DE69918173T2 - Verfahren zum herstellen von polymeren mit nichtlinearen optischen eigenschaften - Google Patents
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- G02F1/361—Organic materials
- G02F1/3615—Organic materials containing polymers
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft im Allgemeinen ein Verfahren zur Herstellung von Polymerfilmen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften. Es können unter Vakuum auch zusätzliche Schichten aus Polymer oder Metall zugefügt werden.
- Der Begriff "(Meth)acryl" ist hier definiert als "Acryl oder Methacryl". Ebenso ist "(Meth)acrylat" hier definiert als "Acrylat oder Methacrylat".
- Der Begriff "Kryokondensat" und Formen davon bezieht sich hier auf das physikalische Phänomen einer Phasenänderung von einer Gasphase zu einer flüssigen Phase, nachdem das Gas eine Oberfläche mit einer Temperatur unter dem Taupunkt des Gases kontaktiert.
- Der Begriff "konjugiert" bezieht sich hier auf eine chemische Struktur mit alternierenden Einfach- und Doppelbindungen zwischen Kohlenstoffatomen in einer Kohlenstoffkette.
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- Das grundlegende Verfahren der plasmaverstärkten chemischen Aufdampfung (Dampfabscheidung) (PECVD) ist in THIN FILM PROCESSES, Herausgeber J. L. Vossen, W. Kern, Teil IV, Kapitel IV – 1 Plasma Deposition of Inorganic Compounds, Kapitel IV – 2 Glow Discharge Polymerization beschrieben, hier zitiert zum Zweck der Bezugnahme. Kurz gesagt wird ein Glühentladungsplasma an einer Elektrode erzeugt, die glatt sein kann oder herausragende, Vorsprünge aufweisen kann. Traditionell führt ein Gaseinlass monomere Gase mit hohem Dampfdruck in den Plasmabereich ein, wo Radikale gebildet werden, so dass bei nachfolgenden Kollisionen mit dem Substrat einige der Radikale in den Monomeren sich auf dem Substrat chemisch verbinden oder vernetzen (härten). Die monomeren Gase mit hohem Dampfdruck schließen Gase von CH4, SiH4, C2H6, C2H2 oder Gase ein, die aus Flüssigkeit mit hohem Dampfdruck erzeugt werden, beispielsweise Styrol (10 Torr bei 87,4 °F (30,8 °C)), Hexan (100 Torr bei 60,4 °F (15,8 °C)), Tetramethyldisiloxan (10 Torr bei 82,9 °F (28,3 °C), 1,3-Dichlortetramethyldisiloxan) und Kombinationen davon, die unter mildem kontrolliertem Erwärmen verdampft werden können. Weil diese monomeren Gase mit hohem Dampfdruck nicht leicht bei Umgebungs- oder erhöhten Temperaturen kryokondensieren, sind die Abscheidegeschwindigkeiten niedrig (wenige Zehntel Mikrometer/Minute maximal), was daran liegt, dass sich anstelle der Kryokondensation Radikale chemisch an die interessierenden Oberfläche binden. Remission infolge von Ätzen der interessierenden Oberfläche konkurriert mit reaktivem Abscheiden. Spezies mit niedrigerem Dampfdruck sind bei PECVD nicht verwendet worden, weil das Erhitzen der Monomere mit höherem Molekulargewicht auf eine Temperatur, die ausreicht, um sie zu verdampfen, im Allgemeinen vor der Verdampfung eine Reaktion herbeiführt, oder das Dosieren der Gase sich schwer steuern lässt, wobei beides hiervon nicht funktioniert.
- Das grundlegende Verfahren des Flash-Verdampfens ist in US-A-4,954,371 beschrieben, hier zitiert zum Zweck der Bezugnahme. Dieses grundlegende Verfahren kann auch als Polymer-Mehrschicht- (PML)-Flashverdampfen bezeichnet werden. Kurz gesagt wird ein strahlungspolymerisierbares und/oder -vernetzbares Material bei einer Temperatur unter einer Zersetzungstemperatur und Polymerisationstemperatur des Materials zugeführt. Das Material wird zu Tröpfchen mit einer Tröpfchengröße im Bereich von etwa 1 bis etwa 50 μm zerstäubt. Im Allgemeinen wird ein Ultraschallzerstäuber verwendet. Die Tröpfchen werden dann unter Vakuum durch Kontakt mit einer geheizten Oberfläche über dem Siedepunkt des Materials, jedoch unter der Temperatur, die Pyrolyse herbeiführen würde, flash-verdampft. Der Dampf wird auf einem Substrat kryokondensiert, dann als sehr dünne Polymerschicht strahlungspolymerisiert oder vernetzt.
- Gemäß dem Stand der Technik der Herstellung plasmapolymerisierter Filme sind PECVD und Flash-Verdampfung oder Glühentladungsplasmaabscheidung und Flash-Verdampfung nicht in Kombination verwendet worden. Plasmabehandlung eines Substrats unter Verwendung eines Glühentladungsplasmagenerators mit anorganischen Verbindungen ist jedoch in Kombination mit Flash-Verdampfung unter einer Niederdruckatmosphäre (Vakuum) verwendet worden, wie von J. D. Affinito, M. E. Gross, C. A. Coronado und P. M. Martin in A Vacuum Deposition of Polymer Electrolytes On Flexible Substrates, "Paper for Plenary talk in A Proceedings of the Ninth International Conference on Vacuum Web Coating", November 1995, Herausgeber R. Bakish, Bakish Press 1995, Seiten 20 bis 36, beschrieben wurde und in
1a gezeigt ist. In jenem System wird der Plasmagenerator100 verwendet, um die Oberfläche102 eines sich bewegenden Substrats104 in Vorbereitung auf die Aufnahme des monomeren gasförmigen Ausstoßes aus der Flash-Verdampfung106 zu ätzen, der auf der geätzten Oberfläche102 kryokondensiert, und wird dann durch eine erste Härtungsstation (nicht gezeigt) geleitet, beispielsweise Elektronenstrahl- oder Ultraviolettstrahlung, um Vernetzen und Härten zu initiieren. Der Plasmagenerator100 hat ein Gehäuse108 mit einem Gaseinlass110 . Das Gas kann Sauerstoff, Stickstoff, Wasser oder ein Inertgas sein, beispielsweise Argon oder Kombinationen davon. Intern erzeugt eine Elektrode112 , die glatt ist oder eine oder mehrere herausragende Vorsprünge114 aufweist, eine Glühentladung und erzeugt ein Plasma mit dem Gas, welches die Oberfläche102 ätzt. Der Flash-Verdampfer106 hat ein Gehäuse116 mit einem Monomereinlass118 und einer Zerstäubungsdüse120 , beispielsweise einem Ultraschallzerstäuber. Der Fluss durch die Düse120 wird zu Partikeln oder Tröpfchen122 zerstäubt, die auf der geheizten Oberfläche124 aufschlagen, woraufhin die Partikel oder Tröpfchen122 zu einem Gas flash-verdampft werden, das an einer Reihe von Prallkörpern126 (optional) vorbei zu einem Auslass128 strömt und an der Oberfläche102 kryokondensiert. Obwohl andere Gasflussverteilungsanordnungen verwendet worden sind, ist gefunden worden, dass die Prallkörper126 adäquate Gasflussverteilung oder Gleichförmigkeit liefern, während leichte Aufskalierung bis zu großen Oberflächen102 möglich ist. Eine Härtungsstation (nicht gezeigt) befindet sich stromabwärts von dem Flash-Verdampfer106 . Das Monomer kann ein [Meth]acrylat (1b ) sein. - Bei Polymeren mit nichtlinearen optischen Eigenschaften verwenden traditionelle Verfahren Schleuderbeschichten. In einem Schleuderbeschichtungstyp werden Moleküle mit nichtlinearen optischen Eigenschaften an dem Polymergrundgerüst befestigt. Polen wird erreicht, indem auf eine Temperatur oberhalb der Glasübergangstemperatur erhitzt wird, um die Gruppen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften auszurichten. Das Polymergerüst wird jedoch nicht ausgerichtet, und im Zeitverlauf relaxieren die gepolten Gruppen zu ihrem nicht-gepolten Zustand, was für Langzeitgeräte ungeeignet ist. Bei einem anderen Schleuderbeschichtungstyp werden die nicht-linearen optischen Gruppen einfach ohne Befestigung mit dem Monomer gemischt. Wiederum relaxieren die gepolten Gruppen im Zeitverlauf. Ein weiterer Nachteil liegt vor, wenn ein Polymer mit nichtlinearen optischen Eigenschaften zu einem Teil einer Mehrschichtkonstruktion gemacht wird, bei der das Polymer mit nichtlinearen optischen Eigenschaften physikalisch bewegt oder in einen Bereich überführt werden muss, wo die zusätzliche Schicht aufgebracht wird, beispielsweise Vakuumabscheiden (Aufdampfen).
- Es besteht somit ein Bedarf an einem Verfahren mit hoher Abscheidungsgeschwindigkeit zur Herstellung von Polymeren mit nichtlinearen optischen Eigenschaften, die nicht zu einem ungepolten Zustand relaxieren und keine Überführung erfordern, um einen Mehrschichtartikel herzustellen.
- KURZFASSUNG DER ERFINDUNG
- Die vorliegende Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer Polymerschicht mit nichtlinearen optischen Eigenschaften. Das Verfahren weist die Stufen auf: (a) Flash-Verdampfen eines Beschichtungsmonomers, das eine Vielzahl von Molekülen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften enthält, zu einem verdampften Material; (b) Kryokondensieren des verdampften Materials auf einer Oberfläche und (c) Vernetzen des kondensierten verdampften Materials. Alternativ kann das verdampfte Material eine Glühentladungselektrode passieren, die vor der Kryokondensation ein Glühentladungsmonomerplasma aus dem verdampften Material erzeugt, woraufhin durch die Glühentladung erzeugte Radikale in Abwesenheit einer Strahlungshärtung Selbsthärtung initiieren.
- Es ist daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung eines Polymers mit nichtlinearen optischen Eigenschaften durch Flash-Verdampfen zu liefern.
- Ein Vorteil liegt darin, dass die Konjugation (falls vorhanden) während des Härtens erhalten bleibt. Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung ist, dass mehrere Schichten von Materialien kombiniert werden können. Wie beispielsweise in US-A-5,547,508 und US-A-5,395,644, US-A-5,260,095 beschrieben ist, die hier zum Zweck der Bezugnahme zitiert sind, können mehrere Polymerschichten, alternierende Schichten aus Polymer und Metall und andere Schichten mit der vorliegenden Erfindung in der Vakuumumgebung hergestellt werden.
- Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung mit Plasmahärtung liegt darin, dass sie unempfindlich gegenüber einer Be wegungsrichtung des Substrats ist, weil die abgeschiedene Monomerschicht selbsthärtend ist. Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung liegt in der Fähigkeit, konforme Beschichtungen herzustellen. Aufgrund der raschen Selbsthärtung hat das Monomer weniger Zeit zu fließen und hat daher eine gleichförmigere Dicke.
- Der betreffende Gegenstand der vorliegenden Erfindung wird besonders hervorgehoben und abgrenzend beansprucht in dem Schlussteil dieser Patentbeschreibung. Sowohl die Organisation als auch die Arbeitsweise zusammen mit weiteren Vorteilen und Zielen davon lassen sich jedoch am besten unter Bezugnahme auf die folgende detaillierte Beschreibung in Kombination mit den Zeichnungen verstehen, worin ähnliche Bezugszeichen sich auf ähnliche Elemente beziehen.
- KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
-
1a ist ein Querschnitt einer Kombination des Standes der Technik aus einem Glühentladungsplasmagenerator mit anorganischen Verbindungen mit Flash-Verdampfen. -
1b ist eine chemische Darstellung von (Meth)acrylat. -
2 ist ein Querschnitt der erfindungsgemäßen Vorrichtung aus kombinierter Flash-Verdampfung und Glühentladungsplasmaabscheidung. -
2a ist eine Querschnittendansicht der erfindungsgemäßen Vorrichtung. -
3 ist ein Querschnitt der vorliegenden Erfindung, wobei das Substrat die Elektrode ist. -
9 ist eine chemische Darstellung, die Phenylacetylen einschließt. -
5a ist eine chemische Darstellung von DANS. -
5b ist eine chemische Darstellung von MNA. -
5c ist eine chemische Darstellung von Harnstoff. - BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM(EN)
- Erfindungsgemäß wird eine Polymerschicht mit nichtlinearen optischen Eigenschaften hergestellt durch die Stufen:
- (a) Bereitstellen eines flüssigen Monomers mit einer Vielzahl von Molekülen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften;
- (b) Flash-Verdampfen des flüssigen Monomers, wobei ein Mischdampf gebildet wird; und
- (c) kontinuierliches Kryokondensieren des Mischdampfs an einem kühlen Substrat und Vernetzen einer kryokondensierten Monomerschicht, wodurch die Polymerschicht mit nichtlinearen optischen Eigenschaften gebildet wird.
- Die Vernetzungsstufe kann eine Polymerschicht entweder durch Strahlungshärten oder durch Selbsthärten produzieren. Beim Strahlungshärten (
1 ) kann die Monomerflüssigkeit einen Photoinitiator einschließen. Beim Selbsthärten wird ein kombinierter Flash-Verdampfer-Glühentladungsplasmagenerator ohne entweder die E-Strahlkanone oder Ultraviolettlicht verwendet. - Flash-Verdampfen weist die Stufen auf:
- (a) Zuführen eines kontinuierlichen flüssigen Stroms des flüssigen Monomers in eine Vakuumumgebung bei einer Temperatur unter sowohl der Zersetzungstemperatur als auch der Polymerisationstemperatur des flüssigen Monomers;
- (b) kontinuierliches Zerstäuben des flüssigen Monomers in einen kontinuierlichen Strom von Tröpfchen;
- (c) kontinuierliches Verdampfen der Tröpfchen durch kontinuierliches Kontaktieren der Tröpfchen auf einer geheizten Oberfläche mit einer Temperatur auf oder oberhalb eines Siedepunkts von flüssigem Monomer und Molekülpartikeln mit linearen optischen Eigenschaften, jedoch unterhalb einer Pyrolysetemperatur, wodurch ein Mischdampf gebildet wird.
- Durch Verwendung von Flash-Verdampfen wird das flüssige Monomer mit Molekülen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften so rasch verdampft, dass Reaktionen, die im Allgemeinen vom Erwärmen eines flüssigen Materials auf eine Verdampfungstemperatur stattfinden, einfach nicht stattfinden. Die Steuerung der Geschwindigkeit der Abgabe des verdampften Materials wird des Weiteren durch die Geschwindigkeit der Materialabgabe an den Einlass
118 des Flash-Verdampfers106 genau gesteuert. - Das flüssige Monomer kann einfach eine Vielzahl von Molekülen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften sein, ist wahrscheinlicher jedoch eine Vielzahl von Molekülen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften gemischt mit einem Basismonomer. Die Vielzahl von Molekülen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften kann flüssig oder fest sein, wie beispielsweise feste Partikel.
- Das Basismonomer kann jedes Monomer sein, das zum Flash-Verdampfen zur Herstellung von Polymerfilmen brauchbar ist. Basismonomer schließt Allyl-, Alkin-, Phenylacetylen- (
4 ), Acrylatmonomer, beispielsweise Tripropylenglykoldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Tripropylenglykol monoacrylat, Caprolactonacrylat und Kombinationen davon, Methacrylatmonomere und Kombinationen davon ein. Die (Meth)acrylatmonomere sind besonders brauchbar für Flash-Verdampfen. Es ist zudem bevorzugt, dass das Basismonomer bei Umgebungstemperaturen einen niedrigen Dampfdruck hat, so dass es leicht kryokondensiert. Der Dampfdruck des Basismonomers beträgt vorzugsweise weniger als etwa 10 Torr bei 83 °F (28,3 °C), insbesondere weniger als etwa 1 Torr bei 83 °F (28,3 °C) und am meisten bevorzugt weniger als etwa 10 Millitorr bei 83 °F (28,3 °C). - Moleküle mit nichtlinearen optischen Eigenschaften schließen DimethylAminoNitroStilben (DANS,
5a ), MethylNitroAnilin (MNA,5b ), Harnstoff (5c ) und Kombinationen davon ein, sind jedoch nicht auf diese begrenzt. - Während des Flash-Verdampfens haben die Moleküle mit nichtlinearen optischen Eigenschaften vor der Kondensation Gelegenheit, sich an ein Grundgerüst eines Basismonomers zu binden. Nach Kondensation und Vernetzung ist die resultierende Polymerschicht eine Polymerschicht mit nichtlinearen optischen Eigenschaften. Falls an das Substrat zusätzlich während der Abscheidung (Kondensation und Vernetzung) ein elektrisches Feld angelegt worden ist, richtet Polen das Grundgerüst sowie die gebundenen Moleküle mit nichtlinearen optischen Molekülen in einer Weise aus, die permanent ist und Relaxation vermeidet.
- Wenn die Moleküle mit nichtlinearen optischen Eigenschaften mit einem Basismonomer gemischt werden, können die Moleküle mit nichtlinearen optischen Eigenschaften in Form von Partikeln vorliegen, die mit dem Basismonomer löslich oder unlöslich sein können. Die Partikel haben vorzugsweise ein Volumen deutlich kleiner als etwa 5000 Kubikmikrometer (Durchmesser etwa 21 Mikrometer) oder entsprechen diesem, vorzugsweise kleiner als oder gleich etwa 4 Kubikmikrometer (Durchmesser etwa 2 Mikrometer). In einer bevorzugten Ausführungsform sind die Partikel in Bezug auf Partikeldichte und Dichte und Viskosität des flüssigen Monomers hinreichend klein, so dass die Absetzgeschwindigkeit der Partikel innerhalb des Basismonomers um ein Mehrfaches größer als die Zeitdauer ist, um einen Teil der Partikel-Basismonomermischung aus einem Vorratsgefäß zu der Zerstäubungsdüse zu transportieren. Es sei darauf hingewiesen, dass es erforderlich sein kann, die Partikel-Basismonomer-Mischung in dem Reservoir zu rühren, um Suspension der Partikel aufrechtzuerhalten und Absetzen zu vermeiden.
- Die Mischung aus Basismonomer und Partikeln kann als Aufschlämmung, Suspension oder Emulsion angesehen werden, und die Partikel können fest oder flüssig sein. Die Mischung kann nach mehreren Verfahren erhalten werden. Ein Verfahren besteht in dem Mischen von Partikeln einer spezifizierten Größe in das Monomer. Die Partikel eines Feststoffs einer spezifizierten Größe können durch direkten Kauf oder durch Herstellung derselben nach einer der Standardtechniken erhalten werden, einschließlich, aber nicht begrenzt auf Mahlen aus großen Partikeln, Ausfällung aus Lösung, Schmelzen/Sprühen unter kontrollierten Atmosphären, rasche thermische Zersetzung von Vorläufern aus Lösung, wie in US-A-5,652,192 beschrieben ist, hier zitiert zum Zweck der Bezugnahme. Die Stufen von US-A-5,652,192 sind diejenigen, bei denen eine Lösung eines löslichen Vorläufers in einem Lösungsmittel hergestellt wird und die Lösung durch ein Reaktionsgefäß fließen gelassen wird, die fließende Lösung unter Druck gesetzt und erhitzt wird und im Wesentlichen unlösliche Partikel gebildet werden, danach die erhitzte fließende Lösung gequencht wird und das Wachstum der Partikel angehalten wird. Alternativ können größere Größen von festem Material in flüssiges Monomer gemischt werden, danach bewegt werden, beispielsweise durch Ultraschall, um das feste Material zu Partikeln mit ausreichender Größe zu zerbrechen.
- Flüssige Partikel können erhalten werden, indem eine unmischbare Flüssigkeit mit Monomerflüssigkeit gemischt und durch Ultraschall- oder mechanisches Mischen gemischt wird, um flüssige Partikel innerhalb des flüssigen Monomers zu produzieren. Unmischbare Flüssigkeiten schließen beispielsweise Alkine und/oder Allyle ein.
- Ein oder mehrere andere Partikel können mit dem Basismonomer eingeschlossen werden, die vom unlöslichen oder teilweise unlöslichen Partikeltyp sind und einen Siedepunkt unter einer Temperatur der geheizten Oberfläche in dem Flash-Verdampfungsverfahren haben. Unlösliches Partikel schließt MNA, DANS, Harnstoff ein, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
- Nach dem Sprühen können die Tröpfchen Partikel allein, Partikel, die von flüssigem Monomer umgeben sind, und flüssiges Monomer allein sein. Da sowohl das flüssige Monomer als auch die Partikel verdampft werden, bleibt dies ohne Folgen. Es ist jedoch wichtig, dass die Tröpfchen ausreichend klein sind, so dass sie vollständig verdampft werden. In einer bevorzugten Ausführungsform kann die Tröpfchengröße demnach im Bereich von etwa 1 μm bis etwa 50 μm liegen.
- Während des Flash-Verdampfens wird das flüssige Monomer verdampft. Wenn das flüssige Monomer eine Kombination aus einem Basismonomer und den Molekülen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften ist, können die Moleküle mit nichtlinearen optischen Eigenschaften mit dem Basismonomer in der Dampfphase vor der Kryokondensation kombinieren. Die Herstellung einer Polymerschicht mit nichtlinearen optischen Eigenschaften kann mit der in
2 gezeigten Vorrichtung erfolgen. Die erfindungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren sind vorzugsweise innerhalb einer Niederdruck- (Vakuum)-Umgebung oder -Kammer. Die Drücke liegen vorzugsweise im Bereich von etwa 10-1 Torr bis 10-6 Torr. Der Flash-Verdampfer106 hat ein Gehäuse116 mit einem Monomereinlass118 und einer Zerstäubungsdüse120 . Der Fluss durch die Düse120 wird zu Partikeln oder Tröpfchen122 zerstäubt, die auf die geheizte Oberfläche124 aufschlagen, woraufhin die Partikel oder Tröpfchen122 zu einem Gas oder verdampftem Material flash-verdampft werden, das an einer Reihe von Prallkörpern126 vorbei zu einem Auslass für verdampftes Material128 strömt und auf der Oberfläche102 kryokondensiert. Kryokondensation an den Prallkörpern126 und anderen inneren Oberflächen wird durch Heizen der Prallkörper126 und anderen Oberflächen auf eine Temperatur über der Kryokondensationstemperatur oder dem Taupunkt des verdampften Materials verhindert. Obwohl andere Gasflussverteilungsanordnungen verwendet worden ist, hat es sich herausgestellt, dass die Prallkörper126 adäquate Gasflussverteilung oder Gleichförmigkeit liefern, während leichte Maßstabvergrößerung auf große Oberflächen102 möglich ist. - Für Selbsthärtung oder Plasmahärtung kann eine Glühentladungselektrode
204 in der Nähe des Auslasses für verdampftes Material128 positioniert werden, um ein Glühentladungsplasma aus dem verdampften Material zu erzeugen. In der in2 gezeigten Ausführungsform wird die Glühentladungselektrode204 in einem Glühentladungsgehäuse200 mit einem Einlass für verdampftes Material202 nahe dem Auslass für verdampftes Material128 angeordnet. In dieser Ausführungsform werden das Glühentladungsgehäuse200 und die Glühentladungselektrode204 auf einer Temperatur oberhalb des Taupunkts des verdampften Materials gehalten. Das Glühentladungsplasma tritt aus dem Glühentladungsgehäuse200 aus und kryokondensiert an der Oberfläche102 des Substrats104 . Es ist bevorzugt, dass das Substrat104 auf einer Temperatur unter einem Taupunkt des verdampften Materials gehalten wird, vorzugsweise auf Umgebungs temperatur, oder unter Umgebungstemperatur gekühlt wird, um die Kryokondensationsgeschwindigkeit zu erhöhen. - In einer bevorzugten Ausführungsform bewegt sich das Substrat
104 und kann elektrisch geerdet sein, elektrisch erdfrei sein oder elektrisch mit einer angelegten Spannung vorgespannt werden, um das Kryokondensat zu polen. - Wenn ein Glühentladungsplasma verwendet wird, kann eine angelegte Spannung auch geladene Spezies aus dem Glühentladungsplasma ziehen. Falls das Substrat
104 elektrisch vorgespannt wird, kann es sogar die Elektrode204 ersetzen und selbst die Elektrode sein, die das Glühentladungsplasma aus dem Monomergas erzeugt. Im Wesentlichen nicht elektrisch vorgespannt bedeutet, dass keine Spannung angelegt ist, obwohl sich eine Ladung durch statische Elektrizität oder durch Wechselwirkungen mit dem Plasma aufbauen kann. Eine bevorzugte Form der Glühentladungselektrode204 ist in2a gezeigt. In dieser bevorzugten Ausführungsform liegt die Glühentladungselektrode204 getrennt von dem Substrat104 vor und ist so geformt, dass verdampftes Material aus dem Einlass für verdampftes Material202 im Wesentlichen durch eine Elektrodenöffnung206 strömt. Es kann jede Elektrodenform zur Erzeugung der Glühentladung verwendet werden, die bevorzugte Form der Elektrode204 schirmt das Plasma jedoch nicht von dem verdampften Material ab, das aus Auslass202 austritt, und ihre Symmetrie relativ zu dem Monomeraustrittschlitz202 und dem Substrat104 liefert Gleichförmigkeit des Dampfflusses des verdampften Materials zu dem Plasma über die Breite des Substrats, während sich die Gleichförmigkeit in Querrichtung zu der Breite aus der Bewegung des Substrats ergibt. - Der Abstand der Elektrode
204 von dem Substrat104 ist ein Spalt oder eine Distanz, der bzw. die das Plasma dazu bringt, auf das Substrat aufzutreffen. Diese Distanz, mit der sich das Plasma von der Elektrode erstreckt, hängt von den Spezies des verdampften Materials, der Geometrie von Elektrode204 /Substrat104 , der elektrischen Spannung und Frequenz, sowie dem Druck in der Standardweise ab, wie sie detailliert in ELECTRICAL DISCHARGES IN GASSES, F. M. Penning, Gordon und Breach Science Publishers, 1965, beschrieben und in THIN FILM PROCESSES, Herausgeber J. L. Vossen, W. Kern, Academic Press, 1978, Teil II, Kapitel II-1, Glow Discharge Sputter Deposition zusammengefasst ist, die hier beide zum Zweck der Bezugnahme zitiert sind. - Eine Vorrichtung, die für den Chargenbetrieb geeignet ist, ist in
3 gezeigt. In dieser Ausführungsform ist die Glühentladungselektrode204 ausreichend nahe an einem Teil300 (Substrat), so dass das Teil300 eine Verlängerung von oder Teil der Elektrode204 ist. Zudem befindet sich das Teil unter dem Taupunkt, um Kryokondensation des Glühentladungsplasmas auf dem Teil300 zu ermöglichen und dadurch das Teil300 mit dem Monomerkondensat zu beschichten und mittels Selbsthärtung in eine Polymerschicht zu überführen. Ausreichend nahe kann verbunden mit, ruhend auf, in direktem Kontakt mit oder durch einen Spalt oder eine Distanz getrennt bedeuten, so dass das Plasma auf das Substrat auftreffen kann. Diese Distanz, mit der sich das Plasma von der Elektrode erstreckt, hängt von den Spezies des verdampften Materials, der Geometrie von Elektrode 204/Substrat104 , der elektrischen Spannung und Frequenz, sowie dem Druck in der Standardweise ab, wie sie detailliert in ELECTRICAL DISCHARGES IN GASSES, F. M. Penning, Gordon und Breach Science Publishers, 1965, beschrieben ist, hier zitiert zum Zweck der Bezugnahme. Das Substrat300 kann stationär sein oder sich während der Kryokondensation bewegen. Bewegen schließt Rotation und Translation ein und kann zur Steuerung der Dicke und Gleichförmigkeit der darauf kryokondensierten Monomerschicht verwendet werden. Weil die Kryokondensation rasch innerhalb von Millisekunden bis Sekunden stattfindet, kann das Teil nach der Beschichtung und vor dem Überschreiten einer Beschichtungstemperaturgrenze entfernt werden. - Zusätzlich zu dem verdampften Material aus dem Material können zusätzliche Gase durch einen Gaseinlass
130 stromaufwärts von dem Auslass für verdampftes Material128 , vorzugsweise zwischen der geheizten Oberfläche124 und dem ersten Prallkörper126 , der der geheizten Oberfläche124 am nächsten ist, innerhalb des Flash-Verdampfers106 zugefügt werden. Zusätzliche Gase können für Zwecke, die Ballast, Reaktion und Kombinationen einschließen, jedoch nicht auf diese begrenzt sind, organisch oder anorganisch sein. Ballast bezieht sich auf die Bereitstellung ausreichender Moleküle, um das Plasma unter Bedingungen von niedriger Flussgeschwindigkeit des verdampften Materials in Gang zu halten. Reaktion bezieht sich auf chemische Reaktion zur Bildung einer Verbindung, die sich von dem verdampften Material unterscheidet. Zusätzliche Gase schließen Gruppe VIII des Periodensystems, Wasserstoff, Sauerstoff, Stickstoff, Chlor, Brom, mehratomige Gase einschließlich beispielsweise Kohlendioxid, Kohlenmonoxid, Wasserdampf und Kombinationen davon ein, sind jedoch nicht auf diese begrenzt.
