JPWO2014104159A1 - 液浸部材及び露光装置 - Google Patents

Abstract

液浸部材は、光学部材の射出面（１２）と基板（Ｐ）との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能である。液浸部材は、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材（２１）と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材（２２）と、光学部材を保護する保護部（部分２１１，壁部５０）と、を備える。保護部は、液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減する。

Description

本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
本願は、２０１２年１２月２７日に出願された米国特許仮出願６１／７４６，４７０に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献１に開示されているような、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。

米国特許第７８６４２９２号

液浸露光装置において、例えば露光光を射出する光学部材が変動したり、液体中に気泡（気体部分）が発生したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、光学部材を保護する保護部と、を備え、保護部は、液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減する液浸部材が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２上面と同じ高さ、又は第２上面よりも下方に配置される液浸部材が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２下面と同じ高さ、又は第２下面よりも下方に配置される液浸部材が提供される。

本発明の第４の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２部材の第２上面よりも上方に配置され、光路に対して最下部の外側において、第１部材と第２上面との間に間隙が形成され、光学部材の光軸と平行な方向に関して、最下部と第２上面との距離は、間隙の寸法よりも小さい液浸部材が提供される。

本発明の第５の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、壁部は、光路に最も近い第１部位を有し、第２部材は、光路に最も近い第２部位を有し、第２部材の移動期間において、第２部位は、光路に対して第１部位の外側に配置され続ける液浸部材が提供される。

本発明の第６の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、少なくとも一部が第２部材と対向可能な第１下面を有し、第１下面は、第１領域と、光路に対して第１領域の外側に配置され、第１領域よりも上方に配置される第２領域と、を含む液浸部材が提供される。

本発明の第７の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、第１液体を供給する第１液体供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、第２液体を供給する第２液体供給部と、を備え、第２部材は、第２液体供給部と対向する第１状態及び対向しない第２状態の一方から他方に変化するように移動される液浸部材が提供される。

本発明の第８の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１〜第７のいずれか一つの液浸部材を備える露光装置が提供される。

本発明の第９の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を有し、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材と、光学部材を保護する保護部材と、を備え、保護部材は、液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減する露光装置が提供される。

本発明の第１０の態様に従えば、第８又は第９の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１１の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、光学部材を保護する保護部と、を備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、保護部で液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１２の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２上面と同じ高さ、又は第２上面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１３の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２下面と同じ高さ、又は第２下面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１４の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２部材の第２上面よりも上方に配置され、光路に対して最下部の外側において、第１部材と第２上面との間に間隙が形成され、光学部材の光軸と平行な方向に関して、最下部と第２上面との距離は、間隙の寸法よりも小さい液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１５の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、壁部は、光路に最も近い第１部位を有し、第２部材は、光路に最も近い第２部位を有し、第２部材の移動期間において、第２部位は、光路に対して第１部位の外側に配置され続ける液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１６の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、射出面から射出される露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、少なくとも一部が第２部材と対向可能な第１下面を有し、第１下面は、第１領域と、光路に対して第１領域の外側に配置され、第１領域よりも上方に配置される第２領域と、を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１７の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、第１液体を供給する第１液体供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、第２液体を供給する第２液体供給部と、を備え、第２部材は、第２液体供給部と対向する第１状態及び対向しない第２状態の一方から他方に変化するように移動される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１８の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、保護部材で記液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１９の態様に従えば、第１１〜第１８のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第２０の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、光学部材を保護する保護部と、を備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、保護部で液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２１の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２上面と同じ高さ、又は第２上面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２２の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２下面と同じ高さ、又は第２下面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２３の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２部材の第２上面よりも上方に配置され、光路に対して最下部の外側において、第１部材と第２上面との間に間隙が形成され、光学部材の光軸と平行な方向に関して、最下部と第２上面との距離は、間隙の寸法よりも小さい液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２４の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、壁部は、光路に最も近い第１部位を有し、第２部材は、光路に最も近い第２部位を有し、第２部材の移動期間において、第２部位は、光路に対して第１部位の外側に配置され続ける液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２５の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、射出面から射出される露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、少なくとも一部が第２部材と対向可能な第１下面を有し、第１下面は、第１領域と、光路に対して第１領域の外側に配置され、第１領域よりも上方に配置される第２領域と、を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２６の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、第１液体を供給する第１液体供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、第２液体を供給する第２液体供給部と、を備え、第２部材は、第２液体供給部と対向する第１状態及び対向しない第２状態の一方から他方に変化するように移動される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２７の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、保護部材で記液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第２８の態様に従えば、第２０〜第２７のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。

本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第１実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る第２部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を示す図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第２実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第３実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第４実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第６実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第８実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第９実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１０実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１１実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１２実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１３実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１４実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１５実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１６実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１６実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 比較例を示す図である。 第１７実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第１８実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１８実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１９実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。 第２開口部の一例を示す図である。 基板ステージの一例を示す図である。 デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。 液浸部材の一部を示す側断面図である。 液浸部材の一部を示す側断面図である。 液浸部材の一部を示す側断面図である。 液浸部材の一部を示す側断面図である。 液浸部材の一部を示す側断面図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳとは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。

図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。

また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０とを備えている。防振装置１０は、ばね装置などを含む。本実施形態において、防振装置１０は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム及び基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムの一方又は両方が基準フレーム８Ａに支持されてもよい。

また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９を備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材５、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。

マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１１は、リニアモータを含んでもよい。

投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影光学系ＰＬは、縮小系である。投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／４である。なお、投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／５、又は１／８等でもよい。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。

投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ軸方向を向いている。射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ軸方向に進行する。射出面１２は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ軸方向を向いている射出面１２は、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行である。

終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行な方向に関して、射出面１２側が−Ｚ側であり、入射面側が＋Ｚ側である。投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向に関して、投影光学系ＰＬの像面側が−Ｚ側であり、投影光学系ＰＬの物体面側が＋Ｚ側である。

基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。Ｚ軸方向に関して、射出面１２と第１保持部に保持された基板Ｐの上面との距離は、射出面１２と第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しい。

なお、Ｚ軸方向に関して、射出面１２と基板Ｐの上面との距離が射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しいとは、射出面１２と基板Ｐの上面との距離と射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離との差が、基板Ｐの露光時における射出面１２と基板Ｐの上面との距離（所謂、ワーキングディスタンス）の例えば１０％以内であることを含む。

なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。例えば、Ｚ軸方向に関して、基板Ｐの上面との位置とカバー部材Ｔの上面の位置とが異なってもよい。例えば、基板Ｐの上面とカバー部材Ｔの上面との間に段差があってよい。

なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよい。カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。

基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ軸方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１５は、リニアモータを含んでもよい。

計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットを含む。

なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。

基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。

次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。なお、液浸部材を、ノズル部材、と称してもよい。図２は、ＸＺ平面と平行な終端光学素子１３及び液浸部材５の断面図である。図３は、図２の一部を拡大した図である。図４は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。

終端光学素子１３は、−Ｚ軸方向を向く射出面１２と、射出面１２の周囲に配置される外面１３１とを有する。露光光ＥＬは、射出面１２から射出される。露光光ＥＬは、外面１３１から射出されない。露光光ＥＬは、射出面１２を通過し、外面１３１を通過しない。外面１３１は、露光光ＥＬを射出しない非射出面である。本実施形態において、外面１３１は、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

液浸部材５は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。

終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能である。その物体は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、液浸部材５の下方で移動可能であり、液浸部材５と対向可能である。

本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば基板ステージ２のカバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。

基板Ｐの露光において、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。

以下の説明においては、物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。

なお、液浸空間ＬＳは、２つの物体を跨ぐように形成される場合がある。例えば、液浸空間ＬＳは、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように形成される場合がある。液浸空間ＬＳは、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。

液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。

液浸部材５は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１と、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲の少なくとも一部に配置される第２部材２２とを備えている。第２部材２２は、移動可能な移動部材である。

露光光ＥＬの光路ＡＴは、終端光学素子１３における露光光ＥＬの光路ＡＴＯ（終端光学素子１３を進行する露光光ＥＬの光路ＡＴＯ）を含む。また、露光光ＥＬの光路ＡＴは、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む。すなわち、本実施形態において、露光光ＥＬの光路ＡＴは、終端光学素子１３における露光光ＥＬの光路ＡＴＯを含む概念でもよい。露光光ＥＬの光路ＡＴは、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む概念でもよい。

第１部材２１の一部は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）の周囲の少なくとも一部に配置される。第１部材２１の一部は、光路ＡＴＬの周囲の少なくとも一部に配置される。

第２部材２２の一部は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）及び第１部材２１の周囲の少なくとも一部に配置される。第２部材２２の一部は、光路ＡＴＬの周囲に配置される。

第１部材２１の少なくとも一部は、終端光学素子１３の下方に配置される。終端光学素子１３の少なくとも一部は、第１部材２１の上方に配置される。

第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１の下方に配置される。第１部材２１の少なくとも一部は、第２部材２２の上方に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１の下方において移動可能である。第２部材２２の少なくとも一部は、終端光学素子１３及び第１部材２１の下方において移動可能である。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。

第２部材２２は、露光光ＥＬの光路ＡＴの外側において移動可能である。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１の下方において、露光光ＥＬの光路ＡＴの外側で移動可能である。

本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１も、実質的に移動しない。第１部材２１は、終端光学素子１３に対して実質的に移動しない。

第２部材２２は、終端光学素子１３に対して移動可能である。第２部材２２は、第１部材２１に対して移動可能である。終端光学素子１３と第２部材２２との相対位置は、変化する。第１部材２１と第２部材２２との相対位置は、変化する。

第１部材２１は、終端光学素子１３と接触しないように配置される。終端光学素子１３と第１部材２１との間に間隙が形成される。第２部材２２は、終端光学素子１３及び第１部材２１と接触しないように配置される。第１部材２１と第２部材２２との間に間隙が形成される。第２部材２２は、終端光学素子１３及び第１部材２１と接触しないように移動する。

基板Ｐ（物体）は、間隙を介して終端光学素子１３の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、間隙を介して第１部材２１の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、間隙を介して第２部材２２の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、終端光学素子１３、第１部材２１、及び第２部材２２の下方で移動可能である。

第１部材２１の少なくとも一部は、間隙を介して終端光学素子１３と対向する。本実施形態において、第１部材２１の一部は、射出面１２と対向する。第１部材２１の一部は、間隙を介して射出面１２の下方に配置される。第１部材２１の一部は、外面１３１と対向する。第１部材２１の一部は、間隙を介して外面１３１の周囲の少なくとも一部に配置される。

第２部材２２の少なくとも一部は、間隙を介して第１部材２１と対向する。本実施形態において、第２部材２２は、終端光学素子１３と対向しない。第２部材２２と終端光学素子１３との間に第１部材２１が配置される。第１部材２１は、終端光学素子１３と第２部材２２とが対向しないように配置される。

第１部材２１は、光路ＡＴＬの周囲の少なくとも一部に配置される部分２１１と、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）の周囲の少なくとも一部に配置される部分２１２とを含む。部分２１２は、部分２１１の上方に配置される。本実施形態において、第１部材２１は、環状の部材である。部分２１１は、光路ＡＴＬの周囲に配置される。部分２１２は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）の周囲に配置される。

第１部材２１の部分２１１の少なくとも一部は、終端光学素子１３の下方に配置される。終端光学素子１３の少なくとも一部は、第１部材２１の部分２１１の上方に配置される。終端光学素子１３は、第１部材２１の部分２１１よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第１部材２１の部分２１１少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

本実施形態において、第１部材２１の部分２１１の少なくとも一部は、射出面１２と対向可能である。すなわち、第１部材２１の部分２１１の少なくとも一部は、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置される。

第１部材２１は、射出面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な第１開口部２３と、上面２４と、少なくとも一部が第２部材２２と対向する下面２５と、少なくとも一部が終端光学素子１３の外面１３１と対向する内面２６と、光軸ＡＸ（光路ＡＴ）に対する放射方向に関して外側を向く外面２７と、を有する。上面２４の少なくとも一部は、＋Ｚ軸方向を向く。下面２５の少なくとも一部は、−Ｚ軸方向を向く。

第１開口部２３は、上面２４と下面２５とを結ぶように形成される。上面２４は、第１開口部２３の上端の周囲に配置される。下面２５は、第１開口部２３の下端の周囲に配置される。

上面２４は、射出面１２の少なくとも一部と対向可能である。上面２４は、間隙を介して、射出面１２の少なくとも一部と対向する。部分２１１は、上面２４を含む。

基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、射出面１２及び下面２５の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、間隙を介して、射出面１２及び下面２５の少なくとも一部と対向可能である。下面２５の少なくとも一部は、第２部材２２と対向可能である。下面２５は、間隙を介して、第２部材２２と対向する。部分２１１は、下面２５を含む。

内面２６の少なくとも一部は、外面１３１と対向する。内面２６は、間隙を介して、外面１３１と対向する。内面２６の一部（下部）は、光路ＡＴＬの周囲に配置される。内面２６の一部（上部）は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）の周囲に配置される。内面２６の下端は、上面２４の外縁と結ばれる。部分２１１は、内面２６の一部（下部）を含む。部分２１２は、内面２６の一部（上部）を含む。

外面２７の少なくとも一部は、間隙を介して第２部材２２と対向する。外面２７の下端は、下面２５の外縁と結ばれる。部分２１１は、外面２７の一部（下部）を含む。部分２１２は、外面２７の一部（上部）を含む。

第２部材２２は、少なくとも一部が第１部材２１の下方に配置される部分２２１と、少なくとも一部が光路ＡＴに対して第１部材２１の外側に配置される部分２２２とを含む。部分２２２は、光路ＡＴに対して部分２２１の外側に配置される。本実施形態において、第２部材２２は、環状の部材である。部分２２１は、第１部材２１の下方において、光路ＡＴＬの周囲に配置される。部分２２２は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）及び第１部材２１の周囲に配置される。

第１部材２１は、第２部材２２の部分２２１よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２の部分２２１は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が対向可能なように配置される。

第２部材２２は、射出面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な第２開口部２８と、少なくとも一部が第１部材２１と対向する上面２９と、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面３０と、少なくとも一部が第１部材２１の外面２７と対向する内面３１と、を有する。上面２９の少なくとも一部は、＋Ｚ軸方向を向く。下面３０の少なくとも一部は、−Ｚ軸方向を向く。

第２開口部２８は、上面２９と下面３０とを結ぶように形成される。上面２９は、第２開口部２８の上端の周囲に配置される。下面３０は、第２開口部２８の下端の周囲に配置される。

上面２９は、下面２５の少なくとも一部と対向可能である。上面２９は、間隙を介して、下面２５の少なくとも一部と対向する。部分２２１は、上面２９を含む。

基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、下面３０と対向可能である。基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、間隙を介して、下面３０と対向可能である。部分２２１は、下面３０を含む。

内面３１の少なくとも一部は、外面２７と対向する。内面３１は、間隙を介して、外面２７と対向する。内面３１の一部（下部）は、光路ＡＴＬの周囲に配置される。内面３１の一部（上部）は、第１部材２１の周囲に配置される。内面３１の下端は、上面２９の外縁と結ばれる。部分２２２は、内面３１を含む。

図５は、第１開口部２３の近傍を示す第１部材２１（部分２１１）の断面図である。

図３及び図５に示すように、上面２４は、領域２４１と、光路ＡＴに対して領域２４１の外側に配置される領域２４２とを含む。上面２４の少なくとも一部は、射出面１２と対向可能である。

領域２４２は、領域２４１よりも上方に配置される。

終端光学素子１３の光軸ＡＸと領域２４１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２４２とがなす角度とは、異なる。

領域２４１は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２４１は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

領域２４２は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２４２は、ＸＹ平面と実質的に平行である。

領域２４１と領域２４２との間に角部Ｋａが形成される。

光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２４２の寸法は、領域２４１の寸法よりも大きい。

図３及び図５に示すように、下面２５は、領域２５１と、光路ＡＴに対して領域２５１の外側に配置される領域２５２と、光路ＡＴに対して領域２５２の外側に配置される領域２５３と、光路ＡＴに対して領域２５３の外側に配置される領域２５４と、光路ＡＴに対して領域２５４の外側に配置される領域２５５とを含む。下面２５の少なくとも一部は、第２部材２２の上面２９と対向可能である。

領域２５２、領域２５３、領域２５４、及び領域２５５は、領域２５１よりも上方に配置される。領域２５３、領域２５４、及び領域２５５は、領域２５２よりも上方に配置される。Ｚ軸方向に関する領域２５３の位置（高さ）と、領域２５４の位置（高さ）と、領域２５５の位置（高さ）とは、実質的に等しい。

光軸ＡＸと領域２５１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２５２とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２５２とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２５３とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２５３とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２５４とがなす角度とは、実質的に等しい。光軸ＡＸと領域２５４とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２５５とがなす角度とは、実質的に等しい。

領域２５２は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２５２は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態において、領域２５１は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５１は、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５３は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５３は、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５２は、領域２５１と領域２５３とを結ぶ傾斜領域である。領域２５１と領域２５３との間に段差が形成される。

領域２５１と領域２５２との間に角部Ｋｂが形成される。領域２５２と領域２５３との間に角部Ｋｃが形成される。

以下の説明において、第１部材２１の下面２５において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して領域２５１の外側の部分を適宜、凹部１６、と称する。領域２５２の少なくとも一部及び領域２５３の少なくとも一部は、凹部１６の内側に配置される。第２部材２２は、凹部１６と対向可能である。

領域２５４及び領域２５５のそれぞれは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５４及び領域２５５のそれぞれは、ＸＹ平面と実質的に平行である。

光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２５３の寸法は、領域２５１の寸法よりも大きい。光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２５３の寸法は、領域２５２の寸法よりも大きい。

領域２４１と領域２５１との間に角部Ｋｓが形成される。角部Ｋｓは、領域２５１の内縁部分を含む。

本実施形態において、領域２５１は、第１部材２１の最下部である。領域２５１は、第１部材２１のうち、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位である。

また、領域２５１は、第１部材２１のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位を含む。本実施形態においては、領域２５１の内縁部分が、第１部材２１のうち、光路ＡＴに最も近い部位である。

領域２５１の内縁部分は、第１開口部２３を規定する。領域２５１の内縁部分は、第１開口部２３の周囲に配置される。領域２５１の内縁部分は、第１開口部２３の周囲の部位の少なくとも一部を規定する。

