KR101481933B1 - 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법 - Google Patents

코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101481933B1
KR101481933B1 KR1020137025743A KR20137025743A KR101481933B1 KR 101481933 B1 KR101481933 B1 KR 101481933B1 KR 1020137025743 A KR1020137025743 A KR 1020137025743A KR 20137025743 A KR20137025743 A KR 20137025743A KR 101481933 B1 KR101481933 B1 KR 101481933B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
outlet
supply conduit
gas
liquid
liquid supply
Prior art date
Application number
KR1020137025743A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130130062A (ko
Inventor
에드워드 제이. 앤더슨
지저스 알. 라모스
Original Assignee
쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 filed Critical 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
Publication of KR20130130062A publication Critical patent/KR20130130062A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101481933B1 publication Critical patent/KR101481933B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
    • B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
    • B05B13/04—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work the spray heads being moved during spraying operation
    • B05B13/0463—Installation or apparatus for applying liquid or other fluent material to moving work of indefinite length
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
    • B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
    • B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
    • B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/02—Spray pistols; Apparatus for discharge
    • B05B7/04—Spray pistols; Apparatus for discharge with arrangements for mixing liquids or other fluent materials before discharge
    • B05B7/0416—Spray pistols; Apparatus for discharge with arrangements for mixing liquids or other fluent materials before discharge with arrangements for mixing one gas and one liquid
    • B05B7/0441—Spray pistols; Apparatus for discharge with arrangements for mixing liquids or other fluent materials before discharge with arrangements for mixing one gas and one liquid with one inner conduit of liquid surrounded by an external conduit of gas upstream the mixing chamber
    • B05B7/045—Spray pistols; Apparatus for discharge with arrangements for mixing liquids or other fluent materials before discharge with arrangements for mixing one gas and one liquid with one inner conduit of liquid surrounded by an external conduit of gas upstream the mixing chamber the gas and liquid flows being parallel just upstream the mixing chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4486—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/02—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber

Abstract

액체 분무화 방법은 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관, 출구 상류에서 액체 공급 도관의 포트 내로 개방된 기체 공급 도관, 및 분무화기에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 갖는 분무화기를 제공하는 단계를 포함한다. 일 실시 형태에서, 액체 공급 도관과 기체 공급 도관은 서로에 대해 동축으로 배치된다. 이 방법은 기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체를 액체 공급 도관을 통해 출구로 유동시키는 단계와, 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 배출되는 액체를 분무화시키는 단계를 추가로 포함한다. 포트에서의 기체의 도입에 의해 개선된 치수 특성을 갖는 액적의 스프레이가 생성된다.