Claims (9)
- Verfahren zur Herstellung einer Polymerschicht mit nichtlinearen optischen Eigenschaften, das die Stufen umfasst: (a) Bereitstellen eines flüssigen Monomers mit einer Vielzahl von Molekülen mit nichtlinearen optischen Eigenschaften; (b) Flash-Verdampfen des flüssigen Monomers, wobei ein verdampftes Material gebildet wird; und (c) kontinuierliches Kryokondensieren des verdampften Materials an einem kalten Substrat und Vernetzen einer kryokondensierten Monomerschicht, wodurch die Polymerschicht mit nichtlinearen optischen Eigenschaften gebildet wird.
- Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Flash-Verdampfen die Stufen umfasst: (a) Zuführen eines kontinuierlichen flüssigen Stroms der Partikelbasismonomermischung in eine Vakuumumgebung bei einer Temperatur unter sowohl der Zersetzungstemperatur als auch der Polymerisationstemperatur der Partikelbasismonomermischung; (b) kontinuierliches Zerstäuben der Partikelbasismonomermischung in einen kontinuierlichen Strom von Tröpfchen; (c) kontinuierliches Verdampfen der Tröpfchen durch kontinuierliches Kontaktieren der Tröpfchen auf einer geheizten Oberfläche mit einer Temperatur auf oder oberhalb eines Siedepunkts des flüssigen Monomers und der Partikel, jedoch unterhalb einer Pyrolysetemperatur, wodurch das verdampfte Material gebildet wird.
- Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Vernetzen Strahlungsvernetzen ist.
- Verfahren nach Anspruch 1, das vor dem Kryokondensieren des Weiteren die Stufe des Vorbeileitens des Verbunddampfs an einer Glühentladungselektrode umfasst, wobei das Vernetzen selbsthärtend ist.
- Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das flüssige Monomer ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Allyl-, Alkin-, Phenylacetylen-, (Meth)acrylat-Monomer und Kombinationen davon.
- Verfahren nach Anspruch 5, bei dem (Meth)acrylat-Monomer ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Tripropylenglykoldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Tripropylenglykolmonoacrylat, Caprolactonacrylat und Kombinationen davon.
- Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Moleküle mit nichtlinearen optischen Eigenschaften ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus Dimethylaminonitrostilben, Methylnitroanilin, Harnstoff und Kombinationen davon.
- Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das flüssige Monomer eine Mischung eines Basismonomers mit der Vielzahl der Moleküle mit nichtlinearen optischen Eigenschaften ist.
- Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Substrat elektrisch vorgespannt ist, wodurch das kryolcondensierte flüssige Monomer vor dem Vernetzen gepolt wird.
Applications Claiming Priority (3)
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US212977 | 1998-12-16 | ||
US09/212,977 US6274204B1 (en) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | Method of making non-linear optical polymer |
PCT/US1999/030102 WO2000035606A1 (en) | 1998-12-16 | 1999-12-15 | Method of making non-linear optical polymer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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DE69918173T2 true DE69918173T2 (de) | 2005-07-07 |
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Country Status (8)
Country | Link |
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US (2) | US6274204B1 (de) |
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---|---|---|---|---|
US6207238B1 (en) * | 1998-12-16 | 2001-03-27 | Battelle Memorial Institute | Plasma enhanced chemical deposition for high and/or low index of refraction polymers |
US6228434B1 (en) * | 1998-12-16 | 2001-05-08 | Battelle Memorial Institute | Method of making a conformal coating of a microtextured surface |
US6228436B1 (en) * | 1998-12-16 | 2001-05-08 | Battelle Memorial Institute | Method of making light emitting polymer composite material |
US7198832B2 (en) | 1999-10-25 | 2007-04-03 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
US6866901B2 (en) * | 1999-10-25 | 2005-03-15 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
US6413645B1 (en) | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Battelle Memorial Institute | Ultrabarrier substrates |
US6623861B2 (en) * | 2001-04-16 | 2003-09-23 | Battelle Memorial Institute | Multilayer plastic substrates |
US20100330748A1 (en) | 1999-10-25 | 2010-12-30 | Xi Chu | Method of encapsulating an environmentally sensitive device |
US8808457B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-08-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
US8900366B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
US6767590B1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-07-27 | Ronald M. Kubacki | Poled plasma deposition |
US7648925B2 (en) | 2003-04-11 | 2010-01-19 | Vitex Systems, Inc. | Multilayer barrier stacks and methods of making multilayer barrier stacks |
US20050079278A1 (en) * | 2003-10-14 | 2005-04-14 | Burrows Paul E. | Method and apparatus for coating an organic thin film on a substrate from a fluid source with continuous feed capability |
US7767498B2 (en) | 2005-08-25 | 2010-08-03 | Vitex Systems, Inc. | Encapsulated devices and method of making |
EP1785198A1 (de) * | 2005-11-14 | 2007-05-16 | Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek | Verfahren zur Plasmaabscheidung unter atmosphärischem Druck von konjugierten polymeren Beschichtungen |
US8088502B2 (en) * | 2006-09-20 | 2012-01-03 | Battelle Memorial Institute | Nanostructured thin film optical coatings |
US8084102B2 (en) * | 2007-02-06 | 2011-12-27 | Sion Power Corporation | Methods for co-flash evaporation of polymerizable monomers and non-polymerizable carrier solvent/salt mixtures/solutions |
US9184410B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
US9337446B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated RGB OLEDs having enhanced optical output |
KR200452049Y1 (ko) * | 2009-11-20 | 2011-01-28 | 박민규 | 부탄가스 토치 |
US8590338B2 (en) | 2009-12-31 | 2013-11-26 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Evaporator with internal restriction |
KR20120116968A (ko) | 2010-01-06 | 2012-10-23 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 탄성중합체성 폴리실록산 보호 층을 갖는 내습성 태양광발전 디바이스 |
Family Cites Families (79)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3475307A (en) | 1965-02-04 | 1969-10-28 | Continental Can Co | Condensation of monomer vapors to increase polymerization rates in a glow discharge |
FR1393629A (fr) | 1965-09-13 | 1965-03-26 | Continental Oil Co | Procédé et appareil pour enduire des feuilles en matières solides |
US3607365A (en) | 1969-05-12 | 1971-09-21 | Minnesota Mining & Mfg | Vapor phase method of coating substrates with polymeric coating |
US4098965A (en) | 1977-01-24 | 1978-07-04 | Polaroid Corporation | Flat batteries and method of making the same |
JPS55129345A (en) | 1979-03-29 | 1980-10-07 | Ulvac Corp | Electron beam plate making method by vapor phase film formation and vapor phase development |
US4581337A (en) | 1983-07-07 | 1986-04-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyether polyamines as linking agents for particle reagents useful in immunoassays |
US5032461A (en) | 1983-12-19 | 1991-07-16 | Spectrum Control, Inc. | Method of making a multi-layered article |
US4842893A (en) | 1983-12-19 | 1989-06-27 | Spectrum Control, Inc. | High speed process for coating substrates |
EP0155823B1 (de) | 1984-03-21 | 1989-07-26 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Beschichtung von Gegenständen mit Kunststoffilmen |
US4695618A (en) | 1986-05-23 | 1987-09-22 | Ameron, Inc. | Solventless polyurethane spray compositions and method for applying them |
US4954371A (en) | 1986-06-23 | 1990-09-04 | Spectrum Control, Inc. | Flash evaporation of monomer fluids |
DE3786063T2 (de) | 1986-06-23 | 1993-09-09 | Spectrum Control Inc | Bedampfen von fluessigen monomeren. |
JPH07105034B2 (ja) | 1986-11-28 | 1995-11-13 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録体 |
JP2627619B2 (ja) * | 1987-07-13 | 1997-07-09 | 日本電信電話株式会社 | 有機非晶質膜作製方法 |
US4847469A (en) | 1987-07-15 | 1989-07-11 | The Boc Group, Inc. | Controlled flow vaporizer |
JPH02183230A (ja) * | 1989-01-09 | 1990-07-17 | Sharp Corp | 有機非線形光学材料及びその製造方法 |
JP2678055B2 (ja) | 1989-03-30 | 1997-11-17 | シャープ株式会社 | 有機化合物薄膜の製法 |
US5792550A (en) | 1989-10-24 | 1998-08-11 | Flex Products, Inc. | Barrier film having high colorless transparency and method |
US5711816A (en) | 1990-07-06 | 1998-01-27 | Advanced Technolgy Materials, Inc. | Source reagent liquid delivery apparatus, and chemical vapor deposition system comprising same |
US5362328A (en) | 1990-07-06 | 1994-11-08 | Advanced Technology Materials, Inc. | Apparatus and method for delivering reagents in vapor form to a CVD reactor, incorporating a cleaning subsystem |
US5204314A (en) | 1990-07-06 | 1993-04-20 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method for delivering an involatile reagent in vapor form to a CVD reactor |
JP2755844B2 (ja) | 1991-09-30 | 1998-05-25 | シャープ株式会社 | プラスチック基板液晶表示素子 |
US5372851A (en) | 1991-12-16 | 1994-12-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a chemically adsorbed film |
US5759329A (en) | 1992-01-06 | 1998-06-02 | Pilot Industries, Inc. | Fluoropolymer composite tube and method of preparation |
JP2958186B2 (ja) | 1992-04-20 | 1999-10-06 | シャープ株式会社 | プラスチック基板液晶表示素子 |
US5427638A (en) | 1992-06-04 | 1995-06-27 | Alliedsignal Inc. | Low temperature reaction bonding |
US5652192A (en) | 1992-07-10 | 1997-07-29 | Battelle Memorial Institute | Catalyst material and method of making |
GB9215928D0 (en) | 1992-07-27 | 1992-09-09 | Cambridge Display Tech Ltd | Manufacture of electroluminescent devices |
US5260095A (en) | 1992-08-21 | 1993-11-09 | Battelle Memorial Institute | Vacuum deposition and curing of liquid monomers |
DE4232390A1 (de) | 1992-09-26 | 1994-03-31 | Roehm Gmbh | Verfahren zum Erzeugen von siliciumoxidischen kratzfesten Schichten auf Kunststoffen durch Plasmabeschichtung |
JPH06182935A (ja) | 1992-12-18 | 1994-07-05 | Bridgestone Corp | ガスバリア性ゴム積層物及びその製造方法 |
US5440446A (en) | 1993-10-04 | 1995-08-08 | Catalina Coatings, Inc. | Acrylate coating material |
ATE218398T1 (de) | 1993-10-04 | 2002-06-15 | 3M Innovative Properties Co | Verfahren zur herstellung einer acrylatbeschichtung |
US5654084A (en) | 1994-07-22 | 1997-08-05 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Protective coatings for sensitive materials |
JP3274292B2 (ja) | 1994-09-30 | 2002-04-15 | 富士写真フイルム株式会社 | カセット用収納ケース |
US6083628A (en) | 1994-11-04 | 2000-07-04 | Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. | Hybrid polymer film |
US5607789A (en) | 1995-01-23 | 1997-03-04 | Duracell Inc. | Light transparent multilayer moisture barrier for electrochemical cell tester and cell employing same |
US5620524A (en) | 1995-02-27 | 1997-04-15 | Fan; Chiko | Apparatus for fluid delivery in chemical vapor deposition systems |
US5811183A (en) | 1995-04-06 | 1998-09-22 | Shaw; David G. | Acrylate polymer release coated sheet materials and method of production thereof |
US5554220A (en) | 1995-05-19 | 1996-09-10 | The Trustees Of Princeton University | Method and apparatus using organic vapor phase deposition for the growth of organic thin films with large optical non-linearities |
JPH08325713A (ja) | 1995-05-30 | 1996-12-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 有機質基材表面への金属膜形成方法 |
US5629389A (en) | 1995-06-06 | 1997-05-13 | Hewlett-Packard Company | Polymer-based electroluminescent device with improved stability |
CZ415997A3 (cs) | 1995-06-30 | 1998-04-15 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Způsob zlepšení povrchu polymeru |
US5681615A (en) | 1995-07-27 | 1997-10-28 | Battelle Memorial Institute | Vacuum flash evaporated polymer composites |
JPH0959763A (ja) | 1995-08-25 | 1997-03-04 | Matsushita Electric Works Ltd | 有機質基材表面への金属膜形成方法 |
US5723219A (en) | 1995-12-19 | 1998-03-03 | Talison Research | Plasma deposited film networks |
DE19603746A1 (de) | 1995-10-20 | 1997-04-24 | Bosch Gmbh Robert | Elektrolumineszierendes Schichtsystem |
US5811177A (en) | 1995-11-30 | 1998-09-22 | Motorola, Inc. | Passivation of electroluminescent organic devices |
US5686360A (en) | 1995-11-30 | 1997-11-11 | Motorola | Passivation of organic devices |
US5684084A (en) | 1995-12-21 | 1997-11-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating containing acrylosilane polymer to improve mar and acid etch resistance |
US5716683A (en) | 1996-01-30 | 1998-02-10 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
US5683771A (en) | 1996-01-30 | 1997-11-04 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
US5738920A (en) | 1996-01-30 | 1998-04-14 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
US5955161A (en) | 1996-01-30 | 1999-09-21 | Becton Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
US5763033A (en) | 1996-01-30 | 1998-06-09 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
US6106627A (en) | 1996-04-04 | 2000-08-22 | Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. | Apparatus for producing metal coated polymers |
US5731661A (en) | 1996-07-15 | 1998-03-24 | Motorola, Inc. | Passivation of electroluminescent organic devices |
US5902688A (en) | 1996-07-16 | 1999-05-11 | Hewlett-Packard Company | Electroluminescent display device |
US5693956A (en) | 1996-07-29 | 1997-12-02 | Motorola | Inverted oleds on hard plastic substrate |
US5844363A (en) | 1997-01-23 | 1998-12-01 | The Trustees Of Princeton Univ. | Vacuum deposited, non-polymeric flexible organic light emitting devices |
US5948552A (en) | 1996-08-27 | 1999-09-07 | Hewlett-Packard Company | Heat-resistant organic electroluminescent device |
WO1998010116A1 (en) | 1996-09-05 | 1998-03-12 | Talison Research | Ultrasonic nozzle feed for plasma deposited film networks |
KR19980033213A (ko) | 1996-10-31 | 1998-07-25 | 조셉제이.스위니 | 스퍼터링 챔버내의 미립자 물질 발생 감소 방법 |
US5821692A (en) | 1996-11-26 | 1998-10-13 | Motorola, Inc. | Organic electroluminescent device hermetic encapsulation package |
US5912069A (en) | 1996-12-19 | 1999-06-15 | Sigma Laboratories Of Arizona | Metal nanolaminate composite |
US5872355A (en) | 1997-04-09 | 1999-02-16 | Hewlett-Packard Company | Electroluminescent device and fabrication method for a light detection system |
SE512422C2 (sv) | 1997-09-17 | 2000-03-13 | Volvo Ab | Lastbärande fordonstak och förfarande för dess tillverkning |
US6224948B1 (en) | 1997-09-29 | 2001-05-01 | Battelle Memorial Institute | Plasma enhanced chemical deposition with low vapor pressure compounds |
US5965907A (en) | 1997-09-29 | 1999-10-12 | Motorola, Inc. | Full color organic light emitting backlight device for liquid crystal display applications |
US5902641A (en) | 1997-09-29 | 1999-05-11 | Battelle Memorial Institute | Flash evaporation of liquid monomer particle mixture |
EP0916394B1 (de) | 1997-11-14 | 2004-03-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Verfahren und Einrichtung zur Hertellung von modifizierten Partikeln |
US6045864A (en) | 1997-12-01 | 2000-04-04 | 3M Innovative Properties Company | Vapor coating method |
US6092069A (en) | 1997-12-19 | 2000-07-18 | A.C. Nielsen Company | Market research database containing separate product and naked product information |
DE19802740A1 (de) | 1998-01-26 | 1999-07-29 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren zur Behandlung von Oberflächen von Substraten aus Kunststoff |
US5996498A (en) | 1998-03-12 | 1999-12-07 | Presstek, Inc. | Method of lithographic imaging with reduced debris-generated performance degradation and related constructions |
US5904958A (en) | 1998-03-20 | 1999-05-18 | Rexam Industries Corp. | Adjustable nozzle for evaporation or organic monomers |
US6146225A (en) | 1998-07-30 | 2000-11-14 | Agilent Technologies, Inc. | Transparent, flexible permeability barrier for organic electroluminescent devices |
US6217947B1 (en) * | 1998-12-16 | 2001-04-17 | Battelle Memorial Institute | Plasma enhanced polymer deposition onto fixtures |
US6207238B1 (en) * | 1998-12-16 | 2001-03-27 | Battelle Memorial Institute | Plasma enhanced chemical deposition for high and/or low index of refraction polymers |
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