図６は、第２開口部２８の近傍を示す第２部材２２（部分２２１）の断面図である。

図３及び図６に示すように、上面２９は、領域２９１と、光路ＡＴに対して領域２９１の外側に配置される領域２９２とを含む。上面２９は、下面２５の少なくとも一部と対向可能である。

領域２９２は、領域２９１よりも上方に配置される。

終端光学素子１３の光軸ＡＸと領域２９１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２９２とがなす角度とは、異なる。

領域２９１は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２９１は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

領域２９２は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２９２は、ＸＹ平面と実質的に平行である。

領域２９１と領域２９２との間に角部Ｋｄが形成される。

光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２９２の寸法は、領域２９１の寸法よりも大きい。

領域２９１は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に面する。領域２９１を、光路ＡＴに面する第２部材２２の端面、と称してもよい。

図３及び図６に示すように、下面３０は、領域３０１と、光路ＡＴに対して領域３０１の外側に配置される領域３０２と、光路ＡＴに対して領域３０２の外側に配置される領域３０３とを含む。下面３０は、基板Ｐ（物体）の表面（上面）が対向可能である。

領域３０２、及び領域３０３は、領域３０１よりも上方に配置される。さらに、領域３０３は、領域３０２よりも上方に配置される。

光軸ＡＸと領域３０１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域３０２とがなす角度とは、実質的に等しい。光軸ＡＸと領域３０２とがなす角度と、光軸ＡＸと領域３０３とがなす角度とは、実質的に等しい。

領域３０１、領域３０２、及び領域３０３のそれぞれは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域３０１、領域３０２、及び領域３０３のそれぞれは、ＸＹ平面と実質的に平行である。

領域２９１と領域３０１との間に角部Ｋｔが形成される。角部Ｋｔは、領域３０１の内縁部分を含む。

本実施形態において、領域３０１は、第２部材２２の最下部である。領域３０１は、第２部材２２のうち、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位である。

また、領域３０１は、第２部材２２のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位を含む。本実施形態においては、領域３０１の内縁部分が、第２部材２２のうち、光路ＡＴに最も近い部位である。

領域３０１の内縁部分は、第２開口部２８を規定する。領域３０１の内縁部分は、第２開口部２８の周囲に配置される。領域３０１の内縁部分は、第２開口部２８の周囲の部位の少なくとも一部を規定する。

図３に示すように、内面２６は、上面２４よりも上方に配置される。内面２６の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。本実施形態において、内面２６は、光路ＡＴに対して上面２４の外側に配置される領域２６１と、光路ＡＴに対して領域２６１の外側に配置される領域２６２と、光路ＡＴに対して領域２６２の外側に配置される領域２６３とを含む。内面２６の少なくとも一部は、終端光学素子１３の外面１３１と対向可能である。内面２６と外面１３１との間に形成される間隙の寸法はＤ３である。

領域２６１は、上面２４の外縁と結ばれる。領域２６１は、上面２４よりも上方に配置される。領域２６２は、領域２６１よりも上方に配置される。領域２６３は、領域２６２よりも上方に配置される。

光軸ＡＸと領域２６１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２６２とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２６２とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２６３とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２６１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２６３とがなす角度とは、実質的に等しい。

領域２６１は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２６１は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２６３は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２６３は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態において、領域２６２は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２６２は、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２６１と領域２６２との間に角部が形成される。領域２６２と領域２６３との間に角部が形成される。領域２６１と外面１３１との間に形成される間隙の寸法はＤ３である。本実施形態において、領域２６３と外面１３１との間に形成される間隙の寸法は、寸法Ｄ３よりも大きいが、同じであってもよい。この場合、領域２６２を設けなくてもよい。

図３に示すように、外面２７及び内面３１は、光軸ＡＸと実質的に平行である。なお、外面２７の少なくとも一部が、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。内面３１の少なくとも一部が、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。

領域２４１及び領域２４２を含む上面２４は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。上面２４の少なくとも一部は、終端光学素子１３との間において液体ＬＱを保持可能である。

下面２５の領域２５１、領域２５２、領域２５３、及び領域２５５は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。下面２５の領域２５４は、液体ＬＱを回収可能な回収領域である。下面２５の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）及び第２部材２２との間において液体ＬＱを保持可能である。

領域２６１、領域２６２、及び領域２６３を含む内面２６は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。内面２６の少なくとも一部は、終端光学素子１３との間において液体ＬＱを保持可能である。

領域２９１及び領域２９２を含む上面２９は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。上面２９の少なくとも一部は、第１部材２１との間において液体ＬＱを保持可能である。

下面３０の領域３０１及び領域３０３は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。下面３０の領域３０２は、液体ＬＱを回収可能な回収領域である。下面３０の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）との間において液体ＬＱを保持可能である。

図２及び図４等に示すように、Ｘ軸方向に関して、第２開口部２８の寸法は、第１開口部２３の寸法よりも大きい。Ｙ軸方向に関して、第２開口部２８の寸法は、第１開口部２３の寸法よりも大きい。ＸＹ平面内において、第２開口部２８は、第１開口部２３よりも大きい。ＸＹ平面内において、第２開口部２８の内側に、光路ＡＴ（ＡＴＬ）及び第１部材２１の少なくとも一部が配置される。第１開口部２３の内側に、光路ＡＴ（ＡＴＬ）が配置される。図４に示すように、ＸＹ平面内において、第１開口部２３は、Ｘ軸方向に長い四角形（長方形）状である。第２開口部２８も、Ｘ軸方向に長い四角形（長方形）状である。

図２及び図３等に示すように、本実施形態においては、終端光学素子１３の光軸ＡＸと第１開口部２３の中心とが実質的に一致するように、第１部材２１が配置される。終端光学素子１３の光軸ＡＸと第１開口部２８の中心とが実質的に一致する原点に第２部材２２が配置されているときに、第１開口部２３の中心と第２開口部２８の中心とが実質的に一致する。原点に第２部材２２が配置されているときに、第２開口部２８を規定する第２部材２２の内縁（下面３０の内縁、領域３０１の内縁）は、光路ＡＴに対して、第１開口部２３を規定する第１部材２１の内縁（下面２５の内縁、領域２５１の内縁）よりも外側に配置される。原点に第２部材２２が配置されているときに、第２部材２２の上面２９は、第１部材２１と対向し、終端光学素子１３と対向しない。

図７は、射出面１２、上面２４、下面２５、上面２９、及び下面３０を示す図である。

図３及び図７に示すように、本実施形態において、上面２４は、射出面１２の下方に配置される。下面２５は、射出面１２及び上面２４の下方に配置される。上面２９は、射出面１２、上面２４、及び下面２５の下方に配置される。下面３０は、射出面１２、上面２４、下面２５、及び上面２９の下方に配置される。

以下の説明において、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の光路ＡＴＬを含む空間を適宜、光路空間ＳＰＫ、と称する。光路空間ＳＰＫは、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面１２と上面２４との間の空間を含む。

また、下面２５と上面２９との間の空間を適宜、第１空間ＳＰ１、と称する。

また、下面３０と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間を適宜、第２空間ＳＰ２、と称する。

また、外面１３１と内面２６との間の空間を適宜、第３空間ＳＰ３、と称する。

Ｚ軸方向に関して、光路空間ＳＰＫの寸法（射出面１２と基板Ｐの上面との間隙の寸法）Ｄｋは、第２空間ＳＰ２の寸法（下面３０と基板Ｐの上面との間隙の寸法）Ｄ２よりも大きい。

Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法（下面２５と上面２９との間隙の寸法）Ｄ１は、第２空間ＳＰ２の寸法Ｄ２よりも小さい。

なお、Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法Ｄ１が、第２空間ＳＰ２の寸法Ｄ２と実質的に等しくてもよいし、第２空間ＳＰ２の寸法Ｄ２よりも大きくてもよい。

領域２５１は、上面２９よりも上方（＋Ｚ側）に配置される。領域２５２は、上面２９および領域２５１よりも上方（＋Ｚ側）に配置される。終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関して、領域２５１と上面２９との距離Ｇ１ａは、領域２５２と上面２９との距離Ｇ１ｂよりも小さい。

本実施形態において、上面２４側の空間（射出面１２と上面２４との間の空間）と、下面２５側の空間（下面２５と基板Ｐの上面との間の空間）とは、第１開口部２３を介して結ばれる。液体ＬＱは、第１開口部２３を介して、上面２４側の空間及び下面２５側の空間の一方から他方へ流通可能である。

光路空間ＳＰＫと第１空間ＳＰ１とは、下面２５の内縁と上面２９の内縁との間の開口３２（第２開口部２８）を介して結ばれる。液体ＬＱは、開口３２を介して、光路空間ＳＰＫ及び第１空間ＳＰ１の一方から他方へ流通可能である。

光路空間ＳＰＫと第２空間ＳＰ２とは、下面２５の内縁と基板Ｐの上面との間の開口３３を介して結ばれる。液体ＬＱは、開口３３を介して、光路空間ＳＰＫ及び第２空間ＳＰ２の一方から他方へ流通可能である。

光路空間ＳＰＫと第３空間ＳＰ３とは、外面１３１の下端と内面２６の下端との間の開口３４を介して結ばれる。液体ＬＱは、開口３４を介して、光路空間ＳＰＫ及び第３空間ＳＰ３の一方から他方へ流通可能である。

第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２開口部２８（開口３２）を介して結ばれる。液体ＬＱは、第２開口部２８を介して、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の一方から他方へ流通可能である。

第１空間ＳＰ１の光路ＡＴ側の一端は、開口３２を介して光路空間ＳＰＫと結ばれる。第１空間ＳＰ１の光路ＡＴから離れた他端は、下面２５の外縁と上面２９との間の開口３５、及び外面２７と内面３１との間隙を介して、液浸部材５の周囲の空間ＣＳと結ばれる。第１空間ＳＰ１は、開口３５、及び外面２７と内面３１との間隙を介して、液浸部材５の外部の空間（雰囲気）ＣＳに開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第１空間ＳＰ１は、大気開放される。

第２空間ＳＰ２の光路ＡＴ側の一端は、開口３３を介して光路空間ＳＰＫと結ばれる。第２空間ＳＰ２の光路ＡＴから離れた他端は、下面３０の外縁と基板Ｐ（物体）の上面との間の開口３６を介して、液浸部材５の周囲の空間ＣＳと結ばれる。第２空間ＳＰ２は、開口３６を介して、液浸部材５の外部の空間（雰囲気）ＣＳに開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第２空間ＳＰ２は、大気開放される。

第３空間ＳＰ３の光路ＡＴ側の一端（下端）は、開口３４を介して光路空間ＳＰＫと結ばれる。第３空間ＳＰ３の光路ＡＴから離れた他端（上端）は、外面１３１と内面２６の上端との間の開口３７を介して、液浸部材５の周囲の空間ＣＳと結ばれる。第３空間ＳＰ３は、開口３７を介して、液浸部材５の外部の空間（雰囲気）ＣＳに開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第３空間ＳＰ３は、大気開放される。

本実施形態においては、上面２９側の第１空間ＳＰ１及び下面３０側の第２空間ＳＰ２の一方から他方への第２開口部２８を介さない液体ＬＱの移動が抑制されている。第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材２２によって仕切られている。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、第２開口部２８を介して第２空間ＳＰ２に移動できる。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、第２開口部２８を介さずに第２空間ＳＰ２に移動できない。光路ＡＴに対して第２開口部２８よりも外側の第１空間ＳＰ１に存在する液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動できない。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、第２開口部２８を介して第１空間ＳＰ１に移動できる。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、第２開口部２８を介さずに第１空間ＳＰ１に移動できない。光路ＡＴに対して第２開口部２８よりも外側の第２空間ＳＰ２に存在する液体ＬＱは、第１空間ＳＰ１に移動できない。すなわち、本実施形態において、液浸部材５は、第２開口部２８以外に、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とを流体的に接続する流路を有しない。

本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。

以下の説明において、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第１界面ＬＧ１、と称する。第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される界面ＬＧを適宜、第２界面ＬＧ２、と称する。終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される界面ＬＧを適宜、第３界面ＬＧ３、と称する。

液浸部材５は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給可能な液体供給部４１を備えている。

液体供給部４１は、第２部材２２の部分２２１よりも上方に配置される。

液体供給部４１は、第１部材２１に配置される。液体供給部４１は、第３空間ＳＰ３に面する。液体供給部４１は、第３空間ＳＰ３に面するように、第１部材２１の内面２６に配置される。

液体供給部４１は、第１部材２１の内面２６に配置される開口（液体供給口）を含む。液体供給部４１は、外面１３１に対向するように配置される。液体供給部４１は、外面１３１と内面２６との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。

本実施形態において、液体供給部４１は、光路ＡＴ（終端光学素子１３）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。

なお、液体供給部４１は、光路ＡＴ（終端光学素子１３）に対してＹ軸方向に配置されてもよいし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路ＡＴ（終端光学素子１３）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部４１は、一つでもよい。

なお、液体供給部４１は、光路空間ＳＰＫに面するように第１部材２１に配置されてもよい。例えば、液体供給部４１を、内面２６の領域２６１の下端部に設けてもよい。

液体供給部（液体供給口）４１は、第１部材２１の内部に形成された供給流路４１Ｒを介して、液体供給装置４１Ｓと接続される。液体供給装置４１Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを液体供給部４１に供給可能である。液体供給部４１は、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置４１Ｓからの液体ＬＱを供給する。

液体供給部４１から第３空間ＳＰ３に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３４を介して、光路空間ＳＰＫに供給される。これにより、光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされる。また、液体供給部４１から光路空間ＳＰＫに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３２を介して、第１空間ＳＰ１に供給される。また、液体供給部４１から光路空間ＳＰＫに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３３を介して、第２空間ＳＰ２に供給される。

液浸部材５は、液体ＬＱを回収可能な液体回収部４２と、液体ＬＱを回収可能な液体回収部４３を備えている。なお、液体回収部４３を流体回収部４３と呼んでもよい。

液体回収部４２は、光軸ＡＸ（光路ＡＴ）に対する放射方向に関して液体供給部４１の外側に配置される。

液体回収部４２は、第１部材２１に配置される。液体回収部４２は、第１空間ＳＰ１に面する。液体回収部４２は、第１空間ＳＰ１に面するように、第１部材２１の下面２５に配置される。液体回収部４２は、第２部材２２が対向するように、第１部材２１に配置される。

液体回収部４２は、第１部材２１の下面２５に配置される開口（液体回収口）を含む。液体回収部４２は、第２部材２２の上面２９に対向するように第１部材２１に配置される。液体回収部４２は、下面２５と上面２９との間の第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

液体回収部４２は、下面２５の領域（回収領域）２５４に配置される。液体回収部４２は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に配置される。液体回収部４２は、光路ＡＴを囲むように配置される。

なお、液体回収部４２は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲において複数配置されてもよい。液体回収部４２は、光路ＡＴの周囲において間隔をあけて複数配置されてもよい。

本実施形態において、液体回収部４２は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱを回収しない。

液体回収部４２（液体回収口）は、第１部材２１の内部に形成された回収流路（空間）４２Ｒを介して、液体回収装置４２Ｃと接続される。液体回収装置４２Ｃは、液体回収部４２と真空システム（不図示）とを接続可能である。液体回収部４２は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収部４２（液体回収口）を介して回収流路４２Ｒに流入可能である。なお、第３空間ＳＰ３から、第１部材２１の上面を経て、第１部材２１の外面２７と第２部材２２の内面３１との間の空間を介して、第２部材２２の上面２９上に流れた液体ＬＱを、液体回収部４２で回収してもよい。すなわち、液体回収部２４を、開口２３を介さずに空間ＳＰ３から第２部材２２の上面２５上に流れた液体ＬＱを回収する回収部として使ってもよい。もちろん、空間ＳＰ３からの液体ＬＱを回収する回収部を、第１部材２１の上面に設けてもよいし、第２部材２２の上面２９と内面３１の少なくとも一方に設けてもよい。
また、第１部材２１の下面２５（２５３など）と第２部材２２の上面２２１との間の空間と、第３空間ＳＰ３とを接続する流路、および第１部材２１の外面２７と第２部材２２の内面３１との間の空間と、第３空間ＳＰ３とを接続する流路の少なくとも一方を、第１部材２１に設け、第３空間ＳＰ３から、第１部材２１と第２部材２２との間の空間に液体ＬＱを流すようにしてもよい。

本実施形態において、液体回収部４２は、多孔部材４４を含む。液体回収口は、多孔部材４４の孔を含む。本実施形態において、多孔部材４４は、メッシュプレートを含む。多孔部材４４は、上面２９が対向可能な下面と、回収流路４２Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。液体回収部４２は、多孔部材４４の孔を介して液体ＬＱを回収する。本実施形態において、下面２５の領域（回収領域）２５４は、多孔部材４４の下面を含む。液体回収部４２（多孔部材４４の孔）から回収された第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、回収流路４２Ｒに流入し、その回収流路４２Ｒを流れて、液体回収装置４２Ｃに回収される。

本実施形態においては、液体回収部４２を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置６は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが多孔部材４４の孔を通過して回収流路４２Ｒに流入し、気体は通過しないように、多孔部材４４の下面側の圧力（第１空間ＳＰ１の圧力）と上面側の圧力（回収流路４２Ｒの圧力）との差を調整する。本実施形態においては、第１空間ＳＰ１は空間ＣＳと結ばれている。制御装置６は、チャンバ装置９を制御して、第１空間ＳＰ１の圧力を調整可能である。制御装置６は、液体回収装置４２Ｃを制御して、回収流路４２Ｒの圧力を調整可能である。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号などに開示されている。

なお、多孔部材４４を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。すなわち、液体回収部４２が、液体ＬＱを気体とともに回収してもよい。また、液体回収部４２の下に液体ＬＱが存在しないときに、液体回収部４２から気体だけを回収してもよい。なお、第１部材２１に多孔部材４４が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。

液体回収部４３は、光軸ＡＸ（光路ＡＴ）に対する放射方向に関して液体供給部４１の外側に配置される。

液体回収部４３は、第２部材２２に配置される。液体回収部４３は、第２空間ＳＰ２に面する。液体回収部４３は、第２空間ＳＰ２に面するように、第２部材２２の下面３０に配置される。液体回収部４３は、基板Ｐ（物体）が対向するように、第２部材２２に配置される。

液体回収部４３は、第２部材２２の下面３０に配置される開口（液体回収口）を含む。液体回収部４３は、基板Ｐ（物体）の上面に対向するように第２部材２２に配置される。液体回収部４３は、下面３０と基板Ｐ（物体）の上面との間の第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

