JP2014146798A - 液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。
【解決手段】液浸部材は、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する。液浸部材は、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２部材に設けられ、液体が流通可能な通路と、を備える。第１空間の第２液体の少なくとも一部が、通路を介して、第２部材と物体との間の第２空間に供給される。
【選択図】図２

Description

本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
本願は、２０１３年１月２９日の米国仮出願６１／７５７，８３６に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。

米国特許第７８６４２９２号明細書

液浸露光装置において、例えば液体中に気泡（気体部分）が発生したり、振動が発生したりすると、露光不良が発生する可能性である。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２部材に設けられ、液体が流通可能な通路と、を備え、第１空間の第２液体の少なくとも一部が、通路を介して、第２部材と物体との間の第２空間に供給される液浸部材が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２液体が第１空間から流出することを抑制する抑制部と、を備え、第１空間は、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分空間と、露光光の光路に対して第１部分空間の外側に設けられ、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分空間と、を含み、抑制部は、第２液体が第２部分空間から流出することを抑制する液浸部材が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部に、第２部材の振動を低減する減衰部が形成される液浸部材が提供される。

本発明の第４の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部に、液体供給部からの第２液体によりスクイズフィルムダンパが形成される液浸部材が提供される。

本発明の第５の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、２００μｍ以下であり、液体供給部からの第２液体の少なくとも一部が間隙に供給される液浸部材が提供される。

本発明の第６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１〜第５のいずれか一つの態様の液浸部材を備える露光装置が提供される。

本発明の第７の態様に従えば、第６の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第８の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２部材に設けられ、液体が流通可能な通路と、を備え、第１空間の第２液体の少なくとも一部が、通路を介して、第２部材と物体との間の第２空間に供給される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第９の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２液体が第１空間から流出することを抑制する抑制部と、を備え、第１空間は、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分空間と、露光光の光路に対して第１部分空間の外側に設けられ、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分空間と、を含み、抑制部は、第２液体が第２部分空間から流出することを抑制する液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１０の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部に、第２部材の振動を低減する減衰部が形成される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１１の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部に、液体供給部からの第２液体によりスクイズフィルムダンパが形成される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１２の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、２００μｍ以下であり、液体供給部からの第２液体の少なくとも一部が間隙に供給される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１３の態様に従えば、第８〜第１２のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１４の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２部材に設けられ、液体が流通可能な通路と、を備え、第１空間の第２液体の少なくとも一部が、通路を介して、第２部材と物体との間の第２空間に供給される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第１５の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２液体が第１空間から流出することを抑制する抑制部と、を備え、第１空間は、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分空間と、露光光の光路に対して第１部分空間の外側に設けられ、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分空間と、を含み、抑制部は、第２液体が第２部分空間から流出することを抑制する液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第１６の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部に、第２部材の振動を低減する減衰部が形成される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第１７の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部に、液体供給部からの第２液体によりスクイズフィルムダンパが形成される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第１８の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、２００μｍ以下であり、液体供給部からの第２液体の少なくとも一部が間隙に供給される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。

本発明の第１９の態様に従えば、第１４〜第１８のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。

本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る第１部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る第２部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る第１部材を下方から見た図である。 第１実施形態に係る第２部材を上方から見た図である。 第１実施形態に係る第２部材を下方から見た図である。 第１実施形態に係る液浸部材の分解斜視図である。 第１実施形態に係る液浸部材の分解斜視図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 比較例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第２実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 第２実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 第３実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 第４実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 第５実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第５実施形態に係る液浸部材の動作の一例を示す図である。 第５実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 第６実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 第７実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。 基板ステージの一例を示す図である。 デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。

図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。

また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０とを備えている。防振装置１０は、ばね装置などを含む。本実施形態において、防振装置１０は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム及び基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムの一方又は両方が基準フレーム８Ａに支持されてもよい。

また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９を備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材５、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。

マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１１は、リニアモータを含んでもよい。

投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影光学系ＰＬは、縮小系である。投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／４である。なお、投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／５、又は１／８等でもよい。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。

投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの像面側先端の光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ方向を向いている。射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。射出面１２は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面１２は、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行である。

終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行な方向に関して、射出面１２側が−Ｚ側であり、入射面側が＋Ｚ側である。投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向に関して、投影光学系ＰＬの像面側が−Ｚ側であり、投影光学系ＰＬの物体面側が＋Ｚ側である。

基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。Ｚ軸方向に関して、射出面１２と第１保持部に保持された基板Ｐの上面との距離は、射出面１２と第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しい。

なお、Ｚ軸方向に関して、射出面１２と基板Ｐの上面との距離が射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しいとは、射出面１２と基板Ｐの上面との距離と射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離との差が、基板Ｐの露光時における射出面１２と基板Ｐの上面との距離（所謂、ワーキングディスタンス）の例えば１０％以内であることを含む。

なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。例えば、Ｚ軸方向に関して、基板Ｐの上面との位置とカバー部材Ｔの上面の位置とが異なってもよい。例えば、基板Ｐの上面とカバー部材Ｔの上面との間に段差があってよい。

なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよい。カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。

基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１５は、リニアモータを含んでもよい。

計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットを含む。

なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。

基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。

次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。なお、液浸部材を、ノズル部材、と称してもよい。図２は、ＸＺ平面と平行な終端光学素子１３及び液浸部材５の断面図である。図３は、ＹＺ平面と平行な終端光学素子１３及び液浸部材５の断面図である。図４は、図２の一部を拡大した図である。図５は、図３の一部を拡大した図である。

終端光学素子１３は、−Ｚ方向を向く射出面１２と、射出面１２の周囲に配置される外面１３１とを有する。露光光ＥＬは、射出面１２から射出される。露光光ＥＬは、外面１３１から射出されない。露光光ＥＬは、射出面１２を通過し、外面１３１を通過しない。外面１３１は、露光光ＥＬを射出しない非射出面である。本実施形態において、外面１３１は、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

液浸部材５は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。

終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能である。その物体は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、液浸部材５の下方で移動可能であり、液浸部材５と対向可能である。

本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば基板ステージ２のカバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。

基板Ｐの露光において、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。

以下の説明においては、物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。

なお、液浸空間ＬＳは、２つの物体を跨ぐように形成される場合がある。例えば、液浸空間ＬＳは、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように形成される場合がある。液浸空間ＬＳは、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。

液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。

液浸部材５は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１と、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲の少なくとも一部に配置される第２部材２２とを備えている。第２部材２２は、移動可能な移動部材である。

露光光ＥＬの光路ＡＴは、終端光学素子１３における露光光ＥＬの光路ＡＴＯ（終端光学素子１３を進行する露光光ＥＬの光路ＡＴＯ）を含む。また、露光光ＥＬの光路ＡＴは、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む。すなわち、本実施形態において、露光光ＥＬの光路ＡＴは、終端光学素子１３における露光光ＥＬの光路ＡＴＯを含む概念でもよい。露光光ＥＬの光路ＡＴは、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む概念でもよい。

第１部材２１の一部は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）の周囲の少なくとも一部に配置される。第１部材２１の一部は、光路ＡＴＬの周囲の少なくとも一部に配置される。

第２部材２２の一部は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）及び第１部材２１の周囲の少なくとも一部に配置される。第２部材２２の一部は、光路ＡＴＬの周囲に配置される。

第１部材２１の少なくとも一部は、終端光学素子１３の下方に配置される。終端光学素子１３の少なくとも一部は、第１部材２１の上方に配置される。

第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１の下方に配置される。第１部材２１の少なくとも一部は、第２部材２２の上方に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１の下方において移動可能である。第２部材２２の少なくとも一部は、終端光学素子１３及び第１部材２１の下方において移動可能である。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。

第２部材２２は、露光光ＥＬの光路ＡＴの外側において移動可能である。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１の下方において、露光光ＥＬの光路ＡＴの外側で移動可能である。

本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１も、実質的に移動しない。第１部材２１は、終端光学素子１３に対して実質的に移動しない。

第２部材２２は、終端光学素子１３に対して移動可能である。第２部材２２は、第１部材２１に対して移動可能である。終端光学素子１３と第２部材２２との相対位置は、変化する。第１部材２１と第２部材２２との相対位置は、変化する。

第１部材２１は、終端光学素子１３と接触しないように配置される。終端光学素子１３と第１部材２１との間に間隙が形成される。第２部材２２は、終端光学素子１３及び第１部材２１と接触しないように配置される。第１部材２１と第２部材２２との間に間隙が形成される。第２部材２２は、終端光学素子１３及び第１部材２１と接触しないように移動する。

基板Ｐ（物体）は、間隙を介して終端光学素子１３の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、間隙を介して第１部材２１の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、間隙を介して第２部材２２の少なくとも一部と対向可能である。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１の下に、基板Ｐ（物体）が対向可能に配置される。基板Ｐ（物体）は、終端光学素子１３、第１部材２１、及び第２部材２２の下方で移動可能である。

第１部材２１の少なくとも一部は、間隙を介して終端光学素子１３と対向する。本実施形態において、第１部材２１の一部は、射出面１２と対向する。第１部材２１の一部は、間隙を介して射出面１２の下方に配置される。第１部材２１の一部は、外面１３１と対向する。第１部材２１の一部は、間隙を介して外面１３１の周囲の少なくとも一部に配置される。

第２部材２２の少なくとも一部は、間隙を介して第１部材２１と対向する。本実施形態において、第２部材２２は、終端光学素子１３と対向しない。第２部材２２と終端光学素子１３との間に第１部材２１が配置される。第１部材２１は、終端光学素子１３と第２部材２２とが対向しないように配置される。

第１部材２１は、光路ＡＴＬの周囲の少なくとも一部に配置される部分２１１と、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）の周囲の少なくとも一部に配置される部分２１２とを含む。部分２１２は、部分２１１の上方に配置される。本実施形態において、第１部材２１は、環状の部材である。部分２１１は、光路ＡＴＬの周囲に配置される。部分２１２は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）の周囲に配置される。

第１部材２１の部分２１１の少なくとも一部は、終端光学素子１３の下方に配置される。終端光学素子１３の少なくとも一部は、第１部材２１の部分２１１の上方に配置される。終端光学素子１３は、第１部材２１の部分２１１よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第１部材２１の部分２１１の少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

本実施形態において、第１部材２１の部分２１１の少なくとも一部は、射出面１２と対向可能である。すなわち、第１部材２１の部分２１１の少なくとも一部は、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置される。

第１部材２１は、射出面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な第１開口部２３と、上面２４と、少なくとも一部が第２部材２２と対向する下面２５と、少なくとも一部が終端光学素子１３の外面１３１と対向する内面２６と、光軸ＡＸ（光路ＡＴ）に対する放射方向に関して外側を向く外面２７と、を有する。上面２４の少なくとも一部は、＋Ｚ方向を向く。下面２５の少なくとも一部は、−Ｚ方向を向く。

第１開口部２３は、上面２４と下面２５とを結ぶように形成される。上面２４は、第１開口部２３の上端の周囲に配置される。下面２５は、第１開口部２３の下端の周囲に配置される。

上面２４は、射出面１２の少なくとも一部と対向可能である。上面２４は、間隙を介して、射出面１２の少なくとも一部と対向する。部分２１１は、上面２４を含む。

基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、射出面１２及び下面２５の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、間隙を介して、射出面１２及び下面２５の少なくとも一部と対向可能である。下面２５の少なくとも一部は、第２部材２２と対向可能である。下面２５は、間隙を介して、第２部材２２と対向する。部分２１１は、下面２５を含む。

内面２６の少なくとも一部は、外面１３１と対向する。内面２６は、間隙を介して、外面１３１と対向する。内面２６の一部（下部）は、光路ＡＴＬの周囲に配置される。内面２６の一部（上部）は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）の周囲に配置される。内面２６の下端は、上面２４の外縁と結ばれる。部分２１１は、内面２６の一部（下部）を含む。部分２１２は、内面２６の一部（上部）を含む。

外面２７の少なくとも一部は、間隙を介して第２部材２２と対向する。外面２７の下端は、下面２５の外縁と結ばれる。部分２１１は、外面２７の一部（下部）を含む。部分２１２は、外面２７の一部（上部）を含む。

第２部材２２は、少なくとも一部が第１部材２１の下方に配置される部分２２１と、少なくとも一部が光路ＡＴに対して第１部材２１の外側に配置される部分２２２とを含む。部分２２２は、光路ＡＴに対して部分２２１の外側に配置される。本実施形態において、第２部材２２は、環状の部材である。部分２２１は、第１部材２１の下方において、光路ＡＴＬの周囲に配置される。部分２２２は、終端光学素子１３（光路ＡＴＯ）及び第１部材２１の周囲に配置される。

第１部材２１は、第２部材２２の部分２２１よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２の部分２２１は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が対向可能に配置される。

第２部材２２は、射出面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な第２開口部２８と、光路ＡＴＬに面する内面３８と、少なくとも一部が第１部材２１と対向する上面２９と、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面３０と、少なくとも一部が第１部材２１の外面２７と対向する内面３１と、を有する。上面２９の少なくとも一部は、＋Ｚ方向を向く。下面３０の少なくとも一部は、−Ｚ方向を向く。

第２開口部２８は、上面２９と下面３０とを結ぶように形成される。上面２９は、第２開口部２８の上端の周囲に配置される。下面３０は、第２開口部２８の下端の周囲に配置される。

内面３８は、上面２９と下面３０とを結ぶように配置される。内面３８は、光路ＡＴＬを囲むように配置される。内面３８は、Ｚ軸（光軸ＡＸ）と実質的に平行である。上面２９は、内面３８の上端の周囲に配置される。下面３０は、内面３８の下端の周囲に配置される。

上面２９は、下面２５の少なくとも一部と対向可能である。上面２９は、間隙を介して、下面２５の少なくとも一部と対向する。部分２２１は、上面２９を含む。

基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、下面３０と対向可能である。基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、間隙を介して、下面３０と対向可能である。部分２２１は、下面３０を含む。

内面３１の少なくとも一部は、外面２７と対向する。内面３１は、間隙を介して、外面２７と対向する。内面３１の一部（下部）は、光路ＡＴＬの周囲に配置される。内面３１の一部（上部）は、第１部材２１の周囲に配置される。内面３１の下端は、上面２９の外縁と結ばれる。部分２２２は、内面３１を含む。

図６は、第１開口部２３の近傍を示す第１部材２１（部分２１１）の断面図である。

図４、図５、及び図６に示すように、上面２４は、領域２４１と、光路ＡＴに対して領域２４１の外側に配置される領域２４２とを含む。上面２４の少なくとも一部は、射出面１２と対向可能である。

領域２４２は、領域２４１よりも上方に配置される。

終端光学素子１３の光軸ＡＸと領域２４１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２４２とがなす角度とは、異なる。

領域２４１は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２４１は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

領域２４２は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２４２は、ＸＹ平面と実質的に平行である。

領域２４１と領域２４２との間に角部Ｋａが形成される。

光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２４２の寸法は、領域２４１の寸法よりも大きい。

図４、図５、及び図６に示すように、下面２５は、領域２５１と、光路ＡＴに対して領域２５１の外側に配置される領域２５２と、光路ＡＴに対して領域２５２の外側に配置される領域２５３と、光路ＡＴに対して領域２５３の外側に配置される領域２５４と、光路ＡＴに対して領域２５４の外側に配置される領域２５５とを含む。下面２５の少なくとも一部は、第２部材２２の上面２９と対向可能である。

領域２５２、領域２５３、領域２５４、及び領域２５５は、領域２５１よりも上方に配置される。領域２５３、領域２５４、及び領域２５５は、領域２５２よりも上方に配置される。Ｚ軸方向に関する領域２５３の位置（高さ）と、領域２５４の位置（高さ）と、領域２５５の位置（高さ）とは、実質的に等しい。

光軸ＡＸと領域２５１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２５２とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２５２とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２５３とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２５３とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２５４とがなす角度とは、実質的に等しい。光軸ＡＸと領域２５４とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２５５とがなす角度とは、実質的に等しい。

領域２５２は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２５２は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態において、領域２５１は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５１は、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５３は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５３は、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５２は、領域２５１と領域２５３とを結ぶ傾斜領域である。領域２５１と領域２５３との間に段差が形成される。

領域２５１と領域２５２との間に角部Ｋｂが形成される。領域２５２と領域２５３との間に角部Ｋｃが形成される。

以下の説明において、第１部材２１の下面２５において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して領域２５１の外側の部分を適宜、凹部１６、と称する。領域２５２及び領域２５３は、凹部１６の内側に配置される。第２部材２２は、凹部１６と対向可能である。

領域２５４及び領域２５５のそれぞれは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５４及び領域２５５のそれぞれは、ＸＹ平面と実質的に平行である。

光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２５３の寸法は、領域２５１の寸法よりも大きい。光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２５３の寸法は、領域２５２の寸法よりも大きい。

領域２４１と領域２５１との間に角部Ｋｓが形成される。角部Ｋｓは、領域２５１の内縁部分を含む。

本実施形態において、領域２５１は、第１部材２１の最下部である。領域２５１は、第１部材２１のうち、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位である。

また、領域２５１は、第１部材２１のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位を含む。本実施形態においては、領域２５１の内縁部分が、第１部材２１のうち、光路ＡＴに最も近い部位である。

領域２５１の内縁部分は、第１開口部２３を規定する。領域２５１の内縁部分は、第１開口部２３の周囲に配置される。領域２５１の内縁部分は、第１開口部２３の周囲の部位の少なくとも一部を規定する。

図７は、第２開口部２８の近傍を示す第２部材２２（部分２２１）の断面図である。

図４、図５、及び図７に示すように、上面２９は、領域２９１と、光路ＡＴに対して領域２９１の外側に配置される領域２９２と、光路ＡＴに対して領域２９２の外側に配置される領域２９３Ａと、光路ＡＴに対して領域２９３Ａの外側に配置される領域２９３と、光路ＡＴに対して領域２９３の外側に配置される領域２９３Ｂと、光路ＡＴに対して領域２９３Ｂの外側に配置される領域２９４と、を含む。上面２９は、下面２５の少なくとも一部と対向可能である。

領域２９２は、領域２９１よりも上方に配置される。領域２９３は、領域２９２よりも下方に配置される。領域２９４は、領域２９３よりも上方に配置される。

終端光学素子１３の光軸ＡＸと領域２９１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２９２とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２９２とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２９３とがなす角度とは、実質的に等しい。光軸ＡＸと領域２９３とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２９４とがなす角度とは、実質的に等しい。

領域２９１は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２９１は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

領域２９２は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２９２は、ＸＹ平面と実質的に平行である。

領域２９３は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２９３は、ＸＹ平面と実質的に平行である。

領域２９４は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２９４は、ＸＹ平面と実質的に平行である。

本実施形態において、Ｚ軸方向に関して、領域２９２の位置（高さ）と、領域２９４の位置（高さ）とは、実質的に等しい。

領域２９１と領域２９２との間に角部Ｋｄが形成される。

光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２９２の寸法は、領域２９１の寸法よりも大きい。光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２９３の寸法は、領域２９２の寸法よりも小さい。光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域２９３の寸法は、領域２９４の寸法よりも小さい。

