JP7285413B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

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Description

本発明は、周期構造体からなる表面波伝送線路を備えた高周波加熱装置に関するものである。
従来、この種の高周波加熱装置は、表面波線路に対して導波管を通じて高周波電力を給電し、表面波線路上に励振される表面波を用いて加熱を行っていた(例えば、特許文献1参照)。また、表面波線路上へ表面波を励振する別の方法として、給電部の先端にアンテナを用いて、表面波線路端部から給電する方法があった(例えば、特許文献2参照)。
特開昭49-16944号公報 特開平11-329369号公報
しかしながら、前記導波管を使った従来の給電方式における構成では、装置が大型化し、使用場所や製品化の際の形態が限定されてしまうという課題を有していた。
また、前記アンテナを使った従来の給電方式における構成では、前記導波管を用いた給電構成よりも小型化はするが、前記アンテナは表面波線路端部に配置する必要があり、給電位置が限定されるという課題を有していた。
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、給電部を小型化しつつ、給電位置をある程度は任意に決めることができ、かつ加熱効率の高い高周波加熱装置を提供することを目的とする。
前記従来の課題を解決するために、本発明に関する高周波加熱装置は、マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、導電性材料からなる表面波線路と、前記高周波電力発生部から繋がる給電部と、前記給電部の先端にループアンテナと、を備え、前記ループアンテナは、前記表面波線路の側面に配置した構成とした。
上記構成によって、給電部を小型化しつつ、給電位置もある程度は任意に決めことができ、かつ効率の良い表面波加熱を行うことができる。
本発明の高周波加熱装置によれば、比較的小型な装置で効率の良い表面波加熱を行うことができる。
本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の斜視図 本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の構成図 本発明の実施の形態1における表面波線路の斜視図 本発明の実施の形態2における表面波線路の横断面図 本発明の実施の形態3における高周波加熱装置の上面図 本発明の実施の形態3におけるループアンテナ近傍の寸法を示す上面図 本発明の実施の形態4における高周波加熱装置の横断面図 本発明の実施の形態5における高周波加熱装置の上面図
第1の発明は、マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、導電性材料からなる表面波線路と、前記高周波電力発生部から繋がる給電部と、前記給電部の先端にループアンテナと、を備え、前記ループアンテナは、前記表面波線路の側面に配置した構成であり、これにより、給電部の位置を表面波線路の側方方向にある程度は任意に決めることができ、効率の良い表面波加熱を行うことができる。
第2の発明は、第1の発明において、前記表面波線路は、板状または棒状の部材が平板上に垂直かつ周期的に設けられた構成であることを特徴としている。これにより、ループアンテナから放射する電磁波が前記表面波線路と結合しやすくなり、表面波への変換効率を高めることができる。
第3の発明は、第1または2の発明において、前記表面波線路の側面と前記ループアンテナとは向かい合う構成とし、それぞれの向かい合う面が略平行であることを特徴としている。このようにすると、ループアンテナから放射する電磁波と結合しやすくなるので、効率の良い表面波加熱を行うことができる。
第4の発明は、第1~第3のいずれかの発明において、前記ループアンテナ近傍の表面波線路の部材は、他の表面波線路の部材よりも幅方向に短くしたことを特徴としている。このようにすると、ループアンテナから放射する電磁波と結合しやすくなるので、効率の良い表面波加熱を行うことができる。
第5の発明は、第1~第4のいずれかの発明において、高周波電力を反射する金属板を更に備え、前記金属板と前記表面波線路との間に前記ループアンテナを配置したことを特徴としている。このようにすると、ループアンテナから表面波線路と反対側へ放射する電力を反射して表面波線路に集中させることができ、給電効率が向上する。
第6の発明は、第1~第4のいずれかの発明において、複数の表面波線路を有し、前記複数の表面波線路間に前記ループアンテナを配置したことを特徴としている。これにより、加熱可能な面積が増え、比較的面積の大きな被加熱物であっても加熱することができる。
以下、本発明の実施の形態1~5について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の斜視図である。
