JPWO2014017430A1 - 被測定物の測定方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、検体中の被測定物の有無または量を測定する方法であって、主面に垂直な方向に貫通した複数の空隙部を有する空隙配置構造体を物理的フィルターとして用いて、前記検体中から前記被測定物をろ過し、前記被測定物を前記空隙配置構造体に保持するろ過工程と、前記被測定物が保持された前記空隙配置構造体に電磁波を照射して、前記空隙配置構造体で散乱された電磁波の特性を検出する測定工程とを含むことを特徴とする、測定方法である。
Description
本発明は、被測定物の測定方法に関する。より詳しくは、空隙部を有する空隙配置構造体に被測定物を保持し、該空隙配置構造体に電磁波を照射して、空隙配置構造体で散乱した電磁波の特性を検出することにより、被測定物の有無または量を測定する測定方法に関する。
従来から、物質の特性を分析するために、空隙配置構造体に被測定物を保持して、その被測定物が保持された空隙配置構造体に電磁波を照射し、その透過スペクトル等を解析して被測定物の有無または量を検出する測定方法が用いられている。具体的には、例えば、金属メッシュフィルタに付着したタンパク質などの被測定物に、テラヘルツ波を照射して透過スペクトルを解析する手法が挙げられる。
このような電磁波を用いた透過スペクトルの解析手法の従来技術として、特許文献１には、被測定物が保持された空隙領域を有する空隙配置構造体（具体的には、メッシュ状の導体板）に向かって、空隙配置構造体の主面に垂直な方向に対して斜めの方向から電磁波を照射して、空隙配置構造体を透過した電磁波を測定し、測定値の周波数特性に生じたディップ波形の位置が、被測定物の存在により移動することに基づいて被測定物の特性を検出する測定方法が開示されている。
従来、検体中に含まれる被測定物をかかる測定方法を用いて測定する場合は、通常、まず被測定物を検体中から抽出した後に、抽出された被測定物を空隙配置構造体に保持した状態で電磁波による測定を行っていた。このため、測定の前に別途の被測定物の抽出工程が必要であり、測定のための作業工程が増えてしまうという問題があった。
また、例えば、メンブレンフィルター等を用いて液体や気体などの検体中から被測定物をろ過抽出する場合、抽出した被測定物を転写などにより空隙配置構造体に乗せ換える工程が必要になるが、抽出した被測定物を全て空隙配置構造体に移動させるのは難しいため、測定結果が大きくばらついてしまう場合があった。
本発明は上記の事情に鑑み、検体から被測定物を抽出する必要がある場合における作業工程の増加や、測定結果のばらつきといった問題を解消し、検体中に含まれる被測定物を簡便な工程で高精度に測定することのできる、被測定物の測定方法を提供することを目的とする。
本発明は、検体中の被測定物の有無または量を測定する方法であって、
主面に垂直な方向に貫通した複数の空隙部を有する空隙配置構造体をフィルターとして用いて、前記検体中から前記被測定物をろ過し、前記被測定物を前記空隙配置構造体に保持するろ過工程と、
前記被測定物が保持された前記空隙配置構造体に電磁波を照射して、前記空隙配置構造体で散乱された電磁波の特性を検出する測定工程とを含むことを特徴とする、測定方法である。
主面に垂直な方向に貫通した複数の空隙部を有する空隙配置構造体をフィルターとして用いて、前記検体中から前記被測定物をろ過し、前記被測定物を前記空隙配置構造体に保持するろ過工程と、
前記被測定物が保持された前記空隙配置構造体に電磁波を照射して、前記空隙配置構造体で散乱された電磁波の特性を検出する測定工程とを含むことを特徴とする、測定方法である。
