JPWO2013099890A1 - 酸化イットリウム皮膜 - Google Patents
酸化イットリウム皮膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2013099890A1 JPWO2013099890A1 JP2013551715A JP2013551715A JPWO2013099890A1 JP WO2013099890 A1 JPWO2013099890 A1 JP WO2013099890A1 JP 2013551715 A JP2013551715 A JP 2013551715A JP 2013551715 A JP2013551715 A JP 2013551715A JP WO2013099890 A1 JPWO2013099890 A1 JP WO2013099890A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- yttrium oxide
- film
- less
- thermal spray
- monoclinic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 115
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 11
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 89
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 35
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000007749 high velocity oxygen fuel spraying Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000150534 El Moro Canyon orthohantavirus Species 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000003321 atomic absorption spectrophotometry Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- -1 ethanol Chemical compound 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010286 high velocity air fuel Methods 0.000 description 1
- 238000003703 image analysis method Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/02—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
- H01B3/10—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances metallic oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
- C23C4/11—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/129—Flame spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
酸化イットリウム皮膜は気孔率が１．５％以下であり、皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率が１％以上３０％以下である。この皮膜は、酸化イットリウム粒子と分散媒とを含有する溶射材料を溶射して例えば形成される。
Description
本発明は、酸化イットリウム皮膜に関する。
酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）皮膜は、高い絶縁破壊電圧（単位：ｋＶ）を有する点で高い技術的価値があり、電気絶縁が必要な用途で例えば利用されている（例えば特許文献１及び特許文献２参照）。
酸化イットリウム皮膜の絶縁破壊電圧を向上させる手段の一つとして、皮膜の厚さを大きくすることは有効である。この点、化学気相成長法や電子ビーム蒸着法と比べて溶射は、厚さの大きい皮膜を形成することが容易であることから、絶縁破壊電圧に優れた酸化イットリウム皮膜の形成方法として有利である。ただし、溶射皮膜は気孔率が比較的高い。そのため、酸化イットリウムの溶射皮膜の絶縁破壊の強さ（単位：ｋＶ／ｍｍ）は、酸化イットリウムの化学気相成長膜の絶縁破壊の強さである４５ｋＶ／ｍｍ（例えば非特許文献１参照）や、酸化イットリウムの電子ビーム蒸着膜の絶縁破壊の強さである２８０ｋＶ／ｍｍ（例えば非特許文献２参照）に比べて劣る。電気絶縁が必要な用途で酸化イットリウム皮膜を使用する場合、皮膜の絶縁破壊をより確実に防ぐためには、絶縁破壊電圧が高いことだけでなく絶縁破壊の強さが高いことも皮膜には要求される。
なお、皮膜の絶縁破壊電圧とは、絶縁破壊を生じることなく皮膜に印加することのできる最高の電圧をいい、皮膜の絶縁破壊の強さとは、皮膜の絶縁破壊電圧を皮膜の厚さで除して求められる値をいう。
「真空プロセス向け耐食膜「酸化イットリウム」コート技術の開発」、［online］、２００９年１１月、［２０１１年１２月２８日検索］、インターネット〈ＵＲＬ：http://www.smrj.go.jp/keiei/dbps_data/_material_/common/chushou/b_keiei/keieitech/pdf/jfetekunorisa-ti5.pdf〉
