JP6575360B2 - 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 - Google Patents

Description

本発明は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを作製することができる、重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体に関する。

従来、フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）は、偏光板、位相差板等の光学フィルムを用いることにより高精細な表示が可能であることから、優れた表示デバイスとして広く使用されている。
しかし、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が、有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。この問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている（例えば、特許文献１〜６）。

一方、モバイルパソコン、携帯電話等の携帯型の情報端末の高機能化及び普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められてきている。その結果、構成部材である位相差板の薄層化も求められている。薄層化の方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性組成物を塗布することにより位相差板を作成する方法が有力視されている。そして、優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物及びそれを用いた重合性組成物がいくつか提案されている（特許文献７〜２４）。

しかしながら、これらの文献記載の低分子重合性化合物又は重合性組成物は、逆波長分散性が不十分であったり、高い融点を有しているため、フィルムに塗布することが困難であったり、液晶性を示す温度範囲が極端に狭かったり、工業的プロセスにおいて一般に使用される溶媒への溶解度が低かったりするなど、性能面で多くの課題を有するものである。また、これらの低分子重合性化合物等は、高価な試薬を用いる合成法を駆使し、多段階で合成されるものであることから、コスト面でも課題を有している。

特開平１０−６８８１６号公報 特開平１０−９０５２１号公報 特開平１１−５２１３１号公報 特開２０００−２８４１２６号公報（ＵＳ２００２０１５９００５Ａ１） 特開２００１−４８３７号公報 国際公開第２０００／０２６７０５号 特開２００２−２６７８３８号公報 特開２００３−１６０５４０号公報（ＵＳ２００３０１０２４５８Ａ１） 特開２００５−２０８４１４号公報 特開２００５−２０８４１５号公報 特開２００５−２０８４１６号公報 特開２００５−２８９９８０号公報（ＵＳ２００７０１７６１４５Ａ１） 特開２００６−３３０７１０号公報（ＵＳ２００９００７２１９４Ａ１） 特開２００９−１７９５６３号公報（ＵＳ２００９０１８９１２０Ａ１） 特開２０１０−３１２２３号公報 特開２０１１−６３６０号公報 特開２０１１−６３６１号公報 特開２０１１−４２６０６号公報 特表２０１０−５３７９５４号公報（ＵＳ２０１００２０１９２０Ａ１） 特表２０１０−５３７９５５号公報（ＵＳ２０１００３０１２７１Ａ１） 国際公開第２００６／０５２００１号（ＵＳ２００７０２９８１９１Ａ１） 米国特許第６，１３９，７７１号 米国特許第６，２０３，７２４号 米国特許第５，５６７，３４９号

本発明は、上記した従来技術に鑑みてなされたものであり、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与え得る、実用的な熱特性を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能な新しい重合性化合物等を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した。その結果、下記式（Ｉ）で表される重合性化合物を、通常分散性を有する高分子を与える重合性化合物とともに共重合させることにより、逆波長分散性を有する高分子を容易に得ることができ、得られる高分子を構成材料とする光学異方体を用いると、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。

かくして本発明によれば、（１）〜（７）の重合性化合物、（８）の重合性組成物、（９）の高分子、及び（１０）の光学異方体が提供される。
（１）下記一般式（Ｉ）

｛式中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立して、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｘは、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２の二価の芳香族基を表す。
Ａ^ｘは、下記一般式（ＩＩ）

〔式中、＊は結合位置を示す。
Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘはそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の２価の脂肪族基を表す。該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２−、−ＮＲ^２−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘはそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａ^１ｘは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の二価の芳香族基を示す。〕で表される基を示す。
Ａ^ｙは、下記一般式

〔Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙはそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−Ｏ−ＮＲ^３−、又は−ＮＲ^３−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の２価の脂肪族基を表す。該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^４−、−ＮＲ^４−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ^４は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙはそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａ^１ｙは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ^２ｙ、Ａ^３ｙはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の芳香族基を表す。〕で表される基を示す。
ｎは０又は１を表す。}
で示される重合性化合物。

（２）前記Ａ^１ｘ、Ａ^１ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基であり、前記Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘ、Ａ^２ｙ〜Ａ^５ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、フェニレン基又はナフチレン基である（１）に記載の重合性化合物。
（３）前記Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘ、Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙが、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−である（１）又は（２）に記載の重合性化合物。
（４）前記Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘ、Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙが、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−である（１）〜（３）のいずれかに記載の重合性化合物。

（５）前記Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘ、Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１２の二価の脂肪族基（該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）である（１）〜（４）のいずれかに記載の重合性化合物。
（６）前記Ｘが、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基である（１）〜（５）のいずれかに記載の重合性化合物。

（７）前記Ａ^１ｘ、Ａ^１ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘ、Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘ、Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙが、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘ、Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙが、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘ、Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙが、それぞれ独立して、炭素数１〜１２の２価のアルキレン基である（１）〜（６）のいずれかに記載の重合性化合物。

（８）（１）〜（７）のいずれかに記載の重合性化合物の少なくとも１種、及び重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
（９）（１）〜（７）のいずれかに記載の重合性化合物、又は（８）に記載の重合性組成物を重合して得られる高分子。
（１０）（９）に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。

本発明の重合性化合物は、他の、通常分散性を有している重合性化合物に添加するだけで逆波長分散性を付与することができる。
よって、本発明の重合性化合物、当該重合性化合物を用いる重合性組成物及び高分子を用いることにより、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。
本発明の光学異方体は本発明の高分子を構成材料とするため、このものを用いることにより、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを、簡便に、且つ、低コストで製造することができる。その具体的な実用例としては、偏光板と組み合わせることで、タッチパネルや有機電界発光素子の反射防止に好適に使用することができる、反射防止フィルムが挙げられる。

以下、本発明を、１）重合性化合物、２）重合性組成物、３）高分子、及び、４）光学異方体、に項分けして、詳細に説明する。

１）重合性化合物
本発明の重合性化合物は、前記式（Ｉ）で表される化合物である。
式中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立して、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示す。
ここで、「置換基を有していてもよい」は、「無置換又は置換基を有する」という意味である（以下にて同じである。）。

