JPWO2014014087A1 - 感光性樹脂エレメントの製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明の課題は、生産性に優れ、かつ外観が良好である、感光性樹脂エレメントの製造方法を提供することであり、(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ重量平均分子量が5,000〜500,000であるバインダー用樹脂、(b)光重合可能な不飽和化合物、(c)光重合開始剤、(d)アセトン、及び(e)非アセトン溶媒を調合して、調合液を得る工程、ここで、該(d)アセトンと該(e)非アセトン溶媒の合計質量に対する該(d)アセトンの質量の比率は、30質量%〜98質量%であり、そして該調合液中の全固形分の比率は、30質量%〜80質量%である;及び該調合液を支持層上に適用し、乾燥して、該支持層上に感光性樹脂エレメントを形成する工程を含む感光性樹脂エレメントの製造方法が提供される。

Description

本発明は、感光性樹脂エレメントの製造方法、等に関する。
プリント回路を作製するための感光性樹脂組成物の製造方法は、バインダー用樹脂、光重合可能な不飽和化合物、光重合開始剤、染料等を、メチルエチルケトンに代表されるケトン類、酢酸エチルに代表されるエステル類、テトラヒドロフランに代表されるエ−テル類等を主成分とする溶媒中で均一に攪拌溶解する工程を含むことが一般的である。例えば、特許文献1では、メチルエチルケトン/1−メトキシ−2−プロパノール=2/1(重量比)の混合溶媒を用いることにより調製された感光性樹脂調合液が記述されている。また。得られた調合液を、支持層であるポリエステルフィルム等の上にダイコーター等を用いて均一に塗布し、乾燥工程で溶媒を乾燥させて感光性樹脂積層体を得ることもできる。さらに、保護層としてポリエチレンフィルム等でラミネートして3層構造の感光性樹脂積層体を得ることもできる。これらの積層体を一般的にはドライフィルムフォトレジスト(以下「DF」と略す。)と呼ぶ。
特開平11−143069号公報
しかしながら、メチルエチルケトンを溶媒の主成分として用いる従来の製造方法では、バインダー用樹脂と光重合可能な不飽和化合物の溶解性及び染料等の添加剤の溶解性が不十分であり、調合液を濾過する際にフィルターが詰まることがしばしばあった。また、製造されたDFの表面の、微小な凹凸を低減し、外観の目視検査でムラとして観察される頻度を低減する観点からはなお改良の余地があった。
したがって、本発明の課題は、生産性に優れ、かつ外観が良好である、感光性樹脂エレメントの製造方法を提供することである。
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、上記の調合液を作製する際にアセトンを含む混合溶媒を用いて、感光性樹脂組成物を作製すると、生産性が向上し、製造されたDFの外観がムラ等なく良好であることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の通りである。
[1] 以下の工程:
(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ重量平均分子量が5000〜500,000であるバインダー用樹脂、
(b)光重合可能な不飽和化合物、
(c)光重合開始剤、
(d)アセトン、及び
(e)非アセトン溶媒
を調合して、調合液を得る工程、ここで、該(d)アセトンと該(e)非アセトン溶媒の合計質量に対する該(d)アセトンの質量の比率は、30質量%〜98質量%であり、そして該調合液中の全固形分の比率は、30質量%〜80質量%である;及び
該調合液を支持層上に適用し、乾燥して、該支持層上に感光性樹脂エレメントを形成する工程;
を含む感光性樹脂エレメントの製造方法。
[2] 前記(e)非アセトン溶媒は、アルコール、エステル及びエーテルから成る群から選択される、[1]に記載の方法。
[3] 前記アルコールは、メタノール、エタノール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール及びノルマルブタノールから成る群から選択される、[2]に記載の方法。
[4] 前記アルコールはエタノールである、[3]に記載の方法。
[5] 前記エステルは酢酸エチルである、[2]に記載の方法。
[6] 前記エーテルはテトラヒドロフランである、[2]に記載の方法。
[7] 前記調合液の乾燥後膜厚が5μm〜50μmである、[1]〜[6]のいずれかに記載の方法。
また、本発明は、上記調合液を、支持層上に塗工し、乾燥することでDFを製造する方法、さらには、支持層に積層した感光性樹脂層の表面に保護層を積層して、3層構造としたDFを製造する方法も提供する。
本発明によれば、生産性に優れ、かつ外観が良好である、感光性樹脂エレメントの製造方法が提供される。
図1(1)は、外観評価がSであるロール状積層体の外観を示す写真であり、図1(2)は、外観評価がAであるロール状積層体の外観を示す写真であり、図1(3)は、外観評価がBであるロール状積層体の外観を示す写真である。
以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、「実施の形態」と略記する。)について詳細に説明する。尚、本発明は、実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
実施の形態では、感光性樹脂エレメントは、以下の工程:
(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5000〜500,000であるバインダー用樹脂、
(b)光重合可能な不飽和化合物、
(c)光重合開始剤、
(d)アセトン、
(e)非アセトン溶媒、及び
所望により(f)その他の添加剤
を調合して、調合液を得る工程;及び
該調合液を支持層上に適用し、乾燥して、該支持層上に感光性樹脂エレメントを形成する工程;
を含む方法により製造されることができる。
感光性エレメントとは、光を受けることにより性質を変える物をいう。感光性エレメントは、例えば、フィルム、板、シート、ロール、成形品などの様々な形態でよく、例えば、感光性樹脂を含むか、又は感光性樹脂から成る物でよい。より詳細には、感光性樹脂を含む組成物(以下、「感光性樹脂組成物」という。)をフィルムなどの支持層に塗布することにより、感光性樹脂から成る層(以下、「感光性樹脂層」という。)を支持層に積層して得られる感光性樹脂積層体が、感光性エレメントとして好ましい。なお、感光性樹脂組成物は、任意の状態(例えば、液体、固体、エマルション、懸濁物など)でよいが、感光性樹脂を含む液体(以下、「調合液」ともいう。)であることが好ましい。さらに、感光性樹脂積層体の感光性樹脂層が露出している部分に保護材(例えば、保護フィルム、合紙フィルムなど)をさらに積層して巻き取ることにより得られる感光性樹脂ロールが、感光性エレメントとしてより好ましく、感光性樹脂ロールの全体又は感光性樹脂層部分が乾燥されているドライフィルムロールの形態が特に好ましい。
