JP2002053621A - 光重合性樹脂組成物および積層体 - Google Patents

光重合性樹脂組成物および積層体

Info

Publication number
JP2002053621A
JP2002053621A JP2000242398A JP2000242398A JP2002053621A JP 2002053621 A JP2002053621 A JP 2002053621A JP 2000242398 A JP2000242398 A JP 2000242398A JP 2000242398 A JP2000242398 A JP 2000242398A JP 2002053621 A JP2002053621 A JP 2002053621A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
photopolymerizable resin
resin composition
formula
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000242398A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinji Arihisa
慎司 有久
Toru Mori
徹 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Corp filed Critical Asahi Kasei Corp
Priority to JP2000242398A priority Critical patent/JP2002053621A/ja
Publication of JP2002053621A publication Critical patent/JP2002053621A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光後のコントラストが良好で、保存安定性
に優れ、高感度,高解像性を有し、アルカリ現像可能な
光重合性樹脂及びその積層体を提供する。 【解決手段】 (i)熱可塑性重合体、(ii)2以上のエチ
レン性不飽和基を有するモノマー、(iii)下記式(I)
の光重合性開始剤、(iv)1-ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル、(v)カルボキシキシベンゾトリアゾール又は下記式
(II)の化合物、及び(vi)ロイコ染料からなる光重合
性樹脂組成物を製造する。 【化1】 【化2】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板製
造用途に適したアルカリ性水溶液によって現像可能な光
重合性樹脂組成物及びこれを用いた光重合性樹脂積層体
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント配線はレジストとして光
重合性樹脂組成物を銅張り積層板上に塗布してパターン
露光して重合、硬化させた後、未露光部を現像液で除去
し、エッチングまたはめっき処理を施してパターンを形
成した後、硬化部分を銅張り積層板上から剥離除去する
方法によって製造されている。特に近年、プリント配線
板製造用のレジストとして支持体と光重合性樹脂層から
なる、いわゆるドライフィルムレジスト(以下DFRと
略記する)が用いられている。DFRは一般に支持体上
に光重合性樹脂組成物を積層し、多くの場合、さらに該
組成物上に保護用のフィルムを積層する事により作成さ
れる。
【0003】DFRを用いてプリント配線板を作成する
には、まず保護フィルムを剥離した後、銅張り積層板等
の永久回路形成用基板上にラミネーター等を用いてDF
Rを積層し、配線パターンをマスクフィルム等を通して
露光して重合、硬化を行う。次いで必要に応じて支持フ
ィルムを剥離し、弱アルカリ水溶液等の現像液により未
露光部分を溶解もしくは分散除去し、基板上にレジスト
画像を形成させる。レジスト画像形成後、回路を形成さ
せるプロセスは大きく2つの方法に分かれる。第一の方
法は、レジスト画像パターンによって覆われていない銅
張り積層板の銅表面をエッチング除去した後レジスト画
像部分を現像液よりも強いアルカリ水溶液で除去する方
法であり、第二の方法は同上の銅面に銅、半田、ニッケ
ルおよび錫等のめっき処理を行った後、同様にレジスト
画像部分の除去、さらに現れた銅張り積層板の銅層をエ
ッチングする方法である。エッチングには塩化第二銅、
塩化第二鉄、銅アンモニア錯体溶液等が用いられる。
【0004】最近では、プリント配線板の生産量増加に
伴い、高生産性に対応したDFRが要求されてきてい
る。また、露光後に検査機を導入して異物等による欠陥
を生産ラインの早い段階で発見することによって生産性
を向上させようとする傾向がある。露光後の欠陥検査機
による判定は、未露光部分と露光部分を識別して行うも
のが一般的であるが、露光直後の光重合性樹脂層が、極
めて良好なコントラストを有する事が要求される。
【0005】光重合性樹脂組成物において、その光感度
を増大させることは、活性光の露光時間が短縮でき、高
生産性が得られるという点で有益である。従来より光重
合性樹脂組成物の光感度を向上させる研究は進められて
おり、多くの光重合開始剤(系)が提案されてきた。例
えば、特開昭61−173242号公報や特開平10−
110008号公報記載の光重合開始剤(系)では、高
感度で高解像性を有する樹脂組成物等が提案されてい
る。
【0006】しかしながら、前記公報記載の光重合開始
剤(系)では、いずれも比較的高感度を有する光重合性
樹脂組成物を提供するが、解像性や露光後のコントラス
トについては不十分であり、また、高感度故に光重合性