置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。
その置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
これらの中でも、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。

式中、Ｘは、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２の二価の芳香族基を表す。
Ｘの芳香族基は単環のものであっても、多環のものであっても、複数の芳香環が結合したものであってもよい。
Ｘとしては、例えば、下記のものが挙げられる。下記式中、「−」は、結合手を表す（以下にて同じ）。

これらの芳香族基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ａ基（Ｒ^ａは、炭素数１〜６のアルキル基を表す。）；等が挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、フッ素原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜３のアルコキシ基；がより好ましい。

これらの中でも、Ｘとしては、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、置換基を有していてもよい、フェニレン基、ナフチレン基及びビフェニレン基が好ましく、置換基を有していてもよい、フェニレン基及びナフチレン基がより好ましく、下記式（Ｘ１）及び（Ｘ２）で表される基がさらに好ましく、式（Ｘ１）で表される基が特に好ましい。

前記式（Ｉ）中、Ａ^ｘは、前記式（ＩＩ）で表される基を示す。
式（ＩＩ）中、Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘはそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−ＮＲ^１−、又は、−ＮＲ^１−Ｏ−を表す。

ここで、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^１の炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。
Ｒ^１としては、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。

これらの中でも、Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘは、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であるのが好ましい。

Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。
炭素数１〜２０の二価の脂肪族基としては、鎖状構造を有する脂肪族基；飽和環状炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和環状炭化水素（シクロアルケン）構造等の脂環式構造を有する脂肪族基；等が挙げられる。

その置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられ、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。

また、該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２−、−ＮＲ^２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。
これらの中でも、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。

ここで、Ｒ^２は、前記Ｒ^１と同様の、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。

これらの基が介在する脂肪族基の具体例としては、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＮＲ^２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＮＲ^２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−等が挙げられる。

これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｇ^１、Ｇ^２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の二価の脂肪族基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数２〜１２のアルケニレン基等の鎖状構造を有する脂肪族基がより好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等の、炭素数１〜１２のアルキレン基がさらに好ましく、テトラメチレン基〔−（ＣＨ_２）_４−〕、及び、ヘキサメチレン基〔−（ＣＨ_２）_６−〕が特に好ましい。

Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘはそれぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
該アルケニル基の炭素数としては、２〜６が好ましい。Ｚ^１及びＺ^２のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。

Ｚ^１ｘ及びＺ^２ｘの炭素数２〜１０のアルケニル基の具体例としては、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ_２−、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２−等が挙げられる。

なかでも、Ｚ^１ｘ及びＺ^２ｘとしては、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−であるのが好ましく、ＣＨ_２＝ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であるのがより好ましく、ＣＨ_２＝ＣＨ_２−であるのが更に好ましい。

Ａ^１ｘは置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であっても、三価の複素環式芳香族基であってもよい。本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、下記式に示す三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましい。なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Ｙ^１ｘ、Ｙ^２ｘを便宜上記載している（Ｙ^１ｘ、Ｙ^２ｘは、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。）。

なかでも、Ａ^１ｘとしては、下記に示す式（Ａ１１）〜（Ａ１８）で表される基がさらに好ましく、式（Ａ１１）で表される基が特に好ましい。

Ａ^１ｘの三価の芳香族基は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｂ基；−ＳＯ_２Ｒ^ｂ基；等が挙げられる。ここでＲ^ｂは、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を表す。

Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の二価の芳香族基を表す。
Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘの芳香族基は単環のものであっても、多環のものであってもよい。
Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘの具体例としては、下記のものが挙げられる。

上記Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘの具体例として挙げた有機基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｃ基；等が挙げられる。ここでＲ^ｃは、炭素数１〜６のアルキル基である。これらの中でも、前記Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘの置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、フッ素原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜３のアルコキシ基；がより好ましい。

これらの中でも、Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘとしては、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、フェニレン基、ナフチレン基が好ましく、下記式（Ａ２１）及び（Ａ２２）で表される基がより好ましく、式（Ａ２１）で表される基が特に好ましい。

前記式（Ｉ）中、Ａ^ｙは、前記式（ＩＩＩ）で表される基を示す。
Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙはそれぞれ独立して、前記Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘと同様の、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−Ｏ−ＮＲ^３−、又は−ＮＲ^３−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ^３は、前記Ｒ^１と同様の、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙはそれぞれ独立して、前記Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘと同様の、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の２価の脂肪族基を表す。
Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙはそれぞれ独立して、前記Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘと同様の、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａ^１ｙは、Ａ^１ｘと同様の、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙはそれぞれ独立して、前記Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘと同様の、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の芳香族基を表す。

Ａ^２ｙ、Ａ^３ｙはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基としては、炭素数３〜３０のシクロアルカンジイル基、炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基等が挙げられる。

炭素数３〜３０のシクロアルカンジイル基としては、シクロプロパンジイル基；シクロブタン−１，２−ジイル基、シクロブタン−１，３−ジイル基等のシクロブタンジイル基；シクロペンタン−１，２−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基等のシクロペンタンジイル基；シクロヘキサン−１，２−ジイル基、シクロヘキサン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基等のシクロへキサンジイル基；シクロヘプタン−１，２−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基等のシクロへプタンジイル基；シクロオクタン−１，２−ジイル基、シクロオクタン−１，３−ジイル基、シクロオクタン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等のシクロオクタンジイル基；シクロデカン−１，２−ジイル基、シクロデカン−１，３−ジイル基、シクロデカン−１，４−ジイル基、シクロデカン−１，５−ジイル基等のシクロデカンジイル基；シクロドデカン−１，２−ジイル基、シクロドデカン−１，３−ジイル基、シクロドデカン−１，４−ジイル基、シクロドデカン−１，５−ジイル基等のシクロドデカンジイル基；シクロテトラデカン−１，２−ジイル基、シクロテトラデカン−１，３−ジイル基、シクロテトラデカン−１，４−ジイル基、シクロテトラデカン−１，５−ジイル基、シクロテトラデカン−１，７−ジイル基等のシクロテトラデカンジイル基；シクロエイコサン−１，２−ジイル基、シクロエイコサン−１，１０−ジイル基等のシクロエイコサンジイル基；等が挙げられる。

炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基としては、デカリン−２，５−ジイル基、デカリン−２，７-ジイル基等のデカリンジイル基；アダマンタン−１，２−ジイル基、アダマンタン−１，３−ジイル基等のアダマンタンジイル基；ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，３−ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，５-ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，６−ジイル基等のビシクロ［２．２．１］へプタンジイル基；等が挙げられる。

これらの二価の脂環式炭化水素基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては、前記Ａ^Ｘの芳香族基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。

これらの中でも、Ａ^２ｙ、Ａ^３ｙとしては、炭素数３〜１２の二価の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３〜１２のシクロアルカンジイル基がより好ましく、下記式（Ａ３１）〜（Ａ３４）

で表される基がさらに好ましく、前記式（Ａ３２）で表される基が特に好ましい。
前記炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基は、Ｙ^１ｙ、Ｙ^３ｙ（又はＹ^２ｙ、Ｙ^４ｙ）と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型、トランス型の立体異性体が存在し得る。例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基の場合には、下記に示すように、シス型の異性体（Ａ３２ａ）とトランス型の異性体（Ａ３２ｂ）が存在し得る。

本発明においては、シス型であってもトランス型であっても、あるいはシス型とトランス型の異性体混合物であってもよいが、配向性が良好であることから、トランス型がより好ましい。

式（Ｉ）中、ｎは０又は１を表し、０であるのが好ましい。

本発明の式（Ｉ）で表される重合性化合物としては、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、
（ｉ）式（Ｉ）中、Ａ^１ｘ、Ａ^１ｙがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基であり、Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘ、Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、フェニレン基又はナフチレン基であり、Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘ、Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙがそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ^１ｘ〜Ｚ^３ｘ、Ｚ^１ｙ〜Ｚ^８ｙがそれぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘ、Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１２の二価の脂肪族基（該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）であり、Ｘが、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基である重合性化合物が好ましく、

（ｉｉ）式（Ｉ）中、Ａ^１ｘ、Ａ^１ｙがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘ、Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘ、Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙがそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘ、Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙがそれぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘ、Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙがそれぞれ独立して、炭素数１〜１２の２価のアルキレン基である重合性化合物がさらに好ましく、

（ｉｉｉ）式（Ｉ）中、ｎが０であり、Ａ^１ｘ、Ａ^１ｙがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘ、Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘ、Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙがそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘ、Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙがそれぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘ、Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙがそれぞれ独立して、炭素数１〜１２の２価のアルキレン基である重合性化合物が特に好ましい。

なお、前記一般式（Ｉ）で表される本発明化合物には、炭素−窒素二重結合に基づく立体異性体が存在し得るが、これらはすべて本発明に含まれる。

本発明の重合性化合物の製造方法は、特に制約はないが、例えば、下記に示す方法等が挙げられる。
（製造方法１）

式中、Ａ^ｘ、Ａ^１ｙ〜Ａ^５ｙ、Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙ、Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙ、Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙ、Ｑ^１〜Ｑ^４、Ｘ及びｎは、前記と同じ意味を表す。Ｌは、水酸基、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。Ａ^ｙ’は、Ｙ^１ｙが、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｙ^２ｙが、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−である、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基を表す。以下にて同じである。

すなわち、まず、式（１）で表される化合物（化合物（１））に、式（２）で表される化合物（化合物（２））を、適当な溶媒中、（化合物（２）：化合物（１））のモル比で、１：１の割合で反応させて（ステップ１）、式（３）で表される化合物（化合物（３））を得る。

得られた化合物（３）と、式（４ａ）で表されるカルボニル化合物（カルボニル化合物（４ａ））とを、適当な溶媒中、（カルボニル化合物（４ａ）：化合物（３））のモル比で、１：１〜１：２、好ましくは、１：１〜１：１．５の割合で反応させ（ステップ２）、式（５）で表される化合物（化合物（５））を得、このものを単離した後、式（６）で表されるカルボニル化合物（化合物（６））と、式（７）で表される化合物（化合物（７））を順次、適当な溶媒中、（化合物（５）：化合物（６）（化合物（７））のモル比で、１：１．５〜１．５：１の割合で反応させることにより（ステップ３、ステップ４）、目的とする式（Ｉ−１）で表される重合性化合物（重合性化合物（Ｉ−１））を製造することができる。
前記ステップ２の後、化合物（５）を単離せずにステップ３、４を行ってもよい。

これらの反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；及びこれらの２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。

溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、反応に用いる化合物の総質量１ｇに対し、通常１〜１００ｇである。

反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数十時間である。

なお、化合物（６）と化合物（７）が同一である場合は、化合物（５）と、２倍当量のカルボニル化合物（６）とを反応させることにより、目的とする重合性化合物を製造することができる。

（製造方法２）

製造方法２では、まず、化合物（１）と、カルボニル化合物化合物（４ａ）を、適当な溶媒中、（カルボニル化合物（４ａ）：化合物（１））のモル比で、１：１〜１：１．２の割合で反応させ、式（３’）で表される化合物（化合物（３’）を得（ステップ１）、このものを単離した後、式（４ｂ）で表されるカルボニル化合物（カルボニル化合物（４ｂ））を、適当な溶媒中、（化合物（３’）：カルボニル化合物（４ｂ））のモル比で、１：１〜１：１．２の割合で反応させることにより（ステップ２）、目的とする重合性化合物（Ｉ）を製造することができる。また、ステップ１において、化合物（３’）を単離せずに、ステップ２を行ってもよい。
これらの反応は、前記化合物（３）とカルボニル化合物（４ａ）との反応と同様にして行うことができる。

前記化合物（１）において、ｎが１である化合物（１’）は、次のようにして製造することができる。

すなわち、式（９）で表される化合物（化合物（９））と、２当量以上のヒドラジン（８）とを、適当な溶媒中で反応させることにより、化合物（１’）を製造することができる。

この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されず、前記重合性化合物（Ｉ−１）の製造方法で用いることができるとして例示したのと同様の溶媒が挙げられる。
反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
化合物（１）がヒドラジンである場合（ｎ＝０）、通常、１水和物のものを用いる。ヒドラジンは、市販品をそのまま使用することができる。

