JPWO2013108706A1 - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】半導体装置におけるダイボンドの信頼性を向上することを目的にしている。【解決手段】 裏面側にメタライズ層が形成されている半導体素子と、半導体素子と間隔を隔てて平行に配置された金属製のリードフレームと、半導体素子とリードフレームの間に設けられ、メタライズ層に接合されている第１の接合層と、半導体素子とリードフレームの間に設けられ、第１の接合層とリードフレームを接合する第２の接合層とを備えている半導体装置。第１の接合層は、リードフレームに向かって中央部が膨らんでいる。

Description

この発明は、ダイボンディングに特徴のある半導体装置に関する。
パワーモジュールは発電・送電からエネルギーの効率的な利用・再生まであらゆる場面で利用されている。このような半導体装置を製造するには、先ず回路形成をしたシリコンウェハーを細かくカットして、Ｓｉチップ（ＩＣチップ）を形成する。このカットされた状態をダイスと呼ぶ。ダイスはリードフレームの所定の位置に固定される。この工程をダイボンディングという。
パワーモジュールをはじめとする半導体素子では小型化が進んでいる。発熱密度が高くなるにつれて、ダイボンド部の品質（ボイドや未接合部の有無）が放熱性に大きな影響を与えるようになった。今後、高効率化のためＩＣチップの薄型化が進むと考えられている。半導体素子自体で熱を拡散することは難しいため、ダイボンド部の品質は放熱性により顕著な影響を与えるものと考えられる。
ダイボンディングにおけるボイドや未接合部の発生を抑制するために、真空はんだ付け装置などの高額な装置が用いられている。スクラブを行うなど工程数の大きなプロセスも用いられているが、ボイドの発生は根本的には解決されていない。高性能なＳｉＣ半導体においては、動作温度が高くなるため、ダイボンド部における放熱性の確保がこれまで以上に重要になる。
特許文献１には、ヒートシンクの底面を角錐状に加工し、はんだ付け時のボイドの抜けを促進するはんだ付け方法が提案されている。裏面（ダイボンド面）の機械加工を、薄さ１００μｍの脆いＳｉチップに対して行うことは困難で、できたとしても加工ひずみは信頼性に影響を与える。
特許文献２では、はんだを一旦接合面積の５０-９０％までプレスして広げてから、そのはんだを溶融させてダイボンドする方法が提案されている。ここで開示される方法のように接合材料としてのはんだ材が全量溶融する限り、スクラブを行ったとしても大きなボイドの発生は避けられない。
特許文献３は、接合面にスリットによって分割されたパッドを形成し、それぞれに高温はんだを供給する方法を提案している。スリット部分は完全に未接合部となる。発熱が大きく、チップの薄型化によって熱の拡散が期待できない場合には、スリット部が熱損傷の原因となる。
特開平０７−２９７３２９号公報 特開２００６−１１４６４９号公報 特開２００３−０６８９３０号公報
輸送・産業機器から家電・情報端末に至るあらゆる製品でパワーモジュールの普及が進んでいる。特に、エアコンなどの家電に搭載されるパワーモジュールについては、長期信頼性だけではなく、小型化と高効率化が求められている。ＳｉＣ半導体は、動作温度が高く、効率に優れている点で、今後のパワーモジュールの主流になると予想されている。このためＳｉＣ半導体にも適用できるパッケージ形態の開発が求められている。
この発明はこれらの課題を解決するためになされたものであり、パワーモジュールを含む半導体装置におけるダイボンド部の信頼性を向上することを目的にしている。
本願に関わる半導体装置は、裏面側にメタライズ層が形成されている半導体素子と、半導体素子と間隔を隔てて平行に配置された金属製のリードフレームと、半導体素子とリードフレームの間に設けられ、メタライズ層に接合されている第１の接合層と、半導体素子とリードフレームの間に設けられ、第１の接合層とリードフレームを接合する第２の接合層とを備えている。第１の接合層は、リードフレームに向かって中央部が膨らんでいる。
接合部に形成された凸部によって、ダイボンド部は外縁に行くほど厚さが大きくなるため、接合材料中に発生したボイドは積極的に外部に排斥される。この結果、ダイボンドの信頼性が向上する。
