JPWO2014065176A1 - 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 - Google Patents
重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2014065176A1 JPWO2014065176A1 JP2014543251A JP2014543251A JPWO2014065176A1 JP WO2014065176 A1 JPWO2014065176 A1 JP WO2014065176A1 JP 2014543251 A JP2014543251 A JP 2014543251A JP 2014543251 A JP2014543251 A JP 2014543251A JP WO2014065176 A1 JPWO2014065176 A1 JP WO2014065176A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- substituent
- polymerizable compound
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 Cc1c(*)c2c(*)c(*)c(*)c(*)c2c(*)c1* Chemical compound Cc1c(*)c2c(*)c(*)c(*)c(*)c2c(*)c1* 0.000 description 5
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D277/38—Nitrogen atoms
- C07D277/50—Nitrogen atoms bound to hetero atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
- C08F222/104—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of tetraalcohols, e.g. pentaerythritol tetra(meth)acrylate
- C08F222/1045—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of tetraalcohols, e.g. pentaerythritol tetra(meth)acrylate of aromatic tetraalcohols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
- C08F222/24—Esters containing sulfur
- C08F222/245—Esters containing sulfur the ester chains containing seven or more carbon atoms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/08—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of polarising materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
- G02F1/133633—Birefringent elements, e.g. for optical compensation using mesogenic materials
Abstract
Description
しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対して各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、全ての波長領域において正確な1/4λ又は1/2λの位相差に調整することが不可能であることに起因する。
このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている(特許文献1〜6)。
薄層化の方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性組成物を塗布することにより位相差板を作成する方法が、近年では最も有効な方法とされている。優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物又はそれを用いた重合性組成物の開発が多く行われている(特許文献7〜24)。
(1)下記式(I)
G1、G2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族基を表す〔該脂肪族基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR2−C(=O)−、−C(=O)−NR2−、−NR2−、又は、−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−又は−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、R2は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。〕。
Z1、Z2はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2〜10のアルケニル基を表す。
Axは下記式(II)
Ayは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、又は、前記式(II)で表される基を示す。
A1は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
A2、A3はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
A4、A5はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数4〜30の二価の芳香族基を表す。
Q1は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。m、nはそれぞれ独立して、0又は1を表す。〕で示される重合性化合物。
(4)前記Y1〜Y8がそれぞれ独立して、化学的な単結合、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、又は、−O−C(=O)−O−である(1)に記載の重合性化合物。
(5)前記Z1、Z2がそれぞれ独立して、CH2=CH−、CH2=C(CH3)−、又は、CH2=C(Cl)−である(1)に記載の重合性化合物。
(6)前記G1、G2がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の2価の脂肪族基〔該脂肪族基には、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−又は−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−が2以上隣接して介在する場合を除く。〕である(1)に記載の重合性化合物。
(8)前記(1)〜(7)のいずれかに記載の重合性化合物を少なくとも1種類含有する重合性組成物。
(9)前記(1)〜(7)のいずれかに記載の重合性化合物、及び重合開始剤を含有する重合性組成物。
(11)液晶性高分子である(10)に記載の高分子。
(12)前記(11)に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とするため、低コストで得られ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいくものである。