第２部材２２は、第１部材２１が対向可能な凹部５３を有する。領域２９３は、凹部５３の内側に配置される。領域２９２及び領域２９４は、凹部５３の上端の開口を規定する。領域２９２と領域２９３との間に段差が形成される。領域２９３と領域２９４との間に段差が形成される。

凹部５３の内側に、上方を向く領域２９３と、領域２９２と領域２９３とを結ぶ領域２９３Ａと、領域２９３と領域２９４とを結ぶ領域２９３Ｂとが配置される。領域２９３Ａ及び領域２９３Ｂは、実質的にＺ軸と平行である。領域２９２と領域２９３Ａとの間に角部Ｋｅが形成される。領域２９３Ｂと領域２９４との間に角部Ｋｆが形成される。

図４、図５、及び図７に示すように、下面３０は、領域３０１と、光路ＡＴに対して領域３０１の外側に配置される領域３０２と、光路ＡＴに対して領域３０２の外側に配置される領域３０３と、を含む。下面３０は、基板Ｐ（物体）の表面（上面）が対向可能である。

領域３０３は、領域３０１及び領域３０２よりも上方に配置される。Ｚ軸方向に関する領域３０１の位置（高さ）と、領域３０２の位置（高さ）とは、実質的に等しい。なお、Ｚ軸方向に関する領域３０１の位置（高さ）と、領域３０２の位置（高さ）とが異なってもよい。領域３０２が、領域３０１よりも上方に配置されてもよいし、下方に配置されてもよい。

光軸ＡＸと領域３０１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域３０２とがなす角度とは、実質的に等しい。光軸ＡＸと領域３０２とがなす角度と、光軸ＡＸと領域３０３とがなす角度とは、実質的に等しい。

領域３０１、領域３０２、及び領域３０３のそれぞれは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域３０１、領域３０２、及び領域３０３のそれぞれは、ＸＹ平面と実質的に平行である。

内面３８は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に面する。内面３８を、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に面する第２部材２２の端面、と称してもよい。内面３８の上端と上面２９（領域２９１）の内縁とが結ばれる。内面３８の下端と下面３０（領域３０１）の内縁とが結ばれる。

内面３８と上面２９（領域２９１）との間に角部Ｋｕが形成される。角部Ｋｕは、領域２９１の内縁部分を含む。

内面３８と下面３０（領域３０１）との間に角部Ｋｔが形成される。角部Ｋｔは、領域３０１の内縁部分を含む。

本実施形態において、領域３０１は、第２部材２２の最下部である。領域３０１は、第２部材２２のうち、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位である。

本実施形態において、内面３８は、第２部材２２のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位を含む。領域２９１は、第２部材２２のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位を含む。領域３０１は、第２部材２２のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位を含む。本実施形態においては、内面３８、領域２９１の内縁部分、及び領域３０１の内縁部分が、第２部材２２のうち光路ＡＴに最も近い部位である。

内面３８は、第２開口部２８を規定する。領域２９１の内縁部分は、第２開口部２８を規定する。領域３０１の内縁部分は、第２開口部２８を規定する。内面３８は、第２開口部２８の周囲に配置される。領域２９１の内縁部分は、第２開口部２８の周囲に配置される。領域３０１の内縁部分は、第２開口部２８の周囲に配置される。内面３８、領域２９１の内縁部分、及び領域３０１の内縁部分は、第２開口部２８の周囲の部位の少なくとも一部を規定する。

図４及び図５に示すように、内面２６は、上面２４よりも上方に配置される。内面２６の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。本実施形態において、内面２６は、光路ＡＴに対して上面２４の外側に配置される領域２６１と、光路ＡＴに対して領域２６１の外側に配置される領域２６２と、光路ＡＴに対して領域２６２の外側に配置される領域２６３とを含む。内面２６の少なくとも一部は、終端光学素子１３の外面１３１と対向可能である。

領域２６１は、上面２４の外縁と結ばれる。領域２６１は、上面２４よりも上方に配置される。領域２６２は、領域２６１よりも上方に配置される。領域２６３は、領域２６２よりも上方に配置される。

光軸ＡＸと領域２６１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２６２とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２６２とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２６３とがなす角度とは、異なる。光軸ＡＸと領域２６１とがなす角度と、光軸ＡＸと領域２６３とがなす角度とは、実質的に等しい。

領域２６１は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２６１は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。領域２６３は、光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２６３は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態において、領域２６２は、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２６２は、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２６１と領域２６２との間に角部が形成される。領域２６２と領域２６３との間に角部が形成される。

図４及び図５に示すように、外面２７及び内面３１は、光軸ＡＸと実質的に平行である。なお、外面２７の少なくとも一部が、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。内面３１の少なくとも一部が、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。

領域２４１及び領域２４２を含む上面２４は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。上面２４の少なくとも一部は、終端光学素子１３との間において液体ＬＱを保持可能である。

下面２５の領域２５１、領域２５２、領域２５３、及び領域２５５は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。下面２５の領域２５４は、液体ＬＱを回収可能な回収領域である。下面２５の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）及び第２部材２２との間において液体ＬＱを保持可能である。

領域２６１、領域２６２、及び領域２６３を含む内面２６は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。内面２６の少なくとも一部は、終端光学素子１３との間において液体ＬＱを保持可能である。

領域２９１、領域２９２、領域２９３Ａ、領域２９３、領域２９３Ｂ、及び領域２９４を含む上面２９は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。上面２９の少なくとも一部は、第１部材２１との間において液体ＬＱを保持可能である。

下面３０の領域３０１及び領域３０３は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。下面３０の領域３０２は、液体ＬＱを回収可能な回収領域である。下面３０の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）との間において液体ＬＱを保持可能である。

内面３８は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。外面２７は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。内面３１は、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。

図２等に示すように、Ｘ軸方向に関して、第２開口部２８の寸法は、第１開口部２３の寸法よりも大きい。図３等に示すように、Ｙ軸方向に関して、第２開口部２８の寸法は、第１開口部２３の寸法よりも大きい。ＸＹ平面内において、第２開口部２８は、第１開口部２３よりも大きい。

ＸＹ平面内において、第２開口部２８の内側に、光路ＡＴ（ＡＴＬ）及び第１部材２１の少なくとも一部が配置される。第１開口部２３の内側に、光路ＡＴ（ＡＴＬ）が配置される。ＸＹ平面内において、第１開口部２３は、Ｘ軸方向に長い四角形（長方形）状である。第２開口部２８も、Ｘ軸方向に長い四角形（長方形）状である。

図２及び図３等に示すように、本実施形態においては、終端光学素子１３の光軸ＡＸと第１開口部２３の中心とが実質的に一致するように、第１部材２１が配置される。終端光学素子１３の光軸ＡＸと第２開口部２８の中心とが実質的に一致する原点に第２部材２２が配置されているときに、第１開口部２３の中心と第２開口部２８の中心とが実質的に一致する。

原点に第２部材２２が配置されているときに、第２開口部２８を規定する第２部材２２の内縁は、光路ＡＴに対して、第１開口部２３を規定する第１部材２１の内縁よりも外側に配置される。第２部材２２の内縁は、内面３８、上面２９（領域２９１）の内縁、及び下面３０（領域３０１）の内縁を含む。第１部材２１の内縁は、下面２５（領域２５１）の内縁を含む。

原点に第２部材２２が配置されているときに、第２部材２２の上面２９は、第１部材２１と対向し、終端光学素子１３と対向しない。

本実施形態において、上面２４は、射出面１２の下方に配置される。下面２５は、射出面１２及び上面２４の下方に配置される。上面２９は、射出面１２、上面２４、及び下面２５の少なくとも一部の下方に配置される。下面３０は、射出面１２、上面２４、下面２５、及び上面２９の下方に配置される。

以下の説明において、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の光路ＡＴＬを含む空間を適宜、光路空間ＳＰＫ、と称する。本実施形態において、光路空間ＳＰＫの少なくとも一部は、終端光学素子１３の射出面１２によって規定される。本実施形態において、光路空間ＳＰＫは、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面１２と上面２４との間の空間を含む。光路空間ＳＰＫが、下面２５と基板Ｐ（物体）との間の空間を含んでもよい。光路空間ＳＰＫが、下面２５と基板Ｐ（物体）との間の空間を含まなくてもよい。

以下の説明において、第１部材２１と第２部材２２との間の空間を適宜、第１空間ＳＰ１、と称する。本実施形態において、第１空間ＳＰ１の少なくとも一部は、第１部材２１の下面２５によって規定される。本実施形態において、第１空間ＳＰ１の少なくとも一部は、第２部材２２の上面２９によって規定される。本実施形態において、第１空間ＳＰ１は、下面２５と上面２９との間の空間を含む。

以下の説明において、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間を適宜、第２空間ＳＰ２、と称する。本実施形態において、第２空間ＳＰ２の少なくとも一部は、第２部材２２の下面３０によって規定される。本実施形態において、第２空間ＳＰ２は、下面３０と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間を含む。

以下の説明において、終端光学素子１３と第１部材２１との間の空間を適宜、第３空間ＳＰ３、と称する。本実施形態において、第３空間ＳＰ３の少なくとも一部は、第１部材２１の内面２６によって規定される。本実施形態において、第３空間ＳＰ３の少なくとも一部は、終端光学素子１３の外面１３１によって規定される。本実施形態において、第３空間ＳＰ３は、外面１３１と内面２６との間の空間を含む。

Ｚ軸方向に関して、光路空間ＳＰＫの寸法（射出面１２と基板Ｐの上面との間隙の寸法）Ｄｋは、第２空間ＳＰ２の寸法（下面３０と基板Ｐの上面との間隙の寸法）Ｄ２よりも大きい。

Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法（下面２５と上面２９との間隙の寸法）Ｄ１は、第２空間ＳＰ２の寸法Ｄ２よりも小さい。

なお、Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法Ｄ１が、第２空間ＳＰ２の寸法Ｄ２と実質的に等しくてもよいし、第２空間ＳＰ２の寸法Ｄ２よりも大きくてもよい。

第３空間ＳＰ３の寸法（外面１３１と内面２６との間隙の寸法）Ｄ３は、第１空間ＳＰ１の寸法Ｄ１よりも大きい。

なお、第３空間ＳＰ３の寸法が、第１空間ＳＰ１の寸法と実質的に等しくてもよいし、第１空間ＳＰ１の寸法よりも小さくてもよい。

下面２５の領域２５１は、上面２９の少なくとも一部よりも下方（−Ｚ側）に配置される。本実施形態において、下面２５の領域２５１は、上面２９の領域２９２よりも下方（−Ｚ側）に配置される。

本実施形態において、光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関して、下面２５の領域２５１の位置（高さ）と、上面２９の領域２９１の一部の位置（高さ）とが実質的に等しい。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、下面２５の領域２５１は、角部Ｋｄと角部Ｋｕとの間に配置される。

なお、Ｚ軸方向に関して、下面２５の領域２５１の位置（高さ）と、角部Ｋｕ（領域２９１の下端、内面３８の上端）の位置（高さ）とが、実質的に等しくてもよい。

なお、下面２５の領域２５１が、上面２９の領域２９１よりも下方（−Ｚ側）に配置されてもよい。下面２５の領域２５１が、上面２９の領域２９１よりも下方（−Ｚ側）であって、下面３０の領域３０１よりも上方（＋Ｚ側）に配置されてもよい。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、下面２５の領域２５１が、角部Ｋｕと角部Ｋｔとの間に配置されてもよい。

なお、Ｚ軸方向に関して、下面２５の領域２５１の位置（高さ）と、角部Ｋｔ（内面３８の下端）の位置（高さ）とが、実質的に等しくてもよい。

なお、下面２５の領域２５１が、下面３０の領域３０１よりも下方（−Ｚ側）に配置されてもよい。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、下面２５の領域２５１が、角部Ｋｔよりも下方（−Ｚ側）に配置されてもよい。

なお、Ｚ軸方向に関して、下面２５の領域２５１の位置（高さ）と、上面２９の領域２９２の位置（高さ）とが、実質的に等しくてもよい。

なお、下面２５の領域２５１が、上面２９の領域２９２よりも上方（＋Ｚ側）に配置されてもよい。換言すれば、Ｚ軸方向に関して、下面２５の領域２５１が、角部Ｋｄよりも上方（＋Ｚ側）に配置されてもよい。

本実施形態において、上面２４側の空間（射出面１２と上面２４との間の空間）と、下面２５側の空間（下面２５と基板Ｐの上面との間の空間）とは、第１開口部２３を介して結ばれる。液体ＬＱは、第１開口部２３を介して、上面２４側の空間及び下面２５側の空間の一方から他方へ流通可能である。

光路空間ＳＰＫと第１空間ＳＰ１とは、下面２５の内縁と上面２９の内縁との間の開口３２（第２開口部２８）を介して結ばれる。液体ＬＱは、開口３２を介して、光路空間ＳＰＫ及び第１空間ＳＰ１の一方から他方へ流通可能である。

光路空間ＳＰＫと第２空間ＳＰ２とは、下面２５の内縁と基板Ｐの上面との間の開口３３を介して結ばれる。液体ＬＱは、開口３３を介して、光路空間ＳＰＫ及び第２空間ＳＰ２の一方から他方へ流通可能である。

光路空間ＳＰＫと第３空間ＳＰ３とは、外面１３１の下端と内面２６の下端との間の開口３４を介して結ばれる。液体ＬＱは、開口３４を介して、光路空間ＳＰＫ及び第３空間ＳＰ３の一方から他方へ流通可能である。

第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２開口部２８（開口３２）を介して結ばれる。液体ＬＱは、第２開口部２８を介して、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の一方から他方へ流通可能である。

光路ＡＴ側の第１空間ＳＰ１の一端は、開口３２を介して光路空間ＳＰＫと結ばれ、光路ＡＴから離れた第１空間ＳＰ１の他端は、下面２５の外縁と上面２９との間の開口３５、及び外面２７と内面３１との間隙を介して、液浸部材５の周囲の空間ＣＳと結ばれる。第１空間ＳＰ１は、開口３５、及び外面２７と内面３１との間隙を介して、液浸部材５の外部の空間（雰囲気）ＣＳに開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第１空間ＳＰ１は、大気開放される。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。

光路ＡＴ側の第２空間ＳＰ２の一端は、開口３３を介して光路空間ＳＰＫと結ばれ、光路ＡＴから離れた第２空間ＳＰ２の他端は、下面３０の外縁と基板Ｐ（物体）の上面との間の開口３６を介して、液浸部材５の周囲の空間ＣＳと結ばれる。第２空間ＳＰ２は、開口３６を介して、液浸部材５の外部の空間（雰囲気）ＣＳに開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第２空間ＳＰ２は、大気開放される。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。

光路ＡＴ側の第３空間ＳＰ３の一端（下端）は、開口３４を介して光路空間ＳＰＫと結ばれ、光路ＡＴから離れた第３空間ＳＰ３の他端（上端）は、外面１３１と内面２６の上端との間の開口３７を介して、液浸部材５の周囲の空間ＣＳと結ばれる。第３空間ＳＰ３は、開口３７を介して、液浸部材５の外部の空間（雰囲気）ＣＳに開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第３空間ＳＰ３は、大気開放される。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。

本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。

以下の説明において、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第１界面ＬＧ１、と称する。第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される界面ＬＧを適宜、第２界面ＬＧ２、と称する。終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される界面ＬＧを適宜、第３界面ＬＧ３、と称する。

図８は、第１部材２１を下側（下面２５側）から見た図である。図９は、第２部材２２を上側（上面２９側）から見た図である。図１０は、第２部材２２を下側（下面３０側）から見た図である。図１１及び図１２は、液浸部材５の分解斜視図である。

液浸部材５は、液体ＬＱを供給可能な液体供給部４１と、液体ＬＱを供給可能な液体供給部４２とを備えている。

液体供給部４２が、光軸ＡＸ（光路ＡＴ）に対する放射方向に関して液体供給部４１の外側に配置されてもよい。液体供給部４１が、光軸ＡＸ（光路ＡＴ）に対する放射方向に関して液体供給部４２の外側に配置されてもよい。

液体供給部４１は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する。液体供給部４１は、第２部材２２の部分２２１よりも上方に配置される。液体供給部４１は、終端光学素子１３の外面１３１と第１部材２１の内面２６との間の第３空間ＳＰ３に面するように配置される。

液体供給部４１は、第１部材２１に配置される。液体供給部４１は、第３空間ＳＰ３に面するように、第１部材２１の内面２６に配置される。

液体供給部４１は、第１部材２１の内面２６に配置される開口（液体供給口）４１Ｍを含む。液体供給部４１は、外面１３１に対向するように配置される。液体供給部４１は、外面１３１と内面２６との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。

本実施形態において、液体供給部４１は、光路ＡＴ（終端光学素子１３）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。

液体供給部４１（液体供給口４１Ｍ）は、第１部材２１の内部に形成された供給流路４１Ｒを介して、液体供給装置４１Ｓと接続される。液体供給装置４１Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを液体供給部４１に供給可能である。液体供給部４１は、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置４１Ｓからの液体ＬＱを供給する。

液体供給部４１から第３空間ＳＰ３に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３４を介して、光路空間ＳＰＫに供給される。これにより、光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされる。また、液体供給部４１から光路空間ＳＰＫに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３２を介して、第１空間ＳＰ１に供給される。また、液体供給部４１から光路空間ＳＰＫに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３３を介して、第２空間ＳＰ２に供給される。

液体供給部４２は、第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する。液体供給部４２は、第１開口部２３の外側に配置される。液体供給部４２は、第１開口部２３の外側において、第１部材２１の下面２５と第２部材２２の上面２９との間の第１空間ＳＰ１に面するように配置される。

液体供給部４２は、第１部材２１に配置される。液体供給部４２は、第１空間ＳＰ１に面するように、第１部材２１の下面２５に配置される。本実施形態において、液体供給部４２は、第１空間ＳＰ１に面するように、下面２５の領域２５３に配置される。

液体供給部４２は、第１部材２１の下面２５に配置される開口（液体供給口）４２Ｍを含む。液体供給部４２は、上面２９に対向するように配置される。液体供給部４２は、下面２５と上面２９との間の第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する。

本実施形態において、液体供給部４２は、Ｙ軸方向に関して、第１開口部２３（光路ＡＴ、終端光学素子１３）の一側（＋Ｙ側）及び他側（−Ｙ側）のそれぞれに配置される。

図８に示すように、本実施形態において、液体供給部４２は、光路ＡＴ（第１開口部２３）に対して＋Ｙ側の下面２５の一部の領域４２１Ｓに配置された複数の液体供給口４２Ｍと、光路ＡＴ（第１開口部２３）に対して−Ｙ側の下面２５の一部の領域４２２Ｓに配置された複数の液体供給口４２Ｍとを含む。＋Ｙ側の領域４２１Ｓにおいて、液体供給口４２Ｍは、Ｘ軸方向に複数配置される。−Ｙ側の領域４２２Ｓにおいて、液体供給口４２Ｍは、Ｘ軸方向に複数配置される。本実施形態においては、＋Ｙ側の領域４２１Ｓにおいて、液体供給口４２Ｍは、Ｘ軸方向に４つ配置される。−Ｙ側の領域４２２Ｓにおいて、液体供給口４２Ｍは、Ｘ軸方向に４つ配置される。