液体回収部４３は、下面３０の領域（回収領域）３０２に配置される。液体回収部４３は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に配置される。液体回収部４３は、光路ＡＴを囲むように配置される。

なお、液体回収部４３は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲において複数配置されてもよい。液体回収部４３は、光路ＡＴの周囲において間隔をあけて複数配置されてもよい。

本実施形態において、液体回収部４３は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱを回収しない。

液体回収部４３（液体回収口）は、第２部材２２の内部に形成された回収流路（空間）４３Ｒを介して、液体回収装置４３Ｃと接続される。液体回収装置４３Ｃは、液体回収部４３と真空システム（不図示）とを接続可能である。液体回収部４３は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収部４３（液体回収口）を介して回収流路４３Ｒに流入可能である。

本実施形態において、液体回収部４３は、多孔部材４５を含む。液体回収口は、多孔部材４５の孔を含む。本実施形態において、多孔部材４５は、メッシュプレートを含む。多孔部材４５は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面と、回収流路４３Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。液体回収部４３は、多孔部材４５の孔を介して液体ＬＱを回収する。本実施形態において、下面３０の領域（回収領域）３０２は、多孔部材４５の下面を含む。液体回収部４３（多孔部材４５の孔）から回収された第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、回収流路４３Ｒに流入し、その回収流路４３Ｒを流れて、液体回収装置４３Ｃに回収される。

本実施形態においては、液体回収部４３を介して液体ＬＱとともに気体が回収される。換言すれば、液体回収部４３は、第２空間ＳＰ２に存在する流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）について、気液混合回収する。なお、多孔部材４５を介して液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されてもよい。なお、第２部材２２に多孔部材４５が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第２空間ＳＰ２の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。

本実施形態において、流体回収部４３の下面は、多孔部材４５の下面を含む。流体回収部４３の下面は、下面３０の周囲に配置される。本実施形態において、流体回収部４３の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、流体回収部４３の下面は、下面３０よりも＋Ｚ側に配置される。

なお、流体回収部４３の下面と下面３０とが同一平面内に配置されてもよい（面一でもよい）。流体回収部４３の下面が下面３０よりも−Ｚ側に配置されてもよい。なお、流体回収部４３の下面が下面３０に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。例えば、流体回収部４３（多孔部材４５）の下面が、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜していてもよい。また、流体回収部４３（多孔部材４５）の下面が、第２開口部２８の周囲の全周に渡って、高さ（Ｚ軸方向の位置）が同じでなくてもよい。例えば、第２開口部２８のＹ軸方向両側に位置する流体回収部４３（多孔部材４５）の下面の一部が、第２開口部２８のＸ軸方向両側に位置する流体回収部４３（多孔部材４５）の下面の一部より低くてもよい。例えば、第２部材２２の流体回収部４３（多孔部材４５）の下面が基板Ｐの表面と対向しているときに、露光光の光路Ｋに対してＹ軸方向の一側に形成される、流体回収部４３（多孔部材４５）の下面と基板Ｐの表面とのギャップの寸法（Ｚ軸方向の距離）が、露光光の光路Ｋに対してＸ軸方向の一側に形成される、流体回収部４３（多孔部材４５）の下面と基板Ｐの表面とのギャップの寸法（Ｚ軸方向の距離）より小さくなるように、流体回収部４３（多孔部材４５）の下面の形状を決めてもよい。

本実施形態においては、回収流路４３Ｒは、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して内面３１の外側に配置される。回収流路４３Ｒは、液体回収部４３の上方に配置される。第２部材２２が移動することにより、第２部材２２の流体回収部４３及び回収流路４３Ｒが、第１部材２１の外面２７の外側で移動する。

本実施形態においては、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給動作と並行して、液体回収部４３からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。

また、本実施形態においては、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給動作、及び液体回収部４３からの液体ＬＱの回収動作と並行して、液体回収部４２からの液体ＬＱの回収動作が実行される。

本実施形態において、第１界面ＬＧ１は、液体回収部４２と上面２９との間に形成される。第２界面ＬＧ２は、液体回収部４３と基板Ｐ（物体）の上面との間に形成される。

本実施形態においては、第１界面ＬＧ１が液体回収部４２と上面２９との間に形成され、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが液体回収部４２の外側の空間（例えば外面２７と内面３１との間の空間）に移動することが抑制されている。外面２７と内面３１との間の空間には液体ＬＱが存在しない。外面２７と内面３１との間の空間は気体空間である。そのため、第２部材２２は円滑に移動可能である。

また、本実施形態においては、光路ＡＴに対して第１空間ＳＰ１の外側（外面２７の外側）に液体ＬＱが移動（流出）したとしても、内面３１によって、その液体ＬＱが基板Ｐ上（第２空間ＳＰ２）に移動（流出）することが抑制される。

本実施形態において、第２部材２２は、駆動装置４６の作動により移動する。駆動装置４６は、例えばモータを含む。駆動装置４６は、ローレンツ力を用いて第２部材２２を移動可能である。駆動装置４６は、第２部材２２を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向に移動可能である。駆動装置４６は、終端光学素子１３及び第１部材２１に対して第２部材２２を移動可能である。駆動装置４６は、制御装置６に制御される。

第２部材２２は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能である。

本実施形態において、第２部材２２は、少なくとも、終端光学素子１３の光軸ＡＸ（Ｚ軸）と垂直なＸＹ平面内において移動可能である。第２部材２２は、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。

本実施形態において、第２部材２２は、少なくとも、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に垂直なＸ軸方向に移動可能である。以下の説明においては、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向のうち、専らＸ軸と平行な方向に第２部材２２が移動することとする。

本実施形態において、第１部材２１は、終端光学素子１３を保護するように配置される。第１部材２１は、終端光学素子１３を保護するように、光路ＡＴの周囲に配置される。第１部材２１は、終端光学素子１３を保護する保護部材として機能する。

第１部材２１の少なくとも一部は、終端光学素子１３を保護する保護部として機能する。本実施形態において、第１部材２１の部分２１１及び部分２１２のそれぞれは、終端光学素子１３を保護する保護部として機能する。

第１部材２１の部分２１１は、終端光学素子１３の射出面１２を保護するように、光路ＡＴＬの周囲に配置される。部分２１１の少なくとも一部は、射出面１２を保護するように、間隙を介して、射出面１２の下方に配置される。

第１部材２１の部分２１２は、終端光学素子１３の外面１３１を保護するように、光路ＡＴＯ（終端光学素子１３）の周囲に配置される。部分２１２の少なくとも一部は、外面１３１を保護するように、間隙を介して、外面１３１の周囲に配置される。

以下の説明においては、第１部材２１の部分２１１を適宜、保護部２１１、と称し、部分２１２を適宜、保護部２１２、と称する。

保護部２１１及び保護部２１２のそれぞれは、光路ＡＴの外側において、終端光学素子１３と第２部材２２との間に配置される。

第１部材２１は、第２部材２２から終端光学素子１３を保護する。第１部材２１は、移動可能な第２部材２２と終端光学素子１３との接触（衝突）を防止する。

第１部材２１の少なくとも一部は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減する。第１部材２１の少なくとも一部は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を抑制する。第１部材２１の少なくとも一部は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を無くすことができる。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２が移動することにより、終端光学素子１３に作用する液体ＬＱの圧力が変動する可能性がある。換言すれば、第２部材２２の少なくとも一部が液浸空間ＬＳの液体ＬＱに浸かっている状態で第２部材２２が移動することにより、終端光学素子１３に作用する液体ＬＱの圧力が変動する可能性がある。第１部材２１の少なくとも一部は、第２部材２２の移動により液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減する。

本実施形態においては、第２部材２２の部分２２１の少なくとも一部が、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに浸かっている状態で移動する。終端光学素子１３と第２部材２２の部分２２１との間に配置される第１部材２１の部分（保護部）２１１は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減する。

部分（保護部）２１１は、終端光学素子１３と第２部材２２（部分２２１）との間に配置される壁部５０を形成する。壁部５０は、終端光学素子１３と第１部材２１（部分２１１）との間の空間と、第１部材２１１（部分２１１）と第２部材２２（部分２２１）との間の空間とを仕切る。

図５に示すように、以下の説明においては、領域２４１、領域２５１、及び領域２５２を含む壁部５０の一部を適宜、第１壁部５１、と称する。領域２４２、及び領域２５３を含む領域を適宜、第２壁部５２、と称する。第１壁部５１は、角部Ｋａ及び角部Ｋｃよりも光路ＡＴ（ＡＴＬ）に近い部分である。第１壁部５１は、第２壁部５２よりも光路ＡＴ（ＡＴＬ）に近い部分である。第１壁部５１は、第２壁部５２よりも下方に配置される。

また、以下の説明において、保護部２１１のうち、第１壁部５１に相当する部分を適宜、第１保護部２１１１、と称し、第２壁部５２に相当する部分を適宜、第２保護部２１１２、と称する。

本実施形態において、保護部２１１（壁部５０）は、露光光ＥＬが通過可能な第１開口部２３を有する。

保護部２１１は、第１部材２１のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位４７を含む。本実施形態においては、領域２５１の内縁部分（角部Ｋｓ）が、第１部材２１のうち、光路ＡＴに最も近い部位４７である。

本実施形態において、部位４７は、保護部２１１の最下部である。部位４７は、保護部２１１のうち、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位である。

部位４７は、間隙を介して、射出面１２の下方に配置される。部位４７は、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

部位４７は、第１開口部２３を規定する。部位４７は、第１開口部２３の周囲に配置される。部位４７は、第１開口部２３の周囲の部位の少なくとも一部を規定する。

図６に示すように、部分２２１は、露光光ＥＬが通過可能な第２開口部２８を有する。

部分２２１は、第２部材２２のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位４８を含む。本実施形態において、領域３０１の内縁部分（角部Ｋｔ）が、第２部材２２のうち、光路ＡＴに最も近い部位４８である。

本実施形態において、部位４８は、部分２２１の最下部である。部位４８は、部分２２１のうち、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位である。

部位４８は、間隙を介して、下面２５の下方に配置される。部位４８は、下面２５と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

部位４８は、第２開口部２８を規定する。部位４８は、第２開口部２８の周囲に配置される。部位４８は、第２開口部２８の周囲の部位の少なくとも一部を規定する。

第２部材２２の移動方向（Ｘ軸方向）に関して、第２開口部２８の寸法は、第１開口部２３の寸法よりも大きい。原点に第２部材２２が配置されている状態において、第２部材２２の部位４８は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して第１部材２１の部位４７の外側に配置される。

図８は、第２部材２２の動作の一例を示す図である。第２部材２２は、ＸＹ平面内において定められた可動範囲（移動可能範囲）を移動可能である。本実施形態においては、第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して定められた可動範囲を移動する。図８は、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態を示す。

第２部材２２が移動することにより、第１部材２１の外面２７と第２部材２２の内面３１との間隙の寸法が変化する。換言すれば、第２部材２２が移動することによって、外面２７と内面３１との間の空間の大きさが変化する。

図８に示す例では、第２部材２２が−Ｘ軸方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外面２７と内面３１との間隙の寸法が小さくなる（外面２７と内面３１との間の空間が小さくなる）。第２部材２２が−Ｘ軸方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して−Ｘ側における外面２７と内面３１との間隙の寸法が大きくなる（外面２７と内面３１との間の空間が大きくなる）。

第２部材２２が＋Ｘ軸方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外面２７と内面３１との間隙の寸法が大きくなる（外面２７と内面３１との間の空間が大きくなる）。第２部材２２が＋Ｘ軸方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して−Ｘ側における外面２７と内面３１との間隙の寸法が小さくなる（外面２７と内面３１との間の空間が小さくなる）。

例えば、第１部材２１（外側面２９）と第２部材２２（内側面３０）とが接触しないように、第２部材２２の可動範囲（移動可能範囲）が定められてもよい。

本実施形態においては、第２部材２２の部位４８は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して、第１部材２１の部位４７の外側に配置され続ける。

本実施形態においては、第１部材２１に対して第２部材２２が移動しても、第２部材２２の部位４８は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して、第１部材２１の部位４７の外側に配置され続ける。可動範囲を移動する第２部材２２の移動期間において、第２部材２２の部位４８は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して、第１部材２１の部位４７の外側に配置され続ける。

例えば、第２部材２２の部位４８が光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して第１部材２１の部位４７の外側に配置され続けるように、第２部材２２の可動範囲が定められてもよい。

第２部材２２の部位４８が光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して第１部材２１の部位４７の外側に配置され続けるように、第１部材２１と第２部材２２とが接触しないように定められた第２部材２２の可動範囲に基づいて、第２部材２２の移動方向（Ｘ軸方向）に関する第１開口部２３の寸法及び第２開口部２８の寸法の一方又は両方が定められてもよい。

第２部材２２の部位４８が光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して第１部材２１の部位４７の外側に配置され続けるように、第２部材２２の移動方向（Ｘ軸方向）に関する第１開口部２３の寸法及び第２開口部２８の寸法の一方又は両方に基づいて、第１部材２１と第２部材２２とが接触しないように第２部材２２の可動範囲が定められてもよい。

図８に示すように、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側における第１部材２１の部位４７の外側に、第２部材２２の部位４８が配置される。また、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して−Ｘ側における第１部材２１の部位４７の外側に、第２部材２２の部位４８が配置される。

また、可動範囲において第２部材２２が最も＋Ｘ側に移動された状態において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して−Ｘ側における第１部材２１の部位４７の外側に、第２部材２２の部位４８が配置される。また、可動範囲において第２部材２２が最も＋Ｘ側に移動された状態において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側における第１部材２１の部位４７の外側に、第２部材２２の部位４８が配置される。

保護部２１１（壁部５０）は、可動範囲を移動する第２部材２２の移動期間において、終端光学素子１３と第２部材２２（部分２２１）とが対向しないように、終端光学素子１３と第２部材２２との間に配置される。換言すれば、第２部材２２が可動範囲を移動する移動期間において、終端光学素子１３と第２部材２２（部分２２１）との間には、常に保護部２１１が配置される。保護部２１１は、終端光学素子１３と第２部材２２（部分２２１）とが対向することを阻止する。

本実施形態において、第２部材２２（部分２２１）は、下面２５の領域２５３の下方において移動する。すなわち、光軸ＡＸに対する放射方向に関して、第２部材２２の部位４８が領域２５３の内縁（角部Ｋｃ）よりも内側に移動しないように、第２部材２２の部位４８が、下面２５の下方において移動する。換言すれば、第２部材２２（第２部材２２の部位４８）は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して領域２５１及び領域２５２の外側において移動する。

なお、第２部材２２（部分２２１）は、下面２５の領域２５２及び領域２５３の下方において移動してもよい。すなわち、光軸ＡＸに対する放射方向に関して、第２部材２２の部位４８が領域２５２の内縁（角部Ｋｂ）よりも内側に移動しないように、第２部材２２の部位４８が、下面２５の下方において移動してもよい。換言すれば、第２部材２２（第２部材２２の部位４８）は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して領域２５１の外側において移動してもよい。

すなわち、第２部材２２は、第１部材２１の凹部１６の下方において移動してもよい。

図７及び図８に示すように、保護部２１１（壁部５０）の最下部の部位４７は、第２部材２２の上面２９よりも上方に配置される。光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して部位４７の外側において、第１部材２１と上面２９との間に間隙が形成される。終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関して、部位４７と上面２９との間隙の寸法（距離）Ｇ１ａは、第１部材２１と上面２９との間隙の寸法（距離）Ｇ１ｂよりも小さい。

寸法Ｇ１ａは、Ｚ軸方向に関する部位４７と領域２９２との距離である。寸法Ｇ１ｂは、Ｚ軸方向に関する領域２５２又は領域２５３と領域２９２との距離である。

寸法Ｇ１ａは、Ｚ軸方向に関する部位４７と領域２９１との距離でもよい。寸法Ｇ１ｂは、Ｚ軸方向に関する領域２５２又は領域２５３と領域２９１との距離でもよい。

次に、第２部材２２の動作の一例について説明する。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動と協調して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と独立して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して移動可能である。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐが移動される期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、基板Ｐの移動方向に移動可能である。例えば、基板ＰがＸＹ平面内における一方向（例えば＋Ｘ軸方向）に移動されるとき、第２部材２２は、その基板Ｐの移動と同期して、ＸＹ平面内における一方向（＋Ｘ軸方向）に移動可能である。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態において移動可能である。第２部材２２は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触した状態において移動可能である。第２部材２２は、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在する状態において移動可能である。

第２部材２２は、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液体回収部４２からの液体ＬＱの回収と並行して移動可能である。第２部材２２は、液体回収部４３からの液体ＬＱの回収と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給及び液体回収部４２（液体回収部４３）からの液体ＬＱの回収と並行して移動可能である。

第２部材２２は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動可能である。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動可能である。

第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）とが対向しない状態において移動してもよい。例えば、第２部材２２は、その第２部材２２の下方に物体が存在しない状態において移動してもよい。

第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが存在しない状態において移動してもよい。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されていない状態において移動してもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて移動する。制御装置６は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して第２部材２２を移動する。

制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成され続けるように、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給と液体回収部４２からの液体ＬＱの回収及び液体回収部４３からの液体ＬＱの回収とを行いながら、第２部材２２を移動する。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が小さくなるように移動可能である。また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。

例えば、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と同期して移動してもよい。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）に追従するように移動してもよい。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動してもよい。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ軸方向移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ軸方向に移動可能である。基板Ｐ（物体）が−Ｘ軸方向移動するとき、第２部材２２は−Ｘ軸方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ軸方向に移動しつつ＋Ｙ軸方向（又は−Ｙ軸方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ軸方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が−Ｘ軸方向に移動しつつ＋Ｙ軸方向（又は−Ｙ軸方向）に移動するとき、第２部材２２は−Ｘ軸方向に移動可能である。

すなわち、本実施形態においては、基板Ｐ（物体）がＸ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２はＸ軸方向に移動する。例えば、Ｘ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＸ軸方向に移動してもよい。

なお、第２部材２２がＹ軸方向に移動可能でもよい。基板Ｐ（物体）がＹ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。例えば、Ｙ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、基板Ｐ（物体）との相対速度差が小さくなるように、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。

次に、上述の露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

以下の説明においては、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給部４１から液体ＬＱが供給されるとともに、液体回収部４２及び液体回収部４３のそれぞれから液体ＬＱが回収されることとする。

なお、液浸空間ＬＳを形成するために、例えば液体供給部４１から液体ＬＱを供給し、液体回収部４３から液体ＬＱを回収し、液体回収部４２から液体ＬＱを回収しなくてもよい。

