JPWO2013046781A1 - 重合性化合物の製造中間体及びその製造方法 - Google Patents

重合性化合物の製造中間体及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2013046781A1
JPWO2013046781A1 JP2013535962A JP2013535962A JPWO2013046781A1 JP WO2013046781 A1 JPWO2013046781 A1 JP WO2013046781A1 JP 2013535962 A JP2013535962 A JP 2013535962A JP 2013535962 A JP2013535962 A JP 2013535962A JP WO2013046781 A1 JPWO2013046781 A1 JP WO2013046781A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
mmol
carbon atoms
ring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013535962A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6123673B2 (ja
Inventor
坂本 圭
圭 坂本
久美 奥山
久美 奥山
中野 靖之
靖之 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Zeon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zeon Corp filed Critical Zeon Corp
Publication of JPWO2013046781A1 publication Critical patent/JPWO2013046781A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6123673B2 publication Critical patent/JP6123673B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/34Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
    • C08G65/38Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols
    • C08G65/40Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols from phenols (I) and other compounds (II), e.g. OH-Ar-OH + X-Ar-X, where X is halogen atom, i.e. leaving group
    • C08G65/4012Other compound (II) containing a ketone group, e.g. X-Ar-C(=O)-Ar-X for polyetherketones
    • C08G65/4031(I) or (II) containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/60Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D277/62Benzothiazoles
    • C07D277/68Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
    • C07D277/82Nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/72Hydrazones
    • C07C251/86Hydrazones having doubly-bound carbon atoms of hydrazone groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/38Nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D237/00Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings
    • C07D237/26Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D237/30Phthalazines
    • C07D237/34Phthalazines with nitrogen atoms directly attached to carbon atoms of the nitrogen-containing ring, e.g. hydrazine radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/52Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D263/54Benzoxazoles; Hydrogenated benzoxazoles
    • C07D263/58Benzoxazoles; Hydrogenated benzoxazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/34Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
    • C08G65/38Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols
    • C08G65/40Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols from phenols (I) and other compounds (II), e.g. OH-Ar-OH + X-Ar-X, where X is halogen atom, i.e. leaving group
    • C08G65/4012Other compound (II) containing a ketone group, e.g. X-Ar-C(=O)-Ar-X for polyetherketones
    • C08G65/4043(I) or (II) containing oxygen other than as phenol or carbonyl group
    • C08G65/405(I) or (II) containing oxygen other than as phenol or carbonyl group in ring structure, e.g. phenolphtalein
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/34Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
    • C08G65/38Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols
    • C08G65/40Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols from phenols (I) and other compounds (II), e.g. OH-Ar-OH + X-Ar-X, where X is halogen atom, i.e. leaving group
    • C08G65/4012Other compound (II) containing a ketone group, e.g. X-Ar-C(=O)-Ar-X for polyetherketones
    • C08G65/4056(I) or (II) containing sulfur
    • C08G65/4062(I) or (II) containing sulfur in ring structure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/08Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
    • C08L71/10Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
    • C08L71/12Polyphenylene oxides
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

本発明は、下記式(I)で示される化合物、及びその製造方法である。(式中、Axは芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を、Ayは水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、シクロアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基等を表す。また、AxとAyは一緒になって環を形成していてもよい。Qは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基等を表す。)本発明によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを作製することができる、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能な重合性化合物の、製造中間体となりうる新規化合物、及びその製造方法が提供される。