Description

코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법{METHOD FOR ATOMIZING MATERIAL FOR COATING PROCESSES}
본 발명은 액체 물질의 분무화에 관한 것이고, 특히 연속 화학 증착 공정을 위한 증기의 생성에 관한 것이다.
화학 또는 단량체 증착 기술의 사용은 다수의 유용한 제품의 준비에 유리하게 적용되어 왔다. 예를 들어, 효과적인 수분 및 산소 장벽 필름이 스퍼터링 기술에 의한 금속 산화물과 증착 기술에 의한 중합체 층의 교번하는 층들을 기재에 적용함으로써 제조되어 왔다. 그러한 필름의 수분 및 산소 장벽 특성 및 가요성은 음식물 및 약물 포장재와, 태양광 전지, OLED(유기 발광 다이오드) 장치 및 유기 마이크로 전자 장치와 같은 전자 장치용의 보호 필름과 같은 매우 다양한 용도에 대해 필름을 유용하게 만든다.
단량체 증착에 의한 중합체 필름 층의 제조 시에, 중합성 단량체를 분무화기에 공급하고, 그 다음 분무화된 액체 액적을 기화 챔버를 통해 통과시킨 후에 기화된 단량체를 목표 표면 상으로 지향시키는 것이 공지되어 있다. 기화된 단량체는 이후에, 예를 들어 자외선 방사에 의해 중합되어, 유익한 특성을 가진 중합체 물질의 얇은 층을 형성한다.
화학 증착에 의한 무기 필름 층의 제조 시에, 유기 또는 유기 금속 전구체를 분무화기에 공급하고, 그 다음 분무화된 액체 액적을 기화 챔버를 통해 통과시킨 후에 기화된 전구체를 목표 표면을 향해 지향시키는 것이 공지되어 있다. 목표 표면에서, 기화된 전구체는, 예를 들어 열 에너지 또는 플라즈마에 의해 다른 기상 또는 증기 물질과 반응하여, 유익한 특성을 가진 무기 물질의 얇은 층을 형성한다.
스프레이 코팅에 의한 중합체 또는 생물 활성 필름 층의 제조 시에, 중합체 또는 생물 활성 물질 및 용매(유기 또는 수성)의 용액을 분무화기에 공급하고, 그 다음 분무화된 액체 액적을 목표 표면을 향해 지향시켜서 유익한 특성을 가진 얇은 중합체 또는 생물 활성 물질의 코팅을 형성하는 것이 공지되어 있다.
본 발명은 액체의 분무화 및 증발을 위한 장치 및 방법과, 이러한 분무화 방법으로부터 제조되는 물품에 관한 것이다. 증기 코팅 공정에서 사용될 때, 개시되는 방법은 더 작은 액적 크기, 개선된 액적 크기 균일성 및 개선된 시간에 따른 액적 크기 안정성을 제공한다. 개선된 액적 균일성 및 안정성은 종래의 방법에 비해, 증발 속도, 증기 유량 및 코팅 두께의 균일성을 개선시킨다.
초음파 분무화기가 다양한 용도에 대해 액체 액적의 미세한 스프레이를 전달하기 위해 사용되어 왔다. 그러나, 초음파 및 더 통상적인 유형의 분무화기 모두는 감소된 액적 크기, 액적의 양호한 크기 균일성 및 시간에 따른 액적의 크기 안정성을 달성하지 못한다.
일 실시 형태에서, (1) 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관, 출구 상류에서 액체 공급 도관 내로 개방된 기체 공급 도관, 및 출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 포함하는 분무화기를 제공하는 단계와, (2) 기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체를 액체 공급 도관을 통해 출구로 유동시키는 단계와, (3) 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 배출되는 액체를 분무화시키는 단계를 포함하는 액체 분무화 방법이 개시된다. 일 실시 형태에서, 액체 및 기체 도관들은 서로에 대해 동축으로 배치된다.
추가의 실시 형태에서, (1) 기재를 제공하는 단계와, (2) 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관, 출구 상류에서 액체 공급 도관 내로 개방된 기체 공급 도관, 및 출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 포함하는 분무화기를 제공하는 단계와, (3) 기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체를 액체 공급 도관을 통해 출구로 유동시키는 단계와, (4) 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 기재 상으로 배출되는 액체를 분무화시키는 단계를 포함하는 기재 코팅 방법이 개시된다.
다른 실시 형태에서, (1) 기재를 제공하는 단계와, (2) 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관, 출구 상류에서 액체 공급 도관 내로 개방된 기체 공급 도관, 및 출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 포함하는 분무화기를 제공하는 단계와, (3) 기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체를 액체 공급 도관을 통해 출구로 유동시키는 단계와, (4) 상기 수단으로부터 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 배출되는 액체를 분무화시키고 , 액체를 증발시켜 증기를 형성하고, 증기를 기재 상으로 응축시키는 단계를 포함하는 기재 코팅 방법이 개시된다.
또 다른 실시 형태에서, (1) 기재를 제공하는 단계와, (2) 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관, 출구 상류에서 액체 공급 도관 내로 개방된 기체 공급 도관, 및 출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 포함하는 분무화기를 제공하는 단계와, (3) 기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체를 액체 공급 도관을 통해 출구로 유동시키는 단계와, (4) 상기 수단으로부터 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 배출되는 액체를 분무화시키고, 액체를 증발시켜 증기를 형성하고, 반응성 기체의 존재 하에서 증기를 기재 표면과 접촉시키는 단계를 포함하는 기재 코팅 방법이 개시된다.
(참고: 상기 단계들은 명확함을 위해 번호가 부여되어 있으며, 이 단계들이 임의의 특정 순서로 수행되어야 함을 의미하고자 하는 것은 아니다).
도 1은 분무화기의 단면도.
도 2는 도 1의 분무화기를 이용하는 롤-투-룰 공정의 개략도.
이제 도 1을 참조하면, 분무화기(38)의 단면도가 도시되어 있다. 분무화기(38)는 외측 하우징(46) 내에 부분적으로 포함된 노즐 본체(55)를 포함하고, 일 단부에서 액체 전달 라인(36)에 의해 액체 물질의 공급원(34)에 연결된 것으로 도시되어 있다. 대향 단부에서, 분무화기 노즐 본체(55)는 분무화기(38)로 진입하는 액체 물질(34)이 분무화되는 분무화 표면(60)을 포함한다.
액체 물질을 분무화기(38)에 공급하는 액체 전달 라인(36)은 분무화기(38)의 분무화 표면(60)의 중심에 위치된 출구(52) 내의 단부에서 종결되는 액체 공급 도관(50)에 부착된다. 기체 공급 도관(54)은 기체를 기체 전달 라인(42)으로부터 분무화기(38)로 공급한다. 기체 공급 도관(54)은 출구(52) 상류의 포트(56)에서 액체 공급 도관(50) 내로 개방된다. 일 실시 형태에서, 기체 공급 도관(54)은 액체 공급 도관(50)의 보어의 적어도 80％의 둘레에서 액체 공급 도관 내로 개방된다. 다른 실시 형태에서, 기체 공급 도관(54)은 보어의 80％ 미만의 둘레에서 액체 공급 도관 내로 개방된다. 당업자에 의해 이해될 수 있는 바와 같이, 일정 범위의 구성이 방법을 수행하기 위해 사용될 수 있다.