前記空隙配置構造体の空隙部の大きさが、前記被測定物が通過できないか、または通過し難い大きさであることが好ましい。
前記空隙配置構造体の表面は、被測定物が吸着しやすいように修飾されていることが好ましい。
前記検体は液体または気体であることが好ましい。
前記被測定物は、液体中の微生物、または、気体中の無機物、有機物あるいは、その複合物であることが好ましい。
前記被測定物は、液体中の微生物、または、気体中の無機物、有機物あるいは、その複合物であることが好ましい。
本発明においては、空隙配置構造体が抽出フィルターと測定デバイスとを兼ねていることにより、検体中に含まれる被測定物を簡便な工程で高精度で測定することができる。
本発明において、検体中の被測定物の有無または量を測定するとは、液体や気体などの検体中に含まれる被測定物となる化合物の定量を行うことであり、例えば、溶液中等の微量の被測定物の含有量を測定する場合や、被測定物の同定を行う場合などが挙げられる。検体は液体または気体であることが好ましい。また、前記被測定物は、液体中の微生物、または、気体中の無機物、有機物あるいは、その複合物であることが好ましい。
本発明の測定方法は、
（１）主面に垂直な方向に貫通した複数の空隙部を有する空隙配置構造体をフィルターとして用いて、検体中から被測定物をろ過し、被測定物を空隙配置構造体に保持するろ過工程と、
（２）被測定物が保持された空隙配置構造体に電磁波を照射して、空隙配置構造体で散乱された電磁波の特性を検出する測定工程と
を含むことを特徴とする。
（１）主面に垂直な方向に貫通した複数の空隙部を有する空隙配置構造体をフィルターとして用いて、検体中から被測定物をろ過し、被測定物を空隙配置構造体に保持するろ過工程と、
（２）被測定物が保持された空隙配置構造体に電磁波を照射して、空隙配置構造体で散乱された電磁波の特性を検出する測定工程と
を含むことを特徴とする。
（空隙配置構造体）
本発明で用いられる空隙配置構造体は、その主面に垂直な方向に貫通した複数の空隙部を有している。例えば、複数の該空隙部は、空隙配置構造体の主面上の少なくとも一方向に周期的に配置されている。ただし、空隙部は、その全てが周期的に配置されていてもよく、本発明の効果を損なわない範囲で、一部の空隙部が周期的に配置され、他の空隙部が非周期的に配置されていてもよい。
本発明で用いられる空隙配置構造体は、その主面に垂直な方向に貫通した複数の空隙部を有している。例えば、複数の該空隙部は、空隙配置構造体の主面上の少なくとも一方向に周期的に配置されている。ただし、空隙部は、その全てが周期的に配置されていてもよく、本発明の効果を損なわない範囲で、一部の空隙部が周期的に配置され、他の空隙部が非周期的に配置されていてもよい。
空隙配置構造体は、好ましくは準周期構造体や周期構造体である。準周期構造体とは、並進対称性は持たないが配列には秩序性が保たれている構造体のことである。準周期構造体としては、例えば、１次元準周期構造体としてフィボナッチ構造、２次元準周期構造体としてペンローズ構造が挙げられる。周期構造体とは、並進対称性に代表される様な空間対称性を持つ構造体のことであり、その対称の次元に応じて１次元周期構造体、２次元周期構造体、３次元周期構造体に分類される。１次元周期構造体は、例えば、ワイヤーグリッド構造、１次元回折格子などが挙げられる。２次元周期構造体は、例えば、メッシュフィルタ、２次元回折格子などが挙げられる。これらの周期構造体のうちでも、２次元周期構造体が好適に用いられる。
２次元周期構造体としては、例えば、図１に示すようなマトリックス状に一定の間隔で空隙部が配置された板状構造体（格子状構造体）が挙げられる。図１（ａ）に示す空隙配置構造体１は、その主面１０ａ側からみて正方形の空隙部１１が、該正方形の各辺と平行な２つの配列方向（図中の縦方向と横方向）に等しい間隔で設けられた板状構造体である。