成分(a)〜(f)を含む調合液を用いて製造される感光性樹脂エレメントの厚さ(溶媒を乾燥した後の膜厚)は、5μm〜50μmであることが好ましい。感光性樹脂エレメントの厚さは、調合液を支持層に塗布する精度の観点から5μm以上に調整されることが好ましく、一方で、乾燥工程での乾燥性の観点から50μm以下に調整されることが好ましい。感光性樹脂エレメントの厚さは、30μm〜50μmであることがより好ましい。
なお、感光性樹脂層が薄いほど解像度は向上し、また、厚いほど膜強度が向上するので、膜厚については用途に応じて適宜選択することができる。
<調合液>
調合液は、(a)バインダー用樹脂、(b)光重合可能な不飽和化合物、(c)光重合開始剤、(d)アセトン、及び(e)非アセトン溶媒、及び所望により、(f)その他の添加剤を含むことが好ましい。
感光性樹脂エレメントの製造方法において、調合液中の全固形分の比率は、30質量%〜80質量%であることが好ましい。調合液中の全固形分の比率は、例えば、成分(a)〜(c)及び(f)を、(d)アセトン及び(e)非アセトン溶媒に溶解することにより得られた調合液の固形分濃度であり、塗工速度を向上させる効果を得るために、乾燥・蒸発させる溶媒量を制御するという観点から30質量%以上であること好ましく、一方で、調合液の均一性の観点から80質量%以下であることが好ましい。調合液中の全固形分の比率は、40質量%〜60質量%であることがより好ましい。
以下、成分(a)〜(f)について詳細に説明する。
(a)バインダー用樹脂
(a)バインダー用樹脂は、カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5000〜500,000であり、そしてバインダーとして使用される。
(a)バインダー用樹脂中のカルボキシル基は、感光性樹脂エレメントにアルカリ水溶液に対する現像性又は剥離性を与えるために好ましい。酸当量は、現像耐性、解像性及び密着性の観点から100以上が好ましく、一方で、現像性及び剥離性の観点から600以下が好ましい。
また、(a)バインダー用樹脂の重量平均分子量は、DFの厚みを均一に維持し、現像液に対する耐性を得るという観点から好ましくは5,000以上、より好ましくは20,000以上である。一方で、現像性を維持するという観点から、好ましくは500,000以下であり、より好ましくは300,000以下である。
また好ましい分子量分布は1.5以上、より好ましくは2以上である。一方、上限としては好ましくは7以下であり、より好ましくは5以下である。
典型的には、バインダー用樹脂(a)は、少なくともカルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む熱可塑性共重合体である。熱可塑性共重合体は、後述する第一の単量体の少なくとも1種と後述する第二の単量体の少なくとも1種とを共重合させて得られることが好ましい。
第一の単量体は、分子中にカルボキシル基を含有する単量体である。第一の単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸無水物、及びマレイン酸半エステルなどが挙げられる。中でも、(メタ)アクリル酸が好ましい。本明細書では、(メタ)アクリルとは、アクリル又はメタクリルを示す。
第二の単量体は、非酸性であり、かつ分子中に重合性不飽和基を少なくとも1個有する単量体である。第二の単量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル等のビニルアルコールのエステル類;(メタ)アクリロニトリル、スチレン系モノマー(例えば、スチレン、及び重合可能なスチレン誘導体)などが挙げられる。中でも、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、スチレン、及びベンジル(メタ)アクリレートが好ましく、そして解像度の観点からスチレンを用いることは特に好ましい。
(a)バインダー用樹脂は、第一及び第二の単量体を混合し、溶剤、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、又はイソプロパノールで希釈した溶液に、ラジカル重合開始剤、例えば、過酸化ベンゾイル、アゾイソブチロニトリルを適量添加し、加熱攪拌することにより合成されることが好ましい。混合物の一部を反応液に滴下しながら合成を行う場合もある。反応終了後、さらに溶剤を(a)バインダー用樹脂に加えて、所望の濃度に調整する場合もある。合成手段としては、溶液重合以外に、塊状重合、懸濁重合、又は乳化重合を用いてもよい。
(a)バインダー用樹脂において、第一の単量体と第二の単量体の好ましい共重合割合は、第一の単量体が10質量%〜60質量%であり、かつ第二の単量体が40質量%〜90質量%である。より好ましくは、第一の単量体が15質量%〜35質量%であり、かつ第二の単量体が65質量%〜85質量%である。
(a)バインダー用樹脂のより具体的な例としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸及びスチレンを共重合成分として含む重合体、メタクリル酸メチル、メタクリル酸及びアクリル酸n−ブチルを共重合成分として含む重合体、並びにメタクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル及びアクリル酸2−エチルヘキシルを共重合成分として含む重合体等が挙げられる。
実施の形態では、感光性樹脂エレメント中の(a)バインダー用樹脂の含有量(但し、感光性樹脂エレメントの固形分総量に対してである。以下、特別に規定される場合以外は、各含有成分において同じ。)は、20質量%〜90質量%の範囲であり、好ましい下限は25質量%、好ましい上限は75質量%であり、より好ましい下限は40質量%、より好ましい上限は65質量%である。この含有量は、アルカリ現像性を維持するという観点から20質量%以上であることが好ましく、一方で、露光によって形成されるレジストパターンがレジストとしての性能を十分に発揮するという観点から90質量%以下であることが好ましい。
(b)光重合可能な不飽和化合物
(b)光重合可能な不飽和化合物は、例えば、エチレン性不飽和結合を有することによって付加重合性を有するモノマーである。エチレン性不飽和結合は、末端エチレン性不飽和基であることが好ましい。
(b)光重合可能な不飽和化合物の具体例としては、例えば、ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均1単位のエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート又はビスフェノールAの両端にそれぞれ平均2単位のエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート、ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均5単位のエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート、ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均7単位のエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート、ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均6単位のエチレンオキサイドと平均2単位のプロピレンオキサイドを付加したポリアルキレングリコールのジメタクリレート、ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均15単位のエチレンオキサイドと平均2単位のプロピレンオキサイドを付加したポリアルキレングリコールのジメタクリレートが好ましい。
