強度を示すことから、有用な香気性化合物として知られており、種々の文献に、その製造方法等が開示されている（特許文献１、２、３等）。
一方、特許文献４には、２−置換−２−シクロペンテノンと２−置換−４−シクロペンテノンの混合割合が７０〜９５：５〜３０である混合物を原料として得られる、ジヒドロジャスモン酸アルキル類の混合物は、それぞれ単独で用いるよりも、香料としての伸び、残香性等の点で優れることが開示されている。
また、特許文献５には、シス体（エピ体）のジャスモン酸アルキル類の方が、トランス体のジャスモン酸アルキル類よりも香料として有用であること、及び、シス体の存在割合が低いジャスモン酸アルキル類から、シス体の存在割合が高いジャスモン酸アルキル類を得る方法が開示されている。
また、特許文献５には、シス体（エピ体）のジャスモン酸アルキル類の方が、トランス体のジャスモン酸アルキル類よりも香料として有用であること、及び、シス体の存在割合が低いジャスモン酸アルキル類から、シス体の存在割合が高いジャスモン酸アルキル類を得る方法が開示されている。
本発明は、香りにコクや深みがあり、残香性に優れ、質の高いジャスミン様香気を有する、特定の立体異性体の存在割合が高いジヒドロジャスモン酸メチルを主成分とする香料組成物、及び、その製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、シス体の存在割合が２０％以上であるジヒドロジャスモン酸メチルを主成分とし、下記化合物（Ｉ）を組成物全体の１〜５質量％含む香料組成物は、香りにコクや深みがあり、残香性に優れ、質の高いジャスミン様香気を発することを見出した。
そして、この香料組成物は、シス体の存在割合が低いジヒドロジャスモン酸メチルおよび前記化合物（Ｉ）を特定割合で含有する組成物を、異性化反応工程、濃縮蒸留工程、及び薄膜蒸留工程に順次供することで、目的とする香料組成物を簡便かつ効率よく得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
そして、この香料組成物は、シス体の存在割合が低いジヒドロジャスモン酸メチルおよび前記化合物（Ｉ）を特定割合で含有する組成物を、異性化反応工程、濃縮蒸留工程、及び薄膜蒸留工程に順次供することで、目的とする香料組成物を簡便かつ効率よく得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
かくして本発明によれば、下記（ａ）、（ｂ）の香料組成物、及び、（ｃ）〜（ｅ）の香料組成物の製造方法が提供される。
（ａ）ジヒドロジャスモン酸メチル及び下記化合物（Ｉ）を含有する香料組成物であって、該組成物中の、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９４．５〜９９質量％、下記化合物（Ｉ）の含有量が１〜５質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上であることを特徴とする香料組成物。
（ｂ）ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９９質量％以上、前記化合物（Ｉ）の含有量が１質量％未満であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上である香料組成物と、
ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が７０〜９４．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が５〜３０質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上である香料組成物とを混合して得られる、（ａ）記載の香料組成物。
ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が７０〜９４．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が５〜３０質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上である香料組成物とを混合して得られる、（ａ）記載の香料組成物。
（ｃ）ジヒドロジャスモン酸メチルおよび前記化合物（Ｉ）を含有する組成物であって、
該組成物中の、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９０〜９９．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が０．１〜１．５質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％未満である組成物（Ａ）を、濃縮蒸留工程、及び、薄膜蒸留工程に順次供する、（ａ）に記載の香料組成物の製造方法。
該組成物中の、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９０〜９９．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が０．１〜１．５質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％未満である組成物（Ａ）を、濃縮蒸留工程、及び、薄膜蒸留工程に順次供する、（ａ）に記載の香料組成物の製造方法。
（ｄ）前記組成物（Ａ）が、２−ペンチル−２−シクロペンテノンと２−ペンチル−４−シクロペンテノンの混合割合が、質量比で、（２−ペンチル−２−シクロペンテノン）：（２−ペンチル−４−シクロペンテノン）＝９５．５：４．５〜９９．５：０．５である原料組成物に、マロン酸ジメチルを反応させ、次いで脱炭酸して得られるジヒドロジャスモン酸メチルであって、シス体の存在割合が２０モル％未満であるものを主成分として含む反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）である、（ｃ）に記載の香料組成物の製造方法。
（ｅ）前記組成物（Ａ）が、２−ペンチル−２−シクロペンテノンと２−ペンチル−４−シクロペンテノンの混合割合が、質量比で、（２−ペンチル−２−シクロペンテノン）：（２−ペンチル−４−シクロペンテノン）＝９５．５：４．５〜９９．５：０．５である原料組成物に、マロン酸ジメチルを反応させ、次いで脱炭酸して得られるジヒドロジャスモン酸メチルであって、シス体の存在割合が２０モル％未満であるものを主成分として含む反応混合物（１）を、精製蒸留塔に送り、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を濃縮蒸留塔に供給し、前記濃縮蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（１８）と、
前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を薄膜蒸留器に供給し、前記薄膜蒸留器の塔頂部から得られる留分〔製品ＭＤＪ（８）〕との混合物とを、
バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔に供給し、異性化反応を行い、前記装置内でそのまま精製蒸留を行った後、該バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（２１）である、（ｄ）に記載の香料組成物の製造方法。
前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を薄膜蒸留器に供給し、前記薄膜蒸留器の塔頂部から得られる留分〔製品ＭＤＪ（８）〕との混合物とを、
バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔に供給し、異性化反応を行い、前記装置内でそのまま精製蒸留を行った後、該バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（２１）である、（ｄ）に記載の香料組成物の製造方法。
本発明の香料組成物は、香りにコクや深みがあり、残香性に優れ、質の高いジャスミン様香気を発するものである。
本発明の製造方法によれば、本発明の香料組成物を簡便かつ効率よく製造することができる。
本発明の製造方法は、濃縮蒸留工程で大量に留出する、シス体の存在割合の低いＭＤＪ留分を使用するものであるため、結果としてトータルの製品化率を大幅に向上させることができる。
本発明の製造方法によれば、本発明の香料組成物を簡便かつ効率よく製造することができる。
本発明の製造方法は、濃縮蒸留工程で大量に留出する、シス体の存在割合の低いＭＤＪ留分を使用するものであるため、結果としてトータルの製品化率を大幅に向上させることができる。
以下、本発明を、１）香料組成物、及び、２）香料組成物の製造方法、に項分けして、詳細に説明する。
１）香料組成物