추가의 실시 형태에서, 기체 공급 도관(54)은 액체 공급 도관(50)의 보어의 100％의 둘레에서 액체 공급 도관 내로 개방된다. 이러한 실시 형태에서, 액체 공급 도관(50)과 기체 공급 도관(54)은 서로에 대해 동축으로 배치된다. 포트(56)와 출구(52) 사이의 분무화기의 영역 내에서 조합되면, 액체 및 기체 스트림들은 출구(52)에서 배출되고, 분무화기(38)의 분무화 표면(60)으로부터 분무화된다.
분무화기(38)는 노즐 본체(55)에 진동 에너지(58)를 부여하기 위한 수단을 추가로 포함한다. 진동 에너지를 부여하기 위한 적합한 수단은 전기 에너지를 기계 에너지 또는 진동 에너지로 변환할 수 있는 트랜스듀서를 포함한다. 일 실시 형태에서, 전기 에너지를 기계 에너지로 변환하기 위해 압전 트랜스듀서를 이용하는 초음파 분무화기가 채용된다. 트랜스듀서는 발전기로부터 전기 입력을 수신하고, 그 에너지를 동일한 주파수의 진동 운동으로 변환한다.
출구(52)에 인접한 분무화 표면(60)의 원추형 헤드는 확산되는 스프레이 패턴(64)을 제공하여, 이러한 유형의 분무화 장치를 표면 위에서 얇고 균일한 적용범위를 요구하는 용도에 대해 매우 적합하게 한다. 다른 실시 형태에서, 분무화 표면(60)은 더 좁은 스프레이 패턴을 제공하기 위한 편평하거나 거의 편평한 표면으로서 구성될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 압전 초음파 진동기가 과열되는 것을 방지하기 위해 냉각제 공급 포트(62)로부터 진입하여 냉각제 출구 포트(63)로 배출되는 냉각 공기가 사용된다. 예시적인 압전 초음파 분무화기가 본 명세서에 참조로 포함된 미국 특허 제4,337,896호(베르거(Berger) 등)에 개시되어 있다.
본 명세서에서 개시되는 분무화 공정에서 사용하기에 적합한 물질은 단량체, 올리고머, 수지, 왁스, 유기 화합물, 유기 금속 화합물, 생물 활성 물질 및 이들의 조합을 포함한다. 이러한 물질은 실온에서 액체이거나, 승온에서 용융되는 고체일 수 있다. 일 실시 형태에서, (메트)아크릴레이트 단량체가 본 명세서에서 개시되는 분무화 방법에 의해 증착된다. 적합한 (메트)아크릴레이트 단량체가 본 명세서에 참조로 포함된 하기의 특허에 개시되어 있다: 제5,440,446호(쇼(Shaw) 등), 제5,725,909호(쇼 등), 제6,231,939호(쇼 등), 제6,420,003호(쇼 등).
분무화 공정에서 사용하기에 적합한 다른 물질은 본 명세서에 참조로 포함된 하기의 미국 특허에서 설명된 바와 같이, 에폭시, 비닐 에테르, 플루오로 함유 중합체, 스티렌 함유 중합체, 아세틸렌, 폴리아미드, 아크릴아미드, 파릴렌, 왁스, 플루오로폴리에테르, 폴리아민, 다이알릴다이페닐실란, 금속 알콕시드, 금속 알킬, 실리콘, 오일, 염료, 단백질, 펩티드, 폴리펩티드, 지질, 탄수화물, 효소, 핵산, 다중핵산, 약물, 약물 대사 산물, 세포, 세포 물질, 및 미생물을 포함하지만 이에 제한되지 않는다: 제6,468,595호(마이클(Mikhael) 등), 제6,660,339호(다타(Datta) 등), 제6,544,600호(어피니토(Affinito) 등), 제6,811,829호(어피니토 등), 제6,682,782호(정(Jung) 등), 제6,656,537호(어피니토 등), 제6,475,571호(에치고(Echigo) 등), 제6,284,050호(쉬(Shi) 등), 제6,207,238호 및 제6,207,239호(어피니토), 제5,061,509호(나이토(Naito) 등), 제6,045,864호(라이욘즈(Lyons) 등), 제2005/0089673호(플레밍(Fleming) 등), 제6,203,898호(콜러(Kohler) 등), 제6,794,196호(포나쉬(Fonash) 등), 제6,803,069호(패트니악(Patniak) 등), 및 제5,869,127호(쫑(Zhong) 등).
다양한 반응성 및 비반응성 기체가 본 명세서에서 설명되는 분무화 공정에서 사용하기에 적절할 수 있다. 공정에서 사용하기에 적합한 불활성 기체는 질소, 아르곤, 헬륨 및 네온을 포함한다. 일 실시 형태에서, 질소가 사용된다. 질소는 또한 CVD 또는 플라즈마 CVD에 대한 반응성 기체로서 사용될 수 있다. 산소, 오존, 아산화질소, 수소, 황화수소, 사플루오르화탄소, 메탄, 및 암모니아와 같은 다른 반응성 기체가 또한 본 명세서에서 개시되는 공정에서 사용될 수 있다.
분무화를 촉진하기 위해, 분무화 공정에서 사용되는 액체 및 기체 물질은 가열 또는 냉각될 수 있다. 액체 및 기체 스트림은 실온 미만으로부터 액체 물질의 열화 온도 미만 및 분무화기의 온도 한계 미만의 임의의 온도까지의 범위의 온도로부터 독립적으로 가열 또는 냉각될 수 있다. 몇몇 초음파 분무화기는 약 150℃의 온도 상한을 갖는다. 일 실시 형태에서, 액체 스트림은 약 50℃로 가열된다. 일 실시 형태에서, 기체 스트림은 약 100℃로 가열된다.
개시되는 공정은 일반적으로, 예를 들어 분당 0.5 리터(분당 500 표준 입방 센티미터(SCCM)) 미만의 비교적 낮은 기체 유량을 사용하여 수행된다. 일 실시 형태에서, 기체 유량은 20 SCCM 미만이다. 본 명세서에서 개시되는 분무화 공정을 위해 적합한 액체 유량은 분당 약 0.01 내지 약 30 밀리리터 범위이다. 일 실시 형태에서, 액체 유량은 분당 약 0.1 내지 약 5 밀리리터이다.
이제 도 2를 참조하면, 다층 코팅을 형성시키기 위한 롤-투-롤(roll-to-roll) 공정(10)이 도시되어 있고, 여기서 전술한 바와 같은 분무화기(38)가 이용될 수 있다. 공정(10)에서, 기재(12)가 제1 롤(14)로부터 풀리고, 아이들러(18)에 의해 처리 드럼(16) 둘레로 지향되며, 아이들러(22)에 의해 제2 롤(20)을 향해 지향된다. 공정은 금속 산화물 또는 다른 적합한 물질의 증착을 위한 다양한 공구를 포함하는 진공 챔버(24) 내에서 (또는 대기압 이상의 압력의 제어된 분위기의 챔버 내에서) 수행될 수 있고, 기재의 표면의 처리를 위한 플라즈마 처리 스테이션(26)과, 금속 산화물과 같은 금속 층의 증착을 위한 금속 스퍼터 스테이션(28, 30)을 포함할 수 있다. 또한, 챔버(24) 내에, 전술한 액체 단량체와 같은 액체 물질의 증착을 위한 공구가 있다. 증기 발생기(32)는 액체 전달 라인(36)에 의해 분무화기(38)에 연결된 액체 단량체의 분배기(34)와, 기체가 기체 분배기(40)로부터 분무화기(38)로 그를 통해 전달되는 기체 전달 라인(42)을 포함한다.
*분무화 공정에서, 분무화기(38)에 의해 형성된 액적의 스프레이가 기화기(43) 내로 지향되어, 단량체를 완전히 증기로 변환시킨다. 증기는 노즐(44)로부터 기재(12) 상으로 투입되어, 거기서 응축된다. 기재가 방향("D")으로 회전하는 처리 드럼(16)과 접촉하면서 전진함에 따라, 액체 단량체의 중합을 개시할 수 있는 경화 공급원(21)으로 전진될 수 있다. 적합한 공급원(21)은 자외선 방사, 열, 플라즈마 및 전자 빔 조사를 포함한다.
일 실시 형태에서, 처리 드럼에는 냉각될 수 있도록 냉각제 순환이 제공되어, 기재(12) 상에서의 액체 증기의 응축을 더욱 증진시킨다.