高解像性、硬化膜の剥離性能、及び硬化膜柔軟性の観点から、(b)光重合可能な不飽和化合物としては、例えば、4−ノニルフェニルヘプタエチレングリコールジプロピレングリコールアクリレート又は4−ノニルフェニルオクタエチレングリコールアクリレート、4−ノニルフェニルテトラエチレングリコールアクリレート、4−オクチルフェニルペンタプロピレングリコールアクリレートなどが好ましい。
その他の(b)光重合可能な不飽和化合物の具体例としては、例えば、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、無水フタル酸と2−ヒドロキシプロピルアクリレートとの半エステル化合物とプロピレンオキシドとの反応物、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)プロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシペンタエトキシフェニル)プロパン、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパンをアクリレート化したトリアクリレート、ペンタエリスリトールに平均4モルのエチレンオキサイドを付加したグリコールのテトラアクリレート、及びイソシアヌル酸エステル化合物の多官能(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらは、単独で使用しても、2種類以上併用してもよい。
感光性樹脂エレメント中の(b)光重合可能な不飽和化合物の含有量は、5質量%〜75質量%の範囲であることが好ましい。この含有量は、硬化不良及び現像時間の遅延を抑えるという観点から、好ましくは5質量%以上であり、より好ましくは15質量%以上、更に好ましくは30質量%以上である。一方で、この含有量は、コールドフロー及び硬化レジストの剥離遅延を抑えるという観点から好ましくは75質量%以下であり、より好ましくは60質量%以下であり、さらに好ましくは50質量%以下である。
(c)光重合開始剤
(c)光重合開始剤は、光によりモノマーを重合させる化合物である。(c)光重合開始剤としては、例えば、感光性樹脂の光重合開始剤として通常使用されるものを適宜使用できるが、特にヘキサアリールビスイミダゾール(以下、トリアリールイミダゾリル二量体ともいう。)が好ましく用いられる。
トリアリールイミダゾリル二量体としては、例えば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体(以下、「2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,1’−ビスイミダゾール」ともいう。)、2,2’,5−トリス−(o−クロロフェニル)−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−4’,5’−ジフェニルイミダゾリル二量体、2,4−ビス−(o−クロロフェニル)−5−(3,4−ジメトキシフェニル)−ジフェニルイミダゾリル二量体、
2,4,5−トリス−(o−クロロフェニル)−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−クロロフェニル)−ビス−4,5−(3,4−ジメトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2−フルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2,3−ジフルオロメチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2,4−ジフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、
2,2’−ビス−(2,5−ジフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2,6−ジフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、
2,2’−ビス−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、
2,2’−ビス−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、2,2’−ビス−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、及び2,2’−ビス−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス−(3−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体などが挙げられる。
特に、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体は、解像性又は硬化レジスト膜の強度に対して高い効果を有する光重合開始剤であり、好ましく用いられる。上記で列挙されたトリアリールイミダゾリル二量体は、単独で用いてもよいし又は2種類以上組み合わせて用いてもよい。また、上記で列挙されたトリアリールイミダゾリル二量体は、下記のアクリジン化合物、ピラゾリン化合物などと併用して使用されることができる。
(c)光重合開始剤としては、アクリジン化合物又はピラゾリン化合物が好適に使用される。アクリジン化合物としては、例えば、アクリジン、9−フェニルアクリジン、9−(4−トリル)アクリジン、9−(4−メトキシフェニル)アクリジン、9−(4−ヒドロキシフェニル)アクリジン、9−エチルアクリジン、9−クロロエチルアクリジン、9−メトキシアクリジン、9−エトキシアクリジン、
9−(4−メチルフェニル)アクリジン、9−(4−エチルフェニル)アクリジン、9−(4−n−プロピルフェニル)アクリジン、9−(4−n−ブチルフェニル)アクリジン、9−(4−tert−ブチルフェニル)アクリジン、9−(4−エトキシフェニル)アクリジン、9−(4−アセチルフェニル)アクリジン、9−(4−ジメチルアミノフェニル)アクリジン、9−(4−クロロフェニル)アクリジン、