空隙配置構造体の空隙部の大きさや配置、空隙配置構造体の厚み等は、特に制限されないが、空隙配置構造体の空隙部の大きさは、被測定物が通過できないか、または通過し難い大きさであることが好ましい。また、空隙配置構造体の材質特性、使用する電磁波の周波数等に応じて適宜設計される。
具体的には、例えば、空隙部が図１（ａ）に示すように縦横に規則的に配置された空隙配置構造体１において、図１（ｂ）にｄで示される空隙部の孔サイズは、被測定物の大きさ（例えば、被測定物の表面上の２点間を結ぶ直線のうち最長のものの長さ）以下であることが好ましく、空隙部の孔サイズと被測定物の大きさとが同程度であることが最も好ましい。具体的な孔サイズは、被測定物の大きさに応じて決定されるものであり、特に限定されないが、０．１５〜１５０μｍであることが好ましく、測定感度向上の観点からは、孔サイズが０．９〜９μｍであることがより好ましい。
なお、測定に用いる電磁波の波長は、このような孔サイズの１０分の１以上、１０倍以下に設定されることが好ましい。これにより、散乱する電磁波の強度がより強くなり、信号をより検出しやすくなる。
また、空隙部が図１（ａ）に示すように縦横に規則的に配置された空隙配置構造体１において、図１（ｂ）にｓで示される空隙部の格子間隔（ピッチ）は、測定に用いる電磁波の波長の１０分の１以上、１０倍以下であることが好ましい。このようにすることで、散乱がより生じやすくなる。具体的な格子間隔は０．１５〜１５０μｍであることが好ましく、測定感度向上の観点からは、格子間隔が１．３〜１３μｍであることがより好ましい。
また、空隙配置構造体の厚みは、測定に用いる電磁波の波長の５倍以下であることが好ましい。このようにすることで、散乱する電磁波の強度がより強くなって信号を検出しやすくなる。
空隙配置構造体の全体の寸法は、特に制限されず、照射される電磁波のビームスポットの面積等に応じて決定される。
空隙配置構造体は、少なくともその表面の一部が導体で形成されていることが好ましい。空隙配置構造体１の表面とは、図１（ａ）に示す主面１０ａ、側面１０ｂおよび空隙部の内壁１１ａの表面である。なお、空隙配置構造体の全体が導体で形成されていてもよい。
ここで、導体とは、電気を通す物体（物質）のことであり、金属だけでなく半導体も含まれる。金属としては、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシル基などの官能基を有する化合物の官能基と結合することのできる金属や、ヒドロキシ基、アミノ基などの官能基を表面にコーティングできる金属、ならびに、これらの金属の合金を挙げることができる。具体的には、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム、シリコン、ゲルマニウムなどが挙げられ、好ましくは金、銀、銅、ニッケル、クロムであり、さらに好ましくは金、ニッケルである。金、ニッケルを用いた場合、特にホスト分子がチオール基（−ＳＨ基）を有する場合に該チオール基を用いてホスト分子を空隙配置構造体の表面に結合させることができるため有利である。また、ニッケルを用いた場合、特にホスト分子がアルコキシシラン基を有する場合、該アルコキシシラン基を用いてホスト分子を空隙配置構造体の表面に結合させることができるため有利である。また、半導体としては、例えば、ＩＶ族半導体（Ｓｉ、Ｇｅなど）や、ＩＩ−ＶＩ族半導体（ＺｎＳｅ、ＣｄＳ、ＺｎＯなど）、ＩＩＩ−Ｖ族半導体（ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＧａＮなど）、ＩＶ族化合物半導体（ＳｉＣ、ＳｉＧｅなど）、Ｉ−ＩＩＩ−ＶＩ族半導体（ＣｕＩｎＳｅ２など）などの化合物半導体、有機半導体が挙げられる。