図1において、マイクロ波などの高周波は高周波電力発生部1にて励振され、同軸線などの接続手段(図1では図示せず)を通じて給電部2に伝送される。なお、高周波電力発生部1は、電子レンジ等で一般的に使用されるマグネトロンであっても、半導体であってもよいものとする。
給電部2の先端にはループアンテナ3が備え付けられており、表面波線路4に向けて高周波電力を放射する構成としている。XY面を表面波線路4の前面または後面、XZ面を表面波線路4の上面または下面と定義すると、給電部2およびループアンテナ3は表面波
線路4の側面(YZ面)に面するように配置されており、ループアンテナから放射された高周波電力は、表面波線路4の近傍空間に集中する。一般に、表面波線路4に沿って伝送していく高周波を(電磁)表面波と呼ぶ。表面波線路4に励起された表面波は、図のZ方向に伝送していく電磁エネルギーをもつ波で、表面波線路4上でX方向に均一に分布し、Y方向には指数関数的に減衰する特徴を有する。
図2は本発明の実施の形態1における高周波加熱装置20の構成図である。
図2において、被加熱物5は表面波線路4の上方かつ近傍に設けられた載置台6の上に載置され、表面波線路4の近傍に集中させた高周波により被加熱物5は加熱される。被加熱物5、表面波線路4、及び載置台6は加熱室7の中に設置されるが、電波漏洩や感電などの危険性がない構成があれば、必ずしも加熱室7の中に設置する必要はない。
また本実施の形態においては、ループアンテナ3の形状は楕円形としているが、これに限られるものではなく、ループアンテナ3の形状は、円形、長方形、正方形のいずれであってもよい。給電部2及びループアンテナ3の位置は表面波線路側面部のZ方向へ任意に設定することができ、被加熱物の面積に応じて表面波線路4の長さ、幅などが変化してもよい。
図3は、本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の他の表面波線路の斜視図である。
図3(a)において、表面波線路4は、アルミニウムや銅といった金属などの導電性材料からなる板状部材8が導電性材料からなる平板上に垂直に立てられ、所定の間隔をもって周期的に設けられた周期構造体とする。このようにすると、表面波が表面波線路4上を均一的に伝送するため、被加熱物を均一に加熱することができる。
なお、周期構造体としての構成は、板状部材8のみでなく、図4(b)に示すように、棒状部材9を周期的に並べて構成しても良い。
(実施の形態2)
図4は、本発明の実施の形態2における高周波加熱装置の横断面図である。なお、実施の形態1と同一の構成については、同一の名称を付与して詳細な説明を省略する。
図4において、ループアンテナ3は表面波線路4の側面に向かい合っている。ループアンテナ3に高周波電流が流れることによって、図4の破線のような環状の磁界(破線)が発生し、磁界が表面波線路4の側面から回り込むことによって電磁誘導により導電性の表
面波線路4に誘導電流が流れる。誘導電流は表面波線路4上を伝送し、電磁界の発生を繰り返しながら、紙面垂直方向へ伝送していく。
ループアンテナ3と表面波線路4の側面が紙面上方向に向かい合っていない構成(例えば、ループアンテナ3の向きを紙面手前へ90°回転させた場合)ではループアンテナ3からの電力の放射方向が表面波線路4へほとんど向いていないため、空気中へ放射してしまい、表面波線路4に励起される表面波の励振効率は低い。
また、ループアンテナ3は、表面波線路4の側面と向かい合う面が、表面波線路4の端面と略平行である。表面波線路4が、図3上では略垂直上方向に延伸しており、ループアンテナ3もこの表面波線路4の側面と略平行に向かい合っており、このように、表面波線路4の側面とループアンテナ3の向かい合う面を略平行にすると、ループアンテナ3に高周波電流が流れることによって発生する磁界の面積を、表面波線路4に対して広く取るこ
とができるので、電磁誘導で発生する電流量を、表面波線路4に対して平行に設置されていない(例えば図1の曲面形状の)ループアンテナよりも多くすることができる。
(実施の形態3)
図5は、本発明の実施の形態3における高周波加熱装置の上面図である。なお、実施の形態1および2と同一の構成については、同一の名称を付与して詳細な説明を省略する。
図5において、表面波線路4はループアンテナ3近傍で表面波線路4を構成する部材である平板4aが幅方向に短くなるように配置している。表面波線路4に表面波を励起するには、ループアンテナ3から生じた磁界が表面波線路4の平板4aを巻き込んでいく必要があり、被加熱物5の面積が比較的大きいものの場合、平板4aの幅を広げていくと、ループアンテナ3から生じる磁界が平板4aの周りを巻き込み難くなることがわかった。
磁界が平板4aを巻くためには、ループアンテナ3近傍の平板4aの幅を他の平板4aの幅よりも短くし、ループアンテナ3から遠ざかるにつれて徐々に平板4aの幅を広げていく形状とすれば、ループアンテナ3から生じる磁界が平板4aの周りを巻き込みやすくなり、効率の良い加熱を行うことができる。