樹脂層内での暗反応に由来すると思われるポットライフ
の低下が発生し、経時的に光重合性樹脂の特性が変化す
る、いわゆる保存安定性に問題があり、更なる改良が期
待されていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点を克服し、露光後のコントラストが極めて良好
で、保存安定性に優れ、高感度,高解像性を有し、アル
カリ性水溶液によって現像可能な光重合性樹脂および光
重合性樹脂積層体を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、下記化合物を必須成
分とする光重合性樹脂組成物を使用することで上記課題
を達成し得る事を見い出し、本発明を完成するに至っ
た。即ち、本発明は、以下の発明を提供する。 (1)(i)α,β−不飽和カルボキシル基含有モノマ
ーを共重合成分とし、カルボキシル基含有量が酸当量で
100〜600、重量平均分子量が2万〜50万の熱可
塑性重合体、20〜90重量%、(ii)少なくとも2
つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマ
ー、5〜60重量%、(iii)式(I)に示される化
合物及び光重合開始剤、0.01〜20重量%、
【0009】
【化3】
【0010】(式I中のR1はフェニル基またはアルキ
ル基で置換されたフェニル基、R2は水素原子または炭
素数1〜8のアルキル基)(iv)1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール、0.001〜0.5重量(%)、
(v)カルボキシベンゾトリアゾールまたは式(II)
に示される化合物、0.01〜3重量部、及び
【0011】
【化4】
【0012】(式II中のnは1〜3の整数、R3、R
4は炭素数1〜12のアルキル基またはヒドロキシル基
であって、それぞれたがいに同一であっても異なってい
てもよい)(vi)ロイコ染料、0.1〜3重量%、を
含有する光重合性樹脂組成物。また、(iii)の光重
合開始剤として、ロフィン二量体を用いることは、上記
(1)の発明の好ましい実施態様である。 (2)支持体上に上記(1)の発明の光重合性樹脂組成
物からなる層を設けた光重合性樹脂積層体
【0013】以下、本発明の光重合性樹脂組成物を構成
する各成分につき詳細に説明する。尚、本発明中記載の
化合物の添加量は、有機溶剤を除く全組成物100重量
部に対する重量(%)で示す。まず、本発明の光重合性
樹脂組成物を構成する熱可塑性重合体(i)は、(a)
α、β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少なくとも
1種の第一単量体、(b)炭素数1〜6のアルキル基を
有するアルキル(メタ)アクリレート、炭素数2〜6の
ヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシ(メタ)アク
リレート、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリ
ルアミドとその窒素に結合した水素を炭素数1〜4のア
ルキル基または炭素数1〜6のアルコキシ基に置換した
化合物、および式(III)に示される化合物
【0014】
【化5】
【0015】(式III中のR5は水素原子または炭素
原子1〜3のアルキル基、Xはハロゲン原子または炭素
数1〜3のアルキル基、nは0または1〜3の整数であ
って、nが2以上の場合複数のXはたがいに同一であっ
ても異なっていてもよい)からなる群から選ばれる少な
くとも1種の第二単量体、をビニル共重合してなり、該
光重合性樹脂物質中に20〜90重量(%)、好ましく
は40〜60重量(%)含有される。この含有量が20
重量(%)未満の場合には、該熱可塑性重合体の添加効
果が得られないばかりか、アルカリ現像性が低下し、さ
らにはコールドフロー現象を起こし、均一な光重合性樹
脂層を得られなくなる。一方、90重量(%)を越える
場合には、光硬化膜が脆く基材との密着性が損なわれ十
分な耐薬品性や画像形成性が得られなくなる。本発明に
用いる熱可塑性重合体(i)に含まれるカルボキシル基
の量は酸当量で100〜600である必要があり、好ま
しくは300〜400である。
【0016】また、熱可塑性重合体(i)の重量平均分
子量は2万〜50万であり、好ましくは5万〜25万の
ものが望ましい。重量平均分子量が2万未満のものは、
ドライフィルムレジストとした際にコールドフロー現象
を起こす恐れがある。一方、重量平均分子量が50万を
越える場合には、未露光部分のアルカリ現像性が低下し
て現像できなくなるか、または現像時間が極めて長くな
り画像形成性の悪化を引き起こす。ここで酸当量とはそ
の中に1当量のカルボキシル基を有するポリマーの重量
を言う。なお、酸当量の測定は電位差適定法により行わ
れる。また分子量はゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー(GPC)により重量平均分子量(ポリスチレン
換算)として求められる。また、熱可塑性重合体中のカ
ルボキシル基はDFRにアルカリ水溶液に対する現像性
や剥離性を与えるために必要である。酸当量が100未
満では、現像耐性が低下し解像性、密着性に悪影響を及
ぼし、600を超えると現像性や剥離性が低下する。
【0017】このような熱可塑性重合体を得るために
は、下記2つの重合性物質群の適量を共重合させること
により達成される。第一の重合性物質(a)は、3〜1
5個の炭素原子を有するα、β−不飽和カルボキシル基
含有モノマーの一種以上の化合物からなる。不飽和カル
ボキシル基含有モノマーとしては、アクリル酸およびメ
タクリル酸が好ましく、その他ケイ皮酸、クロトン酸、
ソルビン酸、イタコン酸、プロピオール酸、マレイン酸
およびフマル酸が挙げられる。また、これらの半エステ
ル類または無水物も使用可能である。
【0018】第一の重合性物質は、共重合体中に15〜
35重量(%)、好ましくは20〜30重量(%)で用
いられる。この量が15重量(%)未満ではアルカリ水
溶液によって現像できないか、または現像時間が長くか
かりすぎて解像性、密着性等の画像形成性の低下を来た
し、この量が35重量(%)を越えると現像時間が極め
て短くなり、高解像度のパターンを得るためには現像コ
ントロールが複雑で困難となり、また硬化部の耐水性、
耐薬品性も低下する。
【0019】第二の重合性物質(b)は、炭素数1〜6
のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、
炭素数2〜6のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキ
シ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、
(メタ)アクリルアミドとその窒素に結合した水素を炭
素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜6のアルコキ
シ基に置換した化合物及び式(III)で表されるスチ
レン型化合物またはその環置換誘導体よりなる群から選
ばれる一種以上からなる。
【0020】炭素数1〜6個のアルキル基を有するアル
キル(メタ)アクリレート、または炭素数2〜6のヒド
ロキシアルキル基を有するヒドロキシ(メタ)アクリレ
ートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレ
ート、iso−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブ
チル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)ア
クリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシルエチル(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシルプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられ
る。
【0021】これらの重合性物質は共重合体中に、5〜
85重量(%)、好ましくは20〜75重量(%)用い
られる。この量が5重量(%)未満では十分に柔軟性の
あるドライフィルムレジストが得られず、基材への密着
性、基材表面の凸凹へのレジスト樹脂の埋め込み性が不
十分となり、耐薬品性が低下する。この量が85重量
(%)を越えると、逆にレジスト樹脂が柔らかすぎてド
ライフィルレジストとした際にコールドフロー現象の原
因となる。
【0022】式(III)で表されるスチレン型化合物
は、ベンゼン環がニトロ基、ニトリル基、アルコキシル
基、アシル基、スルホン基、ヒドロキシル基、またはハ
ロゲン等の官能基で置換されていても良く、好ましくは
メチル基またはt−ブチル基等の単一アルキル基であ
る。これらの置換基はベンゼン環に1〜5個置換しても
良い。これらのスチレン型化合物は、共重合体中5〜6
5重量(%)、好ましくは10〜50重量(%)で用い
られる。この量が5重量(%)未満では十分な耐薬品性
を得ることができず、この量が65重量(%)を越える
と光重合したレジスト層が硬くなりすぎてレジストの密
着性が阻害される恐れがある。
【0023】本発明の光重合性樹脂組成物には、(i
i)少なくとも2つの末端エチレン性不飽和基を有する
付加重合性モノマーを含むことが必須である。このモノ
マーの例としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、またポリプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリ
オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、
2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)プロパンジ(メタ)
アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ )アクリレー
ト、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ポリオキシエチルトリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテルトリ(メタ)アクリレート、ビ
スフェノールAジグ リシジルエーテルジ(メタ)アク
リレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシペンタエ
トキシフェニル)プロパン、ウレタン基を含有する多官
能(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、特開昭
59−204837号7頁右上5行〜12頁右上20行
や特開平5−11446号3頁左下27行〜3頁右下2
8行記載の化合物等も使用可能である。
【0024】これらのモノマーは一種類でもよく、二種
類以上を併用することもできる。モノマーの使用量は、
5〜60重量(%)であり、好ましくは25〜50重量
(%)である。この量が5重量(%)未満では、感度や
膜強度や柔軟性の点で充分ではなく、この量が60重量
(%)を越えるとコールドフロー現象を起こし、均一な
光重合性樹脂層を得られなくなるため好ましくない。本
発明の目的である露光後のコントラストが極めて良好