Description

本発明は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを作製することができる重合性化合物の製造中間体となりうる新規化合物、及びその製造方法に関する。
従来、直線偏光を円偏光に変換する1/4波長板や直線偏光の偏光振動面を90度変換する1/2波長板等の位相差板が、フラットパネル表示装置などに広く用いられている。
しかし、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が、有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。この問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている(特許文献1〜6)。
一方、モバイルパソコン、携帯電話等携帯型の情報端末の高機能化及び普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められており、構成部材である位相差板にも薄層化が必要とされている。薄層化の方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性組成物を塗布することにより位相差板を作製する方法が有力視されている。そして、優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物及びそれを用いた重合性組成物がいくつか提案されている(特許文献7〜24)。
本発明に関連して、特許文献25には、本発明化合物に類似の構造を有するジヒドロキシ化合物が記載されている。しかしながら、この文献には、本発明化合物は記載されていない。また、この文献に記載されている化合物は、ある種の薬物(たんぱく質分解のエンハンサー(Enhancers of Protein Degradation)として用いられるものである。
特開平10−68816号公報 特開平10−90521号公報 特開平11−52131号公報 特開2000−284126号公報(US20020159005A1) 特開2001−4837号公報 国際公開第2000/026705号 特開2002−267838号公報 特開2003−160540号公報(US20030102458A1) 特開2005−208414号公報 特開2005−208415号公報 特開2005−208416号公報 特開2005−289980号公報(US20070176145A1) 特開2006−330710号公報(US20090072194A1) 特開2009−179563号公報(US20090189120A1) 特開2011−42606号公報 特開2010−31223号公報 特表2010−537954号公報(US20100201920A1) 特表2010−537955号公報(US20100301271A1) 国際公開第2006/052001号(US20070298191A1) 米国特許第6,139,771号 米国特許第6,203,724号 米国特許第5,567,349号 特開2011−6360号公報 特開2011−6361号公報 国際公開2011/020883号パンフレット
本発明者らは、先に、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを作製することができる重合性化合物として、分子内に、下記式(A)
Figure 2013046781
(式中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表し、Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。また、AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。)で示される部分構造を有する重合性化合物を提案している(特願2011−99525号)。
本発明は、特願2011−99525号に開示した重合性化合物の製造中間体となりうる新規化合物、及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、下記式(I)で表される新規化合物は、目的とする重合性化合物の製造中間体として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。
かくして本発明によれば、(1)〜(4)の化合物、(5)〜(7)の製造方法が提供される。
(1)下記式(I)
Figure 2013046781
(式中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表し、Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。また、AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。)で示される化合物。
(2)AとAに含まれる芳香環π電子の総数が24以下である(1)に記載の化合物。
(3)Qが水素原子である(1)又は(2)に記載の化合物。
(4)Aが、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基である(1)〜(3)のいずれかに記載の化合物。
(5)下記式(II)
Figure 2013046781
(式中、Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。)で表されるカルボニル化合物と、下記式(III)
Figure 2013046781
(式中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表し、Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。また、AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。)で表されるヒドラジン化合物とを、溶媒中で反応させることを特徴とする、下記式(I)
Figure 2013046781
(式中、Q、A、Aは前記と同じ意味を表す。)で表されるヒドラゾン化合物の製造方法。
(6)前記溶媒が、アルコール系溶媒である(5)に記載のヒドラゾン化合物の製造方法。
(7)前記アルコール系溶媒が、炭素数1〜4のアルコール系溶媒である(6)に記載のヒドラゾン化合物の製造方法。
本発明の化合物を製造中間体として用いることにより、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを作製することができる重合性化合物を、低コストで収率よく製造することができる。
本発明の製造方法によれば、本発明の化合物を工業的に有利に製造することができる。
以下、本発明を、1)本発明化合物、及び、2)本発明化合物の製造方法、に項分けして、詳細に説明する。
1)本発明化合物
本発明の化合物(以下、「化合物(I)」ということがある。)は、前記式(I)で表される新規化合物である。
式(I)中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。
本発明において、「芳香環」は、Huckel則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を(4n+2)個有する環状共役構造、及び、チオフェン、フラン、ピロール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示すものを意味する。
の、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を共に有するものであってもよい。
前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の5員環;ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環等の6員環;ベンズイミダゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、カルバゾール環等の縮合環;等が挙げられる。
が有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜6のアルキル基;ビニル基、アリル基等の炭素数2〜6のアルケニル基;トリフルオロメチル基等の炭素数1〜6のハロゲン化アルキル基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;−C(=O)−OR基;−SOR基;等が挙げられる。ここでRは、メチル基、エチル基等の炭素数1〜6のアルキル基;又はフェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜14のアリール基;を表す。
また、Aが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよい。
なお、Aの炭素数2〜30の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない、芳香環を含む有機基全体の総炭素数を意味する(後述するAにて同じである。)。
の、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基としては、芳香族炭化水素環基;芳香族複素環基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数3〜30のアルキル基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数4〜30のアルケニル基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数4〜30のアルキニル基;等が挙げられる。
これらの中でも、Aとしては、芳香族基(芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基)が好ましい。
は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。
の、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基の炭素数1〜18のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、n−へキシル基、イソヘキシル基、n−ヘプチル基、イソヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−オクタデシル基等が挙げられる。
前記置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;ニトロ基;シクロプロピル基、シクロヘキシル基等の炭素数3〜8のシクロアルキル基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;−C(=O)−OR基;−SOR基;等が挙げられる。ここで、Rは前記と同じ意味を表す。
置換基を有していてもよいシクロアルキル基のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基等の炭素数3〜12のシクロアルキル基が挙げられる。
置換基を有していてもよいシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;ニトロ基;メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基等の炭素数1〜8のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;−C(=O)−OR基;−SOR基;等が挙げられる。ここでRは前記と同じ意味を表す。
置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基としては、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基の置換基としては、前記置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。
の、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基としては、前記Aで例示したのと同様のものが挙げられる。
また、Aが有する芳香環は、任意の位置に置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、前記Aが有する芳香環の置換基として列記したものと同様のものが挙げられる。
これらの中でも、Aとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、又は、炭素数2〜8のアルケニル基であるのが好ましく、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基であるのが好ましい。
、Aが有する芳香環の具体例を以下に示す。但し、A、Aが有する芳香環は以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記化合物中、[−]は芳香環の結合手を示す。
Figure 2013046781
Figure 2013046781
Figure 2013046781
Figure 2013046781
上記式中、Eは、NR、酸素原子又は硫黄原子を表す。ここで、Rは、水素原子;又は、メチル基、エチル基等の炭素数1〜6のアルキル基;を表す。
Figure 2013046781
上記式中、X、Y、Zは、それぞれ独立して、NR、酸素原子、硫黄原子、−SO−又は、−SO−を表す(ただし、酸素原子、硫黄原子、−SO−、−SO−が、それぞれ隣接する場合を除く。)。Rは前記と同じ意味を表す。
本発明においては、上記した芳香環の中でも、下記のものが好ましく、
Figure 2013046781
下記のものがより好ましく、
Figure 2013046781
下記のものが特に好ましい。
Figure 2013046781
前記式中、X、Yは前記と同じ意味を表す。
また、AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。かかる環としては、置換基を有していてもよい炭素数4〜30の不飽和複素環や、炭素数6〜30の不飽和炭素環が挙げられる。
前記炭素数4〜30の不飽和複素環、炭素数6〜30の不飽和炭素環は、芳香族性を有していても有していなくてもよい。例えば、下記に示す環が挙げられる。なお、下記に示す環は、式(I)中の
Figure 2013046781
として表される部分を示すものである。
Figure 2013046781
Figure 2013046781
Figure 2013046781
式中、X、Y、Zは、前記と同じ意味を表す。
また、これらの環は置換基を有していてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ニトロ基、−C(=O)−OR基、−SOR基等が挙げられる。ここで、Rは前記と同じ意味を表す。
とAに含まれるπ電子の総数は、好ましい重合性化合物の製造中間体が得られる観点から、24以下であるのが好ましく、4〜24であるのがより好ましく、6〜18であるのが更に好ましい。
、Aの組み合わせとしては、好ましい重合性化合物の製造中間体が得られる観点から、Aが炭素数4〜30の芳香族基で、Aが水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、又は、炭素数2〜8のアルケニル基である組み合わせ、及び、AとAが一緒になって不飽和複素環又は不飽和炭素環を形成しているものが好ましく、Aが炭素数4〜30の芳香族基で、Aが水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、又は、炭素数2〜8のアルケニル基である組み合わせが特に好ましい。
Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、前記Aで例示したのと同様のものが挙げられる。
これらの中でも、Qは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
本発明の化合物は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる重合性化合物の製造中間体として有用である。本発明の化合物を製造中間体として製造される重合性化合物としては、特願2011−099525に記載の化合物や、後述する製造例に記載するもの等が挙げられる。
このような重合性化合物は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができ、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、しかも低コストで製造することができる。
本発明の化合物の製造方法としては、特に制約はないが、以下に示す本発明の製造方法により、簡便かつ収率よく製造することができる。
2)本発明化合物の製造方法
本発明の製造方法は、前記式(I)で表されるヒドラゾン化合物(化合物(I))の製造方法であって、前記式(II)で表されるカルボニル化合物(以下、「カルボニル化合物(II)」ということがある。)と、前記式(III)で表されるヒドラジン化合物(以下、「ヒドラジン化合物(III)」ということがある。)とを、溶媒中で反応させることを特徴とする。
式(I)、(II)、(III)中、A、A、Qは、前記と同じ意味を表す。
用いる溶媒としては、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒等が挙げられる。
エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類等が挙げられる。
アルコール系溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ペンチルアルコール、アミルアルコール等が挙げられる。
これらの中でも、より収率よく目的物が得られ、目的物の単離がより容易である観点から、反応溶媒として、アルコール系溶媒を用いるのが好ましく、炭素数1〜4のアルコールを用いるのがより好ましい。
これらのアルコールは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、アルコール系溶媒は、他の溶媒と組み合わせて用いることもできる。他の溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドラジン化合物(III)1gに対し、通常1〜100mlである。
カルボニル化合物(II)とヒドラジン化合物(III)との使用割合は、〔カルボニル化合物(II):ヒドラジン化合物(III)〕のモル比で、通常1:2〜2:1、好ましくは1:1.5〜1.5:1である。
また、反応は、(±)−10−カンファースルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸;これら有機酸の塩;塩酸、硫酸等の無機酸;等の酸触媒を添加して行うこともできる。酸触媒を添加することで反応時間が短縮され、収率が向上する場合がある。酸触媒の添加量は、カルボニル化合物(II)1モルに対して、通常0.001〜1モルである。また、酸触媒はそのまま添加してもよいし、適当な溶媒に溶解させた溶液として添加してもよい。
反応は、−10℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数十時間、好ましくは30分から10時間である。
反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、蒸留法等の公知の分離・精製手段を施すことにより、目的物を単離することができる。本発明の製造方法によれば、収率よく目的とする本発明の化合物を得ることができる。
目的とする化合物の構造は、NMRスペクトル、IRスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。
なお、ヒドラジン化合物(III)は、次のようにして製造することができる。
Figure 2013046781
(式中、A、Aは、前記と同じ意味を表す。Lは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。)
すなわち、式(2a)で表される化合物とヒドラジン(1)を、適当な溶媒中、(化合物(2a):ヒドラジン(1))のモル比で、1:1〜1:20、好ましくは1:2〜1:10で反応させて、対応するヒドラジン化合物(3a)を得ることができ、さらに、ヒドラジン化合物(3a)と式(2b)で表される化合物を反応させることで、ヒドラジン化合物(III)を得ることができる。
ヒドラジン(1)としては、通常1水和物のものを用いる。ヒドラジン(1)は、市販品をそのまま使用することができる。
この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ペンチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;及びこれらの2種以上からなる混合溶媒;等が挙げられる。
これらの中でも、アルコール類、エーテル類、及びアルコール類とエーテル類の混合溶媒が好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドラジン1gに対し、通常1〜100mlである。
反応は、−10℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
また、ヒドラジン化合物(III)は、次のように、従来公知の方法を用いて、ジアゾニウム塩(4)を還元することによっても製造することができる。
Figure 2013046781
式中、A、Aは、前記と同じ意味を表す。Zは、ジアゾニウムに対する対イオンである陰イオンを示す。Zとしては、例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化水素酸イオン、塩化物イオン、硫酸イオン等の無機陰イオン;ポリフルオロアルキルカルボン酸イオン、ポリフルオロアルキルスルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、芳香族カルボン酸イオン、芳香族スルホン酸イオン等の有機陰イオン;等が挙げられる。
上記反応に用いる還元剤としては、例えば、金属塩還元剤が挙げられる。
金属塩還元剤とは一般に低原子価金属を含む化合物、もしくは金属イオンとヒドリド源からなる化合物である(「有機合成実験法ハンドブック」1990年社団法人有機合成化学協会編 丸善株式会社発行810ページを参照)。
金属塩還元剤としては、例えば、NaAlH、NaAlH(Or)(pは1〜3の整数を表し、qはp+q=4を満たす整数である。rはアルキル基を表す。)、LiAlH、iBuAlH、LiBH、NaBH、SnCl、CrCl、TiCl等が挙げられる。
還元反応においては公知の反応条件を採用することができる。例えば、特開2005−336103号公報、新実験化学講座 1978年 丸善株式会社発行 14巻、実験化学講座 1992年 丸善株式会社発行 20巻、等の文献に記載の条件で反応を行うことができる。
また、ジアゾニウム塩(4)は、アニリン等の化合物から常法により製造することができる。
本発明の製造方法によれば、簡便に収率よく本発明化合物を製造することができ、ひいては、目的とする重合性化合物を簡便に低コストで製造することができる。
以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例等により何ら制限されるものではない。
(実施例1a) 化合物(I−1)の製造
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド5.6g(40.5mmol)、及び、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 6.9g(41.8mmol)及びメタノール200mlを入れ、全容を1時間加熱還流した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。得られた固体を、メタノールで洗浄し、真空乾燥機で乾燥し、淡黄色固体として化合物(I−1)を10.6g得た(収率:91.7%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):12.18(s,1H)、9.72(s,1H)、9.00(s,1H)、8.41(s,1H)、7.77(d,1H,J=7.5Hz)、7.41(d,1H,J=8.0Hz)、7.28(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.13−7.10(m,2H)、6.78(d,1H,J=8.5Hz)、6.73(d,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)
(実施例1b) 化合物(I−1)の製造
実施例1aにおいて、反応及び後処理において用いる溶媒をメタノールから1−プロパノールに代えた以外は、実施例1aと同様にして、化合物(I−1)を製造した。淡黄色固体として、化合物(I−1)を10.7g得た(収率92.5%)。
(実施例1c) 化合物(I−1)の製造
実施例1aにおいて、反応溶媒をメタノールからテトラヒドロフラン(THF)に代えた以外は、実施例1aと同様の操作を行った。反応後、固体が析出しなかったので、ロータリーエバポレーターにてTHFを減圧留去させて黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=85:15(体積比))により精製し、淡黄色固体として化合物(I−1)を8.78g得た(収率:75.9%)。
(実施例2a) 化合物(I−2)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Aの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物 49g(0.98mol)及びエタノール500mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液を50℃に加温した後、エタノール250mlに溶解させた2−クロロベンゾオキサゾール 30g(0.20mmol)を加え、全容を50℃にて1時間攪拌した。反応終了後、反応液を10%重曹水1.5リットルに投入し、クロロホルム500mlで2回抽出した。クロロホルム層を集め、10%の重曹水800mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、白色固体として原料Aを18g得た。この白色固体は精製することなくそのままステップ2に用いた。
ステップ2:化合物(I−2)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド5.4g(39.1mmol)、原料A 5.83g(39.1mmol)及びエタノール150mlを入れ、全容を25℃にて4時間撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ取した。ろ取した固体をエタノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−2)を10.1g得た(収率:95.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):12.1(s,1H)、9.81(brs,1H)、8.98(s,1H)、8.39(s,1H)、7.52(d,1H,J=8.0Hz)、7.40(d,1H,J=7.5Hz)、7.22(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.13−7.10(m,2H)、6.76(d,1H,J=8.5Hz)、6.71(dd,1H,J=2.5Hz,8.5Hz)
(実施例2b) 化合物(I−2)の合成
