JP7178557B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7178557B2
JP7178557B2 JP2019062135A JP2019062135A JP7178557B2 JP 7178557 B2 JP7178557 B2 JP 7178557B2 JP 2019062135 A JP2019062135 A JP 2019062135A JP 2019062135 A JP2019062135 A JP 2019062135A JP 7178557 B2 JP7178557 B2 JP 7178557B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface wave
lines
heated
view
frequency
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019062135A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020161425A (ja
Inventor
和樹 前田
義治 大森
利幸 岡島
浩二 吉野
昌之 久保
芳弘 阪本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority to JP2019062135A priority Critical patent/JP7178557B2/ja
Publication of JP2020161425A publication Critical patent/JP2020161425A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7178557B2 publication Critical patent/JP7178557B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

本発明は、表面波伝送線路を備えた高周波加熱装置に関するものである。
従来、この種の高周波加熱装置は、表面波線路に対して高周波電力を給電し、表面波線路上に励振される表面波を用いて焦げ目付けなどの加熱を行っていた(例えば、特許文献1参照)。また、食品など、被加熱物の両面を加熱したい場合は2つの表面波線路で被加熱物を挟み込む構成としていた(例えば、特許文献2参照)。
特開昭49-16944号公報 特開平6-260276号公報
しかしながら、被加熱物の両面に単に表面波線路を設置し挟み込んで加熱する構成では、向かい合う表面波線路上を伝送するエネルギーが干渉し、表面波線路間で電力が飛び移ってしまい、所望の加熱具合にならないという課題を有していた。
また、干渉を防止する方法として、各々の表面波線路へ給電する高周波の周波数を変えることが考えられるが、発振回路が複数必要であり、商品化の上でコストの問題が発生する。
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、向かい合う表面波線路の配置を工夫することにより、表面波線路間の電力の干渉を極力減らし、食品を所望の出来具合に加熱することのできる高周波加熱装置を提供することを目的とする。
前記従来の課題を解決するために、本発明に関する高周波加熱装置は、マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、被加熱物を挟み込むように配置した少なくとも2つの表面波線路と、前記高周波電力発生部からの電力を前記表面波線路へ伝える給電部と、を備え、前記2つの表面波線路は平面視で交差している構成とした。
本発明の高周波加熱装置によれば、被加熱物の両面を加熱する際、表面波線路間の電力の干渉を極力減らし、所望の火力で独立して加熱することができる。
本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の構成図 本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の斜視図 本発明の実施の形態1における他の高周波加熱装置の平面図 本発明の実施の形態1における高周波加熱装置と比較した参考例を示す構成図 本発明の実施の形態1における表面波線路の斜視図 本発明の実施の形態1における他の表面波線路の斜視図 本発明の実施の形態1における表面波線路の断面図 本発明の実施の形態1における表面波線路どうしの交差角度θと干渉度を示すグラフ
第1の発明は、マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、被加熱物を挟み込むように配置した少なくとも2つの表面波線路と、前記高周波電力発生部からの電力を前記表面波線路へ伝える給電部と、を備え、前記2つの表面波線路は平面視で交差している構成であり、これにより表面波線路間で電力の干渉が低減し、被加熱物の両面で所望の加熱を行うことができる。
