JP7113209B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
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Description
図1は本発明の実施の形態1における高周波加熱装置の構成図、図2は同高周波加熱装置のループアンテナ近傍の斜視図である。
ループアンテナ3は表面波線路4の端部に面するように設けてあり、ループアンテナ3に高周波電流が流れることによって環状の磁界が発生し、電磁誘導により導電性の表面波線路4に誘導電流が流れる。これによって表面波が発生し、被加熱物5の加熱が行われる。
図3は本発明の実施の形態2における高周波加熱装置におけるループアンテナ近傍の横断面図である。
図4は本発明の実施の形態3における高周波加熱装置の表面波線路の斜視図である。
図6は本発明の実施の形態4における高周波加熱装置のループアンテナ近傍の横断面図である。
図8は本発明の実施の形態5における高周波加熱装置のループアンテナ近傍の横断面図である。
図9は本発明の実施の形態6における高周波加熱装置のループアンテナ近傍の横断面図である。
図10は、本発明の実施の形態7における高周波加熱装置のループアンテナ近傍の横断面図である。
2 給電部
3 ループアンテナ(平面ループアンテナ)
4 表面波線路
5 被加熱物
6 載置台
7 加熱室
8 平面ループアンテナ
9 部材
10 部材
11 金属板
12 同軸線
13 位置調節手段
Claims (6)
- 被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、導電性材料からなる表面波線路と、前記高周波電力発生部から繋がる給電部と、前記給電部の先端に設けたループアンテナとを備え、前記ループアンテナは前記表面波線路の端部に面して配置され、前記給電部は前記表面波線路の底面近傍に設けられ、前記ループアンテナは前記表面波線路の底面と同一面に接地され、前記給電部から前記ループアンテナに高周波電流が流れることにより磁界を発生させ、電磁誘導により前記表面波線路に誘導電流を流すことを特徴とする高周波加熱装置。
- 被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、マイクロ波を発生させる高周波電力発生部と、導電性材料からなる表面波線路と、前記高周波電力発生部から繋がる給電部と、前記給電部の先端に設けたループアンテナとを備え、前記ループアンテナは前記表面波線路の端部に面して配置され、前記給電部から、前記表面波線路の反対側の空間に金属板を設け、前記給電部及び前記金属板は位置調節手段によってその位置を可変可能とした高周波加熱装置。
- 前記表面波線路の端部と前記ループアンテナの向かい合う面が平行である請求項1または2に記載の高周波加熱装置。
- 前記表面波線路は、板状または棒状の部材が平板上に垂直かつ周期的に設けられた周期構造体とした請求項1~3のいずれか1項に記載の高周波加熱装置。
- 前記ループアンテナの高さは、前記表面波線路を構成する部材の高さを超えない構成である請求項4に記載の高周波加熱装置。
- 前記ループアンテナは前記表面波線路を構成する部材と平行方向に伸び、前記給電部と同一面に回帰して接地する構成である請求項1~5のいずれか1項に記載の高周波加熱装置。
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