実施例2aのステップ2において、反応溶媒をエタノールからTHFに代えた以外は、実施例2aと同様の操作により合成を行った。反応後、固体が析出しなかったので、ロータリーエバポレーターにてTHFを減圧留去させて淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=85:15(体積比))により精製し、白色固体として化合物(I−2)を8.69g得た(収率:82.5%)。
(実施例3) 化合物(I−3)の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド5.4g(39.1mmol)、1−ナフチルヒドラジン塩酸塩 7.6g(39.1mmol)及びメタノール100mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、(±)−10−カンファースルホン酸182mg(0.78mmol)を加え、全容を25℃にて2時間撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ取した。得られた固体をメタノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、橙色固体として化合物(I−3)を7.8g得た(収率:71.7%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):10.54(s,1H)、9.82(s,1H)、8.83(s,1H)、8.47(s,1H)、8.50−8.37(brs,1H)、8.31(d,1H,J=8.0Hz)、7.87(d,1H,J=8.5Hz)、7.50−7.41(m,2H)、7.13(d,1H,J=8.5Hz)、6.98(d,1H,J=2.5Hz)、6.84(d,1H,J=8.0Hz)、6.70(d,1H,J=8.5Hz)、6.61(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)
(実施例4)
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド5.4g(39.1mmol)、N,N−ジフェニルヒドラジン7.2g(39.1mmol)及びエタノール100mlを入れ、全容を25℃にて3時間撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ取した。得られた固体をエタノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡茶色固体として化合物(I−4)を9.8g得た(収率:82.4%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.30(s,1H)、8.83(s,1H)、7.49−7.45(m,4H)、7.39(s,1H)、7.23−7.20(m,2H)、7.15−7.13(m,5H)、6.66(d,1H,J=8.5Hz)、6.58(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)
(実施例5a) 化合物(I−5)の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド5.4g(39.1mmol)、2−ヒドラジノキノリン 6.2g(39.1mmol)及びエタノール200mlを入れ、全容を25℃にて6時間撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ別した。ろ別した固体をエタノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−5)を9.9g得た(収率:90.7%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):11.33(s,1H)、9.74(s,1H)、8.89(s,1H)、8.31(s,1H)、8.19(d,1H,J=8.5Hz)、7.78(d,1H,J=7.5Hz)、7.64−7.58(m,2H)、7.43(d,1H,J=8.5Hz)、7.29(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.11(d,1H,J=3.0Hz)、6.74(d,1H,J=8.5Hz)、6.66(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)
(実施例5b) 化合物(I−5)の合成
実施例5aにおいて、反応溶媒をエタノールからTHFに代えた以外は、実施例5aと同様の操作により合成を行った。反応後、固体が析出しなかったので、ロータリーエバポレーターにてTHFを減圧留去させて黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=85:15(体積比))により精製し、黄色固体として化合物(I−5)を7.70g得た(収率:70.5%)。
(実施例6) 化合物(I−6)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Bの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール1.00g(6.05mmol)及びTHF15mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、ヘキサメチルジシラザンリチウム(26%THF溶液)4.5ml(7.26mmol)を0℃でゆっくり滴下した。0℃で30分撹拌した後、この溶液に、ヨウ化メチル 0.46ml(7.26mmol)を加え、全容を25℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル100mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=70:30(体積比))により精製し、淡黄色固体として原料Bを693mg得た(収率:63.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl、TMS,δppm):7.61(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.55(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.29(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.08(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、4.31(s,2H)、3.45(s,3H)
ステップ2:化合物(I−6)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド380mg(2.75mmol)、原料B 493mg(2.75mmol)及び1−プロパノール10mlを入れ、全容を80℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−6)を599mg得た(収率:72.7%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.42(s,1H)、8.97(s,1H)、8.08(s,1H)、7.84(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.38(ddd,1H,J=1.0、7.5、8.0Hz)、7.19(d,1H,J=3.0Hz)、7.16(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、6.77(d,1H,J=9.0Hz)、6.70(dd,1H,J=9.0Hz)、3.70(s,3H)
(実施例7) 化合物(I−7)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Cの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.1mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム 8.36g(60.5mmol)及び1−ヨードブタン 2.67g(14.5mmol)を加え、全容を50℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却した後、水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−へキサン:酢酸エチル=75:25(体積比))により精製し、白色固体として原料Cを2.34g得た(収率:87.4%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl、TMS,δppm):7.59(d,1H,J=7.8Hz)、7.52(d,1H,J=7.8Hz)、7.27(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz)、7.05(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz)、4.21(s,2H)、3.75(t,2H,J=7.3Hz)、1.68−1.75(m,2H)、1.37−1.46(m,2H)、0.97(t,3H,J=7.3Hz)
ステップ2:化合物(I−7)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 763mg(5.52mmol)、原料C 1.34g(6.07mmol)及び1−プロパノール15mlを入れ、全容を80℃で1.5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−7)を1.76g得た(収率:84.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.39(s,1H)、8.97(s,1H)、8.15(s,1H)、7.83(d,1H,J=7.5Hz)、7.60(d,1H,J=7.5Hz)、7.33(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.18(d,1H,J=3.0Hz)、7.16(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、6.76(d,1H,J=8.5Hz)、6.70(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)、4.33(t,2H,J=7.5Hz)、1.66(tt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)、1.39(tq,2H,J=7.5Hz,7.0Hz)、0.95(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例8) 化合物(I−8)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Dの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 2.00g(12.1mmol)及びDMF20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム 8.36g(60.5mmol)及び1−ヨードヘキサン 3.08g(14.5mmol)を加え、全容を50℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−へキサン:酢酸エチル=75:25(体積比))により精製し、白色固体として原料Dを2.10g得た(収率:69.6%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl、TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.53(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.27(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、4.22(s,2H)、3.74(t,2H,J=7.5Hz)、1.69−1.76(m,2H)、1.29−1.42(m,6H)、0.89(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:化合物(I−8)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 504mg(3.65mmol)、原料D 1.00g(4.01mmol)及び1−プロパノール10mlを入れ、全容を80℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−8)を1.20g得た(収率:88.8%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.39(s,1H)、8.97(s,1H)、8.15(s,1H)、7.83(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.33(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.18(d,1H,J=3.0Hz)、7.16(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、6.76(d,1H,J=8.5Hz)、6.70(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)、4.32(t,2H,J=7.0Hz)、1.64−1.70(m,2H)、1.25−1.39(m,6H)、0.86(t,3H,J=7.5Hz)
(実施例9) 化合物(I−9)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Eの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール1.00g(6.05mmol)及びTHF15mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、ヘキサメチルジシラザンリチウム(26%THF溶液)4.5ml(7.26mmol)を0℃でゆっくり滴下し、滴下終了後、0℃で30分さらに撹拌した。得られた反応混合物に、2−クロロベンゾチアゾール 1.23g(7.26mmol)を加え、全容を25℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル100mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−へキサン:酢酸エチル=75:25(体積比))により精製し、淡黄色固体として原料Eを511mg得た(収率:28.3%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,DMSO−d,TMS,δppm):7.97(d,2H,J=7.5Hz)、7.74(d,2H,J=8.0Hz)、7.42(dd,2H,J=7.8Hz,8.0Hz)、7.27(dd,2H,J=7.5Hz,7.8Hz)、6.55(s,2H)
ステップ2:化合物(I−9)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 197mg(1.43mmol)、原料E 511mg(1.71mmol)、(±)−10−カンファースルホン酸 32.5mg(0.14mmol)及び1−プロパノール 10mlを入れ、全容を80℃で2.5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として化合物(I−9)を401mg得た(収率:66.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,THF−d、TMS,δppm):8.39(s,1H)、7.40(s,1H)、6.31(s,1H)、6.19(dd,2H,J=1.0Hz,8.0Hz)、6.12(dd,2H,J=1.0Hz,8.0Hz)、5.71(ddd,2H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、5.59(ddd,2H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、5.47(d,1H,J=3.0Hz)、5.12(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、5.08(d,1H,J=9.0Hz)
(実施例10) 化合物(I−10)の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド197mg(1.43mmol)、1−ヒドラジノフタラジン塩酸塩 281mg(1.43mmol)、(±)−10−カンファースルホン酸32.5mg(0.14mmol)及びエタノール10mlを入れ、全容を25℃で2時間撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ取した。ろ取した固体をエタノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、黄色固体として化合物(I−10)を305mg得た(収率:76.1%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):14.486(br、1H)、14.150(br、1H)、9.77(s,1H)、9.30(s,1H)、9.20(d,1H,J=8.0Hz)、9.06(s,1H)、8.27−8.14(m,3H)、7.76(d,1H,J=2.5Hz)、6.89(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)、6.84(d,1H,J=8.5Hz)
(実施例11) 化合物(I−11)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Fの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に窒素気流中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール5.00g(30.3mmol)及びDMF100mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム20.9g(152mmol)及び5−ブロモバレロニトリル5.17g(30.3mmol)を加え、全容を60℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却した後、水500mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40(体積比))により精製し、白色固体として原料Fを3.41g得た(収率:45.7%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(d,1H,J=7.8Hz)、7.51(d,1H,J=8.1Hz)、7.28(dd,1H,J=7.3Hz,8.1Hz)、7.07(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz)、4.23(s,2H)、3.81(t,2H,J=6.9Hz)、2.46(t,2H,J=7.1Hz)、1.88−1.95(m,2H)、1.71−1.79(m,2H)
ステップ2:化合物(I−11)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 1.62g(11.7mmol)、先のステップ1で合成した原料F 2.89g(11.7mmol)及び1−プロパノール30mlを入れ、全容を80℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−11)を2.92g得た(収率:68.2%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.36(s,1H)、8.94(s,1H)、8.13(s,1H)、7.81(d,1H,J=7.3Hz)、7.57(d,1H,J=7.6Hz)、7.30(dd,1H,J=7.6Hz,8.0Hz)、7.14(d,1H,J=3.2Hz)、7.13(dd,1H,J=7.3Hz,8.0Hz)、6.73(d,1H,J=8.7Hz)、6.67(dd,1H,J=3.2Hz,8.7Hz)、4.34(t,2H,J=7.1Hz)、2.57(t,2H,J=7.2Hz)、1.72−1.79(m,2H)、1.59−1.66(m,2H)
(実施例12) 化合物(I−12)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Gの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に窒素気流中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 1.45g(8.75mmol)及びDMF20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム 3.63g(26.3mmol)及び、1,1,1−トリフルオロ−4−ヨードブタン 2.50g(10.5mmol)を加え、全容を80℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却した後、水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=85:15(体積比))により精製し、白色固体として原料Gを961mg得た(収率:39.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.61(d,1H,J=8.0Hz)、7.54(d,1H,J=7.8Hz)、7.30(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、7.09(dd,1H,J=7.8Hz,8.0Hz)、4.24(s,2H)、3.81(t,2H,J=7.0Hz)、2.16−2.26(m,2H)、1.99−2.05(m,2H)
ステップ2:化合物(I−12)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 372mg(2.69mmol)、先のステップ1で合成した原料G 740mg(2.69mmol)及び1−プロパノール10mlを入れ、全容を80℃で6時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−12)を916mg得た(収率:86.1%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.39(s,1H)、8.98(s,1H)、8.18(s,1H)、7.85(d,1H,J=7.8Hz)、7.61(d,1H,J=8.1Hz)、7.35(dd,1H,J=7.3Hz,8.1Hz)、7.16−7.19(m,2H)、6.76(d,1H,J=9.0Hz)、6.71(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、4.42(t,2H,J=7.5Hz)、2.40−2.50(m,2H)、1.88−1.97(m,2H)
(実施例13) 化合物(I−13)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Hの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 3.00g(18.2mmol)及びDMF30mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム 7.55g(54.6mmol)及び4−ブロモ−1−ブテン 2.94g(21.8mmol)を加え、全容を80℃で4時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却した後、水300mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=85:15(体積比))により精製し、白色固体として原料Hを1.44g得た(収率:36.1%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(d,1H,J=7.8Hz)、7.54(d,1H,J=7.5Hz)、7.30(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、7.07(dd,1H,J=7.5Hz,7.8Hz)、5.89(ddt,1H,J=10.3Hz,17.0Hz,7.0Hz)、5.18(dd,1H,J=1.5Hz,17.0Hz)、5.09(dd,1H,J=1.5、10.3Hz)、4.27(s,2H)、3.86(t,2H,J=7.0Hz)、2.53(dt,2H,J=7.0Hz,7.0Hz)
ステップ2:化合物(I−13)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 630mg(4.56mmol)、及び、先のステップ1で合成した原料H 1.00g(4.56mmol)及び1−プロパノール15mlを入れ、全容を80℃で6時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−13)を760mg得た(収率:49.1%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):9.77(s,1H)、7.80(s,1H)、7.693(d,1H,J=7.8Hz)、7.687(d,1H,J=7.8Hz)、7.37(dd,1H,J=7.5Hz,7.8Hz)、7.19(dd,1H,J=7.5Hz,7.8Hz)、6.94(d,1H,J=9.0Hz)、6.83(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、6.78(d,1H,J=3.0Hz)、5.90(ddt,1H,J=10.3Hz,17.0Hz,7.5Hz)、5.19(dd,1H,J=1.5Hz,17.0Hz)、5.13(dd,1H,J=1.5Hz,10.3Hz)、4.71(s,1H)、4.45(t,2H,J=7.5Hz)、2.56(dt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)
(実施例14)化合物(I−14)の合成
Figure 2013046781
化合物(I−14)
ステップ1:原料Iの合成
温度計を備えた4つ口反応器に窒素気流下中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 3.00g(18.2mmol)及びTHF20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、ヘキサメチルジシラザンリチウム(26%THF溶液)11.4ml(18.2mmol)を0℃でゆっくり滴下し、滴下終了後、0℃で30分さらに撹拌した。得られた反応混合物に、1−ヨード−3−メチルブタン 2.9ml(21.8mmol)を加え、全容を室温で6時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル150mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色個体を得た。この黄色個体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=75:25(体積比))により精製し、白色個体として原料Iを2.07g得た(収率:48.2%)。構造はH−NMRで同定した。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.59(d,1H,J=8.5Hz)、7.53(d,1H,J=8.0Hz)、7.27(dd,1H,J=7.8Hz,8.0Hz)、7.06(dd,1H,J=7.8Hz,8.5Hz)、4.21(s,2H)、3.75(t,2H,J=7.5Hz)、1.63−1.70(m,1H)、1.60(dt,2H,J=7.0Hz,7.5Hz)、0.97(d,6H,J=6.5Hz)