9−(4−ブロモフェニル)アクリジン、9−(3−メチルフェニル)アクリジン、9−(3−tert−ブチルフェニル)アクリジン、9−(3−アセチルフェニル)アクリジン、9−(3−ジメチルアミノフェニル)アクリジン、9−(3−ジエチルアミノフェニル)アクリジン、9−(3−クロロフェニル)アクリジン、9−(3−ブロモフェニル)アクリジン、9−(2−ピリジル)アクリジン、9−(3−ピリジル)アクリジン、9−(4−ピリジル)アクリジンなどが挙げられる。中でも、9−フェニルアクリジンが好ましい。
ピラゾリン化合物としては、例えば、1−フェニル−3−(4−tert−ブチル−スチリル)−5−(4−tert−ブチル−フェニル)−ピラゾリン、1−(4−(ベンゾオキサゾール−2−イル)フェニル)−3−(4−tert−ブチル−スチリル)−5−(4−tert−ブチル−フェニル)−ピラゾリン、1−フェニル−3−(4−ビフェニル)−5−(4−tert−ブチル−フェニル)−ピラゾリン、1−フェニル−3−(4−ビフェニル)−5−(4−tert−オクチル−フェニル)−ピラゾリンなどが挙げられる。
上記以外の(c)光重合開始剤としては、例えば、2−エチルアントラキノン、オクタエチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、及び3−クロロ−2−メチルアントラキノン等のキノン類、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン[4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン]、及び4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、メチルベンゾイン、及びエチルベンゾイン等のベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、チオキサントン類とアルキルアミノ安息香酸の組み合わせ、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−O−ベンゾインオキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(O−エトキシカルボニル)オキシム等のオキシムエステル類が挙げられる。
なお、上述のチオキサントン類とアルキルアミノ安息香酸の組み合わせとしては、例えば、エチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸エチルとの組み合わせ、2−クロルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸エチルとの組み合わせ、及びイソプロピルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸エチルとの組み合わせなどが挙げられる。また、(c)光重合開始剤としては、N−アリールアミノ酸を用いてもよい。N−アリールアミノ酸の例としては、N−フェニルグリシン、N−メチル−N−フェニルグリシン、N−エチル−N−フェニルグリシン等が挙げられる。中でも、N−フェニルグリシンが特に好ましい。
感光性樹脂エレメント中の(c)光重合開始剤の含有量は、0.01質量%〜30質量%の範囲であり、より好ましい下限は0.05質量%であり、さらに好ましい下限は0.1質量%であり、より好ましい上限は15質量%であり、さらに好ましい上限は10質量%である。(c)光重合開始剤の含有量は、露光による光重合時に十分な感度を得るという観点から0.01質量%以上であることが好ましく、一方で、光重合時に感光性樹脂エレメントの底面(すなわち、光源から遠い部分)にまで光を充分に透過させ、良好な解像性及び密着性を得るという観点から、30質量%以下であることが好ましい。
(d)アセトン及び(e)非アセトン溶媒
調合液は、(d)アセトン、(e)非アセトン溶媒を含む。調合液は、前記(a)バインダー用樹脂、前記(b)光重合可能な不飽和化合物及び/又は前記(c)光重合開始剤を、任意の順序で又は一括して、(d)アセトン及び/又は(e)非アセトン溶媒に溶解し、混合することにより得られる。
例えば、(d)アセトンと(e)非アセトン溶媒の混合溶媒に(a)バインダー用樹脂を溶解してワニスを形成し、そのワニスに(b)光重合可能な不飽和化合物、(c)光重合開始剤及び/又は(f)その他の添加剤を溶解して粗調合液を得て、所望により粗調合液と(d)アセトン及び/又は(e)非アセトン溶媒とをさらに混合して、所望の固形分濃度を有する調合液を得てよい。したがって、(a)バインダー用樹脂は、溶液重合又は懸濁重合によって得られるが、溶液重合によって得られる(a)バインダー用樹脂は、溶媒として(d)アセトン又は(e)非アセトン溶媒の少なくとも1つを含んでもよい。(a)バインダー用樹脂に含まれる溶媒は、調合液の溶媒としても作用するので、調合液中の固形分の濃度又は粘度を求めるときは、溶媒として計算に加えるものとする。
(e)非アセトン溶媒は、アセトン以外の溶媒であれば、特に限定されるものではないが、(i)エタノールに代表されるアルコール、(ii)酢酸エチルに代表されるエステル、及び(iii)テトラヒドロフランに代表されるエーテルから成る群から選択される少なくとも1つであることが好ましい。また、(e)非アセトン溶媒は、メタノール、エタノール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、及びノルマルブタノールから成る群から選択される少なくとも1つであることがより好ましく、エタノールであることが特に好ましい。
特に、極性溶媒であるエタノールに代表されるアルコールを(e)非アセトン溶媒として使用することは、(d)アセトンのみ又はメチルエチルケトンのみを用いて調製された調合液と比較して、(b)光重合可能な不飽和化合物及び/又は染料等の(f)その他の添加剤の溶解性を向上させる観点から好ましい。
また、アルコールを(e)非アセトン溶媒として使用することは、調合液の粘度を減少させる傾向となり、調合液中の固形分濃度をより高く設定でき、ひいては生産性を向上させる観点から好ましい。
また、アルコールを(e)非アセトン溶媒として使用することは、乾燥工程で乾燥膜表面を良好に維持しつつ溶媒を除去する観点から好ましい。即ち、調合液の塗工速度を上げて、感光性エレメントの生産性を向上させることができる観点から好ましい。なお、ここでいう「乾燥膜表面を良好に維持しつつ」とは、膜表面の平滑性が高く、また目視による外観ムラが少ないことを意味する。
前記(d)アセトンと、前記(e)非アセトン溶媒の合計質量に対する(d)アセトンの質量の比率は、好ましくは30質量%以上、より好ましくは40質量%以上、更に好ましくは50質量%以上、特に好ましくは60質量%以上である。一方、上限として好ましくは98質量%以下,より好ましくは90質量%以下,更に好ましくは80質量%以下、特に好ましくは70質量%以下である。
また、調合液中の全固形分の比率としては、好ましくは30質量%以上、より好ましくは40質量%以上、更に好ましくは50質量%以上である。一方、上限として好ましくは80質量%以下,より好ましくは70質量%以下,更に好ましくは60質量%以下である。