その具体的な実用例としては、本発明のフィルム状の光学異方体を偏光板と組み合わせることで反射防止フィルムを作製することができる。このものは、産業上例えばタッチパネルや有機電界発光素子の反射防止に好適に使用することができる。
本発明の重合性化合物は、前記式(I)で表される化合物(化合物(I))である。
式中、Y1〜Y8はそれぞれ独立して、化学的な単結合、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR1−C(=O)−、−C(=O)−NR1−、−O−C(=O)−NR1−、−NR1−C(=O)−O−、−NR1−C(=O)−NR1−、−O−NR1−、又は、−NR1−O−を表す。
R1の炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−へキシル基等が挙げられる。
R1としては、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。
炭素数1〜20の2価の脂肪族基としては、鎖状構造を有する2価の脂肪族基;飽和環状炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和環状炭化水素(シクロアルケン)構造等の脂環式構造を有する2価の脂肪族基;等が挙げられる。
前記脂肪族基に介在する基としては、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−C(=O)−が好ましい。
該アルケニル基の炭素数としては、2〜6が好ましい。Z1及びZ2のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
式(II)中、Xは窒素原子又は炭素原子を表し、窒素原子が好ましい。
式(II)中、Ra、Rbはそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜18のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の芳香族複素環基を表す。
Ra、Rbの、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基の炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−へキシル基、イソヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−イコシル基等が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数1〜20のアルキル基の炭素数は、1〜12であることが好ましく、1〜6であることが更に好ましい。
置換基を有していてもよい炭素数1〜20の芳香族複素環基の芳香族複素環基としては、ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基等の単環の芳香族複素環基;ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、キノリン環基、フタラジン環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾピラゾール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基等の縮合環の芳香族複素環基;等が挙げられる。
RXは、水素原子;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基等の炭素数1〜6のアルキル基;シアノ基;ニトロ基;メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基等の炭素数1〜6のアルキルスルフィニル基;メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等の炭素数1〜6のアルキルスルホニル基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロメチル基等の炭素数1〜6のフルオロアルキル基;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基等の炭素数1〜6のアルキルチオ基;メチルアミノ基、エチルアミノ基等のモノ置換アミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジ置換アミノ基;メチルスルファモイル基等の炭素数1〜6のアルキルスルファモイル基;ジメチルスルファモイル基等の炭素数2〜12のジアルキルスルファモイル基;又は、−C(=O)−O−R6を表す。ここで、R6は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
RXはすべて水素原子であるのが好ましい。
式(II−1)〜(II−5)で表される基の中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、式(II−3)、(II−4)で表される基が好ましい。
式(II−3)で表される基としては、例えば、下記式
で表される基等が挙げられる。
式(II−4)で表される基としては、例えば、下記式
で表される基等が挙げられる。
Axとしては、下記式で表される基が好ましく、
下記式で表される基がより好ましく、
下記式で表される基が特に好ましい。
これらの中でも、Ayとしては、水素原子であるのが好ましい。
なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Y1、Y2を便宜上記載している(Y1、Y2は、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。)。
炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基としては、炭素数3〜30のシクロアルカンジイル基、炭素数10〜30の二価の脂環式縮合環基等が挙げられる。
前記炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基は、Y1、Y3(又はY2、Y4)と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型、トランス型の立体異性体が存在し得る。例えば、シクロヘキサン−1,4−ジイル基の場合には、下記に示すように、シス型の異性体(A32a)とトランス型の異性体(A32b)が存在し得る。
A4、A5の芳香族基は単環のものであっても、多環のものであってもよい。
A4、A5の具体例としては、下記のものが挙げられるが、これらに限定されない。
置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、前記AXで例示したのと同様のものが挙げられる。
これらの中でも、Q1は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。
また、m、nはそれぞれ独立して、0又は1を表し、双方が0であることが好ましい。
なお、本発明化合物には、炭素−窒素二重結合に基づく立体異性体が存在し得るが、これらはすべて本発明に含まれる。
(1)製造方法1
本発明の重合性化合物のうち、Ayが水素原子で、AxのXが窒素原子である化合物である化合物である、下記式(Ia)で表される化合物は、次のようにして製造することができる。
すなわち、先ず、式(4)で表されるカルボニル化合物(カルボニル化合物(4))に、当モルのチオセミカルバジド塩酸塩(1)を加えて反応させ(反応1)、次いで、当モルの式(2)で表される化合物(化合物(2))を加えて反応させること(反応2)により、目的とする本発明の式(Ia)で示される重合性化合物を製造することができる。
これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
本発明の重合性化合物(I)は、下記に示す反応によっても製造することができる。
すなわち、式(5)で表されるヒドラジン化合物(ヒドラジン化合物(5))を、式(4)で表されるカルボニル化合物(カルボニル化合物(4))と、〔ヒドラジン化合物(5):カルボニル化合物(4)〕のモル比で、1:2〜2:1、好ましくは1:1.5〜1.5:1の割合で反応させることにより、高選択的かつ高収率で目的とする本発明の式(I)で示される重合性化合物を製造することができる。
これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール等のアルコール系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;及びこれらの2種以上からなる混合溶媒;等が挙げられる。
これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
反応は、−10℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
金属塩還元剤とは、一般に低原子価金属を含む化合物、もしくは金属イオンとヒドリド源からなる化合物である(「有機合成実験法ハンドブック」1990年社団法人有機合成化学協会編 丸善株式会社発行810ページを参照)。
金属塩還元剤としては、NaAlH4、NaAlHp(Or)q(p、qはそれぞれ独立して1〜3の整数を表し、p+q=4である。rは炭素数1〜6のアルキル基を表す。)、LiAlH4、iBu2AlH、LiBH4、NaBH4、SnCl2、CrCl2、TiCl3等が挙げられる。
また、ジアゾニウム塩(8)は、アニリン等の化合物から常法により製造することができる。
(i)式:D1−hal(halはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。)で表される化合物と、式:D2−OMet(Metはアルカリ金属(主にナトリウム)を表す。以下にて同じ。)で表される化合物とを混合して縮合させる(ウイリアムソン合成)。なお、式中、D1及びD2は任意の有機基を表す(以下にて同じ。)
(ii)式:D1−halで表される化合物と、式:D2−OHで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
(iii)式:D1−J(Jはエポキシ基を表す。)で表される化合物と、式:D2−OHで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
(iv)式:D1−OFN(OFNは不飽和結合を有する基を表す。)で表される化合物と、式:D2−OMetで表される化合物を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して付加反応させる。
(v)式:D1−halで表される化合物と、式:D2−OMetで表される化合物とを、銅又は塩化第一銅存在下、混合して縮合させる(ウルマン縮合)。
(vi)式:D1−COOHで表される化合物と、式:D2−OH又はD2−NH2で表される化合物とを、脱水縮合剤(N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド等)の存在下に脱水縮合させる。
(vii)式:D1−COOHで表される化合物にハロゲン化剤を作用させることにより、式:D1−CO−halで表される化合物を得、このものと式:D2−OH又はD2−NH2で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる。
(viii)式:D1−COOHで表される化合物に酸無水物を作用させることにより、混合酸無水物を得た後、このものに、式:D2−OH又はD2−NH2で表される化合物を反応させる。
(ix)式:D1−COOHで表される化合物と、式:D2−OH又はD2−NH2で表される化合物とを、酸触媒又は塩基触媒の存在下に脱水縮合させる。
脱水縮合剤の使用量は、化合物(10)1モルに対し、通常1〜3モルである。
用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
塩基の使用量は、化合物(10)1モルに対し、通常1〜3モルである。
化合物(10)が、式(10)中、Lがメタンスルホニルオキシ基、又はp−トルエンスルホニルオキシ基の化合物(混合酸無水物)である場合もハロゲン原子の場合と同様である。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ジヒドロキシ化合物(9)1gに対し、通常1〜50gである。
本発明の第2は、本発明の重合性化合物、及び重合開始剤を含有する重合性組成物である。重合開始剤は本発明の重合性化合物の重合反応をより効率的に行う観点から配合される。
「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の重合性組成物において、重合開始剤の配合割合は、重合性化合物100重量部に対し、通常、0.1〜30重量部、好ましくは0.5〜10重量部である。
本発明の第3は、(1)本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子、又は、(2)本発明の重合性組成物を重合して得られる高分子である。
ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。
本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子としては、本発明の重合性化合物の単独重合体、本発明の重合性化合物の2種以上からなる共重合体、又は、本発明の重合性化合物と他の共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。
市販品としては、LC−242(BASF社製)等を用いることができる。また、特開2007−002208号公報、特開2009−173893号公報、特開2009−274984号公報、特開2010−030979号公報、特開2010−031223号公報、特開2011−006360号公報等に開示されている化合物等も用いることができる。
このような多官能単量体としては、1,2−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジアクリレート類;1,2−ブタンジオールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタリレート等のアルカンジオールジメタクリレート類;エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレート類;プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート等のポリプロピレングリコールジアクリレート類;エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート等のポリエチレングリコールジメタクリレート類;プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート等のポリプロピレングリコールジメタクリレート類;エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル等のポリエチレングリコールジビニルエーテル類;エチレングリコールジアリルエーテル、ジエチレングリコールジアリルエーテル、トリエチレングリコールジアリルエーテル、テトラエチレングリコールジアリルエーテル等のポリエチレングリコールジアリルエーテル類;ビスフェノールFエトキシレートジアクリレート;ビスフェノールFエトキシレートジメタクリレート;ビスフェノールAエトキシレートジアクリレート;ビスフェノールAエトキシレートジメタクリレート;トリメチロールプロパントリアクリレート;トリメチロールプロパントリメタクリレート;トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート;トリメチロールプロパンエトキシレートトリメタクリレート;トリメチロールプロパンプロポキシレートトリアクリレート;トリメチロールプロパンプロポキシレートトリメタクリレート;イソシアヌル酸エトキシレートトリアクリレート;グリセロールエトキシレートトリアクリレート;グリセロールプロポキシレートトリアクリレート;ペンタエリスリトールエトキシレートテトラアクリレート;ジトリメチロールプロパンエトキリレートテトラアクリレート;ジペンタエリスリトールエトキシレートヘキサアクリレート等が挙げられる。