ステップ2:化合物(I−14)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流下中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 1.21g(8.78mmol)、先のステップ1で合成した原料I 2.07g(8.78mmol)及び2−プロパノール15mlを入れ、全容を80℃で1.5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を2−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−14)を1.36g得た(収率:43.6%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.38(s,1H)、8.97(s,1H)、8.12(s,1H)、7.83(d,1H,J=8.0Hz)、7.59(d,1H,J=8.0Hz)、7.33(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.18(d,1H,J=3.0Hz)、7.16(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、6.75(d,1H,J=9.0Hz)、6.70(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、4.34(t,2H,J=7.5Hz)、1.63−1.74(m,1H)、1.55(dt,2H,J=7.0Hz,7.5Hz)、0.99(d,6H,J=6.5Hz)
(実施例15)化合物(I−15)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Jの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 3.00g(18.2mmol)及びDMF30mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム 7.55g(54.6mmol)及び(ブロモメチル)シクロヘキサン 3.86g(21.8mmol)を加え、全容を80℃で9時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却した後、水300mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=85:15(体積比))により精製し、白色固体として原料Jを2.36g得た(収率:49.7%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.58(d,1H,J=8.0Hz)、7.51(d,1H,J=8.1Hz)、7.26(dd,1H,J=7.0Hz,8.1Hz)、7.04(dd,1H,J=7.0Hz,8.0Hz)、4.24(s,2H)、3.59(d,2H,J=7.4Hz)、1.84−1.92(m,1H)、1.67−1.77(m,5H)、1.16−1.29(m,3H)、1.02−1.13(m,2H)
ステップ2:化合物(I−15)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 1.06g(7.65mmol)、先のステップ1で合成した原料J 2.00g(7.65mmol)及び1−プロパノール20mlを入れ、全容を80℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を1−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−15)を2.00g得た(収率:70.8%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.33(s,1H)、8.93(s,1H)、8.11(s,1H)、7.79(d,1H,J=7.5Hz)、7.55(d,1H,J=7.8Hz)、7.28(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、7.15(s,1H)、7.11(dd,1H,J=7.5Hz,7.8Hz)、6.72(d,1H,J=8.7Hz)、6.66(d,1H,J=8.7Hz)、4.17(d,2H,J=7.3Hz)、1.82−1.92(m,1H)、1.56−1.63(m,5H)、1.01−1.19(m,5H)
(実施例16)化合物(I−16)の合成
Figure 2013046781
ステップ1:原料Kの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流下中、シクロヘキシルヒドラジン塩酸塩 2.50g(16.6mmol)及びトリエチルアミン 8mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、2−クロロベンゾチアゾール 5.63g(33.2mmol)を加え、全容を80℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色個体を得た。この黄色個体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=75:25(体積比))により精製し、白色個体として原料Kを1.02g得た(収率:22.3%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.58(d,1H,J=7.8Hz)、7.52(d,1H,J=8.2Hz)、7.26(dd,1H,J=7.4Hz,8.2Hz)、7.05(dd,1H,J=7.4Hz,7.8Hz)、4.25−4.32(m,1H)、4.04(s,2H)、1.84−1.88(m,4H)、1.68−1.73(m,1H)、1.43−1.59(m,4H)、1.08−1.19(m,1H)
ステップ2:化合物(I−16)の合成
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流下中、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 510mg(3.69mmol)、先のステップ1で合成した原料K 1.02g(3.69mmol)及び2−プロパノール10mlを入れ、全容を80℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を2−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、白色固体として化合物(I−16)を685mg得た(収率:46.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,DMSO−d,TMS,δppm):9.38(s,1H)、8.93(s,1H)、8.37(s,1H)、7.77(d,1H,J=7.3Hz)、7.56(d,1H,J=7.8Hz)、7.28(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、7.15(d,1H,J=2.8Hz)、7.11(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz)、6.72(d,1H,J=8.7Hz)、6.67(dd,1H,J=2.8Hz,8.7Hz)、4.58(tt,1H,J=3.7Hz,11.9Hz)、2.36−2.45(m,2H)、1.76−1.86(m,4H)、1.65−1.68(m,1H)、1.38−1.48(m,2H)、1.16−1.25(m,1H)
次に、用いる溶媒を代えて反応を行った、化合物(I−1)を得る反応(実施例1a、1b、1c)、化合物(I−2)を得る反応(実施例2a、2b)、化合物(I−5)を得る反応(実施例5a、5b)につき、用いた反応溶媒、カラム精製の有無及び収率を、下記表1にまとめて記載する。
Figure 2013046781
表1より、実施例1、2、5において、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒のいずれを用いても、目的物が収率よく得られることがわかる。
また、アルコール系溶媒を用いる場合(実施例1a、1b、実施例2a、実施例5a)の方が、エーテル系溶媒(THF)を用いる場合(実施例1c、実施例2b、実施例5b)に比して、目的物をより高純度で、かつ、収率よく得ることができることがわかる。
なお、エーテル系溶媒(THF)を用いた場合には、反応終了後、結晶の析出がみられなかった。溶媒の減圧留去後得られる固体は、濃く着色されており、カラム精製が必要だった。
(参考例1) 化合物1rの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド10.0g(72.4mol)及びエタノール150mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 13.0g(79.6mol)を加え、全容を25℃にて2時間撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ取した。得られた固体をエタノールで洗浄した後、真空乾燥機で乾燥させ、淡黄色固体として化合物1rを13.0g得た(収率:63.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):12.00(brs,1H)、9.39(s,1H)、9.24(s,1H)、7.96(s,1H)、7.76(s,1H)、7.41(d,1H,J=7.5Hz)、7.28(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.20(d,1H,J=2.0Hz)、7.09(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、6.92(dd,1H,J=2.0Hz,8.0Hz)、6.79(d,1H,J=8.0Hz)
(参考例2) 化合物2rの合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド10.0g(72.4mol)及びエタノール150mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、2−ヒドラジノベンゾチアゾール 13.0g(79.6mol)を加え、25℃にて5時間撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ取した。得られた固体をエタノールで洗浄した後、真空乾燥機で乾燥させ、淡黄色固体として化合物2rを17.0g得た(収率:81.2%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):11.95(brs,1H)、10.58(brs,1H)、9.90(s,1H)、8.34(s,1H)、7.71(d,1H,J=8.0Hz)、7.39(d,1H,J=8.0Hz)、7.26−7.33(m,2H)、7.07(dd,1H,J=8.0Hz,8.0Hz)、6.37(dd,1H,J=2.5Hz,8.3Hz)、6.35(d,1H,J=2.5Hz)
(製造例1) 重合性化合物1の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例1aで合成した化合物(I−1)5.0g(17.5mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)12.8g(43.8mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.64g(5.2mmol)、及び、N−メチルピロリドン200mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSC)10.1g(52.6mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水1リットルに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2(体積比))により精製し、淡黄色固体として重合性化合物1を8.48g得た(収率:58.1%)。
目的物の構造はH−NMR、マススペクトルで同定した。
H−NMRスペクトルデータ及びマススペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):12.30(br,1H)、8.19(s,1H)、8.17−8.12(m,4H)、7.76(d,1H,J=3.0Hz)、7.68(d,1H,J=7.5Hz)、7.45−7.39(m,3H)、7.28(t,1H,J=8.0Hz)、7.18−7.14(m,4H)、7.09(t,1H,J=8.0Hz)、6.33(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.18(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.944(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.941(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.14−4.10(m,8H)、1.80−1.75(m,4H)、1.69−1.63(m,4H)、1.53−1.38(m,8H)
LCMS(APCI)calcd for C464710S:833[M];Found:833
(製造例2) 重合性化合物2の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例2aで合成した化合物(I−2)3.0g(11.14mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)8.14g(27.85mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.68g(5.57mmol)、及び、N−メチルピロリドン150mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 6.40g(33.42mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水800mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2(体積比))により精製し、白色固体として重合性化合物2を5.06g得た(収率:55.5%)。
目的物の構造はH−NMR、マススペクトルで同定した。
H−NMRスペクトルデータ及びマススペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):12.20(br,1H)、8.28(s,1H)、8.17−8.12(m,4H)、7.82(br,1H)、7.46−7.40(m,3H)、7.32(br,1H)、7.20−7.14(m,5H)、7.08(t,1H,J=8.0Hz)、6.33(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.18(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.94(d,2H,J=10.5Hz)、4.14−4.10(m,8H)、1.80−1.75(m,4H)、1.69−1.63(m,4H)、1.51−1.38(m,8H)
LCMS(APCI)calcd for C464711:817[M];Found:817
(製造例3) 重合性化合物3の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例3で合成した化合物(I−3)3.0g(10.78mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)7.88g(26.95mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.66g(5.39mmol)、及び、N−メチルピロリドン150mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 6.20g(32.34mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水800mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2(体積比))により精製し、橙色固体として重合性化合物3を4.23g得た(収率:47.5%)。
目的物の構造はH−NMR、マススペクトルで同定した。
H−NMRスペクトルデータ及びマススペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):8.35(s,1H)、8.20(d,2H,J=7.0Hz)、8.18(d,2H,J=7.0Hz)、7.95−7.96(m,2H)、7.79(t,2H,J=7.3Hz)、7.32−7.53(m,5H)、7.17−7.24(m,2H)、7.00(d,2H,J=7.0Hz)、7.98(d,2H,J=7.0Hz)、6.41(dd,2H,J=0.9Hz,17.4Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.4Hz)、5.82(dd,2H,J=0.9Hz,10.5Hz)、4.19(t,4H,J=6.6Hz)、4.05−4.08(m,4H)、1.79−1.89(m,4H)、1.65−1.77(m,4H)、1.46−1.59(m,8H)
LCMS(APCI)calcd for C495010:826[M];Found:826
(製造例4) 重合性化合物4の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例4で合成した化合物(I−4)3.0g(9.86mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)7.20g(24.64mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.60g(4.93mmol)、及び、N−メチルピロリドン150mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 5.67g(29.57mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水800mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2(体積比))により精製し、淡黄色固体として重合性化合物4を4.37g得た(収率:52.0%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):8.18(d,2H,J=8.7Hz)、7.90(d,1H,J=2.7Hz)、7.82(d,2H,J=8.7Hz)、7.21−7.29(m,6H)、7.10−7.15(m,5H)、7.05(t,2H,J=7.3Hz)、6.99(d,2H,J=9.2Hz)、6.88(d,2H,J=9.2Hz)、6.41(dd,2H,J=1.8Hz,17.4Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.4Hz)、5.82(dd,2H,J=1.8Hz,10.5Hz)、4.20(t,2H,J=6.4Hz)、4.19(t,2H,J=6.4Hz)、4.07(t,2H,J=6.4Hz)、4.06(t,2H,J=6.4Hz)、1.82−1.92(m,4H)、1.70−1.79(m,4H)、1.44−1.61(m,8H)
(製造例5) 重合性化合物5の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例5aで合成した化合物(I−5)3.0g(10.74mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)7.85g(26.85mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.66g(5.37mmol)、及び、N−メチルピロリドン150mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 6.18g(32.22mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水800mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2(体積比))により精製し、黄色固体として重合性化合物5を3.64g得た(収率:40.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,DMSO−d,TMS,δppm):11.5(s,1H)、8.23(s,1H)、8.16(d,2H,J=9.0Hz)、8.13(d,2H,J=9.0Hz)、8.05(d,1H,J=9.0Hz)、7.91(d,1H,J=2.5Hz)、7.75(d,1H,J=8.0Hz)、7.53−7.59(m,3H)、7.40(d,1H,J=9.0Hz)、7.33(ddd,1H,J=2.0Hz,6.0Hz,8.0Hz)、7.40(d,1H,J=9.0Hz)、7.17(d,2H,J=9.0Hz)、7.14(d,2H,J=9.0Hz)、6.33(dd,2H,J=1.0Hz,17.3Hz)、6.19(dd,2H,J=10.5Hz,17.3Hz)、5.94(dd,2H,J=1.0Hz,10.5Hz)、4.09−4.14(m,8H)、1.75−1.81(m,4H)、1.63−1.69(m,4H)、1.38−1.51(m,8H)
(製造例6) 重合性化合物6の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例6で合成した化合物(I−6)0.55g(1.84mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)1.34g(4.59mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.11g(0.92mmol)、及び、N−メチルピロリドン50mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液にWSC 1.06g(5.51mmol)を加え、全容を25℃にて15時間攪拌した。反応終了後、反応液を水500mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−へキサン:酢酸エチル=7:3(体積比))により精製し、淡黄色固体として重合性化合物6を1.13g得た(収率:72.4%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl、TMS,δppm):8.201(d,2H,J=9.0Hz)、8.196(d,2H,J=9.0Hz)、7.91(s,1H)、7.73(s,1H)、7.61−7.64(m,2H)、7.32(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.23−7.28(m,1H)、7.11−7.18(m,2H)、7.02(d,2H,J=9.0Hz)、7.01(d,2H,J=9.0Hz)、6.41(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.14(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.83(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.194(t,2H,J=6.5Hz)、4.192(t,2H,J=6.5Hz)、4.08(t,4H,J=6.5Hz)、3.63(s,3H)、1.84−1.89(m,4H)、1.71−1.77(m,4H)、1.46−1.59(m,8H)
(製造例7) 重合性化合物7の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例7で合成した化合物(I−7)1.5g(4.39mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)3.21g(10.98mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.27g(2.20mmol)、及び、N−メチルピロリドン100mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 2.53g(13.18mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水800mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1(体積比))により精製し、淡黄色固体として重合性化合物7を3.16g得た(収率:80.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl、TMS,δppm):8.20(d,2H,J=8.5Hz)、8.19(d,2H,J=8.5Hz)、7.90(d,1H,J=2.0Hz)、7.76(s,1H)、7.61−7.64(m,2H)、7.25−7.32(m,3H)、7.12(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.01(d,4H,J=8.5Hz)、6.41(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.14(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz)、5.83(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.17−4.21(m,6H)、4.08(t,2H,J=6.5Hz)、4.07(t,2H,J=6.5Hz)、1.84−1.91(m,4H)、1.71−1.77(m,4H)、1.46−1.61(m,10H)、1.19−1.28(m,2H)、0.77(t,3H,J=7.5Hz)