本発明の香料組成物は、ジヒドロジャスモン酸メチル（以下、「ＭＤＪ」と略記することがある。）及び前記化合物（Ｉ）を含有する香料組成物であって、該組成物中のＭＤＪの含有量が９４．５〜９９質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が１〜５質量％であり、かつ、ＭＤＪにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上であることを特徴とする。
本発明の香料組成物は、ジヒドロジャスモン酸メチル（以下、「ＭＤＪ」と略記することがある。）及び前記化合物（Ｉ）を含有する香料組成物であって、該組成物中のＭＤＪの含有量が９４．５〜９９質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が１〜５質量％であり、かつ、ＭＤＪにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上であることを特徴とする。
本発明の香料組成物に含まれるＭＤＪには、下記に示すように、（１−ａ）〜（１−ｄ）で表される４種類の立体異性体が存在し得る。本発明においては、（１−ａ）で表される化合物と（１−ｂ）で表される化合物をあわせてシス体、（１−ｃ）で表される化合物と（１−ｄ）で表される化合物をあわせてトランス体という。
本発明の香料組成物におけるＭＤＪの含有量は、９４．５〜９９質量％、好ましくは、９６〜９８．８質量％である。
また、本発明の香料組成物におけるＭＤＪにおけるシス体の存在割合〔（シス体の存在量）／（シス体の存在量（モル）＋トランス体の存在量（モル））×１００（モル％）〕は、２０モル％以上であれば特に制約はないが、２０〜５０モル％であるのが好ましく、３０〜４５モル％であるのがより好ましい。
また、本発明の香料組成物におけるＭＤＪにおけるシス体の存在割合〔（シス体の存在量）／（シス体の存在量（モル）＋トランス体の存在量（モル））×１００（モル％）〕は、２０モル％以上であれば特に制約はないが、２０〜５０モル％であるのが好ましく、３０〜４５モル％であるのがより好ましい。
化合物（Ｉ）の含有量は、組成物全体の１〜５質量％であり、好ましくは２〜４質量％である。化合物（Ｉ）の含有量がこの範囲より少ないと、得られる香料組成物の香りのコクが物足りなくなり、多いと、重くオイリーな印象が強くなる。
上記のようなシス体存在割合のＭＤＪにおいて、化合物（Ｉ）の存在割合を上記範囲とすることで、得られる香料組成物が、残香性に優れ、コクや深みのある質の高いジャスミン様香気を発するものとなる。
なお、化合物（Ｉ）にも、ＭＤＪと同様に４種類の立体異性体が存在し得るが、本発明では、それら全ての立体異性体の合計量を化合物（Ｉ）の含有量とする。
上記のようなシス体存在割合のＭＤＪにおいて、化合物（Ｉ）の存在割合を上記範囲とすることで、得られる香料組成物が、残香性に優れ、コクや深みのある質の高いジャスミン様香気を発するものとなる。
なお、化合物（Ｉ）にも、ＭＤＪと同様に４種類の立体異性体が存在し得るが、本発明では、それら全ての立体異性体の合計量を化合物（Ｉ）の含有量とする。
本発明の香料組成物は、残香性に優れ、コクや深みのある質の高いジャスミン様香気を発するものである。本発明の香料組成物は、強いジャスミン様香気を有する香気成分として、香水、化粧品、食品調合香料として有用である。
２）香料組成物の製造方法
本発明の製造方法は、ＭＤＪ及び前記化合物（Ｉ）を含有する組成物であって、該組成物中の、ＭＤＪの含有量が９０〜９９．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が０．１５〜１．５質量％であり、かつ、ＭＤＪにおけるシス体の存在割合が、２０モル％未満、好ましくは１．５〜１２モル％である組成物（Ａ）を、濃縮蒸留工程、及び薄膜蒸留工程に順次供することを特徴とする。
本発明の製造方法は、ＭＤＪ及び前記化合物（Ｉ）を含有する組成物であって、該組成物中の、ＭＤＪの含有量が９０〜９９．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が０．１５〜１．５質量％であり、かつ、ＭＤＪにおけるシス体の存在割合が、２０モル％未満、好ましくは１．５〜１２モル％である組成物（Ａ）を、濃縮蒸留工程、及び薄膜蒸留工程に順次供することを特徴とする。
前記組成物（Ａ）は、例えば、前記特許文献５に記載の方法で得られる各留分をそのまま、あるいは各留分を適宜混合することで得ることができる。
前記組成物（Ａ）としては、より具体的には、下記（ｉ）〜（ｖｉｉ）の留分（または混合物）が挙げられる。
（ｉ）２−ペンチル−２−シクロペンテノンと２−ペンチル−４−シクロペンテノンの混合割合が、質量比で、（２−ペンチル−２−シクロペンテノン）：（２−ペンチル−４−シクロペンテノン）＝９５．５：４．５〜９９．５：０．５である原料組成物（Ｂ）に、マロン酸ジメチルを反応させ（マイケル付加反応）、次いで脱炭酸反応を行うことで得られるジヒドロジャスモン酸メチルであって、シス体の存在割合が２０モル％未満であるものを主成分として含む反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）
（ｉ）２−ペンチル−２−シクロペンテノンと２−ペンチル−４−シクロペンテノンの混合割合が、質量比で、（２−ペンチル−２−シクロペンテノン）：（２−ペンチル−４−シクロペンテノン）＝９５．５：４．５〜９９．５：０．５である原料組成物（Ｂ）に、マロン酸ジメチルを反応させ（マイケル付加反応）、次いで脱炭酸反応を行うことで得られるジヒドロジャスモン酸メチルであって、シス体の存在割合が２０モル％未満であるものを主成分として含む反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）
（ｉｉ）前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（３）と、
前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）との混合物
前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）との混合物
（ｉｉｉ）前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（３）を、異性化反応工程に供し、次いで、異性化反応により得られた反応混合物を濃縮蒸留塔に供給し、前記濃縮蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（１３）と、
前記反応混合物（１）を精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）との混合物
前記反応混合物（１）を精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）との混合物
（ｉｖ）前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を薄膜蒸留塔に供給し、薄膜蒸留を行った後に、前記薄膜蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（８）
（ｖ）前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（３）を、異性化反応工程に供し、次いで、異性化反応により得られた反応混合物を濃縮蒸留塔に供給し、前記濃縮蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（１３）と、
前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を薄膜蒸留塔に供給し、薄膜蒸留を行った後に、前記薄膜蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（８）との混合物
前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を薄膜蒸留塔に供給し、薄膜蒸留を行った後に、前記薄膜蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（８）との混合物
（ｖｉ）前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を薄膜蒸留塔に供給し、薄膜蒸留を行った後に、前記薄膜蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（８）と、
前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を、濃縮蒸留塔に供給し、濃縮蒸留を行った後に、前記濃縮蒸留塔の塔頂から得られる低沸点留分（１８）との混合物
前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を、濃縮蒸留塔に供給し、濃縮蒸留を行った後に、前記濃縮蒸留塔の塔頂から得られる低沸点留分（１８）との混合物