で、保存安定性に優れ、高感度,高解像性を付与した光
重合性樹脂組成物を提供するためには、前記熱可塑性重
合体および少なくとも2つの末端エチレン性不飽和基を
有する付加重合性モノマーに、後述の特定の構造を有す
る化合物と光重合開始剤を特定量配合することが重要で
あり、本発明において、(iii)式(I)に示される
化合物と光重合開始剤の組み合わせは必須である。
【0025】
【化6】
【0026】式(I)で表される化合物としては、N−
フェニルグリシン、N−メチル−N−フェニルグリシ
ン、N−エチル−N−フェニルグリシン等がある。式
(I)で表される化合物の使用量は、0.005〜2重
量(%)であることが好ましく、0.01〜1重量
(%)であることがより好ましい。この量が0.005
重量(%)未満では光感度が十分発揮されず、この量が
2重量(%)を越える場合は光重合樹脂組成物の保存安
定性が著しく低下する。
【0027】また、式(I)の化合物に組み合わせて用
いられる光重合開始剤としては、各種の活性光線、例え
ば紫外線などにより活性化され重合を開始する化合物で
あればよい。このような化合物としては、例えば、2−
エチルアントラキノン、オクタエチルアントラキノン、
1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアント
ラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフ
ェニルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2
−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、
1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノ
ン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、9,10−フ
ェナントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノ
ン、2,3−ジメチルアントラキノン、3−クロロ−2
−メチルアントラキノンなどのキノン類、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーズケトン[4,4´−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン]、4,4´−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノンなどの芳香族ケトン類、ベンゾイ
ン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベ
ンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール、ベン
ジルジエチルケタールなどのジアルキルケタール類、9
−フェニルアクリジン等のアクリジン類、ジエチルチオ
キサントン、クロルチオキサントン等のチオキサントン
類、ジメチルアミノ安息香酸エチル等のジアルキルアミ
ノ安息香酸エステル類、1−フェニル−1,2−プロパ
ンジオン−2−o−ベンゾイルオキシム、1−フェニル
−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボ
ニル)オキシム等のオキシムエステル類、ロフィン二量
体等がある。これら化合物は単独で使用しても、2種類
以上併用しても構わない。
【0028】特に、ロフィン二量体の使用は、本発明の
好ましい実施態様である。好ましいロフィン二量体とし
ては、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾリル二量体、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ビス−(m−メトキシフェニル)イミダゾリル
二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフ
ェニルイミダゾリル二量体等が挙げられる。また、ロフ
ィン二量体と前記光重合性開始剤群とを組み合わせるこ
とが好ましく、例えば、ジエチルチオキサントン、クロ
ルチオキサントン等のチオキサントン類、ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル等のジアルキルアミノ安息香酸エステ
ル類、ベンゾフェノン、4,4´−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、4,4´−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノンとの組み合わせは特に好ましい。
【0029】本発明の光重合性樹脂組成物に含まれる式
(I)および光重合開始剤の総量は、0.01〜20重
量(%)である。この量が20重量(%)以上では光重
合性樹脂組成物の活性吸収率が高くなり、光重合性樹脂
積層体として用いた時光重合性樹脂層の底の部分の重合
による硬化が不十分になる。また、この量が0.01重
量(%)未満では充分な感度が出なくなる。式(I)お
よび光重合開始剤の総量が0.01〜20重量(%)の
範囲内では、予期せぬほどの画像形成性および耐薬品性
の向上が可能となる。その詳細な機構は十分に解明され
てはいないが、光重合性樹脂組成物が硬化した際に容易
にエッチング液が浸透しない程度に十分に架橋し、且つ
熱可塑性重合体および銅張り積層板の銅表面と予期せぬ
相互作用をして、耐薬品性性および画像形成性が向上し
たと予想される。
【0030】本発明の光重合性樹脂組成物の露光コント
ラストおよび保存安定性を向上させるために、(iv)
1−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび、(v)カル
ボキシベンゾトリアゾールまたは式(II)に示される
化合物を含有させることは必須である。
【0031】
【化7】
【0032】本発明の必須成分である1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾールは、通常0.001〜0.5重量
(%)、好ましくは0.005〜0.3重量(%)用い
られる。この量が0.001重量(%)未満では十分な
露光コントラストが得られず、この量が0.5重量
(%)を越えると保存安定性は低下し好ましくない。式
(II)に示される化合物としては、N(N,N−ジ−
2−エチルヘキシル)アミノメチレンカルボキシベンゾ
トリアゾール、N(N,N−ジ−2−ヒドロキシエチ
ル)アミノメチレンベンゾトリアゾール、N(N,N−
ジ−2−エチルヘキシル)アミノエチレンカルボキシベ
ンゾトリアゾール等が挙げられる。
【0033】カルボキシベンゾトリアゾールまたは式
(II)に示される化合物の添加量は、0.01〜3重
量(%)であり、好ましくは0.05〜1重量(%)で
ある。この量が0.01重量(%)未満では光重合性樹
脂組成物が十分な保存安定性を示さず、この量が3重量
(%)を越えると光感度が低下する。本発明の必須成分
である(vi)ロイコ染料としては、トリス(4−ジメ
チルアミノ−2−メチルフェニル)メタン[ロイコクリ
スタルバイオレット]、トリス(4−ジメチルアミノ−
2−メチルフェニル)メタン[ロイコマラカイトグリー
ン]等が挙げられる。ロイコ染料の添加量は、0.1〜
3重量(%)であり、好ましくは0.3〜1重量(%)
である。
【0034】本発明の光重合性樹脂組成物には、(v
i)ロイコ染料との組み合わせで光照射により発色する
発色系染料を含有させてもよく、組み合わせる発色系染
料としては、ハロゲン化合物、トリアジン化合物との組
み合わせが好ましい。ハロゲン化合物としては臭化アミ
ル、臭化イソアミル、臭化イソブチレン、臭化エチレ
ン、臭化ジフェニルメチル、臭化ベンザル、臭化メチレ
ン、トリブロモメチルフェニルスルフォン、四臭化炭
素、トリス(2,3−ジブロモプロピル)ホスフェー
ト、トリクロロアセトアミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イ
ソブチル、1,1,1−トリクロロ−2,2−ビス(p
−クロロフェニル)エタン 、ヘキサクロロエタン等が
挙げられる。
【0035】トリアジン化合物としては、2、4、6−
トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−メトキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジンが挙げられる。これら化合物
は単独で使用しても、2種類以上併用しても構わない。
本発明の光重合性樹脂組成物には、染料、顔料等の着色
物質を含有させてもよい。 例えばフクシン、フタロシ
アニングリーン、オーラミン塩基、カルコキシドグリー
ンS、パラマジェンタ、クリスタルバイオレット、メチ
ルオレンジ、ナイルブルー2B、ビクトリアブルー、マ
ラカイトグリーン、ベイシックブルー20、ダイヤモン
ドグリーン等が挙げられる。
【0036】本発明の光重合性樹脂組成物の保存安定性
をさらに向上させるために、ラジカル重合禁止剤もしく
は同様の効果を有する化合物を用いることは好ましい。
この様な化合物としては、例えば、p−メトキシフェノ
ール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミ
ン、tert.−ブチルカテコール、塩化第一銅、2,
6−ジ−tert.−ブチル−p−クレゾール、2,2
´−メチレンビス(4−エチル−6−tert.ブチル
フェノール)、2,2´−メチレンビス(4−メチル−
6−tert.ブチルフェノール、ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミンアルミニウム塩、ジフェニルニトロソア
ミン等が挙げられる。
【0037】これらの化合物は単独で使用しても、2種
類以上併用しても構わない。本発明の光重合性樹脂組成
物には、必要に応じて可塑剤等の添加剤を含有させても
良い。このような添加剤としては、例えば、ジエチルフ
タレート等のフタル酸エステル類、o−トルエンスルフ
ォン酸アミド、p−トルエンスルフォン酸アミド、クエ
ン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、アセチルクエン
酸トリエチル、アセチルクエン酸トリ−n−プロピル、
アセチルクエン酸トリ−n−ブチル、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。
【0038】本発明は、上述の光重合性樹脂組成物から
なる層に、支持層を設けた光重合性樹脂積層体も提供す
るが、そこで用いられる支持層としては、活性光を透過
する透明なものが望ましい。このような活性光を透過す
る支持層としては、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリ塩化ビニルフ
ィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニリ
デンフィルム、塩化ビニリデン共重合フィルム、ポリメ
タクリル酸メチル共重合体フィルム、ポリスチレンフィ
ルム、ポリアクリロニトリルフィルム、スチレン共重合
体フィルム、ポリアミドフィルム、セルロース誘導体フ
ィルムなどが挙げられる。
【0039】これらのフィルムとしては、必要に応じ延
伸されたものも使用可能である。フィルムの厚みは薄い
方が画像形成性、経済性の面で有利であるが、強度を維
持するという観点から10〜30μmのものが一般的で
ある。光重合性樹脂積層体において、支持層が接してい
ない光重合性樹脂層の表面に、必要に応じて保護層が積
層される。この保護層の特性としては、支持層よりも光
重合性樹脂層との密着力が充分小さく、より容易に剥離
できることが要求される。このような保護層としては、
例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィル
ム等が挙げられる。また、特開昭59−202457号
公報に示された剥離性の優れたフィルムを用いることが
できる。
【0040】光重合性樹脂層の厚みは用途において異な
るが、プリント配線板、及び金属加工基材作製用には5
〜100μm、好ましくは10〜80μmであり、薄い
ほど解像度は向上する。また厚いほど膜強度が向上す
る。次に、本発明の光重合性樹脂積層体を用いたプリン
ト配線板製造工程について簡単に述べる。まず、ラミネ
ーターを用い、保護層がある場合は保護層を剥離した
後、光重合性樹脂層を金属表面に加熱圧着し積層する。
この際の加熱温度は一般的に40〜160℃である。ま
た、圧着は二回以上行うことにより密着性・耐薬品性が
向上する。この際、圧着は二連のロールを備えた二段式
ラミネーターを使用しても良いし、何回か繰り返してロ
ールに通し圧着しても良い(二段式ラミネーターについ
ては、特開昭63−7477号参照)。
【0041】次に必要ならば支持層を剥離しマスクフィ
ルムを通して活性光により画像露光する。次に、露光後
光重合性樹脂層上に支持層がある場合には必要に応じて
これを除き、続いてアルカリ水溶液の現像液を用いて未
露光部を現像除去し、レジスト画像を得る。ここで用い
るアルカリ水溶液としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム等の水溶液を用いる。これらは光重合性樹脂層の特
性に合わせて選択されるが、0.5〜3%の濃度、20
〜40℃の炭酸ナリウム水溶液が一般的に用いられる。
【0042】このようにして得られたレジスト画像は、
場合によっては100〜300℃の加熱工程を使用する
こともできる。この加熱工程を実施することにより、更
なる耐薬品性向上が可能となる。次に現像により露出し
た銅面をエッチング法、めっき法等、既知の方法をもち
いて金属の画像パターンを形成する。その後、レジスト
画像は一般的に現像で用いたアルカリ水溶液よりも更に
強いアルカリ性水溶液により剥離される。剥離用のアル
カリ水溶液についても特に制限はないが、2〜5%の濃
度、40〜70℃の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の水溶液が一般的に用いられる。さらに現像液や剥離液
に少量の水溶性溶媒を加えることも可能である。
【0043】
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明の具体
的な実施形態の例をさらに詳しく説明する。実施例およ
び比較例は次の方法により行った。
【0044】
【実施例1〜11および比較例1〜9】1.基本評価 (光重合性樹脂積層体の作成)表1に示す組成の光重合
性樹脂組成物を混合し、厚さ20μm厚のポリエチレン
テレフタレートフィルムにバーコーターを用いて均一に
塗布し、95℃の乾燥機中に4分間乾燥して光重合性樹
脂層を形成した。光重合性樹脂層の厚みは40μmであ
った。光重合性樹脂層のポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを積層していない表面上に30μm厚のポリエチ
レンフィルムを張り合わせて光重合性樹脂積層体を得
た。
【0045】(ラミネート)光重合性樹脂積層体のポリ
エチレンフィルムを剥がしながら、光重合性樹脂層を2
0cm×25cmの銅張り積層板(住友ベークライト製
35μm片面銅箔基板:4762A)にホットロールラ
ミネーター(旭化成工業製AL−70)により105℃
でラミネートした。ラミネーターのロール圧力はエアー
ゲージ表示で3.5Kg/cm2とし、ラミネート速度
は1.5m/分とした。
【0046】(露光)光重合性樹脂層にポリエチレンテ
レフタレートフィルム側上に解像度パターンマスクフィ
ルムおよび27段ステップタブレット(旭化成工業製)
を置き、超高圧水銀ランプ(オーク製作所製:HMW−
201KB)により光重合性樹脂層を露光した。
【0047】(現像)ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥離した後、30℃の1%炭酸ナトリウム水溶液
を所定時間スプレーし、光重合性樹脂層の未露光部分を
溶解除去した。この際、未露光部分の光重合性樹脂層が
完全に溶解除去されるのに要する最も少ない時間を最小
現像時間とした。
【0048】2.感度 透明から黒色に27段階に明度が変化している27段ス
テップタブレット(旭化成工業製:光学濃度D=0.5
0〜1.80、△D=0.05)を用いて、現像後に銅
面が露出した時に対応する段数を求めた。この数値は、
通常10〜14段が望ましい。15段以上だとカブリが
発生して解像度が低下する。一方、9段以下では光硬化
反応が不十分となり鮮明なパターンが得られなくなった
り、レジストラインの密着性が低下したりする。ステッ
プタブレット10〜14段を発現する露光量(mJ/c
2)を測定することにより評価した。
【0049】3.解像度 ライン/スペースが15μm/15μmから100μm/
100μmまで5μm間隔に形成された解像度パターンマ
スクフィルムを用いて露光した後、最小現像時間の1.
5倍の時間で現像した時の画像形成される最小ライン幅
を解像度の値とした。 4.露光直後のコントラスト 光重合性樹脂層を露光してから30秒後に、未露光部と
露光部の光重合性樹脂層を測色色差計(日本電色株式会
社製Σ80)で色差△Eを測定した。露光直後のコント
ラストは、これまでの実績から下記基準でランク分けし
た。 △Eが15未満・・・・・× △Eが15以上・・・・・○ 5.保存安定性 20cm×25cmの光重合性樹脂積層体を温度50
℃、湿度60%RH雰囲気下で3日間保存した時の光重
合性樹脂層の色具合の変化を目視で観察した。
【0050】保存安定性はこれまでの実績から下記基準
でランク分けした。 光重合性樹脂層が青く変色し、且つ、全面に青い斑点が
無数に発生した・・× 光重合性樹脂層が全く変色しないか、若しくは極僅かに
青色に変色した・・○ 実施例および比較例の組成と評価結果を表1に示す。
【0051】尚、表1に示す組成の略号は、以下に示す
ものである。 p−1:メタクリル酸メチル/メタクリル酸/アクリル
酸n−ブチル(重量比が65/25/10)の組成を有
し、重量平均分子量が12万である共重合体の30%メ
チルエチルケトン溶液 p−2:メタクリル酸メチル/メタクリル酸/スチレン
(重量比が50/25/25)の組成を有し、重量平均
分子量が5万である共重合体の35%メチルエチルケト
ン溶液 m−1:トリオキシエチルトリメチロールプロパントリ
アクリレート m−2:ポリエチレングリコール#400ジアクリレー
ト m−3:ヘキサメチレンジイソシアネートとオリゴプロ
ピレングリコールモノメタクリレートとのウレタン化物 m−4:ビス(トリエチレングリコールメタクリレー
ト)ドデカプロピレングリコール m−5:ビスフェノールAにプロピレンオキシド8モル
とエチレンオキシド8モルを反応させた後メタクリル酸
をエステル結合したモノマー m−6:4−ノルマルノニルフェノキシペンタエチレン
グリコールトリプロピレングリコールアクリレート i−1:ベンゾフェノン i−2:N,N’−テトラエチル−4,4’−ジエチル
アミノベンゾフェノン i−3:2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾリル二量体 c−1:N−フェニルグリシン c−2:1−ヒドロキシベンゾトリアゾール c−3:カルボキシベンゾトリアゾール c−4:1−N−ジブチルアミノメチル−カルボキシベ
ンゾトリアゾール d−1:マラカイトグリーン d−2:ロイコクリスタルバイオレット d−3:トリブロモフェニルスルフォン e−1:p−トルエンスルフォン酸アミド e−2:ポリエチレングリコール(重量平均分子量20
00)
【0052】
【表1】
【0053】
【表2】
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光重合性
樹脂組成物は、露光直後のコントラストが極めて良好で
高感度、高解像性を有し保存安定性に優れるので、プリ
ント配線板製造の高生産性に寄与し得るフォトレジスト
として極めて有用に利用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08K 5/103 C08K 5/103 5E339 5/16 5/16 5/18 5/18 5/3495 5/3495 G03F 7/004 502 G03F 7/004 502 507 507 512 512 7/027 502 7/027 502 7/031 7/031 7/033 7/033 H05K 3/06 H05K 3/06 H Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AA02 AB11 AB15 AC01 AD01 BC42 CA01 CA14 CA27 CA28 CA44 CB13 CB14 CB16 CB43 CB55 CC01 EA08 FA03 FA17 4J002 BC011 BG011 BG041 BG051 BG071 BG101 BG131 BH001 ED088 EE028 EE058 EH076 EN068 EN099 EN117 ES018 EU058 EU118 EU179 EV318 FD206 FD207 FD208 FD209 GP03 4J011 AA05 BA04 BA05 CA01 CA08 CC10 DA04 PA36 PA43 PA63 PA65 PA69 PA70 PB24 PB40 PC02 QA13 QA22 QB16 RA03 RA10 RA12 SA21 SA31 SA51 SA63 SA64 SA65 UA01 VA01 WA01 4J026 AA16 AA17 AA43 AA45 AA49 AA50 AC23 AC33 BA28 DB05 DB06 GA07 GA08 4J100 AB07R AJ01Q AJ02Q AJ08Q AJ09Q AK31Q AK32Q AL03P AL09P AL36Q BA03R BA04R BA40R BA41R BA55R BB00R CA05 DA01 DA29 JA38 5E339 AD01 CC01 CC02 CD01 CE11 CE16 CF15 DD02

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(i)α,β−不飽和カルボキシル基含有
    モノマーを共重合成分とし、カルボキシル基含有量が酸
    当量で100〜600、重量平均分子量が2万〜50万
    の熱可塑性重合体、20〜90重量%、(ii)少なく
    とも2つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性
    モノマー、5〜60重量%、(iii)下記式(I)に
    示される化合物及び光重合開始剤、0.01〜20重量
    %、 【化1】 (式I中のR1はフェニル基またはアルキル基で置換さ
    れたフェニル基、R2は水素原子または炭素数1〜8の
    アルキル基)(iv)1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
    ル、0.001〜0.5重量(%)、(v)カルボキシ
    ベンゾトリアゾールまたは下記式(II)に示される化
    合物、0.01〜3重量部、及び 【化2】 (式II中のnは1〜3の整数、R3、R4は炭素数1
    〜12のアルキル基またはヒドロキシル基であって、そ
    れぞれたがいに同一であっても異なっていてもよい)
    (vi)ロイコ染料、0.1〜3重量%、を含有する光
    重合性樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 支持体上に請求項1記載の光重合性樹脂
    組成物からなる層を設けた光重合性樹脂積層体。
JP2000242398A 2000-08-10 2000-08-10 光重合性樹脂組成物および積層体 Withdrawn JP2002053621A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000242398A JP2002053621A (ja) 2000-08-10 2000-08-10 光重合性樹脂組成物および積層体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000242398A JP2002053621A (ja) 2000-08-10 2000-08-10 光重合性樹脂組成物および積層体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002053621A true JP2002053621A (ja) 2002-02-19

Family

ID=18733428

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000242398A Withdrawn JP2002053621A (ja) 2000-08-10 2000-08-10 光重合性樹脂組成物および積層体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002053621A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003005359A (ja) * 2001-06-27 2003-01-08 Hitachi Chem Co Ltd 高解像・高密着性の感光性樹脂組成物及びその用途
JP2003035953A (ja) * 2001-07-23 2003-02-07 Hitachi Chem Co Ltd 高密度・高解像度用の感光性樹脂組成物及びその用途
JP2004177597A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2006251458A (ja) * 2005-03-11 2006-09-21 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 長尺状の感光性樹脂付き積層板
WO2008015754A1 (fr) * 2006-08-04 2008-02-07 Chiyoda Chemical Co., Ltd. Composition de résine photosensible
JP2009180795A (ja) * 2008-01-29 2009-08-13 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法
JP2009180796A (ja) * 2008-01-29 2009-08-13 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びプリント配線板の製造方法
JP2014170041A (ja) * 2013-03-01 2014-09-18 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物
JPWO2014014087A1 (ja) * 2012-07-20 2016-07-07 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂エレメントの製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003005359A (ja) * 2001-06-27 2003-01-08 Hitachi Chem Co Ltd 高解像・高密着性の感光性樹脂組成物及びその用途
JP2003035953A (ja) * 2001-07-23 2003-02-07 Hitachi Chem Co Ltd 高密度・高解像度用の感光性樹脂組成物及びその用途
JP2004177597A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2006251458A (ja) * 2005-03-11 2006-09-21 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 長尺状の感光性樹脂付き積層板
WO2008015754A1 (fr) * 2006-08-04 2008-02-07 Chiyoda Chemical Co., Ltd. Composition de résine photosensible
JP2009180795A (ja) * 2008-01-29 2009-08-13 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法
JP2009180796A (ja) * 2008-01-29 2009-08-13 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びプリント配線板の製造方法
JPWO2014014087A1 (ja) * 2012-07-20 2016-07-07 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂エレメントの製造方法
JP2014170041A (ja) * 2013-03-01 2014-09-18 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11167203A (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント
JP3549015B2 (ja) 光重合性組成物
JP2001201851A (ja) 光重合性樹脂組成物
JP3508819B2 (ja) 光重合性組成物
JP2022082614A (ja) 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体
JP2002053621A (ja) 光重合性樹脂組成物および積層体
JP4230227B2 (ja) 光重合性樹脂組成物
JP3957513B2 (ja) 光重合性樹脂組成物
JP3267703B2 (ja) 新規な光重合性樹脂積層体
JP3366722B2 (ja) 光硬化性樹脂積層体及びそれを用いるプリント配線板の製造方法
JP2548016B2 (ja) 光重合性積層体
JP4716347B2 (ja) ドライフィルムレジスト
JP2002323761A (ja) 感光性樹脂積層体
JP2982398B2 (ja) 新規な感光性樹脂組成物
JP3458000B2 (ja) 光重合性樹脂組成物
JP2004177597A (ja) 感光性樹脂組成物
JP3252081B2 (ja) 光重合性組成物
JPH09101619A (ja) 新規な光硬化性樹脂組成物
JP2002040646A (ja) 光重合性組成物
JP2000227657A (ja) 感光性樹脂積層体
JP4033571B2 (ja) 新規な光重合性組成物
JP3957364B2 (ja) 光重合性組成物
JP3638772B2 (ja) 光重合性組成物
JP4260463B2 (ja) 光重合性樹脂組成物
JP3529237B2 (ja) 光重合性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20071106