これらの比率をこれらのような範囲に設定することは、乾燥後の膜表面の平滑性を向上させる観点、乾燥工程でピンホール等の未塗工部分を低減する観点、及び良好な塗布面を得る観点から好適である。
本実施形態においては、前記(d)アセトンと、前記(e)非アセトン溶媒の合計質量に対する(d)アセトンの質量の比率、及び調合液中の全固形分の比率が上述のような範囲に設定される。
なお、このように発明特定事項がその他の発明特定事項と組み合わされることで、生産性に優れ、かつ外観が良好である感光性樹脂エレメントの製造方法が実現される。このメカニズムについて、その詳細は詳らかではないが、アセトン比率又は固形分比率が特定範囲に設定されることで、溶媒の乾燥が適切に制御され、乾燥時の膜表面の平滑性が適切に維持されているのではないかと考えられる。
なお、前記(e)非アセトン溶媒としては、エタノールを主成分(好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上、更に好ましくは90質量%以上であり、100質量%であってもよい)として含有することが好ましい。
また、前記調合液の粘度としては、25℃での粘度として好ましくは500Pa・sec〜4000mPa・secである。
(f)その他の添加剤
調合液には、成分(a)〜(e)の他に、(f)その他の添加剤を含有させることができる。具体的には、(f)その他の添加剤には、例えば、染料、顔料等の着色物質が含まれる。このような着色物質としては、ベース染料が使用されることができる。ベース染料としては、例えば、ベーシックグリーン1[CAS番号(以下、同じ):633−03−4]、マラカイトグリーンシュウ酸塩[2437−29−8]、ブリリアントグリーン[633−03−4]、フクシン[632−99−5]、メチルバイオレット[603−47−4]、メチルバイオレット2B[8004−87−3]、クリスタルバイオレット[548−62−9]、メチルグリーン[82−94−0]、ビクトリアブルーB[2580−56−5]、ベーシックブルー7[2390−60−5]、ローダミンB[81−88−9]、ローダミン6G[989−38−8]、ベーシックイエロー2[2465−27−2]等が挙げられる。中でもベーシックグリーン1、マラカイトグリーンシュウ酸塩、及びベーシックブルー7が好ましく、色相安定性および露光コントラストを向上させるという観点から、ベーシックグリーン1、及びベーシックブルー7が特に好ましい。
感光性樹脂エレメント中の着色物質の含有量は、0.001質量%〜1質量%であることが好ましい。着色物質の含有量が、0.001質量%以上であるときは、取り扱い性向上という効果があるため好ましく、一方で、1質量%以下であるときは、保存安定性を維持するという効果があるため好ましい。
また、露光により可視像を与えることができるように、調合液中に発色剤、例えば発色系染料などを含有させてもよい。このような発色系染料としては、例えば、ロイコ染料、又はフルオラン染料とハロゲン化合物との組み合わせなどが挙げられる。
ロイコ染料としては、例えば、トリス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)メタン[ロイコクリスタルバイオレット]、トリス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)メタン[ロイコマラカイトグリ−ン]、及びフルオラン染料などが挙げられる。中でも、ロイコクリスタルバイオレットを用いた場合、コントラストが良好であり好ましい。
ハロゲン化合物としては、例えば、臭化アミル、臭化イソアミル、臭化イソブチレン、臭化エチレン、臭化ジフェニルメチル、臭化ベンザル、臭化メチレン、トリブロモメチルフェニルスルホン、四臭化炭素、トリス(2,3−ジブロモプロピル)ホスフェート、トリクロロアセトアミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、1,1,1−トリクロロ−2,2−ビス(p−クロロフェニル)エタン、ヘキサクロロエタン、クロル化トリアジン化合物等が挙げられる。
感光性樹脂エレメント中の発色剤の含有量は、それぞれ独立に、0.1質量%〜10質量%であることが好ましい。
さらに、感光性樹脂組成物の熱安定性及び保存安定性を向上させるために、ラジカル重合禁止剤、又はベンゾトリアゾール類及びカルボキシベンゾトリアゾール類から成る群から選ばれる少なくとも1種以上の化合物を調合液に含有させることが好ましい。
ラジカル重合禁止剤としては、例えば、p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミン、tert−ブチルカテコール、塩化第一銅、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、ジフェニルニトロソアミンなどが挙げられる。
ベンゾトリアゾール類としては、例えば、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−クロロ−1,2,3−ベンゾトリアゾール、ビス(N−2−エチルヘキシル)アミノメチレン−1,2,3−ベンゾトリアゾール、ビス(N−2−エチルヘキシル)アミノメチレン−1,2,3−トリルトリアゾール、ビス(N−2−ヒドロキシエチル)アミノメチレン−1,2,3−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、4−カルボキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール、5−カルボキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール、(N,N−ジブチルアミノ)カルボキシベンゾトリアゾール、N−(N,N−ジ−2−エチルヘキシル)アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、N−(N,N−ジ−2−ヒドロキシエチル)アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、N−(N,N−ジ−2−エチルヘキシル)アミノエチレンカルボキシベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
感光性樹脂エレメント中のラジカル重合禁止剤、ベンゾトリアゾール類、及び/又はカルボキシベンゾトリアゾール類の合計含有量は、好ましくは0.001質量%〜3質量%であり、より好ましい下限は0.05質量%であり、より好ましい上限は1質量%である。この合計含有量は、感光性樹脂組成物に保存安定性を付与するという観点から0.001質量%以上が好ましく、感度を維持するという観点から3質量%以下が好ましい。