（ｖｉｉ）前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を薄膜蒸留塔に供給し、薄膜蒸留を行った後に、前記薄膜蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（８）と、
前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を、濃縮蒸留塔に供給し、濃縮蒸留を行った後に、前記濃縮蒸留塔の塔頂から得られる低沸点留分（１８）との混合を、異性化反応器に供給して異性化反応を行い、次いで精製蒸留塔で精製蒸留を行った後、該精製蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（２１）
前記反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を、濃縮蒸留塔に供給し、濃縮蒸留を行った後に、前記濃縮蒸留塔の塔頂から得られる低沸点留分（１８）との混合を、異性化反応器に供給して異性化反応を行い、次いで精製蒸留塔で精製蒸留を行った後、該精製蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（２１）
前記原料組成物（Ｂ）は、従来公知の方法、例えば、シクロペンタノンとバレロアルデヒドを、水酸化ナトリウム等の塩基触媒の存在下で反応（アルドール反応及び脱水反応）させた後、得られた反応混合物をブタノール等の適当な溶媒中、塩酸触媒の存在下で加熱して、脱水、異性化させる（脱水反応及び異性化反応）ことによって得ることができる（特許文献１、２等参照）。
反応混合物（１）は、このようにして得られた原料組成物（Ｂ）に、従来公知の方法（特許文献１、２等）により、マロン酸ジメチルを反応させ、次いで脱炭酸反応を行うことで得られるＭＤＪを主成分とする混合物である。ここで、反応混合物（１）中のＭＤＪの含有量は、通常、反応混合物（１）全体に対して、８０〜９９質量％であり、ＭＤＪのシス体の存在割合は１２モル％以下である。
図１に、本発明に用いる各留分を得るためのプロセスの概略図を示す。
図１において、２は精製蒸留塔を、９は異性化反応器を、１１は濃縮蒸留器を、６、及び１４は薄膜蒸留器を、１７はバッチ式濃縮蒸留塔を、２０はバッチ式異性化反応器・精製蒸留塔をそれぞれ示す。
以下、図１を参照して、上記（ｉ）〜（ｖｉｉ）の各留分（又は混合物）を得る方法を具体的に説明する。
図１において、２は精製蒸留塔を、９は異性化反応器を、１１は濃縮蒸留器を、６、及び１４は薄膜蒸留器を、１７はバッチ式濃縮蒸留塔を、２０はバッチ式異性化反応器・精製蒸留塔をそれぞれ示す。
以下、図１を参照して、上記（ｉ）〜（ｖｉｉ）の各留分（又は混合物）を得る方法を具体的に説明する。
〔精製蒸留工程〕
先ず、上記のようにして得られた反応混合物（１）を精製蒸留塔２に送り、そこで、精製蒸留を行う。
精製蒸留塔２としては、スルザーパッキング（ステンレスワイアで構成したメッシュストリップを平行に並べて一体構成に構成したパイ状充填物）をした充填塔を使用することが好ましい。
先ず、上記のようにして得られた反応混合物（１）を精製蒸留塔２に送り、そこで、精製蒸留を行う。
精製蒸留塔２としては、スルザーパッキング（ステンレスワイアで構成したメッシュストリップを平行に並べて一体構成に構成したパイ状充填物）をした充填塔を使用することが好ましい。
ここで行われる精製蒸留は高沸点化合物の蒸留であるため、通常、減圧下に行う。具体的には、一般に、減圧度が−９０〜−１０１．３ｋＰａＧ、好ましくは−９５〜−１０１．１ｋＰａＧ、塔頂温度が１００〜１２０℃、好ましくは１０５〜１１０℃、塔底温度が１６０〜１９０℃、好ましくは１７０〜１８０℃である。
反応混合物（１）は、精製蒸留塔２の中段に供給され、精製蒸留塔２の塔底部から、精製蒸留塔への供給量の約８０〜９０質量％の割合で高沸点留分（５）が抜き出される。
精製蒸留塔の塔頂部からは、精製蒸留塔への供給量の約１０〜２０質量％の低沸点留分（３）が抜き出される。
精製蒸留塔の塔頂部からは、精製蒸留塔への供給量の約１０〜２０質量％の低沸点留分（３）が抜き出される。
低沸点留分（３）の組成は、通常、ＭＤＪの含有量が、低沸点留分（３）全体に対して、９３〜９６質量％であり、ＭＤＪのシス体の存在割合が１．５〜４．５モル％であり、化合物（Ｉ）の含有量が、低沸点留分（３）全体に対し、０．０５〜０．３０質量％である。
低沸点留分（３）は、後述する異性化反応工程、濃縮蒸留工程に供され、（ｉｉｉ）又は（ｖ）の留分の一部とすることもできる。
低沸点留分（３）は、後述する異性化反応工程、濃縮蒸留工程に供され、（ｉｉｉ）又は（ｖ）の留分の一部とすることもできる。
前記高沸点留分（５）の組成は、通常、ＭＤＪの含有量が、高沸点留分（５）全体に対して、９７〜９９質量％であり、ＭＤＪのシス体の存在割合が１０〜１２モル％であり、化合物（Ｉ）の含有量が、高沸点留分（５）全体に対して、０．５〜１．２質量％である。
この高沸点留分（５）が、（ｉ）の組成物（Ａ）となる。また、低沸点留分（３）と混合することにより（ｉｉ）の組成物（Ａ）となる。但し、（ｉｉ）の組成物（Ａ）については、高沸点留分（５）と低沸点留分（３）との混合の比率を考慮する必要がある。
更に、この高沸点留分（５）は、低沸点留分（３）が、後述する異性化反応工程、濃縮蒸留工程に供され、得られた留分と混合され、（ｉｉｉ）の組成物（Ａ）となる。
この高沸点留分（５）が、（ｉ）の組成物（Ａ）となる。また、低沸点留分（３）と混合することにより（ｉｉ）の組成物（Ａ）となる。但し、（ｉｉ）の組成物（Ａ）については、高沸点留分（５）と低沸点留分（３）との混合の比率を考慮する必要がある。
更に、この高沸点留分（５）は、低沸点留分（３）が、後述する異性化反応工程、濃縮蒸留工程に供され、得られた留分と混合され、（ｉｉｉ）の組成物（Ａ）となる。
また、バッチ式異性化反応器・精製蒸留器２０においても、精製蒸留を行う。
塔底温度は、通常、１６０〜１９０℃、好ましくは１７０〜１８０℃である。
精製蒸留塔内の圧力は、特に制限されないが、通常、−９０〜−１０１．３ｋＰａＧ、好ましくは−９５〜−１０１．１ｋＰａＧである。
バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔２０からは、ＭＤＪの含有量が９４〜９９．９質量％、ＭＤＪのシス体の存在割合が１０モル％以上、通常、１０〜１２モル％に高められた留分（２１）が抜き出され、濃縮蒸留塔１７へ送られる。
塔底温度は、通常、１６０〜１９０℃、好ましくは１７０〜１８０℃である。
精製蒸留塔内の圧力は、特に制限されないが、通常、−９０〜−１０１．３ｋＰａＧ、好ましくは−９５〜−１０１．１ｋＰａＧである。
バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔２０からは、ＭＤＪの含有量が９４〜９９．９質量％、ＭＤＪのシス体の存在割合が１０モル％以上、通常、１０〜１２モル％に高められた留分（２１）が抜き出され、濃縮蒸留塔１７へ送られる。
〔異性化反応工程〕
前記低沸点留分（３）、又は（８）及び（１８）を、異性化反応工程に送ることで、ＭＤＪのシス体の存在割合を高めることができる。
異性化反応は、異性化反応器９中で低沸点留分（３）を、塩基又は酸の存在下に加熱することによって、または、バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔２０中で、製品ＭＤＪ（８）と後述する低沸点留分（１８）を、塩基又は酸の存在下に加熱することによって行われる。
前記低沸点留分（３）、又は（８）及び（１８）を、異性化反応工程に送ることで、ＭＤＪのシス体の存在割合を高めることができる。
異性化反応は、異性化反応器９中で低沸点留分（３）を、塩基又は酸の存在下に加熱することによって、または、バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔２０中で、製品ＭＤＪ（８）と後述する低沸点留分（１８）を、塩基又は酸の存在下に加熱することによって行われる。
用いる塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩；炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩；炭酸水素カルシウム等のアルカリ土類金属の炭酸水素塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；等が挙げられる。
酸としては、例えば、ダイアイオン、ダウエックス、アンバーライト等のイオン交換樹脂；塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸；酢酸、トシル酸、シュウ酸等の有機酸；等が挙げられる。
塩基又は酸触媒の使用量は、用いる触媒にもよるが、ＭＤＪに対して、通常１０〜１０００ｐｐｍ、好ましくは５０〜２００ｐｐｍである。