(製造例8) 重合性化合物8の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例8で合成した化合物(I−8)1.2g(3.25mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)2.37g(8.12mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.20g(1.63mmol)、及び、N−メチルピロリドン100mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 1.87g(9.74mmol)を加え、全容を25℃にて15時間攪拌した。反応終了後、反応液を水800mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1(体積比))により精製し、淡黄色固体として重合性化合物8を1.13g得た(収率:37.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl、TMS,δppm):8.20(d,2H,J=9.0Hz)、8.19(d,2H,J=9.0Hz)、7.90(d,1H,J=2.0Hz)、7.76(s,1H)、7.63(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.62(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.25−7.34(m,3H)、7.12(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5、8.0Hz)、7.01(d,2H,J=9.0Hz)、7.00(d,2H,J=9.0Hz)、6.42(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.14(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.83(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、6.16−4.21(m,6H)、4.08(t,2H,J=6.5Hz)、4.06(t,2H,J=6.5Hz)、1.84−1.89(m,4H)、1.71−1.77(m,4H)、1.46−1.63(m,10H)、1.07−1.21(m,6H)、0.79(t,3H,J=6.5Hz)
(製造例9) 重合性化合物9の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例9で合成した化合物(I−9)0.4g(0.956mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)0.70g(2.39mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.06g(0.48mmol)、及び、N−メチルピロリドン50mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 0.55g(2.87mmol)を加え、全容を25℃にて15時間攪拌した。反応終了後、反応液を水500mlに投入し、酢酸エチル150mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1(体積比))により精製し、白色固体として重合性化合物9を0.64g得た(収率:68.8%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,THF−d、TMS,δppm):10.84(s,1H)、8.24(d,2H,J=9.2Hz)、8.17(d,2H,J=8.7Hz)、8.06(s,1H)、7.85(d,2H,J=7.9Hz)、7.44(s,2H)、7.39(d,2H,J=8.2Hz)、7.23−7.31(m,4H)、7.07(d,2H,J=9.2Hz)、7.06(d,2H,J=8.7Hz)、6.32(d,2H,J=17.4Hz)、6.10(dd,2H,J=10.1Hz,17.4Hz)、5.77(d,2H,J=10.1Hz)、4.08−4.16(m,8H)、1.80−1.90(m,4H)、1.66−1.75(m,4H)、1.43−1.61(m,8H)
(製造例10) 重合性化合物10の合成
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例10で合成した化合物(I−10)0.3g(1.07mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)0.78g(2.68mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.07g(0.54mmol)、及び、N−メチルピロリドン50mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 0.62g(3.21mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水500mlに投入し、酢酸エチル150mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1(体積比))により精製し、黄色固体として重合性化合物10を336mg得た(収率:37.9%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl、TMS,δppm):10.56(s,1H)、8.65(s,1H)、8.34(d,1H,J=7.5Hz)、8.21(d,2H,J=9.0Hz)、8.19(d,2H,J=9.0Hz)、8.01(d,1H,J=2.5Hz)、7.85(s,1H)、7.66(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.62(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.51(d,1H,J=7.5Hz)、7.32(dd,1H,J=2.5Hz,8.5Hz)、7.28(d,1H,J=8.5Hz)、7.00(d,2H,J=9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.41(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.83(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.20(t,2H,J=6.5Hz)、4.19(t,2H,J=7.0Hz)、4.08(t,2H,J=6.5Hz)、4.07(t,2H,J=6.5Hz)、1.83−1.89(m,4H)、1.71−1.77(m,4H)、1.45−1.59(m,8H)
(製造例11) 重合性化合物11
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、参考例1で合成した化合物1r 3.0g(10.51mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)7.68g(26.29mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.64g(5.26mmol)、及び、N−メチルピロリドン200mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 6.05g(31.54mmol)を加え、全容を5℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水1リットルに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2(体積比))により精製し、淡黄色固体として重合性化合物11を5.1g得た(収率:58.2%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,DMSO−d,TMS,δppm):12.38(brs,1H)、8.16(s,1H)、7.89(d,2H,J=8.7Hz)、7.87(d,2H,J=8.7Hz)、7.67−7.74(m,3H)、7.51(d,1H,J=7.8Hz)、7.41(brs,1H)、7.26(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、7.07(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、6.95(d,2H,J=8.2Hz)、6.94(d,2H,J=8.2Hz)、6.27(dd,2H,J=1.4Hz,17.4Hz)、6.12(dd,2H,J=10.1Hz,17.4Hz)、5.87(dd,2H,J=1.4Hz,10.1Hz)、4.06(t,4H,J=6.6Hz)、3.96−4.00(m,4H)、1.64−1.69(m,4H)、1.55−1.62(m,4H)、1.33−1.42(m,8H)
(製造例12) 重合性化合物12
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、参考例2で合成した化合物2r 3.0g(10.51mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)7.68g(26.29mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 0.64g(5.26mmol)、及び、N−メチルピロリドン200mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 6.05g(31.54mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水1リットルに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2(体積比))により精製し、淡黄色固体として重合性化合物12を6.80g得た(収率:77.5%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,DMSO−d,TMS,δppm):12.23(brs,1H)、8.17(s,1H)、8.10(d,2H,J=8.7Hz)、8.04(d,2H,J=8.7Hz)、7.97(d,1H,8.7Hz)、7.67(d,1H,J=7.8Hz)、7.31−7.40(m,3H)、7.25(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、7.05−7.14(m,5H)、6.29(dd,2H,J=1.4Hz,17.4Hz)、6.14(dd,2H,J=10.6Hz,17.4Hz)、5.90(dd,2H,J=1.4Hz,10.6Hz)、4.09−4.10(m,8H)、1.68−1.78(m,4H)、1.57−1.65(m,4H)、1.35−1.47(m,8H)
(製造例13) 重合性化合物13
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例11で合成した化合物(I−11)1.90g(5.19mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)3.79g(13.0mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 318mg(2.60mmol)、及び、N−メチルピロリドン20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 2.98g(15.6mmol)を加え、全容を室温で16時間攪拌した。反応終了後、反応液を水300mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=95:5(体積比))により精製し、白色固体として重合性化合物13を1.92g得た(収率:40.4%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):8.19(d,4H,J=8.2Hz)、7.88(s,1H)、7.73(s,1H)、7.61(d,1H,J=7.8Hz)、7.60(d,1H,J=6.9Hz)、7.27−7.33(m,3H)、7.13(dd,1H,J=7.3、7.8Hz)、7.03(d,2H,J=8.7Hz)、6.99(d,2H,J=9.2Hz)、6.41(dd,2H,J=1.4Hz,17.4Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.4Hz)、5.82(dd,2H,J=1.4Hz,10.5Hz)、4.27(t,2H,J=6.9Hz)、4.19(t,2H,J=6.6Hz)、4.18(t,2H,J=6.6Hz)、4.08(t,2H,J=6.0Hz)、4.07(t,2H,J=6.4Hz)、2.30(t,2H,J=7.1Hz)、1.82−1.89(m,4H)、1.70−1.78(m,6H)、1.45−1.60(m,10H)
(製造例14) 重合性化合物14
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例12で合成した化合物(I−12)575mg(1.45mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)1.06g(3.64mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 88.6mg(0.73mmol)、及び、N−メチルピロリドン10mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 834mg(4.35mmol)を加え、全容を室温で16時間攪拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=95:5(体積比))により精製し、白色固体として重合性化合物14を1.13g得た(収率:82.6%)。 目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl、TMS,δppm):8.20(d,2H,J=8.5Hz)、8.18(d,2H,J=8.5Hz)、7.90(d,1H,J=2.9Hz)、7.75(s,1H)、7.62−7.66(m,2H)、7.27−7.34(m,3H)、7.15(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.01(d,4H,J=8.5Hz)、6.41(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.14(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.83(d,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.28(t,2H,J=7.0Hz)、4.194(t,2H,J=6.5Hz)、4.191(t,2H,J=6.5Hz)、4.08(t,2H,J=6.5Hz)、4.07(t,2H,J=6.5Hz)、2.01−2.12(m,2H)、1.83(t,6H)、1.71−1.77(m,4H)1.45−1.59(m,8H)
(製造例15) 重合性化合物15
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例13で合成した化合物(I−13)560mg(1.65mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)1.21g(4.13mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン100.8mg(0.825mmol)、及び、N−メチルピロリドン20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 948mg(4.95mmol)を加え、全容を室温で16時間攪拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル250mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10(体積比))により精製し、白色固体として重合性化合物15を1.09g得た(収率:74.4%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl、TMS,δppm):8.21(d,2H,J=9.0Hz)、8.19(d,2H,J=9.0Hz)、7.90(d,1H,J=2.0Hz)、7.80(s,1H)、7.64(d,1H,J=7.3Hz)、7.63(d,1H,J=8.0Hz)、7.28−7.33(m,3H)、7.13(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz)、7.01(d,4H,J=9.0Hz)、6.42(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.14(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.83(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.62−5.70(m,1H)、4.86−4.90(m,2H)、4.26(t,2H,J=7.0Hz)、4.20(t,4H,J=6.5Hz)4.080(t,2H,J=6.0Hz)、4.076(t,2H,J=6.0Hz)2.39(dt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)、1.84−1.90(m,4H)、1.72−1.77(m,4H)、1.46−1.59(m,8H)
(製造例16) 重合性化合物16
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流下中、実施例14で合成した化合物(I−14)1.36g(3.83mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)2.80g(9.58mmol)、4−ジメチルアミノピリジン234mg(1.92mmol)を、及び、N−メチルピロリドン20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 2.20g(11.5mmol)を加え、全容を室温で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無水硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10(体積比))により精製し、白色固体として重合性化合物16を1.61g得た(収率:46.5%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.21(d,2H,J=9.0Hz)、8.19(d,2H,J=9.0Hz)、7.90(s,1H)、7.76(s,1H)、7.61−7.64(m,2H)、7.30(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.24−7.27(m,2H)、7.12(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.01(d,2H,J=9.0Hz)、7.00(d,2H,J=9.0Hz)、6.42(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.14(dd,2H,J=10.5Hz,17、5Hz)、5、83(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18−4.22(m,6H)、4.08(t,2H,J=6.5Hz)、4.07(t,2H,J=6.5Hz)、1.84−1.89(m,4H)、1.70−1.77(m,4H)、1.48−1.59(m,11H)、0.78(d,6H,J=6.0Hz)
(製造例17) 重合性化合物17
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例15で合成した化合物(I−15)2.00g(5.42mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)3.83g(13.1mmol)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 320mg(2.62mmol)、及び、N−メチルピロリドン20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 3.01g(15.7mmol)を加え、全容を室温で16時間攪拌した。反応終了後、反応液を水300mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=95:5(体積比))により精製し、白色固体として重合性化合物17を2.68g得た(収率:55.0%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.20(d,2H,J=8.7Hz)、8.18(d,2H,J=8.7Hz)、7.89(d,1H,J=2.9Hz)、7.76(s,1H)、7.61(d,2H,J=8.2Hz)、7.24−7.30(m,3H)、7.11(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz)、7.00(d,4H,J=8.7Hz)、6.41(d,2H,J=17.4Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.4Hz)、5.82(d,2H,J=10.5Hz)、4.19(t,4H,J=6.4Hz)、4.04−4.08(m,6H)、1.82−1.89(m,4H)、1.70−1.77(m,5H)、1.48−1.59(m,13H)、0.96−1.03(m,5H)
(製造例18) 重合性化合物18
Figure 2013046781
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流下中、実施例16で合成した化合物(I−16)685mg(1.73mmol)、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)1.27g(4.33mmol)、4−ジメチルアミノピリジン106mg(0.865mmol)、及び、N−メチルピロリドン10mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、WSC 995mg(5.19mmol)を加え、全容を室温で18時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無水硫酸ナトリウムをろ別した。得られたろ液から、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10(体積比))により精製し、白色固体として重合性化合物18を1.17g得た(収率:73.8%)。
目的物の構造はH−NMRで同定した。
H−NMRスペクトルデータを下記に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.28(s,1H)、8.21(d,2H,J=9.0Hz)、8.20(d,2H,J=9.0Hz)、7.87(d,1H,J=2.5Hz)、7.62(d,1H,J=7.5Hz)、7.56(d,1H,J=8.0Hz)、7.31(d,1H,J=8.5Hz)、7.25−7.29(m,2H)、7.11(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.012(d,2H,J=9.0Hz)、7.008(d,2H,J=9.0Hz)、6.41(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17、5Hz)、5、83(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.74(tt,1H,J=4.0Hz,12.5Hz)、4.19(t,4H,J=7.0Hz)、4.08(t,2H,J=6.5Hz)、4.07(t,2H,J=6.5Hz)、2.14−2.22(m,2H)、1.84−1.89(m,6H)、1.71−1.77(m,6H)、1.44−1.59(m,9H)、1.26−1.34(m,2H)、0.72−0.80(m,1H)
製造例1〜18で得た重合性化合物1〜18のそれぞれにつき、下記に示すように、相転移温度の評価、位相差の測定、波長分散の評価を行った。
〈相転移温度の測定〉
重合性化合物1〜18をそれぞれ10mg計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板2枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、50℃から200℃まで昇温した後、再び50℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏向光学顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE LV100POL型)で観察した。
測定した相転移温度を下記表2に示す。
表2中、「C」はCrystal、「N」はNematic、「I」はIsotropicをそれぞれ表す。ここで、Crystalとは、試験化合物が固相にあることを、Nematicとは、試験化合物がネマチック液晶相にあることを、Isotropicとは、試験化合物が等方性液体相にあることを、それぞれ示す。
Figure 2013046781
Figure 2013046781
表2より、実施例1〜16で得られた化合物(I−1)〜(I−16)を用いて製造した製造例1〜10、13〜18の重合性化合物1〜10、13〜18は液晶性を示すが、参考例1r、2rで得られた化合物1r、2rを用いて製造した重合性化合物11、12は、液晶性を示さないことがわかる。
〈波長分散の測定〉
(1)重合性組成物の調製
製造例1〜18で得られた重合性化合物1〜18のそれぞれを1g、光重合開始剤として、アデカオプトマーN−1919(ADEKA社製)を30mg、界面活性剤として、KH−40(AGCセイミケミカル社製)の1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物1〜18をそれぞれ得た。
(2)位相差の測定と波長分散の評価
(i)配向膜を有する透明樹脂基材の作製
厚み100μmの、脂環式オレフィンポリマーからなるフィルム(日本ゼオン社製、ゼオノアフィルムZF16−100)の両面をコロナ放電処理した。5%のポリビニルアルコールの水溶液を当該フィルムの片面に♯2のワイヤーバーを使用して塗布し、塗膜を乾燥し、膜厚0.1μmの配向膜を形成した。次いで当該配向膜をラビング処理し、配向膜を有する透明樹脂基材を作製した。
(ii)重合性組成物による液晶層の形成
得られた配向膜を有する透明樹脂基材の、配向膜を有する面に、重合性組成物1〜18を、♯4のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を下記表3に示す乾燥温度で30秒間乾燥した後、表3に示す配向処理温度で1分間配向処理して、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cmの紫外線を照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
(iii)位相差の測定
得られた試料につき、400nmから800nm間の位相差を、エリプソメーター(J.A.Woollam社製、XLS−100型)を用いて測定した。
(iv)波長分散の評価
測定した位相差を用いて以下のように算出されるα、β値から波長分散を評価した。
Figure 2013046781
広帯域性を示す理想的な波長分散性、即ち逆波長分散性を示す場合、αは1より小となり、βは1より大となる。フラットな波長分散を有している場合、αとβは同程度の値となる。一般的な通常分散を有している場合、αは1より大となり、βは1より小となる。
即ち、αとβが同程度の値となるフラットな波長分散性が好ましく、αが1より小となり、βが1より大となる逆波長分散性が特に好ましい。
塗膜の乾燥温度、配向処理温度、重合性組成物1〜18を重合して得られた液晶性高分子膜の膜厚(μm)、波長548.5nmにおける位相差(Re)、α、βの値を、下記表3にまとめて示す。
Figure 2013046781