本発明にかかわる半導体装置を示す概略構成図である。 実施の形態1によるダイボンドプロセスの初期工程を示す概念図である。 実施の形態1によるダイボンドプロセスの次工程を示す概念図である。 実施の形態1によるダイボンドプロセスの完成品を示す概念図である。 ダイボンド部において発生するボイドを示す概念図である。 実施の形態２によるダイボンドプロセスの初期工程を示す概念図である。 実施の形態２によるダイボンドプロセスの完成品を示す概念図である。 実施の形態３によるダイボンドプロセスの初期工程を示す概念図である。 実施の形態３によるダイボンドプロセスの完成品を示す概念図である。 実施の形態４によるダイボンドプロセスの初期工程を示す概念図である。 実施の形態４によるダイボンドプロセスの完成品を示す概念図である。
実施の形態１．
図１に、Ｔ−ＰＭ（トランスファーパワーモールド）と呼ばれている半導体装置１００の全体構成を示す。半導体装置１００は、リードフレーム４、パワー素子１１、ワイヤボンド１２、制御素子１３、外部リード１４、モールド樹脂１５、ヒートシンク１６などから構成されている。リードフレーム４、パワー素子１１、ワイヤボンド１２、制御素子１３、ヒートシンク１６はモールド樹脂１５で樹脂封止されている。パッケージタイプの半導体装置１００は、ボンディングの終わったリードフレームを金型にセットして、熱硬化性の樹脂を流し込んで成形される。
リードフレーム４に、パワー素子１１などの半導体素子を接合するダイボンドプロセスを図２〜図１１を用いて説明する。パワー素子１１および制御素子１３は、珪素（Ｓｉ）によって形成されたものの他、珪素に比べてバンドギャップが大きいワイドバンドギャップ半導体によって形成しても良い。ワイドバンドギャップ半導体としては、例えば、炭化珪素（ＳｉＣ）、窒化ガリウム系材料またはダイヤモンドがある。ワイドバンドギャップ半導体を用いた場合、許容電流密度が高く、電力損失も低いため、電力用半導体素子を用いた装置の小型化が可能となる。
図２から図４は実施の形態１による半導体素子のダイボンドプロセスを示す概念図である。図２において、Ｓｉチップ1には６mm×６mmの大きさのものを使用している。厚さ０．２mmのＳｉチップ１の裏面にはメタライズ層２が、表面にはワイヤボンド電極８が形成されている。メタライズ層２の構成は、Ａｌ／Ｎｉ／Ａｕとした。Ｓｉチップ１の表面を下にして、接合材である高温はんだ（融点：２４０℃）のソルダペーストをメタライズ層２の表面に印刷マスク（開口部：５mm×５mm、厚さ：０．３mm）を用いて印刷供給し、２６０℃に加熱したホットプレートにて溶融させる。ソルダペーストは、ソルダパウダーとフラックスを混練したものである。その結果、Ｓｉチップ１の裏面に凸状接合層３が形成される。凸状接合層３の組成は９５％Ｓｎ-５％Ｓｂである。凸状接合層３は中央部の厚さが約０．２mmのなだらかな凸面形状を有する。
次に図３に示すように、金属製のリードフレーム４を用意する。ここでは、リードフレーム４に、１０mm×１０mmの大きさを有する厚さ０．６mmのＣｕ板を使用した。リードフレーム４の上に、接合材である低温はんだ（融点：２１７℃）のソルダペースト５を、印刷マスク（開口部：５mm×５mm、厚さ：０．３mm）を用いて印刷供給したあと、Ｓｉチップ１を凸状接合層３を下にしてリードフレーム４に搭載する。ソルダペースト５は、粒径１５〜２５μm、フラックス含有率１０ｗｔ％のものを用いた。低温はんだの組成は９６．５％Ｓｎ-３％Ａｇ-０．５％である。
最後に、２４０℃に加熱したホットプレートにて、低温はんだのソルダペースト５を溶融させて凹状接合層６を形成する（図４参照）。低温はんだが溶融状態の場合でも、凸状接合層３は固体状態を保つ。すなわち、凸状接合層３の固相線温度は、凹状接合層６の固相線温度よりも高い。この工程で、Ｓｉチップ１とリードフレーム４が接合される。このあと、リードフレーム４はヒートシンク１６に載置され、Ｓｉチップ１のワイヤボンド電極８を金線で外部リード１４などと繋ぐ。ワイヤーボンディングされたＳｉチップ１はモールド樹脂１５でモールド成形される。
ソルダペースト５のフラックス中の気化成分は、加熱中にガス化して気泡となる。凹状接合層６に存在する液体（溶融はんだ）は、凹状接合層６の厚さが外縁に行くに従って大きくなっているため、気泡は外部へ積極的に排斥される。これは、液体中の気泡は表面張力によってなるべく表面積が小さい状態になろうとするためである。気泡が同じ体積であればなるべく球形状に近い状態に変化する結果、気泡には、液体の厚みが大きい外縁部へ移動する駆動力が作用する。仮に気泡（ボイド）が凹状接合層６に残ったとしても、外縁部近傍に形成される球形ボイド７１がほとんどである（図５参照）。球形ボイド７１は、直径が凹状接合層６の厚さよりも十分に小さいため、接合部の厚さとほぼ同じ高さの円柱形状のボイドと比較すると放熱性に与える影響は極めて小さい。