用いる重合開始剤としては、前記重合性組成物の成分として例示したのと同様のものが挙げられる。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
基板としては、有機材料が好ましく、この有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。
本発明の重合性組成物を重合することにより、本発明の高分子を容易に得ることができる。本発明においては、重合反応をより効率的に行う観点から、前記したような重合開始剤、特に光重合開始剤を含む重合性組成物を用いるのが好ましい。
本発明の高分子によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とする。
本発明の光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、本発明の高分子からなる液晶層を形成することによって、得ることができる。
配向膜は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有する溶液(配向膜用組成物)を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは0.001〜5μmであることが好ましく、0.001〜1μmであることがさらに好ましい。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。
本発明の光学異方体としては、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等が挙げられる。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1のステップ1で合成した中間体A 3.75g(5.45mmol)とTHF30mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、エタノール90mlとチオセミカルバジド塩酸塩 0.7g(5.45mmol)を加え、全容を25℃で2時間攪拌した。その後、2−クロロ−2−フェニルアセトフェノン 1.25g(5.45mmol)を加え、60℃でさらに3時間攪拌した。反応終了後、反応液に、蒸留水200mlと飽和食塩水70mlを加え、酢酸エチル300mlで2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液を減圧濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=97:3)により精製し、淡黄色固体として化合物2を1.15g得た(収率:22%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例1のステップ1で合成した中間体A 10.5g(15.3mmol)、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 3.0g(18.3mmol)、及びテトラヒドロフラン(THF)80mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、(±)−10−カンファースルホン酸18mg(0.08mmol)を加え、全容を25℃にて3時間撹拌した。反応終了後、反応液を10%重曹水800mlに投入し、酢酸エチル100mlで2回抽出した。酢酸エチル層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2(体積比))により精製し、淡黄色固体として化合物Aを8.0g得た(収率:62.7%)。
目的物の構造は1H−NMR、マススペクトルで同定した。
化合物1、2、1r及び2rを、それぞれ10mg計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板(商品名:配向処理ガラス基板;E.H.C.Co.,Ltd.製)2枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、40℃から200℃まで昇温した後、再び40℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏光光学顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE LV100POL型)で観察した。測定した相転移温度を下記表1に示す。
実施例1で得られた化合物1 0.5g、合成例2で得られた化合物A 0.5g、光重合開始剤として、アデカオプトマーN−1919(ADEKA社製、以下にて同じ。)を30mg、及び、界面活性剤として、KH−40(AGCセイミケミカル社製、以下にて同じ。)の1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.2gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物1を得た。
実施例2で得られた化合物2 0.5g、合成例2で得られた化合物A 0.5g、光重合開始剤として、アデカオプトマーN−1919を30mg、及び、界面活性剤として、KH−40の1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.2gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物2を得た。
参考例1の化合物1r、及び参考例2の化合物2rのそれぞれを1g、光重合開始剤として、アデカオプトマーN−1919を30mg、及び、界面活性剤として、KH−40の1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物1r及び2rをそれぞれ得た。
(i)重合性組成物による液晶層の形成
ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板(商品名:配向処理ガラス基板;E.H.C.Co.,Ltd.製)に、重合性組成物1、2、1r、2rのそれぞれを、♯4のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表2に示す温度で30秒間乾燥した後、表2に示す温度で1分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cm2の紫外線を照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
得られた試料につき、400nmから800nm間の位相差を、エリプソメーター(J.A.Woollam社製 M2000U型)を用いて測定した。
測定した位相差を用いて以下のように算出されるα、β値から波長分散を評価した。