図6は、本発明の実施の形態3における高周波加熱装置のループアンテナ近傍の寸法を示す図である。ループアンテナ3と表面波線路4が最も磁界が結合しやすいように設計すればよく、平板4aの幅をA、平板4aの厚さをB、ループアンテナ3の横幅をC、ループアンテナ3の帯幅をD、ループアンテナ3と平板4aとの向かい合う面の間の距離をEとすると、(2A+B+C+D+2E)が印加する高周波電力の波長以下となるように設計すると、ループアンテナ3から生じた磁界(図6の破線)が平板4aの周りを巻くことができるので、磁界が結合しやすくなる。
ループアンテナ3の幅よりも平板4aの幅の方が長い(A>C)場合には、平板4aの幅Aを印加する高周波電力の半波長以下になるように設計すると、効率の良い加熱を行うことができる。
(実施の形態4)
図7は、本発明の実施の形態4における高周波加熱装置の横断面図である。なお、実施の形態1~3と同一の構成については、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
図7において、ループアンテナ3からみて表面波線路4のある位置とは反対側の空間に金属板10を設置している。このように、高周波電力を反射する金属板10を更に備え、金属板10と表面波線路4との間にループアンテナ3を配置すると、ループアンテナ3から放射される高周波電力のうち、表面波線路4と反対方向に放射された高周波電力を金属板10で反射し、表面波線路4の方向へ放射することができる。
このとき、ループアンテナ3の方向の中心と金属板10との距離Eを、給電する高周波の波長の略1/4の長さとすることで、ループアンテナ3から表面波線路4に向かって放射された電磁波と、金属板10で反射した電磁波の位相が等しくなる。これにより、互いに強め合うように干渉して、電磁界のピーク値はそれぞれ2倍となり、より強い電磁エネルギーを表面波線路4に入射することが出来る。
(実施の形態5)
図8は本発明の実施の形態5における高周波加熱装置の上面図である。なお、実施の形態1~4と同一の構成については、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
図8において、2つの表面波線路4はループアンテナ3の両側面に面して挟み込む形で配置している。ループアンテナ3から放射した高周波電力は両側に配置した2つの表面波線路4とそれぞれ磁界結合し、表面波として伝送していく。2つの表面波線路4上にまたがって載置台6および被加熱物5を置くことが可能で、被加熱物5の大きさに応じて表面波線路4の幅は任意に決めてよい。また、2つの表面波線路は必ずしも同一な構造でなくてもよく、用途に応じて適切なものを選んでよい。
このように、複数の表面波線路を有し、複数の表面波線路間にループアンテナを配置すると、加熱可能な面積が増え、面積の大きな被加熱物であっても全面加熱することができる。
以上のように、本発明にかかる高周波加熱装置は、導電性材料からなる表面波伝送線路を有し、表面波伝送線路の側面部からループアンテナを用いて高周波電力を給電することにより、省スペースで給電位置を任意に決めることができ、かつ効率的に加熱を行うことの可能な装置を提供できる。
1 高周波電力発生部
2 給電部
3 ループアンテナ
4 表面波線路
4a 平板
5 被加熱物
6 載置台
7 加熱室
8 板状部材
9 棒状部材
10 金属板

Claims (4)

  1. マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、
    導電性材料からなる表面波線路と、
    前記高周波電力発生部から繋がる給電部と、
    前記給電部の先端には、XY平面と平行な開口部を有し、Z方向に延びる帯幅面を有する部材で前記開口面を囲むループアンテナと、を備え、
    前記表面波線路は、
    板状の部材が平板上に垂直かつZ方向に所定の間隔をもって周期的に設けられた周期構造体、または、棒状の部材が平板上に垂直かつZ方向およびX方向に所定の間隔をもって周期的に設けられた周期構造体であって、前記表面波線路に励起された表面波はZ方向に伝送し、
    前記ループアンテナは、前記表面波線路の側面すなわちYZ面の略中央部と前記帯幅面とが向かい合うように配置され、それぞれの向かい合う面が略平行であることを特徴とする高周波加熱装置。
  2. 前記ループアンテナ近傍の表面波線路の部材は、他の表面波線路の部材よりも幅方向に短くしたことを特徴とする請求項に記載の高周波加熱装置。
  3. 高周波電力を反射する金属板を更に備え、前記金属板と前記表面波線路との間に前記ループアンテナを配置したことを特徴とする請求項1または2に記載の高周波加熱装置。
  4. 複数の表面波線路を有し、前記複数の表面波線路間に前記ループアンテナを配置したことを特徴とする請求項1または2に記載の高周波加熱装置。
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