酸としては、例えば、ダイアイオン、ダウエックス、アンバーライト等のイオン交換樹脂；塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸；酢酸、トシル酸、シュウ酸等の有機酸；等が挙げられる。
塩基又は酸触媒の使用量は、用いる触媒にもよるが、ＭＤＪに対して、通常１０〜１０００ｐｐｍ、好ましくは５０〜２００ｐｐｍである。
異性化反応は、溶媒を存在させてもよいが、無溶媒下で行うことが好ましい。
異性化反応器９での異性化反応は、加熱温度を、通常、１６０〜１９０℃、好ましくは１７５〜１７７℃で、加熱時間を、通常、５〜１１時間程度で行う。また、反応系内の圧力は、特に制限されないが、通常、−９０〜−１０１．３ｋＰａＧ、好ましくは−９５〜−１０１．１ｋＰａＧである。
異性化反応器９からは、ＭＤＪの含有量が９４〜９８質量％、ＭＤＪのシス体の存在割合が１０モル％以上、通常、１０〜１２モル％に高められたガス状生成物（１０）が、前記精製蒸留塔２への供給量の約１０〜２０質量％の割合で連続的に抜き出され、濃縮蒸留器１１へ送られる。
バッチ式異性化反応器・精製蒸留器２０での異性化反応は、加熱温度が、通常、１６０〜１９０℃、好ましくは１７０〜１８０℃で、加熱時間が、通常、１〜１０時間程度で行う。また、反応系内の圧力は、特に制限されないが、通常、−５０〜＋１００ｋＰａＧ、好ましくは０〜５０ｋＰａＧである。
バッチ式異性化反応器・精製蒸留器２０での異性化反応は、加熱温度が、通常、１６０〜１９０℃、好ましくは１７０〜１８０℃で、加熱時間が、通常、１〜１０時間程度で行う。また、反応系内の圧力は、特に制限されないが、通常、−５０〜＋１００ｋＰａＧ、好ましくは０〜５０ｋＰａＧである。
〔濃縮蒸留工程〕
濃縮蒸留工程は、通常、ＭＤＪのシス体の存在割合を高めるために行われる工程である。すなわち、異性化反応器９から抜き出されたガス状生成物（１０）は、濃縮蒸留器１１で濃縮蒸留される。また、精製蒸留塔２で得られた高沸点留分（５）は、バッチ式濃縮蒸留塔１７で濃縮蒸留をされる。
濃縮蒸留塔においても、精製蒸留塔２と同様にスルザーパッキングをした蒸留塔を用いることが好ましい。
濃縮蒸留工程は、通常、ＭＤＪのシス体の存在割合を高めるために行われる工程である。すなわち、異性化反応器９から抜き出されたガス状生成物（１０）は、濃縮蒸留器１１で濃縮蒸留される。また、精製蒸留塔２で得られた高沸点留分（５）は、バッチ式濃縮蒸留塔１７で濃縮蒸留をされる。
濃縮蒸留塔においても、精製蒸留塔２と同様にスルザーパッキングをした蒸留塔を用いることが好ましい。
濃縮蒸留塔１１内行われる濃縮蒸留は、濃縮蒸留塔に供給されるガス状生成物１０の供給速度に、特に制限されないが、通常、毎時３５〜５０質量部、平均滞留時間は、通常６〜１０時間である。
濃縮蒸留器１１内及びバッチ式濃縮蒸留塔１７内の圧力は、通常、−９０〜−１０１．３ｋＰａＧ、好ましくは、−９５〜−１０１．１ｋＰａＧ、塔底温度は、通常１６０〜１８５℃、好ましくは１６５〜１８０℃、塔頂温度は、通常１００〜１５０℃、好ましくは１０５〜１４０℃である。
濃縮蒸留器１１内及びバッチ式濃縮蒸留塔１７内の圧力は、通常、−９０〜−１０１．３ｋＰａＧ、好ましくは、−９５〜−１０１．１ｋＰａＧ、塔底温度は、通常１６０〜１８５℃、好ましくは１６５〜１８０℃、塔頂温度は、通常１００〜１５０℃、好ましくは１０５〜１４０℃である。
濃縮蒸留器１１の塔頂部からは低沸点留分（１３）が、濃縮蒸留器１１への供給量約８０〜９０質量％の割合で連続的に抜き出される。低沸点留分（１３）の組成は、通常、ＭＤＪの存在量が、低沸点留分（１３）全体に対し、９１〜９５質量％であり、ＭＤＪのシス体の存在割合が２〜４モル％であり、化合物（Ｉ）の含有量が、低沸点留分（１３）全体に対し、０．１質量％未満である。
この低沸点留分（１３）は、前述の高沸点留分（５）と混合して、（ｉｉｉ）の組成物（Ａ）となる。
この低沸点留分（１３）は、前述の高沸点留分（５）と混合して、（ｉｉｉ）の組成物（Ａ）となる。
また、バッチ式濃縮蒸留塔の１７の塔頂部から抜き出される低沸点留分（１８）は、異性化反応器・精製蒸留塔２０へ供給される。低沸点留分（１８）の組成は、通常、ＭＤＪの存在量が、低沸点留分（１８）全体に対し、９５〜１００質量％であり、ＭＤＪのシス体の存在割合が２〜４モル％であり、化合物（Ｉ）の含有量が、低沸点留分（１３）全体に対し、０．１質量％未満である。
また、濃縮蒸留器１１の塔底からは、ＭＤＪのシス体の存在割合が３０〜４３モル％の高沸点留分（１２）が、毎時４〜８質量部の割合で抜き出される。また、バッチ式濃縮蒸留塔１７の塔底部からも、ＭＤＪのシス体の存在割合が３０〜４３モル％の高沸点留分（１９）が抜き出される。これらのものは、次の薄膜蒸留工程に供される。
また、濃縮蒸留器１１の塔底からは、ＭＤＪのシス体の存在割合が３０〜４３モル％の高沸点留分（１２）が、毎時４〜８質量部の割合で抜き出される。また、バッチ式濃縮蒸留塔１７の塔底部からも、ＭＤＪのシス体の存在割合が３０〜４３モル％の高沸点留分（１９）が抜き出される。これらのものは、次の薄膜蒸留工程に供される。
上記ようにして得られる低沸点留分（１３）と、前記高沸点留分（５）を合わせた留分が、（ｉｉｉ）の組成物（Ａ）となる。また、低沸点留分（１３）は、後述する薄膜蒸留工程で得られる留分（８）の製品ＭＤＪと混合して、（ｖ）の組成物（Ａ）となる。同様に、上記のようにして得られる低沸点留分（１８）は、後述する薄膜蒸留工程で得られる留分（８）の製品ＭＤＪと混合して、（ｖｉ）の組成物（Ａ）となる。
これらの混合比は、組成物（Ａ）の組成が、通常、ＭＤＪの含有量が、組成物（Ａ）全体に対して、９４〜９８質量％であり、ＭＤＪのシス体の存在割合が２．５〜１２モル％であり、化合物（Ｉ）の含有量が、組成物（Ａ）全体に対して、０．２〜１．２質量％となるような割合であればよい。
このような濃縮蒸留工程で大量に留出するシス体の存在割合が低いＭＤＪ留分を有効利用することで、製品化率を大幅に向上させることができる。
このような濃縮蒸留工程で大量に留出するシス体の存在割合が低いＭＤＪ留分を有効利用することで、製品化率を大幅に向上させることができる。
〔薄膜蒸留工程〕
前記高沸点留分（５）は、薄膜蒸留器６に送られ、そこで薄膜蒸留される。
薄膜蒸留によれば、処理液を薄膜にして、真空下でより低い温度で熱影響をおよぼさずに蒸留することができ、前記濃縮蒸留後の蒸留器に残る微量高沸点不純物や異臭成分等を簡便に取り除くことができる。
前記高沸点留分（５）は、薄膜蒸留器６に送られ、そこで薄膜蒸留される。
薄膜蒸留によれば、処理液を薄膜にして、真空下でより低い温度で熱影響をおよぼさずに蒸留することができ、前記濃縮蒸留後の蒸留器に残る微量高沸点不純物や異臭成分等を簡便に取り除くことができる。
薄膜蒸留器６における処理条件は、通常、圧力が−９０〜−１０１．３ｋＰａＧ、好ましくは−９５〜−１０１．３ｋＰａＧであり、処理温度が、通常１３５〜１４５℃である。
薄膜蒸留により、薄膜蒸留器６（薄膜蒸留塔）の塔頂部から、製品ＭＤＪの留分（８）が、精製蒸留塔２への供給量の約７７〜８７質量％の割合で得られる。
この製品ＭＤＪの留分（８）が、前記（ｉｖ）の組成物（Ａ）となる。また、この留分（８）と前記した低沸点留分（１３）との混合物が前記（ｖ）の組成物（Ａ）となり、前記した低沸点留分（１８）との混合物が前記（ｖｉ）の組成物（Ａ）となる。
この製品ＭＤＪの留分（８）が、前記（ｉｖ）の組成物（Ａ）となる。また、この留分（８）と前記した低沸点留分（１３）との混合物が前記（ｖ）の組成物（Ａ）となり、前記した低沸点留分（１８）との混合物が前記（ｖｉ）の組成物（Ａ）となる。
留分（８）の組成は、通常、ＭＤＪの含有量が、留分（８）全体に対し、９７．５〜９９．５質量％であり、ＭＤＪのシス体の存在割合が１０〜１２モル％であり、化合物（Ｉ）の含有量が、留分（８）全体に対し、０．５〜１．５質量％である。
なお、薄膜蒸留器６の底部からは、高沸点不純物を含有する高沸点留分（７）が、精製蒸留塔２への供給量の約３〜１３質量％の割合で連続的に抜き出される。高沸点留分７は廃棄されるほか、必要に応じて、再び、精製蒸留塔２への供給原料系４に戻され、生産効率の向上と廃棄物の削減を図ることができる。
本発明の香料組成物は、薄膜蒸留器１４による薄膜蒸留によって得ることができる。薄膜蒸留器１４の塔頂部からは、薄膜蒸留開始から１０時間の間に、毎時５〜６．５質量部の割合で、目的とする本発明の香料組成物（１６）が得られる。
薄膜蒸留により留出する蒸気の温度は、通常１３５〜１４５℃、好ましくは１３８〜１４２℃、器内圧力は、通常−９５〜−１０１．３ｋＰａＧである。
薄膜蒸留により留出する蒸気の温度は、通常１３５〜１４５℃、好ましくは１３８〜１４２℃、器内圧力は、通常−９５〜−１０１．３ｋＰａＧである。
なお、薄膜蒸留器１４の底部からは、高沸点不純物を含有する高沸点留分（１５）が、毎時０．１〜０．５質量部の割合で連続的に抜き出される。高沸点留分（１５）は廃棄されるほか、必要に応じて、再び、精製蒸留塔２への供給原料系４に戻され、生産効率の向上と廃棄物の削減を図ることができる。
〔組成物（Ａ）〕