본 명세서에서 설명되는 분무화 및 코팅 공정은 초당 약 0.05 내지 약 760 센티미터(분당 약 0.1 내지 약 1500 피트) 범위의 선 속도로 실행될 수 있다. 일 실시 형태에서, 공정은 약 0.5 ㎝/초(약 1 피트/분) 내지 약 200 ㎝/초(약 400 피트/분)의 선 속도로 실행된다.
공정은 진공 상태, 대기압 또는 승압 하에서 수행될 수 있다. 일 실시 형태에서, 공정은 약 1.3 m㎩(약 10-5 토르(Torr)) 내지 약 107 ㎪(약 800 토르)의 압력 하에서 수행된다. 추가의 실시 형태에서, 공정은 약 13 m㎩(약 10-4 토르) 내지 약 0.27 ㎪(약 2 토르)의 압력에서 수행된다.
본 명세서에서 개시되는 공정에 사용하기에 적합한 기재는 종이, 중합체 물질 및 이들의 조합과 같은 롤-투-롤 처리될 수 있는 가요성 물질을 포함한다. 특히 유용한 중합체 기재는 각종 폴리올레핀, 예컨대 폴리프로필렌(PP), 각종 폴리에스테르(예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 플루오렌 폴리에스테르(FPE)), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 및 다른 중합체, 예컨대 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리에스테르카르보네이트(PC), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리아릴레이트(PAR), 폴리이미드(PI)를 포함한다. 추가의 유용한 물질은 폴리사이클릭 올레핀, 예컨대 아르톤(ARTON™)(일본 도꾜 소재의 재패니즈 신쎄틱 러버 컴퍼니(Japanese Synthetic Rubber Co.)) 및 아바트렐(AVATREL™)(미국 오하이오주 브렉스빌 소재의 비.에프. 굿리치(B.F. Goodrich))이라는 상표명으로 판매되는 것을 포함한다.
몇몇 경우에, 기재는 필름의 연속적인 롤보다는 분리된 부분이다. 분리된 부분은 증기 공급원을 지나 이동할 수 있으며, 또는 분리된 부분은 코팅 공정 중에 고정될 수 있다. 적합한 기재는 규소 웨이퍼, 전자 또는 광학 장치, 유리, 금속 및 플라스틱 부분을 포함한다.
전술한 공정은, 예를 들어 금속 또는 금속 산화물의 추가의 층과 조합될 때, 산소 및 수증기와 같은 기체의 침투를 제한하는 가교결합된 중합체 층으로 중합체 기재를 형성하는 데 유용하다. 그러한 장벽 필름 및 장벽 필름의 제조를 위한 공정은 본 명세서에 참조로 포함된 하기의 미국 특허 및 공보에 기술되어 있다: 제5,440,446호(쇼 등), 제5,725,909호(쇼 등), 제6,231,939호(쇼 등), 제6,420,003호(쇼 등), 제4,647,818호(햄(Ham)), 제4,696,719호(비쇼프(Bischoff)), 제4,842,893호(이알리지스(Yializis) 등), 제4,954,371호(이알리지스), 제5,032,461호(쇼 등), 제2002/0022156호(브라이트(Bright)), 제2004/0195967호(패디야스(Padiyath) 등), 제2004/0202708호(뢰리히(Roehrig) 등), 제2005/0037218호(로테스(Lottes) 등).
본 명세서에 개시되는 분무화 공정은 화학 증착(CVD) 공정, 및 플라즈마 화학 증착(PECVD) 공정에서 또한 이용될 수 있다. 이러한 공정에서, 분무화된 전구체 물질은 전술한 것과 유사한 방식으로 증기 발생기 내에서 증발된다. 증기 발생기는 진공 또는 제어된 분위기의 챔버 내에 장착된다. 분무화를 위한 기체는 불활성 또는 반응성 기체일 수 있다. 분무화 기체가 불활성일 때, 별도의 반응성 기체가 기재 표면과 접촉함에 따라 전구체 기체와 혼합되어 반응할 수 있다. 고온 기재(CVD)로부터 또는 플라즈마 에너지(PECVD)로부터의 열 에너지에 의해 기화된 전구체와 반응성 기체가 반응하게 된다. 전구체 물질은 전형적으로 전술한 바와 같이, 유기 금속 화합물이다. 생성된 코팅은 대체로 얇은 무기 필름이다. 많은 경우에, 기재는 필름의 연속적인 롤보다는 분리된 부분이다. 적합한 기재는 규소 웨이퍼, 전자 또는 광학 장치, 유리, 금속 및 플라스틱 부분을 포함한다.
전술한 공정은 CVD 및 PECVD 기술 분야에서 잘 알려진 바와 같이, 양호한 전기, 광학 또는 장벽 특성을 가진 무기 층으로 기재를 형성하는 데 유용하다. 추가의 층이 전자 또는 광학 장치를 형성하도록 증착될 수 있다.
본 명세서에 개시되는 분무화 공정은 스프레이 코팅 공정에서 또한 이용될 수 있으며, 여기서 분무화 액체가 분무화되고 액적이 표면 상에 코팅을 형성하도록 기재로 지향된다. 분무화 기체는 전형적으로 공기 또는 불활성 기체이다. 분무화된 미스트(mist)의 유동은 스프레이 코팅 기술 분야에서 알려져 있는 바와 같이, 추가의 담체 기체의 사용 또는 정전기의 사용에 의해 지향되고 형상화될 수 있다. 적합한 코팅 물질은 단량체, 중합체, 입자, 생물 활성 분자, 용매, 물, 및 이들의 혼합물을 포함한다. 용매 또는 물이 다른 코팅 성분과 혼합되어 사용될 때, 용매 또는 물은 코팅 전에 액적으로부터 증발되거나 코팅으로부터 증발될 수 있다. 기재는 플라스틱 및 금속 필름, 부직포, 천 및 기타 직물을 포함하는 물질의 연속적인 웨브일 수 있으며, 또는 기재는 규소 웨이퍼, 유리, 플라스틱 부분, 금속 부분 및 세라믹 부분을 포함하는 분리된 물체일 수 있다.
전술한 공정은 양호한 전기 또는 광학 특성을 가진 구성물을 형성하는 데 유용하다. 다공성 기재에 적용될 때, 코팅은 여과, 얼룩 방지, 오염 제거, 착색, 방염, 접착, 이형, 연마 및 기계적 강도 특성을 가능하게 할 수 있다.
전술한 공정은 또한 생물 활성을 가진 구성물을 형성하는 데 유용하다. 단백질, 펩티드, 핵산, 다중핵산, 효소, 약물, 및 생물학적 분자에 결합하는 물질을 포함하는 층이 진단 장치, 미세 반응기, 약물 전달 장치 및 특정 생물학적 기능을 갖는 생체 재료(biomaterial)를 생성하기 위해 형성될 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 명세서에 개시되는 분무화 공정은, 예를 들어 음식물과 약물 및 환경적으로 민감한 전자 장치의 보호를 위한 포장재로서, 많은 제품의 제조 시에 유용한 수분 및 산소 저항성 장벽 필름의 제조에 유용하다. 환경적 수분 및 산소에 노출될 때 열화되는 전자 장치가 종종 장치를 유리에 넣음으로써 노출로부터 보호된다. 본 명세서에 개시되는 공정에 의해 제조되는 장벽 필름의 특히 유용한 용도는 액정 디스플레이(LCD), 발광 다이오드(LED), 유기 발광 다이오드(OLED), 발광 중합체(LEP), 전기 변색 소자(electrochromic), 전기 영동 잉크(electrophoretic ink), 무기 전계 발광 장치, 인광 장치 등과 같은 전자 디스플레이 및 신호 장치에 대한 보호를 포함한다.
장벽 필름의 다른 유용한 용도는 태양광 전지, 광전 변환 소자(photovoltaics), 마이크로 전자 기기, 유기 마이크로 전자 장치(OMED), 나노 장치 및 나노 구조물의 보호를 포함한다. 장벽 필름에 대한 또 다른 유용한 용도는 생물 활성 물질의 분석 측정에 사용되는 것과 같은 생물 활성 장치, 분석 또는 분리를 위해 사용되는 생물 활성 마이크로 전자 장치를 포함한다. 환경적 수분 및 산소에 대한 장벽을 제공하는 것에 추가하여, 본 명세서에 개시되는 공정에 의해 제조되는 장벽 필름은 가요성이어서, 가요성 디스플레이, 전기 장치 및 생물 활성 장치의 제조를 가능하게 한다.