（１） ろ過工程
本発明におけるろ過工程では、上述の空隙配置構造体をフィルターとして用いることにより、被測定物が検体中からろ過され、被測定物が空隙配置構造体に保持される。
本発明におけるろ過工程では、上述の空隙配置構造体をフィルターとして用いることにより、被測定物が検体中からろ過され、被測定物が空隙配置構造体に保持される。
また、測定感度を向上させ、測定のばらつきを抑えることにより再現性の高い測定を行う観点からは、空隙配置構造体の表面に直接被測定物を付着させることが好ましい。例えば、液体検体から空隙配置構造体を用いて被測定物をろ過した後、空隙配置構造体の空隙部等に残存した湿潤状態の被測定物を乾燥することにより、被測定物を空隙配置構造体に保持する方法が挙げられる。
他にも、空隙配置構造体の表面と被測定物との間に直接的に化学結合等を形成する方法が挙げられる。化学結合としては、共有結合（例えば、金属−チオール基間の共有結合など）、ファンデルワールス結合、イオン結合、金属結合、水素結合などが挙げられる。
なお、前記空隙配置構造体の表面には、被測定物が吸着しやすいような修飾が施されていることが好ましい。被測定物が吸着しやすいような修飾とは、例えば、被測定物と親和性の高い物質によるコーティングが挙げられる。
他にも、空隙配置構造体の表面にホスト分子を結合する修飾を施し、該ホスト分子に被測定物が結合されるようにしてもよい。ここで、ホスト分子とは、被測定物を特異的に結合させることのできる分子などであり、ホスト分子と被測定物の組み合わせとしては、例えば、抗原と抗体、糖鎖とタンパク質、脂質とタンパク質、低分子化合物（リガンド）とタンパク質、タンパク質とタンパク質、一本鎖ＤＮＡと一本鎖ＤＮＡなどが挙げられる。
また、ホスト分子を結合する修飾以外の方法として、ディップ（液に構造体をつけて引き上げる方法）、蒸着（ＣＶＤ、ＰＶＤ）が挙げられる。
なお、ろ過工程は、測定工程とは別途の工程であってもよく、測定工程と一連の工程であってもよい。具体的には、例えば、ろ過工程で検体から被測定物をろ過して、空隙配置構造体に保持した後に、被測定物が保持された空隙配置構造体を別途設置された測定機器に移動させてから測定工程を実施してもよく、被測定物が保持された空隙配置構造体を移動等せずに、そのままの状態で電磁波を照射し、測定工程を実施してもよい。
（２） 測定工程
本発明における測定工程の一例の概略を図２を用いて説明する。図２は、測定工程に用いられる測定装置の一例の全体構造を模式的に示す図である。この測定装置は、レーザ２（例えば、短光パルスレーザ）から照射されるレーザ光を半導体材料に照射することで発生する電磁波（例えば、２０ＧＨｚ〜１２０ＴＨｚの周波数を有するテラヘルツ波）パルスを利用するものである。
本発明における測定工程の一例の概略を図２を用いて説明する。図２は、測定工程に用いられる測定装置の一例の全体構造を模式的に示す図である。この測定装置は、レーザ２（例えば、短光パルスレーザ）から照射されるレーザ光を半導体材料に照射することで発生する電磁波（例えば、２０ＧＨｚ〜１２０ＴＨｚの周波数を有するテラヘルツ波）パルスを利用するものである。