前記組成物（Ａ）、より具体的には（ｉ）〜（ｖｉｉ）等として得られる組成物（Ａ）のそれぞれを、図１に示すように、濃縮蒸留工程、及び薄膜蒸留工程、若しくは異性化反応工程、精製蒸留工程、濃縮蒸留工程、及び薄膜蒸留工程に連続的に順次供することで、目的とする本発明の香料組成物を得ることができる。また、異性化反応工程、濃縮蒸留工程をバッチ式で行っても目的とする本発明の香料組成物を得ることができる。
前記組成物（Ａ）、より具体的には（ｉ）〜（ｖｉｉ）等として得られる組成物（Ａ）のそれぞれを、図１に示すように、濃縮蒸留工程、及び薄膜蒸留工程、若しくは異性化反応工程、精製蒸留工程、濃縮蒸留工程、及び薄膜蒸留工程に連続的に順次供することで、目的とする本発明の香料組成物を得ることができる。また、異性化反応工程、濃縮蒸留工程をバッチ式で行っても目的とする本発明の香料組成物を得ることができる。
本発明の香料組成物は、ジヒドロジャスモン酸メチル（ＭＤＪ）及び前記化合物（Ｉ）を含有する香料組成物であって、該組成物中のＭＤＪの含有量が９４．５〜９９質量％、化合物（Ｉ）の含有量が１〜５質量％であり、かつ、ＭＤＪにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上であり、上述の方法により製造することができる。また、本発明の香料組成物は、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９９質量％以上、化合物（Ｉ）の含有量が１質量％未満であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上である香料組成物と、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が７０〜９４．５質量％、化合物（Ｉ）の含有量が５〜３０質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上である香料組成物とを混合することによっても得ることができる。
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらによって何ら制限されるものではない。
（製造例１）
従来公知の方法（例えば、特許文献１、２に記載された方法）により、シクロペンタノンとバレロアルデヒドを水酸化ナトリウム触媒の存在下で反応させてアルドール体を得、このものをブタノール溶媒中、塩酸触媒で脱水、異性化させ、２−ペンチル−２−シクロペンテノン（ＰＰＥＮ）を製造した。反応混合物を蒸留精製し、ＰＰＥＮの含有量９８．６質量％、ＰＰＥＮと２−ペンチル−４−シクロペンテンの混合割合が、９８．７：１．３の原料組成物（Ｂ１）を得た。
従来公知の方法（例えば、特許文献１、２に記載された方法）により、シクロペンタノンとバレロアルデヒドを水酸化ナトリウム触媒の存在下で反応させてアルドール体を得、このものをブタノール溶媒中、塩酸触媒で脱水、異性化させ、２−ペンチル−２−シクロペンテノン（ＰＰＥＮ）を製造した。反応混合物を蒸留精製し、ＰＰＥＮの含有量９８．６質量％、ＰＰＥＮと２−ペンチル−４−シクロペンテンの混合割合が、９８．７：１．３の原料組成物（Ｂ１）を得た。
（実施例１）
製造例１で得られた原料組成物（Ｂ１）に、従来公知の方法（例えば、特許文献１、２等）により、マロン酸ジメチルをマイケル付加させた後、脱炭酸させた。得られた反応混合物を単蒸留し、ＭＤＪの含有量が９７．５質量％（シス体の存在割合：１０．５モル％）、化合物（Ｉ）の含有量が１．０質量％の、反応混合物（１Ａ）を得た。
製造例１で得られた原料組成物（Ｂ１）に、従来公知の方法（例えば、特許文献１、２等）により、マロン酸ジメチルをマイケル付加させた後、脱炭酸させた。得られた反応混合物を単蒸留し、ＭＤＪの含有量が９７．５質量％（シス体の存在割合：１０．５モル％）、化合物（Ｉ）の含有量が１．０質量％の、反応混合物（１Ａ）を得た。
得られた反応混合物（１Ａ）を、時間あたり１００質量部の割合で、図１に示す蒸留塔カラム部にスルーザーパックドカラムを設置した精製蒸留塔２の中段へ供給し、塔底温度１７０〜１８０℃、圧力−９５．０〜−９８．０ｋＰａＧ、還流比３．５〜７．０の条件で精製蒸留を行った。
精製蒸留塔２の塔頂部からは、ＭＤＪの含有量が約９３〜９５質量％、シス体の存在割合：２〜４モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．１６〜０．２０質量％の低沸点留分（３）を毎時１５質量部の割合で連続的に抜き出した。低沸点留分（３）は、異性化反応器９へ供給して使用した。
また、精製蒸留塔２の塔底部からは、ＭＤＪの含有量が９８．８質量％、シス体の存在割合が１１．０モル％、化合物（Ｉ）の含有量が１．１質量％の高沸点留分（５）を毎時８５質量部の割合で連続的に抜き出した。
得られた留分（５）１０００質量部を、蒸留塔カラム部にスルーザーパックドカラムを設置したバッチ式濃縮蒸留塔１７に仕込み、塔底温度１６５〜１７５℃、塔頂温度１３０〜１４０℃、圧力−９５．０〜−９８．０ｋＰａＧ、還流比３．５〜７．０の条件で濃縮蒸留を行った。
また、精製蒸留塔２の塔底部からは、ＭＤＪの含有量が９８．８質量％、シス体の存在割合が１１．０モル％、化合物（Ｉ）の含有量が１．１質量％の高沸点留分（５）を毎時８５質量部の割合で連続的に抜き出した。
得られた留分（５）１０００質量部を、蒸留塔カラム部にスルーザーパックドカラムを設置したバッチ式濃縮蒸留塔１７に仕込み、塔底温度１６５〜１７５℃、塔頂温度１３０〜１４０℃、圧力−９５．０〜−９８．０ｋＰａＧ、還流比３．５〜７．０の条件で濃縮蒸留を行った。
別途、得られた留分（５）を毎時８５質量部で薄膜蒸留器６へ送り、蒸気温度１４０℃、器内圧力−９５〜−１０１．３ｋＰａＧの条件で薄膜蒸留を行った。薄膜蒸留器の頭頂部からＭＤＪの含有量が９８．８質量％、シス体の存在割合が１１．０モル％、化合物Ｉの含有量が１．１質量％の製品ＭＤＪ（日本ゼオン社製、商品名：ＣＬＡＩＧＥＯＮ（登録商標））を毎時８１質量部で得た。
前記バッチ式濃縮蒸留塔１７の塔頂部より、低沸点留分として６０質量部を留去した後、ＭＤＪの含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合：２．５モル％、化合物Ｉの含有量が０質量％のＭＤＪ低シス体留分（１８ａ）６９９質量部を抜き出した。
塔底部から、ＭＤＪの含有量が９３．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物Ｉの含有量が４．９質量％の高シス留分（１９ａ）２３７質量部を抜き出した。そのうち、１３７質量部を毎時６質量部で薄膜蒸留器１４へ送り、蒸気温度１４０℃、器内圧力−９５〜−１０１．３ｋＰａＧの条件で薄膜蒸留を行った。薄膜蒸留器１４の塔底部からは、高沸点留分１５を毎時０．３質量部の割合で連続的に抜き出し、精製蒸留塔２への供給原料系４へとリサイクルした。
薄膜蒸留器１４の塔頂部からは、ＭＤＪの含有量が９４．９質量％、シス体の存在割合が３２．４モル％、化合物（Ｉ）の含有量が４．９質量％のＭＤＪ高シス体留分を毎時５．７質量部の割合で抜き出し、合計で１２３質量部の留分（１６ａ）が得られた。この留分をＭＤＪ組成物Ａとした。
塔底部から、ＭＤＪの含有量が９３．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物Ｉの含有量が４．９質量％の高シス留分（１９ａ）２３７質量部を抜き出した。そのうち、１３７質量部を毎時６質量部で薄膜蒸留器１４へ送り、蒸気温度１４０℃、器内圧力−９５〜−１０１．３ｋＰａＧの条件で薄膜蒸留を行った。薄膜蒸留器１４の塔底部からは、高沸点留分１５を毎時０．３質量部の割合で連続的に抜き出し、精製蒸留塔２への供給原料系４へとリサイクルした。
薄膜蒸留器１４の塔頂部からは、ＭＤＪの含有量が９４．９質量％、シス体の存在割合が３２．４モル％、化合物（Ｉ）の含有量が４．９質量％のＭＤＪ高シス体留分を毎時５．７質量部の割合で抜き出し、合計で１２３質量部の留分（１６ａ）が得られた。この留分をＭＤＪ組成物Ａとした。
（実施例２）
実施例１において、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）７７質量部と同じく実施例１で得られたＭＤＪの含有量が９８．８質量％、シス体の存在割合が１１．０モル％、化合物Ｉの含有量が１．１質量％の製品ＭＤＪ（日本ゼオン社製、商品名：ＣＬＡＩＧＥＯＮ（登録商標））２３質量部とをバッチ式異性化反応器・精製蒸留塔２０で混合した後、炭酸ナトリウム０．０１質量部を添加して、０〜３０ｋＰａＧ、１７５〜１７７℃で３時間加熱して異性化反応を実施した。次いで、この反応液を反応器温度１６０〜１８０℃、圧力−９５．０〜−９８．０ｋＰａＧの条件で精製蒸留し、塔頂部より、ＭＤＪの含有量が９９．６質量％、シス体の存在割合が１０．９モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．３質量％の留分（２１ａ）を９０質量部抜き出した。