図５に示す凸状接合層３は、中央に直径０．８mmの平坦部７４を有する。平坦部７４は、凸状接合層３の頂点部分をプレス加工することによって形成した。凸状接合層３の中央部を円形に平坦化することで、半導体素子搭載時の傾きを抑制することが可能となる。接合時に傾きが生じると、接合部高さの小さい部分では熱応力に伴うクラックの発生などが懸念されるが、このクラックの発生が抑制される。
仮に図５に示すように、凸状接合層３の頂点付近に扁平状のボイド７２が残存していたとする。扁平状のボイド７２は、Ｓｉチップ１の発熱の最も大きな最表面からは、チップ自体の厚さ（０．２mm）だけでなく、凸状接合層３の厚さ（０．２mm）の分だけ遠くはなれている。発熱はそこに至るまでに十分に広がりを期待できるため、ボイド７２の影響は小さいと考えられる。この効果は、チップ厚さが薄くなるほどに大きくなると期待できる。
凸状接合層３の凸面は中央付近だけが球面状となっていて、外縁部は平坦な低い部分となっていても、最も温度が高くなる中心部から大きなボイドを排斥できれば同様の効果が得られる。また、Ｓｉチップを搭載するリードフレーム側に機械加工によって凸部が形成されており、Ｓｉチップの凸部とあわせて接合部に傾斜をつけることができればさらなる効果が得られる。
平坦部７４の寸法としては、接合面積全体の５％以上あれば傾きの抑制が可能となる。接合面積全体の５０％以上になると外部へボイドを排斥する駆動力は得にくくなる。もし平坦部と同じ面積のボイドが発生したとしても、熱広がりを４５°と仮定すると、Ｓｉチップの厚さ（０．２mm）と、凸状接合層３の厚さ（０．２mm）を合計した０．４mmを２倍した０．８mmを直径とするボイド以下であれば、熱的な影響はほとんど無視できるため、平坦部の寸法としてはこれ以下が望ましい。
本願によれば、高温はんだを用いることで、溶融した金属による表面張力で凸部の形成が容易となる。接合に用いる金属よりも融点が高いことで、ダイボンド部が外縁に行くほど厚くなる状況を接合のための加熱時間中に確保しやすい。あらかじめ高温はんだを供給する際には、開放された状態で溶融するため、原理的に厚さを超えるような直径のボイドは発生しない。接合時には高温はんだは溶融せず、溶融した低温はんだ内に発生したボイドは、隙間の広い外縁部に向かって排斥される。
なお、ここでは高温はんだのソルダペーストを用いたが、所望の組成のはんだや金属を、めっきや蒸着、浸漬によるディップなどで供給しても、同様の効果が得られる。また、金属供給後に再溶融するなどして凸面状態にすることで同様の効果が得られる。ここでは高温はんだとしてＳｎＳｂ、低温はんだとしてＳｎＡｇＣｕはんだを用いたが、融点の温度差があるはんだの組み合わせであれば、ＳｎＡｇＣｕ（融点：２１７℃）／ＳｎＢｉ（融点：１４０℃）やＡｕＳｎ（融点：２８０℃）／ＳｎＳｂ（融点：２４０℃）などの組み合わせでも同様の効果が得られる。
高融点金属粉を分散させた低融点金属粉からなる接合材料、例えば、旭化成イーマテリアルズ社のＡ-ＦＡＰを用いることが可能である。この接合材料は、一旦加熱して凝集すると、同じ温度まで加熱しても再溶融しないため、凸部形成に用いる接合材料と、接合に用いる接合材料が同じでも同様の効果が得られる。高温はんだとして、高融点金属粉比率の高い接合材料を用い、低温はんだとして、高融点金属粉比率が同じかまたは低い接合材料や、高融点金属を含まない接合材料を用いることで同様の効果を得ることができる。高融点金属粉と低融点金属粉を分散させた接合材料は、液体成分が少ないために凝集力が小さく、閉じられた接合部ではボイドの発生が不可避な接合材料である。実施の形態１によれば開放された状態で凸面を形成するため、高融点金属粉を分散させた低融点金属粉からなる接合材料を用いたとしても大きなボイドの発生がほとんどない。比較的ボイドの少ない高融点金属粉を少なく含む接合材料を用いて接合することで、接合部厚さに匹敵する厚さのボイド形成を抑制して、放熱性を確保することができる。
実施の形態２．