본 명세서에 개시되는 방법은 또한 광학 필름(반사기, 반사 방지, 흡수기, 착색된 광학적으로 가변적인 광학 필터, 광학 간섭 필터, 적외선 반사기), EMI(전자기 간섭) 필터, 이형 코팅, 투명 전도성 필름, 센서 및 디스플레이 필름과 같은 용도를 위한 단층 또는 다층 필름을 제조하기 위해 사용될 수 있다. 그러한 필름은 본 명세서에 참조로 포함된 하기의 미국 특허 및 공보에 기술되어 있다: 제5,877,895호(쇼 등), 제6,172,810호(플레밍 등), 제6,815,043호(플레밍 등), 제6,818,291호(풍켄부쉬(Funkenbusch) 등), 제6,929,864호(플레밍 등), 제6,357,880호(엡스타인(Epstein) 등), 제2005/0037218호(로테스 등), 제2004/184948호(라코우(Rakow) 등), 및 제2003/0124392호(브라이트).
실시예 1
대조구를 제공하기 위해, 대체로 도 2에 도시된 바와 같은 롤-투-롤 단량체 증착 공정을 위한 장치를 구성하였다. 이러한 장치에 대체로 도 1에 도시된 바와 같이 구성된 분무화기를 제공하였다. 단량체 증착을 통해 기재에 코팅을 도포한 다음 경화시키도록 장치를 사용하였다. 사용한 기재는 미국 일리노이주 샤움버그 소재의 맥더미드 오토타입 인크.(MacDermid Autotype Inc.)로부터의 ST504, ST506 및 ST725로서 구매가능한, 0.13 ㎜(0.005 인치) 두께 및 50.8 ㎝(20 인치) 폭의 듀퐁테이진(DupontTeijin™) 열 안정화 PET 필름이었다. 이러한 필름을 8.2 ㎝/sec(16.2 ft/분)의 속도로 코팅 노즐을 통과시켜 이동시켰다. 코팅 중에, 진공 챔버를 16 m㎩(1.2 X 10-4 토르)의 진공 하에서 유지하였다. 이어서, 코팅된 기재를 전자 빔 발생기 아래로 안내하여, 증착된 단량체의 중합을 개시시켰다. 전자 빔 스펠만(Spellman) 발생기가 이러한 목적으로 코팅된 물질에 7.5 킬로볼트 및 12.5 밀리암페어를 제공하였다.
액체 공급 도관이 1 ㎜(0.040 인치)의 직경을 갖도록 분무화기를 구성하였다. 기체 공급 도관이 존재했지만, 이러한 대조예의 경우에는 기체를 도관 내로 유동시키지 않았다. 기체 공급 도관은 출구 상류의 0.95 ㎝(0.375 인치)의 포트에서 액체 공급 도관으로 진입했다. 포트를 액체 공급 도관의 실질적으로 모든 주연부 내로 개방되도록 구성하였다.
분무화기는 출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단으로서 압전 트랜스듀서를 추가로 구비하였다. 트랜스듀서를 60 ㎑의 주파수로 작동하도록 조정하였고, 5.0 내지 12.5 와트 범위의 에너지로 작동시켰다.
실험 실행 중에, 미국 조지아주 스미나 소재의 사이텍 인더스트리즈 인크.(CYTEC Industries Inc.)로부터 IRR214로 구매가능한 아크릴레이트화 폴리올 다이아크릴레이트(Acrylated polyol diacrylate) 형태의 액체 단량체를 48℃(120℉)로 가열된 2개의 섹션을 갖는 액체 전달 라인을 통해 분배기로부터 유동시켰다. 제1 섹션은 0.76 ㎜(0.030 인치)의 직경을 갖는, 183 ㎝(72 인치) 길이의 스테인레스강 라인이었다. 제2 섹션은 0.58 ㎜(0.023 인치)의 직경을 갖는, 61 ㎝(24 인치) 길이의 테플론(Teflon™) 라인이었다. 단량체를 1.75 ㎖/분의 유량으로 분무화기 내로 유동시켰다. 이러한 유동을 8.23 ㎝/s(16.2 fpm)의 선 속도에서 725 ㎚의 공칭 코팅 두께를 그리고 11.4 ㎝/s(22.5 fpm)의 선 속도에서 500 ㎚의 두께를 제공하도록 계산했다.
실시예 2
제2 실험 실행은, 100℃의 온도에서의 건조 질소가 분당 18 표준 입방 센티미터의 유량으로 기체 공급 도관 내로 유동된 것을 제외하고는, 대체로 실시예 1에서 설명된 바와 같이 이루어졌다.
실시예 3
대조예 1 및 본 발명의 실시예 2의 코팅 공정의 작동 파라미터를 공정 변동성을 감소시킴으로써 단량체 증착을 개선하기 위한 본 발명의 능력을 평가하기 위해 3가지 방식으로 측정하였다. 첫째로, 분무화기 하류의 증발기 내의 압력을 측정하였다. 이는 미국 매사추세츠주 메튜언 소재의 엠케이에스 인스트루먼츠 인크.(MKS Instruments Inc.)로부터 구매가능한 모델 631A 고온 압력계(High Temperature Manometer) 장비를 사용함으로써 달성되었고, 매 1초마다 데이터를 취했다.
둘째로, 웨브 횡단 방향으로의 증착 코팅의 두께의 변동성을 웨브의 폭을 가로질러 분광 반사 방법을 사용하여 측정하였고, 평가는 폭을 가로질러 매 5 mm마다 이루어졌다. 이러한 공정을 10회 반복하였고, 매회 이전 샘플로부터 웨브 종단 방향으로 2.5 ㎝에서 샘플을 취했다.
셋째로, 데이터를 웨브 종단 방향으로의 증착 코팅의 평균 두께의 변동성을 강조하기 위해 재분석하였다. 이러한 측정의 결과가 표 1에 도시되어 있다.
Figure 112013088389789-pat00001
이러한 결과는 본 발명의 방법이 분무화를 필요로 하는 공정에서 공정 변동성을 감소시키는 데 효과적이라는 것을 보여준다.
실시예 4
추가의 실시예를 대체로 도 2에 도시된 바와 같은 롤-투-롤 단량체 증착 공정을 위한 장치에 의해 생성하였고, 이 경우 처리 챔버는 대체로 대기압이었고 분무기는 대체로 도 1에 도시된 바와 같이 구성하였다. 단량체 증착을 통해 기재에 코팅을 도포한 다음 경화시키도록 장치를 사용하였다. 코팅 중에, 처리 챔버를 0.68 ㎪(2.7 인치 수두)의 정압력을 유지하도록 질소로 퍼징(purge)하였다. 사용한 기재는 미국 일리노이주 프랭클린 파크 소재의 트랜실랩 컴퍼니(Transilwrap Company)로부터 구매가능한, 0.05 ㎜(0.002 인치) 두께 및 30.5 ㎝(12 인치) 폭의 듀퐁 타입(DuPont Type) 453 PET 필름이었다. 이러한 필름을 1.7 ㎝/sec(3.3 ft/분)의 속도로 코팅 노즐을 통과시켜 이동시켰다. 이어서, 코팅된 기재를 254 ㎚ 및 185 ㎚ 파장의 UV광을 방출하는 6개의 램프(미국 뉴욕주 하퍼지 소재의 아틀란틱 울트라바이올렛(Atlantic Ultraviolet)으로부터의 램프 번호 G18T6L 및 G18T6VH) 아래로 안내하여, 증착된 단량체의 중합을 개시시켰다.
분무화기 및 기체 공급 도관을, 이러한 실시예의 경우에 15 cc/분 유량의 질소를 기체 공급 도관을 통해 도입한 것을 제외하고는, 실시예 1에서 설명된 바와 같이 구성했다.
실험 실행 중에, 미국 펜실베니아주 엑스톤 소재의 사토머 컴퍼니(Sartomer Comapny)로부터 SR351LV로 구매가능한 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트 형태의 액체 단량체를 분배기로부터 액체 전달 라인을 통해 분무화기의 상부로 유동시켰다. 단량체를 0.1 ㎖/분의 유량으로 분무화기 내로 유동시켰다. 이러한 유동에 의해 1.0 m/m(3.3 fpm)의 선 속도에서 151 ㎚의 공칭 코팅 두께가 생성되었다.
본 발명이 본 발명의 다양한 실시 형태를 참조하여 구체적으로 도시되고 설명되었지만, 본 발명의 사상 및 범주로부터 벗어남이 없이 형태 및 세부에 있어서 다양한 다른 변경이 본 발명에서 이루어질 수 있음을 당업자는 이해할 것이다.