本実施形態において、Ｘ軸方向に配置された複数の液体供給口４２Ｍのうち、最も＋Ｘ側の液体供給口４２Ｍと、最も−Ｘ側の液体供給口４２Ｍとの距離（Ｘ軸方向に関する距離）Ｗ４２は、Ｘ軸方向に関する第１開口部２３の寸法Ｗ２３よりも小さい。

なお、距離Ｗ４２が、寸法Ｗ２３よりも大きくてもよい。換言すれば、Ｘ軸方向に関して、第１開口部２３の外側に、液体供給部４２（液体供給口４２Ｍ）の少なくとも一部が配置されてもよい。なお、距離Ｗ４２と寸法Ｗ２３とが実質的に等しくてもよい。

液体供給部４２（液体供給口４２Ｍ）は、第１部材２１の内部に形成された供給流路４２Ｒを介して、液体供給装置４２Ｓと接続される。液体供給装置４２Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを液体供給部４２（液体供給口４２Ｍ）に供給可能である。液体供給部４２は、液体供給装置４２Ｓからの液体ＬＱを第１空間ＳＰ１に供給する。

液浸部材５は、液体ＬＱを回収可能な液体回収部４３と、液体ＬＱを回収可能な液体回収部４４とを備えている。

液体回収部４３は、光軸ＡＸ（光路ＡＴ）に対する放射方向に関して液体供給部４１及び液体供給部４２の外側に配置される。

液体回収部４３は、第１部材２１に配置される。液体回収部４３は、第１空間ＳＰ１に面する。液体回収部４３は、第１空間ＳＰ１に面するように、第１部材２１の下面２５に配置される。液体回収部４３は、第２部材２２が対向するように、第１部材２１に配置される。

液体回収部４３は、第１部材２１の下面２５に配置される開口（液体回収口）４３Ｍを含む。液体回収部４３は、第２部材２２の上面２９に対向するように第１部材２１に配置される。液体回収部４３は、下面２５と上面２９との間の第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

液体回収部４３は、下面２５の領域（回収領域）２５４に配置される。液体回収部４３は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に配置される。液体回収部４３は、光路ＡＴを囲むように配置される。下面２５において、液体回収部４３は、液体供給部４２を囲むように配置される。

なお、液体回収部４３は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲において複数配置されてもよい。液体回収部４３は、光路ＡＴの周囲において間隔をあけて複数配置されてもよい。

本実施形態において、液体回収部４３は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱを回収しない。すなわち、液体回収部４３は、第１空間ＳＰ１から液体ＬＱを回収可能であり、第２空間ＳＰ２から液体ＬＱを回収しない。

液体回収部４３（液体回収口４３Ｍ）は、第１部材２１の内部に形成された回収流路（空間）４３Ｒを介して、液体回収装置４３Ｃと接続される。液体回収装置４３Ｃは、液体回収部４３と真空システムとを接続可能である。液体回収部４３は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収部４３（液体回収口４３Ｍ）を介して回収流路４３Ｒに流入可能である。

本実施形態において、液体回収部４３は、多孔部材４５を含む。液体回収口４３Ｍは、多孔部材４５の孔を含む。本実施形態において、多孔部材４５は、メッシュプレートを含む。多孔部材４５は、上面２９が対向可能な下面と、回収流路４３Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。液体回収部４３は、多孔部材４５の孔を介して液体ＬＱを回収する。本実施形態において、下面２５の領域（回収領域）２５４は、多孔部材４５の下面を含む。液体回収部４３（多孔部材４５の孔）から回収された第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、回収流路４３Ｒに流入し、その回収流路４３Ｒを流れて、液体回収装置４３Ｃに回収される。

本実施形態においては、液体回収部４３を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置６は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが多孔部材４５の孔を通過して回収流路４３Ｒに流入し、気体は通過しないように、多孔部材４５の下面側の圧力（第１空間ＳＰ１の圧力）と上面側の圧力（回収流路４３Ｒの圧力）との差を調整する。本実施形態においては、第１空間ＳＰ１は空間ＣＳと結ばれている。制御装置６は、チャンバ装置９を制御して、第１空間ＳＰ１の圧力を調整可能である。制御装置６は、液体回収装置４３Ｃを制御して、回収流路４３Ｒの圧力を調整可能である。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号などに開示されている。

なお、多孔部材４５を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。なお、第１部材２１に多孔部材４５が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。

液体回収部４４は、光軸ＡＸ（光路ＡＴ）に対する放射方向に関して液体供給部４１及び液体供給部４２の外側に配置される。

液体回収部４４は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。液体回収部４４は、第２部材２２に配置される。液体回収部４４は、第２空間ＳＰ２に面する。液体回収部４４は、第２空間ＳＰ２に面するように、第２部材２２の下面３０に配置される。液体回収部４４は、基板Ｐ（物体）が対向するように、第２部材２２に配置される。

液体回収部４４は、第２部材２２の下面３０に配置される開口（液体回収口）４４Ｍを含む。液体回収部４４は、基板Ｐ（物体）の上面に対向するように第２部材２２に配置される。液体回収部４４は、下面３０と基板Ｐ（物体）の上面との間の第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。

液体回収部４４は、下面３０の領域（回収領域）３０２に配置される。液体回収部４４は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に配置される。液体回収部４４は、光路ＡＴを囲むように配置される。

なお、液体回収部４４は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲において複数配置されてもよい。液体回収部４４は、光路ＡＴの周囲において間隔をあけて複数配置されてもよい。

本実施形態において、液体回収部４４は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱを回収しない。すなわち、液体回収部４４は、第２空間ＳＰ２から液体ＬＱを回収可能であり、第１空間ＳＰ１から液体ＬＱを回収しない。

液体回収部４４（液体回収口４４Ｍ）は、第２部材２２の内部に形成された回収流路（空間）４４Ｒを介して、液体回収装置４４Ｃと接続される。液体回収装置４４Ｃは、液体回収部４４と真空システムとを接続可能である。液体回収部４４は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収部４４（液体回収口）を介して回収流路４４Ｒに流入可能である。

本実施形態において、液体回収部４４は、多孔部材４６を含む。液体回収口４４Ｍは、多孔部材４６の孔を含む。本実施形態において、多孔部材４６は、メッシュプレートを含む。多孔部材４６は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面と、回収流路４４Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。液体回収部４４は、多孔部材４６の孔を介して液体ＬＱを回収する。本実施形態において、下面３０の領域（回収領域）３０２は、多孔部材４６の下面を含む。液体回収部４４（多孔部材４６の孔）から回収された第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、回収流路４４Ｒに流入し、その回収流路４４Ｒを流れて、液体回収装置４４Ｃに回収される。

本実施形態においては、液体回収部４４を介して液体ＬＱとともに気体が回収される。換言すれば、液体回収部４４は、第２空間ＳＰ２に存在する流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）について、気液混合回収する。なお、多孔部材４６を介して液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されてもよい。なお、第２部材２２に多孔部材４６が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第２空間ＳＰ２の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。

本実施形態においては、回収流路４４Ｒは、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して内面３１の外側に配置される。回収流路４４Ｒは、液体回収部４４の上方に配置される。第２部材２２が移動することにより、第２部材２２の流体回収部４４及び回収流路４４Ｒが、第１部材２１の外面２７の外側で移動する。

本実施形態においては、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給動作と並行して、液体回収部４４からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。

また、本実施形態においては、液体供給部４１及び液体供給部４２からの液体ＬＱの供給動作、及び液体回収部４４からの液体ＬＱの回収動作と並行して、液体回収部４３からの液体ＬＱの回収動作が実行される。

本実施形態において、第１界面ＬＧ１は、液体回収部４３と上面２９との間に形成される。第２界面ＬＧ２は、液体回収部４４と基板Ｐ（物体）の上面との間に形成される。

本実施形態においては、第１界面ＬＧ１が液体回収部４３と上面２９との間に形成され、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが液体回収部４３の外側の空間（例えば外面２７と内面３１との間の空間）に移動することが抑制されている。外面２７と内面３１との間の空間には液体ＬＱが存在しない。外面２７と内面３１との間の空間は気体空間である。そのため、第２部材２２は円滑に移動可能である。

また、本実施形態においては、光路ＡＴに対して第１空間ＳＰ１の外側（外面２７の外側）に液体ＬＱが移動（流出）したとしても、内面３１によって、その液体ＬＱが基板Ｐ上（第２空間ＳＰ２）に移動（流出）することが抑制される。

本実施形態において、第２部材２２は、液体ＬＱが流通可能な通路５０を有する。通路５０は、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とを結ぶように第２部材２２に設けられる。通路５０は、第２部材２２の上面２９と下面３０とを結ぶように設けられる。通路５０は、上面２９と下面３０とを結ぶ孔（貫通孔）を含む。通路５０の上端の開口５０Ａは、第１空間ＳＰ１に面する。通路５０の下端の開口５０Ｍは、第２空間ＳＰ２に面する。

通路５０は、第２開口部２８とは異なる開口部（孔）である。通路５０を、第３開口部５０、と称してもよい。通路（第３開口部）５０は、第２開口部２８の外側に配置される。通路（第３開口部）５０は、第２開口部２８（光路ＡＴ）の周囲の少なくとも一部に配置される。

第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部が、通路５０を介して、第２空間ＳＰ２に供給される。液体供給部４２から第１空間ＳＰ１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、通路５０を介して、第２空間ＳＰ２に供給される。液体供給部４２は、第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給可能である。液体供給部４２は、通路５０を介して、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給可能である。液体供給部４２は、通路５０を介して、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱを供給可能である。

すなわち、本実施形態において、通路５０は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の第２空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給する液体供給部として機能する。本実施形態において、通路５０を、液体供給部５０、と称してもよい。通路（液体供給部）５０は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を、第２空間ＳＰ２に供給する。

第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、通路５０の上端の開口５０Ａから通路５０に流入し、通路５０の下端の開口５０Ｍから流出する。これにより、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部が、通路５０を介して第２空間ＳＰ２に供給される。通路５０の上端の開口５０Ａを、流入口５０Ａ、と称してもよい。通路５０の下端の開口５０Ｍを、流出口５０Ｍ、と称してもよい。通路５０の下端の開口（流出口）５０Ｍは、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給する液体供給口として機能する。第２空間ＳＰ２に面する通路５０の下端の開口５０Ｍを、液体供給口５０Ｍ、と称してもよい。

通路（液体供給部）５０は、第２空間ＳＰ２に面するように第２部材２２に設けられる。通路（液体供給部）５０は、第２開口部２８の外側に配置される。通路（液体供給部）５０は、第２開口部２８の外側において、第２部材２２の下面３０と基板Ｐ（物体）の上面との間の第２空間ＳＰ２に面するように配置される。

本実施形態において、液体供給部５０（液体供給口５０Ｍ）は、第２空間ＳＰ２に面するように、下面３０の領域３０１に配置される。

液体供給部５０は、第２部材２２の下面３０に配置される開口（液体供給口）５０Ｍを含む。液体供給部５０は、基板Ｐ（物体）の上面に対向するように配置される。液体供給部５０は、第２部材２２の下面３０と基板Ｐ（物体）の上面との間の第２空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給する。

本実施形態においては、終端光学素子１３の光軸ＡＸと垂直なＸＹ平面内において、液体供給部４２と通路５０とは異なる位置に配置される。

本実施形態において、液体供給部（通路）５０は、Ｘ軸方向に関して、第２開口部２８（光路ＡＴ、終端光学素子１３）の一側（＋Ｘ側）及び他側（−Ｘ側）のそれぞれに配置される。

図１０に示すように、本実施形態において、液体供給部５０は、光路ＡＴ（第２開口部２８）に対して＋Ｘ側の下面３０の一部の領域５０１Ｓに配置された複数の液体供給口５０Ｍと、光路ＡＴ（第２開口部２８）に対して−Ｘ側の下面３０の一部の領域５０２Ｓに配置された複数の液体供給口５０Ｍとを含む。＋Ｘ側の領域５０１Ｓにおいて、液体供給口５０Ｍは、Ｙ軸方向に複数配置される。−Ｘ側の領域５０２Ｓにおいて、液体供給口５０Ｍは、Ｙ軸方向に複数配置される。本実施形態においては、＋Ｘ側の領域５０１Ｓにおいて、液体供給口５１Ｍは、Ｙ軸方向に４つ配置される。−Ｘ側の領域５０２Ｓにおいて、液体供給口５１Ｍは、Ｙ軸方向に４つ配置される。

本実施形態において、Ｙ軸方向に配置された複数の液体供給口５０Ｍのうち、最も＋Ｙ側の液体供給口５０Ｍと、最も−Ｙ側の液体供給口５０Ｍとの距離（Ｙ軸方向に関する距離）Ｗ５０は、Ｙ軸方向に関する第２開口部２８の寸法Ｗ２８よりも小さい。

なお、距離Ｗ５０が、寸法Ｗ２８よりも大きくてもよい。換言すれば、Ｙ軸方向に関して、第２開口部２８の外側に、液体供給部５０（液体供給口５０Ｍ）の少なくとも一部が配置されてもよい。なお、距離Ｗ５０と寸法Ｗ２８とが実質的に等しくてもよい。

液体供給部５０（液体供給口５０Ｍ）は、第１空間ＳＰ１、及び第１部材２１の内部に形成された供給流路４２Ｒを介して、液体供給装置４２Ｓと接続される。液体供給装置４２Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを、第１空間ＳＰ１を介して、液体供給部５０（液体供給口５０Ｍ）に供給可能である。液体供給部４２は、液体供給装置４２Ｓからの液体ＬＱを第１空間ＳＰ１に供給する。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、液体供給部５０（液体供給口５０Ｍ）を介して、第２空間ＳＰ２に供給される。

なお、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部が、通路５０を介して、第１空間ＳＰ１に移動（流入）してもよい。

本実施形態において、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、第２開口部２８を介して、第２空間ＳＰ２に供給される。すなわち、本実施形態において、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、第２開口部２８及び通路（第３開口部）５０の両方を介して、第２空間ＳＰ２に移動可能である。液体供給部４２は、第２開口部２８及び通路（第３開口部）５０を介して、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給可能である。

本実施形態においては、上面２９側の第１空間ＳＰ１及び下面３０側の第２空間ＳＰ２の一方から他方への第２開口部２８及び第３開口部５０を介さない液体ＬＱの移動が抑制されている。第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材２２によって仕切られている。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、第２開口部２８及び第３開口部５０を介して第２空間ＳＰ２に移動できる。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、第２開口部２８及び第３開口部５０を介さずに第２空間ＳＰ２に移動できない。光路ＡＴに対して第２開口部２８よりも外側の第１空間ＳＰ１に存在する液体ＬＱは、第３開口部５０を介して、第２空間ＳＰ２に移動できる。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、第２開口部２８及び第３開口部５０の一方又は両方を介して、第１空間ＳＰ１に移動できる。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、第２開口部２８及び第３開口部５０の少なくとも一方を介さずに第１空間ＳＰ１に移動できない。光路ＡＴに対して第２開口部２８よりも外側の第２空間ＳＰ２に存在する液体ＬＱは、第３開口部５０を介して、第１空間ＳＰ１に移動できる。

すなわち、本実施形態において、液浸部材５は、第２開口部２８及び第３開口部２８以外に、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とを流体的に接続する流路を有しない。

本実施形態において、液体供給部４１から第３空間ＳＰ３及び光路空間ＳＰＫを介して第１空間ＳＰ１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部が、第３開口部（通路）５０を介して、第２空間ＳＰ２に供給されてもよい。液体供給部４１から第３空間ＳＰ３及び光路空間ＳＰＫを介して第２空間ＳＰ２に供給された液体ＬＱの少なくとも一部が、通路（第３開口部）５０を介して、第１空間ＳＰ１に供給されてもよい。

ＸＹ平面内において、通路（第３開口部）５０の寸法は、第１開口部２３の寸法よりも小さい。ＸＹ平面内において、通路（第３開口部）５０の寸法は、第２開口部２８の寸法よりも小さい。

射出面１２から射出された露光光ＥＬは、第１開口部２３及び第２開口部２８を通過可能である。射出面１２から射出された露光光ＥＬが基板Ｐ（物体）に照射されることが妨げられないように、第１開口部２３の寸法及び第２開口部２８の寸法のそれぞれは、射出面１２から射出された露光光ＥＬの断面の寸法よりも大きい。

本実施形態において、通路（第３開口部）５０の寸法は、射出面１２から射出された露光光ＥＬの断面の寸法よりも小さい。本実施形態において、通路（第３開口部）５０は、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに配置されない。

図１３は、液体供給部４２の近傍を示す断面図である。図１４は、通路（液体供給部）５０の近傍を示す断面図である。

本実施形態において、液浸部材５は、液体供給部４２からの液体ＬＱの少なくとも一部を通路５０へ導く誘導部５１を有する。

また、本実施形態において、液浸部材５は、誘導部５１の周囲の少なくとも一部に配置され、誘導部５１の液体ＬＱが誘導部５１から流出することを抑制する抑制部５２を有する。

本実施形態において、第１空間ＳＰ１は、第１部材２１と第２部材２２との間隙が寸法Ｄ１ａの間隙部分Ｇ１ａと、寸法Ｄ１ａよりも小さい寸法Ｄ１ｂの間隙部分Ｇ１ｂとを含む。

本実施形態において、誘導部５１は、間隙部分Ｇ１ａを含む。抑制部５２は、間隙部分Ｇ１ｂを含む。

第２部材２２は、第１部材２１が対向可能な凹部５３を有する。凹部５３を、溝部５３、と称してもよい。図９等に示すように、凹部５３は、第２開口部２８を囲むように形成される。ＸＹ平面内において、凹部５３は、環状である。

凹部５３の内側に、上面２９の領域２９３が配置される。凹部５３の周囲の少なくとも一部に、領域２９２及び領域２９４が配置される。領域２９２は、光路ＡＴに対して凹部５３の内側に配置される。領域２９２は、第２開口部２８と凹部５３との間に配置される。領域２９４は、光路ＡＴに対して凹部５３の外側に配置される。領域２９４は、凹部５３を囲むように配置される。

間隙部分Ｇ１ａの少なくとも一部は、凹部５３によって規定される。間隙部分Ｇ１ｂの少なくとも一部は、凹部５３の周囲に配置される領域２９２及び領域２９４によって規定される。

間隙部分Ｇ１ａは、第１部材２１の下面２５と、第２部材２２の凹部５３との間の空間を含む。間隙部分Ｇ１ａは、第１部材２１の下面２５の領域２５３と、第２部材２２の上面２９の領域２９３との間の空間を含む。間隙部分Ｇ１ａは、第１空間ＳＰ１の一部の空間（部分空間）である。間隙部分Ｇ１ａを、部分空間Ｇ１ａ、と称してもよい。

間隙部分Ｇ１ｂは、第１部材２１の下面２５の領域２５３と、第２部材２２の上面２９の領域２９２との間の空間を含む。間隙部分Ｇ１ｂは、第１部材２１の下面２５の領域２５３と、第２部材２２の上面２９の領域２９４との間の空間を含む。