即ち、αとβが同程度の値となるフラットな波長分散性が好ましく、αが1より小となり、βが1より大となる逆波長分散性が特に好ましい。
Claims (12)
- 下記式(I)
G1、G2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族基を表す〔該脂肪族基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR2−C(=O)−、−C(=O)−NR2−、−NR2−、又は、−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−又は−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、R2は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。〕。
Z1、Z2はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2〜10のアルケニル基を表す。
AXは下記式(II)
Ayは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、又は、前記式(II)で表される基を示す。
A1は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
A2、A3はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
A4、A5はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数4〜30の二価の芳香族基を表す。
Q1は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。m、nはそれぞれ独立して、0又は1を表す。}
で示される重合性化合物。 - 前記式(II)中、Ra、Rbがそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜18のシクロアルキル基、又は、下記式(II−1)〜(II−5)
- 前記A1が、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基であり、A4、A5が、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、フェニレン基又はナフチレン基である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記Y1〜Y8が、それぞれ独立して、化学的な単結合、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、又は、−O−C(=O)−O−である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記Z1、Z2が、それぞれ独立して、CH2=CH−、CH2=C(CH3)−、又は、CH2=C(Cl)−である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記G1、G2がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の2価の脂肪族基〔該脂肪族基には、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−又は−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−が2以上隣接して介在する場合を除く。〕である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記G1、G2がそれぞれ独立して、炭素数1〜12の2価のアルキレン基である請求項1に記載の重合性化合物。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の重合性化合物を少なくとも1種類含有する重合性組成物。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の重合性化合物、及び重合開始剤を含有する重合性組成物。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の重合性化合物、又は、請求項8若しくは請求項9に記載の重合性組成物を重合して得られる高分子。
- 液晶性高分子である請求項10に記載の高分子。
- 請求項11に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012233672 | 2012-10-23 | ||
JP2012233672 | 2012-10-23 | ||
PCT/JP2013/078103 WO2014065176A1 (ja) | 2012-10-23 | 2013-10-16 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017170590A Division JP6544400B2 (ja) | 2012-10-23 | 2017-09-05 | 化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014065176A1 true JPWO2014065176A1 (ja) | 2016-09-08 |
JP6206414B2 JP6206414B2 (ja) | 2017-10-04 |
Family
ID=50544556
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014543251A Active JP6206414B2 (ja) | 2012-10-23 | 2013-10-16 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
JP2017170590A Active JP6544400B2 (ja) | 2012-10-23 | 2017-09-05 | 化合物の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017170590A Active JP6544400B2 (ja) | 2012-10-23 | 2017-09-05 | 化合物の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9777096B2 (ja) |
EP (1) | EP2913349B1 (ja) |
JP (2) | JP6206414B2 (ja) |
KR (1) | KR102111538B1 (ja) |
CN (1) | CN104755513B (ja) |
WO (1) | WO2014065176A1 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107253935B (zh) | 2012-07-09 | 2020-10-09 | 日本瑞翁株式会社 | 肼化合物、聚合性化合物的制备方法及将肼化合物作为聚合性化合物的制造原料使用的方法 |
KR102315630B1 (ko) * | 2013-10-31 | 2021-10-20 | 제온 코포레이션 | 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체 |
KR20170068529A (ko) | 2014-10-09 | 2017-06-19 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 중합성 화합물 및 광학 이방체 |