前記カルボニル化合物（４ａ）、（４ｂ）は、典型的には、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−）、カーボネート結合（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）及びアミド結合（−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−）の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適宜結合・修飾することにより製造することができる。

エーテル結合の形成は、例えば、以下のようにして行うことができる。
（ｉ）式：Ｄ１−ｈａｌ（ｈａｌはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔ（Ｍｅｔはアルカリ金属（主にナトリウム）を表す。以下にて同じ。）で表される化合物とを混合して縮合させる（ウイリアムソン合成）。なお、式中、Ｄ１及びＤ２は任意の有機基を表す（以下にて同じ。）
（ｉｉ）式：Ｄ１−ｈａｌで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
（ｉｉｉ）式：Ｄ１−Ｊ（Ｊはエポキシ基を表す。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
（ｉｖ）式：Ｄ１−ｏｆｎ（ｏｆｎは不飽和結合を有する基を表す。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔで表される化合物を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して付加反応させる。
（ｖ）式：Ｄ１−ｈａｌで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔで表される化合物とを、銅あるいは塩化第一銅存在下、混合して縮合させる（ウルマン縮合）。

エステル結合及びアミド結合の形成は、例えば、以下のようにして行うことができる。
（ｖｉ）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ_２で表される化合物とを、脱水縮合剤（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド等）の存在下に脱水縮合させる。
（ｖｉｉ）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物にハロゲン化剤を作用させることにより、式：Ｄ１−ＣＯ−ｈａｌで表される化合物を得、このものと式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ_２で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる。
（ｖｉｉｉ）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物に酸無水物を作用させることにより、混合酸無水物を得た後、このものに、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ_２で表される化合物を反応させる。
（ｉｘ）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ_２で表される化合物とを、酸触媒あるいは塩基触媒の存在下に脱水縮合させる。

より具体的には、例えば、カルボニル化合物（４ａ）のうち、式：Ｚ^２ｘ−Ｙ^６ｘ−Ｇ^２ｘ−Ｙ^４ｘ−Ａ^３ｘ−Ｙ^２ｘ−で表される基が、式：Ｚ^１ｘ−Ｙ^５ｘ−Ｇ^１ｘ−Ｙ^３ｘ−Ａ^２ｘ−Ｙ^１ｘ−で表される基と同一であり、Ｙ^１ｘが、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−である化合物（４’）は、以下に示す反応により製造することができる。

上記反応においては、式（１０）で表されるジヒドロキシ化合物（化合物（１０））と式（１１）で表される化合物（化合物（１１））とを、（化合物（１０）：化合物（１１））のモル比で、１：２〜１：４、好ましくは１：２〜１：３の割合で反応させることにより、高選択的かつ高収率で目的とする化合物（４’）を得ることができる。

化合物（１１）が、式（１１）中、Ｌが水酸基の化合物（カルボン酸）である場合には、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。
脱水縮合剤の使用量は、化合物（１１）１モルに対し、通常１〜３モルである。

また、化合物（１１）が、式（１１）中、Ｌがハロゲン原子の化合物（酸ハライド）である場合には、塩基の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。
用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
塩基の使用量は、化合物（１１）１モルに対し、通常１〜３モルである。
化合物（１１）が、式（１１）中、Ｌがメタンスルホニルオキシ基、又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基の化合物（混合酸無水物）である場合も、ハロゲン原子の場合と同様である。

上記反応に用いる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒；及びこれらの溶媒の２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドロキシ化合物（１０）１ｇに対し、通常１〜５０ｇである。

反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数十時間である。
カルボニル化合物（４ｂ）も、化合物（２）と化合物（６）及び化合物（７）とを、カルボニル化合物（４ａ）の場合と同様に反応させることにより合成することができる。

化合物（６）、化合物（７）も化合物（１１）と同様に製造することができる。
例えば、化合物（６）が、下記式（６’）で表される化合物（化合物（６’））である場合には、式（１２）で表されるジカルボン酸（化合物（１２））を用いて、下記のようにして製造することができる。

式中、Ｒは、メチル基、エチル基等のアルキル基；フェニル基、ｐ−メチルフェニル基等の置換基を有していてもよいアリール基；を表す。
先ず、化合物（１２）に、式（１３）で表されるスルホニルクロライドを、トリエチルアミン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の塩基存在下で反応させる。
次いで、反応混合物に、化合物（１４）と、トリエチルアミン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の塩基を加えて反応を行う。
スルホニルクロライドの使用量は、化合物（１２）１当量に対して、通常０．５〜０．７当量である。
化合物（１４）の使用量は、化合物（１２）１当量に対して、通常０．５〜０．６当量である。
塩基の使用量は、化合物（１２）１当量に対して、通常０．５〜０．７当量である。
反応温度は、２０〜３０℃であり、反応時間は反応規模等にもよるが、数分から数時間である。

上記反応に用いる溶媒としては、前記化合物（４’）を製造する際に用いることができる溶媒として例示したものが挙げられる。なかでも、エーテル類が好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物（１２）１ｇに対し、通常１〜５０ｇである。

いずれの反応においても、反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、蒸留法等の公知の分離・精製手段を施すことにより、目的物を単離することができる。

目的とする化合物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。

後述するように、本発明の重合性化合物を用いることにより、広帯域性を示す理想的な波長分散である逆波長分散性を示す高分子、好ましくは液晶性高分子を容易に得ることができる。

２）重合性組成物
本発明の第２は、本発明の重合性化合物の少なくとも１種、及び重合開始剤を含有する重合性組成物である。重合開始剤は本発明の重合性化合物の重合反応をより効率的に行う観点から配合される。

用いる重合開始剤としては、重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜なものを選択して使用すればよい。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用すればよい。

ラジカル重合開始剤としては、加熱することにより、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である熱ラジカル発生剤；と、可視光線、紫外線（ｉ線など）、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の露光光の露光により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤；のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。

光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。これらの化合物は、露光によって活性ラジカルまたは活性酸、あるいは活性ラジカルと活性酸の両方を発生する成分である。光ラジカル発生剤は、一種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