領域２５３と領域２９２との間の間隙部分Ｇ１ｂ（抑制部５２）は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して間隙部分Ｇ１ａ（誘導部５１）の内側に配置される。また、領域２５３と領域２９２との間の間隙部分Ｇ１ｂ（抑制部５２）は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して、液体供給部４２の内側に配置される。

領域２５３と領域２９４との間の間隙部分Ｇ１ｂ（抑制部５２）は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して間隙部分Ｇ１ａ（誘導部５１）の外側に配置される。また、領域２５３と領域２９４との間の間隙部分Ｇ１ｂ（抑制部５２）は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して、液体供給部４２の外側に配置される。

間隙部分Ｇ１ｂは、第１空間ＳＰ１の一部の空間（部分空間）である。間隙部分Ｇ１ｂを、部分空間Ｇ１ｂ、と称してもよい。

図１３に示すように、液体供給部４２（液体供給口４２Ｍ）は、間隙部分Ｇ１ａに面するように配置される。すなわち、液体供給部４２は、誘導部５１に面するように配置される。液体供給部４２は、凹部５３と対向するように配置される。

図１４に示すように、通路５０の上端の開口（流入口）５０Ａは、間隙部分Ｇ１ａに面するように配置される。すなわち、開口５０Ａは、誘導部５１に面するように配置される。開口５０Ａは、凹部５３の内側に配置される。

液体供給部４２は、間隙部分Ｇ１ａに液体ＬＱを供給する。すなわち、液体供給部４２は、誘導部５１に液体ＬＱを供給する。液体供給部４２は、凹部５３に液体ＬＱを供給する。

図１３等に示すように、凹部５３の上端の開口の寸法は、液体供給部４２（液体供給口４２Ｍ）の寸法よりも大きい。これにより、液体供給部４２からの液体ＬＱは、凹部５３（間隙部分Ｇ１ａ、誘導部５１）に円滑に供給される。

液体供給部４２から間隙部分Ｇ１ａ（凹部５３）に供給された液体ＬＱは、その間隙部分Ｇ１ａ（凹部５３）によって、開口５０Ａ（通路５０）に誘導される。

間隙部分Ｇ１ａの寸法Ｄ１ａは、間隙部分Ｇ１ｂの寸法Ｄ１ｂよりも大きい。したがって、液体ＬＱは、間隙部分Ｇ１ａを円滑に流れることができる。液体供給部４２から間隙部分Ｇ１ａに供給された液体ＬＱは、その間隙部分Ｇ１ａに面するように配置された通路５０の上端の開口５０Ａに円滑に到達することができる。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、液体供給部４２と通路５０（開口５０Ａ）とは異なる位置に配置される。液体供給部４１から供給された液体ＬＱは、間隙部分Ｇ１ａ（誘導部５１）によって、通路５０（開口５０Ａ）まで誘導される。

図９に示すように、ＸＹ平面内において、凹部５３は、環状である。凹部５３は、実質的にＸ軸と平行な部分５３１と、実質的にＹ軸と平行な部分５３２とを含む。部分５３１は、Ｙ軸方向に関して第２開口部２８（光路ＡＴ）の一側（＋Ｙ側）及び他側（−Ｙ側）に配置される。部分５３２は、Ｘ軸方向に関して第２開口部２８（光路ＡＴ）の一側（＋Ｘ側）及び他側（−Ｘ側）に配置される。

液体供給部４２は、部分５３１と対向するように配置される。通路５０の上端の開口５０Ａは、部分５３２の内側に配置される。液体供給部４２から部分５３１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、部分５３２に流入する。部分５３２の液体ＬＱの少なくとも一部は、開口５０Ａを介して通路５０に流入する。

間隙部分Ｇ１ｂの寸法Ｄ１ｂは、間隙部分Ｇ１ａの寸法Ｄ１ａよりも小さい。間隙部分Ｇ１ｂは、間隙部分Ｇ１ａの周囲に配置される。したがって、間隙部分Ｇ１ａ（誘導部５１）の液体ＬＱが、その間隙部分Ｇ１ａ（誘導部５１）から流出することが抑制される。例えば、間隙部分Ｇ１ｂにおける圧力損失により、間隙部分Ｇ１ａの液体ＬＱが間隙部分Ｇ１ａから流出することが抑制される。換言すれば、間隙部分Ｇ１ｂにより、液体供給部４２から間隙部分Ｇ１ａに供給された液体ＬＱが、間隙部分Ｇ１ａに閉じ込められる。

本実施形態において、間隙部分Ｇ１ｂの寸法Ｄ１ｂは、例えば２００μｍ以下である。寸法Ｄ１ｂは、例えば１０μｍ以上１００μｍ以下でもよい。

間隙部分Ｇ１ａの寸法Ｄ１ａは、例えば寸法Ｄ１ｂの２倍以上１００倍以下でもよい。

本実施形態において、液体供給部４２からの液体ＬＱの少なくとも一部は、間隙部分Ｇ１ｂにも供給される。すなわち、液体供給部４２から間隙部分Ｇ１ａに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、間隙部分Ｇ１ｂに流入する。間隙部分Ｇ１ｂの寸法Ｄ１ｂは小さい。そのため、液体ＬＱが間隙部分Ｇ１ｂに流入しても、その間隙部分Ｇ１ｂの液体ＬＱが、間隙部分Ｇ１ｂから流出することが抑制される。

すなわち、本実施形態において、第１空間ＳＰ１は、間隙部分Ｇ１ａと間隙部分Ｇ１ｂとを有し、その間隙部分Ｇ１ａに液体供給部４２から液体ＬＱが供給されても、間隙部分Ｇ１ｂ（第１空間ＳＰ１）の外側に液体ＬＱが流出することが抑制される。

また、本実施形態においては、下面２５の領域２５３と上面２９の領域２９４との間の間隙部分Ｇ１ｂに面するように、液体回収部４３が配置される。液体回収部４３は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して間隙部分Ｇ１ｂの外側に配置される。また、液体回収部４３は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して、液体供給部４２の外側に配置される。そのため、間隙部分Ｇ１ａから、下面２５の領域２５３と上面２９の領域２９４との間の間隙部分Ｇ１ｂに流入した液体ＬＱは、液体回収部４３から回収される。したがって、間隙部分Ｇ１ｂ（第１空間ＳＰ１）の外側に液体ＬＱが流出することが抑制される。

上述のように、本実施形態において、抑制部５２は、間隙部分Ｇ１ｂを含む。間隙部分Ｇ１ｂは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４３の内側及び外側の両方に配置される。抑制部５２が、液体回収部４３を含む概念でもよい。液体回収部４３は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２の外側に配置される。本実施形態において、抑制部５２は、間隙部分Ｇ１ｂ及び液体回収部４３の一方又は両方を含む概念でもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、駆動装置４７の作動により移動する。駆動装置４７は、例えばモータを含む。駆動装置４７は、ローレンツ力を用いて第２部材２２を移動可能である。駆動装置４７は、第２部材２２を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向に移動可能である。駆動装置４７は、終端光学素子１３及び第１部材２１に対して第２部材２２を移動可能である。駆動装置４７は、制御装置６に制御される。

第２部材２２は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能である。

本実施形態において、第２部材２２は、少なくとも、終端光学素子１３の光軸ＡＸ（Ｚ軸）と垂直なＸＹ平面内において移動可能である。第２部材２２は、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。

本実施形態において、第２部材２２は、少なくとも、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に垂直なＸ軸方向に移動可能である。以下の説明においては、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向のうち、専らＸ軸と平行な方向に第２部材２２が移動することとする。

本実施形態において、第１部材２１は、終端光学素子１３を保護するように配置される。第１部材２１は、終端光学素子１３を保護するように、光路ＡＴの周囲に配置される。第１部材２１は、終端光学素子１３を保護する保護部材として機能する。

第１部材２１の少なくとも一部は、終端光学素子１３を保護する保護部として機能する。本実施形態において、第１部材２１の部分２１１及び部分２１２のそれぞれは、終端光学素子１３を保護する保護部として機能する。

第１部材２１の部分２１１は、終端光学素子１３の射出面１２を保護するように、光路ＡＴＬの周囲に配置される。部分２１１の少なくとも一部は、射出面１２を保護するように、間隙を介して、射出面１２の下方に配置される。

第１部材２１の部分２１２は、終端光学素子１３の外面１３１を保護するように、光路ＡＴＯ（終端光学素子１３）の周囲に配置される。部分２１２の少なくとも一部は、外面１３１を保護するように、間隙を介して、外面１３１の周囲に配置される。

以下の説明においては、第１部材２１の部分２１１を適宜、保護部２１１、と称し、部分２１２を適宜、保護部２１２、と称する。

保護部２１１及び保護部２１２のそれぞれは、光路ＡＴの外側において、終端光学素子１３と第２部材２２との間に配置される。

第１部材２１は、第２部材２２から終端光学素子１３を保護する。第１部材２１は、移動可能な第２部材２２と終端光学素子１３との接触（衝突）を防止する。

第１部材２１の少なくとも一部は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減する。第１部材２１の少なくとも一部は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を抑制する。第１部材２１の少なくとも一部は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を無くすことができる。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２が移動することにより、終端光学素子１３に作用する液体ＬＱの圧力が変動する可能性がある。換言すれば、第２部材２２の少なくとも一部が液浸空間ＬＳの液体ＬＱに浸かっている状態で第２部材２２が移動することにより、終端光学素子１３に作用する液体ＬＱの圧力が変動する可能性がある。第１部材２１の少なくとも一部は、第２部材２２の移動により液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減する。

本実施形態においては、第２部材２２の部分２２１の少なくとも一部が、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに浸かっている状態で移動する。終端光学素子１３と第２部材２２の部分２２１との間に配置される第１部材２１の部分（保護部）２１１は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減する。

部分（保護部）２１１は、終端光学素子１３と第２部材２２（部分２２１）との間に配置される壁部６０を形成する。壁部６０は、終端光学素子１３と第１部材２１（部分２１１）との間の空間と、第１部材２１１（部分２１１）と第２部材２２（部分２２１）との間の空間とを仕切る。

図６に示すように、以下の説明においては、領域２４１、領域２５１、及び領域２５２を含む壁部６０の一部を適宜、第１壁部６１、と称する。領域２４２、及び領域２５３を含む領域を適宜、第２壁部６２、と称する。第１壁部６１は、角部Ｋａ及び角部Ｋｃよりも光路ＡＴ（ＡＴＬ）に近い部分である。第１壁部６１は、第２壁部６２よりも光路ＡＴ（ＡＴＬ）に近い部分である。第１壁部６１は、第２壁部６２よりも下方に配置される。

また、以下の説明において、保護部２１１のうち、第１壁部６１に相当する部分を適宜、第１保護部２１１１、と称し、第２壁部６２に相当する部分を適宜、第２保護部２１１２、と称する。

本実施形態において、保護部２１１（壁部６０）が、露光光ＥＬが通過可能な第１開口部２３を有する。

保護部２１１は、第１部材２１のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位４８を含む。本実施形態においては、領域２５１の内縁部分（角部Ｋｓ）が、第１部材２１のうち、光路ＡＴに最も近い部位４８である。

本実施形態において、部位４８は、保護部２１１の最下部である。部位４８は、保護部２１１のうち、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位である。

部位４８は、間隙を介して、射出面１２の下方に配置される。部位４８は、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

部位４８は、第１開口部２３を規定する。部位４８は、第１開口部２３の周囲に配置される。部位４８は、第１開口部２３の周囲の部位の少なくとも一部を規定する。

図７に示すように、部分２２１は、露光光ＥＬが通過可能な第２開口部２８を有する。

部分２２１は、第２部材２２のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近い部位４９を含む。本実施形態において、内面３８、領域２９１の内縁部分（角部Ｋｕ）、及び領域３０１の内縁部分（角部Ｋｔ）が、第２部材２２のうち、光路ＡＴに最も近い部位４９である。

本実施形態において、部位４９は、部分２２１の最下部を含む。部位４９は、部分２２１のうち、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位を含む。本実施形態においては、第２部材２２のうち、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に最も近く、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も近い部位４９は、領域３０１の内縁部分（角部Ｋｔ）である。

部位４９は、間隙を介して、下面２５の下方に配置される。部位４９は、下面２５と基板Ｐ（物体）との間に配置される。

部位４９は、第２開口部２８を規定する。部位４９は、第２開口部２８の周囲に配置される。部位４９は、第２開口部２８の周囲の部位の少なくとも一部を規定する。

第２部材２２の移動方向（Ｘ軸方向）に関して、第２開口部２８の寸法は、第１開口部２３の寸法よりも大きい。原点に第２部材２２が配置されている状態において、第２部材２２の部位４９は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して第１部材２１の部位４８の外側に配置される。

図１５は、第２部材２２の動作の一例を示す図である。第２部材２２は、ＸＹ平面内において定められた可動範囲（移動可能範囲）を移動可能である。本実施形態においては、第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して定められた可動範囲を移動する。図１５は、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態を示す。

第２部材２２が移動することにより、第１部材２１の外面２７と第２部材２２の内面３１との間隙の寸法が変化する。換言すれば、第２部材２２が移動することによって、外面２７と内面３１との間の空間の大きさが変化する。

図１５に示す例では、第２部材２２が−Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外面２７と内面３１との間隙の寸法が小さくなる（外面２７と内面３１との間の空間が小さくなる）。第２部材２２が−Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して−Ｘ側における外面２７と内面３１との間隙の寸法が大きくなる（外面２７と内面３１との間の空間が大きくなる）。

第２部材２２が＋Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外面２７と内面３１との間隙の寸法が大きくなる（外面２７と内面３１との間の空間が大きくなる）。第２部材２２が＋Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して−Ｘ側における外面２７と内面３１との間隙の寸法が小さくなる（外面２７と内面３１との間の空間が小さくなる）。

例えば、第１部材２１（外側面２９）と第２部材２２（内側面３０）とが接触しないように、第２部材２２の可動範囲（移動可能範囲）が定められてもよい。

本実施形態においては、第２部材２２の部位４９は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して、第１部材２１の部位４８の外側に配置され続ける。

本実施形態においては、第１部材２１に対して第２部材２２が移動しても、第２部材２２の部位４９は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して、第１部材２１の部位４８の外側に配置され続ける。可動範囲を移動する第２部材２２の移動期間において、第２部材２２の部位４９は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して、第１部材２１の部位４８の外側に配置され続ける。

例えば、第２部材２２の部位４９が光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して第１部材２１の部位４８の外側に配置され続けるように、第２部材２２の可動範囲が定められてもよい。

第２部材２２の部位４９が光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して第１部材２１の部位４８の外側に配置され続けるように、第１部材２１と第２部材２２とが接触しないように定められた第２部材２２の可動範囲に基づいて、第２部材２２の移動方向（Ｘ軸方向）に関する第１開口部２３の寸法及び第２開口部２８の寸法の一方又は両方が定められてもよい。

第２部材２２の部位４９が光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して第１部材２１の部位４８の外側に配置され続けるように、第２部材２２の移動方向（Ｘ軸方向）に関する第１開口部２３の寸法及び第２開口部２８の寸法の一方又は両方に基づいて、第１部材２１と第２部材２２とが接触しないように第２部材２２の可動範囲が定められてもよい。

図１５に示すように、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態において、第２部材２２は、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに配置されない。換言すれば、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態においても、同様に、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態においても、第２部材２２は、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに配置されない。第２部材２２の可動範囲において、第２部材２２の部位４９は、露光光ＥＬの光路ＡＴＬの外側に配置される。

すなわち、第２部材２２は、射出面１２から射出される露光光ＥＬを遮らないように移動する。第２部材２２の可動範囲において第２部材２２が露光光ＥＬを遮らないように、第２開口部２８の寸法が定められてもよいし、第２部材２２の可動範囲が定められてもよい。

図１５に示すように、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側における第１部材２１の部位４８の外側に、第２部材２２の部位４９が配置される。また、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に移動された状態において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して−Ｘ側における第１部材２１の部位４８の外側に、第２部材２２の部位４９が配置される。

また、可動範囲において第２部材２２が最も＋Ｘ側に移動された状態において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して−Ｘ側における第１部材２１の部位４８の外側に、第２部材２２の部位４９が配置される。また、可動範囲において第２部材２２が最も＋Ｘ側に移動された状態において、光路ＡＴ（光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側における第１部材２１の部位４８の外側に、第２部材２２の部位４９が配置される。

保護部２１１（壁部６０）は、可動範囲を移動する第２部材２２の移動期間において、終端光学素子１３と第２部材２２（部分２２１）とが対向しないように、終端光学素子１３と第２部材２２との間に配置される。換言すれば、第２部材２２が可動範囲を移動する移動期間において、終端光学素子１３と第２部材２２（部分２２１）との間には、常に保護部２１１が配置される。保護部２１１は、終端光学素子１３と第２部材２２（部分２２１）とが対向することを阻止する。

本実施形態において、第２部材２２（部分２２１）は、下面２５の領域２５２、領域２５３、領域２５４、及び領域２５５の下方において移動する。光軸ＡＸに対する放射方向に関して、第２部材２２の部位４９が第１部材２１の部位４８よりも内側に移動しないように、第２部材２２の部位４９が、下面２５の下方において移動する。換言すれば、第２部材２２（第２部材２２の部位４９）は、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に対して、第１部材２１の部位４８の外側において移動する。なお、第２部材２２が、下面２５の領域２５１、領域２５２、領域２５３、領域２５４、及び領域２５５の下方において移動してもよい。

図１６は、第１部材２１の液体供給部４２（液体供給口４２Ｍ）と、第２部材２２の誘導部５１（凹部５３）及び通路５０との関係を示す図である。図１６（Ａ）は、第２部材２２が原点に配置されている状態を示す。図１６（Ｂ）は、可動範囲において第２部材２２が最も＋Ｘ側に配置されている状態を示す。図１６（Ｃ）は、可動範囲において第２部材２２が最も−Ｘ側に配置されている状態を示す。

図１６に示すように、第２部材２２が可動範囲を移動しても、液体供給部４２は、誘導部５１（凹部５３）と対向し続ける。本実施形態においては、複数（４つ）の液体供給口４２ＭがＸ軸方向に配置される。凹部５３は、実質的にＸ軸と平行な部分５３１を有する。第２部材２２が移動しても、複数の液体供給口４２Ｍは、凹部５３の部分５３１と対向し続けることができる。

したがって、第２部材２２が可動範囲を移動しても、その第２部材２２の可動範囲において、液体供給部４２からの液体ＬＱは、誘導部５１（凹部５３）に供給され続ける。また、第２部材２２の可動範囲において、誘導部５１に供給された液体ＬＱは、通路５０に供給され続ける。したがって、第２部材２２が移動しても、第１空間ＳＰ１において誘導部５１からの液体ＬＱの流出が抑制されつつ、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが通路５０を介して第２空間ＳＰ２に供給される。

本実施形態においては、第１部材２１と第２部材２２との間の第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に、第２部材２２の振動を低減する減衰部５５が形成される。