KR102624959B1 (ko) * | 2014-12-04 | 2024-01-16 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 중합성 화합물, 조성물, 중합체, 광학 이방체, 액정 표시 소자 및 유기 el 소자 |
US11261378B2 (en) | 2014-12-25 | 2022-03-01 | Dic Corporation | Polymerizable compound and optically anisotropic object |
WO2016114348A1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | 重合性組成物及び光学異方体 |
EP3246340B1 (en) * | 2015-01-16 | 2019-10-09 | DIC Corporation | Polymerizable composition and optically anisotropic body using same |
CN107108775B (zh) | 2015-01-16 | 2019-12-13 | Dic株式会社 | 聚合性组合物和使用该聚合性组合物的光学各向异性体 |
US11186669B2 (en) | 2015-01-16 | 2021-11-30 | Dic Corporation | Polymerizable composition and optically anisotropic body using same |
CN107207419B (zh) * | 2015-02-24 | 2021-03-09 | Dic株式会社 | 聚合性化合物和光学各向异性体 |
WO2016194999A1 (ja) * | 2015-06-03 | 2016-12-08 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
WO2017057005A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 日本ゼオン株式会社 | 光学フィルム及びその製造方法 |
US20180346614A1 (en) * | 2015-11-25 | 2018-12-06 | Dic Corporation | Polymerizable composition and optically anisotropic body using same |
US11046889B2 (en) | 2015-12-08 | 2021-06-29 | Dic Corporation | Polymerizable compound and optically anisotropic body |
KR20190078591A (ko) | 2016-11-22 | 2019-07-04 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물 |
WO2018123622A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 日本ゼオン株式会社 | 混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム、並びに、混合物の製造方法 |
JP7067486B2 (ja) | 2016-12-27 | 2022-05-16 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性液晶混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、および化合物 |
EP3597643A4 (en) | 2017-03-17 | 2020-08-12 | Zeon Corporation | POLYMERIZABLE COMPOUND, POLYMERIZABLE LIQUID CRYSTAL MIXTURE, POLYMER, OPTICAL FILM, OPTICALLY ANISOTROPIC BODY, POLARIZING PLATE, DISPLAY DEVICE, ANTI-REFLECTIVE FILM AND COMPOUND |
CN110392703B (zh) * | 2017-03-23 | 2022-02-01 | 日本瑞翁株式会社 | 聚合性化合物及其制造方法、聚合性组合物、高分子、光学膜、光学各向异性体 |
US11492552B2 (en) | 2017-08-23 | 2022-11-08 | Zeon Corporation | Polymerizable liquid crystal material, polymerizable liquid crystal composition, polymer, optical film, optically anisotropic body, polarizing plate, anti-reflection film, display device, and method of producing polymerizable liquid crystal composition |
KR20210136981A (ko) * | 2019-03-01 | 2021-11-17 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | 이방성 색소막 형성용 조성물, 이방성 색소막, 및 광학 소자 |
CN113727850B (zh) * | 2019-04-26 | 2023-09-12 | 国立大学法人北海道大学 | 稀土类络合物、稀土类络合物溶液、发光性成型体、制造发光性物品的方法、发光片和农业用塑料大棚 |
CN112480027B (zh) * | 2019-09-12 | 2023-08-29 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 聚合性化合物、聚合性组合物、聚合物、光学各向异性体、液晶显示器件 |
CN114096568B (zh) * | 2019-10-28 | 2023-08-18 | 株式会社艾迪科 | 组合物、固化物、固化物的制造方法及添加剂 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008291218A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-12-04 | Nippon Zeon Co Ltd | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体 |
JP2009149754A (ja) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 重合性化合物および該重合性化合物を重合してなる光学フィルム |
JP2011006360A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
WO2012141245A1 (ja) * | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5567349A (en) | 1994-03-30 | 1996-10-22 | Hoffmann-La Roche Inc. | Photo cross-linkable liquid crystals |
US6139771A (en) | 1997-04-04 | 2000-10-31 | Displaytech, Inc. | Mesogenic materials with anomalous birefringence dispersion and high second order susceptibility (X.sup.(2)). |