第2の発明は、第1の発明において、前記2つの表面波線路の交差角度は平面視で45°以上90°以内の角度となる交差角度を有することにより、表面波線路間で電力の干渉が低減し、被加熱物の両面で所望の加熱を行うことができる。
第3の発明は、第1または第2の発明において、前記2つの表面波線路の表面波の伝送方向が平面視で交差していることにより、表面波線路間で電力の干渉が低減し、被加熱物の両面で所望の加熱を行うことができる。
第4の発明は、第3の発明において、前記2つの表面波線路の表面波の伝送方向の交差角度は平面視で45°以上90°以内の角度となる交差角度を有することにより、表面波線路間で電力の干渉が低減し、被加熱物の両面で所望の加熱を行うことができる。
第5の発明は、第1~第4のいずれかの発明において、前記表面波線路は導電性材料からなる周期構造体であることにより、被加熱物を挟み込む表面波線路間で電力の干渉が低減し、出来栄えが良くなる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の構成図である。図1において、マイクロ波などの高周波は高周波電力発生部1にて励振され、同軸線などの接続手段を含む給電部2a,2bに伝送される。なお、高周波電力発生部1は、電子レンジ等で一般的に使用されるマグネトロンであっても、半導体であってもよいものとする。
給電部2a,2bを介して表面波線路3a,3bに給電された高周波電力は、表面波線路3a,3bの近傍空間に集中する。被加熱物5は、下側の表面波線路3bの上方でかつ近傍に設けられた載置台4の上に載置され、上側の表面波線路3aと下側の表面波線路3bの近傍に集中させた高周波により被加熱物5は加熱される。
なお本実施の形態では、被加熱物5、表面波線路3a,3b、及び載置台4は加熱室6の中に設置されているが、電波漏洩や感電などの危険性がない構成があれば、必ずしも加熱室6の中に設置する必要はない。
また、本実施の形態においては、表面波線路3a,3bの形状は導電性材料を周期的に並べたスタブ型周期構造体としているが、これに限られるものではなく、表面波線路の形状は、針型、インターディジタル型などであってもよい。
また、高周波電力発生部1は複数設置して給電部2a,2bを介して表面波線路3a,3bに高周波電力を供給する構成であってもよい。
図2は、本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の斜視図である。図2において、表面波線路3a,3bは互いに被加熱物を挟み込む形で向かい合っている。表面波線路3bは、表面波線路3aを表面波線路の中心を軸にθ方向に90°回転させている。すなわち表面波線路3a,3bは平面視で交差させており、表面波線路3a,3bの交差角度θは90°としている。
図2において、高周波電力発生部1から給電部2a,2bを通じて表面波線路3a,3bに高周波電力が給電され、それぞれ表面波が発生する。表面波線路3a,3bは平面視で交差(直交)しているため各々の線路上に励起される表面波の伝送方向も平面視で交差(直交)しており、互いに極力干渉することがなく表面波線路上をエネルギーが伝送して被加熱物5を加熱することができる。
ここで、表面波線路3a,3bを平面視で表面波の伝送方向を交差させた状態とは、図2のように被加熱物5を上下の表面波線路3a,3bで挟み込む際に上側の表面波線路3aを伝送する電磁エネルギー伝送方向Aと、下側の表面波線路3bを伝送する電磁エネルギー伝送方向Bのなす交差角度θが、少なくともXZ面において平行で有限の値を持っている状態を意味する。θは、表面波線路3bの中心を軸としたときのXZ面において表面波線路3aを回転した角度としての意味もある。
図3は本発明の実施の形態1における図2とは異なる高周波加熱装置の上面図である。図3では表面波線路3a,3bは被加熱物5を上下から挟み込む位置にあり、表面波線路3bに対して表面波線路3aは平面視45°の角度で交差している。図3で被加熱物の両面を加熱可能な範囲は図3で斜線を引いた範囲であり、被加熱物5のサイズに応じて表面波線路の幅や長さを変えることで加熱範囲は変えることができる。図3では、上下に配した表面波線路3a,3bは平面視で45°の角度で交差しているため各々の線路上に励起される表面波の伝送方向も平面視で45°の角度で交差しており、互いに極力干渉することがなく表面波線路上をエネルギーが伝送して被加熱物5を加熱することができる。
上述のとおり、上下に配した表面波線路3a,3bは平面視で45°以上90°以内の角度で交差させ、各々の線路上に励起される表面波の伝送方向も平面視で45°以上90°以内の角度で交差させれば、干渉を低減させることができる。
ここで、本発明を用いない場合、被加熱物がどのように加熱されるかについて述べる。
図4は、本発明の実施の形態1における高周波加熱装置と比較した参考例を示す構成図であり、被加熱物5を挟み込む表面波線路がそれぞれ交差しておらず、向きが同一(電磁エネルギーの伝送方向が同方向)の構成である。