本実施形態において、第１部材２１と第２部材２２との第１空間ＳＰ１の間隙部分Ｇ１ｂは、第２部材２２の振動を低減する減衰部５５として機能する。第２部材２２が終端光学素子１３の光軸ＡＸと垂直なＸＹ平面内において移動される場合において、減衰部５５は、専ら、光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関する第２部材２２の振動を低減する。

減衰部５５は、所謂、スクイズフィルムダンパ（squeeze film damper）を含む。スクイズフィルムダンパは、間隙部分Ｇ１ｂに形成される。上述のように、本実施形態において、液体供給部４２から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、間隙部分Ｇ１ｂに流入する。液体供給部４２から間隙部分Ｇ１ｂに供給された液体ＬＱにより、第２部材２２の振動を低減するスクイズフィルムダンパが形成される。

また、本実施形態においては、液体供給部４１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部が、開口３２を介して、第１空間ＳＰ１（間隙部分Ｇ１ｂ）に流入する。液体供給部４１から間隙部分Ｇ１ｂに供給された液体ＬＱにより、第２部材２２の振動を低減するスクイズフィルムダンパが形成されてもよい。

すなわち、スクイズフィルムダンパは、液体供給部４１から供給された液体ＬＱで形成されてもよいし、液体供給部４２から供給された液体ＬＱで形成されてもよいし、液体供給部４１から供給された液体ＬＱ及び液体供給部４２から供給された液体ＬＱの両方で形成されてもよい。

なお、間隙部分Ｇ１ｂに液体ＬＱが供給されなくてもよい。間隙部分Ｇ１ｂが気体で満たされていてもよい。間隙部分Ｇ１ｂの気体により減衰部（スクイズフィルムダンパ）５５が形成されてもよい。

第２部材２２がＸＹ平面内において移動する期間において、第２部材２２がＺ軸方向に振動すると、例えば第１部材２１と第２部材２２とが接触したり、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したりする可能性がある。本実施形態においては、減衰部５５によって、第２部材２２に望まれない振動が生じることが抑制される。

次に、第２部材２２の動作の一例について説明する。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動と協調して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と独立して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して移動可能である。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部において移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動と並行して移動可能である。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐが移動される期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、基板Ｐの移動方向に移動可能である。例えば、基板ＰがＸＹ平面内における一方向（例えば＋Ｘ方向）に移動されるとき、第２部材２２は、その基板Ｐの移動と同期して、ＸＹ平面内における一方向（＋Ｘ方向）に移動可能である。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態において移動可能である。第２部材２２は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触した状態において移動可能である。第２部材２２は、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在する状態において移動可能である。

第２部材２２は、液体供給部４１から液体ＬＱが供給される期間の少なくとも一部において移動可能である。第２部材２２は、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液体供給部４２から液体ＬＱが供給される期間の少なくとも一部において移動可能である。第２部材２２は、液体供給部４２からの液体ＬＱの供給と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液体回収部４３から液体ＬＱが回収される期間の少なくとも一部において移動可能である。第２部材２２は、液体回収部４３からの液体ＬＱの回収と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液体回収部４４から液体ＬＱが回収される期間の少なくとも一部において移動可能である。第２部材２２は、液体回収部４４からの液体ＬＱの回収と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液体供給部４１及び液体供給部４２の一方又は両方からの液体ＬＱの供給と、液体回収部４３及び液体回収部４４の一方又は両方からの液体ＬＱの回収と並行して移動可能である。

第２部材２２は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動可能である。第２部材２２は、射出面１２からの露光光ＥＬの射出と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動可能である。

第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動可能である。

第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）とが対向しない状態において移動してもよい。例えば、第２部材２２は、その第２部材２２の下方に物体が存在しない状態において移動してもよい。

第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが存在しない状態において移動してもよい。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されていない状態において移動してもよい。

本実施形態において、第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて移動する。制御装置６は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して第２部材２２を移動する。

制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成され続けるように、液体供給部４１及び液体供給部４２からの液体ＬＱの供給と液体回収部４３及び液体回収部４４からの液体ＬＱの回収とを行いながら、第２部材２２を移動する。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が小さくなるように移動可能である。また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。

例えば、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と同期して移動してもよい。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）に追従するように移動してもよい。

第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、あるいは第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の一方又は両方に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、あるいは第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の一方又は両方に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、あるいは第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の一方又は両方に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動してもよい。

また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、あるいは第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の一方又は両方に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動してもよい。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ方向移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ方向に移動可能である。基板Ｐ（物体）が−Ｘ方向移動するとき、第２部材２２は−Ｘ方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ方向に移動しつつ＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が−Ｘ方向に移動しつつ＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に移動するとき、第２部材２２は−Ｘ方向に移動可能である。

すなわち、本実施形態においては、基板Ｐ（物体）がＸ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２はＸ軸方向に移動する。例えば、Ｘ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＸ軸方向に移動してもよい。

なお、第２部材２２がＹ軸方向に移動可能でもよい。基板Ｐ（物体）がＹ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。例えば、Ｙ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、基板Ｐ（物体）との相対速度差が小さくなるように、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。

次に、上述の露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

以下の説明においては、基板Ｐの露光において、液体供給部４１及び液体供給部４２から液体ＬＱが供給されるとともに、液体回収部４３及び液体回収部４４のそれぞれから液体ＬＱが回収されることとする。

なお、基板Ｐの露光において、例えば液体供給部４１及び液体供給部４２から液体ＬＱを供給し、液体回収部４４から液体ＬＱを回収し、液体回収部４３から液体ＬＱを回収しなくてもよい。

液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給と、液体回収部４３及び液体回収部４４からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。

また、制御装置６は、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給、及び液体回収部４３及び液体回収部４４からの液体ＬＱの回収と並行して、液体供給部４２からの液体ＬＱの供給を行う。液体供給部４２から第１空間ＰＳ１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、通路５０を介して、第２空間ＳＰ２（計測ステージ３上）に供給される。

露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給と並行して液体回収部４３及び液体回収部４４からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。

また、制御装置６は、液体供給部４１からの液体ＬＱの供給、及び液体回収部４３及び液体回収部４４からの液体ＬＱの回収と並行して、液体供給部４２からの液体ＬＱの供給を行う。液体供給部４２から第１空間ＰＳ１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、通路５０を介して、第２空間ＳＰ２（基板Ｐ上、基板ステージ２上）に供給される。

制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。

本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。

図１７は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置される。制御装置６は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬに対して、第１保持部に保持されている基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動しつつ、射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、射出面１２から射出された露光光ＥＬで、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

例えば基板Ｐの１つのショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から射出される露光光ＥＬ（投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介してそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像がそのショット領域Ｓに投影され、そのショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。

そのショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、そのショット領域Ｓの露光を開始する。

制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域のそれぞれを順次露光する。

以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光終了後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。

本実施形態において、スキャン移動動作は、あるショット領域Ｓが露光開始位置に配置されている状態から露光終了位置に配置される状態になるまで基板ＰがＹ軸方向に移動する動作を含む。ステップ移動動作は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に配置されている状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置される状態になるまで基板ＰがＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に移動する動作を含む。

露光開始位置は、あるショット領域Ｓの露光のために、そのショット領域ＳのＹ軸方向に関する一端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。露光終了位置は、露光光ＥＬが照射されたそのショット領域ＳのＹ軸方向に関する他端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。

ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作開始位置を含む。ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作終了位置を含む。

ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作終了位置を含む。ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓの露光終了後、次のショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作開始位置を含む。

以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光のためにスキャン移動動作が行われる期間を適宜、スキャン移動期間、と称する。以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始のためにステップ移動動作が行われる期間を適宜、ステップ移動期間、と称する。

スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓの露光開始から露光終了までの露光期間を含む。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの基板Ｐの移動期間を含む。

スキャン移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。スキャン移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射される。ステップ移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出されない。ステップ移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射されない。

制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、主にＹ軸方向に関する等速移動である。ステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動及びＸ軸方向に関する加減速移動の一方又は両方を含む。

なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される場合がある。スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板Ｐと基板ステージ２（カバー部材Ｔ）とを跨ぐように形成される場合がある。基板ステージ２と計測ステージ３とが接近又は接触した状態で基板Ｐの露光が行われる場合、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板ステージ２（カバー部材Ｔ）と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。

制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。

露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓの配列情報（基板Ｐにおける複数のショット領域Ｓそれぞれの位置）を含む。また、露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓのそれぞれの寸法情報（Ｙ軸方向に関する寸法情報）を含む。

制御装置６は、記憶装置７に記憶されている露光条件（露光制御情報）に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。

一例として、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光するとき、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図１７中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して複数のショット領域Ｓのそれぞれを露光光ＥＬで順次露光する。制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。

本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２の移動と並行して、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。

第２部材２２は、例えば基板Ｐ（基板ステージ２）がステップ移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材２１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように、移動してもよい。

また、第２部材２２は、基板Ｐ（基板ステージ２）がスキャン移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材２１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように、移動してもよい。

なお、スキャン移動動作中に第２部材２２が移動しなくてもよい。すなわち、射出面１２からの露光光ＥＬの射出と並行して第２部材２２が移動しなくてもよい。

図１８は、第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図１８は、第２部材２２を上方から見た図である。

本実施形態において、第２部材２２はＸ軸方向に移動する。なお、上述のように、第２部材２２は、Ｙ軸方向に移動してもよいし、Ｘ軸方向（又はＹ軸方向）の成分を含むＸＹ平面内における任意の方向に移動してもよい。

第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して規定された可動範囲（移動可能範囲）を移動する。射出面１２からの露光光ＥＬが第１開口部２３及び第２開口部２８を通過するとともに、第２部材２２が第１部材２１に接触しないように、第２部材２２の可動範囲が定められる。

基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、図１８（Ａ）〜図１８（Ｅ）に示すように、Ｘ軸方向に移動する。図１８（Ａ）は、移動可能範囲の最も＋Ｘ側の端の位置Ｊｒに第２部材２２が配置されている状態を示す。図１８（Ｃ）は、移動可能範囲の中央の位置Ｊｍに第２部材２２が配置されている状態を示す。図１８（Ｅ）は、移動可能範囲の最も−Ｘ側の端の位置Ｊｓに第２部材２２が配置されている状態を示す。

以下の説明において、図１８（Ａ）に示す第２部材２２の位置Ｊｒを適宜、第１端部位置Ｊｒ、と称し、図１８（Ｃ）に示す第２部材２２の位置Ｊｍを適宜、中央位置Ｊｍ、と称し、図１８（Ｅ）に示す第２部材２２の位置Ｊｓを適宜、第２端部位置Ｊｓ、と称する。

また、図１８（Ｂ）は、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒと中央位置Ｊｍとの間の位置Ｊｒｍに配置されている状態を示す。図１８（Ｄ）は、第２部材２２が第２端部位置Ｊｓと中央位置Ｊｍとの間の位置Ｊｓｍに配置されている状態を示す。

なお、本実施形態において、第２部材２２が中央位置Ｊｍに配置される状態は、第２部材２２の第２開口部２８の中心と終端光学素子１３の光軸ＡＸとが実質的に一致している状態を含む。第２開口部２８の中心が光軸ＡＸに一致する第２部材２２の位置を、原点、と称してもよい。

第２部材２２の移動可能範囲の寸法は、Ｘ軸方向に関する第１端部位置Ｊｒと第２端部位置Ｊｓとの距離を含む。

制御装置６は、終端光学素子１３（投影領域ＰＲ）に対する第２部材２２の位置を異ならせることができる。制御装置６は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓのうち選択された２つの位置の間において第２部材２２を移動可能である。制御装置６は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓの少なくとも一つにおいて第２部材２２を停止可能である。

位置Ｊｒと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離は、位置Ｊｒｍと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離よりも長い。位置Ｊｓと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離は、位置Ｊｓｍと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離よりも長い。

制御装置６は、定められた移動条件で第２部材２２を移動可能である。第２部材２２の移動条件は、移動方向、移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを含む。制御装置６は、第２部材２２の移動方向、移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを制御可能である。

本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒに配置されている状態において、第２部材２２の部位４９は、光路ＡＴに対して第１部材２１の部位４８の外側に配置される。第２部材２２が第２端部位置Ｊｓに配置されている状態において、第２部材２２の部位４９は、光路ＡＴに対して第１部材２１の部位４８の外側に配置される。

本実施形態においては、第２部材２２が位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓのいずれに配置されている状態においても、第２部材２２の部位４９は、光路ＡＴに対して第１部材２１の部位４８の外側に配置され続ける。

図１９は、基板Ｐを＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動を行いながら、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ、及びショット領域Ｓｃのそれぞれを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃは、Ｘ軸方向に配置される。

図１９に示すように、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるとき、終端光学素子１３の下において、投影領域ＰＲが基板Ｐの位置ｄ１に配置される状態からその位置ｄ１に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ２に配置される状態までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２に配置される状態からその位置ｄ２に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ３に配置される状態までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３に配置される状態からその位置ｄ３に対して−Ｙ側に隣り合う位置ｄ４に配置される状態までの経路Ｔｐ３、位置ｄ４に配置される状態からその位置ｄ４に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ５に配置される状態までの経路Ｔｐ４、及び位置ｄ５に配置される状態からその位置ｄ５に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ６に配置される状態までの経路Ｔｐ５を、基板Ｐは順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。

経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。経路Ｔｐ１は、基板Ｐが−Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが−Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが−Ｘ方向を主成分とする方向に移動する経路である。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｃに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４を移動するとき、露光光ＥＬは照射されない。

基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作、経路Ｔｐ３を移動する動作、及び経路Ｔｐ５を移動する動作のそれぞれは、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作のそれぞれは、ステップ移動動作を含む。

すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間、経路Ｔｐ３を移動する期間、及び経路Ｔｐ５を移動する期間のそれぞれは、スキャン移動期間（露光期間）である。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間、及び経路Ｔｐ４を移動する期間のそれぞれは、ステップ移動期間である。

図２０及び図２１は、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるときの第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図２０及び図２１は、第２部材２２を上方から見た図である。

基板Ｐが位置ｄ１にあるとき、図２０（Ａ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｓに配置される。

基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、図２０（Ｂ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）とは逆の＋Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、第２部材２２は、図２０（Ａ）に示す状態から図２０（Ｂ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、図２０（Ｃ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｍに配置される。

基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、図２０（Ｄ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｓに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）と同じ−Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｒから位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｓｍを経て、位置Ｊｍまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材２２は、図２０（Ｂ）に示す状態から図２０（Ｃ）に示す状態を経て図２０（Ｄ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、図２１（Ａ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）とは逆の＋Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、第２部材２２は、図２０（Ｄ）に示す状態から図２１（Ａ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、図２１（Ｂ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｍに配置される。

基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、図２１（Ｃ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｓに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）と同じ−Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｒから位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｓｍを経て、位置Ｊｍまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材２２は、図２１（Ａ）に示す状態から図２１（Ｂ）に示す状態を経て図２１（Ｃ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。

基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、図２１（Ｄ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路ＡＴ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）とは逆の＋Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、第２部材２２は、図２１（Ｃ）に示す状態から図２１（Ｄ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。

すなわち、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２に沿って移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐとの相対移動が小さくなるように、−Ｘ方向に移動する。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが−Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作する期間の少なくとも一部に、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、−Ｘ方向に移動する。同様に、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４に沿って移動する期間の少なくとも一部において、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、−Ｘ方向に移動する。

また、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３に沿って移動する期間の少なくとも一部において、＋Ｘ方向に移動する。これにより、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４の移動において、第２部材２２が−Ｘ方向に移動しても露光光ＥＬが第１、第２開口部２３、３０を通過可能であり、第１部材２１と第２部材２２との接触が抑制される。基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ５を移動する場合も同様である。

すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と−Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように第２部材２２が位置Ｊｒから位置Ｊｓへ−Ｘ方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部材２２が再度−Ｘ方向に移動できるように、第２部材２２が位置Ｊｓから位置Ｊｒへ戻る。すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が＋Ｘ方向に移動するので、第２開口部２８の寸法が必要最小限に抑えられ、第１部材２１と第２部材２２との接触が抑制される。

また、本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒ（第２端部位置Ｊｓ）に配置されても、液体回収部４４の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。これにより、例えばステップ移動動作において、液体回収部４４は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収することができる。

図２２は、Ｘ軸方向に関する基板Ｐ（基板ステージ２）の速度及び第２部材２２の速度と時間との関係の一例を示す図である。図２２に示すグラフにおいて、横軸は時間、縦軸はＸ軸方向に関する速度である。図２２において、ラインＬＰは、基板Ｐ（基板ステージ２）の速度を示し、ラインＬ２２は、第２部材２２の速度を示す。

図２２において、期間Ｔｃは、スキャン移動動作が行われている期間である。例えば図１９に示した例において、期間Ｔｃ１は、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動期間に対応する。期間Ｔｃ２は、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動期間に対応する。期間Ｔｃ３は、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン移動期間に対応する。

図２２において、期間Ｔｓは、ステップ移動動作が行われている期間である。例えば図１９に示した例において、期間Ｔｓ１は、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動期間に対応する。期間Ｔｓ２は、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動期間に対応する。

図２２に示すように、スキャン移動期間Ｔｃ（Ｔｃ１、Ｔｃ２、Ｔｃ３）においては、Ｘ軸方向に関する基板Ｐ（基板ステージ２）の速度は、零である。スキャン移動期間Ｔｃにおいては、第２部材２２は、−Ｘ方向に移動する。

図２２に示すように、ステップ移動期間Ｔｓ（Ｔｓ１、Ｔｓ２）においては、基板Ｐ（基板ステージ２）及び第２部材２２のそれぞれが、＋Ｘ方向に移動する。

図２２に示すように、本実施形態においては、ステップ移動期間ＴｓにおけるＸ軸方向に関する第２部材２２の移動速度は、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動速度よりも低い。

なお、第２部材２２の移動速度が、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動速度と実質的に等しくてもよいし、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動速度よりも高くてもよい。すなわち、基板Ｐ（基板ステージ２）は、第２部材２２よりも高速で移動してもよいし、低速で移動してもよいし、同じ速度で移動してもよい。

図２２に示すように、本実施形態においては、ステップ移動期間ＴｓにおけるＸ軸方向に関する第２部材２２の加速度は、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度よりも低い。

なお、第２部材２２の加速度が、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度と等しくてもよいし、基板Ｐ（基板ステージ２）の加速度よりも高くてもよい。

なお、図２２に示す例においては、第２部材２２は、停止することなく、移動し続ける。なお、スキャン移動期間Ｔｃの一部において、第２部材２２は、停止してもよい。なお、ステップ移動期間Ｔｓの一部において、第２部材２２は、停止してもよい。

なお、ステップ移動期間Ｔｓの一部において、基板Ｐ（基板ステージ２）がＸ軸方向に等速で移動してもよい。

なお、ステップ移動期間Ｔｓの一部において、第２部材２２がＸ軸方向に等速で移動してもよい。なお、スキャン移動期間Ｔｃの一部において、第２部材２２がＸ軸方向に等速で移動してもよい。

なお、図２０、図２１、及び図２２を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が第２端部位置Ｊｓに配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第２端部位置Ｊｓとの間の位置Ｊｓｍに配置されてもよい。

