JPWO2014087666A1 - マイクロ波処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の実施の形態1におけるマイクロ波処理装置の概略断面図である。
図4は、実施の形態1の変形例1におけるマイクロ波処理装置の整合回路15の下面図である。図5は、本変形例1におけるマイクロ波処理装置の整合回路15の断面図である。図4、5に示す変形例1では、図1−3に示す実施の形態1と比較して、整合回路15の形状のみが異なり、その他のマイクロ波処理装置の構成は共通する。
図6は、実施の形態1の変形例2におけるマイクロ波処理装置の整合回路25の断面図である。図6に示す変形例2では、周期構造体2(の少なくとも一部)をグランド面とするマイクロストリップ線路において、整合回路25と周期構造体2の間に、空気とは異なる誘電体28が配置されている。さらに本変形例2では、誘電体28の長手方向の途中に誘電率が異なる誘電体28aが設けられている。この誘電体28aは誘電体28の他の部分とは異なるインピーダンスを有する。すなわち、誘電体28aにより整合回路25におけるインピーダンスの変化部分が形成される。
次に、図7、8を用いて、本発明の実施の形態2にかかるマイクロ波処理装置について説明する。本実施の形態2では、実施の形態1と比較して、表面波伝送線路を形成する周期構造体の構造が主に異なっている。
Claims (8)
- マイクロ波による表面波を伝送する表面波伝送線路を形成した周期構造体と、
マイクロ波電力を発生させる発振部と、
発振部によって発生されたマイクロ波電力を周期構造体に伝達する伝達部とを備え、
周期構造体と伝達部との接続部分に整合部が設けられ、整合部のインピーダンスは、周期構造体のインピーダンスと伝達部のインピーダンスの間に設定される、マイクロ波処理装置。 - 整合部は、周期構造体の少なくとも一部をグランド面とするマイクロストリップ線路を形成する、請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 整合部はインピーダンスの変化部分を有し、その変化部分にて生じるマイクロ波の反射波が、周期構造体と整合部との接続部分で生じるマイクロ波の反射波を少なくとも部分的に相殺するように変化部分が配置される、請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 整合部におけるインピーダンスの変化部分は、整合部の形状を変化させて形成される、請求項3に記載のマイクロ波処理装置。
- 整合部は、周期構造体の少なくとも一部をグランド面として誘電体を有したマイクロストリップ線路を形成し、
整合部におけるインピーダンスの変化部分は、マイクロストリップ線路の誘電体に誘電率の変化部分が存在することで形成される、請求項3に記載のマイクロ波処理装置。 - 周期構造体は、第1の櫛型部を含む第1の金属板部と、第1の櫛形部と対向して配置された第2の櫛型部を含む第2の金属板部とを備え、
表面波伝送線路は、第1および第2の櫛型部の間に形成されたインターディジタル線路であり、
伝達部は、中心導体と中心導体を覆う外皮とを有する同軸ケーブルであり、
同軸ケーブルの中心導体は、整合部を介して周期構造体の第1の櫛型部に接続され、同軸ケーブルの外皮は、周期構造体の第2の金属板部に接続される、請求項1に記載のマイクロ波処理装置。 - 周期構造体は、一定の間隔で互いに平行に並べられた複数の金属板を備え、金属板のうちの1つを他の金属板を支持する支持体から離して配置し、
伝達部は、中心導体と中心導体を覆う外皮とを有する同軸ケーブルであり、
中心導体は、支持体から離して配置された金属板に整合部を介して接続され、外皮は支持体に接続されている、請求項1に記載のマイクロ波処理装置。 - 表面波伝送線路の近傍に設けられるとともに被加熱物を設置する設置台をさらに備え、
周期構造体は、設置台に対して被加熱物が設置される側と反対側に配置され、
整合部および伝達部のうちの少なくとも一方を、周期構造体に対して、被加熱物および設置台が存在する側と反対側に配置した、請求項1から7のいずれか1つに記載のマイクロ波処理装置。
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