JPH1090521A (ja) | 1996-07-24 | 1998-04-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光軸回転積層位相差板およびこれを用いた投射型液晶表示装置 |
JPH1068816A (ja) | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Sharp Corp | 位相差板及び円偏光板 |
JPH1152131A (ja) | 1997-08-01 | 1999-02-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 位相差板及びそれを用いた偏光素子 |
EP1045261B1 (en) | 1998-10-30 | 2005-02-02 | Teijin Limited | Phase difference film and optical device using it |
JP3734211B2 (ja) | 1999-01-27 | 2006-01-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置 |
US6400433B1 (en) | 1998-11-06 | 2002-06-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Circularly polarizing plate comprising linearly polarizing membrane and quarter wave plate |
DE19855757A1 (de) | 1998-12-03 | 2000-06-21 | Merck Patent Gmbh | Querverbrückte Cyclohexan-Derivate und flüssigkristallines Medium |
JP2001004837A (ja) | 1999-06-22 | 2001-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 位相差板および円偏光板 |
GB2359809B (en) * | 1999-12-24 | 2004-01-14 | Sumitomo Chemical Co | Phenylacetylene compound liquid crystal composition, polymer optically anisotropic product, and liquid crystal or optical element |
JP4320125B2 (ja) | 2001-03-06 | 2009-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 位相差膜 |
JP4074155B2 (ja) | 2001-09-17 | 2008-04-09 | 富士フイルム株式会社 | 四員環化合物、それを用いた複屈折媒体および光学部材 |
US6958797B2 (en) * | 2002-07-23 | 2005-10-25 | Nitto Denko Corporation | Optical film having low chromaticity variation and quarter wavelength plate, and liquid crystal display using the same |
JP2005208416A (ja) | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Nitto Denko Corp | 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置 |
JP2005208415A (ja) | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Nitto Denko Corp | 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置 |
JP2005208414A (ja) | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Nitto Denko Corp | 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置 |
JP4606195B2 (ja) | 2004-03-08 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板 |
JP2005336103A (ja) | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | フェニルヒドラジン類の製造方法 |
JP4186980B2 (ja) | 2004-11-11 | 2008-11-26 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム |
DE112005002754T5 (de) | 2004-11-11 | 2007-09-20 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Optischer Film |
JP5088769B2 (ja) | 2005-04-28 | 2012-12-05 | 住友化学株式会社 | フィルム及びその製造方法 |
WO2006118073A1 (ja) | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | フィルム及びその製造方法 |
CN101361011A (zh) * | 2005-11-05 | 2009-02-04 | 3M创新有限公司 | 包括高折射率涂层和抗反射涂层的光学薄膜 |
CN101687778B (zh) | 2007-04-24 | 2013-09-25 | 日本瑞翁株式会社 | 聚合性液晶化合物、聚合性液晶组合物、液晶高分子及光学各向异性体 |
CN101796163B (zh) | 2007-09-03 | 2014-06-18 | 默克专利股份有限公司 | 棒状介晶化合物 |
EP2183337B1 (en) * | 2007-09-03 | 2011-07-20 | Merck Patent GmbH | Fluorene derivatives |
CN101452090A (zh) * | 2007-12-05 | 2009-06-10 | 住友化学株式会社 | 组合物、由该组合物得到的共聚物和光学膜以及该光学膜的制造方法 |
JP2010116528A (ja) * | 2007-12-21 | 2010-05-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学フィルム及び該光学フィルムの製造方法 |
JP5453798B2 (ja) | 2007-12-28 | 2014-03-26 | 住友化学株式会社 | 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法 |
JP5391682B2 (ja) | 2007-12-28 | 2014-01-15 | 住友化学株式会社 | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
KR20090081333A (ko) * | 2008-01-23 | 2009-07-28 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 광학 필름 및 그 광학 필름의 제조 방법 |