図4において、上側の表面波線路3aのみに給電した場合、表面波線路3a,3bを伝送する表面波の方向が等しいため、表面波線路3aの表面上を伝送する途中でエネルギーの一部が下側の表面波線路3bに移ってしまい、表面波線路3b上にもエネルギーが伝送する。被加熱物5は上側の加熱が所望の加熱具合に届かず、被加熱物5の下側も加熱されてしまう。
同様に、下側の表面波線路3bのみに給電した場合も表面波線路3a,3bを伝送する表面波の方向が等しいため、表面波線路3bの表面上を伝送する途中でエネルギーの一部が上側の表面波線路3aに移ってしまい、表面波線路3a上にもエネルギーが伝送する。被加熱物5は下側の加熱が所望の加熱具合に届かず、被加熱物5の上側も加熱されてしまう。
また、被加熱物5の上面を強く加熱し、被加熱物5の下面を弱く加熱したい場合に、上下の表面波線路3a,3bに異なる大きさの電力を給電したとしても、上下それぞれの表面波線路を伝送途中で互いにエネルギーの一部が移ってしまい、所望の加熱具合にならない場合がある。このような表面波線路3a,3b間のエネルギーの干渉を防止するには、それぞれの表面波線路に給電する高周波電力の周波数を変えるなどの方法をとらなければならず、複数の発振回路を必要としていた。
しかしながら本実施の形態において、表面波線路3a,3bを平面視で交差させて配置することで、エネルギーの伝送方向が異なるため、給電した電力が表面波線路3a,3b間で干渉することを極力減らしてそれぞれ独立してエネルギーを伝送し、一つの発振回路から同じ周波数の高周波電力を表面波線路3a,3bに給電しても所望の加熱を行うことが可能である。
図5は本発明の実施の形態1における高周波加熱装置のスタブ型表面波線路7の斜視図である。アルミ板などの金属板7aを周期的に並べた周期構造体のスタブ型表面波線路である。上述した図2や図3の構成では、このスタブ型表面波線路7を上下に被加熱物5を挟み込むように配置して、金属板7aが上下で交差するように配置されている例を示したものである。
スタブ型表面波線路7に高周波電力を給電すると、ある金属板7aと隣の金属板7aの間に電界が生じる。金属板を流れる電流と金属板の周りを巻く磁界による電磁誘導によって、Z方向へ表面波として電磁エネルギーが伝送していく。電界は金属板上端から+Y方向に向かって指数関数的に減少する。
図6は、本発明の実施の形態1における高周波加熱装置のインターディジタル型表面波線路8の斜視図である。インターディジタル型表面波線路8は櫛型の金属板を交互に組み合わせた形状をしている。開放端部から高周波電力を給電することにより櫛型の金属板の間に電界が生じ、表面波が励起される。
図6のようなX方向に長い線路の場合はZ方向の電界成分が最も大きい。インターディジタル型表面波線路8とスタブ型表面波線路7のような、異なる形状の表面波線路で被加熱物5を挟み込む場合でも電界結合により電力が干渉するが、同様にどちらか一方をXZ面に平行にθ(平面視45°~90°の範囲で)回転させて交差させれば干渉を低減させることができる。
図7は本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の表面波線路の断面図である。実施例として、スタブ型表面波線路7を金属板7aの上端が向かい合うように配置し、発明者らは一方の表面波線路に給電した電力がどれだけ他方の表面波線路に移るかを解析により検証した。
モデルのスタブには導電性材料としてアルミを用い、アルミ板のサイズは幅100mm、高さ25mm、厚さ2mm、間隔4mmとし、上下の表面波線路の向かい合う上端間の間隔は20mmで、一方のスタブ型表面波線路7に2400MHzの交流電圧を印加した。
表面波線路の中心からの回転角度をθ(上下の表面波線路が交差する角度θ)としたとき、一方の表面波線路に印加した電力の内、他方の表面波線路へ移った電力の割合を干渉度として図8に示す。
図8のグラフの横軸は上下の表面波線路が交差する角度θ、縦軸は一方の表面波線路から他方の表面波線路へ移った電力の割合(干渉度)である。印加電力に対して、0°のとき(例えば上記図4の状態)は移った電力の割合が8割以上(8割5分程度)であるが、約22.5°の回転で干渉度はおよそ半分となり、約45°以上回転させると電力の干渉度は1割以下となり電力の干渉がほとんどなくなる。
上下に配した表面波線路が平行だと線路上を伝送する方向が同じであるため、電力の干渉が起こり、一方の表面波線路から他方の表面波線路へ電力が移ってしまう。伝送方向が異なることによって干渉が小さくなって電力の干渉が小さくなり、表面波線路間の電力の移りがなくなる。表面波線路同士の交差角度を45°以上とすることによって被加熱物の両面を各々の表面波線路への給電量に応じた所望の加熱を行うことができる。
以上のように、本発明にかかる高周波加熱装置は被加熱物を表面波伝送線路によって挟み込み、その際平行方向に交差させることにより、極力電力の干渉がなく、それぞれ所望の加熱が可能な装置を提供できるので、オーブン加熱調理などにも応用できる。
1 高周波電力発生部
2a,2b 給電部
3a,3b 表面波線路
4 載置台
5 被加熱物
6 加熱室
7 スタブ型表面波線路
7a 金属板(アルミ板)
8 インターディジタル型表面波線路