液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給と、液体回収部４２からの液体ＬＱの回収及び液体回収部４３からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。

露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給と並行して液体回収部４２からの液体ＬＱの回収及び液体回収部４３からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。

制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。

本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。

図９は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置される。制御装置６は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬに対して、第１保持部に保持されている基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動しつつ、射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、射出面１２から射出された露光光ＥＬで、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

例えば基板Ｐの１つのショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から射出される露光光ＥＬ（投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介してそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像がそのショット領域Ｓに投影され、そのショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。

そのショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、そのショット領域Ｓの露光を開始する。

制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域のそれぞれを順次露光する。

以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光終了後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。

本実施形態において、スキャン移動動作は、あるショット領域Ｓが露光開始位置に配置されている状態から露光終了位置に配置される状態になるまで基板ＰがＹ軸方向に移動する動作を含む。ステップ移動動作は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に配置されている状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置される状態になるまで基板ＰがＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に移動する動作を含む。

露光開始位置は、あるショット領域Ｓの露光のために、そのショット領域ＳのＹ軸方向に関する一端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。露光終了位置は、露光光ＥＬが照射されたそのショット領域ＳのＹ軸方向に関する他端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。

ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作開始位置を含む。ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作終了位置を含む。

ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作終了位置を含む。ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓの露光終了後、次のショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作開始位置を含む。

以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光のためにスキャン移動動作が行われる期間を適宜、スキャン移動期間、と称する。以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始のためにステップ移動動作が行われる期間を適宜、ステップ移動期間、と称する。

スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓの露光開始から露光終了までの露光期間を含む。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの基板Ｐの移動期間を含む。

スキャン移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。スキャン移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射される。ステップ移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出されない。ステップ移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射されない。

制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、主にＹ軸方向に関する等速移動である。ステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動及びＸ軸方向に関する加減速移動の一方又は両方を含む。

なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される場合がある。スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板Ｐと基板ステージ２（カバー部材Ｔ）とを跨ぐように形成される場合がある。基板ステージ２と計測ステージ３とが接近又は接触した状態で基板Ｐの露光が行われる場合、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板ステージ２（カバー部材Ｔ）と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。

制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。

露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓの配列情報（基板Ｐにおける複数のショット領域Ｓそれぞれの位置）を含む。また、露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓのそれぞれの寸法情報（Ｙ軸方向に関する寸法情報）を含む。

制御装置６は、記憶装置７に記憶されている露光条件（露光制御情報）に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。

一例として、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光するとき、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図９中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して複数のショット領域Ｓのそれぞれを露光光ＥＬで順次露光する。制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２の移動と並行して、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（基板ステージ２）がステップ移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材２１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように、移動してもよい。

また、第２部材２２は、基板Ｐ（基板ステージ２）がスキャン移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材２１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように、移動してもよい。

なお、スキャン移動動作中に第２部材２２が移動しなくてもよい。すなわち、射出面１２からの露光光ＥＬの射出と並行して第２部材２２が移動しなくてもよい。

図１０は、第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図１０は、第２部材２２を上方から見た図である。

本実施形態において、第２部材２２はＸ軸方向に移動する。なお、上述のように、第２部材２２は、Ｙ軸方向に移動してもよいし、Ｘ軸方向（又はＹ軸方向）の成分を含むＸＹ平面内における任意の方向に移動してもよい。

第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して規定された可動範囲（移動可能範囲）を移動する。射出面１２からの露光光ＥＬが第１開口部２３及び第２開口部２８を通過するとともに、第２部材２２が第１部材２１に接触しないように、第２部材２２の可動範囲が定められる。

基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、図１０（Ａ）〜図１０（Ｅ）に示すように、Ｘ軸方向に移動する。図１０（Ａ）は、移動可能範囲の最も＋Ｘ側の端の位置Ｊｒに第２部材２２が配置されている状態を示す。図１０（Ｃ）は、移動可能範囲の中央の位置Ｊｍに第２部材２２が配置されている状態を示す。図１０（Ｅ）は、移動可能範囲の最も−Ｘ側の端の位置Ｊｓに第２部材２２が配置されている状態を示す。

以下の説明において、図１０（Ａ）に示す第２部材２２の位置Ｊｒを適宜、第１端部位置Ｊｒ、と称する。図１０（Ｃ）に示す第２部材２２の位置Ｊｍを適宜、中央位置Ｊｍ、と称する。図１０（Ｅ）に示す第２部材２２の位置Ｊｓを適宜、第２端部位置Ｊｓ、と称する。

また、図１０（Ｂ）は、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒと中央位置Ｊｍとの間の位置Ｊｒｍに配置されている状態を示す。図１０（Ｄ）は、第２部材２２が第２端部位置Ｊｓと中央位置Ｊｍとの間の位置Ｊｓｍに配置されている状態を示す。

なお、本実施形態において、第２部材２２が中央位置Ｊｍに配置される状態は、第２部材２２の第２開口部２８の中心と終端光学素子１３の光軸ＡＸとが実質的に一致している状態を含む。第２開口部２８の中心が光軸ＡＸに一致する第２部材２２の位置を、原点、と称してもよい。

第２部材２２の移動可能範囲の寸法は、Ｘ軸方向に関する第１端部位置Ｊｒと第２端部位置Ｊｓとの距離を含む。

制御装置６は、終端光学素子１３（投影領域ＰＲ）に対する第２部材２２の位置を異ならせることができる。制御装置６は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓのうち選択された２つの位置の間において第２部材２２を移動可能である。制御装置６は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓの少なくとも一つにおいて第２部材２２を停止可能である。制御装置６は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓに限らず、それ以外の任意の位置において、第２部材２２を停止可能であってもよい。

位置Ｊｒと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離は、位置Ｊｒｍと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離よりも長い。位置Ｊｓと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離は、位置Ｊｓｍと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離よりも長い。

制御装置６は、定められた移動条件で第２部材２２を移動可能である。第２部材２２の移動条件は、移動方向、移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを含む。制御装置６は、第２部材２２の移動方向、移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを制御可能である。

本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒに配置されている状態において、第２部材２２の部位４８は、光路ＡＴに対して第１部材２１の部位４７の外側に配置される。第２部材２２が第２端部位置Ｊｓに配置されている状態において、第２部材２２の部位４８は、光路ＡＴに対して第１部材２１の部位４７の外側に配置される。

本実施形態においては、第２部材２２が位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓのいずれに配置されている状態においても、第２部材２２の部位４８は、光路ＡＴに対して第１部材２１の部位４７の外側に配置され続ける。

図１１は、基板Ｐを＋Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動を行いながら、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ、及びショット領域Ｓｃのそれぞれを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃは、Ｘ軸方向に配置される。

図１１に示すように、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるとき、終端光学素子１３の下において、投影領域ＰＲが基板Ｐの位置ｄ１に配置される状態からその位置ｄ１に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ２に配置される状態までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２に配置される状態からその位置ｄ２に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ３に配置される状態までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３に配置される状態からその位置ｄ３に対して−Ｙ側に隣り合う位置ｄ４に配置される状態までの経路Ｔｐ３、位置ｄ４に配置される状態からその位置ｄ４に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ５に配置される状態までの経路Ｔｐ４、及び位置ｄ５に配置される状態からその位置ｄ５に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ６に配置される状態までの経路Ｔｐ５を、基板Ｐは順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。

経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。経路Ｔｐ１は、基板Ｐが−Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが＋Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが−Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが−Ｘ軸方向を主成分とする方向に移動する経路である。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｃに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４を移動するとき、露光光ＥＬは照射されない。

基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作、経路Ｔｐ３を移動する動作、及び経路Ｔｐ５を移動する動作のそれぞれは、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作のそれぞれは、ステップ移動動作を含む。

すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間、経路Ｔｐ３を移動する期間、及び経路Ｔｐ５を移動する期間のそれぞれは、スキャン移動期間（露光期間）である。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間、及び経路Ｔｐ４を移動する期間のそれぞれは、ステップ移動期間である。

図１２及び図１３は、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるときの第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図１２及び図１３は、第２部材２２を上方から見た図である。

基板Ｐが位置ｄ１にあるとき、図１２（Ａ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｓに配置される。

基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、図１２（Ｂ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）とは逆の＋Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ａ）に示す状態から図１２（Ｂ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ軸方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、図１２（Ｃ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｍに配置される。

基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、図１２（Ｄ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｓに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）と同じ−Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｒから位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｓｍを経て、位置Ｊｍまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｂ）に示す状態から図１２（Ｃ）に示す状態を経て図１２（Ｄ）に示す状態に変化するように、−Ｘ軸方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、図１３（Ａ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）とは逆の＋Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｄ）に示す状態から図１３（Ａ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ軸方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、図１３（Ｂ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｍに配置される。

基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、図１３（Ｃ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｓに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）と同じ−Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｒから位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｓｍを経て、位置Ｊｍまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材２２は、図１３（Ａ）に示す状態から図１３（Ｂ）に示す状態を経て図１３（Ｃ）に示す状態に変化するように、−Ｘ軸方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、図１３（Ｄ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）とは逆の＋Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、第２部材２２は、図１３（Ｃ）に示す状態から図１３（Ｄ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ軸方向に移動する。

すなわち、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２に沿って移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐとの相対移動が小さくなるように、−Ｘ軸方向に移動する。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが−Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作する期間の少なくとも一部に、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、−Ｘ軸方向に移動する。同様に、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４に沿って移動する期間の少なくとも一部において、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、−Ｘ軸方向に移動する。

また、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３に沿って移動する期間の少なくとも一部において、＋Ｘ軸方向に移動する。これにより、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４の移動において、第２部材２２が−Ｘ軸方向に移動しても露光光ＥＬが第１、第２開口部２３、３０を通過可能であり、第１部材２１と第２部材２２との接触が抑制される。基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ５を移動する場合も同様である。

すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と−Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように第２部材２２が位置Ｊｒから位置Ｊｓへ−Ｘ軸方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部材２２が再度−Ｘ軸方向に移動できるように、第２部材２２が位置Ｊｓから位置Ｊｒへ戻る。すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が＋Ｘ軸方向に移動するので、第２開口部２８の寸法が必要最小限に抑えられ、第１部材２１と第２部材２２との接触が抑制される。

また、本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒ（第２端部位置Ｊｓ）に配置されても、流体回収部４３の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。これにより、例えばステップ移動動作において、流体回収部４３は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収することができる。

なお、図１２及び図１３を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が第２端部位置Ｊｓに配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第２端部位置Ｊｓとの間の位置Ｊｓｍに配置されてもよい。

なお、図１２及び図１３を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒに配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第１端部位置Ｊｒとの間の位置Ｊｒｍに配置されてもよい。

また、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍとは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、例えば中央位置Ｊｍと第２端部位置Ｊｓとの間の位置Ｊｓｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第１端部位置Ｊｒとの間の位置Ｊｒｍに配置されてもよい。

なお、基板Ｐのスキャン移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、停止してもよいし、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）と同じ−Ｘ軸方向に移動してもよい。

なお、基板Ｐのステップ移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、停止してもよいし、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）とは逆の＋Ｘ軸方向に移動してもよい。

すなわち、基板Ｐの移動期間（スキャン移動期間及びステップ移動期間）の一部において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動し、基板Ｐの移動期間の一部において、停止したり、相対速度が大きくなるように移動したりしてもよい。

以上説明したように、本実施形態によれば、第１部材２１に対して移動可能な第２部材２２を設けたので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ等の物体がＸＹ平面内において移動しても、例えば液体ＬＱが液浸部材５と物体との間の空間から流出したり、物体上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。

すなわち、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ等の物体がＸＹ平面内において高速で移動する場合、その物体と対向する部材（液浸部材など）が静止していると、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりする可能性がある。

本実施形態においては、第２部材２２は、例えば基板Ｐ等の物体との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように移動可能である。そのため、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体が高速度で移動しても、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりすることが抑制される。

また、本実施形態において、液浸部材５は、終端光学素子１３を保護する保護部２１１（壁部５０）を有する。そのため、例えば第２部材２２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したり、液浸空間ＬＳにおいて液体ＬＱが高速で流動したりしても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

また、基板Ｐ（物体）の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したり、液浸空間ＬＳにおいて液体ＬＱが高速で流動したりする可能性もある。また、第２部材２２の移動及び基板Ｐ（物体）の移動とは別の理由で、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したり、液浸空間ＬＳにおいて液体ＬＱが高速で流動したりする可能性もある。その場合においても、保護部２１１（壁部５０）により、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

これにより、終端光学素子１３が動いたり、終端光学素子１３が変形したり、終端光学素子１３の光学特性が変動したりすることが抑制される。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。

また、本実施形態においては、保護部２１１は、光路ＡＴの周囲の少なくとも一部に配置される。これにより、露光光ＥＬの通路（光路）を確保しつつ、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

また、本実施形態においては、保護部２１１は、終端光学素子１３と第２部材２２との間に配置される。これにより、第２部材２２の移動に起因する、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

また、本実施形態においては、保護部２１１（壁部５０）は、第２部材２２の移動期間において終端光学素子１３と第２部材２２とが対向しないように、終端光学素子１３と第２部材２２との間に配置される。これにより、第２部材２２の移動に起因する、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を効果的に低減することができる。

また、本実施形態においては、第２部材２２の部位４８は、光路ＡＴに対して第１部材２１の部位４７の外側に配置され続ける。したがって、第２部材２２が移動しても、第２開口部２８の内側の液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を効果的に低減することができる。

また、本実施形態において、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に面する第２部材２２の領域２９１は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。これにより、第２部材２２の領域２９１（光路ＡＴに面する第２部材２２の端面）が液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材２２は円滑に移動可能である。また、第２部材２２の領域２９１が液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材２２が移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力の変動が抑制される。

＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１４は、本実施形態に係る液浸部材５Ｂの一例を示す図である。液浸部材５Ｂは、保護部２１１を含む第１部材２１Ｂと、少なくとも一部が保護部２１１Ｂと対向する部分２２１Ｂを含む第２部材２２Ｂとを有する。保護部２１１Ｂは、終端光学素子１３と第２部材２２Ｂとの間に配置される壁部５０Ｂを含む。保護部２１１Ｂは、第１部材２１Ｂの下面２５Ｂのうち、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｂを含む。保護部２１１Ｂは、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｂを有する。部位４７Ｂは、保護部２１１Ｂの最下部である。部位（最下部）４７Ｂは、第１部材２１Ｂのうち、基板Ｐ（物体）の上面に最も近い部位である。

第１部材２１Ｂは、第２部材２２Ｂが対向可能な凹部１６Ｂを有する。第２部材２２Ｂの少なくとも一部は、第１部材２１Ｂの凹部１６Ｂの下方において移動可能である。

図１４に示すように、第２部材２２Ｂの少なくとも一部が、領域２５１Ｂの下方に移動してもよい。第２部材２２Ｂの少なくとも一部が、第１部材２１Ｂの部位４７Ｂの下方に移動してもよい。光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｂの部位４８Ｂが、第１部材２１Ｂの部位４７Ｂよりも光路ＡＴ側に配置されるように、第２部材２２Ｂが移動してもよい。

第２部材２２Ｂの移動方向に関して第１開口部２３Ｂの寸法よりも大きい寸法の第２開口部２８Ｂを有する第２部材２２Ｂの部位４８Ｂが第１部材２１Ｂの部位４７Ｂよりも光路ＡＴ側に配置されるように、第２部材２２Ｂが移動してもよい。

第２部材２２Ｂの部位４８Ｂが第１部材２１Ｂの部位４７Ｂよりも光路ＡＴ側に配置されるように、第２部材２２Ｂの移動方向に関して、第２開口部２８Ｂの寸法が第１開口部２３Ｂの寸法よりも小さくてもよい。

部位４８Ｂを含む第２部材２２Ｂの少なくとも一部が、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。

光路ＡＴに対して第１部材２１Ｂの部位（最下部）４７Ｂの外側において、第１部材２１Ｂと第２部材２２Ｂの上面２９Ｂとの間に間隙が形成される。終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関して、部位４７Ｂと上面２９Ｂとの距離Ｇ１ａは、第１部材２１Ｂと第２部材２２Ｂの上面２９Ｂとの間隙の寸法Ｇ１ｂよりも小さい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１５は、本実施形態に係る液浸部材５Ｃの一例を示す。液浸部材５Ｃは、保護部２１１Ｃ（壁部５０Ｃ）を含む第１部材２１Ｃと、少なくとも一部が保護部２１１Ｃと対向する部分２２１Ｃを含む第２部材２２Ｃとを有する。保護部２１１Ｃは、第１部材２１Ｃの下面２５Ｃのうち、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｃを含む。保護部２１１Ｃは、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｃを有する。部位４７Ｃは、保護部２１１Ｃの最下部である。部位（最下部）４７Ｃは、第１部材２１Ｃのうち、基板Ｐ（物体）の上面に最も近い部位である。

本実施形態において、部位４７Ｃは、光軸ＡＸに対する放射方向に関して射出面１２の外側に配置される。部位４７Ｃは、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間の外側に配置される。部位４７Ｃは、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されない。

Ｚ軸方向に関して、部位４７Ｃは、射出面１２の下方に配置される。Ｚ軸方向に関して、保護部２１１Ｃ（保護部２１１Ｃの上面２４Ｃ）は、射出面１２の下方に配置される。

第２部材２２Ｃ（部分２２１Ｃ）は、第１部材２１Ｃ（保護部２１１Ｃ）の下方において、第１部材２１Ｃ（保護部２１１Ｃ）と間隙を介して対向するように配置される。保護部２１１Ｃは、終端光学素子１３と第２部材２２Ｃ（部分２２１Ｃ）との間に配置される。

第１部材２１Ｃは、第２部材２２Ｃが対向可能な凹部１６Ｃを有する。第２部材２２Ｃの少なくとも一部は、第１部材２１Ｃの凹部１６Ｃの下方において移動可能である。

光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｃの部位４８Ｃは、光路ＡＴに対して第１部材２１Ｃの部位４７Ｃの外側に配置される。第２部材２２Ｃの移動期間において、部位４８Ｃは、光路ＡＴに対して部位４７Ｃの外側に配置され続ける。

光路ＡＴに対して第１部材２１Ｃの部位（最下部）４７Ｃの外側において、第１部材２１Ｃと第２部材２２Ｃの上面２９Ｃとの間に間隙が形成される。終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関して、部位４７Ｃと上面２９Ｃとの距離Ｇ１ａは、第１部材２１Ｃと第２部材２２Ｃの上面２９Ｃとの間隙の寸法Ｇ１ｂよりも小さい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