シー．ケー．キャンベル（C.K. Campbell）、「電子ビーム蒸着酸化イットリウム薄膜の誘電諸特性（Some dielectric properties of electron-beam evaporated yttrium oxide thin films）」、固体薄膜（Thin Solid Films）、第６巻、第３版、１９７０年９月、ｐ．１９７−２０２
そこで本発明の目的は、より高い絶縁破壊の強さを持つ酸化イットリウム皮膜を提供すること、またそのような酸化イットリウム皮膜を形成するのに有用な溶射材料を提供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明の一態様では酸化イットリウム皮膜が提供され、皮膜の気孔率は１．５％以下であり、皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率は１％以上３０％以下である。
２．９４Ｎ（３００ｇｆ）の荷重で測定される皮膜のビッカース硬さは４５０以上であることが好ましい。
皮膜の平均表面粗さＲａは２．５μｍ以下であることが好ましい。
皮膜の平均厚さは２０μｍ以上であることが好ましい。
本発明の別の態様では、上記態様に係る酸化イットリウム皮膜を形成するために使用される溶射材料が提供される。溶射材料は、酸化イットリウム粒子と分散媒とを含有し、前記酸化イットリウム粒子の体積平均径は６μｍ以下である。
本発明のさらに別の態様では、酸化イットリウム粒子と分散媒とを含有する溶射材料が提供される。褐色アルミナ研削材（Ａ＃４０）を用いてサンドブラスト処理したアルミニウム合金のプレートからなる基材に向けて前記溶射材料を高速酸素燃料溶射することにより基材上に設けられる皮膜の気孔率は１．５以下であり、前記皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶イットリウムの比率は１％以上３０％以下である。
本発明によれば、従来の溶射皮膜と比べて絶縁破壊の強さが高く、同時に低気孔率でかつ高機械的強度を有する酸化イットリウム皮膜を提供することができる。また、そのような酸化イットリウム皮膜を形成するのに有用な溶射材料を提供することができる。
以下、本発明の一実施形態を説明する。
本実施形態の酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）皮膜は溶射材料を溶射して得られる。溶射は基材に向けて行われるため、皮膜は基材上に設けられる。基材は、アルミニウム、チタン、鉄、それらの合金などの金属製であってもよいし、あるいはアルミナやイットリアなどのセラミックス製であってもよい。溶射材料は粉末の形態であってもよいし、あるいはスラリー（すなわちサスペンション）の形態であってもよい。
皮膜を形成する粉末状の溶射材料は、処理に適した大きさの酸化イットリウム粒子からなる。好ましくは、粉末状の溶射材料の１００％が酸化イットリウム粒子によって構成される。
スラリー状の溶射材料は、適当な大きさの酸化イットリウム粒子を水又はエタノールをはじめとするアルコールなどの分散媒、好ましくは水と混合して調製される。スラリー状の溶射材料は、ポリビニルアルコールなどの少量の有機分散剤を含有してもよい。酸化イットリウム粒子は必ずしもスラリー状の溶射材料の主成分でなくてもよい。分散媒及び有機分散剤は溶射プロセスの過程で揮発又は酸化することにより、皮膜中にはまったく又はほとんど含まれない。
スラリー状の溶射材料のスラリー濃度、すなわち固形分含量は、１０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは１５質量％以上、さらに好ましくは２０質量％以上、特に好ましくは３０質量％以上である。スラリー濃度が高くなるにつれて、より効率よくスラリー状の溶射材料から皮膜を形成することができる。
スラリー状の溶射材料のスラリー濃度はまた、７０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは６０質量％以下、さらに好ましくは５０質量％以下である。スラリー状の溶射材料のスラリー濃度が低くなるにつれて、溶射機への供給がより安定化する。
皮膜の形成に用いられる酸化イットリウム粒子は、鉄、コバルト、ニッケル、クロム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどの不可避的不純物を含んでもよい。ただし、より高い絶縁破壊の強さを持つ皮膜を得るためには、酸化イットリウム粒子はできるだけ高純度であることが好ましい。具体的には、酸化イットリウム粒子中の酸化イットリウム含有量、すなわち酸化イットリウム粒子の純度は９８質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９９質量％以上、さらに好ましくは９９．９質量％以上である。皮膜の絶縁破壊の強さが低下する原因となるため、酸化イットリウム粒子中に含まれる鉄、コバルト、ニッケル及びクロム等の金属不純物の量はできるだけ少ないことが好ましい。金属不純物としての鉄、コバルト、ニッケル及びクロムの含有量の合計は２００ｐｐｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５０ｐｐｍ以下である。また、ナトリウムやカリウム、カルシウム、マグネシウムの含有量も同じ理由でできるだけ少ないことが好ましい。ナトリウム及びカリウムの含有量の合計は２００ｐｐｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５０ｐｐｍ以下である。カルシウム及びマグネシウムの含有量の合計は２００ｐｐｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５０ｐｐｍ以下である。酸化イットリウム粒子中に含まれる不純物の含有量は、例えば、誘導結合プラズマ質量分析法（ＩＣＰ−ＭＳ）や原子吸光光度法により測定することができる。
スラリー状の溶射材料から皮膜を形成するに際して使用される酸化イットリウム粒子の平均粒子径（体積平均径）は６μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは４μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以下、もっと好ましく１．５μｍ以下である。酸化イットリウム粒子の平均粒子径が小さくなるにつれて、より緻密な皮膜を溶射材料から得ることができる。酸化イットリウム粒子の平均粒子径の測定は、例えば、レーザー回折散乱法やＢＥＴ法、光散乱法により行うことができる。レーザー回折散乱法による酸化イットリウム粒子の平均粒子径の測定は、例えば、株式会社堀場製作所製のレーザー回折／散乱式粒度測定機“ＬＡ−３００”を用いて行うことができる。
溶射材料を溶射する方法は、高速酸素燃料溶射（ＨＶＯＦ）や高速空気燃料溶射（ＨＶＡＦ）のような高速フレーム溶射であってもよいし、あるいは大気圧プラズマ溶射（ＡＰＳ）であってもよい。より緻密な皮膜を得るためには、高速フレーム溶射を用いることが好ましい。高速フレーム溶射で使用される燃料は、アセチレン、エチレン、プロパン、プロピレンなどの炭化水素のガス燃料であってもよいし、あるいは灯油やエタノールなどの液体燃料であってもよい。ただし、より高いフレーム温度が得られる点で炭化水素ガス燃料が好ましい。
酸化イットリウム皮膜中の酸化イットリウムの含有量は、９８質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９９質量％以上、さらに好ましくは９９．９質量％以上である。皮膜中の酸化イットリウムの含有量が高くなるにつれて、皮膜の絶縁破壊の強さが向上する。
皮膜の気孔率は１．５％以下であることが必要であり、好ましくは１．２％以下、より好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．８％以下、特に好ましくは０．６％以下である。気孔率が低くなるにつれて、皮膜の絶縁破壊の強さが向上する。また、貫通気孔が皮膜中に形成される可能性が小さいという利点もある。皮膜中に貫通気孔が存在すると、気孔によって局所的で微小な加熱領域の形成が起こり、高い電界密度がそこに集中して重大な欠陥パスが生じ、その結果、皮膜が絶縁破壊する点で不利がある。
平均粒子径が６μｍ以下の酸化イットリウム粒子を基材に向けて溶射した場合、酸化イットリウム粒子が基材上で急冷凝固されることにより、各酸化イットリウム粒子の表層部には単斜晶酸化イットリウムが形成され、各酸化イットリウム粒子の中心部には立方晶酸化イットリウムが形成される。そのため、得られる皮膜中の酸化イットリウムは、単斜晶及び立方晶の少なくとも２つの相を含んでいる。各酸化イットリウム粒子の表層部に形成される単斜晶酸化イットリウムは酸化イットリウム粒子同士の間の接合強さを高める働きをする。
単斜晶酸化イットリウムの働きによって酸化イットリウム粒子同士の間の接合強さを高めるためには、皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率は１％以上であることが必要であり、好ましくは５％以上、より好ましくは８％以上、さらに好ましくは１０％以上である。一方、単斜晶酸化イットリウムに比べて高い絶縁破壊電圧及び機械的強度を持つ立方晶酸化イットリウムの量を十分に確保するためには、皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率はまた、３０％以下であることが必要であり、好ましくは２５％以下、より好ましくは２０％以下である。従って、この比率が上記範囲内にあることによって、皮膜は良好な絶縁破壊の強さ及び機械的強度を有することになる。
皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率は、式：Ｐｍ（％）＝［Ｉｍ／（Ｉｍ＋Ｉｃ）］×１００により求められる。上式中、Ｐｍは皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率を示し、Ｉｍは皮膜のＸ線回折パターンにおける単斜晶酸化イットリウム（４０２）のピーク強度を示し、Ｉｃは皮膜のＸ線回折パターンにおける立方晶酸化イットリウム（２２２）のピーク強度を示す。
皮膜中の立方晶酸化イットリウムの結晶子サイズは８０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは６０ｎｍ以下である。立方晶酸化イットリウムの結晶子サイズが小さくなるにつれて、皮膜中の粒界密度が高くなる結果、皮膜の機械的特性、例えば硬度が向上する。皮膜中の立方晶酸化イットリウムの結晶子サイズは、Ｘ線回折パターンにおける立方晶酸化イットリウム（２２２）のピーク半値幅からシェラーの式を用いて求められる。
皮膜中の単斜晶酸化イットリウムの結晶子サイズは６０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ以下である。単斜晶酸化イットリウムの結晶子サイズが小さくなるにつれて、皮膜中の粒界密度が高くなる結果、皮膜の機械的特性、例えば硬度が向上する。皮膜中の単斜晶酸化イットリウムの結晶子サイズは、Ｘ線回折パターンにおける単斜晶酸化イットリウム（４０２）のピーク半値幅からシェラーの式を用いて求められる。
皮膜の比抵抗は１×１０１１Ωｃｍ以上であることが好ましく、より好ましくは５×１０１１Ωｃｍ以上、さらに好ましくは１×１０１２Ωｃｍ以上である。皮膜の比抵抗が高くなるにつれて、電圧印加時のリーク電流値が低くなる。
２．９４Ｎ（３００ｇｆ）の荷重で測定される皮膜のビッカース硬さは４５０以上であることが好ましく、より好ましくは５００以上、さらに好ましくは５３０以上である。ビッカース硬さが大きくなるにつれて、皮膜の絶縁破壊の強さが向上する。