調合液には、必要に応じて、その他の可塑剤を含有させてもよい。このような可塑剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシプロピレンポリオキシエチレンエーテル、ポリオキシエチレンモノメチルエーテル、ポリオキシプロピレンモノメチルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンモノメチルエーテル、ポリオキシエチレンモノエチルエーテル、ポリオキシプロピレンモノエチルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンモノエチルエーテル等のグリコール・エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエートなどのソルビタン誘導体、ジエチルフタレート等のフタル酸エステル類、o−トルエンスルフォン酸アミド、p−トルエンスルフォン酸アミド、クエン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリ−n−プロピル、及びアセチルクエン酸トリ−n−ブチル、ビスフェノールAの両側にそれぞれプロピレンオキサイドを付加したプロピレングリコール、ビスフェノールAの両側にそれぞれエチレンオキサイドを付加したエチレングリコールなどが挙げられる。
感光性樹脂エレメント中の可塑剤の含有量は、好ましくは0.1質量%〜50質量%であり、より好ましい下限は1質量%であり、より好ましい上限は30質量%である。この含有量は、現像時間の遅延を抑え、硬化膜に柔軟性を付与するという観点から0.1質量%以上であることが好ましく、一方で、硬化不足及びコールドフローを抑えるという観点から50質量%以下であることが好ましい。
調合液には、必要に応じて、その他の酸化防止剤を含有させてもよい。酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルフォスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、トリス(モノノニルフェニル)フォスファイト、及びビス(モノノニルフェニル)−ジノニルフェニルフォスファイトなどが挙げられる。
感光性樹脂エレメント中の酸化防止剤の含有量は、好ましくは0.01質量%〜0.8質量%の範囲であり、より好ましい下限は0.01質量%であり、より好ましい上限は0.3質量%である。この含有量が0.01質量%以上である場合、感光性樹脂組成物の色相安定性に優れる効果が良好に発現し、感光性樹脂組成物の露光時における感度が良好になるため好ましく、一方で、この含有量が0.8質量%以下である場合、発色性が抑えられるために色相安定性が良好になるとともに、密着性も良好になるため好ましい。
<支持層>
前記支持層は、その上に形成された感光性樹脂層を支持するための層である。また、感光性樹脂エレメントの製造方法は、所望により、感光性樹脂エレメントの支持層側と反対側に保護層を形成する工程を含んでよい。
支持層としては、露光光源から放射される光を透過する透明なフィルムが好ましい。このようなフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、塩化ビニリデン共重合フィルム、ポリメタクリル酸メチル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、スチレン共重合体フィルム、ポリアミドフィルム、及びセルロース誘導体フィルム等が挙げられる。これらのフィルムとしては、必要に応じて、延伸されたものも使用可能である。支持層のヘーズは、5以下であることが好ましい。支持層の厚さは、薄い方が画像形成性及び経済性の面で有利であるが、強度を維持する必要から、10μm〜30μmのものが好ましく用いられる。
<保護層>
保護層は、感光性樹脂層との密着力について、支持層よりも保護層の方が充分小さく容易に剥離できるという性質を有することが好ましい。例えば、ポリエチレンフィルム、及びポリプロピレンフィルム等が保護層として好ましく使用できる。保護層としては、例えば、特開昭59−202457号公報に示された剥離性の優れたフィルムを用いることができる。保護層の厚さは、10μm〜100μmであることが好ましく、10μm〜50μmであることがより好ましい。
<感光性樹脂エレメントの製造方法>
感光性樹脂エレメントの製造方法において、調合液を支持層上に適用し、乾燥して、支持層上に感光性樹脂エレメントを形成する工程は、塗布手段及び所望により乾燥手段により、行われることができる。塗布手段としては、例えば、スピンコーター、ダイコーター、スプレーコーター、浸漬、印刷、ブレードコーター、ロールコーティング等が利用されることができる。乾燥手段としては、例えば、風乾、熱風乾燥、光照射、ホットプレート、イナートオーブン、温度プログラムを設定できる昇温式オーブンなどが利用されることができる。また、調合液に含まれる複数の成分の調合と調合液の適用及び乾燥とは、空気、又は窒素、アルゴン等の不活性ガスの雰囲気において行なわれることができる。
上述の製造方法により製造された感光性樹脂エレメントは、プリント配線板の製造、ICチップ搭載用リードフレーム製造、メタルマスク製造等の金属箔精密加工、ボール・グリッド・アレイ(BGA)、又はチップ・サイズ・パッケージ(CSP)等のパッケージの製造、チップ・オン・フィルム(COF)又はテープオートメイテッドボンディング(TAB)等のテープ基板の製造、半導体バンプの製造、酸化インジウムスズ(ITO)電極又はアドレス電極、電磁波シールド等のフラットパネルディスプレイの隔壁の製造に利用されることが好ましい。
本実施形態の製造方法によれば、プリント回路の形成に有用な感光性樹脂エレメントの生産性を向上させ、感光性樹脂エレメントから形成されたDFの外観を良好に向上させることができる。
以下に実施例及び比較例を挙げて本実施の形態をより具体的に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、実施例に限定されるものではない。
[実施例1〜12及び比較例1〜8]
表1又は2に記載の感光性樹脂組成物の成分を調合し、溶解槽において撹拌溶解し、フィルターを通して調合液を濾過した。次いで調合液をポンプでダイコーターに送液して支持層であるポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、乾燥ゾーンに送り溶媒を乾燥させた。その後、保護層であるポリエチレンフィルムでラミネートし、表1又は2に記載されている感光層の厚さを有するDFを得た。上記工程において、下記に示す方法で溶解性評価、塗工速度評価、塗工性評価及び外観評価を行った。また、下記に示す方法で樹脂の重量平均分子量を測定した。結果を表1又は2に示す。
なお、支持層であるポリエチレンテレフタレートとしては帝人(株)製、GR−16(16μm厚み)を使用し、そして保護層であるポリエチレンフィルムとしてはタマポリ(株)製、GF−18(19μm厚み)を使用した。
(1)溶解性評価
調合液をフィルターを介して濾過する際にフィルターの詰まり具合を下記ランクで評価した。詰まりが少ない場合は溶解性が良好で有ることを示す。
なお、フィルターの目開きは3μmである。
A:全く詰まりがなく良好である。
B:やや詰まりが発生するが濾過可能である。
C:フィルター詰まりが発生し、1時間以内に濾過が不可能となる。
(2)塗工速度評価
溶媒としてメチルエチルケトンのみを用いた比較例1記載の調合液を基準とし、未塗工部分がなく均一かつ平滑に塗布される最大塗工速度を観察した。
次いで、各調合液について、未塗工部分がなく均一かつ平滑に塗布される最大塗工速度を観察し、比較例1の調合液において観察された最大塗工速度を1として、それに対する比率で評価した。評価が1より大きいときは、その調合液の最大塗工速度が、溶媒としてメチルエチルケトンのみを用いたときの調合液の場合より速いことを示す。
(3)塗工性評価
比較例1において観察された最大塗工速度において、各種調合液の塗工を行なった。ダイコーターを用いて、支持層であるポリエステル上に調合液を塗布することにより得られた感光性樹脂層の状態を下記ランクで評価した。
S:未塗工部分がなく、平滑度が高い。
A:未塗工部分がなく平滑に塗布されている。
B:一部未塗工部分がある。
C:未塗工部分がほとんどである。
(4)外観評価
ダイコーターを用いて支持層であるポリエステル上に調合液を塗布し、溶剤を乾燥させた後、保護層であるポリエチレンフィルムで積層し、支持層/感光層/保護層の3層構造で得られるロール状の積層体において外観評価を行い下記ランクで評価した(図1参照)。
S:3層構造のロール品の外観は、表面に全くムラなく均一である。
A:3層構造のロール品の外観は、表面にほぼムラがなく均一である。
B:3層構造のロール品の外観は、表面のほぼ全面にムラがあり均一ではない。
(5)重量平均分子量
樹脂の重量平均分子量(Mw)をゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(標準ポリスチレン換算)で測定した。測定に用いたカラムは、昭和電工社製 商標名 Shodex 805M/806M直列であり、標準単分散ポリスチレンは、昭和電工(株)製Shodex STANDARD SM−105を選び、展開溶媒はN−メチル−2−ピロリドンであり、検出器は昭和電工製 商標名 Shodex RI−930を使用した。
<記号説明>
P−1:メタクリル酸メチル65質量%、メタクリル酸25質量%、アクリル酸ブチル10質量%の3元共重合体のメチルエチルケトン溶液(固形分質量比率30%、重量平均分子量10万、酸当量344)
P−2:メタクリル酸メチル65質量%、メタクリル酸25質量%、アクリル酸ブチル10質量%の3元共重合体のアセトンとエタノール混合溶液(溶媒質量比率:アセトン/エタノール=80/20、固形分質量比率40%、重量平均分子量10万、酸当量344)
P−3:メタクリル酸メチル65質量%、メタクリル酸25質量%、アクリル酸ブチル10質量%の3元共重合体のアセトンとエタノール混合溶液(溶媒質量比率:アセトン/エタノール=80/20、固形分質量比率75%、重量平均分子量10万、酸当量344)
P−4::メタクリル酸メチル65質量%、メタクリル酸25質量%、アクリル酸ブチル10質量%の3元共重合体のアセトン溶液(固形分質量比率32%、重量平均分子量10万、酸当量344)
P−5:メタクリル酸メチル67質量%、メタクリル酸23質量%、アクリル酸ブチル10質量%の3元共重合体のメチルエチルケトン溶液(固形分質量比率25%、重量平均分子量20万、酸当量374)
P−6:メタクリル酸メチル67質量%、メタクリル酸23質量%、アクリル酸ブチル10質量%の3元共重合体のアセトンとエタノール混合溶液(溶媒質量比率:アセトン/エタノール=80/20、固形分質量比率34%、重量平均分子量20万、酸当量374)
P−7:メタクリル酸メチル50質量%、メタクリル酸25質量%、スチレン25質量%の3元共重合体のメチルエチルケトン溶液(固形分質量比率35%、重量平均分子量5万、酸当量344)
P−8:メタクリル酸メチル50質量%、メタクリル酸25質量%、スチレン25質量%の3元共重合体のアセトンとエタノール混合溶液(溶媒質量比率:アセトン/エタノール=75/25、固形分質量比率47%、重量平均分子量5万、酸当量344)
P−9:メタクリル酸メチル50質量%、メタクリル酸25質量%、スチレン25質量%の3元共重合体のメチルエチルケトンとエタノール混合溶液(溶媒質量比率:メチルエチルケトン/エタノール=75/25、固形分質量比率45%、重量平均分子量5万、酸当量344)
M−1:ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均2モルずつのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート(新中村化学(株)製BPE−200)
M−2:ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均5モルずつのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート(新中村化学(株)製BPE−500)
M−3:ビスフェノ−ルAの両端にそれぞれ平均2モルのプロピレンオキサイドと平均6モルのエチレンオキサイドを付加したポリアルキレングリコ−ルのジメタクリレ−ト
M−4:平均12モルのプロピレンオキサイドを付加したポリプロピレングリコールにエチレンオキサイドをさらに両端にそれぞれ平均3モルずつ付加したポリアルキレングリコールのジメタクリレート
M−5:ヘキサメチレンジイソシアネートとオリゴプロピレングリコールモノメタクリレ−ト(日本油脂(株)製ブレンマ−PP1000)とのウレタン化物
M−6:トリメチロールプロパンに平均3モルのエチレンオキサイドを付加したアクリレ−ト(新中村化学(株)製A−TMPT−3EO)
M−7:4−ノニルフェニルヘプタエチレングリコールジプロピレングリコールアクリレ−ト
I−1:4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
I−2:2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体
D−1:ダイアモンドグリーン
D−2:ロイコクリスタルバイオレット
A−1:p−トルエンスルホンアミド
A−2:ベンゾトリアゾール
A−3:ニトロソフェニルヒドロキシルアミンが3モル付加したアルミニウム塩
A−4:ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均1モルのプロピレンオキサイドを付加し、さらにそれぞれ平均1モルのグリシジル基を付加したもの
A−5:ビスフェノールAの両端にそれぞれ平均2モルのプロピレンオキサイドを付加したポリプロピレングリコール
A−6:チバスペシャリティーケミカルズ(株)製IRGANOX245
A−7:ニューコール3−85(日本乳化剤(株)製)
S−1:アセトン
S−2:エタノール
S−3:メチルエチルケトン
本発明により製造された感光性樹脂エレメントは、プリント配線板の製造、ICチップ搭載用リードフレーム製造、メタルマスク製造等の金属箔精密加工、BGA、又はCSP等のパッケージの製造、COF又はTAB等のテープ基板の製造、半導体バンプの製造、ITO電極又はアドレス電極、電磁波シールド等のフラットパネルディスプレイの隔壁の製造に利用されることができる。

Claims (7)

  1. 以下の工程:
    (a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ重量平均分子量が5000〜500,000であるバインダー用樹脂、
    (b)光重合可能な不飽和化合物、
    (c)光重合開始剤、
    (d)アセトン、及び
    (e)非アセトン溶媒
    を調合して、調合液を得る工程、ここで、該(d)アセトンと該(e)非アセトン溶媒の合計質量に対する該(d)アセトンの質量の比率は、30質量%〜98質量%であり、そして該調合液中の全固形分の比率は、30質量%〜80質量%である;及び
    該調合液を支持層上に適用し、乾燥して、該支持層上に感光性樹脂エレメントを形成する工程;
    を含む感光性樹脂エレメントの製造方法。
  2. 前記(e)非アセトン溶媒は、アルコール、エステル及びエーテルから成る群から選択される、請求項1に記載の方法。
  3. 前記アルコールは、メタノール、エタノール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール及びノルマルブタノールから成る群から選択される、請求項2に記載の方法。
  4. 前記アルコールはエタノールである、請求項3に記載の方法。
  5. 前記エステルは酢酸エチルである、請求項2に記載の方法。
  6. 前記エーテルはテトラヒドロフランである、請求項2に記載の方法。
  7. 前記調合液の乾燥後膜厚が5μm〜50μmである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6809873B2 (ja) * 2015-12-28 2021-01-06 旭化成株式会社 積層体

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10254132A (ja) * 1997-02-25 1998-09-25 E I Du Pont De Nemours & Co 被膜プリント回路用フレキシブル難燃性光画像形成可能組成物
JP2002053621A (ja) * 2000-08-10 2002-02-19 Asahi Kasei Corp 光重合性樹脂組成物および積層体
JP2004177597A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2006106287A (ja) * 2004-10-04 2006-04-20 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及び感光性エレメントの製造方法
JP2007079128A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Fujifilm Corp パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2008003558A (ja) * 2006-05-26 2008-01-10 Fujifilm Corp パターン形成材料、パターン形成方法、及びパターン
JP2010055052A (ja) * 2008-07-30 2010-03-11 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2011209515A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Mitsubishi Paper Mills Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP2011231156A (ja) * 2010-04-23 2011-11-17 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、感光性樹脂硬化物及び可視光導光路
JP2012053229A (ja) * 2010-08-31 2012-03-15 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、感光性樹脂硬化物、及び可視光導光路

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11143069A (ja) 1997-11-10 1999-05-28 Fuji Photo Film Co Ltd プリント配線用原板
JP2006220858A (ja) * 2005-02-09 2006-08-24 Fuji Photo Film Co Ltd パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10254132A (ja) * 1997-02-25 1998-09-25 E I Du Pont De Nemours & Co 被膜プリント回路用フレキシブル難燃性光画像形成可能組成物
JP2002053621A (ja) * 2000-08-10 2002-02-19 Asahi Kasei Corp 光重合性樹脂組成物および積層体
JP2004177597A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2006106287A (ja) * 2004-10-04 2006-04-20 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及び感光性エレメントの製造方法
JP2007079128A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Fujifilm Corp パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2008003558A (ja) * 2006-05-26 2008-01-10 Fujifilm Corp パターン形成材料、パターン形成方法、及びパターン
JP2010055052A (ja) * 2008-07-30 2010-03-11 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2011209515A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Mitsubishi Paper Mills Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP2011231156A (ja) * 2010-04-23 2011-11-17 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、感光性樹脂硬化物及び可視光導光路
JP2012053229A (ja) * 2010-08-31 2012-03-15 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、感光性樹脂硬化物、及び可視光導光路

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