なお、本実施形態において、第２部材２２Ｃの少なくとも一部が、領域２５１Ｃの下方に移動してもよい。第２部材２２Ｃの少なくとも一部が、第１部材２１Ｃの部位４７Ｃの下方に移動してもよい。光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｃの部位４８Ｃが、第１部材２１Ｃの部位４７Ｃよりも光路ＡＴ側に配置されるように、第２部材２２Ｃが移動してもよい。

なお、本実施形態において、第２部材２２Ｃの部位４８Ｃが第１部材２１Ｃの部位４７Ｃよりも光路ＡＴ側に配置されるように、第２部材２２Ｃの移動方向に関して、第２開口部２８Ｃの寸法が第１開口部２３Ｃの寸法よりも小さくてもよい。

なお、本実施形態において、第１部材２１Ｃ（保護部２１１Ｃ）が射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されず、部位４８Ｃを含む第２部材２２Ｃの少なくとも一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。

＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１６は、本実施形態に係る液浸部材５Ｄの一例を示す。液浸部材５Ｄは、保護部２１１Ｄ（壁部５０Ｄ）を含む第１部材２１Ｄと、少なくとも一部が保護部２１１Ｄと対向する部分２２１Ｄを含む第２部材２２Ｄとを有する。保護部２１１Ｄは、第１部材２１Ｄの下面２５Ｄのうち、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｄを含む。保護部２１１Ｄは、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｄを有する。部位４７Ｄは、保護部２１１Ｄの最下部である。部位（最下部）４７Ｄは、第１部材２１Ｄのうち、基板Ｐ（物体）の上面に最も近い部位である。

本実施形態において、部位４７Ｄは、光軸ＡＸに対する放射方向に関して射出面１２の外側に配置される。Ｚ軸方向に関して、部位４７Ｄは、射出面１２の上方に配置される。部位４７Ｄは、外面１３１の周囲に配置される。Ｚ軸方向に関して、保護部２１１Ｄ（保護部２１１Ｄの上面２４Ｄ）は、射出面１２の上方に配置される。

第２部材２２Ｄ（部分２２１Ｄ）は、第１部材２１Ｄ（保護部２１１Ｄ）の下方において、第１部材２１Ｄ（保護部２１１Ｄ）と間隙を介して対向するように配置される。保護部２１１Ｄは、終端光学素子１３と第２部材２２Ｄ（部分２２１Ｄ）との間に配置される。

第１部材２１Ｄは、第２部材２２Ｄが対向可能な凹部１６Ｄを有する。第２部材２２Ｄの少なくとも一部は、第１部材２１Ｄの凹部１６Ｄの下方において移動可能である。

光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｄの部位４８Ｄは、光路ＡＴに対して第１部材２１Ｄの部位４７Ｄの外側に配置される。第２部材２２Ｄの移動期間において、部位４８Ｄは、光路ＡＴに対して部位４７Ｄの外側に配置され続ける。

光路ＡＴに対して第１部材２１Ｄの部位（最下部）４７Ｄの外側において、第１部材２１Ｄと第２部材２２Ｄの上面２９Ｄとの間に間隙が形成される。終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関して、部位４７Ｄと上面２９Ｄとの距離Ｇ１ａは、第１部材２１Ｄと第２部材２２Ｄの上面２９Ｄとの間隙の寸法Ｇ１ｂよりも小さい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

なお、本実施形態において、第２部材２２Ｄの少なくとも一部が、領域２５１Ｄの下方に移動してもよい。第２部材２２Ｄの少なくとも一部が、第１部材２１Ｄの部位４７Ｄの下方に移動してもよい。光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｄの部位４８Ｄが、第１部材２１Ｄの部位４７Ｄよりも光路ＡＴ側に配置されるように、第２部材２２Ｄが移動してもよい。

なお、本実施形態において、第２部材２２Ｄの部位４８Ｄが第１部材２１Ｄの部位４７Ｄよりも光路ＡＴ側に配置されるように、第２部材２２Ｄの移動方向に関して、第２開口部２８Ｄの寸法が第１開口部２３Ｄの寸法よりも小さくてもよい。

なお、本実施形態において、第１部材２１Ｄ（保護部２１１Ｄ）が射出面１２よりも上方に配置され、部位４８Ｄを含む第２部材２２Ｄの少なくとも一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。

＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１７は、本実施形態に係る液浸部材５Ｅの一例を示す。液浸部材５Ｅは、保護部２１１Ｅ（壁部５０Ｅ）を含む第１部材２１Ｅと、少なくとも一部が保護部２１１Ｅと対向する部分２２１Ｅを含む第２部材２２Ｅとを有する。保護部２１１Ｅ（壁部５０Ｅ）は、終端光学素子１３と第２部材２２Ｅとの間に配置される。

保護部２１１Ｅは、第２部材２２Ｅの少なくとも一部が対向可能な下面２５Ｅを有する。下面２５Ｅは、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｅと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｅの外側に配置される領域２５２Ｅと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｅの外側に配置される領域２５３Ｅとを含む。

領域２５１Ｅは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５２Ｅは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２５３Ｅは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

保護部２１１Ｅは、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｅを有する。部位４７Ｅは、保護部２１１Ｅの最下部である。部位（最下部）４７Ｅは、第１部材２１Ｅのうち、基板Ｐ（物体）の上面に最も近い部位である。

第２部材２２Ｅ（部分２２１Ｅ）は、第１部材２１Ｅ（保護部２１１Ｅ）の下方において、第１部材２１Ｅ（保護部２１１Ｅ）と間隙を介して対向するように配置される。第２部材２２Ｅは、少なくとも一部が第１部材２１Ｅと対向する上面２９Ｅと、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面３０Ｅとを有する。

上面２９Ｅは、光路ＡＴに最も近い領域２９１Ｅと、光路ＡＴに対して領域２９１Ｅの外側に配置される領域２９２Ｅとを含む。領域２９１Ｅは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２９２Ｅは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面３０Ｅは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に対して実質的に垂直である。

本実施形態において、保護部２１１Ｅ（壁部５０Ｅ）の部位（最下部）４７Ｅは、第２部材２２Ｅの上面２９Ｅと実質的に同じ高さである。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、部位４７Ｅの位置は、上面２９Ｅの位置と実質的に等しい。図１７に示す例では、部位４７Ｅは、上面２９Ｅの領域２９２Ｅと実質的に同じ高さである。なお、部位４７Ｅが、上面２９Ｅの領域２９１Ｅと実質的に同じ高さでもよい。

第１部材２１Ｅは、第２部材２２Ｅが対向可能な凹部１６Ｅを有する。凹部１６Ｅの内側に領域２５２Ｅ及び領域２５３Ｅが配置される。第２部材２２Ｅ（部分２２１Ｅ）の少なくとも一部は、凹部１６Ｅの下方において移動する。第２部材２２Ｅ（部分２２１Ｅ）の少なくとも一部は、領域２５２Ｅ及び領域２５３Ｅの下方において移動する。

光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｅの部位４８Ｅは、光路ＡＴに対して第１部材２１Ｅの部位４７Ｅの外側に配置される。第２部材２２Ｅの移動期間において、部位４８Ｅは、光路ＡＴに対して部位４７Ｅの外側に配置され続ける。

本実施形態においては、第２部材２２Ｅの移動期間において、部位４８Ｅは、光路ＡＴに対して領域２５１Ｅの外側に配置され続ける。なお、部位４８Ｅが、領域２５１Ｅの下方に移動してもよい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１８は、本実施形態に係る液浸部材５Ｆの一例を示す。液浸部材５Ｆは、保護部２１１Ｆ（壁部５０Ｆ）を含む第１部材２１Ｆと、少なくとも一部が保護部２１１Ｆと対向する部分２２１Ｆを含む第２部材２２Ｆとを有する。保護部２１１Ｆ（壁部５０Ｆ）は、終端光学素子１３と第２部材２２Ｆとの間に配置される。

保護部２１１Ｆは、第２部材２２Ｆの少なくとも一部が対向可能な下面２５Ｆを有する。下面２５Ｆは、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｆと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｆの外側に配置される領域２５２Ｆと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｆの外側に配置される領域２５３Ｆとを含む。

領域２５１Ｆは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５２Ｆは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２５３Ｆは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

保護部２１１Ｆは、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｆを有する。部位４７Ｆは、保護部２１１Ｆの最下部である。部位（最下部）４７Ｆは、第１部材２１Ｆのうち、基板Ｐ（物体）の上面に最も近い部位である。

第２部材２２Ｆ（部分２２１Ｆ）は、第１部材２１Ｆ（保護部２１１Ｆ）の下方において、第１部材２１Ｆ（保護部２１１Ｆ）と間隙を介して対向するように配置される。第２部材２２Ｆは、少なくとも一部が第１部材２１Ｆと対向する上面２９Ｆと、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面３０Ｆとを有する。

上面２９Ｆは、光路ＡＴに最も近い領域２９１Ｆと、光路ＡＴに対して領域２９１Ｆの外側に配置される領域２９２Ｆとを含む。領域２９１Ｆは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２９２Ｆは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面３０Ｆは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に対して実質的に垂直である。

本実施形態において、保護部２１１Ｆ（壁部５０Ｆ）の部位（最下部）４７Ｆは、第２部材２２Ｆの上面２９Ｆよりも下方に配置される。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、部位４７Ｆの位置は、上面２９Ｆの位置よりも−Ｚ側（物体側）に配置される。すなわち、上面２９Ｆは、部位４７Ｆ及び領域２５１Ｆよりも上方に配置される。

本実施形態において、保護部２１１Ｆ（壁部５０Ｆ）の部位（最下部）４７Ｆは、第２部材２２Ｆの下面３０Ｆよりも上方に配置される。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、部位４７Ｆの位置は、下面３０Ｆの位置よりも＋Ｚ側（基板Ｐ側）に配置される。すなわち、下面３０Ｆは、部位４７Ｆ及び領域２５１Ｆよりも下方に配置される。

第１部材２１Ｆは、第２部材２２Ｆが対向可能な凹部１６Ｆを有する。凹部１６Ｆの内側に領域２５２Ｆ及び領域２５３Ｆが配置される。第２部材２２Ｆ（部分２２１Ｆ）の少なくとも一部は、凹部１６Ｆの下方において移動する。第２部材２２Ｆ（部分２２１Ｆ）の少なくとも一部は、領域２５２Ｆ及び領域２５３Ｆの下方において移動する。

本実施形態において、第２部材２２Ｆ（部分２２１Ｆ）の少なくとも一部は、凹部１６Ｆの内側において移動する。

光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｆの部位４８Ｆは、光路ＡＴに対して第１部材２１Ｆの部位４７Ｆの外側に配置される。第２部材２２Ｆの移動期間において、部位４８Ｆは、光路ＡＴに対して部位４７Ｆの外側に配置され続ける。

本実施形態においては、第２部材２２Ｆの移動期間において、部位４８Ｆは、光路ＡＴに対して領域２５１Ｆの外側に配置され続ける。なお、部位４８Ｆが、領域２５１Ｆの下方に移動してもよい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第７実施形態＞
第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１９は、本実施形態に係る液浸部材５Ｇの一例を示す。液浸部材５Ｇは、保護部２１１Ｇ（壁部５０Ｇ）を含む第１部材２１Ｇと、少なくとも一部が保護部２１１Ｇと対向する部分２２１Ｇを含む第２部材２２Ｇとを有する。保護部２１１Ｇ（壁部５０Ｇ）は、終端光学素子１３と第２部材２２Ｇとの間に配置される。

保護部２１１Ｇは、第２部材２２Ｇの少なくとも一部が対向可能な下面２５Ｇを有する。下面２５Ｇは、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｇと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｇの外側に配置される領域２５２Ｇと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｇの外側に配置される領域２５３Ｇとを含む。

領域２５１Ｇは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５２Ｇは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２５３Ｇは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

保護部２１１Ｇは、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｇを有する。部位４７Ｇは、保護部２１１Ｇの最下部である。部位（最下部）４７Ｇは、第１部材２１Ｇのうち、基板Ｐ（物体）の上面に最も近い部位である。

第２部材２２Ｇ（部分２２１Ｇ）は、第１部材２１Ｇ（保護部２１１Ｇ）の下方において、第１部材２１Ｇ（保護部２１１Ｇ）と間隙を介して対向するように配置される。第２部材２２Ｇは、少なくとも一部が第１部材２１Ｇと対向する上面２９Ｇと、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面３０Ｇとを有する。

上面２９Ｇは、光路ＡＴに最も近い領域２９１Ｇと、光路ＡＴに対して領域２９１Ｇの外側に配置される領域２９２Ｇとを含む。領域２９１Ｇは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２９２Ｇは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面３０Ｇは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

本実施形態において、保護部２１１Ｇ（壁部５０Ｇ）の部位（最下部）４７Ｇは、第２部材２２Ｇの下面３０Ｇと実質的に同じ高さである。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、部位４７Ｇの位置は、下面３０Ｇの位置と実質的に等しい。

第１部材２１Ｇは、第２部材２２Ｇが対向可能な凹部１６Ｇを有する。凹部１６Ｇの内側に領域２５２Ｇ及び領域２５３Ｇが配置される。第２部材２２Ｇ（部分２２１Ｇ）の少なくとも一部は、凹部１６Ｇの内側において移動する。第２部材２２Ｇ（部分２２１Ｇ）の少なくとも一部は、領域２５２Ｇ及び領域２５３Ｇの下方において移動する。

光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｇの部位４８Ｇは、光路ＡＴに対して第１部材２１Ｇの部位４７Ｇ（領域２５１Ｇ）の外側に配置される。第２部材２２Ｇの移動期間において、部位４８Ｇは、光路ＡＴに対して部位４７Ｇ（領域２５１Ｇ）の外側に配置され続ける。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第８実施形態＞
第８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２０は、本実施形態に係る液浸部材５Ｈの一例を示す。液浸部材５Ｈは、保護部２１１Ｈ（壁部５０Ｈ）を含む第１部材２１Ｈと、少なくとも一部が保護部２１１Ｈと対向する部分２２１Ｈを含む第２部材２２Ｈとを有する。保護部２１１Ｈ（壁部５０Ｈ）は、終端光学素子１３と第２部材２２Ｈとの間に配置される。

保護部２１１Ｈは、第２部材２２Ｈの少なくとも一部が対向可能な下面２５Ｈを有する。下面２５Ｈは、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｈと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｈの外側に配置される領域２５２Ｈと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｈの外側に配置される領域２５３Ｈとを含む。

領域２５１Ｈは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５２Ｈは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２５３Ｈは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

保護部２１１Ｈは、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｈを有する。部位４７Ｈは、保護部２１１Ｈの最下部である。部位（最下部）４７Ｈは、第１部材２１Ｈのうち、基板Ｐ（物体）の上面に最も近い部位である。

第２部材２２Ｈ（部分２２１Ｈ）は、第１部材２１Ｈ（保護部２１１Ｈ）の下方において、第１部材２１Ｈ（保護部２１１Ｈ）と間隙を介して対向するように配置される。第２部材２２Ｈは、少なくとも一部が第１部材２１Ｈと対向する上面２９Ｈと、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面３０Ｈとを有する。

上面２９Ｈは、光路ＡＴに最も近い領域２９１Ｈと、光路ＡＴに対して領域２９１Ｈの外側に配置される領域２９２Ｈとを含む。領域２９１Ｈは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２９２Ｈは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面３０Ｈは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に対して実質的に垂直である。

本実施形態において、保護部２１１Ｈ（壁部５０Ｈ）の部位（最下部）４７Ｈは、第２部材２２Ｈの下面３０Ｈよりも下方に配置される。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、部位４７Ｈの位置は、下面３０Ｈの位置よりも−Ｚ側（基板Ｐ側）に配置される。すなわち、下面３０Ｈは、部位４７Ｈ及び領域２５１Ｈよりも上方に配置される。

第１部材２１Ｈは、第２部材２２Ｈが対向可能な凹部１６Ｈを有する。凹部１６Ｈの内側に領域２５２Ｈ及び領域２５３Ｈが配置される。第２部材２２Ｈ（部分２２１Ｈ）の少なくとも一部は、凹部１６Ｈの内側において移動する。第２部材２２Ｈ（部分２２１Ｈ）の少なくとも一部は、領域２５２Ｈ及び領域２５３Ｈの下方において移動する。

光路ＡＴに最も近い第２部材２２Ｈの部位４８Ｈは、光路ＡＴに対して第１部材２１Ｈの部位４７Ｈ（領域２５１Ｈ）の外側に配置される。第２部材２２Ｈの移動期間において、部位４８Ｈは、光路ＡＴに対して部位４７Ｈ（領域２５１Ｈ）の外側に配置され続ける。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第９実施形態＞
第９実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２１は、本実施形態に係る保護部２１１Ｉ（壁部５０Ｉ）の一例を示す図である。保護部２１１Ｉは、上面２４Ｉと、少なくとも一部が第２部材（２２など）と対向可能な下面２５Ｉとを有する。

上面２４Ｉは、光路ＡＴに最も近い領域２４１Ｉと、光路ＡＴに対して領域２４１Ｉの外側に配置される領域２４２Ｉとを含む。

領域２４１Ｉは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２４２Ｉは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面２５Ｉは、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｉと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｉの外側に配置される領域２５２Ｉと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｉの外側に配置される領域２５３Ｉとを含む。

領域２５１Ｉは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５２Ｉは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に平行である。領域２５３Ｉは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５３Ｉは、領域２５１Ｉよりも上方に配置される。下面２５Ｉは、領域２５１Ｉと領域２５３Ｉとの間に段差を有する。

保護部２１１Ｉ（壁部５０Ｉ）は、第２部材（２２など）が対向可能な凹部１６Ｉを有する。凹部１６Ｉの内側に領域２５２Ｉ及び領域２５３Ｉが配置される。

本実施形態において、保護部２１１Ｉのうち、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｉは、領域２４１Ｉと領域２５１Ｉとの間に形成される角部Ｋｓｉを含む。角部Ｋｓｉは、保護部２１１Ｉの最下部である。本実施形態において、保護部２１１Ｉの最下部は、角部Ｋｓｉ及び領域２５１Ｉを含む。

第２部材（２２など）は、凹部１６Ｉの下方で移動してもよいし、凹部１６Ｉの内側で移動してもよい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第１０実施形態＞
第１０実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２２は、本実施形態に係る保護部２１１Ｊ（壁部５０Ｊ）の一例を示す図である。保護部２１１Ｊは、上面２４Ｊと、少なくとも一部が第２部材（２２など）と対向可能な下面２５Ｊとを有する。