Claims (4)

  1. マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、
    被加熱物を挟み込むように配置した少なくとも2つの表面波線路と、
    前記高周波電力発生部からの電力を前記表面波線路へ伝える給電部と、を備え、
    前記2つの表面波線路を平面視で交差させ、
    前記2つの表面波線路上に励起される表面波が互いに干渉することを減少させるように、前記2つの表面波線路上に励起される表面波の伝送方向が平面視で交差することを特徴とする高周波加熱装置。
  2. 前記2つの表面波線路の交差角度は平面視で45°以上90°以内の角度となる交差角度を有することを特徴とする請求項1記載の高周波加熱装置。
  3. 前記2つの表面波線路の表面波の伝送方向の交差角度は平面視で45°以上90°以内の角度となる交差角度を有することを特徴とする請求項記載の高周波加熱装置。
  4. 前記表面波線路は導電性材質からなる周期構造体であることを特徴とする請求項1~のいずれか1項に記載の高周波加熱装置。
JP2019062135A 2019-03-28 2019-03-28 高周波加熱装置 Active JP7178557B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019062135A JP7178557B2 (ja) 2019-03-28 2019-03-28 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019062135A JP7178557B2 (ja) 2019-03-28 2019-03-28 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020161425A JP2020161425A (ja) 2020-10-01
JP7178557B2 true JP7178557B2 (ja) 2022-11-28

Family

ID=72639725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019062135A Active JP7178557B2 (ja) 2019-03-28 2019-03-28 高周波加熱装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7178557B2 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009138954A (ja) 2007-12-03 2009-06-25 Panasonic Corp 高周波処理装置
JP2009181728A (ja) 2008-01-29 2009-08-13 Panasonic Corp マイクロ波処理装置
JP2018006102A (ja) 2016-06-30 2018-01-11 パナソニックIpマネジメント株式会社 高周波加熱装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009138954A (ja) 2007-12-03 2009-06-25 Panasonic Corp 高周波処理装置
JP2009181728A (ja) 2008-01-29 2009-08-13 Panasonic Corp マイクロ波処理装置
JP2018006102A (ja) 2016-06-30 2018-01-11 パナソニックIpマネジメント株式会社 高周波加熱装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020161425A (ja) 2020-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9876481B2 (en) Microwave processing device
JP2015195175A (ja) マイクロ波処理装置
WO2016006249A1 (ja) マイクロ波加熱装置
JP7178557B2 (ja) 高周波加熱装置
JP6967707B2 (ja) 高周波加熱装置
JP6967708B2 (ja) 高周波加熱装置
JP3064875B2 (ja) 高周波加熱装置
JP7230802B2 (ja) マイクロ波処理装置
CN103650637A (zh) 微波加热装置
JP6179814B2 (ja) マイクロ波加熱装置
WO2018037801A1 (ja) 高周波加熱装置
JP2558877B2 (ja) 高周波加熱装置
JP5169254B2 (ja) マイクロ波処理装置
JP6807523B2 (ja) 高周波加熱装置
JP7285413B2 (ja) 高周波加熱装置
WO2017056358A1 (ja) 高周波加熱装置
WO2023189941A1 (ja) 高周波加熱装置
JP2014116246A (ja) マイクロ波処理装置
JP6861332B2 (ja) 高周波加熱装置
JP2013098021A (ja) マイクロ波加熱装置
JP5102486B2 (ja) マイクロ波加熱装置
JP2014089942A (ja) マイクロ波加熱装置
JP2024025876A (ja) マイクロ波加熱装置およびグリル皿
JP5877304B2 (ja) マイクロ波加熱装置
WO2015146029A1 (ja) マイクロ波処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210802

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220614

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220802

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221004

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221017

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7178557

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151