アセトフェノン系化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１，２−オクタンジオン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４’−モルフォリノブチロフェノン等を挙げることができる。

ビイミダゾール系化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。

本発明においては、光重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。

メルカプタン系化合物としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。アミン系化合物としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。

トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。

Ｏ−アシルオキシム系化合物の具体例としては、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−ヘプタン−１，２−ジオン ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（ベンゾイル）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン １−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−［９−エチル−６−（３−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン １−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）−エタノン １−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）ベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等を挙げることができる。

光ラジカル発生剤は市販品をそのまま用いることもできる。具体例としては、ＢＡＳＦ社製の、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、及び商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０２、ＡＤＥＫＡ社製の、商品名：アデカオプトマーＮ１９１９等が挙げられる。

前記アニオン重合開始剤としては、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。

また、前記カチオン重合開始剤としては、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。
これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の重合性組成物において、重合開始剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．１〜３０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部である。

また、本発明の重合性組成物には、表面張力を調整するために、界面活性剤を配合するのが好ましい。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いればよく、例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤、例えば、セイミケミカル（株）製ＫＨ−４０等が挙げられる。本発明の重合性組成物において、界面活性剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．１〜２重量部である。

また、本発明の重合性組成物には、さらに、後述の他の共重合可能な単量体、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の、その他の添加剤を配合してもよい。本発明の重合性組成物において、その他の添加剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、各々０．１〜２０重量部である。

本発明の重合性組成物は、通常、本発明の重合性化合物、重合開始剤、及び所望によりその他の添加剤の所定量を適当な有機溶媒に混合・溶解させることにより、調製することができる。

用いる有機溶媒としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類；等が挙げられる。

以上のようにして得られる重合性組成物は、後述するように、本発明の高分子や光学異方体の製造原料として有用である。

３）高分子
本発明の第３は、（１）本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子、又は、（２）本発明の重合性組成物を重合して得られる高分子である。
ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。

（１）本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子
本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子としては、本発明の重合性化合物の単独重合体、本発明の重合性化合物の２種以上からなる共重合体、又は、本発明の重合性化合物と他の共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。

他の共重合可能な単量体としては、例えば、ＬＣ−２４２（ＢＡＳＦ社製）等の市販品、特開２００７−００２２０８号公報、特開２００９−１７３８９３号公報、特開２００９−２７４９８４号公報、特開２０１０−０３０９７９号公報、特開２０１０−０３１２２３号公報、特開２０１１−００６３６０号公報、ＰＣＴ／ＪＰ２０１２／０６００１１号明細書（ＷＯ２０１２／１４１２４５号パンフレット）、ＰＣＴ／ＪＰ２０１２／０６１３２１号明細書（ＷＯ２０１２／１４７９０４号パンフレット）、ＰＣＴ／ＪＰ２０１２／０６４１１１号明細書（ＷＯ２０１２／１６９４２４号パンフレット）、ＰＣＴ／ＪＰ２０１２／０６５２０２号明細書（ＷＯ２０１２／１７６６７９号パンフレット）、ＰＣＴ２０１２／０６７９０６号明細書等に記載されている化合物等が挙げられる。

また、他の共重合可能な単量体として、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−メトキシフェニル、４−（６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸ビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−３’，４’−ジフルオロフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸ナフチル、４−アクリロイルオキシ−４’−デシルビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−シアノビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−メトキシビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−（４”−フルオロベンジルオキシ）−ビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−プロピルシクロヘキシルフェニル、４−メタクリロイル−４’−ブチルビシクロヘキシル、４−アクリロイル−４’−アミルトラン、４−アクリロイル−４’−（３，４−ジフルオロフェニル）ビシクロヘキシル、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−アミルフェニル）、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−（４’−プロピルシクロヘキシル）フェニル）等も用いることができる。

また、上記に例示した単量体以外にも、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基等の重合性不飽和基を複数個有する多官能単量体を使用することができる。
このような多官能単量体としては、１，２−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジアクリレート類；１，２−ブタンジオールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタリレート等のアルカンジオールジメタクリレート類；エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレート類；プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート等のポリプロピレングリコールジアクリレート類；エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート等のポリエチレングリコールジメタクリレート類；プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート等のポリプロピレングリコールジメタクリレート類；エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル等のポリエチレングリコールジビニルエーテル類；エチレングリコールジアリルエーテル、ジエチレングリコールジアリルエーテル、トリエチレングリコールジアリルエーテル、テトラエチレングリコールジアリルエーテル等のポリエチレングリコールジアリルエーテル類；ビスフェノールＦエトキシレートジアクリレート；ビスフェノールＦエトキシレートジメタクリレート；ビスフェノールＡエトキシレートジアクリレート；ビスフェノールＡエトキシレートジメタクリレート；トリメチロールプロパントリアクリレート；トリメチロールプロパントリメタクリレート；トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート；トリメチロールプロパンエトキシレートトリメタクリレート；トリメチロールプロパンプロポキシレートトリアクリレート；トリメチロールプロパンプロポキシレートトリメタクリレート；イソシアヌル酸エトキシレートトリアクリレート；グリセロールエトキシレートトリアクリレート；グリセロールプロポキシレートトリアクリレート；ペンタエリスリトールエトキシレートテトラアクリレート；ジトリメチロールプロパンエトキリレートテトラアクリレート；ジペンタエリスリトールエトキシレートヘキサアクリレート等が挙げられる。

本発明の重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等の（共）重合は、適当な重合開始剤の存在下に行うことができる。重合開始剤の使用割合としては、前記重合性組成物中の重合性化合物に対する配合割合と同様でよい。

また、本発明の重合性化合物と他の共重合可能な単量体を組み合わせて用いることにより、広帯域性を示す理想的な波長分散である逆波長分散性を示す高分子（好ましくは液晶性高分子）を容易に得ることができる。すなわち、他の重合性化合物を重合して得られる高分子が通常の波長分散を示すものであっても、当該他の重合性化合物に、本発明の重合性化合物を添加して共重合させることで、逆波長分散性を示す高分子（好ましくは液晶性高分子）を容易に得ることができる。
本発明の重合性化合物と、他の単量体との使用割合は、重量比で、通常１：９〜９：１、好ましくは、２：８〜８：２、より好ましくは３：７〜７：３である。