Claims (4)

  1. 분무화 표면의 중심을 관통하는 보어(bore)의 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관 - 상기 분무화 표면은 원추형 헤드를 가지며 출구에 인접하여 위치함 -,
    출구 상류에서 액체 공급 도관 내로 개방된 기체 공급 도관 - 상기 기체는 반응성 기체임 -, 및
    출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 포함하는 분무화기를 제공하는 단계;
    기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체를 액체 공급 도관을 통해 출구 보어로 유동시키는 단계; 및
    출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단으로부터 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 배출되는 액체 스트림을 상기 기체의 도움을 받아 분무화 표면으로부터 분무화시키는 단계를 포함하고,
    진동 에너지를 부여하기 위한 수단은 압전 초음파 진동기이고,
    상기 압전 초음파 진동기가 과열되는 것을 방지하기 위해 냉각제 공급 포트로부터 진입하여 냉각제 출구 포트로 배출되는 냉각 공기가 사용되는 것을 특징으로 하는 액체 분무화 방법.
  2. 기재를 제공하는 단계;
    분무화 표면의 중심을 관통하는 보어의 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관 - 상기 분무화 표면은 원추형 헤드를 가지며 출구에 인접하여 위치함 -,
    출구 상류에서 액체 공급 도관 내로 개방된 기체 공급 도관 - 상기 기체는 반응성 기체임 -, 및
    출구 보어에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 포함하는 분무화기를 제공하는 단계;
    기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체 스트림을 액체 공급 도관 보어를 통해 출구로 유동시키는 단계;
    출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단으로부터 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 배출되는 액체 스트림을 상기 기체의 도움을 받아 분무화 표면으로부터 분무화시키는 단계; 및
    분무화된 액체를 기재상에 증착(deposit)시키는 단계를 포함하고,
    진동 에너지를 부여하기 위한 수단은 압전 초음파 진동기이고,
    상기 압전 초음파 진동기가 과열되는 것을 방지하기 위해 냉각제 공급 포트로부터 진입하여 냉각제 출구 포트로 배출되는 냉각 공기가 사용되는 것을 특징으로 하는 기재 코팅 방법.
  3. 기재를 제공하는 단계;
    분무화 표면의 중심을 관통하는 보어의 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관 - 상기 분무화 표면은 원추형 헤드를 가지며 출구에 인접하여 위치함 -,
    출구 상류에서 액체 공급 도관 내로 개방된 기체 공급 도관 - 상기 기체는 반응성 기체임 -, 및
    출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 포함하는 분무화기를 제공하는 단계;
    기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체 스트림을 액체 공급 도관 보어를 통해 출구로 유동시키는 단계;
    출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단으로부터 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 배출되는 액체 스트림을 상기 기체의 도움을 받아 분무화 표면으로부터 분무화시키는 단계;
    분무화된 액체를 증발시켜 증기를 형성하는 단계; 및
    증기를 기재상에 응축시키는 단계를 포함하고,
    진동 에너지를 부여하기 위한 수단은 압전 초음파 진동기이고,
    상기 압전 초음파 진동기가 과열되는 것을 방지하기 위해 냉각제 공급 포트로부터 진입하여 냉각제 출구 포트로 배출되는 냉각 공기가 사용되는 것을 특징으로 하는 기재 코팅 방법.
  4. 기재를 제공하는 단계;
    분무화 표면의 중심을 관통하는 보어의 일 단부에서 출구를 갖는 액체 공급 도관 - 상기 분무화 표면은 원추형 헤드를 가지며 출구에 인접하여 위치함 -,
    출구 상류에서 액체 공급 도관 내로 개방된 기체 공급 도관 - 상기 기체는 반응성 기체임 -, 및
    출구 보어에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단을 포함하는 분무화기를 제공하는 단계;
    기체를 기체 공급 도관을 통해 유동시키면서 동시에 액체 스트림을 액체 공급 도관 보어를 통해 출구로 유동시키는 단계;
    출구에 진동 에너지를 부여하기 위한 수단으로부터 분무화기에 진동 에너지를 부여하여 출구로부터 배출되는 액체 스트림을 상기 기체의 도움을 받아 분무화 표면으로부터 분무화시키는 단계;
    분무화된 액체를 증발시켜 증기를 형성하는 단계; 및
    반응성 기체의 존재하에서 증기를 기재 표면과 접촉시키는 단계를 포함하고,
    진동 에너지를 부여하기 위한 수단은 압전 초음파 진동기이고,
    상기 압전 초음파 진동기가 과열되는 것을 방지하기 위해 냉각제 공급 포트로부터 진입하여 냉각제 출구 포트로 배출되는 냉각 공기가 사용되는 것을 특징으로 하는 기재 코팅 방법.
KR1020137025743A 2005-12-29 2006-12-28 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법 KR101481933B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US75491405P 2005-12-29 2005-12-29
US60/754,914 2005-12-29
PCT/US2006/049432 WO2008030262A1 (en) 2005-12-29 2006-12-28 Method for atomizing material for coating processes