皮膜の平均表面粗さＲａは２．５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２μｍ以下である。皮膜の平均表面粗さＲａが小さくなるにつれて、誘電率の測定時に電極と皮膜との間の電気的接触が良好になる利点がある。気孔率が低い緻密な皮膜は平均表面粗さＲａが小さい傾向にある。
皮膜の表面粗さの標準偏差σは０．５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．４μｍ以下である。表面粗さの標準偏差が小さくなるにつれて、皮膜の全体にわたり絶縁破壊の強さが均一化する。
皮膜の平均厚さは２０μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは５０μｍ以上、さらに好ましくは１００μｍ以上である。皮膜の平均厚さが大きくなるにつれて、皮膜の絶縁破壊電圧が向上する。
皮膜の厚さのばらつきは±１０％以内であることが好ましい。
皮膜の絶縁破壊電圧は２．５ｋＶ以上であることが好ましく、より好ましくは３．５ｋＶ以上、さらに好ましくは４ｋＶ以上である。
本実施形態によれば以下の効果が得られる。
本実施形態の酸化イットリウム皮膜によれば、皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率を１％以上３０％以下としたことにより、皮膜の気孔率が１．５％以下と低いことによる効果として高い絶縁破壊の強さが確保されることになる。そのため、高い絶縁破壊の強さを持つ皮膜の提供が可能である。
前記実施形態は次のように変更されてもよい。
・ 酸化イットリウム皮膜は、酸化イットリウム粒子を含んだ溶射材料を溶射することにより形成されるに限られず、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ）や物理気相成長法（ＰＶＤ）、エアロゾルデポジションのような溶射以外の手法で形成されてもよい。
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１〜５及び比較例１では、か焼して得られた酸化イットリウム粒子を水と混合することによりスラリー状の溶射材料を用意し、これを表１に示す条件で基材に溶射することにより厚さ１５０μｍの皮膜を基材上に形成した。
比較例２〜４では、酸化イットリウム粒子又は酸化アルミニウム粒子からなる粉末状の溶射材料を凝集及び焼結により用意し、厚さ１５０μｍの皮膜を基材上に形成するべく、これを表２又は表３に示す条件で基材に溶射した。その結果、比較例３，４の場合には皮膜を形成することができたが、比較例２では皮膜を形成することができなかった。
これらの実施例及び比較例で使用した基材はすべて、アルミニウム合金（Ａ６０６１）からなる寸法５０ｍｍ×７５ｍｍ×５ｍｍのプレートであり、予め褐色アルミナ研削材（Ａ＃４０）によりサンドブラスト処理してから用いた。
実施例１〜５及び比較例１〜４で使用した溶射材料の詳細及びその溶射材料から得られた皮膜の詳細を表４に示す。
表４の“粒子の種類”欄には、実施例１〜５及び比較例１〜４の各溶射材料を用意するときに使用したセラミック粒子の種類を示す。同欄中の“Ｙ２Ｏ３”は酸化イットリウム粒子を使用したことを示し、“Ａｌ２Ｏ３”は酸化アルミニウム粒子を使用したことを示す。
表４の“粒子の純度”欄には、実施例１〜５及び比較例１〜４のそれぞれで使用したセラミック粒子の純度、すなわちセラミック粒子中のセラミック含有量を示す。同欄中の“３Ｎ”は９９．９％の純度を示し、“４Ｎ”は９９．９９％の純度を示す。
表４の“平均粒子径”欄には、実施例１〜５及び比較例１〜４のそれぞれで使用したセラミック粒子の平均粒子径（体積平均径）を示す。
表４の“溶射材料の形態”欄には、実施例１〜５及び比較例１〜４のそれぞれで用意された溶射材料の形態を示す。同欄中の“スラリー”はスラリー状の溶射材料を用意したことを示し、“粉末”は粉末状の溶射材料を用意したことを示す。
表４の“スラリー濃度”欄には、実施例１〜５及び比較例１のそれぞれで用意したスラリー状の溶射材料について、溶射材料の総質量に対する溶射材料中の固形分含量の割合を示す。
表４の“皮膜の形成方法”欄には、実施例１〜５及び比較例１〜４のそれぞれで溶射材料を用いて皮膜を形成するに際して使用した方法を示す。同欄中の“ＨＶＯＦ”は高速酸素燃料溶射を使用したことを示し、“プラズマ”は大気圧プラズマ溶射を使用したことを示す。
表４の“気孔率”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３，４で得られた皮膜の気孔率を測定した結果を示す。気孔率の測定は、平均粒子径０．０６μｍのコロイダルシリカを用いて鏡面研磨後の皮膜断面を用いて画像解析法により行った。
表４の“単斜晶の比率”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３で得られた酸化イットリウム皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率を、先に説明した式に従って求めた結果を示す。
表４の“立方晶酸化イットリウムの結晶子サイズ”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３で得られた酸化イットリウム皮膜のＸ線回折パターンにおける立方晶酸化イットリウム（２２２）のピーク半値幅から立方晶酸化イットリウムの結晶子サイズを求めた結果を示す。
表４の“単斜晶酸化イットリウムの結晶子サイズ”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３で得られた酸化イットリウム皮膜のＸ線回折パターンにおける単斜晶酸化イットリウム（４０２）のピーク半値幅から単斜晶酸化イットリウムの結晶子サイズを求めた結果を示す。