実施例１において、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）７７質量部と同じく実施例１で得られたＭＤＪの含有量が９８．８質量％、シス体の存在割合が１１．０モル％、化合物Ｉの含有量が１．１質量％の製品ＭＤＪ（日本ゼオン社製、商品名：ＣＬＡＩＧＥＯＮ（登録商標））２３質量部とをバッチ式異性化反応器・精製蒸留塔２０で混合した後、炭酸ナトリウム０．０１質量部を添加して、０〜３０ｋＰａＧ、１７５〜１７７℃で３時間加熱して異性化反応を実施した。次いで、この反応液を反応器温度１６０〜１８０℃、圧力−９５．０〜−９８．０ｋＰａＧの条件で精製蒸留し、塔頂部より、ＭＤＪの含有量が９９．６質量％、シス体の存在割合が１０．９モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．３質量％の留分（２１ａ）を９０質量部抜き出した。
更に、この留分（２１ａ）を、バッチ式濃縮蒸留塔１７に送り、その後実施例１と同様にして、濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪの含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が２．４モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（１８ｂ）６３質量部と塔底部よりＭＤＪの含有量が９７．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が１．１質量％の留分（１９ｂ）２１質量部を得た。この留分（１９ｂ）を薄膜蒸留装置１４に送り、実施例１と同様に薄膜蒸留を実施し、塔頂部からＭＤＪの含有量が９８．６質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が１．１質量％の留分（１６ｂ）１９質量部を得た。この留分をＭＤＪ組成物Ｂとした。
（実施例３）
実施例２において、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）７７質量部と製品ＭＤＪ２３質量部を、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）３６質量部と製品ＭＤＪ６４質量部に変更した以外は、実施例２と同様にして、異性化反応、精製蒸留を実施し、塔頂部より、ＭＤＪの含有量が９９．１質量％、シス体の存在割合が１１．１モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．７３質量％の留分（２１ｂ）を抜き出した。
更に、この留分（２１ｂ）を、実施例１と同様にして濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が２．５モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（１８ｃ）６２質量部と塔底部からＭＤＪ含有量が９５．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が３．１質量％の留分（１９ｃ）２２質量部を得た。
この留分（１９ｃ）は、実施例１と同様にして、更に薄膜蒸留装置１４により薄膜蒸留を実施し、塔頂部からＭＤＪ含有量が９６．６質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が３．１質量％の留分（１６ｃ）２０質量部を得た。この留分をＭＤＪ組成物Ｃとした。
実施例２において、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）７７質量部と製品ＭＤＪ２３質量部を、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）３６質量部と製品ＭＤＪ６４質量部に変更した以外は、実施例２と同様にして、異性化反応、精製蒸留を実施し、塔頂部より、ＭＤＪの含有量が９９．１質量％、シス体の存在割合が１１．１モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．７３質量％の留分（２１ｂ）を抜き出した。
更に、この留分（２１ｂ）を、実施例１と同様にして濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が２．５モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（１８ｃ）６２質量部と塔底部からＭＤＪ含有量が９５．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が３．１質量％の留分（１９ｃ）２２質量部を得た。
この留分（１９ｃ）は、実施例１と同様にして、更に薄膜蒸留装置１４により薄膜蒸留を実施し、塔頂部からＭＤＪ含有量が９６．６質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が３．１質量％の留分（１６ｃ）２０質量部を得た。この留分をＭＤＪ組成物Ｃとした。
（比較例１）
実施例１で得られたＭＤＪの含有量が９３．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が４．９質量％の留分（１９ａ）１００質量部についても、実施例２と同様にして、異性化反応、精製蒸留を実施し、塔頂部より、ＭＤＪ含有量が９４．０質量％、シス体の存在割合が１０．９モル％、化合物（Ｉ）含有量が４．８質量％の留分（２３ｃ）９０質量部を抜き出した。
更に、この留分（２１ｃ）を、実施例１と同様にして濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．８質量％、シス体の存在割合が２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．１質量％の留分（１８ｄ）６３質量部と塔底部よりＭＤＪ含有量が７８．５質量％、シス体の存在割合が３２．１モル％、化合物Ｉの含有量が２０．８質量％の留分（１９ｄ）２１質量部を得た。
この留分（１９ｄ）は、実施例１と同様にして、更に薄膜蒸留装置１４により薄膜蒸留を実施し、塔頂部からＭＤＪ含有量が７９．０質量％、シス体の存在割合が３２．１モル％、化合物（Ｉ）の含有量が２０．７質量％の留分（１６ｄ）１９質量部を得た。この留分（１６ｄ）をＭＤＪ組成物Ｄとした。
実施例１で得られたＭＤＪの含有量が９３．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が４．９質量％の留分（１９ａ）１００質量部についても、実施例２と同様にして、異性化反応、精製蒸留を実施し、塔頂部より、ＭＤＪ含有量が９４．０質量％、シス体の存在割合が１０．９モル％、化合物（Ｉ）含有量が４．８質量％の留分（２３ｃ）９０質量部を抜き出した。
更に、この留分（２１ｃ）を、実施例１と同様にして濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．８質量％、シス体の存在割合が２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．１質量％の留分（１８ｄ）６３質量部と塔底部よりＭＤＪ含有量が７８．５質量％、シス体の存在割合が３２．１モル％、化合物Ｉの含有量が２０．８質量％の留分（１９ｄ）２１質量部を得た。
この留分（１９ｄ）は、実施例１と同様にして、更に薄膜蒸留装置１４により薄膜蒸留を実施し、塔頂部からＭＤＪ含有量が７９．０質量％、シス体の存在割合が３２．１モル％、化合物（Ｉ）の含有量が２０．７質量％の留分（１６ｄ）１９質量部を得た。この留分（１６ｄ）をＭＤＪ組成物Ｄとした。
（実施例４）
実施例２において、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）７７質量部と製品ＭＤＪ２３質量部を、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）１００質量部に変更した以外は、実施例２と同様にして、異性化反応、精製蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が１１．０モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（２１ｄ）９０質量部を抜き出した。
更に、この留分（２１ｄ）を、実施例１と同様にして濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が２．４モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（２０ｅ）６３質量部と塔底部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（１９ｅ）２１質量部を得た。 この留分（１９ｅ）は、実施例１と同様にして、更に薄膜蒸留装置１４により薄膜蒸留を実施し、塔頂部からＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（１６ｅ）１９質量部を得た。この留分をＭＤＪ標準品１とした。