JP5373293B2 (ja) | 2008-01-29 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 化合物、液晶組成物及び異方性材料 |
JP2009274984A (ja) | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法 |
WO2010001725A1 (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子及び光学異方体 |
JP5453956B2 (ja) | 2009-06-26 | 2014-03-26 | 住友化学株式会社 | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
JP2011042606A (ja) | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
KR101985943B1 (ko) | 2011-04-27 | 2019-06-04 | 제온 코포레이션 | 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체 |
WO2013018526A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 日本ゼオン株式会社 | 光学異方体の波長分散調整方法及び重合性組成物 |
JP6123673B2 (ja) | 2011-09-27 | 2017-05-10 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物の製造中間体及びその製造方法 |
-
2013
- 2013-10-16 US US14/437,748 patent/US9777096B2/en active Active
- 2013-10-16 KR KR1020157008225A patent/KR102111538B1/ko active IP Right Grant
- 2013-10-16 JP JP2014543251A patent/JP6206414B2/ja active Active
- 2013-10-16 WO PCT/JP2013/078103 patent/WO2014065176A1/ja active Application Filing
- 2013-10-16 EP EP13848209.6A patent/EP2913349B1/en active Active
- 2013-10-16 CN CN201380055206.8A patent/CN104755513B/zh active Active
-
2017
- 2017-09-05 JP JP2017170590A patent/JP6544400B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008291218A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-12-04 | Nippon Zeon Co Ltd | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体 |
JP2009149754A (ja) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 重合性化合物および該重合性化合物を重合してなる光学フィルム |
JP2011006360A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
WO2012141245A1 (ja) * | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2913349B1 (en) | 2019-06-19 |
JP6544400B2 (ja) | 2019-07-17 |
KR20150079579A (ko) | 2015-07-08 |
JP6206414B2 (ja) | 2017-10-04 |
EP2913349A4 (en) | 2016-04-06 |
EP2913349A1 (en) | 2015-09-02 |
CN104755513A (zh) | 2015-07-01 |
US9777096B2 (en) | 2017-10-03 |
US20150274872A1 (en) | 2015-10-01 |
KR102111538B1 (ko) | 2020-05-15 |
JP2018048315A (ja) | 2018-03-29 |
WO2014065176A1 (ja) | 2014-05-01 |
CN104755513B (zh) | 2016-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6206414B2 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
JP6183514B2 (ja) | 光学フィルム | |
JP6544399B2 (ja) | 化合物 | |
JP6206481B2 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
JP6439825B2 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、フラットパネル表示装置および反射防止フィルム | |
JP6485354B2 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
JP6428637B2 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
JP6222085B2 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
JP6575360B2 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
WO2012169424A1 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
WO2012141245A1 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
JPWO2015122384A1 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 | |
WO2012176679A1 (ja) | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160930 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20161007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170425 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170711 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170720 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170808 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170821 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6206414 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |