Das Gebiet der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum
Auftragen eines flüssigen Films auf ein Substrat,
insbesondere ein Verfahren zum Auftragen eines Monomerfilms
auf ein Substrat. Ein derartiger Film kann zum Bilden
einer polymeren Schicht auf dem Substrat polymerisiert
oder vernetzt werden.
Querverweise
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Die Erfindung bezieht sich auf die folgenden, zum Teil
anhängigen, oftmals herabgezogenen US-Patentanmeldungen
und Patente: Serial Nr. 620 647, am 14. Juni 1984 mit
dem Titel "Miniaturisierter monolitischer
Vielschichtkondensator sowie Vorrichtung und Verfahren zum
Herstellen" angemeldet; Patent Nr. 4 499 520, am 12.
Februar 1985 mit dem Titel "Kondensator mit
polyfunktionellem Acrylatpolymer-aufweisendem Dielektrikum und
Herstellungsverfahren" erteilt; Patent Nr. 4 490 774, am
25. Dezember 1984 mit dem Titel "Kondensatoren mit
polyfunktionellen Acrylatpolymeren als Dielektrika"
erteilt; Patent Nr. 4 533 710, am 6. August 1985 mit dem
Titel "1,2-Alkandiol-Diacrylatmonomere und Polymere von
diesen zur Verwendung als Kondensatordielektrikum"
erteilt; Patent Nr. 4 513 349, am 23. April 1985 mit dem
Titel "Acrylat-enthaltende Mischestermonomere und
Polymere von diesen zur Verwendung als
Kondensatordielektrikum" erteilt; Patent Nr. 4 515 931, am 7. Mai
1985 mit dem Titel "Polyfunktionelle Acrylatmonomere und
Polymere von diesen zur Verwendung als
Kondensatordielektrikum" erteilt; Patent Nr. 4 586 111, am 29.
April 1986 mit dem Titel "Kondensator mit einem
Dielektrikum, das ein Polymerisat eines
Polyacrylatpolyetherprepolymers
aufweist" erteilt; Serial Nr. 668 918,
am 6. November 1984 mit dem Titel
"Zerstäubungsvorrichtung für die Evaporisation" angemeldet, und
Serial Nr. 692 746, am 18. Januar 1985 mit dem Titel
"Monomerzerstäuber für die Evaporisation" angemeldet;
wodurch hiermit alle durch Literaturhinweise eingebracht
sind.
Hintergrund und Gegenstand der Erfindung
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In zahlreichen Industriezweigen ist es notwendig, dünne
Beschichtungen von polymeren Materialien auf bestimmte
Substrate aufzubringen. Ein derartiges Gewerbe ist die
Elektronikindustrie, insbesondere die Bereiche, die mit
der Herstellung von polymeren monolitischen
Kondensatoren befaßt sind. Andere Industriezweige, die von der
Herstellung von dünnen polymeren Beschichtungen auf
verschiedenen Substraten abhängig sind, umfassen
Magnetbandhersteller und Hersteller von Verpackungsfolien.
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Kondensatoren werden in einer großen Vielzahl von
elektrischen Schaltungen, beispielsweise in relativ
hochspannigen Wechselstromnetzen (wie etwa die weit
verbreiteten 110-Volt-Netze) und in relativ
niedrigspannigen (z.B. unter 50 Volt) Gleichstromnetzen
verwendet, die in gedruckten Schaltungen und dergleichen
oftmals Verwendung finden. Wichtige Faktoren, die bei
der Herstellung derartiger Kondensatoren beachtet werden
müssen, sind der volumetrische Wirkungsgrad, die
Betriebstemperatur, der Verlustfaktor, insbesondere in
Wechselstromnetzen sowie das Versagensverhalten.
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Die Entwicklung von elektronischen Vorrichtungen und
Schaltungen in verkleinerter Größe hat zu einem Bedarf
an bedeutend kleineren Kondensatoren geführt, die einen
erhöhten volumetrischen Wirkungsgrad oder eine erhöhte
Kapazität pro Einheitsvolumen aufweisen. Bei derartigen
Anwendungen findet der polymermonolitische Kondensator
Verwendung.
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Bei einem monolitischen Kondensator sind die
Elektrodenschichten mit dem Dielektrikum zu einer Einheitsstruktur
verbunden, im Gegensatz zu beisspielsweise einem
Schichtkondensator, in dem selbsttragende Folien in die
Kondensatorform gerollt oder gewickelt werden. Ein
miniaturisierter Kondensator weist sehr kleine
Abmessungen auf, um für Mikroschaltungen geeignet zu sein.
Eine kleine Gesamtgröße könnte eine geringe Kapazität
von geringem praktischem Wert zur Folge haben, wobei die
Dicke der zwischenliegenden dielektrischen Schicht die
Kapazität zwischen benachbarten Elektroden invers
beeinf lußt und die Anzahl der Elektrodenpaare sowie die
dielektrische Konstante des Dielektrikums unmittelbar
die Kapazität beeinflussen. Gemäß den theoretischen
Kondensatorgrundlagen hat daher ein Kondensator mit sehr
dünnen dielektrischen Schichten und vielen
Elektrodenpaaren oder ein bestimmter Kondensator mit einem
Dielektrikum mit einer hohen dielektrischen Konstante eine
hohe tatsächliche Kapazität, obwohl er eine
Miniaturgröße aufweist, wobei die wirksame Fläche der Elektroden
ziemlich klein ist.
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Ein derartiger polymerer monolitischer
Vielschichtkondensator ist in der oben angeführten Anmeldung Serial
Nr. 620 647 beschrieben. Dieser Kondensator weist einen
kapazitiv wirksamen Bereich und zwei
elektrodenverbindende Bereiche auf, wobei jeder von dem wirksamen
Bereich durch einen angeschrägten Bereich getrennt ist.
Der Kondensator weist eine erste und eine zweite
Vielzahl von sich überlappenden Elektrodenschichten auf,
wobei jede Schicht von jeder Vielzahl einen wirksamen
Bereich aufweist, der sich durch den kapazitiv wirksamen
Bereich des Kondensators erstreckt und zu diesem
beiträgt, der mit den wirksamen Bereichen aller anderen
Schichten gestapelt und von diesen mit Abstand versehen
ist. Die Elektrodenschichten sind randlich elektrisch
leitend übereinandergeschichtet verbunden und jede
Schicht weist zwischen ihrem wirksamen Bereich und ihrem
Rand einen angeschrägten Abschnitt auf, der zu einem
angeschrägten Bereich des Kondensators beiträgt. Eine
dielektrische Beschichtung grenzt an jedes benachbarte
Elektrodenpaar und befindet sich zwischen diesen. Die
dielektrische Beschichtung weist eine im wesentlichen
gleichbleibende Dicke in dem kapazitiv wirksamen Bereich
auf und verjüngt sich in den angeschrägten Bereichen auf
eine Null-Dicke.
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Der volumetrische Wirkungsgrad eines Kondensators,
einschließlich des oben beschriebenen monolitischen
Vielschichtkondensators, wird im allgemeinen in
Kapazität pro Volumeneinheit gemessen. Generell ist eine
hohe Effektivität erwünscht, wobei mindestens Werte von
etwa einem Zehntel (0,1) uF pro mm³ für eine mit 50 Volt
Gleichstrom betriebene Einheit bevorzugt ist.
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Wie oben angeführt ist der volumetrische Wirkungsgrad
des Kondensators durch eine Reduzierung der Dicke der
dielektrischen Schicht und/oder durch eine Erhöhung der
Elektrodenpaaranzahl steigerbar, wobei beide
Möglichkeiten in Abhängigkeit von dem Kondensatortyp und von
seiner letztendlichen Verwendung begrenzt sind.
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Aus dem Vorangegangenen wird deutlich, daß zum Erzielen
der Ergebnisse, die im Zusammenhang mit der
obengenannten Anmeldung Serial Nr. 620 647 angestrebt sind,
ein Verfahren zum Auftragen einer dünnen, gleichmäßigen
monomeren Schicht auf dem gewünschten Substrat unbedingt
notwendig ist. Bislang war den Fachleuten bekannt, daß
monomere Schichten auf Substraten auftragbar sind.
Beispielsweise beziehen sich das US-Patent Nr. 3 547 683
und die entsprechende englische Anmeldung Nr. 1 168 641
auf die Dampfauftragung eines polymerisierbaren oder
vernetzbaren Materials, das bei Normaltemperatur- und
Normaldruckverhältnissen einen Dampfdruck von weniger
als 1,33 x 10² Pa (1 Torr) aufweist. Es erscheint, daß
das in derartigen Patenten verfolgte Konzept darauf
beruht, daß lediglich ein aufgeheizter Behälter des
Materials das gewünschte polymerisierbare oder
vernetzbare Material verdampft. Bei einem derartigen Ansatz
ist von Nachteil, daß durch Belassen eines
polymerisierbaren oder vernetzbaren Materials bei erhöhten
Temperaturen über eine gewisse Zeitspanne eine Zersetzung
und/oder eine Polymerisation des Materials innerhalb des
Behälters möglich ist, wobei beides nicht erwünscht ist.
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Die US-Patente Nr. 4 121 537 und 4 207 836 befassen sich
beide mit der Dampfauftragung einer Schicht einer
Verbindung, die zwei oder mehr Elemente, wie etwa Se, Te
oder As, enthält durch Entspannungsverdampfung, etwa
durch stückweises Eintropfen von Rohmaterial in ein auf
eine hohe Temperatur aufgeheiztes Schif fchen, wobei die
einzelnen Dosen innerhalb einer kurzen Zeit verdampft
werden. In diesen Patenten wird demnach der Ansatz einer
Verwendung von Entspannungsverdampfung im Zusammenhang
mit monomeren Materialien, wie in der vorliegenden
Erfindung verwendet, nicht gelehrt. Wie in den Patenten
gelehrt, taucht bei einem derartigen Ansatz ein Problem
auf, da durch Verdampfen eines jeden Tropfens naturgemäß
ein Dampfschwall produziert wird, dem eine kurz
Zeitspanne folgt, während der kein Dampf vorhanden ist.
Unter derartigen Bedingungen ist es schwierig, eine
gleichmäßige Materialschicht auf dem gewünschten
Substrat aufzutragen. Das Vorangegangene trifft
insbesondere dann zu, wenn die Dampfquelle und das
Substrat sich gegeneinander bewegen.
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Das US-Patent Nr. 4 153 925 befaßt sich allgemein mit
der Verwendung einer Elektronenbeschießung oder einer
ultravioletten Bestrahlung eines organischen Monomers,
um eine dielektrische Schicht zu erstellen. Es ist
jedoch keine bestimmte Lehre bezüglich des Verfahrens
vorhanden, durch welches das Monomer auf das gewünschte
Substrat aufgebracht wird. Gleichfalls behandeln die US-
Patente Nr. 4 277 516, Nr. 4 301 765 und Nr. 4 378 382
die Polymerisation von Monomeren durch Glühen, ohne
einen bestimmten Hinweis zu enthalten, wie eine
gewünschte gleichmäßige monomere Schicht zu erstellen ist.
Es wird angenommen, daß die Monomere, die durch Glühen
polymerisiert sind und auf die sich diese Patente
beziehen, Monomere sind, die typischerweise bei
Standardtemperatur- und Druckbedingungen als Gas vorliegen und
daher nicht dieselben Probleme wie Monomere aufwerfen,
die typischerweise als Flüssigkeiten verwendet werden.
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Es besteht daher besonders im Hinblick auf das in der
obengenannten Anmeldung Serial Nr. 620 647 offenbarte
Verfahren die Notwendigkeit, ein Verfahren zu schaffen,
mit dem polymerisierbare und/oder vernetzbare
Materialien in einer kontrollierbaren Art und Weise gleichmäßig
auf einem bestimmten Substrat aufgetragen werden können,
so daß diese Materialien anschließend ausgehärtet werden
können, um eine erwünschte Polymerschicht auf dem
Substrat zu bilden. Allgemeiner ausgedrückt besteht die
Notwendigkeit, eine Verfahren zu schaffen, mit dem
Materialien schnell und gleichmäßig auf einem bestimmten
Substrat aufgetragen werden können.
Zusammenfassung der Erfindung
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Allgemein betrifft die vorliegende Erfindung ein
Verfahren zum Auftragen einer Materialschicht auf ein
Substrat, wobei das Material polymerisierbar und/oder
vernetzbar und am Siedepunkt oder unterhalb seines
Siedepunktes chemisch unstabil ist, wobei das Verfahren
vorsieht, daß ein kontinuierlicher Flüssigkeitszufluß
des Materials bei einer Temperatur sowohl unterhalb der
Zersetzungstemperatur als auch unterhalb der
Polymerisationstemperatur des Materials zugeführt wird und
daß der Flüssigkeitszufluß kontinuierlich in einen
kontinuierlichen Strom zerstäubter Tröpfchen zerstäubt
wird, daß das Material durch kontinuierliches In-
Kontakt-Bringen von Materialtröpfchen mit einer
erhitzten Oberfläche schnell verdampft wird, die bei einer
Temperatur am Siedepunkt oder oberhalb des Siedepunktes
des Materials, jedoch unterhalb der Temperatur gehalten
wird, bei der die Tröpfchen vor einem Verdampfen einer
Pyrolyse unterworfen sind; daß zumindest ein Teilbereich
des Substrats bei einer Temperatur gehalten wird, die
sich unterhalb des Materialsiedepunktes und in einem
Bereich befindet, der einen geringeren Druck als das
verdampfte Material aufweist, so daß eine zwangsläufige
Zuführung von verdampftem Material zu dem Substrat hin
vorgesehen ist; und daß der Zustrom des verdampften
Materials zu dem Substrat in einer vorbestimmten Art und
Weise gelenkt wird.
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Die vorliegende Erfindung betrifft ebenfalls ein
Verfahren zum Auftragen einer Materialschicht auf ein
Substrat, wobei das Material polymerisierbar und/oder
vernetzbar ist, welches vorsieht, daß ein
kontinuierlicher Flüssigkeitszufluß des Materials bei einer
Temperatur sowohl unterhalb der Zersetzungstemperatur
als auch unterhalb der Polymerisationstemperatur des
Materials, falls vorhanden, zugeführt wird; und daß der
Flüssigkeitszufluß kontinuierlich in einen
kontinuierlichen Strom flüssiger Tröpfchen mit einer Partikelgröße
von etwa 1 bis etwa 50 um zerstäubt wird; daß die
Flüssigkeitströpfchen durch In-Kontakt-Bringen mit einer
erhitzten Oberfläche kontinuierlich verdampfen, die bei
einer Temperatur am Siedepunkt oder oberhalb des
Siedepunktes des Materials, jedoch unterhalb der Temperatur,
bei der die Tröpchen vor einem Verdampfen einer Pyrolyse
unterworfen sind, gehalten wird; daß zumindest ein
Teilbereich des Substrats bei einer Temperatur gehalten
wird, die sich unterhalb des Materialsiedepunktes und in
einem Bereich befindet, der einen geringeren Druck als
das verdampfte Material aufweist, so daß eine
zwangsweise Zuführung von verdampftem Material zu dem Substrat
hin vorgesehen ist; und daß der Zustrom des verdampften
Materials zu dem Substrat hin in einer vorbestimmten Art
und Weise gelenkt wird.
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Aus dem Vorangegangenen sollte ebenfalls ersichtlich
sein, daß, wenn das Material durch Vorsehen des
zusätzlichen Schrittes einer Materialpolymerisierung oder
Materialvernetzung auf dem Substrat das Material
polymerisierbar und/oder vernetzbar ist, ebenfalls ein
Verfahren zum Auftragen einer polymeren Beschichtung auf
wenigstens einen Teilbereich des gewünschten Substrats
betrifft.
Kurze Figurenbeschreibung
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Fig. 1 zeigt eine schematische, perspektivische Ansicht
einer für das Verfahren der vorliegenden
Erfindung verwendbaren Vorrichtung;
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Fig. 2 zeigt einen vergrößerten Teilschnitt eines
Bereiches der in Figur 1 dargestellten
Vorrichtung, die das geschaffene Phänomen im
Betrieb zeigt;
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Fig. 3 zeigt eine Draufsicht auf den in Figur 2
gezeigten Bereich, wobei ein Teil geschnitten
dargestellt ist;
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Fig. 4 ist zu Figur 3 ähnlich, zeigt aber die
Tröpfchendispersion, die aus dem Betreiben der
Vorrichtung resultiert;
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Fig. 5 zeigt eine schematische, zum Teil geschnittene
Vorrichtung, die einen Zerstäuber, der zur
Durchführung des Verfahrens gemäß der Erfindung
verwendbar ist; und
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Fig. 6 zeigt ein schematisches Diagramm einer
Vorrichtung zum Herstellen von polymeren
monolitischen Kondensatoren, die das Verfahren der
vorliegenden Erfindung verwendet.
Detaillierte Beschreibung des bevorzugten
Ausführungsbeispiels
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Wie diskutiert betrifft die Erfindung ein Verfahren zum
Auftragen eines gleichmäßigen Films eines
polymerisierbaren und/oder vernetzbaren Materials auf ein Substrat.
Das polymerisierte und/oder vernetzte Material wird im
folgenden als Monomer oder monomeres Material
bezeichnet. Das Material kann jedoch, wie unten detailliert
beschrieben, von polymerer Beschaffenheit sein.
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Die für die vorliegende Erfindung verwendbaren Monomere
schließen alle diejenigen Materialien ein, die in den
oben diskutierten Querverweisen offenbart sind, die
insbesondere hiermit durch Bezug eingearbeitet sind.
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Darüber hinaus sind andere zur Ausübung der vorliegenden
Erfindung verwendbaren monomere Materialien
eingeschlossen, die im US-A-3 547 683 diskutiert sind, die Polymere
von geringer Molekülmasse des Additionstyps, natürliche
Öle, Silikon, Kondensationspolymere und andere Monomere
und Materialien, die eine Nicht-Sättigung aufweisen, die
polymerisierbar oder vernetzbar sind, wobei eine
Beschränkung allein auf diese nicht gegeben ist.
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Unter dem Gesichtspunkt der Funktionsfähigkeit des
vorliegenden Verfahrens sollte jedes verwendete Monomer
entweder eine Flüssigkeit bei Raumtemperatur oder bei
einer erhöhten Temperatur in eine Flüssigkeit
überführbar sein, ohne dabei einer wesentlichen Zersetzung oder
Polymerisation unterworfen zu sein. Weiterhin sollten
die monomeren Materialien einen Dampfdruck bei
Standardtemperatur von weniger als etwa 1,33 x 10² Pa (1 Torr)
und vorzugsweise weniger als etwa 0,13 Pa (10&supmin;³ Torr)
aufweisen. Es sei ebenfalls erwähnt, daß Monomere, die
in der vorliegenden Erfindung verwendbar sind, solche
Monomere einschließen, die, obwohl sie selbst bei
Raumtemperatur nicht flüssig sind, in anderen geeigneten
Lösungen lösbar sind, um eine azeotropische Lösung zu
bilden.