上面２４Ｊは、光路ＡＴに最も近い領域２４１Ｊと、光路ＡＴに対して領域２４１Ｊの外側に配置される領域２４２Ｊとを含む。

領域２４１Ｊは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に平行である。領域２４２Ｊは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面２５Ｊは、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｊと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｊの外側に配置される領域２５２Ｊと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｊの外側に配置される領域２５３Ｊとを含む。

領域２５１Ｊは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５２Ｊは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に平行である。領域２５３Ｊは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５３Ｊは、領域２５１Ｊよりも上方に配置される。下面２５Ｊは、領域２５１Ｊと領域２５３Ｊとの間に段差を有する。

保護部２１１Ｊ（壁部５０Ｊ）は、第２部材（２２など）が対向可能な凹部１６Ｊを有する。凹部１６Ｊの内側に領域２５２Ｊ及び領域２５３Ｊが配置される。

本実施形態において、保護部２１１Ｊのうち、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｊは、領域２４１Ｊと領域２５１Ｊとの間に形成される角部Ｋｓｊを含む。また、保護部２１１Ｊのうち、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｊは、領域２４１Ｊを含む。

本実施形態において、保護部２１１Ｊの最下部は、角部Ｋｓｊを含む。また、保護部２１１Ｊの最下部は、領域２５１Ｊを含む。

すなわち、本実施形態において、保護部２１１Ｊのうち、光路ＡＴに最も近い最下部は、角部Ｋｓｊを含む。

第２部材（２２など）は、凹部１６Ｊの下方で移動してもよいし、凹部１６Ｊの内側で移動してもよい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第１１実施形態＞
第１１実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２３は、本実施形態に係る保護部２１１Ｋ（壁部５０Ｋ）の一例を示す図である。保護部２１１Ｋは、上面２４Ｋと、少なくとも一部が第２部材（２２など）と対向可能な下面２５Ｋとを有する。

上面２４Ｋは、光路ＡＴに最も近い領域２４１Ｋと、光路ＡＴに対して領域２４１Ｋの外側に配置される領域２４２Ｋとを含む。

領域２４１Ｋは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に平行である。領域２４２Ｋは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面２５Ｋは、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｋと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｋの外側に配置される領域２５２Ｋと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｋの外側に配置される領域２５３Ｋとを含む。

領域２５１Ｋは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５２Ｋは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２５３Ｋは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５３Ｋは、領域２５１Ｋよりも上方に配置される。下面２５Ｋは、領域２５１Ｋと領域２５３Ｋとの間に段差を有する。

保護部２１１Ｋ（壁部５０Ｋ）は、第２部材（２２など）が対向可能な凹部１６Ｋを有する。凹部１６Ｋの内側に領域２５２Ｋ及び領域２５３Ｋが配置される。

本実施形態において、保護部２１１Ｋのうち、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｋは、領域２４１Ｋと領域２５１Ｋとの間に形成される角部Ｋｓｋを含む。また、保護部２１１Ｋのうち、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｋは、領域２４１Ｋを含む。

本実施形態において、保護部２１１Ｋの最下部は、角部Ｋｓｋを含む。また、保護部２１１Ｋの最下部は、領域２５１Ｋを含む。

すなわち、本実施形態において、保護部２１１Ｋのうち、光路ＡＴに最も近い最下部は、角部Ｋｓｋを含む。

第２部材（２２など）は、凹部１６Ｋの下方で移動してもよいし、凹部１６Ｋの内側で移動してもよい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第１２実施形態＞
第１２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２４は、本実施形態に係る保護部２１１Ｌ（壁部５０Ｌ）の一例を示す図である。保護部２１１Ｌは、上面２４Ｌと、少なくとも一部が第２部材（２２など）と対向可能な下面２５Ｌとを有する。

上面２４Ｌは、光路ＡＴに最も近い領域２４１Ｌと、光路ＡＴに対して領域２４１Ｌの外側に配置される領域２４２Ｌとを含む。

領域２４１Ｌは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２４２Ｌは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面２５Ｌは、光路ＡＴに最も近い領域２５１Ｌと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｌの外側に配置される領域２５２Ｌとを含む。

領域２５１Ｌは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２５２Ｌは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。領域２５２Ｌは、領域２５１Ｌよりも上方に配置される。

保護部２１１Ｌ（壁部５０Ｌ）は、第２部材（２２など）が対向可能な凹部１６Ｌを有する。凹部１６Ｌの内側に領域２５１Ｌ及び領域２５２Ｌが配置される。

本実施形態において、保護部２１１Ｌのうち、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｌは、領域２４１Ｌと領域２５１Ｌとの間に形成される角部Ｋｓｌを含む。

本実施形態において、保護部２１１Ｌの最下部は、角部Ｋｓｌを含む。

第２部材（２２など）は、凹部１６Ｌの下方で移動してもよいし、凹部１６Ｌの内側で移動してもよい。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第１３実施形態＞
第１３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２５は、本実施形態に係る第２部材２２Ｍ（部分２２１Ｍ）の一例を示す図である。第２部材２２Ｍは、上面２９Ｍと、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面３０Ｍと、光路ＡＴに面する内面２９０Ｍとを有する。

上面２９Ｍは、領域２９１Ｍと、光路ＡＴに対して領域２９１Ｍの外側に配置される領域２９２Ｍとを含む。領域２９２Ｍは、領域２９１Ｍよりも上方に配置される。

領域２９１Ｍは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２９２Ｍは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面３０Ｍは、領域３０１Ｍを含む。領域３０１Ｍは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

内面２９０Ｍは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に平行である。

本実施形態において、領域２９１Ｍ及び内面２９０Ｍは、光路ＡＴに面する第２部材２２Ｍの端面である。以下の説明において、光路ＡＴに面する第２部材２２Ｍの領域２９１Ｍ及び内面２９０Ｍのうち、内面２９０Ｍを適宜、第１内面２９０Ｍ、と称し、領域２９１Ｍを適宜、第２内面２９１Ｍ、と称する。

第２内面２９１Ｍは、第１内面２９０Ｍの上方に配置される。第２内面２９１Ｍの下端は、第１内面２９０Ｍと結ばれる。第２内面２９１Ｍの上端は、上面２９Ｍの領域２９２Ｍと結ばれる。

第１内面２９０Ｍと第２内面２９１Ｍとは、非平行である。終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関して、第２内面２９１Ｍの寸法は、第１内面２９０Ｍの寸法よりも大きい。

本実施形態において、第１内面２９０Ｍは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に平行である。第２内面２９１Ｍは、光路ＡＴに対して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態においても、第２部材２２Ｍの端面が液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材２２Ｍは円滑に移動可能である。また、第２部材２２Ｍの端面が液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材２２Ｍが移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力の変動が抑制される。

＜第１４実施形態＞
第１４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２６は、本実施形態に係る第２部材２２Ｎ（部分２２１Ｎ）の一例を示す図である。第２部材２２Ｎは、上面２９Ｎと、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面３０Ｎと、光路ＡＴに面する内面２９０Ｎとを有する。

上面２９Ｎは、領域２９１Ｎを含む。領域２９１Ｎは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

下面３０Ｎは、領域３０１Ｎと、光路ＡＴに対して領域３０１Ｎの外側に配置される領域３０２Ｎとを含む。領域３０２Ｎは、領域３０１Ｎよりも下方に配置される。

領域３０１Ｎは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜する。領域３０２Ｎは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

本実施形態において、内面２９０Ｎ及び領域３０１Ｎは、光路ＡＴに面する第２部材２２Ｎの端面である。以下の説明において、光路ＡＴに面する第２部材２２Ｎの内面２９０Ｎ及び領域３０１Ｎのうち、内面２９０Ｎを適宜、第１内面２９０Ｎ、と称し、領域３０１Ｎを適宜、第２内面３０１Ｎ、と称する。

第２内面３０１Ｎは、第１内面２９０Ｎの下方に配置される。第２内面３０１Ｎの上端は、第１内面２９０Ｎと結ばれる。第２内面３０１Ｎの下端は、下面３０Ｎの領域３０２Ｎと結ばれる。

第１内面２９０Ｎと第２内面３０１Ｎとは、非平行である。終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関して、第２内面３０１Ｎの寸法は、第１内面２９０Ｎの寸法よりも大きい。

本実施形態において、第１内面２９０Ｎは、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に平行である。第２内面３０１Ｎは、光路ＡＴに対して外側に向かって下方に傾斜する。

本実施形態においても、第２部材２２Ｎの端面が液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材２２Ｎは円滑に移動可能である。また、第２部材２２Ｎの端面が液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材２２Ｎが移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力の変動が抑制される。

＜第１５実施形態＞
第１５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２７は、本実施形態に係る第２部材２２Ｐ（部分２２１Ｐ）の一例を示す図である。第２部材２２Ｐは、上面２９Ｐと、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面３０Ｐとを有する。

上面２９Ｐは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直な領域２９１Ｐを有する。

下面３０Ｐは、領域３０１Ｐと、光路ＡＴに対して領域３０１Ｐの外側に配置される領域３０２Ｐとを含む。領域３０１Ｐは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜する。領域３０２Ｐは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。

光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域３０２Ｐの寸法は、領域３０１Ｐの寸法よりも大きい。

領域３０１Ｐは、光路ＡＴに面する。領域３０１Ｐを、光路ＡＴに面する第２部材２２Ｐの端面、と称してもよい。

領域２９１Ｐと領域３０１Ｐとの間に角部Ｋｔｐが形成される。第２部材２２Ｐのうち、光路ＡＴに最も近い部位は、角部Ｋｔｐを含む。

本実施形態においても、第２部材２２Ｐの端面が液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材２２Ｐは円滑に移動可能である。また、第２部材２２Ｐの端面が液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材２２Ｐが移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力の変動が抑制される。

＜第１６実施形態＞
第１６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２８は、本実施形態に係る液浸部材５Ｑの一例を示す図である。液浸部材５Ｑは、下面２５Ｑを有する第１部材２１Ｑと、上面２９Ｑ及び下面３０Ｑを有する第２部材２２Ｑとを備えている。

第１部材２１Ｑの下面２５Ｑは、領域２５１Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｑの外側に配置される領域２５２Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｑの外側に配置される領域２５３Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５３Ｑの外側に配置される領域２５４Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５４Ｑの外側に配置される領域２５５Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５５Ｑの外側に配置される領域２５６Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５６Ｑの外側に配置される領域２５７Ｑとを含む。下面２５Ｑの少なくとも一部は、第２部材２２Ｑの上面２９Ｑと対向可能である。

第１部材２１Ｑのうち、光路ＡＴに最も近い部位４７Ｑは、領域２５１Ｑの内縁部分に配置される。

領域２５２Ｑは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２５２Ｑは、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態において、領域２５１Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５１Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５３Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５３Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５２Ｑは、領域２５１Ｑと領域２５３Ｑとを結ぶ傾斜領域である。領域２５１Ｑと領域２５３Ｑとの間に段差が形成される。

本実施形態において、領域２５４Ｑは、光軸ＡＸと実質的に平行である。

本実施形態において、領域２５５Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５５Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５６Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５６Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５７Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５７Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５４Ｑは、領域２５３Ｑと領域２５５Ｑとを結ぶ領域である。領域２５３Ｑと領域２５５Ｑとの間に段差が形成される。

Ｚ軸方向に関して、領域２５５Ｑと領域２５６Ｑと領域２５７Ｑとは実質的に等しい位置（高さ）に配置される。域２５５Ｑと領域２５６Ｑと領域２５７Ｑとは、実質的に同一平面内に配置される。

Ｚ軸方向に関して、領域２５１Ｑの位置と、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑの位置とは、異なる。Ｚ軸方向に関して、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑの位置と、領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑの位置とは、異なる。

領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑは、領域２５１Ｑよりも上方（＋Ｚ側）に配置される。領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑは、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑよりも下方（−Ｚ側）に配置される。

本実施形態において、領域２５１Ｑは、領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑよりも下方（−Ｚ側）に配置される。なお、Ｚ軸方向に関して、領域２５１Ｑの位置と、領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑの位置とが実質的に等しくてもよい。

第１部材２１Ｑは、第２部材２２Ｑが対向可能な凹部１６Ｑを有する。凹部１６Ｑの内側に、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑが配置される。

領域２５１Ｑ、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、領域２５４Ｑ、領域２５５Ｑ、及び領域２５７Ｑは、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。領域２５６Ｑは、液体ＬＱを回収可能な回収領域である。領域２５６Ｑは、液体回収部４２Ｑを含む。

第２部材２２Ｑの下面３０Ｑは、領域３０１Ｑと、光路ＡＴに対して領域３０１Ｑの外側に配置される領域３０２Ｑとを含む。下面３０Ｑの少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）が対向可能である。

第２部材２２Ｑのうち、光路ＡＴに最も近い部位４８Ｑは、領域３０１Ｑの内縁部分に配置される。

本実施形態において、領域３０１Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域３０１Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域３０２Ｑも、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域３０２Ｑも、ＸＹ平面と実質的に平行である。

Ｚ軸方向に関して、領域３０１Ｑと領域３０２Ｑとは実質的に等しい位置（高さ）に配置される。領域３０１Ｑと領域３０２Ｑとは、実質的に同一平面内に配置される。

領域３０１Ｑは、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。領域３０２Ｑは、液体ＬＱを回収可能な回収領域である。領域３０２Ｑは、液体回収部４３Ｑを含む。

第２部材２２Ｑの少なくとも一部は、凹部１６Ｑの下方において移動可能である。第２部材２２Ｑの少なくとも一部は、領域２５２Ｑ及び領域２５３Ｑの下方において移動可能である。

図２９に示すように、第２部材２２Ｑは、部位４８Ｑが、光路ＡＴに対して部位４７Ｑの外側に配置され続けるように移動可能である。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

＜第１７実施形態＞
第１７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図３０は、本実施形態に係る液浸部材５Ｔの一例を示す図である。液浸部材５Ｔは、第１部材２１Ｔと、移動可能な第２部材２２Ｔとを有する。

第１部材２１Ｔは、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給可能な液体供給部４１Ｔと、液体ＬＱを供給可能な液体供給部５３Ｔと、液体ＬＱを回収可能な液体回収部４２Ｔとを備えている。また、第１部材２１Ｔは、終端光学素子１３と第２部材２２Ｔとの間に配置される保護部２１１Ｔ（壁部５０Ｔ）を有する。

第２部材２２Ｔは、液体ＬＱを回収可能な液体回収部４３Ｔを備えている。液体回収部４３Ｔは、基板Ｐ（物体）が対向可能である。

液体供給部４１Ｔは、終端光学素子１３の外面１３１と第１部材２１Ｔとの間の第３空間ＳＰ３に面するように第１部材２１Ｔに配置される。なお、液体供給部４１Ｔは、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫに面するように第１部材２１Ｔに配置されてもよい。

液体回収部４２Ｔは、第１部材２１Ｔの下面２５Ｔの下方に形成される第１空間ＳＰ１に面するように配置される。

液体供給部５３Ｔは、第１部材２１Ｔの下面２５Ｔの下方に形成される第１空間ＳＰ１に面するように配置される。第１空間ＳＰ１は、第１部材２１Ｔと第２部材２２Ｔとの間の空間を含む。

液体供給部５３Ｔは、光路ＡＴ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して、第２部材２２Ｔの移動方向に配置される。本実施形態において、液体供給部５３Ｔは、光路ＡＴ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。

液体供給部５３Ｔは、第１部材２１Ｔの下面２５Ｔに配置される。下面２５Ｔは、露光光ＥＬが通過可能な第１開口部２３Ｔの下端の周囲に配置される。

液体供給部５３Ｔは、下面２５Ｔに形成され、液体ＬＱを供給可能な開口（液体供給口）を含む。本実施形態において、液体供給口は、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して複数配置される。図３０に示す例では、光路ＡＴに対して＋Ｘ側の下面２５Ｔに、２つの液体供給口が配置される。光路ＡＴに対して−Ｘ側の下面２５Ｔにも、複数（２つ）の液体供給口が配置される。

図３０は、原点（中央位置Ｊｍ）に第２部材２２Ｔが配置されている状態を示す。図３１は、第１端部位置Ｊｒに第２部材２２Ｔが配置されている状態、及び第２端部位置Ｊｓに第２部材２２Ｔが配置されている状態を示す。図３１において、第１端部位置Ｊｒに配置されている第２部材２２Ｔを実線で示し、第２端部位置Ｊｓに配置されている第２部材２２Ｔを鎖線で示す。

図３０及び図３１に示すように、第２部材２２Ｔが中央位置Ｊｍに配置されている状態、あるいは第２部材２２Ｔが第２端部位置Ｊｓに配置されている状態においては、光路ＡＴに対して＋Ｘ側の下面２５Ｔに配置されている液体供給部５３Ｔは、第２部材２２Ｔと対向する。

図３１に示すように、第２部材２２Ｔが第１端部位置Ｊｒに配置されている状態においては、光路ＡＴに対して＋Ｘ側の下面２５Ｔに配置されている液体供給部５３Ｔは、第２部材２２Ｔと対向せず、基板Ｐ（物体）と対向する。

すなわち、第２部材２２Ｔは，液体供給部５３Ｔと対向する状態及び対向しない状態の一方から他方へ変化するように移動可能である。Ｘ軸方向に関する第２部材２２Ｔの移動において、第２部材２２Ｔが液体供給部５３Ｔと対向する状態及び対向しない状態の一方から他方へ変化する。

なお、図示は省略するが、第２部材２２Ｔが中央位置Ｊｍに配置されている状態、あるいは第２部材２２Ｔが第１端部位置Ｊｒに配置されている状態においては、光路ＡＴに対して−Ｘ側の下面２５Ｔに配置されている液体供給部５３Ｔは、第２部材２２Ｔと対向する。

また、第２部材２２Ｔが第２端部位置Ｊｓに配置されている状態においては、光路ＡＴに対して−Ｘ側の下面２５Ｔに配置されている液体供給部５３Ｔは、第２部材２２Ｔと対向せず、基板Ｐ（物体）と対向する。

第２部材２２が移動する期間の少なくとも一部において、液体供給部５３Ｔから液体ＬＱが供給される。

本実施形態においては、図３０に示すように、第２部材２２Ｔが液体供給部５３Ｔと対向する状態において、液体供給部５３Ｔから液体ＬＱが供給される。液体供給部５３Ｔは、第１部材２１Ｔと第２部材２２Ｔとの間の第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する。