表４の“比抵抗”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３，４で得られた皮膜の比抵抗を測定した結果を示す。この測定には、株式会社三菱化学アナリテック製の抵抗率計であるハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０型を使用した。測定条件として印加電圧は１ｋＶ、電圧印加時間は６０秒、対向電極にはＵＲＳプローブを使用した。
表４の“ビッカース硬さ”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３，４で得られた皮膜のビッカース硬さを測定した結果を示す。得られた皮膜の断面に圧子を用いて２．９４Ｎ（３００ｇｆ）の荷重を与えることによって値を得た。この測定には、株式会社島津製作所製の微小硬度測定器ＨＭＶ−１を使用した。
表４の“平均表面粗さ”欄及び“表面粗さの標準偏差”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３，４で得られた皮膜の平均表面粗さＲａ及びその標準偏差σを測定した結果を示す。この測定には、触針式表面粗さ計を使用した。
表４の“絶縁破壊電圧”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３，４で得られた皮膜の絶縁破壊電圧を測定した結果を示す。この測定は、国際電気標準会議規格IEC 60243に対応する日本工業規格JIS C2110-1に記載の方法に準拠して行った。より具体的には、菊水電子工業株式会社製の耐電圧・絶縁抵抗試験器であるＴＯＳ９２０１を温度２０℃及び相対湿度５０％で使用した。測定条件として電圧スイープ速度を２００Ｖ／秒とした。対向電極には２５ｍｍの直径を有する真鍮製の円筒を使用した。
表４の“絶縁破壊の強さ”欄には、実施例１〜５及び比較例１，３，４で得られた皮膜の絶縁破壊の強さを測定した結果を示す。この測定は、IEC 60243に対応するJIS C2110-1に記載の方法に準拠して行った。より具体的には、上記の方法で測定した各皮膜の絶縁破壊電圧の値を皮膜の厚さで除することにより絶縁破壊の強さを求めた。
表４に示すように、実施例１〜５で得られた皮膜の絶縁破壊の強さは１５ｋＶ／ｍｍ以上であり、実用上満足なレベルであった。それに対し、比較例１，３，４で得られた皮膜の絶縁破壊の強さは１５ｋＶ／ｍｍ未満であり、実用上満足なレベルでなかった。
Claims (6)
- 酸化イットリウム皮膜であって、
皮膜の気孔率が１．５％以下であり、
皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶酸化イットリウムの比率が１％以上３０％以下である皮膜。 - 請求項１に記載の皮膜であって、２．９４Ｎの荷重で測定される皮膜のビッカース硬さが４５０以上である皮膜。
- 請求項１又は２に記載の皮膜であって、皮膜の平均表面粗さＲａが２．５μｍ以下である皮膜。
- 請求項１〜３のいずれか一項に記載の皮膜であって、皮膜の平均厚さが２０μｍ以上である皮膜。
- 請求項１〜４のいずれか一項に記載の皮膜を形成するために使用される溶射材料であって、
酸化イットリウム粒子と分散媒とを含有し、前記酸化イットリウム粒子の体積平均径が６μｍ以下である溶射材料。 - 酸化イットリウム粒子と分散媒とを含有する溶射材料であって、
褐色アルミナ研削材（Ａ＃４０）を用いてサンドブラスト処理したアルミニウム合金のプレートからなる基材に向けて前記溶射材料を高速酸素燃料溶射することにより基材上に設けられる皮膜の気孔率が１．５以下であり、
前記皮膜中の単斜晶酸化イットリウムと立方晶酸化イットリウムの和に占める単斜晶イットリウムの比率が１％以上３０％以下である、溶射材料。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011288278 | 2011-12-28 | ||
| JP2011288278 | 2011-12-28 | ||
| PCT/JP2012/083542 WO2013099890A1 (ja) | 2011-12-28 | 2012-12-26 | 酸化イットリウム皮膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2013099890A1 true JPWO2013099890A1 (ja) | 2015-05-07 |
| JP6097701B2 JP6097701B2 (ja) | 2017-03-15 |
Family
ID=48697374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013551715A Active JP6097701B2 (ja) | 2011-12-28 | 2012-12-26 | 溶射材料、及び酸化イットリウム皮膜の形成方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20140360407A1 (ja) |
| EP (1) | EP2799587A4 (ja) |
| JP (1) | JP6097701B2 (ja) |
| KR (1) | KR20140108307A (ja) |
| CN (2) | CN104093874A (ja) |
| TW (1) | TW201341590A (ja) |
| WO (1) | WO2013099890A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016008352A (ja) * | 2014-06-26 | 2016-01-18 | Toto株式会社 | 耐プラズマ性部材 |
| JP5888458B2 (ja) * | 2014-06-26 | 2016-03-22 | Toto株式会社 | 耐プラズマ性部材及びその製造方法 |
| KR102419886B1 (ko) | 2014-09-03 | 2022-07-12 | 가부시키가이샤 후지미인코퍼레이티드 | 용사용 슬러리, 용사 피막 및 용사 피막의 형성 방법 |
| JP6544902B2 (ja) * | 2014-09-18 | 2019-07-17 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| DE102014018693A1 (de) * | 2014-12-18 | 2016-06-23 | Mahle International Gmbh | Verfahren zum Herstellen einer Wärmedämmschicht sowie mittels dieses Verfahrens hergestellte Wärmedämmschicht |
| JP6741410B2 (ja) | 2015-09-25 | 2020-08-19 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法 |
| JP6808168B2 (ja) * | 2015-12-24 | 2021-01-06 | Toto株式会社 | 耐プラズマ性部材 |
| JP6908973B2 (ja) * | 2016-06-08 | 2021-07-28 | 三菱重工業株式会社 | 遮熱コーティング、タービン部材、ガスタービン、ならびに遮熱コーティングの製造方法 |
| JP6859147B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2021-04-14 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー |
| JP6859146B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2021-04-14 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー |
| JP6934401B2 (ja) * | 2017-11-13 | 2021-09-15 | 日本特殊陶業株式会社 | 溶射部材の製造方法 |
| US11047035B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-06-29 | Applied Materials, Inc. | Protective yttria coating for semiconductor equipment parts |
| JP7156203B2 (ja) * | 2018-08-10 | 2022-10-19 | 信越化学工業株式会社 | サスペンションプラズマ溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 |
| JP6939853B2 (ja) * | 2018-08-15 | 2021-09-22 | 信越化学工業株式会社 | 溶射皮膜、溶射皮膜の製造方法、及び溶射部材 |
| CN110004393A (zh) * | 2019-04-08 | 2019-07-12 | 中国科学院金属研究所 | 一种超音速火焰喷涂技术制备y2o3陶瓷涂层的方法 |
| CN110158009A (zh) * | 2019-06-24 | 2019-08-23 | 江苏立达高科特种材料有限公司 | 氧化钇热喷涂粉的制备方法 |
| JP7495821B2 (ja) | 2019-09-24 | 2024-06-05 | 日本特殊陶業株式会社 | 半導体モジュール用部品の製造方法、及び半導体モジュール用部品 |
| CN116096691A (zh) * | 2020-09-09 | 2023-05-09 | 三菱综合材料株式会社 | 耐等离子体涂膜、该膜形成用溶胶凝胶液、耐等离子体涂膜的形成方法及带有耐等离子体涂膜的基材 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004332081A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 耐プラズマ部材及びその製造方法 |
| JP2006089338A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | 耐食性部材とその製造方法、およびこれを用いた半導体・液晶製造装置用部材 |
| JP2009521393A (ja) * | 2005-12-27 | 2009-06-04 | ヨマ インターナショナル アーエス | 金属酸化物ナノ粒子の製造方法、ならびにそれにより製造されるナノ粒子および調製物 |
| JP2010150617A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Fujimi Inc | 溶射用スラリー、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010062209A (ko) | 1999-12-10 | 2001-07-07 | 히가시 데쓰로 | 고내식성 막이 내부에 형성된 챔버를 구비하는 처리 장치 |
| US20080213496A1 (en) * | 2002-02-14 | 2008-09-04 | Applied Materials, Inc. | Method of coating semiconductor processing apparatus with protective yttrium-containing coatings |
| JP3829935B2 (ja) | 2002-12-27 | 2006-10-04 | 信越化学工業株式会社 | 高耐電圧性部材 |