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Die für eine Benutzung in der vorliegenden Erfindung
besonders bevorzugten monomeren Materialien sind die
Polyacrylatpolyetherprepolymere, die in dem
querverwiesenen
am 29. April 1986 erteilten US-Patent Nr. 4 586
111 offenbart sind.
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Allgemein sind die in der vorliegenden Erfindung
verwendeten Monomere dadurch charakterisiert, daß sie bei
Temperaturen am Siedepunkt oder sogar unterhalb ihres
Siedepunktes chemisch unstabil sind. Der Ausdruck
"chemisch unstabil" wird hier benutzt, um jede Art einer
chemischen Instabilität zu bezeichnen, die eine
Oxidation oder andere chemische Zerlegungen der Monomere
sowie die Bildung von Polymeren oder Oligomeren
einschließt, aber nicht auf diese beschränkt ist.
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Wie oben angedeutet, betrifft der erste Schritt des
Verfahrens der vorliegenden Erfindung das
kontinuierliche Heranführen von Monomertröpfchen. Derartige
Tröpfchen können durch kontinuierliches Zuführen von
einem flüssigen Monomerstrom und durch kontinuierliches
Zerstäuben des Monomers in einen kontinuierlichen
Tröpfchenstrom, der vorzugsweise gleichförmige, flüssige
Tröpfchen mit einer Partikelgröße von etwa 1 bis etwa 50
m aufweist, hergestellt werden. Typischerweise wird die
Partikelgröße der flüssigen Tröpfchen etwa 1 bis etwa 20
um aufweisen und sich im allgemeinen um einen
Partikelbereich mit einer Partikelgröße von etwa 5 bis etwa 10
um gruppieren.
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Obwohl im allgemeinen die in dem vorliegenden Verfahren
zerstäubten Tröpfchen innerhalb des Größenbereichs von
etwa 1 bis etwa 50 um liegen, ist es theoretisch am
besten, die kleinstmögliche Partikelgröße zu verwenden.
Vorteilhafterweise sind daher Partikel mit einer Größe
von weniger als 1 um in der vorliegenden Erfindung
verwendbar. Es ist unter einem praktischen Gesichtspunkt
gewöhnlich jedoch nicht möglich, die Monomere in eine
derart feine Partikelgröße zu zerstäuben, so daß andere
Gesichtspunkte herangezogen werden müssen, um die größte
zu akzeptierende Partikelgröße zu bestimmen.
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Die Diskussion der größten, in irgendeinem bestimmten
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung
verwendeten Partikelgröße ist natürlich dahingehend zu
verstehen, daß die tatsächlich verwendeten Tröpfchen
eine Partikelgrößenverteilung aufweisen, deren Maximum
erheblich unterhalb der größten Partikelgröße liegt. In
einem typischen Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung liegt daher die verwendete Partikelgröße
beispielsweise in einem Bereich von etwa 1 bis etwa 20
'im, wobei das Verteilungsmaximum etwa bei 10 um liegt.
Es ist zu verstehen, daß die "Partikelgröße" eines
Partikels, wie hier benutzt den Durchmesser des
Partikels bezeichnet.
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Es sollte verstanden sein, daß ein grundlegendes Ziel
der vorliegenden Erfindung ist, daß die Verdampfung der
Monomerpartikel von der erhitzten Oberfläche in einer
Weise erfolgt, daß sich keine Flüssigkeit auf dem
Substrat ansammelt. Um daher einen kontinuierlichen Zustrom
von Monomerdampf durch die Verdampfung von
Monomertröpfchen von der erhitzten Oberfläche zu erhalten, muß
die Größe der Monomertröpfchen typischerweise so
gestaltet sein, daß die Verdampfung der mit jedem Tröpfchen
auf getragenen Monomere sich innerhalb weniger als etwa
50 ms, vorzugsweise innerhalb weniger als 20 ms und
insbesondere innerhalb weniger als 10 ms vollzieht. Für
die Verdampfung des Monomers wäre es ideal, wenn sich
dies in weniger als 1 ms vollzieht. Gewöhnlich legen
jedoch praktische Begrenzungen zugrunde, daß die
Verdampfung in einem Bereich zwischen etwa 10 bis etwa 20
ms erfolgt. Die tatsächliche zum Verdampfen notwendige
Zeitspanne ist neben der Größe der Monomertröpfchen
naturgemäß von vielen Bedingungen abhängig. Derartige
Bedingungen schließen die Beschaffenheit des Monomers,
etwa seinen Dampfdruck unter Standardtemperatur- und
Druckbedingungen, den Vakuumgrad, in dem sich die
erhitzte Oberfläche befindet, und die Temperatur, auf die
die Oberfläche erhitzt ist, ein.
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Der genaue Mechanismus zum Zerstäuben des flüssigen
Monomers ist im allgemeinen nicht entscheidend, so daß
irgendeine geeignete Methode Verwendung finden kann. Bei
vielen Anwendungen ist es jedoch entscheidend, daß das
Verfahren zum Zerstäuben des flüssigen Monomers derart
präzise ist, daß im wesentlichen alle Partikel in den
gewünschten Größenbereich fallen und daß die Partikel in
einem kontinuierlichen, in seiner Beschaffenheit nicht
intermittierenden Strom zuführbar sind. Die
Notwendigkeit eines kontinuierlichen Zustroms ist offensichtlich,
wenn die Tatsache betrachtet wird, daß die typische
letztendliche Benutzung der Auftrag einer einheitlichen
Polymerschicht, wie z.B. eine dielektrische Beschichtung
in einer monolitischen Kondensatorstruktur, ist.
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Ein geeignetes Verfahren zum Zerstäuben des flüssigen
Monomers ist in der querverwiesenen Anmeldung Serial Nr.
668 918 offenbart und eine weitere derartige Methode ist
in Serial Nr. 692 746, am 18. Januar 1985 unter dem
Titel "Monomerzerstäuber für die Evaporation"
angemeldet, offenbart.
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Wird die aus einer der beiden obengenannten Anmeldungen
gelehrte Vorrichtung in der hier beschriebenen Art und
Weise verwendet, wird ein kontinuierlich fließender,
gleichförmiger Strom von Monomerpartikeln des
gewünschten Größenbereichs erzeugt. Jede andere
Vorrichtung
ist zum Zerstäuben des flüssigen Monomers
verwendbar, solange ein gleichförmiger, kontinuierlicher
Strom in der gewünschten Partikelgröße erzeugt wird.