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087015654A Division KR20080080154A (ko) 2005-12-29 2006-12-28 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147026438A Division KR20140121888A (ko) 2005-12-29 2006-12-28 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130130062A KR20130130062A (ko) 2013-11-29
KR101481933B1 true KR101481933B1 (ko) 2015-01-14

Family

ID=39157542

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147026438A KR20140121888A (ko) 2005-12-29 2006-12-28 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법
KR1020137025743A KR101481933B1 (ko) 2005-12-29 2006-12-28 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법
KR1020087015654A KR20080080154A (ko) 2005-12-29 2006-12-28 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147026438A KR20140121888A (ko) 2005-12-29 2006-12-28 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087015654A KR20080080154A (ko) 2005-12-29 2006-12-28 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8658248B2 (ko)
EP (1) EP1969618B1 (ko)
JP (2) JP5778376B2 (ko)
KR (3) KR20140121888A (ko)
CN (1) CN101351868B (ko)
BR (1) BRPI0620597A2 (ko)
WO (1) WO2008030262A1 (ko)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090094829A (ko) * 2006-12-29 2009-09-08 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 무기 또는 무기/유기 하이브리드 필름의 제조 방법
KR101529332B1 (ko) * 2006-12-29 2015-06-16 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 금속 알콕사이드 함유 필름의 경화 방법
KR101563025B1 (ko) 2007-12-28 2015-10-23 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 가요성 캡슐화 필름 및 그의 제조 방법
US8993283B2 (en) * 2008-03-31 2015-03-31 Ultrasound Brewery Production method for biomass alcohol
KR20110033210A (ko) 2008-06-30 2011-03-30 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 무기 또는 무기/유기 혼성 장벽 필름 제조 방법
CN101630702B (zh) * 2009-07-30 2012-02-01 东莞南玻太阳能玻璃有限公司 一种太阳能电池组件镀膜盖板玻璃的制造方法
US20120196053A1 (en) * 2011-01-28 2012-08-02 Coull Richard Methods for creating an electrically conductive transparent structure
US10121931B2 (en) * 2011-03-15 2018-11-06 Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation Film formation device
BR112014002320A2 (pt) 2011-08-05 2017-03-01 3M Innovative Properties Co sistemas e métodos para processar vapor
JP2013214500A (ja) * 2012-03-09 2013-10-17 Nitto Denko Corp 蒸着データ処理装置、有機ｅｌデバイスの製造装置及び製造方法
EP2830782A4 (en) * 2012-03-26 2015-11-25 Univ California METHOD FOR AEROSOL COATING BASED ON NON-FLAMMABLE VOLATILE SOLVENTS
WO2014002842A1 (ja) * 2012-06-29 2014-01-03 株式会社アルバック 有機薄膜形成装置
US10604302B2 (en) * 2012-11-20 2020-03-31 Altria Client Services Llc Polymer coated paperboard container and method
BR112015015309B1 (pt) * 2013-01-22 2021-07-20 Essilor International Máquina para revestir um artigo óptico com uma composição predeterminada de revestimento e método para usar a máquina
US20140272199A1 (en) * 2013-03-14 2014-09-18 Yi-Jun Lin Ultrasonic spray coating of conducting and transparent films from combined graphene and conductive nano filaments
US20160326741A1 (en) 2013-12-19 2016-11-10 3M Innovative Properties Company Barrier films and vacuum insulated panels employing same
CN104689946A (zh) * 2014-07-30 2015-06-10 北京东方金荣超声电器有限公司 一种微细型超声波喷头
JP6945120B2 (ja) * 2014-08-29 2021-10-06 株式会社Flosfia 金属膜形成方法
EP3047915B1 (en) * 2015-01-23 2018-11-14 Flosfia Inc. Method and apparatus for producing polymer and method and apparatus for producing organic film
WO2017003791A1 (en) 2015-06-30 2017-01-05 3M Innovative Properties Company Discontinuous coatings and methods of forming the same
CN108431104B (zh) 2015-12-18 2021-04-13 3M创新有限公司 可延伸的阻挡膜、采用其的制品及其制造方法
KR20180097647A (ko) 2015-12-18 2018-08-31 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 연신성 배리어 필름, 이를 이용하는 물품 및 이의 제조 방법
EP3436620A1 (en) 2016-04-01 2019-02-06 3M Innovative Properties Company Roll-to-roll atomic layer deposition apparatus and method
JP6849874B2 (ja) * 2016-07-27 2021-03-31 株式会社Flosfia 積層構造体の製造方法
US20180037351A1 (en) * 2016-08-08 2018-02-08 The Procter & Gamble Company Fluid Filling Nozzle, Apparatus, and Method of Filling a Container with a Fluid
EP3602648A1 (en) 2017-03-30 2020-02-05 3M Innovative Properties Company Transfer articles
WO2018178803A1 (en) 2017-03-30 2018-10-04 3M Innovative Properties Company Transfer articles
CN109628910B (zh) * 2017-10-07 2023-06-30 株式会社Flosfia 形成膜的方法
US11366252B2 (en) 2017-10-27 2022-06-21 3M Innovative Properties Company Retroreflective article comprising locally-laminated reflective layers
EP3701300A4 (en) 2017-10-27 2021-08-25 3M Innovative Properties Company REFLECTIVE ITEM INCLUDING EMBEDDED REFLECTIVE LAYERS
CN111344606A (zh) 2017-10-27 2020-06-26 3M创新有限公司 包括含有主反射层和次反射层的回射元件的回射制品
US11534780B2 (en) 2017-11-14 2022-12-27 General Electric Company Spray nozzle device for delivering a restorative coating through a hole in a case of a turbine engine
US11161128B2 (en) * 2017-11-14 2021-11-02 General Electric Company Spray nozzle device for delivering a restorative coating through a hole in a case of a turbine engine
WO2019166103A1 (en) * 2018-03-02 2019-09-06 Applied Materials, Inc. Method for forming a coating on a substrate in a vacuum processing chamber, vacuum processing chamber and vacuum processing system
CN112839814A (zh) 2018-10-16 2021-05-25 3M创新有限公司 制备可延展的阻挡膜的方法
FR3093934B1 (fr) * 2019-03-20 2022-05-06 Exel Ind Système de mise en mouvement d’une buse d’application d’un produit
US20220183153A1 (en) 2019-05-06 2022-06-09 3M Innovative Properties Company Patterned article including electrically conductive elements
WO2020240419A1 (en) 2019-05-31 2020-12-03 3M Innovative Properties Company Patterned transfer articles
EP4084951A1 (en) 2019-12-30 2022-11-09 3M Innovative Properties Company Dental appliance with functional structures & transfer articles used in forming such appliances
WO2021229331A1 (en) 2020-05-14 2021-11-18 3M Innovative Properties Company Compounds comprising perfluorinated group, photoinitiator group, and amide linking group
KR102423874B1 (ko) * 2020-07-16 2022-07-22 주식회사 메카로 초음파 무화기
EP4341086A1 (en) 2021-05-19 2024-03-27 3M Innovative Properties Company Packaged abrasive articles
WO2022243772A1 (en) 2021-05-20 2022-11-24 3M Innovative Properties Company Micro-cut patterned article and method of making same
WO2023039738A1 (en) * 2021-09-15 2023-03-23 3M Innovative Properties Company Adhesive dispensing control
WO2023111729A1 (en) 2021-12-17 2023-06-22 3M Innovative Properties Company Planarized inorganic thin film transfer article
WO2023119008A1 (en) 2021-12-23 2023-06-29 3M Innovative Properties Company Articles including a multilayer optical film and fluoropolymer layers, transfer articles, and methods of making same
WO2024042417A1 (en) 2022-08-26 2024-02-29 3M Innovative Properties Company Optical waveguides and methods of making same
WO2024042416A1 (en) 2022-08-26 2024-02-29 3M Innovative Properties Company Multilayer optical gratings

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000355757A (ja) * 1999-06-14 2000-12-26 Toray Ind Inc 蒸着方法
JP2004211183A (ja) * 2003-01-07 2004-07-29 Shimadzu Corp 気化器
KR20040091152A (ko) * 2002-03-27 2004-10-27 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 부품 실장 방법, 부품 실장 장치 및 초음파 접합 헤드