なお、図２０、図２１、及び図２２を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒに配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第１端部位置Ｊｒとの間の位置Ｊｒｍに配置されてもよい。

また、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍとは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、例えば中央位置Ｊｍと第２端部位置Ｊｓとの間の位置Ｊｓｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第１端部位置Ｊｒとの間の位置Ｊｒｍに配置されてもよい。

なお、基板Ｐのスキャン移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、停止してもよいし、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）と同じ−Ｘ方向に移動してもよい。

なお、基板Ｐのステップ移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、停止してもよいし、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動してもよい。

すなわち、基板Ｐの移動期間（スキャン移動期間及びステップ移動期間）の一部において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動し、基板Ｐの移動期間の一部において、停止したり、相対速度が大きくなるように移動したりしてもよい。

本実施形態においては、第２部材２２が移動する期間の少なくとも一部において、液体供給部４２から液体ＬＱが供給される。液体供給部４２から液体ＬＱが供給されることによって、通路（液体供給部）５０から第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが供給される。

液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２が移動する場合、露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡が生成されたり、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気体部分が生成されたりするなど、光路空間ＳＰＫが液体ＬＱで十分に満たされなくなる可能性がある。

本実施形態においては、通路（液体供給部）５０が設けられているため、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されてしまうことが抑制される。

図２３は、通路（５０）を有しない液浸部材５Ｊの一例を示す。第２部材２２Ｊは、露光光ＥＬが通過可能な第２開口部２８Ｊを有する。液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２Ｊが移動することによって、第２部材２２Ｊと基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｊに近づくように移動する可能性がある。例えば、第２部材２２ＪがＸ軸方向に移動しつつ、基板Ｐ（物体）がＹ軸方向に移動することによって、液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｊに近づくように移動する可能性がある。液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８Ｊに近づくように移動し、その界面ＬＧ２の少なくとも一部が第２開口部２８Ｊの下に移動すると、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成される可能性がある。

図２４は、本実施形態に係る液浸部材５の一例を示す。通路（液体供給部）５０が設けられているため、液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２が移動しても、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８に近付くように移動したり、界面ＬＧ２の少なくとも一部が第２開口部２８の下に移動したりすることが抑制される。

つまり、界面ＬＧ２が第２開口部２８に近付こうとしても、図２４に示すように、第２開口部２８の周囲の少なくとも一部に配置された通路（液体供給部）５０から、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが供給される。換言すれば、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の第２空間ＳＰ２に、通路（液体供給部）５０から供給された液体ＬＱが補われる。これにより、液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８に近付くことが抑制される。したがって、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が生成されることが抑制される。

通路５０は、第２開口部２８の周囲の少なくとも一部に配置されるため、第２部材２２の移動により液体ＬＱの界面ＬＧ２が第２開口部２８に近付こうとしても、界面ＬＧ２が第２開口部２８に近づくことが抑制されるように、通路５０から第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが補われる。

以上説明したように、本実施形態によれば、第１部材２１に対して移動可能な第２部材２２を設けたので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）がＸＹ平面内において移動しても、例えば液体ＬＱが液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間から流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。

すなわち、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）がＸＹ平面内において高速で移動する場合、その基板Ｐ（物体）と対向する部材（液浸部材など）が静止していると、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりする可能性がある。

本実施形態においては、第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように移動可能である。そのため、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）が高速度で移動しても、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりすることが抑制される。

また、本実施形態によれば、第２部材２２に通路５０を設けたので、液体ＬＱ中に気泡（気体部分）が発生することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。

また、本実施形態においては、誘導部５１が設けられる。これにより、液体供給部４２から供給された液体ＬＱは、通路５０に円滑に誘導され、その通路５０を介して第２空間ＳＰ２に供給される。

また、本実施形態においては、抑制部５２が設けられる。これにより、誘導部５１からの液体ＬＱの流出が抑制される。また、抑制部５２により、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱの流出が抑制される。

また、本実施形態においては、第２部材２２がＸ軸方向に移動し、通路５０は、第２開口部２８の＋Ｘ側及び−Ｘ側に配置される。これにより、Ｘ軸方向に関する第２部材２２の移動により、第２開口部２８に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側の界面ＬＧ２が第２開口部２８に近付こうとしても、界面ＬＧ２が第２開口部２８に近付かないように、通路５０から第２空間ＳＰ２に液体ＬＱを補うことができる。

また、本実施形態においては、減衰部５５が形成される。これにより、例えば第２部材２２がＸＹ平面内において移動する期間において、第２部材２２に望まれない振動（Ｚ軸方向に関する振動）が生じることが抑制される。

また、本実施形態において、減衰部５５は、スクイズフィルムダンパを含む。これにより、液体供給部４２（又は液体供給部４１）から供給された液体ＬＱを使って、減衰部５５を形成することができる。

また、本実施形態において、液浸部材５は、終端光学素子１３を保護する保護部２１１（壁部６０）を有する。そのため、例えば第２部材２２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したり、液浸空間ＬＳにおいて液体ＬＱが高速で流動したりしても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

また、基板Ｐ（物体）の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したり、液浸空間ＬＳにおいて液体ＬＱが高速で流動したりする可能性もある。また、第２部材２２の移動及び基板Ｐ（物体）の移動とは別の理由で、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したり、液浸空間ＬＳにおいて液体ＬＱが高速で流動したりする可能性もある。その場合においても、保護部２１１（壁部６０）により、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

これにより、終端光学素子１３が動いたり、終端光学素子１３が変形したり、終端光学素子１３の光学特性が変動したりすることが抑制される。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。

また、本実施形態においては、保護部２１１は、光路ＡＴの周囲の少なくとも一部に配置される。これにより、露光光ＥＬの通路（光路）を確保しつつ、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

また、本実施形態においては、保護部２１１は、終端光学素子１３と第２部材２２との間に配置される。これにより、第２部材２２の移動に起因する、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

また、本実施形態においては、保護部２１１（壁部６０）は、第２部材２２の移動期間において終端光学素子１３と第２部材２２とが対向しないように、終端光学素子１３と第２部材２２との間に配置される。これにより、第２部材２２の移動に起因する、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を効果的に低減することができる。

また、本実施形態においては、第２部材２２の部位４９は、光路ＡＴに対して第１部材２１の部位４８の外側に配置され続ける。したがって、第２部材２２が移動しても、第２開口部２８の内側の液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を効果的に低減することができる。

また、本実施形態において、光路ＡＴ（ＡＴＬ）に面する第２部材２２の領域２９１は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。これにより、第２部材２２の領域２９１（光路ＡＴに面する第２部材２２の端面）が液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材２２は円滑に移動可能である。また、第２部材２２の領域２９１が液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材２２が移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力の変動が抑制される。

＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２５及び図２６は、本実施形態に係る液浸部材５Ｂの一部を示す図である。液浸部材５Ｂは、第１部材２１Ｂと第２部材２２Ｂとを有する。第１部材２１Ｂは、第２部材２２Ｂが対向可能な凹部５３Ｂを有する。

第１部材２１Ｂと第２部材２２Ｂとの間の第１空間ＳＰ１は、寸法Ｄ１ａの間隙部分Ｇ１ａと、寸法Ｄ１ａよりも小さい寸法Ｄ１ｂの間隙部分Ｇ１ｂとを含む。

本実施形態において、間隙部分Ｇ１ａの少なくとも一部は、第１部材２１Ｂに設けられた凹部５３Ｂによって規定される。間隙部分Ｇ１ａは、液体供給部４２Ｂからの液体ＬＱを少なくとも一部を通路５０へ導く誘導部５１Ｂとして機能する。

本実施形態においても、液体供給部４２Ｂから間隙部分Ｇ１ａに供給された液体ＬＱは、通路５０に円滑に供給される。また、間隙部分Ｇ１ａの周囲には、間隙部分Ｇ１ｂ及び液体回収部４３の一方又は両方を含む抑制部５２Ｂが配置される。抑制部５２Ｂの少なくとも一部は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２の外側に配置される。抑制部５２Ｂにより、誘導部５１Ｂからの液体ＬＱの流出が抑制される。抑制部５２Ｂにより、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱの流出が抑制される。

なお、第１部材２１Ｂ及び第２部材２２Ｂの両方に凹部が設けられてもよい。第１部材２１Ｂに設けられた凹部及び第２部材２２Ｂに設けられた凹部５３の両方によって、間隙部分Ｇ１ａが規定されてもよい。

＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２７は、本実施形態に係る液浸部材５Ｃの一部を示す図である。液浸部材５Ｃは、第１部材２１Ｃと第２部材２２Ｃとを有する。第２部材２２Ｃは、第１部材２１Ｃが対向可能な凹部５３Ｃを有する。間隙部分Ｇ１ａの少なくとも一部は、凹部５３Ｃによって規定される。なお、凹部が第１部材２１Ｃに設けられてもよいし、第１部材２１Ｃ及び第２部材２２Ｃの両方に設けられてもよい。間隙部分Ｇ１ａは、液体供給部４２Ｃからの液体ＬＱの少なくとも一部を通路５０へ導く誘導部５１Ｃとして機能する。

液浸部材５Ｃは、誘導部５１Ｃの周囲の少なくとも一部に配置され、誘導部５１Ｃの液体ＬＱが誘導部５１Ｃから流出することを抑制する抑制部５２Ｃを有する。抑制部５２Ｃの少なくとも一部は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｃの外側に配置される。本実施形態において、抑制部５２Ｃは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｃの内側及び外側のそれぞれに配置される。

また、抑制部５２Ｃの少なくとも一部は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して誘導部５１Ｃの外側に配置される。本実施形態において、抑制部５２Ｃは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して誘導部５１Ｃの内側及び外側のそれぞれに配置される。

本実施形態において、抑制部５２Ｃは、第１部材２１Ｃに配置され、誘導部５１Ｃの周囲の少なくとも一部に流体シールを形成する流体供給部５６を含む。

流体供給部５６は、第１部材２１Ｃの下面２５Ｃに配置され、第１空間ＳＰ１に流体を供給可能な開口（供給口）５６Ｍを含む。供給口５６Ｍは、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。供給口５６Ｍは、間隙部分Ｇ１ｂに面するように配置される。

本実施形態において、流体供給部５６（供給口５６Ｍ）は、気体を供給する。本実施形態においては、流体供給部５６から供給された気体によって、誘導部５１Ｃの周囲の少なくとも一部に、ガスシールが形成される。

本実施形態において、液浸部材５Ｃは、流体供給部５６から供給された流体（気体）の少なくとも一部を回収する流体回収部５７を有する。流体回収部５７は、第１部材２１Ｃの下面２５Ｃに配置され、流体供給部５６から供給された流体（気体）の少なくとも一部を回収可能な開口（回収口）５７Ｍを含む。回収口５７Ｍは、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。回収口５７Ｍは、供給口５６Ｍの隣に配置される。回収口５７Ｍは、誘導部５１Ｃ（間隙部分Ｇ１ａ）の中心に対して供給口５６Ｍの外側に配置される。

本実施形態によれば、誘導部５１Ｃの周囲の少なくとも一部に形成される流体シール（ガスシール）によって、誘導部５１Ｃの液体ＬＱが誘導部５１Ｃから流出することが抑制される。

なお、流体供給部５６から液体が供給されてもよい。誘導部５１Ｃの周囲の少なくとも一部に、液体シールが形成されてもよい。

なお、流体供給部５６及び流体回収部５７が、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材２２Ｃに設けられてもよい。

なお、流体供給部５６が第１部材２１Ｃに設けられ、流体回収部５７が第２部材２２Ｃに設けられてもよい。なお、流体供給部５６が第２部材２２Ｃに設けられ、流体回収部５７が第１部材２１Ｃに設けられてもよい。なお、流体供給部５６及び流体回収部５７が、第１部材２１Ｃ及び第２部材２２Ｃの両方に設けられてもよい。

なお、本実施形態において、流体回収部５７が省略されてもよい。

なお、本実施形態において、間隙部分Ｇ１ｂの寸法Ｄ１ｂは、２００μｍ以下でもよいし、２００μｍよりも大きくてもよい。

＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２８は、本実施形態に係る液浸部材５Ｄの一部を示す図である。液浸部材５Ｄは、第１部材２１Ｄと第２部材２２Ｄとを有する。第２部材２２Ｄは、第１部材２１Ｄが対向可能な凹部５３Ｄを有する。間隙部分Ｇ１ａの少なくとも一部は、凹部５３Ｄによって規定される。なお、凹部が第１部材２１Ｄに設けられてもよいし、第１部材２１Ｄ及び第２部材２２Ｄの両方に設けられてもよい。間隙部分Ｇ１ａは、液体供給部４２Ｄからの液体ＬＱの少なくとも一部を通路５０へ導く誘導部５１Ｄとして機能する。

液浸部材５Ｄは、誘導部５１Ｄの周囲の少なくとも一部に配置され、誘導部５１Ｄの液体ＬＱが誘導部５１Ｄから流出することを抑制する抑制部５２Ｄを有する。抑制部５２Ｄの少なくとも一部は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｄの外側に配置される。本実施形態において、抑制部５２Ｄは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｄの内側及び外側のそれぞれに配置される。

また、抑制部５２Ｄの少なくとも一部は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して誘導部５１Ｄの外側に配置される。本実施形態において、抑制部５２Ｄは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して誘導部５１Ｄの内側及び外側のそれぞれに配置される。

本実施形態において、抑制部５２Ｄは、誘導部５１Ｄの周囲の少なくとも一部に配置され、誘導部５１Ｄからの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する液体回収部５８を含む。

本実施形態において、液体回収部５８は、液体回収部４３よりも誘導部５１Ｄに近い位置に配置される。液体回収部５８の少なくとも一部は、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して、誘導部５１Ｄと液体回収部４３との間に配置される。

本実施形態において、液体回収部５８は、第１空間ＳＰ１に面するように、第１部材２１Ｄに設けられる。液体回収部５８は、第１部材２１Ｄの下面２５Ｄに配置され、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な開口（回収口）５８Ｍを含む。回収口５８Ｍは、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。回収口５８Ｍは、間隙部分Ｇ１ｂに面するように配置される。

なお、液体回収部５８は、第１空間ＳＰ１に面するように、第２部材２２Ｄに設けられてもよいし、第１部材２１Ｄ及び第２部材２２Ｄの両方に設けられてもよい。

誘導部５１Ｄに隣接するように、液体回収部５８が設けられることにより、誘導部５１Ｄの液体ＬＱが誘導部５１Ｄから流出することが抑制される。すなわち、誘導部５１Ｄから液体ＬＱが流出しても、その流出した液体ＬＱは、液体回収部５８Ｄによって回収される。

また、誘導部５１Ｄから流出した液体ＬＱが液体回収部５８Ｄから回収されることにより、液体ＬＱが第１空間ＳＰ１から流出することが抑制される。

なお、本実施形態において、間隙部分Ｇ１ｂの寸法Ｄ１ｂは、２００μｍ以下でもよいし、２００μｍよりも大きくてもよい。

なお、上述の第１〜第４実施形態において、液体供給部４１は、光路ＡＴ（終端光学素子１３）に対してＹ軸方向に配置されてもよい。液体供給部４１は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路ＡＴ（終端光学素子１３）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部４１は、一つでもよい。後述の実施形態においても同様である。

なお、上述の各実施形態において、液体供給部４１は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫに面するように第１部材２１に配置されてもよい。例えば、液体供給部４１が、内面２６の領域２６１の下端部に設けられてもよい。後述の実施形態においても同様である。

なお、上述の各実施形態において、第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する液体供給部（４２など）は、光路ＡＴ（第１開口部２３、終端光学素子１３）に対して＋Ｘ側の下面２５の一部の領域に配置されてもよいし、光路ＡＴ（第１開口部２３、終端光学素子１３）に対して−Ｘ側の下面２５の一部の領域に配置されてもよい。液体供給部（４２など）は、光路ＡＴ（第１開口部２３、終端光学素子１３）に対してＸ軸方向及びＹ軸方向を含む光路ＡＴ（第１開口部２３、終端光学素子１３）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部（４２など）は、一つでもよい。後述の実施形態においても同様である。

なお、上述の各実施形態において、通路（液体供給部）５０及び液体供給口５０Ｍは、光路ＡＴ（第２開口部２８、終端光学素子１３）に対して＋Ｙ側の下面３０の一部の領域に配置されてもよいし、光路ＡＴ（第２開口部２８、終端光学素子１３）に対して−Ｙ側の下面３０の一部の領域に配置されてもよい。通路（液体供給部）５０及び液体供給口５０Ｍは、光路ＡＴ（第２開口部２８、終端光学素子１３）に対してＸ軸方向及びＹ軸方向を含む光路ＡＴ（第２開口部２８、終端光学素子１３）の周囲に複数配置されてもよい。通路（液体供給部）５０及び液体供給口５０Ｍは、一つでもよい。後述の実施形態においても同様である。

なお、上述の各実施形態において、通路５０は、第２開口部２８に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側の両方に配置されてもよいし、いずれか一方に配置されてもよい。後述の実施形態においても同様である。

＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２９は、本実施形態に係る液浸部材５Ｑの一例を示す図である。液浸部材５Ｑは、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に配置される第１部材２１Ｑと、少なくとも一部が第１部材２１Ｑの下に、基板Ｐ（物体）が対向可能に配置され、第１部材２１Ｑに対して移動可能な第２部材２２Ｑとを備える。

また、液浸部材５Ｑは、終端光学素子１３の外面１３１との間の第３空間ＳＰ３に面するように配置され、液体ＬＱを供給する液体供給部４１Ｑと、第１部材２１Ｑと第２部材２２Ｑとの間の第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する液体供給部４２Ｑと、第１空間ＳＰ１から液体ＬＱを回収可能な液体回収部４３Ｑと、基板Ｐ（物体）が対向するように配置され、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する液体回収部４４Ｑとを備える。

なお、本実施形態において、第２部材２２Ｑは、液体ＬＱが流通可能な通路（５０）を有していない。なお、第２部材２２Ｑが、通路（５０）を有してもよい。

液体供給部４１Ｑは、第３空間ＳＰ３に面するように第１部材２１Ｑに配置される。なお、液体供給部４１Ｑが光路空間ＳＰＫに面するように第１部材２１Ｑに配置されてもよい。

液体供給部４２Ｑは、第１空間ＳＰ１に面するように、第１部材２１Ｑに配置される。

液体回収部４３Ｑは、第１空間ＳＰ１に面するように、第１部材２１Ｑに配置される。

液体回収部４４Ｑは、第２部材２２Ｑと基板Ｐ（物体）との間の第２空間ＳＰ２に面するように、第２部材２２Ｑに配置される。

第１部材２１Ｑは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な第１開口部２３Ｑと、第１開口部２３Ｑの周囲に配置され、少なくとも一部が第２部材２２Ｑと対向可能な下面２５Ｑとを有する。第１空間ＳＰ１の少なくとも一部は、下面２５Ｑによって規定される。

