JP7178557B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の構成図である。図1において、マイクロ波などの高周波は高周波電力発生部1にて励振され、同軸線などの接続手段を含む給電部2a,2bに伝送される。なお、高周波電力発生部1は、電子レンジ等で一般的に使用されるマグネトロンであっても、半導体であってもよいものとする。
2a,2b 給電部
3a,3b 表面波線路
4 載置台
5 被加熱物
6 加熱室
7 スタブ型表面波線路
7a 金属板(アルミ板)
8 インターディジタル型表面波線路
Claims (4)
- マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、
被加熱物を挟み込むように配置した少なくとも2つの表面波線路と、
前記高周波電力発生部からの電力を前記表面波線路へ伝える給電部と、を備え、
前記2つの表面波線路を平面視で交差させ、
前記2つの表面波線路上に励起される表面波が互いに干渉することを減少させるように、前記2つの表面波線路上に励起される表面波の伝送方向が平面視で交差することを特徴とする高周波加熱装置。 - 前記2つの表面波線路の交差角度は平面視で45°以上90°以内の角度となる交差角度を有することを特徴とする請求項1記載の高周波加熱装置。
- 前記2つの表面波線路の表面波の伝送方向の交差角度は平面視で45°以上90°以内の角度となる交差角度を有することを特徴とする請求項2記載の高周波加熱装置。
- 前記表面波線路は導電性材質からなる周期構造体であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の高周波加熱装置。
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JP2019062135A JP7178557B2 (ja) | 2019-03-28 | 2019-03-28 | 高周波加熱装置 |
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JP2019062135A JP7178557B2 (ja) | 2019-03-28 | 2019-03-28 | 高周波加熱装置 |
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JP2020161425A JP2020161425A (ja) | 2020-10-01 |
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