図２の構成において、レーザ２から出射したレーザ光を、ハーフミラー２０で２つの経路に分岐する。一方は、電磁波発生側の光伝導素子７１に照射され、もう一方は、複数のミラー２１（同様の機能のものは付番を省略）を用いることで、時間遅延ステージ２６を経て受信側の光伝導素子７２に照射される。光伝導素子７１、７２としては、ＬＴ−ＧａＡｓ（低温成長ＧａＡｓ）にギャップ部をもつダイポールアンテナを形成した一般的なものを用いることができる。また、レーザ２としては、ファイバー型レーザやチタンサファイアなどの固体を用いたレーザなどを使用できる。さらに、電磁波の発生、検出には、半導体表面をアンテナなしで用いたり、ＺｎＴｅ結晶の様な電気光学結晶を用いたりしてもよい。ここで、発生側となる光伝導素子７１のギャップ部には、電源３により適切なバイアス電圧が印加されている。
発生した電磁波は放物面ミラー２２で平行ビームにされ、放物面ミラー２３によって、空隙配置構造体１に照射される。空隙配置構造体１を透過したテラヘルツ波は、放物面ミラー２４，２５によって光伝導素子７２で受信される。光伝導素子７２で受信された電磁波信号は、アンプ６で増幅されたのちロックインアンプ４で時間波形として取得される。そして、算出手段を含むＰＣ（パーソナルコンピュータ）５でフーリエ変換などの信号処理された後に、空隙配置構造体１の透過率スペクトルなどが算出される。ロックインアンプ４で取得するために、発振器８の信号で発生側の光伝導素子７１のギャップに印加する電源３からのバイアス電圧を変調（振幅５Ｖ〜３０Ｖ）している。これにより同期検波を行うことでＳ／Ｎ比を向上させることができる。
以上に説明した測定方法は、一般にテラヘルツ時間領域分光法（ＴＨｚ−ＴＤＳ）と呼ばれる方法である。
図２では、散乱が透過である場合、すなわち電磁波の透過率を測定する場合を示している。本発明において「散乱」とは、前方散乱の一形態である透過や、後方散乱の一形態である反射などを含む広義の概念を意味し、好ましくは透過や反射である。さらに好ましくは、０次方向の透過や０次方向の反射である。
なお、一般的に、回折格子の格子間隔をｓ、入射角をｉ、回折角をθ、波長をλとしたとき、回折格子によって回折されたスペクトルは、
ｓ（ｓｉｎ ｉ −ｓｉｎ θ）＝ｎλ …（１）
と表すことができる。上記「０次方向」の０次とは、上記式（１）のｎが０の場合を指す。ｓおよびλは０となり得ないため、ｎ＝０が成立するのは、ｓｉｎ ｉ− ｓｉｎ θ＝０の場合のみである。従って、上記「０次方向」とは、入射角と回折角が等しいとき、つまり電磁波の進行方向が変わらないような方向を意味する。
ｓ（ｓｉｎ ｉ −ｓｉｎ θ）＝ｎλ …（１）
と表すことができる。上記「０次方向」の０次とは、上記式（１）のｎが０の場合を指す。ｓおよびλは０となり得ないため、ｎ＝０が成立するのは、ｓｉｎ ｉ− ｓｉｎ θ＝０の場合のみである。従って、上記「０次方向」とは、入射角と回折角が等しいとき、つまり電磁波の進行方向が変わらないような方向を意味する。
本発明で用いられる電磁波は、空隙配置構造体の構造に応じて散乱を生じさせることのできる電磁波であれば特に限定されず、電波、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線、ガンマ線等のいずれも使用することができ、その周波数も特に限定されるものではないが、好ましくは１ＧＨｚ〜１ＰＨｚであり、さらに好ましくは２０ＧＨｚ〜２００ＴＨｚの周波数を有するテラヘルツ波である。
電磁波は、例えば、所定の偏波方向を有する直線偏光の電磁波（直線偏波）や無偏光の電磁波（無偏波）を用いることができる。直線偏光の電磁波としては、例えば、短光パルスレーザを光源としてＺｎＴｅ等の電気光学結晶の光整流効果により発生するテラヘルツ波や、半導体レーザから出射される可視光や、光伝導アンテナから放射される電磁波等が挙げられる。無偏光の電磁波としては、高圧水銀ランプやセラミックランプから放射される赤外光等が挙げられる。