また、本実施形態においては、図３１に示すように、第２部材２２Ｔが液体供給部５３Ｔと対向しない状態において、液体供給部５３Ｔから液体ＬＱが供給される。液体供給部５３Ｔは、第１部材２１Ｔと基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱを供給する。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２Ｔが移動する場合、露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡が生成されたり、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気体部分が生成されたりするなど、光路空間ＳＰＫが液体ＬＱで十分に満たされなくなる可能性がある。

本実施形態においては、液体供給部５３Ｔが設けられているため、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されてしまうことが抑制される。

図３２は、液体供給部５３Ｔを有しない液浸部材の一例を示す。第２部材２２Ｔは、露光光ＥＬが通過可能な第２開口部２８Ｔを有する。液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２Ｔが移動することによって、第２部材２２Ｔと基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｔに近づくように移動する可能性がある。例えば、第２部材２２ＴがＸ軸方向に移動しつつ、基板Ｐ（物体）がＹ軸方向に移動することによって、液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｔに近づくように移動する可能性がある。液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｔに近づくように移動し、その界面ＬＧ２の少なくとも一部が第２開口部２８Ｔの下に移動すると、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成される可能性がある。

図３３は、本実施形態に係る液浸部材５Ｔの一例を示す。本実施形態に係る液浸部材５Ｔには液体供給部５３Ｔが設けられている。そのため、液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２Ｔが移動しても、第２部材２２Ｔと基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｔに近づくように移動したり、界面ＬＧ２の少なくとも一部が第２開口部２８Ｔの下に移動したりすることが抑制される。

つまり、界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｔに近付こうとしても、図３３に示すように、液体供給部５３Ｔから第１部材２１Ｔと基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが供給されることによって、その液体ＬＱの少なくとも一部が、第２部材２２Ｔと基板Ｐ（物体）との間の第２空間ＳＰ２に流入する。換言すれば、第２部材２２Ｔと基板Ｐ（物体）との間の第２空間ＳＰ２に、液体供給部５３Ｔから供給された液体ＬＱが補われる。これにより、液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｔに近付くことが抑制される。したがって、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されることが抑制される。

以上説明したように、本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。また、本実施形態においては、液体供給部５３Ｔを設けたので、液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が発生することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

＜第１８実施形態＞
第１８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図３４は、本実施形態に係る液浸部材５Ｕの一例を示す図である。液浸部材５Ｕは、第１部材２１Ｕと、移動可能な第２部材２２Ｕとを有する。

第１部材２１Ｕは、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給可能な液体供給部４１Ｕと、液体ＬＱを供給可能な液体供給部５３Ｕと、液体ＬＱを回収可能な液体回収部４２Ｕとを備えている。また、第１部材２１Ｕは、終端光学素子１３と第２部材２２Ｕとの間に配置される保護部２１１Ｕ（壁部５０Ｕ）を有する。

第２部材２２Ｕは、液体ＬＱを回収可能な液体回収部４３Ｕを備えている。液体回収部４３Ｕは、基板Ｐ（物体）が対向可能である。

第１部材２１Ｕは、第２部材２２Ｕが対向可能な下面２５Ｕを有する。第１部材２１Ｕは、凹部１６Ｕを有する。第２部材２２Ｕは、凹部１６Ｕと対向可能である。第２部材２２Ｕは、凹部１６Ｕの下方において移動可能である。

本実施形態においては、凹部１６Ｕの内側に液体供給部５３Ｕが配置される。液体供給部５３Ｕは、凹部１６Ｕの内側に配置される下面２５Ｕの領域２５３Ｕに配置される。

図３４は、原点（中央位置Ｊｍ）に第２部材２２Ｕが配置されている状態を示す。図３５は、第１端部位置Ｊｒに第２部材２２Ｕが配置されている状態、及び第２端部位置Ｊｓに第２部材２２Ｕが配置されている状態を示す。図３５において、第１端部位置Ｊｒに配置されている第２部材２２Ｕを実線で示し、第２端部位置Ｊｓに配置されている第２部材２２Ｕを鎖線で示す。

図３４及び図３５に示すように、第２部材２２Ｕが中央位置Ｊｍに配置されている状態、あるいは第２部材２２Ｕが第２端部位置Ｊｓに配置されている状態においては、光路ＡＴに対して＋Ｘ側の下面２５Ｕに配置されている液体供給部５３Ｕは、第２部材２２Ｕと対向する。

図３５に示すように、第２部材２２Ｕが第１端部位置Ｊｒに配置されている状態においては、光路ＡＴに対して＋Ｘ側の下面２５Ｕに配置されている液体供給部５３Ｕは、第２部材２２Ｕと対向せず、基板Ｐ（物体）と対向する。

すなわち、本実施形態においても、第２部材２２Ｕは，液体供給部５３Ｕと対向する状態及び対向しない状態の一方から他方へ変化するように移動可能である。

なお、図示は省略するが、第２部材２２Ｕが中央位置Ｊｍに配置されている状態、あるいは第２部材２２Ｕが第１端部位置Ｊｒに配置されている状態においては、光路ＡＴに対して−Ｘ側の下面２５Ｕに配置されている液体供給部５３Ｕは、第２部材２２Ｕと対向する。

また、第２部材２２Ｕが第２端部位置Ｊｓに配置されている状態においては、光路ＡＴに対して−Ｘ側の下面２５Ｕに配置されている液体供給部５３Ｕは、第２部材２２Ｕと対向せず、基板Ｐ（物体）と対向する。

図３５に示すように、本実施形態においても、第２部材２２Ｕが液体供給部５３Ｕと対向する状態において、液体供給部５３Ｕから液体ＬＱが供給される。液体供給部５３Ｕは、第１部材２１Ｕと第２部材２２Ｕとの間の第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する。

また、図３５に示すように、第２部材２２Ｕが液体供給部５３Ｕと対向しない状態において、液体供給部５３Ｕから液体ＬＱが供給される。液体供給部５３Ｕは、第１部材２１Ｕと基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱを供給する。

以上説明したように、本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。また、本実施形態においては、液体供給部５３Ｕを設けたので、液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が発生することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

なお、上述の第１７、第１８実施形態において、第２部材２２Ｔ（２２Ｕ）が液体供給部５３Ｔ（５３Ｕ）と対向する状態の少なくとも一部の期間において、液体供給部５３Ｔ（５３Ｕ）から液体ＬＱを供給しなくてもよい。

なお、上述の第１７、第１８実施形態において、第２部材２２Ｔ（２２Ｕ）が液体供給部５３Ｔ（５３Ｕ）と対向しない状態の少なくとも一部の期間において、液体供給部５３Ｔ（５３Ｕ）から液体ＬＱを供給しなくてもよい。

なお、上述の第１７、第１８実施形態において、液体供給部４１Ｔ（４１Ｕ）から供給される液体と、液体供給部５３Ｔ（５３Ｕ）から供給される液体とは、同じ種類の液体でもよいし、異なる種類の液体でもよい。

なお、上述の第１７、第１８実施形態において、液体供給部４１Ｔ（４１Ｕ）から供給される液体と、液体供給部５３Ｔ（５３Ｕ）から供給される液体とは、同じクリーン度でもよいし、異なるクリーン度でもよい。

なお、上述の第１７、第１８実施形態において、液体供給部４１Ｔ（４１Ｕ）から供給される液体と、液体供給部５３Ｔ（５３Ｕ）から供給される液体とは、同じ温度でもよいし、異なる温度でもよい。

＜第１９実施形態＞
第１９実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図３６は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。露光装置ＥＸは、液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５Ｗを有する。液浸部材５Ｗは、終端光学素子１３の周囲に配置される第１部材２１Ｗと、少なくとも一部が第１部材２１Ｗの下方に配置され、基板Ｐ（物体）が対向可能であり、露光光ＥＬの光路ＡＴの外側において移動可能な第２部材２２Ｗと、を有する。

露光装置ＥＸは、終端光学素子１３を保護する保護部材５４を有する。保護部材５４は、液浸部材５Ｗとは別の部材である。保護部材５４は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、保護部材５４の一部は、間隙を介して終端光学素子１３の外面１３１と対向するように配置される。保護部材５４の一部は、間隙を介して終端光学素子１３の射出面１２と対向するように配置される。

保護部材５４は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減する。保護部材５４の少なくとも一部は、光路ＡＴの外側において、終端光学素子１３と液浸部材５Ｗとの間に配置される。保護部材５４の少なくとも一部は、光路ＡＴの外側において、終端光学素子１３と第２部材２２Ｗとの間に配置される。

保護部材５４は、例えば投影光学系ＰＬを支持する支持装置に支持されてもよい。保護部材５４は、例えば基準フレーム８Ａに支持されてもよい。保護部材５４は、例えば装置フレーム８Ｂに支持されてもよい。

以上説明したように、本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

なお、上述の第１〜第１９実施形態において、第１空間ＳＰ１のＺ軸方向の寸法（距離Ｇ１ｂなど）を、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減されるように決めてもよい。液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減されるように、第１空間ＳＰ１のＺ軸方向の寸法（距離Ｇ１ｂなど）を調整（変更）できるようにしてもよい。

なお、上述の第１〜第１９実施形態において、第２部材（２２など）に設けられる第２開口部（２８など）が、図３７に示すように、六角形状でもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１部材（２１など）は、環状でなくてもよい。第１部材（２１など）が、光路ＡＴ（終端光学素子１３）の周囲の一部に配置されてもよい。第１部材（２１など）が、光路ＡＴの周囲において複数配置されてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第２部材（２２など）は、環状でなくてもよい。第２部材（２２など）が、光路ＡＴ（終端光学素子１３）の周囲の一部に配置されてもよい。第２部材（２２など）が、光路ＡＴの周囲において複数配置されてもよい。

また、上述の各実施形態において、第１空間ＳＰ１から液体を回収する液体回収部（４２、４２Ｑ、４２Ｔなど）を設けなくてもよい。また、第１部材（２１など）に設けた液体回収部（４２など）のかわりに、あるいは第１部材（２１など）に設けた液体回収部（４２など）に加えて、第２部材（２２など）に第１空間ＳＰ１から液体を回収する液体回収部を設けてもよい。

また、上述の第１〜第１９実施形態において、第２部材（２２など）の第２開口部（２８など）の周囲における第２部材の厚さは、均一でなくてもよい。例えば、図４０Ａに示すように、第２部材の下面に凹部４０００を形成し、Ｘ軸方向における第２開口部の両側の第２部材の厚さを、Ｙ軸方向における第２開口部の両側の第２部材の厚さより小さくしてもよい。これにより、第２開口部の近傍において、Ｘ軸方向における第２開口部の両側の第２空間ＳＰ２のＺ軸方向の大きさが、Ｙ軸方向における第２開口部の両側の第２空間ＳＰ２のＺ軸方向の大きさよりも大きくなる。したがって、Ｘ軸方向において、液体ＬＱが第２空間ＳＰ２に流入しやすくなる。これにより、例えば、第２部材がＸ軸方向に移動しても、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ２が光路ＡＴＬに近づくことを抑制することできる。また、終端光学素子１３下方の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が高まるのを抑えることでき、終端光学素子１３の変位を抑制する効果も期待できる。
なお、Ｘ軸方向における第２開口部の両側において第２空間ＳＰ２の一部のＺ軸方向の大きさが、Ｙ軸方向における第２開口部の両側の第２空間ＳＰ２のＺ軸方向の大きさよりも大きくなるような第２部材の凹部４０００の形状、位置、大きさは、図４０Ａに限定されないことは言うまでもない。例えば、図４０Ｂ、図４０Ｃに示すように、第２開口部（２８など）と液体回収部第（４３など）との間において、第２開口部から離れた位置に凹部４０００を形成してもよい。
また、図４０Ｄに示すように、Ｘ軸方向における第２開口部の両側において第２開口部（２８など）から液体回収部（４３など）まで、第２空間ＳＰ２のＺ軸方向の大きさが、Ｙ軸方向における第２開口部の両側の第２空間ＳＰ２のＺ軸方向の大きさよりも大きくなるように、第２部材の下面に凹部４０００を設けてもよい。

また、上述の第１〜第１９実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減するために液体供給部４１からの液体ＬＱの供給量を変化させてもよい。例えば、第２部材（２２など）が−Ｘ軸方向に移動する場合には、終端光学素子１３の＋Ｘ側に位置する液体供給部４１からの液体供給量を、終端光学素子１３の−Ｘ側に位置する液体供給部４１からの液体供給量よりも少なくし、第２部材（２２など）が＋Ｘ軸方向に移動する場合には、終端光学素子１３の−Ｘ側に位置する液体供給部４１からの液体供給量を、終端光学素子１３の＋Ｘ側に位置する液体供給部４１からの液体供給量よりも少なくしてもよい。

また、上述の第１〜第１９実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減するために、液体供給部４１とは別の液体供給部を設けてもよい。例えば、図４１（ａ）に示すように、第１部材２１に液体供給部４１４１を設けてもよい。例えば、第２部材（２２など）が−Ｘ軸方向に移動する場合には、終端光学素子１３の＋Ｘ側に位置する液体供給部４１４１からの液体供給量を、終端光学素子１３の−Ｘ側に位置する液体供給部４１４１からの液体供給量よりも少なくし、第２部材（２２など）が＋Ｘ軸方向に移動する場合には、終端光学素子１３の−Ｘ側に位置する液体供給部４１４１からの液体供給量を、終端光学素子１３の＋Ｘ側に位置する液体供給部４１４１からの液体供給量より少なくしてもよい。この場合、液体供給部４１から液体ＬＱの供給は、上述の第１〜第１９実施形態と同様に行えばよい。

また、上述の第１〜第１９実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減するための液体回収部を設けてもよい。例えば、図４１（ｂ）に示すように、第１部材２１に液体回収部４１４３を設けてもよい。例えば、第２部材（２２など）が−Ｘ軸方向に移動する場合には、終端光学素子１３の＋Ｘ側に位置する液体回収部４１４３からの液体回収量を、終端光学素子１３の−Ｘ側に位置する液体回収部４１４３からの液体回収量よりも多くし、第２部材（２２など）が＋Ｘ軸方向に移動する場合には、終端光学素子１３の−Ｘ側に位置する液体回収部４１４３からの液体回収量を、終端光学素子１３の＋Ｘ側に位置する液体回収部４１４３からの液体回収量より多くしてもよい。
なお、上記のように、液体供給と液体回収の少なくとも一方によって、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減できる場合には、第１部材２１が終端光学素子１３を保護する機能を有していなくてもよいし、図３６のように、保護部材５４を設けなくてもよい。

また、上述の第１〜第１９実施形態、および上記変形例などにおいて、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減するために、第１部材２１を動かしてもよい。この場合、第１部材２１が終端光学素子１３を保護する機能を有していなくてもよいし、図３６のように、保護部材５４を設けなくてもよい。

また、上述の第１〜第１９実施形態、および上記変形例などにおいて、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力が変動しても終端光学素子１３の位置が変化したり、終端光学素子１３が傾斜したりしないように、終端光学素子１３に力を加えるアクチュエータなどを備えるようにしてもよい。この場合、第１部材２１が終端光学素子１３を保護する機能を有していなくてもよいし、図３６のように、保護部材５４を設けなくてもよい。

また、上述の第１〜第１９実施形態、および上記変形例などにおいて、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力が変動しても、基板Ｐ上に投影される像の状態が劣化したり、基板Ｐ上の所望の位置とは異なる位置に像が投影されないように、投影光学系ＰＬを調整したり、基板ステージ２の位置（移動）を制御するようにしてもよい。この場合、第１部材２１が終端光学素子１３を保護する機能を有していなくてもよいし、図３６のように、保護部材５４を設けなくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。

なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。

記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。

記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、光学部材を保護する保護部と、を備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、保護部で液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２上面と同じ高さ、又は第２上面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２下面と同じ高さ、又は第２下面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、第２部材は、第２上面と、物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、壁部の最下部は、第２部材の第２上面よりも上方に配置され、光路に対して最下部の外側において、第１部材と第２上面との間に間隙が形成され、光学部材の光軸と平行な方向に関して、最下部と第２上面との距離は、間隙の寸法よりも小さい液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、光学部材と第２部材との間に配置される壁部を有し、壁部は、光路に最も近い第１部位を有し、第２部材は、光路に最も近い第２部位を有し、第２部材の移動期間において、第２部位は、光路に対して第１部位の外側に配置され続ける液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、射出面から射出される露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、第１部材は、少なくとも一部が第２部材と対向可能な第１下面を有し、第１下面は、第１領域と、光路に対して第１領域の外側に配置され、第１領域よりも上方に配置される第２領域と、を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、第１液体を供給する第１液体供給部と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、第２液体を供給する第２液体供給部と、を備え、第２部材は、第２液体供給部と対向する第１状態及び対向しない第２状態の一方から他方に変化するように移動される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成すること、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方に配置され、物体と対向可能であり、露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、保護部材で記液浸空間の液体から光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を実行させてもよい。

記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理が実行される。

なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされている。しかし、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととした。しかし、基板Ｐは、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。

なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとした。しかし、露光装置ＥＸは、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。

また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。

また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図３８に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。

また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。

露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。

なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いた。しかし、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。

上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。

上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図３９に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、１６…凹部、２１…第１部材、２２…第２部材、２３…第１開口部、２４…上面、２５…下面、２８…第２開口部、２９…上面、３０…下面、４７…部位、４８…部位、５０…壁部、２１１…保護部、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＧ…界面、ＬＧ１…第１界面、ＬＧ２…第２界面、ＬＧ３…第３界面、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＳＰ１…第１空間、ＳＰ２…第２空間、ＳＰ３…第３空間。

Claims (103)

1. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
   前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
   前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、
   前記光学部材を保護する保護部と、を備え、
   前記保護部は、前記液浸空間の液体から前記光学部材が受ける圧力の変動を低減する液浸部材。
2. 前記保護部は、前記光路の周囲の少なくとも一部に配置される
   請求項１に記載の液浸部材。
3. 前記保護部は、前記露光光が通過可能な第１開口を有する
   請求項１又は２に記載の液浸部材。
4. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な所定方向に移動可能であり、
   前記第２部材は、前記露光光が通過可能な第２開口を有し、
   前記所定方向に関して、前記第２開口の寸法は、前記第１開口の寸法よりも大きい
   請求項３に記載の液浸部材。
5. 前記第２部材の少なくとも一部は、前記保護部の下に移動可能である
   請求項１〜４のいずれか一項に記載の液浸部材。
6. 前記保護部は、前記光路の外側において前記光学部材と前記第２部材との間に配置される
   請求項１〜５のいずれか一項に記載の液浸部材。
7. 前記保護部は、前記第２部材の移動期間において前記光学部材と前記第２部材とが対向しないように、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される
   請求項６に記載の液浸部材。
8. 前記第１部材が、前記保護部を有する
   請求項１〜７のいずれか一項に記載の液浸部材。
9. 前記保護部は、前記第１部材のうち前記光路に最も近い第１部位を含む
   請求項８に記載の液浸部材。
10. 前記第１部位は、前記保護部の最下部である
    請求項９に記載の液浸部材。
11. 前記第２部材は、前記光路に最も近い第２部位を含み、
    前記第２部位は、前記光路に対して前記１部位の外側に配置され続ける
    請求項９又は１０に記載の液浸部材。
12. 前記第２部位が前記光路に対して前記第１部位の外側に配置され続けるように、前記第２部材の可動範囲が定められる
    請求項１１に記載の液浸部材。
13. 前記第１部材は、前記露光光が通過可能な第１開口を有し、
    前記第２部材は、前記露光光が通過可能な第２開口を有し、
    前記第１部位は、前記第１開口の周囲の少なくとも一部を規定し、
    前記第２部位は、前記第２開口の周囲の少なくとも一部を規定する
    請求項１１又は１２に記載の液浸部材。
14. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な所定方向に移動可能であり、
    前記所定方向に関して、前記第２開口の寸法は、前記第１開口の寸法よりも大きい請求項１３に記載の液浸部材。
15. 前記第１部位は、間隙を介して前記射出面の下方に配置される
    請求項９〜１４のいずれか一項に記載の液浸部材。
16. 前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、
    前記保護部の最下部は、前記第２上面と同じ高さ、又は前記第２上面よりも下方に配置される
    請求項１〜１５のいずれか一項に記載の液浸部材。
17. 前記保護部の最下部は、前記第２下面よりも上方に配置される
    請求項１６に記載の液浸部材。
18. 前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、
    前記保護部の最下部は、前記第２下面と同じ高さ、又は前記第２下面よりも下方に配置される
    請求項１〜１５のいずれか一項に記載の液浸部材。
19. 前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、
    前記保護部の最下部は、前記第２上面よりも上方に配置される
    請求項１〜１５のいずれか一項に記載の液浸部材。
20. 前記光路に対して前記最下部の外側において、前記第１部材と前記第２上面との間に間隙が形成され、
    前記光学部材の光軸と平行な方向に関して、前記最下部と前記第２上面との距離は、前記間隙の寸法よりも小さい
    請求項１９に記載の液浸部材。
21. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、
    前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、
    前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、
    前記壁部の最下部は、前記第２上面と同じ高さ、又は前記第２上面よりも下方に配置される液浸部材。
22. 前記壁部の最下部は、前記第２下面よりも上方に配置される
    請求項２１に記載の液浸部材。
23. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、
    前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、
    前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、
    前記壁部の最下部は、前記第２下面と同じ高さ、又は前記第２下面よりも下方に配置される液浸部材。
24. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、
    前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、
    前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、
    前記壁部の最下部は、前記第２部材の第２上面よりも上方に配置され、
    前記光路に対して前記最下部の外側において、前記第１部材と前記第２上面との間に間隙が形成され、
    前記光学部材の光軸と平行な方向に関して、前記最下部と前記第２上面との距離は、前記間隙の寸法よりも小さい液浸部材。
25. 前記壁部は、前記光路に最も近い第１部位を有し、
    前記第２部材は、前記光路に最も近い第２部位を有し、
    前記第２部位は、前記光路に対して前記１部位の外側に配置され続ける
    請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の液浸部材。
26. 光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記物体と対向可能であり、前記光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、
    前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、
    前記壁部は、前記光路に最も近い第１部位を有し、
    前記第２部材は、前記光路に最も近い第２部位を有し、
    前記第２部材の移動期間において、前記第２部位は、前記光路に対して前記第１部位の外側に配置され続ける液浸部材。
27. 前記第２部位が前記光路に対して前記第１部位の外側に配置され続けるように、前記第２部材の可動範囲が定められる
    請求項２５又は２６に記載の液浸部材。
28. 前記第１部位は、間隙を介して前記射出面の下方に配置される
    請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の液浸部材。
29. 前記第１部材は、前記露光光が通過可能な第１開口を有し、
    前記第２部材は、前記露光光が通過可能な第２開口を有し、
    前記第１部位は、前記第１開口の少なくとも一部を規定し、
    前記第２部位は、前記第２開口の少なくとも一部を規定する
    請求項２５〜２８のいずれか一項に記載の液浸部材。
30. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な所定方向に移動可能であり、
    前記所定方向に関して、前記第２開口の寸法は、前記第１開口の寸法よりも大きい
    請求項２９に記載の液浸部材。
31. 前記第１部材は、前記露光光が通過可能な第１開口を有し、
    前記第２部材は、前記露光光が通過可能な第２開口を有し、
    前記第２部材は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な所定方向に移動可能であり、
    前記所定方向に関して、前記第２開口の寸法は、前記第１開口の寸法よりも大きい
    請求項１〜２４に記載の液浸部材。
32. 前記光路に面する前記第２部材の端面の少なくとも一部が、前記光軸に対する放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜する
    請求項１〜３１のいずれか一項に記載の液浸部材。
33. 前記光路に面する前記第２部材の端面は、第１内面と、前記第１内面の下方に配置され、上端が前記第１内面と結ばれ、下端が前記第２部材の第２下面と結ばれる第２内面と、を含み、
    前記第１内面と前記第２内面とは、非平行であり、前記光学部材の光軸と平行な方向に関して、前記第２内面の寸法は、前記第１内面の寸法よりも大きく、
    少なくとも前記第２内面が、前記光路に対して外側に向かって下方に傾斜する
    請求項３２に記載の液浸部材。
34. 前記光路に面する前記第２部材の端面の少なくとも一部が、前記光軸に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する
    請求項１〜３１のいずれか一項に記載の液浸部材。
35. 前記光路に面する前記第２部材の端面は、第１内面と、前記第１内面の上方に配置され、下端が前記第１内面と結ばれ、上端が前記第２部材の第２上面と結ばれる第２内面と、を含み、
    前記第１内面と前記第２内面とは、非平行であり、前記光学部材の光軸と平行な方向に関して、前記第２内面の寸法は、前記第１内面の寸法よりも大きく、
    少なくとも前記第２内面が、前記光路に対して外側に向かって上方に傾斜する
    請求項３４に記載の液浸部材。
36. 前記第１部材は、少なくとも一部が前記第２部材と対向可能な第１下面を有し、
    前記第１下面は、第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側に配置され、前記第１領域よりも上方に配置される第２領域と、を含む
    請求項１〜３５のいずれか一項に記載の液浸部材。
37. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、
    前記第１部材は、少なくとも一部が前記第２部材と対向可能な第１下面を有し、
    前記第１下面は、第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側に配置され、前記第１領域よりも上方に配置される第２領域と、を含む液浸部材。
38. 前記第１領域は、前記光学部材の光軸に対して傾斜する
    請求項３６又は３７に記載の液浸部材。
39. 前記光学部材の光軸と前記第１領域とがなす角度と、前記光軸と前記第２領域とがなす角度とは、異なる
    請求項３６〜３８のいずれか一項に記載の液浸部材。
40. 前記第１下面は、前記第１領域と前記第２領域とを結び、前記光学部材の光軸に対して傾斜する傾斜領域を有する
    請求項３６又は３７に記載の液浸部材。
41. 前記第１領域と前記第２領域との間に段差を有する
    請求項３６又は３７に記載の液浸部材。
42. 前記第１下面は、前記光路に対して前記２領域の外側に配置され、前記光学部材の光軸と平行な方向に関して前記第２領域との位置が異なる第３領域を含む
    請求項３６〜４１のいずれか一項に記載の液浸部材。
43. 前記第３領域は、前記第２領域よりも下方に配置される
    請求項４２に記載の液浸部材。
44. 前記第１領域は、前記第３領域よりも下方に配置される
    請求項４３に記載の液浸部材。
45. 前記第２部材は、前記第２領域の下方において移動される
    請求項３６〜４４のいずれか一項に記載の液浸部材。
46. 前記第２部材は、前記光路に対して前記第１領域の外側において移動される
    請求項３６〜４５のいずれか一項に記載の液浸部材。
47. 前記第１部材は、前記第２部材と対向可能な凹部を有し、
    前記第２領域は、前記凹部の内側に配置される
    請求項３６〜４６のいずれか一項に記載の液浸部材。
48. 前記第２部材は、前記凹部の下方において移動される
    請求項４７に記載の液浸部材。
49. 前記第２部材は、少なくとも一部が前記第１部材と対向する第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、
    前記第２上面は、前記第１領域よりも上方に配置される
    請求項３６〜４８のいずれか一項に記載の液浸部材。
50. 前記第２下面は、前記第１領域よりも上方に配置される
    請求項４９に記載の液浸部材。
51. 前記第２部材は、前記露光光が通過可能な第２開口を有し、
    前記第２上面の少なくとも一部は、前記第２開口の上端の周囲に配置され、
    前記第２下面の少なくとも一部は、前記第２開口の下端の周囲に配置される
    請求項４９又は５０に記載の液浸部材。
52. 前記第１部材は、前記露光光が通過可能な第１開口を有し、
    前記第１下面の少なくとも一部は、前記第１開口の下端の周囲に配置される
    請求項３６〜５１のいずれか一項に記載の液浸部材。
53. 前記第１液体を供給する第１液体供給部をさらに有する
    請求項１〜５２のいずれか一項に記載の液浸部材。
54. 第２液体を供給する第２液体供給部をさらに有する
    請求項５３に記載の液浸部材。
55. 前記第２液体供給部は、前記第１部材と前記第２部材との間の空間に面するように配置される
    請求項５４に記載の液浸部材。
56. 前記第２液体供給部は、第１状態で前記第２部材が対向し、第２状態で前記物体の表面が対向するように配置される
    請求項５４又は５５に記載の液浸部材。
57. 前記第２部材の移動において、前記第２部材が前記第２液体供給部と対向する第１状態及び対向しない第２状態の一方から他方に変化する
    請求項５４又は５５に記載の液浸部材。
58. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記第１液体を供給する第１液体供給部と、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、
    第２液体を供給する第２液体供給部と、を備え、
    前記第２部材は、前記第２液体供給部と対向する第１状態及び対向しない第２状態の一方から他方に変化するように移動される液浸部材。
59. 前記第１部材は、前記露光光が通過可能な第１開口と、前記第１開口の下端の周囲に配置される第１下面と、を有し、
    前記第２液体供給部は、前記第１下面に配置される
    請求項５４〜５８のいずれか一項に記載の液浸部材。
60. 前記第２部材が前記第２液体供給部と対向しない第２状態において、前記第２液体供給部から液体が供給される
    請求項５４〜５９のいずれか一項に記載の液浸部材。
61. 前記第２部材が前記第２液体供給部と対向する第１状態において、前記第２液体供給部から液体が供給される
    請求項５４〜６０のいずれか一項に記載の液浸部材。
62. 前記第２部材が移動する期間の少なくとも一部において、前記第２液体供給部から液体が供給される
    請求項５４〜６１のいずれか一項に記載の液浸部材。
63. 前記第１液体供給部は、前記光学部材の外面との間の空間及び前記射出面から射出される前記露光光の光路を含む空間の少なくとも一方に面するように前記第１部材に配置される
    請求項５３〜６２のいずれか一項に記載の液浸部材。
64. 前記第１部材に配置される液体回収部をさらに有する
    請求項１〜６３のいずれか一項に記載の液浸部材。
65. 前記物体が対向するように前記第２部材に配置される流体回収部をさらに有する
    請求項１〜６４のいずれか一項に記載の液浸部材。
66. 前記液浸空間が形成されている状態において、前記第２部材は移動可能である
    請求項１〜６５のいずれか一項に記載の液浸部材。
67. 前記射出面から前記露光光が射出される期間の少なくとも一部において、前記第２部材は移動可能である
    請求項１〜６６のいずれか一項に記載の液浸部材。
68. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動される
    請求項１〜６７のいずれか一項に記載の液浸部材。
69. 前記第２部材の少なくとも一部は、前記第１部材の下方に配置される請求項１〜６８のいずれか一項に記載の液浸部材。
70. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    請求項１〜６９のいずれか一項に記載の液浸部材を備える露光装置。
71. 第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を有し、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、
    前記光学部材を保護する保護部材と、を備え、
    前記保護部材は、前記液浸空間の液体から前記光学部材が受ける圧力の変動を低減する露光装置。
72. 前記保護部材は、前記光路の外側において前記光学部材と前記第２部材との間に配置される
    請求項７１に記載の露光装置。
73. 前記第２部材の少なくとも一部は、前記第１部材の下方に配置される請求項７１または７２記載の露光装置。
74. 前記第２部材は、前記物体との相対速度が小さくなるように移動される
    請求項７０〜７３のいずれか一項に記載の露光装置。
75. 前記第２部材は、前記物体との相対加速度が小さくなるように移動される
    請求項７０〜７４のいずれか一項に記載の露光装置。
76. 前記第２部材は、前記第２部材と前記物体との相対速度が、前記第１部材と前記物体との相対速度よりも小さくなるように移動される
    請求項７０〜７５のいずれか一項に記載の露光装置。
77. 前記第２部材は、前記第２部材と前記物体との相対加速度が、前記第１部材と前記物体との相対加速度よりも小さくなるように移動される
    請求項７０〜７６のいずれか一項に記載の露光装置。
78. 前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動後、第２経路を移動し、
    前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
    前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第３方向に移動される
    請求項７０〜７７のいずれか一項に記載の露光装置。
79. 前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光が照射され、前記第２経路を移動するときに前記露光光が照射されない
    請求項７８に記載の露光装置。
80. 前記基板は、前記第２経路を移動された後に、第３経路を移動され、
    前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動される
    請求項７８又は７９に記載の露光装置。
81. 前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板がスキャン方向にスキャン移動しながら前記基板の第１ショット領域が露光された後、第２ショット領域が露光開始位置に配置されるように前記基板がステップ方向にステップ移動され、
    前記基板のステップ移動の少なくとも一部において、前記第２部材は、前記ステップ方向と実質的に同方向に移動される
    請求項７０〜７７に記載の露光装置。
82. 前記基板のスキャン移動の少なくとも一部において、前記第２部材は、前記ステップ方向と実質的に逆方向に移動される
    請求項８１に記載の露光装置。
83. 前記物体は、前記基板を保持して移動可能な基板ステージを含む
    請求項７０〜８２のいずれか一項に記載の露光装置。
84. 請求項７０〜８３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、
    を含むデバイス製造方法。
85. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、前記光学部材を保護する保護部と、を備える液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    前記保護部で前記液浸空間の液体から前記光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を含む露光方法。
86. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、前記壁部の最下部は、前記第２上面と同じ高さ、又は前記第２上面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
87. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、前記壁部の最下部は、前記第２下面と同じ高さ、又は前記第２下面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
88. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、前記壁部の最下部は、前記第２部材の第２上面よりも上方に配置され、前記光路に対して前記最下部の外側において、前記第１部材と前記第２上面との間に間隙が形成され、前記光学部材の光軸と平行な方向に関して、前記最下部と前記第２上面との距離は、前記間隙の寸法よりも小さい液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
89. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記物体と対向可能であり、前記光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、前記壁部は、前記光路に最も近い第１部位を有し、前記第２部材は、前記光路に最も近い第２部位を有し、前記第２部材の移動期間において、前記第２部位は、前記光路に対して前記第１部位の外側に配置され続ける液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
90. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記物体と対向可能であり、前記射出面から射出される前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、少なくとも一部が前記第２部材と対向可能な第１下面を有し、前記第１下面は、第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側に配置され、前記第１領域よりも上方に配置される第２領域と、を含む液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
91. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記第１液体を供給する第１液体供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、第２液体を供給する第２液体供給部と、を備え、前記第２部材は、前記第２液体供給部と対向する第１状態及び対向しない第２状態の一方から他方に変化するように移動される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
92. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    保護部材で記液浸空間の液体から前記光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を含む露光方法。
93. 前記第２部材は、前記第２部材の少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置された状態で、前記第１部材に対して移動する請求項８５〜９２のいずれか一項に記載の露光方法。
94. 請求項８５〜９３のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
95. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置され、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、前記光学部材を保護する保護部と、を備える液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    前記保護部で前記液浸空間の液体から前記光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を実行させるプログラム。
96. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置され、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、前記壁部の最下部は、前記第２上面と同じ高さ、又は前記第２上面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
97. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置され、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、前記壁部の最下部は、前記第２下面と同じ高さ、又は前記第２下面よりも下方に配置される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
98. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置され、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、前記第２部材は、第２上面と、前記物体の表面と対向可能な第２下面と、を有し、前記壁部の最下部は、前記第２部材の第２上面よりも上方に配置され、前記光路に対して前記最下部の外側において、前記第１部材と前記第２上面との間に間隙が形成され、前記光学部材の光軸と平行な方向に関して、前記最下部と前記第２上面との距離は、前記間隙の寸法よりも小さい液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
99. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置され、前記物体と対向可能であり、前記光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、前記光学部材と前記第２部材との間に配置される壁部を有し、前記壁部は、前記光路に最も近い第１部位を有し、前記第２部材は、前記光路に最も近い第２部位を有し、前記第２部材の移動期間において、前記第２部位は、前記光路に対して前記第１部位の外側に配置され続ける液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
100. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
     前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置され、前記物体と対向可能であり、前記射出面から射出される前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備え、前記第１部材は、少なくとも一部が前記第２部材と対向可能な第１下面を有し、前記第１下面は、第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側に配置され、前記第１領域よりも上方に配置される第２領域と、を含む液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
     前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
     前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
101. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
     前記第１液体を供給する第１液体供給部と、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置され、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、第２液体を供給する第２液体供給部と、を備え、前記第２部材は、前記第２液体供給部と対向する第１状態及び対向しない第２状態の一方から他方に変化するように移動される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成すること、
     前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
     前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
102. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
     前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に配置され、前記物体と対向可能であり、前記露光光の光路の外側において移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
     前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
     前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
     保護部材で記液浸空間の液体から前記光学部材が受ける圧力の変動を低減することと、を実行させるプログラム。
103. 請求項９５〜１０２のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
     

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