JPWO2014002842A1 - 有機薄膜形成装置 - Google Patents
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Abstract
成膜室43をバッファー室42の内部に配置し、中央ローラ17の一部側面を成膜室開口54から成膜室43内に挿入し、その部分の側面に密着させながら、基材フィルム23を走行させる。成膜室43に接続された蒸気生成装置26から蒸気をキャリアガスによって運搬し、冷却装置30によって中央ローラ17を冷却し、基材フィルム23を蒸気の凝集温度以下の温度に冷却し、成膜室43内に放出された蒸気によって基材フィルム23の表面に有機原料層35を形成し、中央ローラ17を回転させて硬化室44に於いてエネルギー線を照射し、硬化させる。バッファー室42は低圧力に真空排気して、成膜室開口54から流出したキャリアガスと蒸気が硬化室44やロール室41に流入しないようにされている。
Description
また、基材フィルム105上に形成される有機薄膜には、膜厚の均一性や、真空槽111の内部が、真空槽111内に放出された有機材料蒸気によって汚染されないようにする技術が求められている。
また、本発明は、前記中央ローラには冷却装置が接続され、前記冷却装置は、前記中央ローラと前記冷却装置との間に冷却媒体を循環させ、前記中央ローラを冷却するように構成された薄膜形成装置である。
また、本発明は、前記中央ローラの側面の前記放出口と対面する部分は、前記成膜室開口から前記成膜室の内部に挿入され、前記中央ローラの側面の前記射出部と対面する部分は、前記硬化室開口から前記硬化室の内部に挿入された薄膜形成装置である。
また、本発明は、前記蒸気生成装置にキャリアガスを供給するキャリアガス供給装置を有し、前記キャリアガスと前記有機化合物の蒸気とが混合された混合ガスが、前記放出口から放出される薄膜形成装置である。
また、本発明は、前記真空排気装置により、前記成膜室の圧力は、前記バッファー室の圧力よりも高くされ、前記硬化室の圧力は、前記バッファー室よりも低くされるように真空排気される薄膜形成装置である。
また、一個の中央ローラで、有機原料層の形成と、有機原料層の硬化を行っているので、真空槽の体積を小さくすることができる。
この薄膜形成装置10は、真空槽11を有しており、真空槽11の内部は、仕切板51によって仕切られて、真空槽11の内部の仕切板51の片側には、ロール室41が形成されている。
図3(a)に示すように、成膜室隔壁52には成膜室開口54が形成されており、同図(b)に示すように、硬化室隔壁53には硬化室開口56が形成されている。
巻出装置32には、成膜対象である長尺の基材フィルム23が巻き取られて構成された原反ロール21が装着されており、原反ロール21の基材フィルム23を巻取装置33によって巻き取るために、先ず、原反ロール21の外周に位置する基材フィルム23の端部が引き出される。
回転軸18と巻取装置33とには、それぞれモータ37a、37bが設けられている。
真空排気装置12は、ロール室41と、バッファー室42と、成膜室43と、硬化室44とにそれぞれ個別に接続されており、各室41〜44を個別に真空排気できるようにされている。
真空槽11の外部には、蒸気生成装置26が配置されており、蒸気放出装置19は、蒸気生成装置26に接続されている。
ここでは、加熱により、有機化合物は蒸発又は昇華して気体を発生させており、本発明では、昇華で発生した気体は「蒸気」に含まれるものとする。
蒸気放出装置19は、内部中空の放出装置本体19aと、放出装置本体19aに設けられた細長の放出口19bとを有しており、蒸気放出装置19から供給された蒸気とキャリアガスの混合気体は、放出装置本体19a内で均一に広がり、放出口19bから成膜室43内に均一に放出される。
放出口19bの長手方向の長さは、基材フィルム23の幅よりも長くされており、放出口19bの両端は、基材フィルム23の幅方向の外側にはみ出るようにされている。
蒸気がキャリアガスと共に放出口19bから放出されると、蒸気は、基材フィルム23の幅方向の両端を含む範囲に到達する。
硬化室44には、エネルギー線射出装置16が設けられている。
射出されたエネルギー線は、中央ローラ17の硬化室44の内部に挿入された側面に接触された基材フィルム23の表面の有機原料層35に照射される。
但し、エネルギー線が電荷を有している場合には、照射された基材フィルム23が帯電してしまう。本発明では、中央ローラ17は接地電位に接続されており、従って、エネルギー線の照射によって有機薄膜36や基材フィルム23に蓄積されようとする電荷は、中央ローラ17から、接地電位に流出し、帯電が減少するようにされている。
冷却装置30では冷却媒体は放熱され、冷却されており、中央ローラ17には、冷却された冷却媒体が輸送されることで、冷却媒体は循環される。
分離位置は、除電装置28が配置されている室に配置すべきであり、ここではロール室41である。
各室が真空排気される際、ロール室41の圧力は、バッファー室42の圧力よりも高くなるように真空排気されており、成膜室43の成膜室開口54からバッファー室42内に流入した有機化合物の蒸気は、バッファー室42から真空排気され、硬化室開口56や通過口から硬化室44やロール室41には流入しないようにされている。ロール室41には、ガス導入装置を設け、不活性ガスを導入するようにしても良い。
上記例では、回転軸18と巻取装置33とにモータ37a、37bを接続したが、巻出装置32にもモータを接続して、モータの回転力で原反ロール21の回転を補助するようにしても良い。
なお、上記モノマーは、エネルギー線の照射によって重合し、有機薄膜を形成できる有機化合物が広く含まれる。
12……真空排気装置
14……回転軸線
17……中央ローラ
19b……放出口
21……原反ロール
23……基材フィルム
26……蒸気生成装置
27……キャリアガス供給装置
30……冷却装置
32……巻出装置
33……巻取装置
35……有機原料層
36……有機薄膜
41……ロール室
42……バッファー室
43……成膜室
44……硬化室
54……成膜室開口
56……硬化室開口
また、本発明は、前記中央ローラには冷却装置が接続され、前記冷却装置は、前記中央ローラと前記冷却装置との間に冷却媒体を循環させ、前記中央ローラを冷却するように構成された薄膜形成装置である。
また、本発明は、前記中央ローラの側面の前記放出口と対面する部分は、前記成膜室開口から前記成膜室の内部に挿入され、前記中央ローラの側面の前記射出部と対面する部分は、前記硬化室開口から前記硬化室の内部に挿入された薄膜形成装置である。
また、本発明は、前記蒸気生成装置にキャリアガスを供給するキャリアガス供給装置を有し、前記キャリアガスと前記有機化合物の蒸気とが混合された混合ガスが、前記放出口から放出される薄膜形成装置である。
また、本発明は、前記真空排気装置により、前記成膜室の圧力は、前記バッファー室の圧力よりも高くされ、前記硬化室の圧力は、前記バッファー室よりも低くされるように真空排気される薄膜形成装置である。
Claims (5)
- 真空槽と、
蒸気放出装置と、
エネルギー線射出装置と、
巻出装置と、
巻取装置と、
円筒状の中央ローラとを有し、
前記巻出装置に装着された基材フィルムの原反ロールが巻き出され、巻き出された基材フィルムは、裏面が前記中央ローラの側面と接触しながら前記真空槽内を走行し、前記巻取装置によって巻き取られる間に、前記蒸気放出装置の放出口から前記真空槽内に放出された有機化合物の蒸気が、前記中央ローラの側面に接触する部分の前記基材フィルムの表面に到達し、有機原料層が形成された後、前記エネルギー線射出装置の射出部から射出されたエネルギー線が前記有機原料層に照射され、前記有機原料層中の前記有機化合物が化学反応し、有機薄膜が形成される薄膜形成装置であって、
前記真空槽の外部には、前記有機化合物の蒸気を生成し、前記蒸気放出装置に供給する蒸気生成装置が配置され、
前記真空槽の内部には、バッファー室が配置され、
前記真空槽内部であって前記バッファー室の外部には硬化室が配置され、
前記バッファー室の内部には成膜室が配置され、
前記バッファー室と、前記成膜室と、前記硬化室とは、それぞれ真空排気装置に接続され、
前記放出口は前記成膜室の内部に配置され、
前記射出部は前記硬化室に配置され、
前記中央ローラは、前記バッファー室に位置する回転軸線を中心にして回転するように配置され、
前記成膜室を形成する成膜室隔壁のうち、前記回転軸線と前記放出口との間に位置する部分に成膜室開口が設けられ、前記放出口と前記中央ローラの側面とが対面し、
前記硬化室を形成する硬化室隔壁のうち、前記回転軸線と前記射出部との間に位置する部分に硬化室開口が設けられ、前記射出部と前記中央ローラの側面とが対面するように構成された薄膜形成装置。 - 前記中央ローラには冷却装置が接続され、前記冷却装置は、前記中央ローラと前記冷却装置との間に冷却媒体を循環させ、前記中央ローラを冷却するように構成された請求項1記載の薄膜形成装置。
- 前記中央ローラの側面の前記放出口と対面する部分は、前記成膜室開口から前記成膜室の内部に挿入され、
前記中央ローラの側面の前記射出部と対面する部分は、前記硬化室開口から前記硬化室の内部に挿入された請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の薄膜形成装置。 - 前記蒸気生成装置にキャリアガスを供給するキャリアガス供給装置を有し、
前記キャリアガスと前記有機化合物の蒸気とが混合された混合ガスが、前記放出口から放出される請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の薄膜形成装置。 - 前記真空排気装置により、前記成膜室の圧力は、前記バッファー室の圧力よりも高くされ、前記硬化室の圧力は、前記バッファー室よりも低くされるように真空排気される請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の薄膜形成装置。
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