次いで、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を５質量％と、留分（１６ｅ）を９５質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量が９８．６質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が１．２質量％のＭＤＪ組成物Ｅを得た。
実施例２において、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）７７質量部と製品ＭＤＪ２３質量部を、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）１００質量部に変更した以外は、実施例２と同様にして、異性化反応、精製蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が１１．０モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（２１ｄ）９０質量部を抜き出した。
更に、この留分（２１ｄ）を、実施例１と同様にして濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が２．４モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（２０ｅ）６３質量部と塔底部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（１９ｅ）２１質量部を得た。 この留分（１９ｅ）は、実施例１と同様にして、更に薄膜蒸留装置１４により薄膜蒸留を実施し、塔頂部からＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（１６ｅ）１９質量部を得た。この留分をＭＤＪ標準品１とした。
次いで、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を５質量％と、留分（１６ｅ）を９５質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量が９８．６質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が１．２質量％のＭＤＪ組成物Ｅを得た。
（実施例５）
実施例４と同様にして、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を１５質量％と、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を８５質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量が９６．８質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が３．１質量％のＭＤＪ組成物Ｆを得た。
実施例４と同様にして、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を１５質量％と、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を８５質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量が９６．８質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が３．１質量％のＭＤＪ組成物Ｆを得た。
（実施例６）
実施例４と同様にして、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を２２質量％と、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を７８質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量が９５．３質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が４．６質量％のＭＤＪ組成物Ｇを得た。
実施例４と同様にして、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を２２質量％と、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を７８質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量が９５．３質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が４．６質量％のＭＤＪ組成物Ｇを得た。
（比較例２）
実施例１において、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）９０質量部と、精製蒸留塔２の塔底部から抜き出した留分（５）１０質量部を混合し、実施例２と同様の方法で、異性化反応、精製蒸留を実施し、塔頂部より、ＭＤＪ含有量が９９．８質量％、シス体の存在割合が１１．２モル％、化合物（Ｉ）の含有量：０．１質量％の留分（２１Ｅ）９０質量部を抜き出した。
更に、この留分（２１Ｅ）を、実施例１と同様に濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が２．４モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（２０ｆ）６３質量部と塔底部よりＭＤＪ含有量が９９．２質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．５質量％の留分（１９ｆ）２１質量部を得た。
この留分（１９ｆ）は、実施例１と同様にして、更に薄膜蒸留装置１４により薄膜蒸留を実施して、塔頂部からＭＤＪ含有量が９９．４質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．５質量％の留分（１６ｆ）１９質量部を得た。この留分（１６ｆ）をＭＤＪ組成物Ｈとした。
実施例１において、塔頂から抜き出した留分（１８ａ）９０質量部と、精製蒸留塔２の塔底部から抜き出した留分（５）１０質量部を混合し、実施例２と同様の方法で、異性化反応、精製蒸留を実施し、塔頂部より、ＭＤＪ含有量が９９．８質量％、シス体の存在割合が１１．２モル％、化合物（Ｉ）の含有量：０．１質量％の留分（２１Ｅ）９０質量部を抜き出した。
更に、この留分（２１Ｅ）を、実施例１と同様に濃縮蒸留を実施し、塔頂部よりＭＤＪ含有量が９９．９質量％、シス体の存在割合が２．４モル％、化合物（Ｉ）を含有しない留分（２０ｆ）６３質量部と塔底部よりＭＤＪ含有量が９９．２質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．５質量％の留分（１９ｆ）２１質量部を得た。
この留分（１９ｆ）は、実施例１と同様にして、更に薄膜蒸留装置１４により薄膜蒸留を実施して、塔頂部からＭＤＪ含有量が９９．４質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．５質量％の留分（１６ｆ）１９質量部を得た。この留分（１６ｆ）をＭＤＪ組成物Ｈとした。
（比較例３）
実施例４と同様にして、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を９８質量％、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を２質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量の９９．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．４質量％のＭＤＪ組成物Ｉを得た。
実施例４と同様にして、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を９８質量％、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を２質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量の９９．５質量％、シス体の存在割合が３２．３モル％、化合物（Ｉ）の含有量が０．４質量％のＭＤＪ組成物Ｉを得た。
（比較例４）
実施例４と同様にして、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を６６質量％、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を３４質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量の９２．８質量％、シス体の存在割合が３２．２モル％、化合物（Ｉ）の含有量が７．０４質量％のＭＤＪ組成物Ｊを得た。