図６と図７は実施の形態２による半導体素子のダイボンドプロセスを示す概念図である。実施の形態２では、図６に示すように、四角錘の開口部９１および開口部９２を有するアルミ製治具９を用いる。開口部９１、９２には高温はんだのソルダペーストを充填し、メタライズ層２を下にして、Ｓｉチップ１をアルミ製治具９に載置する。開口部９１、９２に充填した高温はんだのソルダペーストを溶融させてメタライズ層２に高温はんだを転写する。次いで、低温はんだのソルダペーストを、印刷マスク（開口部：５mm×５mm、厚さ：０．３mm）を用いてリードフレーム４に印刷供給し、Ｓｉチップ１を凸状接合層３１、３２を下にしてリードフレーム４に載置する。
最後に、２４０℃に加熱したホットプレートにて、低温はんだのソルダペースト５を溶融させて凹状接合層６を形成する（図７参照）。ワイヤボンド電極８に対応したＳｉチップ１の裏面には、中央の大きな凸状の凸状接合層３２に比較して小さな凸状の凸状接合層３１が形成されている。凸状接合層３１はワイヤボンド電極直下に局所的にボイドが発生することを抑制する。
ワイヤボンド部にボイドがあると、ワイヤボンドに使用するキャピラリやツールが半導体素子を踏み抜いて破損する懸念がある。半導体素子が薄くなることで剛性が低下し、ワイヤボンド電極の直下にボイドが存在すると、ワイヤボンドの衝撃によってチップが破断することも考えられる。凸状接合層３の凸部がその裏面に位置することでボイドを排除することができる。
実施の形態３．
図８と図９は実施の形態３による半導体素子のダイボンドプロセスを示す概念図である。実施の形態３では、図８に示すように、四角錘の開口部９１と開口部９２が連結された開口部を有するアルミ製治具９を用いる。開口部９１、９２には高温はんだのソルダペーストを充填し、メタライズ層２を下にして、Ｓｉチップ１をアルミ製治具９に載置する。開口部９１、９２に充填した高温はんだのソルダペーストを溶融させてメタライズ層２に高温はんだを転写する。次いで、低温はんだのソルダペーストを、印刷マスク（開口部：５mm×５mm、厚さ：０．３mm）を用いて印刷供給し、Ｓｉチップ１を凸状接合層３１、３２を下にしてリードフレーム４に搭載する。
最後に、２４０℃に加熱したホットプレートにて、低温はんだのソルダペーストを溶融させて凹状接合層６を形成する（図９参照）。アルミ製治具９の開口部を連結することで、小さな凸状の凸状接合層３１と中央の凸状の凸状接合層３２が連結される。凹状接合層６を形成中に、メタライズ層（Ｓｉチップ電極）２が露出しないため、凸部間にボイドが発生しても放熱性に影響が出にくい。
実施の形態４．
図１０と図１１は実施の形態４による半導体素子のダイボンドプロセスを示す概念図である。実施の形態４では、図１０に示すように、接合に用いる低温はんだのソルダペースト５を、３６分割して印刷供給する。ソルダペースト５がそのままの形状を保つ温度で加熱して、ソルダペースト５を凸状接合層３に接合する。低温はんだの凹状接合層６は分割された状態で形成される（図１１参照）。凹状接合層６に隙間６２が残るようにすることで、より柔軟で温度サイクル性に優れた接合部を形成することが可能となる。この際、低温はんだのソルダペーストの液状成分を少なくしたり、高融点金属粉を分散させた低融点金属粉からなる接合材料を用いることで、接合前後の形状の変化を抑えることが可能である。
なお、ここでは、凸状接合層３をＳｉチップ側に形成したが、リードフレーム側にソルダレジストなどでぬれ範囲を制限する囲いを形成し、リードフレーム側あるいは両面に高温はんだの凸面を形成しても、同様の効果が得られる。また、凸面状態を形成するものとして高温はんだを用いたが、Ａｇペーストなど金属フィラーを含んだ接着剤などを用い、型を押し付けるなどして凸面状態を形成しても、同様の効果が得られる。凸状接合層３の凸面は球面が理想的であるが、頂点の一部が平坦であっても、外縁部近傍がなだらかに高さが小さくなっていれば同様の効果が得られる。
Ｓｉチップ１にＳｉＣを用いた場合、半導体装置１００はその特徴を生かすべくＳｉの時と比較してより高温で動作させることになる。ＳｉＣデバイスを搭載する半導体装置においては、半導体装置としてより高い信頼性が求められるため、高信頼の半導体装置を実現するという本発明のメリットはより効果的なものとなる。
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