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Bezüglich des Schrittes des Verdampfens der flüssigen
Tröpfchen ist wiederum jede geeignete erhitzte
Oberfläche verwendbar. Die Temperatur der erhitzten
Oberfläche sollte so gewählt sein, daß eine Verdampfung
sofort beim Kontakt der Monomertröpfchen mit der
Oberfläche einsetzt. Die Temperatur sollte jedoch nicht so
hoch sein, daß eine Pyrolyse des Materials verursacht
wird, d.h. daß eine Oxidation oder eine andere
Zersetzung der Monomerstruktur ausgelöst wird.
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Bezüglich der physikalischen Gestalt der erhitzten
Oberfläche ist jede gewünschte Form verwendbar. In den
guerbezogenen Anmeldungen sind verschiedene Strukturen
gezeigt. Es ist gewöhnlich wünschenswert, daß die
erhitzte Oberfläche in einer Verdampfungskammer, in der
die flüssigen Tröpfchen verdampft werden, eingeschlossen
ist oder diese tatsächlich bildet. Eine derartige Kammer
kann ebenfalls Mittel aufweisen, die den Strom des
Monomerdampfes auf ein Substrat lenken. In einem
derartigen Ausführungsbeispiel kann die Kammer in Gestalt
einer Strömungsleitvorrichtung oder in einer Düse enden,
so daß die flüssigen Monomertröpfchen beim Verdampfen
einen Innendruck in der Kammer aufbauen, so daß der
Monomerdampf aus der Düse oder anderen
Strömungsleitvorrichtung in Richtung auf das Substrat hin
herausgetrieben wird.
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Bei der Herstellung von monolitischen Kondensatoren ist
das bevorzugte Substrat eine Kupferfolie. Es ist zu
berücksichtigen, daß beim Herstellen von monolitischen
Kondensatoren die Kupferfolie selbst mit polymeren
Materialschichten beschichtet ist, die mit Schichten aus
leitendem Material, etwa Aluminium von ungefähr 20 bis
50 nm (200 bis 500 Angström) Dicke, wechsellagert. Ein
typisches Substrat würde daher eine Kupferfolie sein,
auf der sich wechsellagernde Schichten von polymerem
Material, das mit Hilfe des Verfahrens der vorliegenden
Erfindung gebildet ist, und leitenden Aluminiumschichten
befinden.
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Das Substrat selbst sollte sich in einem Bereich
befinden, in dem ein tieferer Druck als der durch die
Verdampfung der Monomertröpfchen gebildete Druck vorgesehen
ist. Bezüglich des Druckes, der beim Herstellen von
monolitischen Kondensatoren verwendet wird, liegt der
Druck in der Auftragungszone gewöhnlich unter 1,33 x 10³
Pa (10 Torr), vorzugsweise unter 13,3 Pa (10&supmin;¹ Torr) und
vorteilhafterweise unter 0,013 Pa (10&supmin;&sup4; Torr) oder ist
sogar geringer.
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Die Filmschicht des auf dem Substrat auf getragenen
monomeren Materials kann jede geeignete Dicke aufweisen.
Gewöhnlich sollte jedoch die Dicke des aufgetragenen
Films derart sein, daß die anschließenden
Polymerisations- oder Vernetzungsmittel beim Aushärten des
monomeren Materials innerhalb der gesamten Dicke
effektiv sind.
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Bezüglich des Schrittes des Polymerisierens des
aufgetragenen Films kann jedes geeignete Verfahren verwendet
werden. Daher kann in Abhängigkeit von der
Beschaffenheit des Monomers thermische Elektronstrahlung oder
ultraviolette Strahlung zur Aushärtung verwendet werden.
Ein zum Aushärten besonders geeignetes Verfahren
verwendet einen beschleunigten Elektronenstrahl, dessen
Energie im allgemeinen bis zu 3,20 x 10&supmin;¹&sup5; J (20 keV)
aufweist, wie dies mit Hilfe von herkömmlichen
Elektronenbeschleunigern erzielt wird. Die Energie der
Bestrahlung und die Zeitspanne, die der monomere Film
der Bestrahlung ausgesetzt ist, sollte so gewählt sein,
daß das Material in seiner gesamten Dicke polymerisiert
oder vernetzt wird. Unter Bezug auf die Zeichnungen und
die nachfolgende Beschreibung kann die vorliegende
Erfindung in seinen bevorzugten Ausführungsbeispielen
weiter gewürdigt werden.
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Zwei verschiedene Vorrichtungen sind zum
Schnellverdampfen einer Flüssigkeit gemäß der vorliegenden
Erfindung entwickelt worden. Die Vorrichtungen werden nun im
Detail beschrieben. Es ist zu verstehen, daß diese
Vorrichtungen jedoch nicht die einzigen Vorrichtungen
darstellen, die zur Durchführung der vorliegenden
Erfindung verwendbar sind. Jede Vorrichtung, die geeignet
ist, eine Flüssigkeit auf die geeignete Partikelgröße
kontinuierlich zu zerstäuben und die flüssigen Partikel
im Kontakt mit einer erhitzten Oberfläche kontinuierlich
zu verdampfen, kann vorteilhafterweise für die
vorliegende Erfindung verwendet werden.
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Bezugnehmend auf Fig. 1 ist darin ein erstes
Ausführungsbeispiel der Vorrichtung 10 zum Verdampfen einer
Flüssigkeit, etwa eines monomeren Harzes, das in einem
Reservoir 11 bevorratet ist, und zum Auftragen des
erzeugten Dampfes durch Kondensierung auf einem Substrat
12, das zum Vorbeibewegen an der Vorrichtung 10
angeordnet ist, abgebildet. Es ist zu verstehen, daß sowohl
die Vorrichtung 10 und das Substrat 11 in einer
Niedrigvakuumumgebung gehalten sind. Zweck des Dampfauftragens
ist es, eine gleichmäßige, sehr dünne - 1 um oder
geringer messende - Beschichtung des flüssigen Materials
auf dem Substrat 12 aufzutragen.
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Die Vorrichtung beeinhaltet eine Verdampfungskammer 13,
die in geringem Abstand zu dem Substrat 12 eine
Düsenöffnung 14 zum Austreten des verdampften Materials
aufweist. Die Kammer 13 schließt eine durch einen Motor 16
angetriebene Rotationsscheibe 15 ein, die durch
Zentrifugalkraft zerstäubte Flüssigkeitströpfchen gegen
ein Heizband 17 schleudert, das eine die Scheibe 15
umgebende Heizoberfläche 18 bildet. Die winzigen
Tröpfchen werden beim Kontakt mit der erhitzten
Oberfläche 18 schnell verdampft, wobei sowohl Dampf als auch
ein Dampfdruck gebildet wird, um das gasförmige Material
durch die Düsenöffnung 14 zum Kondensieren auf dem
Substrat 12 auszutreiben. Falls die Flüssigkeit eine
monomere Flüssigkeit ist, bleibt durch die
Schnellverdampfung die chemische Struktur erhalten und der auf
dem Substrat kondensierte Monomerfilm kann später, falls
gewünscht, durch jedes geeignete Verfahren, etwa durch
ultraviolette Bestrahlung oder durch
Elektronenbestrahlung ausgehärtet werden.
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Im Einklang mit der Erfindung beinhaltet die
Zerstäubungsvorrichtung neben der angetriebenen Scheibe 15 ein
Kapillarröhrchen 20, das an dem Vorratsbehälter 11 zur
Flüssigkeitszufuhr im rechten Winkel zur flachen,
kreisförmigen Oberseite 21 der Scheibe 15 angebracht ist,
wobei das Ende des Röhrchens 20 von der Seite 21 soviel
Abstand aufweist, daß ein an dem Röhrchenende gebildeter
Tropfen gerade die Seite berührt. Mit dem entsprechenden
Abstand, der entsprechenden
Scheibenoberseitengeschwindigkeit und der entsprechenden Tropfengröße
dreht die Oberseite den Tropfen, wie in Figur 2 gezeigt,
so daß auf der Oberseite 21 ein flüssiger Film von dem
Tropfen weggezogen wird, wobei der flüssige Film
kontinuierlich von dem Röhrchen 20 nachgefüllt wird und
wobei der Film zentrifugal in zerstäubten Tröpfchen mit
einer Partikelgröße von etwa 1 bis etwa 20 um über den
Umfang der Scheibe auf die erhitzte, verdampfende
Oberfläche 18 geschleudert wird. Die Tröpfchen werden
entlang der in Figur 4 dargestellten Bahnen 22 von der
Scheibenoberfläche 21 geschleudert.
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Falls das Röhrchen 20 zu Beginn in der Nähe des Zentrums
der Rotationsscheibe 15 positioniert ist und dann radial
nach außen bewegt wird, um so allmählich die
Geschwindigkeit der im Kontakt mit dem Tropfen stehenden
Oberfläche zu erhöhen, wird der oben und in Figur 2
beschriebene Zustand erreicht. Repräsentative
Verhältnisse, die für ein monomeres Flüssigharz als geeignet
befunden worden sind, weisen ein 0,5 mm (20 mil) großes
Kapillarröhrchen auf, das Flüssigkeit auf eine im
Durchmesser 2,5 cm (1 Inch) große, im Bereich zwischen 3.000
bis 5.000 Umdrehungen pro Minute angetriebene Scheibe
zuführt. Der in Abhängigkeit von der Viskosität der
Flüssigkeit und der Oberflächenspannung gebildete
Tropfen berührt die Scheibe, wobei der Abstand des
Röhrchenendes von der Scheibe etwa 0,9 mm (37 mil)
aufwies. Die Scheibe war aus sauberem Glas hergestellt.
Das tropfenrollende- und filmbildende Phänomen wurde mit
dem Abstand 23 (vgl. Fig. 3) des Tropfens von dem
Scheibenzentrum von etwa 0,38 mm (3/8 inch) erreicht.
Tröpfchen werden produziert und entlang der Bahnen 22
abgegeben.
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Obwohl die Scheibenoberfläche 21 horizontal angeordnet
und mit dem Röhrchen einen vertikalen rechten Winkel
aufweisend dargestellt ist, kann die Oberfläche 21
vertikal und das Röhrchen horizontal angeordnet sein,
solange das Röhrchen so angeordnet ist, daß der Tropfen
die nach oben drehende Hälfte der Scheibenoberfläche
berührt. Dergestalt angeordnet wirkt die
Viskositätzugkraft
der Scheibe auf die Flüssigkeit der
Gravitationskraft entgegen.
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Die beschriebene Anordnung produziert eine
kontinuierliche Rate von sehr geringvolumigen Tröpfchen, die für
eine anschließende Schnellverdampfung und eine
Auftragung als eine sehr dünne Beschichtungsschicht
geeignet sind. Die Dampfzufuhrrate ist, falls erwünscht,
durch Beaufschlagen des Reservoirs 11 mit einem Druck
erhöhbar. Flüssigkeiten mit variierender Viskosität
würden zunächst Tröpfchen von verschiedener Größe
produzieren, wobei die Größe von dem Kapillarröhrchen
abhängig ist, wobei aber der relative Abstand der
Scheibe von dem Röhrchen durch einfaches Variieren zum
Anpassen an verschiedene Tropfengrößen offensichtlich
anpaßbar ist.
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Fig. 5 zeigt eine schematische, zum Teil geschnittene
Zerstäubervorrichtung gemäß einem zweiten und derzeit
bevorzugten Ausführungsbeispiel, die zur Durchführung
des Verfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung
benutzbar ist.
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Bezugnehmend auf Fig. 5 ist darin eine weitere
Vorrichtung 110 zum Verdampfen einer monomeren Flüssigkeit
dargestellt, die durch eine Leitung 111 und ein Ventil
112 zugeführt ist, und zum Vakuumauftragen des Dampfes
auf eine Oberfläche 113, die von einer sich drehenden
Trommel 114 getragen ist. Die Flüssigkeit wird durch
eine die Erfindung beinhaltende Vorrichtung 115
zerstäubt, in einer Verdampfungskammer 116 verdampft, durch
Heizelemente 117 aufgeheizt und durch eine
Düsenvorrichtung 118 auf der Trommeloberfläche 113
aufgetragen. Die Düsenvorrichtung 118 kontrolliert durch
Absperren des Dampfzuflusses mit einem inerten Gas,
welches
durch das Rohr 121 und das Ventil 122 herangeführt
wird, zum Teil die Dampfauftragung. Die Vorrichtung 110
ist innerhalb einer Vakuumkammer 123 angeordnet.
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Gemäß diesem zweiten Ausführungsbeispiel ist die im
wesentlichen ein Ganzes bildende Vorrichtung 115 mit
einer Spitze 131 an einem Ende versehen, die sich in die
Verdampfungskammer 116 erstreckt, die Flüssigkeit
liefert, und mit einer Ultraschallvibrationsvorrichtung
132, die an dem gegenüberliegenden Ende angeschlossen
ist, versehen. Die Vorrichtung 115 ist durch einen
Kragen 134 gehalten, der die Kammeröffnung, durch die
sich die Spitze 131 erstreckt, verschließt und der mit
der Spitze etwa an ihrem Knotenpunkt verbunden ist. Die
Spitze 131 weist einen verjüngten Schaft 135 auf, der in
einer Oberfläche 136 endet, zu der die Flüssigkeit durch
einen Kapillarkanal 137 in der Spitze 131 herangeführt
wird, die mit der Flüssigkeitszufuhrleitung 111 durch
eine Klemmkupplung 138 verbunden ist. Die Vorrichtung
132, vorzugsweise ein piezoelektrischer Kristallwandler,
wird mit Hilfe einer elektronischen Stromversorgung 139
über eine Leitung 141 mit Energie versorgt.
Ultraschallschwingungen der Spitze 135 und seiner Oberfläche 136
bringen die Flüssigkeit dazu, aus dem Kanal 137 zu
fließen, die Oberfläche 136 zu beschichten und in feinen
Tröpfchen als breitbandiges Muster in der Kammer 116
dispersiert zu werden. Das erstellte Muster weist eine
flachkegelige Form auf, falls eine im wesentlichen
flache Oberfläche wie die Oberfläche 136 verwendet wird.
Beim Auftreffen der Flüssigkeit auf die Heizkammerwände,
wobei Temperaturen von 176,7 ºC (350 ºF) bis 204,4 ºC
(400 ºF) üblich sind, wird diese verdampft, wobei ein
Gasdruck erzeugt wird, der den Dampf durch die
Düsenvorrichtung 118 treibt, so daß dieser auf der Oberfläche
113 aufgetragen werden kann.
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Die Längen des Verbindungsstückes 143 und der Spitze 131
entsprechen einer halben Wellenlänge der Vibration,
wobei die Vorrichtung 132 mit einer maximalen
Bewegungsamplitude bei deren Eigenfrequenz an der Oberfläche 136
und mit minimaler Bewegung oder Knotenpunkten an den
Befestigungspunkten der Verbindungsstückes 143 und der
Spitze 131 betrieben wird. Um die Vibrationsvorrichtung
132 vor Hitze zu schützen, weist die Vorrichtung 115
eine Kühlmanschette 143 auf, die zwischen der Spitze 131
und der Vibrationsvorrichtung 132 angeordnet ist und
starr mit dieser verbunden ist. Kühlwasser wird durch
einen Kanal mit Hilfe der Leitungen 144 in die
Manschette 143 eingegebracht. Die Manschette 143 und das
Kühlwasser nehmen die Wärme auf, die über die Spitze 131
von der Verdampfungskammer 116 herangeführt wird, und
entfernt diese, so daß extreme Temperaturen die
Schwingungsvorrichtung 132 nicht normwidrig beschädigen
können. Um eine Schwingungsabsorption gering zu halten,
sind die Leitungen 138, 144 und die Verbindung mit dem
Kragen 134 bei oder in der Nähe der
Schwingungsknotenpunkte vorgesehen. Die Vorrichtung 115 ist durch den
Kragen 134 freitragend, so daß die Vorrichtung 132
ungedämpft schwingen kann.
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Es hat sich gezeigt, daß ein Material wie die
Titanlegierung 6AL4V für die Spitze 131 geeignet ist. Der
Durchmesser des Kanals 137 ist von der Durchflußrate der
Flüssigkeit abhängig, die durch die Leitung 111
herangeführt wird, wobei Durchmesser von 0,5 mm (20 mil)
bis 3,72 mm (1/8 inch) als geeignet angesehen worden
sind.
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Die grundsätzliche Vorrichtung, dargestellt durch die
Spitze 131, die Vibrationsvorrichtung 132 und die
Elektronikteile 139, ist in jeder standardmäßigen
Laborausrüstung,
etwa bei Ultraschallemulgatorvorrichtungen
auffindbar, wobei diese Benutzung von relativ
standardmäßigen Komponenten die Zerstäubervorrichtung in der
Herstellung und in der Wartung ökonomisch macht.
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Kondensatoren, die mit Hilfe des Verfahrens der
vorliegenden Erfindung erstellt worden sind, sind aus
Materialien und in Konfigurationen herstellbar, die der
Fachwelt bekannt sind. Die leitenden Materialien sind
gewöhnlich Aluminium, Zink, Legierungen dieser Metalle
sowie Zweigeschichtete, die zumindest Aluminium oder
Zink und ein anderes Metall enthalten, wobei Aluminium
bevorzugt ist. Aluminium und Zink sind wegen ihres
Beitrags zu den Selbstheilungseigenschaften eines
Kondensators einzigartig. Beispielsweise weist ein
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung einen
Kondensator auf, der eine erste Elektrode, die
beispielsweise eine Aluminiumschicht darstellt, eine
dielektrische Beschichtung eines Polymers, das durch
Auftragung durch das Verfahren der vorliegenden
Erfindung eines in Lösung befindlichen monomeren
Materials auf der Oberfläche der ersten Elektrode und
durch anschließende Polymerisierung erstellt wurde, und
eine zweite Elektrode beinhaltet, die durch eine zweite
dünne metallisierte Schicht, die vorzugsweise aus
Aluminium gebildet ist, welche auf dem dielektrischen
Film aufgetragen ist. Geeignete Leitungen sind an den
ersten und zweiten Elektroden angebracht.
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Die vorliegende Erfindung ist ebenso für die Herstellung
von polymeren monolitischen Vielschichtkondensatoren
verwendbar, wie etwa für solche, die in der
Patentanmeldung US-A-620 647 beschrieben und beansprucht sind.
Kondensatoren von diesem Typ sind durch wechselweises
Auftragen von Elektroden- und dielektrischen Schichten
herstellbar, um so alternierend Elektrodenschichten und
Bereiche zu erstellen, die von dem Stapel hervorstehen,
um diese elektrisch zu verbinden, wobei dies weit
ausführlicher in der oben genannten Anmeldung beschrieben
ist. Die dielektrische Beschichtung enthält ein Polymer,
welches durch Verwendung des Verfahrens der vorliegenden
Erfindung, mit dem eine monomere Materialschicht auf der
Elektrode auftragbar ist und durch anschließende
Polymerisierung des monomeren Materials erstellt ist. Die
Verwendung einer Elektronenstrahlpolymerisierung ist
besonders bevorzugt, da es eine rasche Polymerisierung
der Prepolymere erlaubt, ohne zusätzliche
Aushärtungsmittel zu verwenden, so daß dies eine wirtschaftliche
Herstellung von sehr dünnen Beschichtungen zur Folge
hat.
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Das Verfahren der vorliegenden Erfindung, bei dem die
monomere Materialschicht auf ein Substrat aufgetragen
und anschließend polymerisiert oder vernetzt wird, kann
daher bei der Herstellung von polymeren monolitischen
Kondensatoren unter Verwendung einer wie in Fig. 6
gezeigten Vorrichtung Verwendung finden, wobei
Vorrichtungen innerhalb und um eine Kammer 230 herum
vorgesehen sind, die entweder eine Vakuumkammer oder ein
Gehäuse aufweist, das in Vakuumteile aufgeteilt ist. In
einer Vakuumumgebung ist ein Träger 231, ein
dielektrisches Auftragungssystem 232, ein
Aushärtungssystem 233 für Monomere und ein
Elektrodenmaterialauftragungssystem 234 vorgesehen. Im wesentlichen ist
ein Vakuum notwendig, welches bis in die Größenordnung
von 0,0133 Pa (1 x 10&supmin;&sup4; Torr) zurückgeht.
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Der Träger 231 ist eine wassergekühlte, durch einen
Motor 236 angetriebe Trommel 235 ist und dessen äußere
zylindrische Oberfläche 237 eine schnelldrehende
kontinuierliche Oberfläche darstellt, die sich durch eine
dielektrikumbildende Zone und eine elektrodenbildende
Zone bewegt. Die Bereiche, in denen sich die
Trommeloberfläche 237 und die Systeme 232, 233 befinden,
stellen die dielektrikumbildende Zone und die Bereiche, in
der die Trommeloberfläche 237 und das System 234
vorgesehen sind, die elektrodenbildende Zone dar. Die
Trommeldrehbewegung bestimmt die Maschinenrichtung 226,
welches die Richtung darstellt, mit der sich die
Oberfläche durch die dielektrikumbildende Zone und die
elektrodenbildende Zone bewegt.
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Aufgrund der geringen involvierten Abmessungen sollte
die Oberfläche 237 glatt und schlagfrei sein. Die
Substratschicht 231 ist an der Trommel 235 befestigt und,
wenn befestigt, bildet die äußere Oberfläche des
Substrats die Oberfläche 237. Die Trommel 235 ist auf etwa
21,1 ºC (70 ºF) gekühlt, um eine Kondensation der
Dampfablagerungen zu begünstigen, und die Vorrichtung
arbeitet bei Trommeloberflächengeschwindigkeiten von
0,76 m/s bis 3,95 m/s (150 bis 600 feet pro Minute).
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Das Elektrodenmaterialauftragungssystem 234 beinhaltet
eine herkömmliche Elektronenstrahlbedampfungsvorrichtung
241 wie sie zum Metallisieren von Folien in einem Vakuum
verwendet wird. Die Bedampfungsrate wird durch eine
herkömmliche Quarzüberwachungsvorrichtung 242
abgetastet, so daß eine Rückkopplung zum Kontrollieren der
Rate, mit der Aluminium durch die Vorrichtung 241
verdampft wird, gegeben ist.
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Das wechselweise Metalldampfablagerungsmuster wird durch
Verschieben der Maske 243 relativ zur Achse der Trommel
235 bei jeder Trommelumdrehung erreicht. Ein Maskenmotor
247 übernimmt die Verschiebebewegung mit Hilfe einer
einfachen mechanischen Verbindung zum Abtasten der
Trommelumdrehung, und der Regler 250 übergibt das
entsprechende Verschiebesignal an den maskenverschiebenden
Motor 247. Es ist wünschenswert, die Maske 243 nahe an
der Oberfläche zu halten, auf der der Metalldampf
aufgetragen wird, wobei diese Nähe durch einen
Maskenrückzugsmotor 251 aufrechterhalten wird, der von dem Regler
250 angesprochen die Maske mit jeder Trommelumdrehung
schrittweise von der Oberfläche 237 um eine Distanz
zurückzieht, die in etwa der Dicke der auf getragenen
Elektrodenschicht entspricht.
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Da es günstig ist, die Vorrichtung 241 vor dem Beginn
der Erstellung von Kondensatoren zu erregen und in eine
stabile Funktionsweise zu bringen, ist zum Verschließen
des Dampfkanals ein entfernbarer Verschluß 252 zwischen
der Vorrichtung 241 und der Maske 243 eingebracht,
solange bis der Verschluß 252 zurückgezogen ist.
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Als ein Merkmal der Erfindung verdampft das
Dielektrikumauftragungssystem 232 das Dielektrikum in monomerer
Form, wie oben in Verbindung mit den Figuren 1 bis 5
diskutiert, schnell.
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Das kondensierte Flüssigmonomer wird durch Strahlung mit
Hilfe des zweiten Systems 233 in der
dielektrikumbildenden Zone ausgehärtet, welches einer
Strahlungsquelle, vorzugsweise eine
Gasentladungselektronenstrahlröhre, aufweist.
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Die ganzheitliche Funktionsweise der Vorrichtung der
Fig. 6 kann nun auf einfache Weise verstanden werden.
Elektrodenschichten werden aufgetragen, mit Dielektrikum
beschichtet und das Dielektrikum ausgehärtet, bevor die
Oberfläche, auf welcher die Elektrodenschichten
abgelagert
werden, zum erneuten Auftragen nachfolgender
Elektrodenschichten und dielektrischer Beschichtungen
vorbeibewegt wird. Gewünschte Dicken der
Elektrodenschichten und der dielektrischen Beschichtungen werden
durch Abgleich der Dampf auftragungsrate mit der
Oberflächengeschwindigkeit der Trommel 235 bestimmt.
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Das oben Beschriebene richtete insbesondere
Aufmerksamkeit auf eine Anwendung bes Verfahrens der vorliegenden
Erfindung zum Herstellen von polymeren monolitischen
Vielschichtkondensatoren. Das Verfahren der vorliegenden
Erfindung sollte jedoch nicht als auf eine derartige
Anwendung beschränkt oder sogar auf das Auftragen eines
monomeren Films auf ein Substrat zur anschließenden
Polymerisation und/oder Vernetzung beschränkt verstanden
werden. Das Verfahren der vorliegenden Erfindung kann
vorteilhaft in irgendeiner Anwendung, die ein Auftragen
einer Materialschicht auf ein Substrat notwendig macht,
wobei das Material polymerisierbar und/oder vernetzbar
sowie am Siedepunkt oder unterhalb seines Siedepunktes
chemisch unstabil ist, verwendet werden.