実施例４と同様にして、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を６６質量％、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を３４質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量の９２．８質量％、シス体の存在割合が３２．２モル％、化合物（Ｉ）の含有量が７．０４質量％のＭＤＪ組成物Ｊを得た。
（比較例５）
実施例４と同様にして、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を５０質量％、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を５０質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量の８９．５質量％、シス体の存在割合が３２．２モル％、化合物Ｉの含有量が１０．４質量％のＭＤＪ組成物Ｋを得た。
実施例４と同様にして、実施例４で得られた留分（１６ｅ）を５０質量％、比較例１で得られた留分（１６ｄ）を５０質量％の割合で混合して、化合物（Ｉ）の濃度を調整し、ＭＤＪ含有量の８９．５質量％、シス体の存在割合が３２．２モル％、化合物Ｉの含有量が１０．４質量％のＭＤＪ組成物Ｋを得た。
実施例１〜６、及び比較例１〜５で得られたＭＤＪ組成物Ａ〜Ｋにおいて、ＭＤＪの含有量（質量％）、ＭＤＪにおけるシス体の存在割合（モル％）、及び、化合物（Ｉ）の含有量（質量％）を、標準品の組成とともに下記表１にまとめた。
〈ＭＤＪ組成物の評価〉
実施例１〜６、比較例１〜５において、ＭＤＪ組成物Ａ〜Ｋについて、香り評価を実施した。
実施例１〜６、比較例１〜５において、ＭＤＪ組成物Ａ〜Ｋについて、香り評価を実施した。
〔香り評価方法〕
５人のパネラーにより、化合物（Ｉ）を含まないＭＤＪ標準品との比較官能試験を行い
、下記に示すように、５段階評価をしてもらった。５人の評点を平均して香りの評価とし、平均点が４点以上を効果があると判断した。また、香りに関するコメントも記載してもらった。
下記表２に評価結果を示す。
５人のパネラーにより、化合物（Ｉ）を含まないＭＤＪ標準品との比較官能試験を行い
、下記に示すように、５段階評価をしてもらった。５人の評点を平均して香りの評価とし、平均点が４点以上を効果があると判断した。また、香りに関するコメントも記載してもらった。
下記表２に評価結果を示す。
〔香り評価の指標及び点数〕
１点：劣っている。
２点：やや劣っている。
３点：変わらない。
４点：やや優れている。
５点：優れている。
表２中、上段に評価者の評価点を、下段に評価者のコメントを示す。
１点：劣っている。
２点：やや劣っている。
３点：変わらない。
４点：やや優れている。
５点：優れている。
表２中、上段に評価者の評価点を、下段に評価者のコメントを示す。
上記香り評価から、化合物（Ｉ）が含有されることにより、ジヒドロジャスモン酸メチルのジャスミン様の香りのコクや深みが増し、残香性が向上することがわかった。
しかし、化合物（Ｉ）の含有量が多すぎると、重くオイリーな印象が強くなる（比較例４、５）。化合物（Ｉ）の含有量は１〜５質量％の範囲が良いといえる。
しかし、化合物（Ｉ）の含有量が多すぎると、重くオイリーな印象が強くなる（比較例４、５）。化合物（Ｉ）の含有量は１〜５質量％の範囲が良いといえる。
１・・・反応混合物
２・・・精製蒸留塔
３・・・塔頂部からの低沸点留分
４・・・リサイクルされた留分
５・・・塔底部からの高沸点留分
６・・・薄膜蒸留器
７・・・塔底部から抜出された高沸点留分（高ＭＤＪ濃度・低シス体留分）
８・・・塔頂部からの留分（製品ＭＤＪ）
９・・・異性化反応器
１０・・・ガス状異性化反応生成物
１１・・・濃縮蒸留器
１２・・・塔底部からの高沸点留分
１３・・・塔頂部からの低沸点留分
１４・・・薄膜蒸留器
１５・・・精製蒸留塔２へ戻される高沸点留分
１６・・・ＭＤＪ組成物（香料組成物）
１７・・・バッチ式濃縮蒸留塔
１８・・・塔頂部からの低沸点留分
１９・・・塔底部からの高沸点留分
２０・・・バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔
２１・・・塔頂部からの高沸点留分
２・・・精製蒸留塔
３・・・塔頂部からの低沸点留分
４・・・リサイクルされた留分
５・・・塔底部からの高沸点留分
６・・・薄膜蒸留器
７・・・塔底部から抜出された高沸点留分（高ＭＤＪ濃度・低シス体留分）
８・・・塔頂部からの留分（製品ＭＤＪ）
９・・・異性化反応器
１０・・・ガス状異性化反応生成物
１１・・・濃縮蒸留器
１２・・・塔底部からの高沸点留分
１３・・・塔頂部からの低沸点留分
１４・・・薄膜蒸留器
１５・・・精製蒸留塔２へ戻される高沸点留分
１６・・・ＭＤＪ組成物（香料組成物）
１７・・・バッチ式濃縮蒸留塔
１８・・・塔頂部からの低沸点留分
１９・・・塔底部からの高沸点留分
２０・・・バッチ式異性化反応器・精製蒸留塔
２１・・・塔頂部からの高沸点留分
Claims (5)
- ジヒドロジャスモン酸メチルおよび下記化合物（Ｉ）を含有する香料組成物であって、
該組成物中の、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９４．５〜９９質量％、下記化合物（Ｉ）の含有量が１〜５質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上である香料組成物。
- ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９９質量％以上、前記化合物（Ｉ）の含有量が１質量％未満であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上である香料組成物と、
ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が７０〜９４．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が５〜３０質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％以上である香料組成物と
を混合して得られる、請求項１に記載の香料組成物。 - ジヒドロジャスモン酸メチルおよび前記化合物（Ｉ）を含有する組成物であって、
該組成物中の、ジヒドロジャスモン酸メチルの含有量が９０〜９９．５質量％、前記化合物（Ｉ）の含有量が０．１〜１．５質量％であり、かつ、ジヒドロジャスモン酸メチルにおけるシス体の存在割合が２０モル％未満である組成物（Ａ）を、
濃縮蒸留工程、及び、薄膜蒸留工程に順次供する、請求項１に記載の香料組成物の製造方法。 - 前記組成物（Ａ）が、２−ペンチル−２−シクロペンテノンと２−ペンチル−４−シクロペンテノンの混合割合が、質量比で、（２−ペンチル−２−シクロペンテノン）：（２−ペンチル−４−シクロペンテノン）＝９５．５：４．５〜９９．５：０．５である原料組成物に、マロン酸ジメチルを反応させ、次いで脱炭酸して得られるジヒドロジャスモン酸メチルであって、シス体の存在割合が２０モル％未満であるものを主成分として含む反応混合物（１）を、精製蒸留塔に供給し、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）である、請求項３に記載の香料組成物の製造方法。
- 前記組成物（Ａ）が、２−ペンチル−２−シクロペンテノンと２−ペンチル−４−シクロペンテノンの混合割合が、質量比で、（２−ペンチル−２−シクロペンテノン）：（２−ペンチル−４−シクロペンテノン）＝９５．５：４．５〜９９．５：０．５である原料組成物に、マロン酸ジメチルを反応させ、次いで脱炭酸して得られるジヒドロジャスモン酸メチルであって、シス体の存在割合が２０モル％未満であるものを主成分として含む反応混合物（１）を、精製蒸留塔に送り、精製蒸留を行った後に、前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を濃縮蒸留塔に供給し、前記濃縮蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（１８）と、
前記精製蒸留塔の塔底部から得られる高沸点留分（５）を薄膜蒸留器に供給し、前記薄膜蒸留器の塔頂部から得られる留分との混合物とを、
異性化反応器に供給して異性化反応を行い、次いで精製蒸留塔で精製蒸留を行った後の、前記精製蒸留塔の塔頂部から得られる低沸点留分（２１）である、請求項４に記載の香料組成物の製造方法。
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