１ Ｓｉチップ、２ メタライズ層、３ 凸状接合層、
４ リードフレーム、５ ソルダペースト、６ 凹状接合層、
７１〜７３ ボイド、８ ワイヤボンド電極、９ アルミ製治具、
１５ モールド樹脂、３１ 凸状接合層、３２ 凸状接合層、６２ 隙間
本願に関わる半導体装置は、裏面側にメタライズ層が形成されている半導体素子と、半導体素子と間隔を隔てて平行に配置された金属製のリードフレームと、半導体素子とリードフレームの間に設けられ、メタライズ層に接合されている第１の接合層と、半導体素子とリードフレームの間に設けられ、第１の接合層とリードフレームを接合する第２の接合層とを備えている。第１の接合層は、リードフレームに向かって中央部が膨らんでいて、第２の接合層よりも、融点が高い。
本願に関わる半導体装置は、裏面側にメタライズ層が形成されている半導体素子と、半導体素子と間隔を隔てて平行に配置された金属製のリードフレームと、半導体素子とリードフレームの間に設けられ、メタライズ層に接合されている第１の接合層と、半導体素子とリードフレームの間に設けられ、第１の接合層とリードフレームを接合する第２の接合層とを備えている。第１の接合層は、リードフレームに向かって中央部が膨らんでいて、第２の接合層よりも、融点が高く、第２の接合層は、空隙によって複数の区画に分割されている。

Claims (11)

  1. 裏面側にメタライズ層が形成されている半導体素子と、
    前記半導体素子と間隔を隔てて平行に配置された金属製のリードフレームと、
    前記半導体素子と前記リードフレームの間に設けられ、前記メタライズ層に接合されている第１の接合層と、
    前記半導体素子と前記リードフレームの間に設けられ、前記第１の接合層と前記リードフレームを接合する第２の接合層とを備え、
    前記第１の接合層は、前記リードフレームに向かって中央部が膨らんでいることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記第１の接合層は、前記第２の接合層よりも、融点が高いことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
  3. 前記半導体素子は、表面側にワイヤボンド電極が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
  4. 前記第１の接合層は、前記ワイヤボンド電極と前記リードフレームに挟まれた部分が前記リードフレームに向かって膨らんでいることを特徴とする請求項３に記載の半導体装置。
  5. 前記第１の接合層は、膨らんでいる中央部の頂部が平坦化されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
  6. 前記第２の接合層は、空隙によって複数の区画に分割されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
  7. 前記半導体素子は、ワイドバンドギャップ半導体により形成されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
  8. 前記ワイドバンドギャップ半導体は、炭化珪素、窒化ガリウム系材料、ダイヤモンドのいずれかの半導体であることを特徴とする請求項７に記載の半導体装置。
  9. 半導体素子の裏面側に形成されたメタライズ層にペースト状の第１の接合材を供給する工程と、
    前記第１の接合材が供給されたメタライズ層を下側にして前記半導体素子を加熱する工程と、
    金属製のリードフレームにペースト状の第２の接合材を供給する工程と、
    前記第２の接合材が供給されたリードフレームに前記加熱された半導体素子を裏面側を下向きにして載置する工程と、
    前記リードフレームに載置された前記半導体素子を加熱する工程とを備えている半導体装置の製造方法。
  10. 前記第１の接合材は第１の金属粉を含んでなり、しかも、前記第２の接合材は前記第１の金属粉よりも融点の低い第２の金属粉を含んでなることを特徴とする請求項９に記載の半導体装置の製造方法。
  11. 前記第１の接合材は、高融点金属粉を分散させた低融点金属粉を含んでなることを特徴とする請求項９に記載の半導体装置の製造方法。
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