| WO2007013640A1 (en) * | 2005-07-27 | 2007-02-01 | Showa Denko K.K. | Y2o3 film and process for producing the same |
| CN1831182A (zh) * | 2006-04-10 | 2006-09-13 | 钢铁研究总院 | 纳米料浆等离子喷涂方法 |
| CN101265561B (zh) * | 2008-03-31 | 2010-06-02 | 北京航空航天大学 | 一种耐瞬态超高温的热障涂层陶瓷层的制备方法 |
| KR101453706B1 (ko) * | 2010-12-01 | 2014-10-22 | 가부시끼가이샤 도시바 | 플라즈마 에칭 장치용 부품 및 플라즈마 에칭 장치용 부품의 제조 방법 |
-
2012
- 2012-12-26 WO PCT/JP2012/083542 patent/WO2013099890A1/ja active Application Filing
- 2012-12-26 KR KR1020147020378A patent/KR20140108307A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-12-26 US US14/368,455 patent/US20140360407A1/en not_active Abandoned
- 2012-12-26 EP EP12863678.4A patent/EP2799587A4/en not_active Withdrawn
- 2012-12-26 CN CN201280064537.3A patent/CN104093874A/zh active Pending
- 2012-12-26 CN CN201710271937.6A patent/CN107254651A/zh active Pending
- 2012-12-26 JP JP2013551715A patent/JP6097701B2/ja active Active
- 2012-12-27 TW TW101150522A patent/TW201341590A/zh unknown
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004332081A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 耐プラズマ部材及びその製造方法 |
| JP2006089338A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | 耐食性部材とその製造方法、およびこれを用いた半導体・液晶製造装置用部材 |
| JP2009521393A (ja) * | 2005-12-27 | 2009-06-04 | ヨマ インターナショナル アーエス | 金属酸化物ナノ粒子の製造方法、ならびにそれにより製造されるナノ粒子および調製物 |
| JP2010150617A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Fujimi Inc | 溶射用スラリー、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| KITAMURA JUNYA, ET AL.: "Structural, Mechanical and Erosion Properties of Yttrium Oxide Coatings by Axial Suspension Plasma S", JOURNAL OF THERMAL SPRAY TECHNOLOGY, vol. vol.20, no.1-2, JPN6017002563, 2010, pages 170 - 185, ISSN: 0003488691 * |
| SONG SHIN AE, ET AL.: "Preparation of Y2O3 Particles by Flame Spray Pyrolysis with Emulsion", LANGMUIR, vol. 25, no. 6, JPN6017002562, 2009, US, pages 3402 - 3406, ISSN: 0003488690 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20140360407A1 (en) | 2014-12-11 |
| WO2013099890A1 (ja) | 2013-07-04 |
| EP2799587A1 (en) | 2014-11-05 |
| JP6097701B2 (ja) | 2017-03-15 |
| CN104093874A (zh) | 2014-10-08 |
| EP2799587A4 (en) | 2015-09-02 |
| KR20140108307A (ko) | 2014-09-05 |
| CN107254651A (zh) | 2017-10-17 |
| TW201341590A (zh) | 2013-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6097701B2 (ja) | 溶射材料、及び酸化イットリウム皮膜の形成方法 | |
| Kassner et al. | Application of suspension plasma spraying (SPS) for manufacture of ceramic coatings | |
| JP2014240511A (ja) | 溶射皮膜の製造方法および溶射用材料 | |
| Li et al. | Wettability of atmospheric plasma sprayed Fe, Ni, Cr and their mixture coatings | |
| JP2011514933A5 (ja) | ||