第２部材２２Ｑは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な第２開口部２８Ｑと、第２開口部２８Ｑの周囲に配置され、少なくとも一部が下面２５Ｑと対向可能な上面２９Ｑと、第２開口部２８Ｑの周囲に配置され、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面３０とを有する。第１空間ＳＰ１の少なくとも一部は、上面２９Ｑによって規定される。

第１部材２１Ｑの下面２５Ｑは、領域２５１Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５１Ｑの外側に配置される領域２５２Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５２Ｑの外側に配置される領域２５３Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５３Ｑの外側に配置される領域２５４Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５４Ｑの外側に配置される領域２５５Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５５Ｑの外側に配置される領域２５６Ｑと、光路ＡＴに対して領域２５６Ｑの外側に配置される領域２５７Ｑとを含む。下面２５Ｑの少なくとも一部は、第２部材２２Ｑの上面２９Ｑと対向可能である。

第１部材２１Ｑのうち、光路ＡＴに最も近い部位４８Ｑは、領域２５１Ｑの内縁部分に配置される。

領域２５２Ｑは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２５２Ｑは、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態において、領域２５１Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５１Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５３Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５３Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５２Ｑは、領域２５１Ｑと領域２５３Ｑとを結ぶ傾斜領域である。領域２５１Ｑと領域２５３Ｑとの間に段差が形成される。

本実施形態において、領域２５４Ｑは、光軸ＡＸと実質的に平行である。

本実施形態において、領域２５５Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５５Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５６Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５６Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５７Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２５７Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域２５４Ｑは、領域２５３Ｑと領域２５５Ｑとを結ぶ領域である。領域２５３Ｑと領域２５５Ｑとの間に段差が形成される。

Ｚ軸方向に関して、領域２５５Ｑと領域２５６Ｑと領域２５７Ｑとは実質的に等しい位置（高さ）に配置される。域２５５Ｑと領域２５６Ｑと領域２５７Ｑとは、実質的に同一平面内に配置される。

Ｚ軸方向に関して、領域２５１Ｑの位置と、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑの位置とは、異なる。Ｚ軸方向に関して、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑの位置と、領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑの位置とは、異なる。

領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑは、領域２５１Ｑよりも上方（＋Ｚ側）に配置される。領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑは、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑよりも下方（−Ｚ側）に配置される。

本実施形態において、領域２５１Ｑは、領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑよりも下方（−Ｚ側）に配置される。なお、Ｚ軸方向に関して、領域２５１Ｑの位置と、領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑの位置とが実質的に等しくてもよい。

第１部材２１Ｑは、第２部材２２Ｑが対向可能な凹部１６Ｑを有する。凹部１６Ｑの内側に、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、及び領域２５４Ｑが配置される。

領域２５１Ｑ、領域２５２Ｑ、領域２５３Ｑ、領域２５４Ｑ、領域２５５Ｑ、及び領域２５７Ｑは、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。領域２５６Ｑは、液体ＬＱを回収可能な回収領域である。領域２５６Ｑは、液体回収部４３Ｑを含む。

第２部材２２Ｑの上面２９Ｑは、領域２９１Ｑと、光路ＡＴに対して領域２９１Ｑの外側に配置される領域２９２Ｑとを含む。上面２９Ｑの少なくとも一部は、第１部材２１Ｑの下面２５Ｑと対向可能である。

領域２９１Ｑは、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して傾斜する。領域２９１Ｑは、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。

本実施形態において、領域２９２Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域２９２Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。

第２部材２２Ｑの下面３０Ｑは、領域３０１Ｑと、光路ＡＴに対して領域３０１Ｑの外側に配置される領域３０２Ｑとを含む。下面３０Ｑの少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）が対向可能である。

第２部材２２Ｑのうち、光路ＡＴに最も近い部位４９Ｑは、領域３０１Ｑの内縁部分に配置される。

本実施形態において、領域３０１Ｑは、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域３０１Ｑは、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域３０２Ｑも、光軸ＡＸに対して実質的に垂直である。すなわち、領域３０２Ｑも、ＸＹ平面と実質的に平行である。

Ｚ軸方向に関して、領域３０１Ｑと領域３０２Ｑとは実質的に等しい位置（高さ）に配置される。領域３０１Ｑと領域３０２Ｑとは、実質的に同一平面内に配置される。

領域３０１Ｑは、液体ＬＱを回収不可能な非回収領域である。領域３０２Ｑは、液体ＬＱを回収可能な回収領域である。領域３０２Ｑは、液体回収部４４Ｑを含む。

第２部材２２Ｑの少なくとも一部は、凹部１６Ｑの下方において移動可能である。第２部材２２Ｑの少なくとも一部は、領域２５２Ｑ及び領域２５３Ｑの下方において移動可能である。

図３０に示すように、第２領域２２Ｑは、部位４９Ｑが、光路ＡＴに対して部位４８Ｑの外側に配置され続けるように移動可能である。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動が低減される。

図３１は、液浸部材５Ｑの一部を拡大した図である。液浸部材５Ｑは、第１空間ＳＰ１に供給された液体ＬＱが、第１空間ＳＰ１から流出することを抑制する抑制部５２Ｑを有する。

第１空間ＳＰ１は、第１部材２１Ｑと第２部材２２Ｑとの間隙が寸法Ｄ１ｃの間隙部分Ｇ１ｃと、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して間隙部分Ｇ１ｃの外側に設けられ、第１部材２１Ｑと第２部材２２Ｑとの間隙が寸法Ｄ１ｃよりも小さい寸法Ｄ１ｄの間隙部分Ｇ１ｄと、を含む。抑制部５２Ｑは、液体ＬＱが間隙部分Ｇ１ｄから流出することを抑制する。

間隙部分Ｇ１ｃは、第１部材２１Ｑの凹部１６Ｑと、第２部材２２Ｑの上面２９Ｑとの間の空間を含む。間隙部分Ｇ１ｃの少なくとも一部は、第１部材２１Ｑの下面２５Ｑの領域２５３Ｑによって規定される。本実施形態において、間隙部分Ｇ１ｃは、第１部材２１Ｑの下面２５Ｑの領域２５３Ｑと、第２部材２２Ｑの上面２９Ｑの領域２９２Ｑとの間の空間を含む。間隙部分Ｇ１ｃは、第１空間ＳＰ１の一部の空間（部分空間）である。間隙部分Ｇ１ｃを、部分空間Ｇ１ｃ、と称してもよい。

間隙部分Ｇ１ｄの少なくとも一部は、第１部材２１Ｑの下面２５Ｑの領域２５５Ｑによって規定される。本実施形態において、間隙部分Ｇ１ｄは、第１部材２１Ｑの下面２５Ｑの領域２５５Ｑ、領域２５６Ｑ、及び領域２５７Ｑと、第２部材２２Ｑの上面２９Ｑの領域２９２Ｑとの間の空間を含む。間隙部分Ｇ１ｄは、第１空間ＳＰ１の一部の空間（部分空間）である。間隙部分Ｇ１ｄを、部分空間Ｇ１ｄ、と称してもよい。

液体供給部４２Ｑは、間隙部分Ｇ１ｄに面するように配置される。液体供給部４２Ｑは、下面２５Ｑの領域２５５Ｑに配置される。液体供給部４２Ｑは、間隙部分Ｇ１ｄに液体ＬＱを供給する。

液体供給部４２Ｑの周囲の少なくとも一部に、間隙部分Ｇ１ｄが配置される。本実施形態において、抑制部５２Ｑは、液体供給部４２Ｑの周囲の少なくとも一部に配置される間隙部分Ｇ１ｄを含む。本実施形態において、抑制部５２Ｑの少なくとも一部は、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｑの外側に配置される。

本実施形態において、間隙部分Ｇ１ｄの寸法Ｄ１ｄは、例えば２００μｍ以下である。寸法Ｄ１ｄは、例えば１０μｍ以上１００μｍ以下でもよい。

間隙部分Ｇ１ｃの寸法Ｄ１ｃは、例えば寸法Ｄ１ｄの２倍以上１００倍以下でもよい。

間隙部分Ｇ１ｄの寸法Ｄ１ｄは小さい。間隙部分Ｇ１ｄの寸法Ｄ１ｄは、間隙部分Ｇ１ｃの寸法Ｄ１ｃよりも小さい。したがって、間隙部分Ｇ１ｃの液体ＬＱが、間隙部分Ｇ１ｄを介して、第１空間ＳＰ１から流出することが抑制される。また、間隙部分Ｇ１ｄの液体ＬＱが、間隙部分Ｇ１ｄから流出することが抑制される。例えば、間隙部分Ｇ１ｄにおける圧力損失により、液体ＬＱが間隙部分Ｇ１ｄから流出することが抑制される。換言すれば、間隙部分Ｇ１ｄによって、液体供給部４２Ｑから間隙部分Ｇ１ｄに供給された液体ＬＱが、間隙部分Ｇ１ｄの内側に閉じ込められる。

また、本実施形態においては、間隙部分Ｇ１ｄに面するように、液体回収部４３Ｑが配置される。液体回収部４３Ｑは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して間隙部分Ｇ１ｃの外側に配置される。また、液体回収部４３Ｑは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して、液体供給部４２Ｑの外側に配置される。そのため、間隙部分Ｇ１ｄの液体ＬＱは、液体回収部４３Ｑから回収される。したがって、間隙部分Ｇ１ｄ（第１空間ＳＰ１）の外側に液体ＬＱが流出することが抑制される。

上述のように、本実施形態において、抑制部５２Ｑは、間隙部分Ｇ１ｄを含む。間隙部分Ｇ１ｄは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｑの内側及び外側の両方に配置される。抑制部５２Ｑが、液体回収部４３Ｑを含む概念でもよい。液体回収部４３Ｑは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｑの外側に配置される。本実施形態において、抑制部５２Ｑは、間隙部分Ｇ１ｄ及び液体回収部４３Ｑの一方又は両方を含む概念でもよい。

本実施形態において、第１部材２１Ｑと第２部材２２Ｑとの間の第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に、第２部材２２Ｑの振動を低減する減衰部５５Ｑが形成される。減衰部５５Ｑは、第１部材２１Ｑの下面２５Ｑと第２部材２２Ｑの上面２９Ｑの少なくとも一部との間に形成される。

本実施形態において、第１部材２１Ｑと第２部材２２Ｑとの第１空間ＳＰ１の間隙部分Ｇ１ｄが、第２部材２２Ｑの振動を低減する減衰部５５Ｑとして機能する。第２部材２２Ｑが終端光学素子１３の光軸ＡＸと垂直なＸＹ平面内において移動される場合において、減衰部５５Ｑは、専ら、光軸ＡＸと平行なＺ軸方向に関する第２部材２２Ｑの振動を低減する。

減衰部５５Ｑは、所謂、スクイズフィルムダンパ（squeeze film damper）を含む。スクイズフィルムダンパは、間隙部分Ｇ１ｄに形成される。上述のように、本実施形態において、液体供給部４２Ｑからの液体ＬＱの少なくとも一部は、間隙部分Ｇ１ｂに流入する。液体供給部４２Ｑから間隙部分Ｇ１ｄに供給された液体ＬＱにより、第２部材２２Ｑの振動を低減するスクイズフィルムダンパが形成される。

本実施形態において、液体供給部４１Ｑから供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１空間ＳＰ１（間隙部分Ｇ１ｄ）に流入する。液体供給部４１Ｑから間隙部分Ｇ１ｄに供給された液体ＬＱにより、第２部材２２Ｑの振動を低減するスクイズフィルムダンパが形成されてもよい。

すなわち、スクイズフィルムダンパは、液体供給部４１Ｑから供給された液体ＬＱで形成されてもよいし、液体供給部４２Ｑから供給された液体ＬＱで形成されてもよいし、液体供給部４１Ｑから供給された液体ＬＱ及び液体供給部４２Ｑから供給された液体ＬＱの両方で形成されてもよい。

なお、間隙部分Ｇ１ｄに液体ＬＱが供給されなくてもよい。間隙部分Ｇ１ｄが気体で満たされていてもよい。間隙部分Ｇ１ｄの気体により減衰部（スクイズフィルムダンパ）５５Ｑが形成されてもよい。

第２部材２２ＱがＸＹ平面内において移動する期間において、第２部材２２ＱがＺ軸方向に振動すると、例えば第１部材２１Ｑと第２部材２２Ｑとが接触したり、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したりする可能性がある。本実施形態においては、減衰部５５Ｑによって、第２部材２２Ｑに望まれない振動が生じることが抑制される。

以上説明したように、本実施形態においては、抑制部５２Ｑが設けられる。これにより、第１空間ＳＰ１（間隙部分Ｇ１ｄ）からの液体ＬＱの流出が抑制される。

また、本実施形態においては、減衰部５５Ｑが形成される。これにより、例えば第２部材２２ＱがＸＹ平面内において移動する期間において、第２部材２２Ｑに望まれない振動（Ｚ軸方向に関する振動）が生じることが抑制される。

また、本実施形態において、減衰部５５Ｑは、スクイズフィルムダンパを含む。これにより、液体供給部４２Ｑ（又は液体供給部４１Ｑ）から供給された液体ＬＱを使って、減衰部５５Ｑを形成することができる。

また、本実施形態においても、液浸部材５Ｑは、終端光学素子１３を保護する保護部２１１Ｑ（壁部６０Ｑ）を有する。そのため、例えば第２部材２２Ｑの移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したり、液浸空間ＬＳにおいて液体ＬＱが高速で流動したりしても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子１３が受ける圧力の変動を低減することができる。

＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図３２は、本実施形態に係る液浸部材５Ｒの一部を示す図である。液浸部材５Ｒは、第１部材２１Ｒと、第２部材２２Ｒと、第１部材２１Ｒと第２部材２２Ｒとの間の第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する液体供給部４２Ｒとを有する。

第１空間ＳＰ１は、寸法Ｄ１ｃの間隙部分Ｇ１ｃと、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して間隙部分Ｇ１ｃの外側に設けられ、寸法Ｄ１ｃよりも小さい寸法Ｄ１ｄの間隙部分Ｇ１ｄとを含む。

第１部材２１Ｒは、第２部材２２Ｒが対向可能な凹部１６Ｒを有する。間隙部分Ｇ１ｃの少なくとも一部は、凹部１６Ｒによって規定される。

液浸部材５Ｒは、液体ＬＱが第１空間ＳＰ１から流出することを抑制する抑制部５２Ｒを有する。抑制部５２Ｒは、液体ＬＱが間隙部分Ｇ１ｄから流出することを抑制する。

本実施形態において、抑制部５２Ｒは、第１部材２１Ｒに配置され、液体供給部４２Ｒの周囲の少なくとも一部に流体シールを形成する流体供給部５６Ｒを含む。流体供給部５Ｒは、第１部材２１Ｒの下面２５Ｒに配置され、第１空間ＳＰ１に流体を供給可能な開口（供給口）を含む。流体供給部（供給口）５６Ｒは、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。流体供給部（供給口）５６Ｒは、間隙部分Ｇ１ｄに面するように配置される。

本実施形態において、流体供給部５６Ｒは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｒの外側に配置される。流体シールは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｒの外側に形成される。

本実施形態において、流体供給部５６Ｒは、気体を供給する。本実施形態においては、流体供給部５６Ｒから供給された気体によって、液体供給部４２Ｒの周囲の少なくとも一部に、ガスシールが形成される。

本実施形態において、液浸部材５Ｒは、流体供給部５６Ｒから供給された流体（気体）の少なくとも一部を回収する流体回収部５７Ｒを有する。流体回収部５７Ｒは、第１部材２１Ｒの下面２５Ｒに配置され、流体供給部５６Ｒから供給された流体（気体）の少なくとも一部を回収可能な開口（回収口）を含む。流体回収部（回収口）５７Ｒは、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。流体回収部（回収口）５７Ｒは、流体供給部（供給口）５６Ｒの隣に配置される。流体回収部５７Ｒは、液体供給部４２Ｒに対して流体供給部５６Ｒの外側に配置される。なお、流体供給部５６Ｒが、液体供給部４２Ｒに対して流体回収部５７Ｒの外側に配置されてもよい。

本実施形態によれば、液体供給部４２Ｒの周囲の少なくとも一部に形成される流体シール（ガスシール）によって、第１空間ＳＰ１（間隙部分Ｇ１ｄ）の液体ＬＱが第１空間ＳＰ１（間隙部分Ｇ１ｄ）から流出することが抑制される。

なお、流体供給部５６Ｒから液体が供給されてもよい。液体供給部４２Ｒの周囲の少なくとも一部に、液体シールが形成されてもよい。

なお、流体供給部５６Ｒ及び流体回収部５７Ｒが、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材２２Ｒに設けられてもよい。

なお、流体供給部５６Ｒが第１部材２１Ｒに設けられ、流体回収部５７Ｒが第２部材２２Ｒに設けられてもよい。なお、流体供給部５６Ｒが第２部材２２Ｒに設けられ、流体回収部５７Ｒが第１部材２１Ｒに設けられてもよい。なお、流体供給部５６Ｒ及び流体回収部５７Ｒが、第１部材２１Ｒ及び第２部材２２Ｒの両方に設けられてもよい。

なお、本実施形態において、流体回収部５７Ｒが省略されてもよい。

なお、本実施形態において、間隙部分Ｇ１ｄの寸法Ｄ１ｄは、２００μｍ以下でもよいし、２００μｍよりも大きくてもよい。

＜第７実施形態＞
第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図３３は、本実施形態に係る液浸部材５Ｓの一部を示す図である。液浸部材５Ｓは、第１部材２１Ｓと、第２部材２２Ｓと、第１部材２１Ｓと第２部材２２Ｓとの間の第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する液体供給部４２Ｓと、第１空間ＳＰ１から液体ＬＱを回収する液体回収部４３Ｓとを有する。

第１空間ＳＰ１は、寸法Ｄ１ｃの間隙部分Ｇ１ｃと、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して間隙部分Ｇ１ｃの外側に設けられ、寸法Ｄ１ｃよりも小さい寸法Ｄ１ｄの間隙部分Ｇ１ｄとを含む。

第１部材２１Ｓは、第２部材２２Ｓが対向可能な凹部１６Ｓを有する。間隙部分Ｇ１ｃの少なくとも一部は、凹部１６Ｓによって規定される。

液浸部材５Ｓは、液体ＬＱが第１空間ＳＰ１から流出することを抑制する抑制部５２Ｓを有する。抑制部５２Ｓは、液体ＬＱが間隙部分Ｇ１ｄから流出することを抑制する。

本実施形態において、抑制部５２Ｓは、液体供給部４２Ｓの周囲の少なくとも一部に配置され、液体供給部４２Ｓからの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する液体回収部５８Ｓを含む。

液体回収部５８Ｓは、露光光ＥＬの光路ＡＴに対して液体供給部４２Ｓの外側に配置される。本実施形態において、液体回収部５８Ｓは、液体回収部４３Ｓよりも液体供給部４２Ｓに近い位置に配置される。液体回収部５８Ｓの少なくとも一部は、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して、液体供給部４２Ｓと液体回収部４３Ｓとの間に配置される。

本実施形態において、液体回収部５８Ｓは、第１空間ＳＰ１に面するように、第１部材２１Ｓに設けられる。液体回収部５８Ｓは、第１部材２１Ｓの下面２５Ｓに配置され、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な開口（回収口）を含む。液体回収部（回収口）５８Ｓは、間隙部分Ｇ１ｄに面するように配置される。

なお、液体回収部５８Ｓは、第１空間ＳＰ１に面するように、第２部材２２Ｓに設けられてもよいし、第１部材２１Ｓ及び第２部材２２Ｓの両方に設けられてもよい。

液体供給部４２Ｓに隣接するように、液体回収部５８Ｓが設けられることにより、第１空間ＳＰ１（間隙部分Ｇ１ｄ）の液体ＬＱが、第１空間ＳＰ１（間隙部分Ｇ１ｄ）から流出することが抑制される。

なお、本実施形態において、間隙部分Ｇ１ｄの寸法Ｄ１ｄは、２００μｍ以下でもよいし、２００μｍよりも大きくてもよい。

なお、上述の第５〜第７実施形態において、液体供給部（４２Ｑなど）は、間隙部分Ｇ１ｃに面するように配置されてもよいし、間隙部分Ｇ１ｃ及び間隙部分Ｇ１ｄの両方に面するように配置されてもよい。

なお、上述の第１〜第７実施形態において、第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する液体供給部（４２など）は、第２部材（２２など）に設けられてもよいし、第１部材（２１など）及び第２部材（２２など）の両方に設けられてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１空間ＳＰ１から液体ＬＱを回収する液体回収部（４３など）は、第２部材（２２など）に設けられてもよいし、第１部材（２１など）及び第２部材（２２など）の両方に設けられてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第３空間ＳＰ３及び光路空間ＳＰＫの少なくとも一方に面する液体供給部（４１など）から供給される液体と、第１空間ＳＰ１に面する液体供給部（４２など）から供給される液体とは、同じ種類の液体でもよいし、異なる種類の液体でもよい。

なお、上述の各実施形態において、第３空間ＳＰ３及び光路空間ＳＰＫの少なくとも一方に面する液体供給部（４１など）から供給される液体と、第１空間ＳＰ１に面する液体供給部（４２など）から供給される液体とは、同じクリーン度でもよいし、異なるクリーン度でもよい。

なお、上述の各実施形態において、第３空間ＳＰ３及び光路空間ＳＰＫの少なくとも一方に面する液体供給部（４１など）から供給される液体と、第１空間ＳＰ１に面する液体供給部（４２など）から供給される液体とは、同じ温度でもよいし、異なる温度でもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１部材（２１など）は、環状でなくてもよい。第１部材（２１など）が、光路ＡＴ（終端光学素子１３）の周囲の一部に配置されてもよい。第１部材（２１など）が、光路ＡＴの周囲において複数配置されてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第２部材（２２など）は、環状でなくてもよい。第２部材（２２など）が、光路ＡＴ（終端光学素子１３）の周囲の一部に配置されてもよい。第２部材（２２など）が、光路ＡＴの周囲において複数配置されてもよい。

なお、上述の各実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。

なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。

記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。

記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２部材に設けられ、液体が流通可能な通路と、を備え、第１空間の第２液体の少なくとも一部が、通路を介して、第２部材と物体との間の第２空間に供給される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、第２液体が第１空間から流出することを抑制する抑制部と、を備え、第１空間は、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分空間と、露光光の光路に対して第１部分空間の外側に設けられ、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分空間と、を含み、抑制部は、第２液体が第２部分空間から流出することを抑制する液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部に、第２部材の振動を低減する減衰部が形成される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部に、液体供給部からの第２液体によりスクイズフィルムダンパが形成される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下に、物体が対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材と第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、第１部材と第２部材との間の第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、２００μｍ以下であり、液体供給部からの第２液体の少なくとも一部が間隙に供給される液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に第１液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の第１液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。

記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理が実行される。

なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。

なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。

また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。

また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図３４に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。

また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。

露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。

なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。

上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。

また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。

上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図３５に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、１６…凹部、２１…第１部材、２２…第２部材、２３…第１開口部、２４…上面、２５…下面、２８…第２開口部、２９…上面、３０…下面、４１…液体供給部、４２…液体供給部、４３…液体回収部、４４…液体回収部、５０…通路、５１…誘導部、５２…抑制部、５３…凹部、５５…減衰部、５６…流体供給部、５７…流体回収部、５８…液体回収部、ＡＴ…光路、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、ＬＧ…界面、ＬＧ１…第１界面、ＬＧ２…第２界面、ＬＧ３…第３界面、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＳＰＫ…光路空間、ＳＰ１…第１空間、ＳＰ２…第２空間、ＳＰ３…第３空間。

Claims (86)

1. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
   前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
   少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、
   前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、
   前記第２部材に設けられ、液体が流通可能な通路と、を備え、
   前記第１空間の前記第２液体の少なくとも一部が、前記通路を介して、前記第２部材と前記物体との間の前記第２空間に供給される液浸部材。
2. 前記第１部材は、前記射出面から射出される前記露光光が通過可能な第１開口部を有し、
   前記液体供給部は、前記第１開口部の外側において前記第１空間に面するように配置される請求項１に記載の液浸部材。
3. 前記第１空間の少なくとも一部は、前記第１開口部の周囲に配置される、前記第１部材の第１下面によって規定される請求項２に記載の液浸部材。
4. 前記液体供給部は、前記第１部材に配置される請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸部材。
5. 前記第２部材は、前記射出面から射出される前記露光光が通過可能な第２開口部を有し、
   前記通路は、前記第２開口部の外側に配置される請求項１〜４のいずれか一項に記載の液浸部材。
6. 前記第１空間の少なくとも一部は、前記第２開口部の周囲に配置される、前記第２部材の第２上面によって規定され、
   前記第２空間の少なくとも一部は、前記第２開口部の周囲に配置される、前記第２部材の第２下面によって規定される請求項５に記載の液浸部材。
7. 前記通路は、前記第２上面と前記第２下面とを結ぶように設けられる請求項６に記載の液浸部材。
8. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内における第１軸と平行な方向に移動し、
   前記通路は、前記第１軸と平行な方向に関して前記第２開口部の一側及び他側の一方又は両方に配置される請求項５〜７のいずれか一項に記載の液浸部材。
9. 前記光学部材の光軸と垂直な面内において、前記液体供給部と前記通路とは異なる位置に配置される請求項１〜８のいずれか一項に記載の液浸部材。
10. 前記第１空間は、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１間隙部分と、前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含む請求項１〜９のいずれか一項に記載の液浸部材。
11. 前記液体供給部は、前記第１間隙部分に前記第２液体を供給する請求項１０に記載の液浸部材。
12. 前記通路の上端の開口は、前記第１間隙部分に面するように配置される請求項１０又は１１に記載の液浸部材。
13. 前記液体供給部からの前記第２液体の少なくとも一部を前記通路へ導く誘導部と、
    前記誘導部の周囲の少なくとも一部に配置され、前記誘導部の前記第２液体が前記誘導部から流出することを抑制する抑制部と、を備える請求項１〜９のいずれか一項に記載の液浸部材。
14. 前記第１空間は、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１間隙部分と、前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、
    前記誘導部は、前記第１間隙部分を含み、
    前記抑制部は、前記第２間隙部分を含む請求項１３に記載の液浸部材。
15. 前記液体供給部は、前記誘導部に前記第２液体を供給する請求項１３又は１４に記載の液浸部材。
16. 前記通路の上端の開口は、前記誘導部に面するように配置される請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の液浸部材。
17. 前記抑制部は、前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置され、前記誘導部の周囲の少なくとも一部に流体シールを形成する流体供給部を含む請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の液浸部材。
18. 前記抑制部は、前記誘導部の周囲の少なくとも一部に配置され、前記誘導部からの前記第２液体の少なくとも一部を回収する液体回収部を含む請求項１３〜１７のいずれか一項に記載の液浸部材。
19. 前記抑制部の少なくとも一部は、前記露光光の光路に対して前記液体供給部の外側に配置される請求項１３〜１８のいずれか一項に記載の液浸部材。
20. 前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部に、前記第２部材の振動を低減する減衰部が形成される請求項１〜１９のいずれか一項に記載の液浸部材。
21. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動され、
    前記減衰部は、前記光軸と平行な方向に関する前記第２部材の振動を低減する請求項２０に記載の液浸部材。
22. 前記第１空間は、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１間隙部分と、前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、
    前記減衰部は、前記第２間隙部分に形成される請求項２０又は２１に記載の液浸部材。
23. 前記液体供給部は、前記第１間隙部分に前記第２液体を供給する請求項２２に記載の液浸部材。
24. 前記減衰部は、スクイズフィルムダンパを含む請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の液浸部材。
25. 前記第１部材は、前記第２部材が対向可能な第１凹部を有し、
    前記第１間隙部分の少なくとも一部は、前記第１凹部によって規定される請求項１０、１１、１２、１４、２２、２３のいずれか一項に記載の液浸部材。
26. 前記第２部材は、前記第１部材が対向可能な第２凹部を有し、
    前記第１間隙部分の少なくとも一部は、前記第２凹部によって規定される請求項１０、１１、１２、１４、２２、２３、２５のいずれか一項に記載の液浸部材。
27. 前記液体供給部は、前記第２凹部に前記第２液体を供給する請求項２６に記載の液浸部材。
28. 前記通路の上端の開口は、前記第２凹部の内側に配置される請求項２６又は２７に記載の液浸部材。
29. 前記第２寸法は、２００μｍ以下である請求項１０、１１、１２、１４、２２、２３、２５〜２８のいずれか一項に記載の液浸部材。
30. 前記第２寸法は、１０μｍ以上１００μｍ以下である請求項１０、１１、１２、１４、２２、２３、２５〜２９のいずれか一項に記載の液浸部材。
31. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、
    前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、
    前記第２液体が前記第１空間から流出することを抑制する抑制部と、を備え、
    前記第１空間は、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１部分空間と、前記露光光の光路に対して前記第１部分空間の外側に設けられ、前記第１部材と前記第２部材との間隙が前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分空間と、を含み、
    前記抑制部は、前記第２液体が前記第２部分空間から流出することを抑制する液浸部材。
32. 前記第１部材は、前記射出面から射出される前記露光光が通過可能な第１開口部と、前記第１開口部の周囲に配置され、少なくとも一部が前記第２部材と対向可能な第１下面と、を有し、
    前記第１空間の少なくとも一部は、前記第１下面によって規定される請求項３１に記載の液浸部材。
33. 前記第１下面は、第１領域と、前記露光光の光路に対して前記第１領域の外側に配置され、前記第１領域よりも下方に配置される第２領域と、を含み、
    前記第２部分空間の少なくとも一部は、前記第２領域によって規定される請求項３２に記載の液浸部材。
34. 前記液体供給部は、前記第２部分空間に面するように配置される請求項３１〜３３のいずれか一項に記載の液浸部材。
35. 前記液体供給部は、前記第１部材に配置される請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の液浸部材。
36. 前記抑制部は、前記液体供給部の周囲の少なくとも一部に配置される前記第２部分空間を含む請求項３１〜３５のいずれか一項に記載の液浸部材。
37. 前記第２寸法は、２００μｍ以下である請求項３１〜３６のいずれか一項に記載の液浸部材。
38. 前記第２寸法は、１０μｍ以上１００μｍ以下である請求項３１〜３７のいずれか一項に記載の液浸部材。
39. 前記抑制部は、前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置され、前記液体供給部の周囲の少なくとも一部に流体シールを形成する流体供給部を含む請求項３１〜３８のいずれか一項に記載の液浸部材。
40. 前記抑制部は、前記液体供給部の周囲の少なくとも一部に配置され、前記液体供給部からの前記第２液体の少なくとも一部を回収する液体回収部を含む請求項３１〜３９のいずれか一項に記載の液浸部材。
41. 前記第１部材は、前記射出面からの露光光が通過可能な第１開口部を有し、
    前記抑制部の少なくとも一部は、前記露光光の光路に対して前記液体供給部の外側に配置される請求項３１〜４０のいずれか一項に記載の液浸部材。
42. 前記第２部分空間は、前記第２部材の振動を低減可能である請求項３１〜４１のいずれか一項に記載の液浸部材。
43. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動され、
    前記第２部分空間は、前記光軸と平行な方向に関する前記第２部材の振動を低減する請求項４２に記載の液浸部材。
44. 前記第２部分空間にスクイズフィルムダンパが形成される請求項４２又は４３に記載の液浸部材。
45. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、
    前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、
    前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部に、前記第２部材の振動を低減する減衰部が形成される液浸部材。
46. 前記減衰部は、前記液体供給部からの前記第２液体により形成されるスクイズフィルムダンパを含む請求項４５に記載の液浸部材。
47. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、
    前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、
    前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部に、前記液体供給部からの前記第２液体によりスクイズフィルムダンパが形成される液浸部材。
48. 前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間は、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１部分空間と、前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分空間と、を含み、
    前記第２部分空間に、前記減衰部が形成される請求項４６又は４７に記載の液浸部材。
49. 前記液体供給部は、前記第１部分空間に前記第２液体を供給する請求項４８に記載の液浸部材。
50. 前記液体供給部は、前記第２部分空間に前記第２液体を供給する請求項４８又は４９に記載の液浸部材。
51. 前記第１部材は、前記射出面から射出される前記露光光が通過可能な第１開口部と、前記第１開口部の周囲に配置される第１下面と、を有し、
    前記第２部材は、前記射出面から射出される前記露光光が通過可能な第２開口部と、前記第２開口部の周囲に配置され、前記第１下面と対向可能な第２上面と、を有し、
    前記第１下面と前記第２上面の少なくとも一部との間に前記減衰部が形成される請求項４５〜５０のいずれか一項に記載の液浸部材。
52. 前記第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、２００μｍ以下である請求項４５〜５１のいずれか一項に記載の液浸部材。
53. 前記第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、１０μｍ以上１００μｍ以下である請求項４５〜５２のいずれか一項に記載の液浸部材。
54. 前記液体供給部からの前記第２液体の少なくとも一部が前記間隙に供給される請求項５２又は５３に記載の液浸部材。
55. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
    少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、
    前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、
    前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、２００μｍ以下であり、
    前記液体供給部からの第２液体の少なくとも一部が前記間隙に供給される液浸部材。
56. 前記間隙の寸法は、１０μｍ以上１００μｍ以下である請求項５６に記載の液浸部材。
57. 前記第２部材が移動する期間の少なくとも一部において、前記液体供給部から前記第２液体が供給される請求項１〜５６のいずれか一項に記載の液浸部材。
58. 前記光学部材の外面との間の空間及び前記射出面から射出される前記露光光の光路を含む空間の少なくとも一方に面するように前記第１部材に配置され、前記第１液体を供給する液体供給部を有する請求項１〜５７いずれか一項に記載の液浸部材。
59. 前記物体が対向するように前記第２部材に配置され、前記液浸空間の前記第１液体の少なくとも一部を回収する液体回収部を有する請求項１〜５８のいずれか一項に記載の液浸部材。
60. 前記液浸空間が形成されている状態において、前記第２部材は移動可能である請求項１〜５９のいずれか一項に記載の液浸部材。
61. 前記射出面から前記露光光が射出される期間の少なくとも一部において、前記第２部材は移動可能である請求項１〜６０のいずれか一項に記載の液浸部材。
62. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動する請求項１〜６１のいずれか一項に記載の液浸部材。
63. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    請求項１〜６２のいずれか一項に記載の液浸部材を備える露光装置。
64. 前記第２部材は、前記物体との相対速度が小さくなるように移動される請求項６３に記載の露光装置。
65. 前記第２部材は、前記第２部材と前記物体との相対速度が、前記第１部材と前記物体との相対速度よりも小さくなるように移動される請求項６３又は６４に記載の露光装置。
66. 前記第２部材は、前記物体との相対加速度が小さくなるように移動される請求項６３〜６５のいずれか一項に記載の露光装置。
67. 前記第２部材は、前記第２部材と前記物体との相対加速度が、前記第１部材と前記物体との相対加速度よりも小さくなるように移動される請求項６３〜６６のいずれか一項に記載の露光装置。
68. 前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動後、第２経路を移動し、
    前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
    前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第３方向に移動する請求項６３〜６７のいずれか一項に記載の露光装置。
69. 前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光が照射され、前記第２経路を移動するときに前記露光光が照射されない請求項６８に記載の露光装置。
70. 前記基板は、前記第２経路を移動した後に、第３経路を移動し、
    前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動する請求項６８又は６９に記載の露光装置。
71. 前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板がスキャン方向にスキャン移動しながら前記基板の第１ショット領域が露光された後、第２ショット領域が露光開始位置に配置されるように前記基板がステップ方向にステップ移動し、
    前記基板のステップ移動の少なくとも一部において、前記第２部材は、前記ステップ方向と実質的に同方向に移動する請求項６３〜６７のいずれか一項に記載の露光装置。
72. 前記基板のスキャン移動の少なくとも一部において、前記第２部材は、前記ステップ方向と実質的に逆方向に移動する請求項７１に記載の露光装置。
73. 前記物体は、前記基板を保持して移動する基板ステージを含む請求項６３〜７２のいずれか一項に記載の露光装置。
74. 請求項６３〜７３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
75. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、前記第２部材に設けられ、液体が流通可能な通路と、を備え、前記第１空間の前記第２液体の少なくとも一部が、前記通路を介して、前記第２部材と前記物体との間の前記第２空間に供給される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
76. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、前記第２液体が前記第１空間から流出することを抑制する抑制部と、を備え、前記第１空間は、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１部分空間と、前記露光光の光路に対して前記第１部分空間の外側に設けられ、前記第１部材と前記第２部材との間隙が前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分空間と、を含み、前記抑制部は、前記第２液体が前記第２部分空間から流出することを抑制する液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
77. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部に、前記第２部材の振動を低減する減衰部が形成される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
78. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部に、前記液体供給部からの前記第２液体によりスクイズフィルムダンパが形成される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
79. 光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、２００μｍ以下であり、前記液体供給部からの第２液体の少なくとも一部が前記間隙に供給される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
80. 請求項７５〜７９のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
81. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、前記第２部材に設けられ、液体が流通可能な通路と、を備え、前記第１空間の前記第２液体の少なくとも一部が、前記通路を介して、前記第２部材と前記物体との間の前記第２空間に供給される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
82. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、前記第２液体が前記第１空間から流出することを抑制する抑制部と、を備え、前記第１空間は、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１部分空間と、前記露光光の光路に対して前記第１部分空間の外側に設けられ、前記第１部材と前記第２部材との間隙が前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分空間と、を含み、前記抑制部は、前記第２液体が前記第２部分空間から流出することを抑制する液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
83. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部に、前記第２部材の振動を低減する減衰部が形成される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
84. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部に、前記液体供給部からの前記第２液体によりスクイズフィルムダンパが形成される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
85. コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の第１液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下に、前記物体が対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間の第１空間に第２液体を供給する液体供給部と、を備え、前記第１部材と前記第２部材との間の前記第１空間の少なくとも一部の間隙の寸法は、２００μｍ以下であり、前記液体供給部からの第２液体の少なくとも一部が前記間隙に供給される液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記第１液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記第１液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
86. 請求項８１〜８５のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

Images