前記（１）の高分子は、より具体的には、（Ａ）適当な重合開始剤の存在下、前記重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等との（共）重合を適当な有機溶媒中で重合反応を行った後、目的とする高分子を単離し、得られる高分子を適当な有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液を適当な基板上に塗工して得られた塗膜を乾燥後、所望により加熱することにより得る方法、（Ｂ）前記重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等を重合開始剤と共に有機溶媒に溶解した溶液を、公知の塗工法により基板上に塗布した後、脱溶媒し、次いで加熱又は活性エネルギー線を照射することにより重合反応を行う方法等により好適に製造することができる。
用いる重合開始剤としては、前記重合性組成物の成分として例示したのと同様のものが挙げられる。

前記（Ａ）の方法で重合反応に用いる有機溶媒としては、不活性なものであれば、特に制限されず、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素；シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱い性に優れる観点から、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１５０℃のものがより好ましい。

（Ａ）の方法による場合、高分子を溶解するための有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶剤；等が挙げられる。

前記（Ｂ）の方法で用いる有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶剤；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱いが容易な点から、溶媒の沸点が６０〜２００℃のものが好ましい。

用いる基板としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質のものを使用することができる。例えば、有機材料としてはポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス、ゼオノア（登録商標；日本ゼオン社製）、アートン（登録商標；ＪＳＲ社製）、及びアペル（登録商標；三井化学社製）〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン等が挙げられ、無機材料としてはシリコン、ガラス、方解石等が挙げられ、中でも有機材料が好ましい。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
基板としては、有機材料が好ましく、この有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。

（Ａ）の方法において高分子の溶液を基板に塗布する方法、（Ｂ）の方法において重合反応用の溶液を基板に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばカーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法等が挙げられる。

（２）本発明の重合性組成物を重合して得られる高分子
本発明の重合性組成物を重合することにより、本発明の高分子を容易に得ることができる。本発明においては、重合反応をより効率的に行う観点から、前記したような重合開始剤、特に光重合開始剤を含む重合性組成物を用いるのが好ましい。

具体的には、前記（Ｂ）の方法、即ち、本発明の重合性組成物を、基板上に塗布し、重合させることによって、本発明の高分子を得ることが好適である。用いる基板としては、後述する光学異方体の作製に用いられる基板等が挙げられる。

本発明の重合性組成物を基板上に塗布する方法としては、バーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ダイコーティング、キャップコーティング、ディッピング法等の公知慣用のコーティング法が挙げられる。このとき、塗工性を高めるために、本発明の重合性組成物に公知慣用の有機溶媒を添加してもよい。この場合は、本発明の重合性組成物を基板上に塗布後、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等で有機溶媒を除去するのが好ましい。

本発明の重合性化合物又は重合性組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。

照射時の温度は、３０℃以下とすることが好ましい。紫外線照射強度は、通常、１Ｗ／ｍ^２〜１０ｋＷ／ｍ^２の範囲、好ましくは５Ｗ／ｍ^２〜２ｋＷ／ｍ^２の範囲である。

本発明の重合性化合物又は重合性組成物を重合させて得られる高分子は、基板から剥離して単体で使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学フィルムの有機材料等として使用することもできる。

以上のようにして得られる本発明の高分子の数平均分子量は、好ましくは５００〜５００，０００、更に好ましくは５，０００〜３００，０００である。該数平均分子量がかかる範囲にあれば、高い膜硬度が得られ、取り扱い性にも優れるため望ましい。高分子の数平均分子量は、単分散のポリスチレンを標準試料とし、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶離液としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。

本発明の高分子は、架橋点が分子内で均一に存在すると推定され、架橋効率が高く、硬度に優れている。
本発明の高分子によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。

４）光学異方体
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とする。
本発明の光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、本発明の高分子からなる液晶層を形成することによって、得ることができる。

配向膜は、有機半導体化合物を面内で一方向に配向規制するために基板の表面に形成される。
配向膜は、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有するものである。配向膜は、このようなポリマーを含有する溶液（配向膜用組成物）を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは０．００１〜５μｍであることが好ましく、０．００１〜１μｍであることがさらに好ましい。

本発明においては、配向膜あるいは基板にラビング処理を施すことができる。ラビング処理の方法は、特に制限されないが、例えばナイロン等の合成繊維、木綿等の天然繊維からなる布やフェルトを巻き付けたロールで一定方向に配向膜を擦る方法が挙げられる。ラビング処理した時に発生する微粉末（異物）を除去して配向膜の表面を清浄な状態とするために、ラビング処理後に配向膜をイソプロピルアルコール等によって洗浄することが好ましい。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、配向膜にコレステリック規則性を持つコレステリック液晶層を面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。

本発明において、配向膜上に本発明の高分子からなる液晶層を形成する方法としては、前記本発明の高分子の項で記載したのと同様の方法が挙げられる。
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料としているので、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面でも優れたものである。
本発明の光学異方体としては、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等が挙げられる。

以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。

（実施例１）化合物１の合成

ステップ１：中間体Ａの合成

温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流中、ヒドラジン一水和物５．３ｍｌ（１０９ｍｍｏｌ）を、２−プロパノール２５ｍｌに溶解した。この溶液に、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド３．００ｇ（２１．７ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃で３０分撹拌した。反応終了後、析出した固体を、吸引ろ過によりろ集した。ろ物を、２−プロパノールで洗浄した後、風乾し、白色固体として中間体Ａを１．８２ｇ得た（収率：５５．１％）。このものは、精製は行わず、そのまま次の反応に用いた。
目的物の構造は、^１Ｈ−ＮＭＲ、及び、^１３Ｃ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ、及び、^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータを下記に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．５９（ｂｒｓ，１Ｈ）、８．７５（ｂｒｓ，１Ｈ）、７．８２（ｓ，１Ｈ）、６．８１（ｓ，２Ｈ）、６．６１７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、６．６１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．５４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）