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4063686A (en) * 1976-03-15 1977-12-20 Fuller Company Spray nozzle
FI68721C (fi) * 1979-06-08 1985-10-10 Sono Tek Corp Med ultraljud fungerande braenslespridare
US4842893A (en) 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US5032461A (en) 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
US4647818A (en) 1984-04-16 1987-03-03 Sfe Technologies Nonthermionic hollow anode gas discharge electron beam source
EP0242460A1 (en) 1985-01-18 1987-10-28 SPECTRUM CONTROL, INC. (a Pennsylvania corporation) Monomer atomizer for vaporization
US4954371A (en) * 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
DE3786063T2 (de) 1986-06-23 1993-09-09 Spectrum Control Inc Bedampfen von fluessigen monomeren.
US5138520A (en) * 1988-12-27 1992-08-11 Symetrix Corporation Methods and apparatus for material deposition
US5061509A (en) 1989-08-25 1991-10-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of manufacturing polyimide thin film and method of manufacturing liquid crystal orientation film of polyimide
SK283289B6 (sk) 1993-10-04 2003-05-02 Presstek, Inc. (A Delaware Corporation) Spôsob prípravy obaleného substrátu bariérovým filmom
US5440446A (en) 1993-10-04 1995-08-08 Catalina Coatings, Inc. Acrylate coating material
US5869127A (en) 1995-02-22 1999-02-09 Boston Scientific Corporation Method of providing a substrate with a bio-active/biocompatible coating
US5877895A (en) 1995-03-20 1999-03-02 Catalina Coatings, Inc. Multicolor interference coating
US6306165B1 (en) 1996-09-13 2001-10-23 Meadox Medicals ePTFE small caliber vascular grafts with significant patency enhancement via a surface coating which contains covalently bonded heparin
US6203898B1 (en) 1997-08-29 2001-03-20 3M Innovatave Properties Company Article comprising a substrate having a silicone coating
US6224948B1 (en) 1997-09-29 2001-05-01 Battelle Memorial Institute Plasma enhanced chemical deposition with low vapor pressure compounds
US6045864A (en) 1997-12-01 2000-04-04 3M Innovative Properties Company Vapor coating method
US6284050B1 (en) 1998-05-18 2001-09-04 Novellus Systems, Inc. UV exposure for improving properties and adhesion of dielectric polymer films formed by chemical vapor deposition
JP2000127186A (ja) 1998-10-28 2000-05-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 樹脂薄膜の製造方法
CA2353506A1 (en) 1998-11-02 2000-05-11 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
US6207238B1 (en) 1998-12-16 2001-03-27 Battelle Memorial Institute Plasma enhanced chemical deposition for high and/or low index of refraction polymers
US6207239B1 (en) 1998-12-16 2001-03-27 Battelle Memorial Institute Plasma enhanced chemical deposition of conjugated polymer
US6228436B1 (en) * 1998-12-16 2001-05-08 Battelle Memorial Institute Method of making light emitting polymer composite material
US6228434B1 (en) 1998-12-16 2001-05-08 Battelle Memorial Institute Method of making a conformal coating of a microtextured surface
KR100368319B1 (ko) * 1998-12-30 2003-03-17 주식회사 하이닉스반도체 액체운송장치
US6503564B1 (en) 1999-02-26 2003-01-07 3M Innovative Properties Company Method of coating microstructured substrates with polymeric layer(s), allowing preservation of surface feature profile
US6172810B1 (en) 1999-02-26 2001-01-09 3M Innovative Properties Company Retroreflective articles having polymer multilayer reflective coatings
US6660339B1 (en) 1999-09-07 2003-12-09 The Procter & Gamble Company Process for hydrophobic treatment of water vapor permeable substrates
JP2001089861A (ja) * 1999-09-20 2001-04-03 Shimadzu Corp 液体材料気化装置
US6264336B1 (en) 1999-10-22 2001-07-24 3M Innovative Properties Company Display apparatus with corrosion-resistant light directing film
US6866901B2 (en) * 1999-10-25 2005-03-15 Vitex Systems, Inc. Method for edge sealing barrier films
US6471782B1 (en) 1999-11-23 2002-10-29 Tokyo Electronic Limited Precursor deposition using ultrasonic nebulizer
WO2001046458A1 (en) 1999-12-20 2001-06-28 The Penn State Research Foundation Deposited thin films and their use in detection, attachment, and bio-medical applications
KR100360308B1 (ko) 2000-07-03 2002-11-18 한국화학연구원 아세틸렌기를 포함하는 유기화합물, 그 화합물을 이용한증착중합법, 그 방법에 의하여 제조된 증착중합 박막 및그 박막을 사용한 전기 발광소자
US6468595B1 (en) 2001-02-13 2002-10-22 Sigma Technologies International, Inc. Vaccum deposition of cationic polymer systems
JP2003298131A (ja) * 2002-04-01 2003-10-17 Mitsubishi Electric Corp 圧電薄膜素子およびその製造方法
US6929864B2 (en) 2002-08-17 2005-08-16 3M Innovative Properties Company Extensible, visible light-transmissive and infrared-reflective film and methods of making and using the film
US6818291B2 (en) 2002-08-17 2004-11-16 3M Innovative Properties Company Durable transparent EMI shielding film
JP4309630B2 (ja) * 2002-09-19 2009-08-05 東京エレクトロン株式会社 原料気化器及び成膜処理装置
US7449146B2 (en) 2002-09-30 2008-11-11 3M Innovative Properties Company Colorimetric sensor
US7018713B2 (en) 2003-04-02 2006-03-28 3M Innovative Properties Company Flexible high-temperature ultrabarrier
US20040202708A1 (en) 2003-04-14 2004-10-14 3M Innovative Properties Company Transdermal drug delivery device with translucent inorganic barrier layer
US7052772B2 (en) 2003-08-14 2006-05-30 3M Innovative Properties Company Material for packaging electronic components
FR2859650B1 (fr) * 2003-09-12 2006-02-24 Gloster Sante Europ Appareil de brumisation d'une composition liquide
JP4590881B2 (ja) * 2004-02-13 2010-12-01 株式会社ユーテック Ｃｖｄ用気化器、溶液気化式ｃｖｄ装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000355757A (ja) * 1999-06-14 2000-12-26 Toray Ind Inc 蒸着方法
KR20040091152A (ko) * 2002-03-27 2004-10-27 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 부품 실장 방법, 부품 실장 장치 및 초음파 접합 헤드
JP2004211183A (ja) * 2003-01-07 2004-07-29 Shimadzu Corp 気化器

Also Published As

Publication number Publication date
CN101351868B (zh) 2013-03-13
BRPI0620597A2 (pt) 2011-11-16
EP1969618A4 (en) 2012-02-22
JP2014133948A (ja) 2014-07-24
CN101351868A (zh) 2009-01-21
KR20130130062A (ko) 2013-11-29
JP2009526127A (ja) 2009-07-16
EP1969618A1 (en) 2008-09-17
EP1969618B1 (en) 2018-01-24
WO2008030262A1 (en) 2008-03-13
KR20080080154A (ko) 2008-09-02
US20080292810A1 (en) 2008-11-27
KR20140121888A (ko) 2014-10-16
US8658248B2 (en) 2014-02-25
JP5778376B2 (ja) 2015-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101481933B1 (ko) 코팅 공정을 위한 물질의 분무화 방법
US7678429B2 (en) Protective coating composition
KR100571893B1 (ko) 증기 코팅 기구 및 방법
US7300859B2 (en) Atmospheric glow discharge with concurrent coating deposition
CA2303260C (en) Plasma enhanced chemical deposition with low vapor pressure compounds
KR101529332B1 (ko) 금속 알콕사이드 함유 필름의 경화 방법
US7067405B2 (en) Atmospheric glow discharge with concurrent coating deposition
US7557019B2 (en) Electromagnetic treatment in atmospheric-plasma coating process
EP1144135B1 (en) Method of making non-linear optical polymer
DK163573B (da) Fremgangsmaade og apparat til overfladebehandling af formstofoverflader med en elektrisk koronaudladning
KR20170019491A (ko) 무기 또는 무기/유기 하이브리드 필름의 제조 방법
US20100009095A1 (en) Method and Apparatus for Producing a Coating on a Substrate
KR20120120031A (ko) 대기 필름 코팅법
CN1285760C (zh) 低蒸汽压化合物的等离子体增强化学沉积方法及其设备
KR20220133962A (ko) 코팅 장치 및 그의 코팅 방법
McCann et al. Silica nanofilms deposited by atmospheric pressure plasma liquid deposition
CN115529708A (zh) 一种生成荧光显色薄膜的等离子体改性装置及其控制方法
KR20040104003A (ko) 원자층 증착 장비 및 이를 이용한 원자층 증착 소오스의기화 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
A107 Divisional application of patent
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171219

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee