JPWO2014076869A1 - 不揮発性記憶素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、詳細な説明に先立ち、本発明者らが実験によって得た新たな知見について説明する。なお、以下では、図14A、図14B、図14C、図15、図16を参照しながら当該知見について説明するが、これは後述の実施形態を理解するための一助とするものである。したがって、本発明はこれらの図面やその説明に限定されない。
以下、図面を参照しながら、実施の形態1に係る不揮発性記憶素子10について、より詳しく説明する。
上述したように、不揮発性記憶素子10の構造の一例が、図1において、(a)の垂直断面図、および(b)の水平断面図に示されている。
図5Aから図5F、図6Aから図6E、図7A、図7Bは、不揮発性記憶素子10または不揮発性記憶素子15の要部の製造方法の一例を示す断面図である。図6Aから図6Eには、不揮発性記憶素子10または不揮発性記憶素子15を積層方向に上方から見た平面図が付されている。不揮発性記憶素子10または不揮発性記憶素子15は、パターニングされることにより最終的には、積層方向に見て図6Aから図6Eの平面図に示される輪郭で囲まれた領域に形成される。
以下、図面を参照しながら、実施の形態2に係る不揮発性記憶素子20について説明する。
図8において、(a)は不揮発性記憶素子20の構造の一例を示す垂直断面図であり、(b)は不揮発性記憶素子20の構造の一例を示す水平断面図である。図8において、(a)は(b)のB−B線における断面を矢印方向Bに見た断面図であり、(b)は(a)のA−A線における断面を矢印方向Aに見た断面図である。垂直、水平という用語は、前述と同様の意味で用いられる。図8において、図1と同じ構成要素については同じ符号を用い、説明を省略する。
図10Aから図10Eは不揮発性記憶素子20または不揮発性記憶素子25の要部の製造方法の一例を示す断面図、および不揮発性記憶素子20または不揮発性記憶素子25を積層方向に上方から見た平面図である。不揮発性記憶素子20または不揮発性記憶素子25は、パターニングされることにより最終的には、積層方向に見て図10Aから図10Eの平面図に示される輪郭で囲まれた領域に形成される。
以下、図面を参照しながら、実施の形態3に係る不揮発性記憶素子30について説明する。
図11において、(a)は不揮発性記憶素子30の構造の一例を示す垂直断面図であり、(b)は不揮発性記憶素子30の構造の一例を示す水平断面図である。図11において、(a)は(b)のB−B線における断面を矢印方向Bに見た断面図であり、(b)は(a)のA−A線における断面を矢印方向Aに見た断面図である。垂直、水平という用語は、前述と同様の意味で用いられる。図11において、図8と同じ構成要素については同じ符号を用い、説明を省略する。
図13Aから図13Eは不揮発性記憶素子30または不揮発性記憶素子35の要部の製造方法を示す断面図、および不揮発性記憶素子30または不揮発性記憶素子35を積層方向に上方から見た上面図である。不揮発性記憶素子30または不揮発性記憶素子35は、パターニングされることにより最終的には、積層方向に見て図13Aから図13Eの平面図に示される輪郭で囲まれた領域に形成される。
100 基板
101 配線
102 第1の層間絶縁層
103 コンタクトホール
104 コンタクトプラグ、導電層
105 第1電極、導電層
106 抵抗変化層
106a 第1の抵抗変化層
106b 第2の抵抗変化層
107 第2電極、導電層
108 第2の層間絶縁層
109 コンタクトホール
110 コンタクトプラグ
111 配線
150 保護層
160 領域
161、162 辺
163 多角形
164 角度
170、171 頂点
また、初期化ブレイク動作時において、前記第1頂点に電界が集中する不揮発性記憶素子を提供できる。そのような不揮発性記憶素子は、抵抗変化層に段差を形成せずにブレイク電圧の低減を図ることができるため、微細化に適する。
また、初期化ブレイク動作時において、前記第1頂点に電界が集中する不揮発性記憶素子を提供できる。そのような不揮発性記憶素子は、抵抗変化層に段差を形成せずにブレイク電圧の低減を図ることができるため、微細化に適する。
Claims (18)
- 第1電極と、
第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に介在され、前記第1電極と前記第2電極との間に与えられる電気的信号に基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備え、
前記抵抗変化層は、第1の金属酸化物で構成され前記第1電極に接する第1の抵抗変化層と、酸素不足度が前記第1の金属酸化物の酸素不足度よりも小さい第2の金属酸化物で構成され前記第2電極に接する第2の抵抗変化層とを有し、
前記第1の抵抗変化層の前記第2の抵抗変化層に近い主面は平坦であり、
前記第2の抵抗変化層は、前記抵抗変化層の主面に垂直な方向に見て前記抵抗変化層の輪郭の内部に位置する1つの第1頂点と前記抵抗変化層の輪郭上に位置する複数の第2頂点とを有する多角形の内部領域において前記第1の抵抗変化層及び前記第2電極の双方と接し、かつ前記多角形の前記内部領域外の領域において前記第1の抵抗変化層及び前記第2電極の少なくとも一方と接していない
不揮発性記憶素子。 - 前記多角形の前記第1頂点における内角は、0度より大きくかつ90度以下であるか、または270度以上かつ360度未満である
請求項1に記載の不揮発性記憶素子。 - 前記多角形の前記内部領域外の領域において前記第1の抵抗変化層と前記第2の抵抗変化層との間に介在して保護層が設けられている
請求項1又は2に記載の不揮発性記憶素子。 - 前記多角形の前記内部領域外の領域において前記第2の抵抗変化層と前記第2電極との間に介在して保護層が設けられている
請求項1又は2に記載の不揮発性記憶素子。 - 前記多角形の前記内部領域においてのみ前記第2電極が設けられている
請求項1又は2に記載の不揮発性記憶素子。 - 前記第1金属酸化物及び前記第2金属酸化物の各々は、遷移金属酸化物又はアルミニウム酸化物である
請求項1から5の何れか1項に記載の不揮発性記憶素子。 - 前記遷移金属酸化物は、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物、及びジルコニウム酸化物のいずれかである
請求項6に記載の不揮発性記憶素子。 - 第1電極を形成する工程と、
前記第1電極上に上面が平坦な第1の抵抗変化層を形成する工程と、
前記第1の抵抗変化層上に保護層を形成する工程と、
前記保護層の一部を除去し、前記第1の抵抗変化層を露出させる工程と、
前記保護層と前記露出された第1の抵抗変化層とを被覆する第2の抵抗変化層を形成する工程と、
前記第2の抵抗変化層上に第2電極を形成する工程と、
を含む不揮発性記憶素子の製造方法。 - 前記保護層の一部を除去する工程において、前記保護層のエッチングレートが前記第1の抵抗変化層のエッチングレートよりも大きい条件で前記保護層をエッチングする
請求項8に記載の不揮発性記憶素子の製造方法。 - 前記不揮発性記憶素子は、積層方向に見てあらかじめ定められた輪郭で囲まれた領域に形成され、
前記保護層の一部を除去する工程において、前記積層方向に見て前記輪郭の内部に位置する1つの第1頂点と前記輪郭上に位置する複数の第2頂点とを有する多角形の内部領域と重なる前記保護層の部分が除去される
請求項8又は9に記載の不揮発性記憶素子の製造方法。 - 前記多角形の前記第1頂点における内角は、0度より大きくかつ90度以下であるか、または270度以上かつ360度未満である
請求項10に記載の不揮発性記憶素子の製造方法。 - 第1電極を形成する工程と、
前記第1電極上に上面が平坦な第1の抵抗変化層を形成する工程と、
前記第1の抵抗変化層上に第2の抵抗変化層を形成する工程と、
前記第2の抵抗変化層上に保護層を形成する工程と、
前記保護層の一部を除去し、前記第2の抵抗変化層を露出させる工程と、
前記保護層と前記露出された第2の抵抗変化層とを被覆する第2電極を形成する工程と、
を含む不揮発性記憶素子の製造方法。 - 前記保護層の一部を除去する工程において、前記保護層のエッチングレートが前記第2の抵抗変化層のエッチングレートよりも大きい条件で前記保護層をエッチングする
請求項12に記載の不揮発性記憶素子の製造方法。 - 前記不揮発性記憶素子は、積層方向に見てあらかじめ定められた輪郭で囲まれた領域に形成され、
前記保護層の一部を除去する工程において、前記積層方向に見て前記輪郭の内部に位置する1つの第1頂点と前記輪郭上に位置する複数の第2頂点とを有する多角形の内部領域と重なる前記保護層の部分が除去される
請求項12又は13に記載の不揮発性記憶素子の製造方法。 - 前記多角形の前記第1頂点における内角は、0度より大きくかつ90度以下であるか、または270度以上かつ360度未満である
請求項14に記載の不揮発性記憶素子の製造方法。 - 第1電極を形成する工程と、
前記第1電極上に上面が平坦な第1の抵抗変化層を形成する工程と、
前記第1の抵抗変化層上に第2の抵抗変化層を形成する工程と、
前記第2の抵抗変化層上に第2電極を形成する工程と、
前記第2電極の一部を除去する工程と、
を含む不揮発性記憶素子の製造方法。 - 前記不揮発性記憶素子は、積層方向に見てあらかじめ定められた輪郭で囲まれた領域に形成され、
前記第2電極の一部を除去する工程において、前記積層方向に見て、前記輪郭の内部に位置する1つの第1頂点と前記輪郭上に位置する複数の第2頂点とを有する多角形の内部領域と重ならない前記第2電極の部分が除去される
請求項16に記載の不揮発性記憶素子の製造方法。 - 前記多角形の前記第1頂点における内角は、0度より大きくかつ90度以下であるか、または270度以上かつ360度未満である
請求項17に記載の不揮発性記憶素子の製造方法。
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