Claims (7)

  1. 下記式(I)
    Figure 2013046781
    (式中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表し、
    は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。また、AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。
    Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。)で示される化合物。
  2. とAに含まれる芳香環π電子の総数が24以下である請求項1に記載の化合物。
  3. Qが水素原子である請求項1又は2に記載の化合物。
  4. が、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基である請求項1〜3のいずれかに記載の化合物。
  5. 下記式(II)
    Figure 2013046781
    (式中、Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。)
    で表されるカルボニル化合物と、下記式(III)
    Figure 2013046781
    (式中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表し、
    は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜18のアルケニル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。また、AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。)
    で表されるヒドラジン化合物とを、溶媒中で反応させることを特徴とする、下記式(I)
    Figure 2013046781
    (式中、Q、A、Aは前記と同じ意味を表す。)
    で表されるヒドラゾン化合物の製造方法。
  6. 前記溶媒が、アルコール系溶媒である請求項5に記載のヒドラゾン化合物の製造方法。
  7. 前記アルコール系溶媒が、炭素数1〜4のアルコール系溶媒である請求項6に記載のヒドラゾン化合物の製造方法。
JP2013535962A 2011-09-27 2012-04-27 重合性化合物の製造中間体及びその製造方法 Active JP6123673B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011211581 2011-09-27
JP2011211581 2011-09-27
JP2012039648 2012-02-27
JP2012039648 2012-02-27
PCT/JP2012/061323 WO2013046781A1 (ja) 2011-09-27 2012-04-27 重合性化合物の製造中間体及びその製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017076306A Division JP6414266B2 (ja) 2011-09-27 2017-04-06 光学フィルム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2013046781A1 true JPWO2013046781A1 (ja) 2015-03-26
JP6123673B2 JP6123673B2 (ja) 2017-05-10

Family

ID=47994848

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013535962A Active JP6123673B2 (ja) 2011-09-27 2012-04-27 重合性化合物の製造中間体及びその製造方法
JP2017076306A Active JP6414266B2 (ja) 2011-09-27 2017-04-06 光学フィルム
JP2018188308A Active JP6844597B2 (ja) 2011-09-27 2018-10-03 重合性化合物を製造する製造方法

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017076306A Active JP6414266B2 (ja) 2011-09-27 2017-04-06 光学フィルム
JP2018188308A Active JP6844597B2 (ja) 2011-09-27 2018-10-03 重合性化合物を製造する製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9447059B2 (ja)
EP (1) EP2762465B1 (ja)
JP (3) JP6123673B2 (ja)
KR (3) KR20200024367A (ja)
CN (1) CN103842334B (ja)
WO (1) WO2013046781A1 (ja)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103459438B (zh) * 2011-04-15 2015-09-23 日本瑞翁株式会社 可聚合性化合物、可聚合性组合物、高分子及光学各向异性体
CN103842334B (zh) * 2011-09-27 2016-06-29 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物的制备中间体及其制备方法
WO2013146633A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 日本ゼオン株式会社 位相差フィルム積層体およびその製造方法、ならびに液晶表示装置
JP5880226B2 (ja) * 2012-04-03 2016-03-08 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
EP2871192B1 (en) * 2012-07-09 2018-06-20 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, optically anisotropic body, and method for producing polymerizable compound
KR102128555B1 (ko) * 2012-10-19 2020-06-30 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
EP2913349B1 (en) 2012-10-23 2019-06-19 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optical anistropic body
KR102315630B1 (ko) * 2013-10-31 2021-10-20 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
JP2016190828A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
JP6618699B2 (ja) * 2015-03-31 2019-12-11 日本ゼオン株式会社 1,1−ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法
CN108290850A (zh) 2015-12-07 2018-07-17 Dic株式会社 聚合性化合物的制造方法
KR102392614B1 (ko) 2016-03-30 2022-04-29 디아이씨 가부시끼가이샤 2-히드라지노벤조티아졸 유도체의 제조 방법
CN109996780A (zh) * 2016-11-22 2019-07-09 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子、光学膜、光学各向异性体、偏振片、平板显示装置、有机电致发光显示装置、防反射膜和化合物
US20200031786A1 (en) 2017-03-17 2020-01-30 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable liquid crystal mixture, polymer, optical film, optically anisotropic body, polarizing plate, display device, antireflection film, and compound
EP3604361A1 (en) 2017-03-23 2020-02-05 Zeon Corporation Polymerizable compound and production method therefor, polymerizable composition, polymer, optical film, optically anisotropic object, polarizer, display device, antireflection film, and compound and use thereof
CN111655672B (zh) * 2018-02-05 2023-05-12 日本瑞翁株式会社 1,1-二取代肼化合物的制造方法及聚合性化合物的制造方法
JP7172504B2 (ja) * 2018-11-28 2022-11-16 大日本印刷株式会社 重合性組成物、重合体、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、転写用積層体、光学部材、光学部材の製造方法及び表示装置
JP7155957B2 (ja) * 2018-11-30 2022-10-19 大日本印刷株式会社 位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
JP7192514B2 (ja) * 2019-01-18 2022-12-20 大日本印刷株式会社 重合性組成物、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
KR102279138B1 (ko) * 2020-11-02 2021-07-20 주식회사 에이드림 현무암 분말을 포함하는 콘크리트 구조물의 보수재 조성물 및 콘크리트 구조물의 보수공법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993022361A1 (en) * 1992-05-01 1993-11-11 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Ester polymer, production thereof, and electrophotographic photoreceptor made therefrom
JP2003527375A (ja) * 2000-03-13 2003-09-16 オリオン コーポレーション うっ血性心不全に対して有用なピリダジニルフェニルヒドラゾン
JP2010194518A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Hitachi Zosen Corp アンモニア分解触媒