^１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１４９．５、１４９．１、１４１．４、１１９．９、１１６．１、１１５．６、１１３．６

ステップ２：中間体Ｂの合成

温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド ２０ｇ（１４４．８ｍｍｏｌ）、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（ＤＫＳＨ社製）１０５．８ｇ（３６２．０ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン ５．３ｇ（４３．４ｍｍｏｌ）、及びＮ−メチルピロリドン２００ｍｌを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、「ＷＳＣ」と略記する。）８３．３ｇ（４３４．４ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃にて１２時間攪拌した。反応終了後、反応液を水１．５リットルに投入し、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１（体積比、以下にて同じ））により精製し、白色固体として中間体Ｂを７５ｇ得た（収率：７５．４％）。
目的物の構造は、^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．２０（ｓ，１Ｈ）、８．１８−８．１２（ｍ，４Ｈ）、７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、７．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．００−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．６Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０８−４．０４（ｍ，４Ｈ）、１．８８−１．８１（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．６９（ｍ，４Ｈ）、１．５８−１．４２（ｍ，８Ｈ）

ステップ３：中間体Ｃの合成

温度計を備えた３口反応器に、窒素気流中，トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸１７．９８ｇ（１０４．４２ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１８０ｍｌを入れ、そこへ、メタンスルホニルクロリド６．５８ｇ（５７．４３ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン ６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに撹拌した。
得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．６４ｇ（５．２２ｍｍｏｌ）、及び、４−（６−アクリロイルオキシ−ヘクス−１−イルオキシ）フェノール（ＤＫＳＨ社製）１３．８０ｇ（５２．２１ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン ６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌと飽和食塩水１００ｍｌを加え、酢酸エチル４００ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：９）により精製することで、中間体Ｃを白色固体として１４．１１ｇ得た（収率６５％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．１２（ｓ，１Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．４８−２．５６（ｍ，１Ｈ）、２．１８−２．２６（ｍ，１Ｈ）、２．０４−２．１０（ｍ，２Ｈ）、１．９３−２．００（ｍ，２Ｈ）、１．５９−１．７５（ｍ，４Ｈ）、１．３５−１．５２（ｍ，８Ｈ）

ステップ４：中間体Ｄの合成

温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流中、ステップ１で合成した中間体Ａ ７８０ｍｇ（６．４９ｍｍｏｌ）、及び、ステップ２で合成した中間体Ｂ ４．５５ｇ（６．１８ｍｍｏｌ）を、エタノール３ｍｌ及びＴＨＦ２０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸６９．７ｍｇ（０．３０ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃で１時間撹拌した。反応終了後、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル４００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、黄色固体として化合物Ｄを１．７７ｇ得た（収率：３４．９％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．１７（ｓ，１Ｈ）、９．０３（ｓ，１Ｈ）、８．７１（ｓ，１Ｈ）、８．６８（ｓ，１Ｈ）、８．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、８．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．５５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、６．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．３３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１３（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１１（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．７４−１．８１（ｍ，４Ｈ）、１．６３−１．６８（ｍ，４Ｈ）、１．３８−１．５０（ｍ，８Ｈ）

ステップ５：化合物１の合成
温度計を備えた３口反応器に、窒素気流中、前記ステップ３で合成した中間体Ｃ １．３１ｇ（３．１４ｍｍｏｌ）とＴＨＦ２０ｍｌを入れた。そこへ、メタンスルホニルクロリド ３７８ｍｇ（０．７８６ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン３３４ｍｇ（３．３０ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、ゆっくりと滴下した。滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに撹拌した。

得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン４８．０ｍｇ（０．３９３ｍｍｏｌ）、及び、ステップ４で合成した中間体Ｄ ６４５ｍｇ（０．７８６ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン２３９ｍｇ（２．３６ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、ゆっくりと滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間撹拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１００ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、白色固体として化合物１を、７７１ｍｇ得た（収率：６０．５％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．７２（ｓ，１Ｈ）、８．５７（ｓ，１Ｈ）、８．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、８．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、８．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．３９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．９６−６．９９（ｍ，６Ｈ）、６．８７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．３８−６．４３（ｍ，４Ｈ）、６．０９−６．１６（ｍ，４Ｈ）、５．８１−５．８４（ｍ，４Ｈ）、４．１８４（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１７５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．０７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５０−２．７３（ｍ，４Ｈ）、２．２４−２．３１（ｍ，８Ｈ）、１．７６−１．９２（ｍ，８Ｈ）、１．６１−１．７４（ｍ，１６Ｈ）、１．４２−１．５７（ｍ，１６Ｈ）

（合成例１）：化合物αの合成

ステップ１：中間体Ｅの合成

温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド２０ｇ（１４４．８ｍｍｏｌ）、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（ＤＫＳＨ社製）１０５．８ｇ（３６２．０ｍｍｏｌ）、及び、４−（ジメチルアミノ）ピリジン５．３ｇ（４３．４ｍｍｏｌ）を、Ｎ−メチルピロリドン２００ｍｌに溶解させた。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）８３．３ｇ（４３４．４ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃で１２時間攪拌した。反応終了後、反応液を水１．５リットルに投入し、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１）により精製し、白色固体として中間体Ｅを７５ｇ得た（収率：７５．４％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．２０（ｓ，１Ｈ）、８．１８−８．１２（ｍ，４Ｈ）、７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、７．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．００−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．６Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０８−４．０４（ｍ，４Ｈ）、１．８８−１．８１（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．６９（ｍ，４Ｈ）、１．５８−１．４２（ｍ，８Ｈ）

ステップ２：化合物αの合成
温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流中、中間体Ｅ １．５ｇ（２．１８ｍｍｏｌ）を、２−プロパノール２ｍｌとＴＨＦ５ｍｌの混合溶剤に溶解させた。この溶液にヒドラジン一水和物８０ｍｇ（１．５９ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃で２１時間攪拌した。反応終了後、ロータリーエバポレーターにて２−プロパノールとＴＨＦを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をトルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶剤で再結晶を行い、析出した固体をろ取し、ろ物を、トルエン：ヘキサン＝１：１の混合溶剤でろ物を洗浄した。さらに、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０から８５：１５にグラジェント）により精製し、淡黄色固体として化合物αを１．１ｇ得た（収率：５０．５％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．６８（ｓ，２Ｈ）、８．１５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、８．１２（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．３５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．２９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９６４（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９５７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４１０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．４０７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８２５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１８２（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．０４８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．０４５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．８７−１．８１（ｍ，８Ｈ）、１．７６−１．７０（ｍ，８Ｈ）、１．５９−１．４３（ｍ，１６Ｈ）

（実施例２）
実施例１で得た化合物１を０．４ｇ、下記に示す化合物１ｒ（ＢＡＳＦ社製、ＬＣ２４２、以下にて同じ。）を０．６ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製、アデカオプトマーＮ−１９１９）を３０ｍｇ、及び、界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製、ＫＨ−４０）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、シクロペンタノン２．３ｇに溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物１を得た。

（比較例１）
実施例２において、化合物１の代わりに、合成例１で得た化合物αを用いた他は、実施例２と同様にして、重合性組成物２を得た。

（比較例２）
実施例２において、化合物１（０．４ｇ）及び化合物１ｒ（０．６ｇ）の代わりに、合成例１で得た化合物αを１．０ｇ用いた他は、実施例２と同様にして、重合性組成物３を得た。

得られた重合性組成物１〜３を、下記の方法にて重合させて高分子を得た。得られた高分子のそれぞれについて、位相差の測定と波長分散の評価を行った。

〈位相差の測定と波長分散の評価〉
（ｉ）重合性組成物による液晶層の形成
ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製、商品名：配向処理ガラス基板）に、重合性組成物１〜３のそれぞれを、＃４のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表２に示す温度で１分間乾燥した後、表２に示す温度で１分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
（ｉｉ）位相差の測定
得られた試料につき、４００ｎｍから８００ｎｍ間の位相差を、エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製 Ｍ２０００Ｕ型）を用いて測定した。
（ｉｉｉ）波長分散の評価
測定した位相差を用いて以下のように算出されるα、β値から波長分散を評価した。

広帯域性を示す理想的な波長分散性、即ち逆波長分散性を示す場合、αは１より小となり、βは１より大となる。フラットな波長分散を有している場合、αとβは同程度の値となる。一般的な通常分散を有している場合、αは１より大となり、βは１より小となる。
即ち、フラットな波長分散性、及び、逆波長分散性が好ましく、逆波長分散性が特に好ましい。
重合して得られた液晶性高分子膜の膜厚（μｍ）、波長５４８．５ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）、α、βの値を、下記表１にまとめて示す。

比較例２の結果より、化合物１ｒは、α、βの値が、α＞１、β＜１であることから、通常分散を示すことがわかる。
この化合物１ｒに、実施例１の化合物１を添加すると（実施例２）、α、βの値は、α＜１、かつ、β＞１となり、逆波長分散に変化させることができることがわかる。
一方、化合物１ｒに、化合物αを添加した場合（比較例１）には、α、βの値は、α＞１、β＜１のままであり、逆波長分散に変化させることができていない。
以上の結果から、通常分散を有する化合物に、本発明化合物（化合物１）を添加して得られる重合性組成物を重合することで、逆波長分散性を有する高分子を得ることができる。

Claims (11)

1. 下記一般式（Ｉ）
   

   

   ｛式中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立して、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｘは、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２の二価の芳香族基を表す。
   Ａ^ｘは、下記一般式（ＩＩ）
   

   

   〔式中、＊は結合位置を示す。
   Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘはそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−ＮＲ^１−、又は−ＮＲ^１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の２価の脂肪族基を表す。該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２−、−ＮＲ^２−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘはそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
   Ａ^１ｘは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
   Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の二価の芳香族基を示す。〕で表される基を示す。
   Ａ^ｙは、下記一般式
   

   

   〔Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙはそれぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^３−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^３−、−Ｏ−ＮＲ^３−、又は−ＮＲ^３−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の２価の脂肪族基を表す。該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^４−、−ＮＲ^４−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−及び−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ^４は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙはそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
   Ａ^１ｙは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
   Ａ^２ｙ、Ａ^３ｙはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
   Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の芳香族基を表す。〕で表される基を示す。
   ｎは０又は１を表す。}
   で示される重合性化合物。
2. 前記Ａ^１ｘ、Ａ^１ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基であり、前記Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘ、Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、フェニレン基又はナフチレン基である請求項１に記載の重合性化合物。
3. 前記Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘ、Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙが、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−である請求項１又は２に記載の重合性化合物。
4. 前記Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘ、Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙが、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−である請求項１〜３のいずれかに記載の重合性化合物。
5. 前記Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘ、Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１２の二価の脂肪族基（該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）である請求項１〜４のいずれかに記載の重合性化合物。
6. 前記Ｘが、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基である請求項１〜５のいずれかに記載の重合性化合物。
7. 前記Ａ^１ｘ、Ａ^１ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい三価のベンゼン環基であり、Ａ^２ｘ、Ａ^３ｘ、Ａ^４ｙ、Ａ^５ｙが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、Ｙ^１ｘ〜Ｙ^６ｘ、Ｙ^１ｙ〜Ｙ^８ｙが、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であり、Ｚ^１ｘ、Ｚ^２ｘ、Ｚ^１ｙ、Ｚ^２ｙが、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）−であり、Ｇ^１ｘ、Ｇ^２ｘ、Ｇ^１ｙ、Ｇ^２ｙが、それぞれ独立して、炭素数１〜１２の２価のアルキレン基である請求項１〜６のいずれかに記載の重合性化合物。
8. 下記式で示される化合物１である、請求項１〜７のいずれかに記載の重合性化合物。
   

   
9. 請求項１〜８のいずれかに記載の重合性化合物を少なくとも１種、及び重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
10. 請求項１〜８のいずれかに記載の重合性化合物、又は請求項９に記載の重合性組成物を重合して得られる高分子。
11. 請求項１０に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。