測定工程においては、上述のようにして求められる空隙配置構造体において散乱した電磁波の周波数特性に関する少なくとも１つのパラメータに基づいて、被測定物の特性が測定される。例えば、空隙配置構造体１において前方散乱（透過）した電磁波の周波数特性に生じたディップ波形や、後方散乱（反射）した電磁波の周波数特性に生じたピーク波形などが、被測定物の存在により変化することに基づいて被測定物の特性を測定することができる。
ここで、ディップ波形とは、照射した電磁波に対する検出した電磁波の比率（例えば、電磁波の透過率）が相対的に大きくなる周波数範囲において、空隙配置構造体の周波数特性（例えば、透過率スペクトル）に部分的に見られる谷型（下に凸）の部分の波形である。また、ピーク波形とは、照射した電磁波に対する検出した電磁波の比率（例えば、電磁波の反射率）が相対的に小さくなる周波数範囲において、空隙配置構造体の周波数特性（例えば、反射率スペクトル）に部分的に見られる山型（上に凸）の波形である。
本発明の測定方法によれば、従来よりも簡便な工程で、より微量の被測定物を測定できるようになる。具体的には、例えば、被測定物が液体検体中に含まれるわずかな大腸菌などの微生物である場合でも、培養などを行わずに、検体から微生物をろ過濃縮して、その場で被測定物を測定することが可能となる。
また、クリーンルームへのガス配管等を経由した埃侵入の検知に応用すれば、抽出フィルターと測定デバイスとを兼ねる空隙配置構造体を配管に設置することで、簡便に高精度な検知を行うことが可能となる。
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（実施例１）
本実施例では、検体中から空隙配置構造体を用いて酵母をろ過抽出し、酵母が付着した空隙配置構造体にそのまま電磁波を照射することで、検体中の酵母数を測定した。以下、その詳細について説明する。
本実施例では、検体中から空隙配置構造体を用いて酵母をろ過抽出し、酵母が付着した空隙配置構造体にそのまま電磁波を照射することで、検体中の酵母数を測定した。以下、その詳細について説明する。
まず、平均細胞径が５μｍの酵母が培養された培養液を用意した。遠心沈殿法により、培養液の純水洗浄を２回行った後、沈殿物（酵母）に純水を加えて混合し、酵母懸濁液を得た。
得られた酵母懸濁液について、メチレンブルー染色を行い、死んでいる酵母を染色した後、細胞自動カウント装置（Ｃｅｌｌｏｍｅｔｅｒ（登録商標） Ｎｅｘｃｅｌｏｍ Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅ社）を用いて、水溶液中の生存細胞数を計測した結果、５×１０７［個／ｍＬ］であった。
この生存細胞数が確認された酵母懸濁液について、（１）１／１０希釈、（２）１／３０希釈、（３）１／１００希釈を行い、各々を検体１〜３とした。
図３に示すように、空隙配置構造体として、正方形の空隙が主面方向に正方格子状に配置されたＮｉ製の構造体で、寸法が、ピッチ（図３（ｂ）のＳ）が６．５μｍ、開口サイズ（図３（ｂ）のｄ）が４μｍ、厚みが１．５μｍであるものを用意した。また、平板状構造体の全体は円盤状であり、その外径は６ｍｍであった。
続いて、空隙配置構造体へ酵母が吸着し易くなるようにするため、空隙配置構造体の表面をコラーゲンでコーティングした。具体的には、０．０２Ｎの酢酸水溶液でコラーゲンＩ（日本ＢＤ社製）を溶かして１［μｇ／ｍＬ］のコラーゲン酢酸溶液を作製し、この溶液中に空隙配置構造体を含浸させて室温で約２時間放置した後、超純水で洗浄、乾燥することで、表面にコラーゲンが吸着した空隙配置構造体を得た。
図３（ｂ）に示すように、外径１５ｍｍの２枚の樹脂製冶具１２で空隙配置構造体１を挟み込むようにして固定し、その空隙配置構造体１が露出している部分（図３（ａ）参照）に、前述の検体１〜３のいずれかを２００μＬピペットで滴下し、吸引ろ過によって水分を取り除いた後に、乾燥することで、検体中の酵母をろ過し、空隙配置構造体に保持した。
図４に、検体１からろ過され、空隙配置構造体の空隙部に保持された酵母のＳＥＭ写真を示す。図４のボールがつぶれたような形の物質が酵母であり、平均細胞径が５μｍの酵母に対し、開口が４μｍ角の空隙配置構造体を用いることで、確かに酵母のろ過および空隙配置構造体への保持がなされていることが確認された。なお、図４に示す空隙配置構造体の空隙部の角部には、空隙部内に突出するように突起が形成されている。
次に、検体１〜３を上記工程で抽出した後の空隙配置構造体（試料１〜３）の透過率特性（透過率スペクトル）を測定した。得られた透過率スペクトルを図５に示す。コントロールとして、純水（酵母が入っていない場合）を同様に処理した結果もあわせて示す。なお、測定装置としてＰＥ社製のｓｐｅｃｔｒｕｍ ｏｎｅを使用し、基準を空気として、４回積算、４ｃｍ−１の条件で測定を行った。
図５に示す結果から、空隙配置構造体で抽出された酵母の数が増えるにしたがって（酵母懸濁液の酵母密度が増えるにしたがって）、空隙配置構造体の透過率が低下していくことがわかった。
また、上記試料１〜３について、空隙配置構造体上の酵母のＳＥＭ写真を１０箇所撮影し、１枚ごとに目視で単位面積（１００μｍ２）当たりの酵母の数を確認した。１０枚の写真の平均値を空隙配置構造体上の単位面積当たりの酵母数とした。図６は、空隙配置構造体上の酵母数と空隙配置構造体の透過率との関係を示すグラフである。図６では、空隙配置構造体上の単位面積（１００μｍ２）当たりの酵母数を横軸とし、図５に示す試料１〜３の透過率スペクトルにおける透過率のピーク値（透過率ピーク）を縦軸とした。
図６に示す結果から、空隙配置構造体上の酵母数と空隙配置構造体の透過率ピークとは高い相関性を有していることが分かる。このことから、空隙配置構造体で酵母をろ過抽出し、空隙配置構造体の透過特性を測定することで、検体中の酵母数を高精度で測定可能であることがわかる。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
１ 空隙配置構造体、１０ａ 主面、１０ｂ 側面、１０ｃ 外周、１１ 空隙部、１１ａ 内壁、１２ 樹脂製冶具、２ レーザ、２０ ハーフミラー、２１ ミラー、２２，２３，２４，２５ 放物面ミラー、２６ 時間遅延ステージ、３ 電源、４ ロックインアンプ、５ ＰＣ（パーソナルコンピュータ）、６ アンプ、７１，７２ 光電導素子、８ 発振器。
Claims (5)
- 検体中の被測定物の有無または量を測定する方法であって、
主面に垂直な方向に貫通した複数の空隙部を有する空隙配置構造体をフィルターとして用いて、前記検体中から前記被測定物をろ過し、前記被測定物を前記空隙配置構造体に保持するろ過工程と、
前記被測定物が保持された前記空隙配置構造体に電磁波を照射して、前記空隙配置構造体で散乱された電磁波の特性を検出する測定工程とを含むことを特徴とする、測定方法。 - 前記空隙配置構造体の空隙部の大きさが、前記被測定物が通過できないか、または通過し難い大きさである、請求項１に記載の測定方法。
- 前記空隙配置構造体の表面は、被測定物が吸着しやすいように修飾されている、請求項１または２に記載の測定方法。
- 前記検体は液体または気体である、請求項１〜３のいずれかに記載の測定方法。
- 前記被測定物は、液体中の微生物、または、気体中の無機物、有機物あるいは、その複合物である、請求項４に記載の測定方法。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160614 |