Family Cites Families (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE561091A (ja) *
GB8430072D0 (en) * 1984-11-28 1985-01-09 Lilly Industries Ltd Pharmaceutical compounds
US5208299A (en) * 1992-04-10 1993-05-04 The Dow Chemical Company Nonlinear optical arylhydrazones and nonlinear optical polymers thereof
JP3222255B2 (ja) * 1993-03-12 2001-10-22 出光興産株式会社 ポリカーボネート系重合体とその製造法及びこれを用いた電子写真感光体
DE4230262A1 (de) * 1992-09-10 1994-03-17 Behringwerke Ag Substituierte Phenole, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zur Behandlung von zellproliferationsbedingten Erkrankungen
JP3497199B2 (ja) * 1993-03-12 2004-02-16 出光興産株式会社 ヒドラゾン誘導体及びこれを用いた電子写真感光体
JP3615538B2 (ja) * 1993-09-10 2005-02-02 日本化薬株式会社 偏光素子、偏光板およびその製造方法
EP1275988A3 (en) * 1993-09-10 2006-03-22 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Polarizing element, and polarizing plate
US5567349A (en) 1994-03-30 1996-10-22 Hoffmann-La Roche Inc. Photo cross-linkable liquid crystals
US6139771A (en) 1997-04-04 2000-10-31 Displaytech, Inc. Mesogenic materials with anomalous birefringence dispersion and high second order susceptibility (X.sup.(2)).
JPH1090521A (ja) 1996-07-24 1998-04-10 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光軸回転積層位相差板およびこれを用いた投射型液晶表示装置
JPH1068816A (ja) 1996-08-29 1998-03-10 Sharp Corp 位相差板及び円偏光板
JPH1152131A (ja) 1997-08-01 1999-02-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd 位相差板及びそれを用いた偏光素子
EP1045261B1 (en) 1998-10-30 2005-02-02 Teijin Limited Phase difference film and optical device using it
JP3734211B2 (ja) 1999-01-27 2006-01-11 富士写真フイルム株式会社 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置
US6400433B1 (en) 1998-11-06 2002-06-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Circularly polarizing plate comprising linearly polarizing membrane and quarter wave plate
DE19855757A1 (de) 1998-12-03 2000-06-21 Merck Patent Gmbh Querverbrückte Cyclohexan-Derivate und flüssigkristallines Medium
JP2001004837A (ja) 1999-06-22 2001-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板および円偏光板
JP4666742B2 (ja) * 1999-12-14 2011-04-06 株式会社林原生物化学研究所 光吸収材とその用途
JP4320125B2 (ja) 2001-03-06 2009-08-26 富士フイルム株式会社 位相差膜
JP4929546B2 (ja) * 2001-08-20 2012-05-09 Dic株式会社 重合性液晶組成物及びこれを用いた光学異方体
JP4074155B2 (ja) 2001-09-17 2008-04-09 富士フイルム株式会社 四員環化合物、それを用いた複屈折媒体および光学部材
JP2005208414A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP2005208415A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP2005208416A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP4606195B2 (ja) 2004-03-08 2011-01-05 富士フイルム株式会社 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板
JP2005336103A (ja) 2004-05-27 2005-12-08 Fuji Photo Film Co Ltd フェニルヒドラジン類の製造方法
TWI390023B (zh) 2004-11-11 2013-03-21 Sumitomo Chemical Co 光學薄膜
JP5088769B2 (ja) 2005-04-28 2012-12-05 住友化学株式会社 フィルム及びその製造方法
KR20080012841A (ko) 2005-04-28 2008-02-12 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 필름 및 이의 제조 방법
WO2008102838A1 (ja) * 2007-02-23 2008-08-28 Zeon Corporation 液晶性化合物、液晶性組成物、光学フィルムおよび光学積層体
EP2143710B1 (en) * 2007-04-24 2014-07-09 Zeon Corporation Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal composition, liquid crystalline polymer, and optically anisotropic material
JP5401822B2 (ja) * 2007-04-24 2014-01-29 日本ゼオン株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体
CN101796163B (zh) 2007-09-03 2014-06-18 默克专利股份有限公司 棒状介晶化合物
CN103254083B (zh) 2007-09-03 2016-02-03 默克专利股份有限公司 芴衍生物
JP5391682B2 (ja) 2007-12-28 2014-01-15 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
CN101470212B (zh) * 2007-12-28 2014-10-22 住友化学株式会社 光学膜
JP5373293B2 (ja) 2008-01-29 2013-12-18 富士フイルム株式会社 化合物、液晶組成物及び異方性材料
JP5564773B2 (ja) 2008-09-19 2014-08-06 日本ゼオン株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子及び光学異方体
US20110306489A1 (en) 2009-02-27 2011-12-15 Hitachi Zosen Corporation Ammonia decomposition catalyst
JP2011006360A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP5453956B2 (ja) 2009-06-26 2014-03-26 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2011042606A (ja) 2009-08-20 2011-03-03 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
EP2287149A1 (en) 2009-08-20 2011-02-23 Max-Delbrück-Centrum Für Molekulare Medizin Enhancers of protein degradation
JP2011099525A (ja) 2009-11-06 2011-05-19 Toyota Motor Corp 変速機のパーキング装置
KR20110020883A (ko) 2011-01-18 2011-03-03 원광밸브주식회사 밸브의 부식 방지 방법
CN103842334B (zh) * 2011-09-27 2016-06-29 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物的制备中间体及其制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993022361A1 (en) * 1992-05-01 1993-11-11 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Ester polymer, production thereof, and electrophotographic photoreceptor made therefrom
JP2003527375A (ja) * 2000-03-13 2003-09-16 オリオン コーポレーション うっ血性心不全に対して有用なピリダジニルフェニルヒドラゾン
JP2010194518A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Hitachi Zosen Corp アンモニア分解触媒

Non-Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6012028114; XIE et al.: 'Study on tumor chemotherapeutic agents: synthesis of 9-hydrazinoacridine derivatives' Yaoxue Xuebao Vol. 19, 1984, P. 466-470 *
JPN6012028121; ALANG et al.: 'Synthesis and antibacterial activity of some new benzothiazole derivatives' Acta Pharmaceutica Sciencia Vol. 52, P. 213-218, 2010 *
JPN6012028123; SHARMA et al.: 'Computer aided drug design of 2-substituted hydrazino-6-fluoro-1,3-benzothiazoles as anti-microbial' Journal of Pharmacy Research Vol. 3, P. 969-970, 2010 *
JPN6016002829; Julija Volmajer et al.: 'Synthesis of new iminocoumarins and their transformations into N-chloro and hydrazono compounds' Tetrahedron Vol.61, 2005, PP.7012-7021 *
JPN6016002830; G. Ruffini et al.: 'Thin-layer chromatography of 2,4-dintitrophenylhydrazones of aromatic aldehydes and ketones' Journal of Chromatography A Vol.17, 1965, PP483-487 *
JPN6016002831; Mark Cushman et al.: 'Synthesis and evaluation of new protein-tyrosine kinase inhibitors. Part 2. Phenylhydrazones.' Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters Vol.1, 1991, PP.215-218 *
JPN7016001717; REGISTRY [STN online] , 20050815 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP6414266B2 (ja) 2018-10-31
JP6123673B2 (ja) 2017-05-10
EP2762465B1 (en) 2018-01-10
US9447059B2 (en) 2016-09-20
KR102085198B1 (ko) 2020-03-05
US20140235857A1 (en) 2014-08-21
KR20190026040A (ko) 2019-03-12
CN103842334A (zh) 2014-06-04
JP2019032548A (ja) 2019-02-28
JP2017120448A (ja) 2017-07-06
EP2762465A4 (en) 2015-03-04
KR20140068960A (ko) 2014-06-09
WO2013046781A1 (ja) 2013-04-04
KR20200024367A (ko) 2020-03-06
JP6844597B2 (ja) 2021-03-17
CN103842334B (zh) 2016-06-29
KR101954702B1 (ko) 2019-03-06
EP2762465A1 (en) 2014-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6414266B2 (ja) 光学フィルム
US11091452B2 (en) Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, optically anisotropic body, and method for producing polymerizable compound
JP6183514B2 (ja) 光学フィルム
WO2013018526A1 (ja) 光学異方体の波長分散調整方法及び重合性組成物
WO2013180217A1 (ja) 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2014061709A1 (ja) 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
JP2016190828A (ja) 重合性化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160401

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160628

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20160711

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160825

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161115

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170112

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170307

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170320

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6123673

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250