| Ctibor et al. | Microstructure and properties of plasma-sprayed mixture of Cr 2 O 3 and TiO 2 | |
| JP2011522115A (ja) | 特性を低下させる添加物なしの高いコランダム含有量を有する熱溶射されたＡｌ２Ｏ３層及びその製造方法 | |
| Sadeghi-Fadaki et al. | The adhesion strength and indentation toughness of plasma-sprayed yttria stabilized zirconia coatings | |
| Mohammadian Bajgiran et al. | Microstructure, phase and dielectric strength of thermally sprayed alumina layers in coating‐based heating systems | |
| KR20130139665A (ko) | 내식성이 향상된 다성분계 열용사용 코팅물질, 그 제조방법 및 코팅방법 | |
| Koshuro et al. | Composition and structure of coatings formed on a VT16 titanium alloy by electro-plasma spraying combined with microarc oxidation | |
| JP2013136814A (ja) | セラミック溶射皮膜及びその製造方法 | |
| JP5726400B2 (ja) | 溶射用粉末、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 | |
| Liu et al. | TiN, TiN gradient and Ti/TiN multi-layer protective coatings on Uranium | |
| Liu et al. | Microstructure and properties of AC-HVAF sprayed Ni60/WC composite coating | |
| Lee et al. | Electrically insulative performances of ceramic and clay films deposited via supersonic spraying | |
| JP2018048378A (ja) | シリコン溶射膜及びその製造方法 | |
| Masoumeh et al. | Investigation of stand-off distance effect on structure, adhesion and hardness of copper coatings obtained by the APS technique | |
| JPWO2019022096A1 (ja) | 構造体、その積層体、それらの製造方法及び製造装置 | |
| JP4981292B2 (ja) | 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法 | |
| JP5996756B2 (ja) | 溶射用材料 | |
| CN102817029B (zh) | 一种镁合金表面铝基合金厚涂层的制备方法 | |
| Tetsi et al. | Ba0. 6Sr0. 4TiO3 thin films deposited by spray coating for high capacitance density capacitors | |
| JP6188004B2 (ja) | セラミック溶射被膜の形成方法および機能性セラミック溶射被膜 | |
| Cuglietta et al. | Relationship between particle and plasma properties and coating characteristics of samaria-doped ceria prepared by atmospheric plasma spraying for use in solid oxide fuel cells |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151007 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160722 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20160722 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160726 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160808 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20160829 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161018 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161219 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170201 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170220 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6097701 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |