JPWO2012132653A1 - 金属部材へのマーキング方法 - Google Patents

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Abstract

視認性が良好に確保されるとともに、マーキング対象物における耐腐食性が確保された、プレス加工金属部品へのマーキング方法を提供する。金属部材へのマーキング方法が、マーキング対象領域を含む下地処理対象領域にレーザー光を第1照射条件で照射する下地処理工程と、マーキング対象領域にレーザー光を第2照射条件で照射することによりマーキングパターンを形成するマーキング工程と、を備え、第1照射条件において第2照射条件よりもレーザー光の投入エネルギーを小さくすることにより、マーキングパターンと非照射領域との間に、非照射領域よりも残留応力が大きくマーキングパターンよりも残留応力が小さい下地領域を設ける、ようにすることで、視認性を確保する。さらに、熱処理して硬度を高めた金属部材を用いることで、耐腐食性を確保する。

Description

本発明は、金属部材に対してマーキングを行う技術、特にプレス加工された金属部材に対しレーザー光によりマーキングを行う技術に関する。
自動車搭載用(以下、車載用)の金属部品(例えばガスセンサの外装カバーなど)には、一般に、ステンレス鋼が用いられる(例えば、特許文献1および特許文献2参照)。特許文献1には、酸素センサをはじめとする自動車用部品などに使用される、冷間加工性に優れたフェライト系ステンレス鋼が、開示されている。特許文献2には、自動車用センサに用いる金具を、フェライト系ステンレス鋼の鍛造成形によって作製する方法が開示されている。
また、工業上量産される種々の部品には、その製造工程において、一般に、メーカー名、国名、製品型式やロット番号、固体識別用番号などの製品識別情報がマーキング(印字)される。これは、後工程や、市場に出回った後におけるトレーサビリティを確保するためである。係るマーキングの一手法として、レーザー光を照射してマーキングを行う技術がある。液晶用のガラス基板の表面にレーザー光を照射してアブレーションによる凹部を形成する技術が既に公知である(例えば、特許文献3参照)。また、セラミック製の電子デバイスの表面に薄膜金属層からなるマーキング層を設け、該マーキング層にレーザー光によって凹部を形成することでマーキングする技術も公知である(例えば、特許文献4参照)。
NOxセンサや酸素センサなどの車載用ガスセンサは、通常、素子本体部分をその保護部材である外装カバー(保護カバー)で被覆した構成を有し、自動車のエンジンから排出される排気ガスの配管経路内にその一部を突出させた状態で使用される。外装カバーは、硬度を確保するべく熱処理がなされたステンレス鋼を材料として、プレス加工によって作製される。
係る外装カバーに対しても、上述したような目的で、レーザー光による製品識別情報のマーキングは行われる。係るマーキングは、車載用ガスセンサが市場で使用された後においても、製品識別情報が明瞭に視認されるように行われる必要がある。しかしながら、特許文献3に開示されているような、レーザー光を照射して凹部を形成するという比較的単純なマーキング手法を適用した場合、マーキング後の外装カバーには、耐腐食性が弱く、応力腐食割れが生じやすいという問題がある。具体的には、マーキング後の外装カバーを塩化マグネシウム水溶液に浸漬することによって行う応力腐食割れ試験において、マーキング部分を起点とする応力腐食割れが発生しやすいことが、本発明の発明者によって確認されている。これは、プレス加工(深絞り加工)によって作製されることで、もともとある程度の凹凸が存在する外装カバーの表面に、視認性のあるマーキングパターンを設けようとして、表面凹凸に比してより深い凹部が形成されるよう強度の大きなレーザー光を照射した結果、レーザー光の被照射領域(マーキング領域)と周囲との残留応力差(あるいは残留応力勾配)が大きくなることが原因であると考えられる。なお、ここでいう視認性とは、概略、観察者が対象部分を肉眼視した場合において、対象部分とその周囲とを明確に判別することができ、対象部分が与える視覚的情報を容易に認識可能であることを意味するものとする。
一方で、耐腐食性が確保される範囲にレーザー光の強度を抑制すると、マーキングの視認性を十分に得ることは難しい。結果として、特許文献3に開示されているような手法を、上述の外装カバーのように加工が施されることである程度の凹凸のある金属部品に適用したとしても、耐腐食性を確保しつつ製品識別情報の視認性を十分に得ることは難しかった。
また、特許文献4に開示された手法は、視認性は確保されるものの、デバイスそのものには本来不要な薄膜金属層を付着させる必要があるため、工程が煩雑となり、コスト高の要因となる。また、金属部材に同様の手法を適用しても、視認性を確保することは困難である。
特開2001−200345号公報 特開2002−316236号公報 特開平11−033752号公報 特開2003−197402号公報
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、マーキング対象物における耐腐食性が確保されたマーキング方法を提供することを目的とする。また、視認性が良好に確保される金属部材へのマーキング方法を提供することを第2の目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の第1の態様では、金属部材に対してレーザーマーキングを行う方法が、前記金属部材のマーキング対象面のマーキング対象領域を含む下地処理対象領域にレーザー光を第1照射条件で照射する下地処理工程と、前記マーキング対象領域に前記レーザー光を第2照射条件で照射することによりマーキングパターンを形成するマーキング工程と、を備え、前記第1照射条件における前記レーザー光の投入エネルギーを前記第2照射条件における前記レーザー光の投入エネルギーよりも小さくすることにより、前記マーキングパターンと前記レーザー光が照射されていない非照射領域との間に、前記非照射領域よりも残留応力が大きく前記マーキングパターンよりも残留応力が小さい下地領域を設けるようにした。
本発明の第2の態様では、第1の態様に係るレーザーマーキング方法において、前記下地領域の表面粗さが、前記非照射領域および前記マーキングパターンの表面粗さよりも小さいようにした。
本発明の第3の態様では、第2の態様に係るレーザーマーキング方法において、前記マーキング対象面の表面粗さが0.01μm以上1.0μm以下であるようにした。
本発明の第4の態様では、第1ないし第3のいずれかの態様に係るレーザーマーキング方法において、前記金属部材がステンレス鋼であり、かつ、300Hv以上の硬度を有するようにした。
本発明の第5の態様では、第4の態様に係るレーザーマーキング方法において、前記金属部材が、前記下地処理工程に先立って硬度を高めるための熱処理が施されたものであるようにした。
本発明の第6の態様では、第1ないし第5のいずれかの態様に係るレーザーマーキング方法において、前記レーザー光の照射を、所定のレーザー光出射源を前記マーキング対象面に対して相対移動させることにより行い、前記第1照射条件における前記レーザー光の走査速度を前記第2照射条件における前記レーザーの走査速度よりも大きくすることにより前記下地領域を設けるようにした。
本発明の第1ないし第6の態様によれば、マーキングパターンと非照射領域との間に、非照射領域よりも残留応力が大きくマーキングパターンよりも残留応力が小さい下地領域が設けられることで、下地領域あるいはマーキングパターンを起点とする応力腐食割れの発生が抑制される。
また、本発明の第2および第3の態様によれば、表面粗さの小さい下地領域が設けられることで、マーキングパターンとその周囲の下地領域との間に凹凸差が与えられ、かつ、下地領域とその周囲の非照射領域との間、および、マーキングパターンとその周囲の下地領域との間の双方において、表面粗さに差異が与えられている。これらによって、マーキングパターンの視認性が確保される。
また、本発明の第4または第5の態様によれば、マーキングパターンとその周囲の下地領域との間の残留応力差、および、下地領域とその周囲の非照射領域との間の残留応力差が、従来手法におけるマーキングパターンとその周囲との残留応力差に比して、充分に小さくなる金属部材に対してマーキングを行うので、下地領域あるいはマーキングパターンを起点とする応力腐食割れがより確実に抑制されてなる。
また、本発明の第6の態様によれば、レーザー光の出射源からの照射状態自体を変更することなく、機械的な動作制御のみで、下地処理とマーキング処理とを切り替えることができるので、両者の切り替えを容易に行える。
レーザー光を用いたマーキング処理の様子を概略的に示す図である。 本実施の形態において行うマーキング処理の開始から終了までの様子を示す図である。 本実施の形態において行うマーキング処理の開始から終了までの様子を示す図である。 本実施の形態において行うマーキング処理の開始から終了までの様子を示す図である。 本実施の形態において行うマーキング処理の開始から終了までの様子を示す図である。 本実施の形態において行うマーキング処理の開始から終了までの様子を示す図である。 金属部材Mの各部位における表面位置の平均高さと表面粗さとの相対的な大小関係を、従来の場合とともに模式的に示す図である。 金属部材Mの各部位における残留応力の相対的な大小関係を、従来の場合とともに模式的に示す図である。 変形例に係る金属部材Mの各部位における表面位置の平均高さと表面粗さとの相対的な大小関係を、従来の場合とともに模式的に示す図である。 本実施の形態に係るマーキング処理の対象の一例としてのガスセンサ100の本体部1の外観斜視図である。 センサ本体部1の要部の内部構成を示す断面図である。 下地領域RE3を形成したうえでマーキングパターンMPをマーキングした場合のマーキングパターンMP近傍の光学顕微鏡像である。 下地領域RE3を形成したうえでマーキングパターンMPをマーキングした場合のマーキングパターンMP近傍の光学顕微鏡像である。 下地処理を行うことなくマーキングパターンMPをマーキングした場合の光学顕微鏡像と、その撮像内容を説明する図である。
<マーキングの原理>
図1は、レーザー光を用いたマーキング処理の様子を概略的に示す図である。本実施の形態におけるマーキング処理とは、図1に示すように、金属部材(母材とも称する)Mのマーキング対象面M1に対して出射源Sから出射したレーザー光LBを照射し、該レーザー光LBを所定の走査方向DRへと走査することによって、マーキング対象面M1に線状の加工変質領域あるいは凹部である加工線Lを形成する処理を、所定のマーキングパターン(例えば文字など)に応じて行う加工処理のことをいう。これにより、マーキング対象面M1にマーキングパターンが形成される。
金属部材Mとしては、ステンレス鋼や圧延鋼板、アルミニウム合金、チタン合金、マグネシウム合金などが好適である。なお、本実施の形態においては、特に断らない限り、金属部材Mのマーキング対象面M1に表面粗さ値が0.01μm以上1.0μm以下程度の凹凸が形成されているものとする。例えば、所定の硬度を確保するために500℃〜600℃の温度で熱処理されたうえで深絞りなどのプレス加工が施された後のステンレス鋼の加工表面などが、上記の表面粗さの範囲をみたす。ただし、このことは、表面粗さの値が上記範囲外である金属部材Mに対して本実施の形態に係るレーザーマーキング手法を適用することを除外するものではない。マーキング対象面M1における表面凹凸の程度が、金属部材Mの使用に支障のない範囲であれば、本実施の形態に係るレーザーマーキング手法が適用されてよい。また、表面粗さ値は算術平均粗さ(Ra)で表すものとするが、二乗平均粗さ(RMS)その他の表面粗さ指標を用いて表す態様であってもよい。その場合、ある要件をみたすための表面粗さ値の範囲も、その指標に応じて設定されればよい。
レーザー光LBとしては、波長が0.2μm〜10μm程度のものを用いればよい。例えば、Nd:YAGレーザー、Nd:YVOレーザー、紫外線レーザー、ファイバーレーザーなどを用いることができる。具体的には、出射源Sが、それらのレーザーを発するレーザー発振器と、レーザー光LBのビーム形状などを調製するための光学系などを備えていればよい。
図2ないし図6は、それぞれ、本実施の形態において行うマーキング処理の開始から終了までの様子を示す図である。
まず、図2に示すように、金属部材Mのマーキング対象面M1に、マーキング対象領域RE1を設定する。マーキング対象領域RE1は、マーキングを行おうとする領域、具体的には、マーキングのためにレーザー光が照射されることになる領域である。図2ないし図6に示す例では、「A」なる文字が5つ隣り合って印字されるように、マーキング対象領域RE1が設定されているとする。
また、本実施の形態では、マーキング対象領域RE1の設定に併せて、下地処理対象領域RE2を設定する。下地処理対象領域RE2は、マーキング対象面M1において、マーキング対象領域RE1を全て包含するように設定する。なお、図6においては、下地処理対象領域RE2を矩形状に設定しているが、マーキング対象領域RE1の全てが包含される限りにおいて、他の形状にて設定するようにしてもよい。ただし、後述する予備照射処理を鑑みると、下地処理対象領域RE2は、レーザー光の高速走査が行いやすい形状に設定されるのが好ましい。この点では、下地処理対象領域RE2を矩形状に設定するのがより好適である。
次に、設定された下地処理対象領域RE2全体に対して、下地処理を行う。下地処理は、後述するマーキング処理を行う際のレーザー光LBの照射条件(以下、本照射条件)に比して、金属部材Mに与えるエネルギー(投入エネルギー)が小さくなる照射条件(下地処理照射条件)にて、レーザー光LBを下地処理対象領域RE2に対して照射する加工処理である。下地処理は、マーキング対象領域RE1を含めて行う。
下地処理にあたっては、図3に示すように、まず、ある下地処理照射条件のもとで、出射源Sを金属部材Mに対して矢印AR1の方向へと相対移動させつつ該出射源Sからレーザー光LBを下地処理対象領域RE2に対し照射することによって、レーザー光LBによる矢印AR1の方向への走査を行い、その走査軌跡に沿った加工線Lを形成する。その後、該加工線Lに隣り合う位置において出射源Sの移動方向を反転させて矢印AR2の方向へとレーザー光LBを走査させる。これらを、下地処理対象領域RE2の全体が加工されるまで順次に繰り返すことで、図4に示すように、下地処理対象領域RE2に下地領域RE3が形成される。なお、図3では往復走査を行うようにしているが、レーザー光を照射しながらの出射源Sの相対移動は、一方向にのみ行われる態様であってもよい。これは、後述するマーキング処理の場合も同様である。
出射源Sの金属部材Mに対する相対移動は、金属部材Mを固定し、出射源Sを移動させることによって行ってもよいし、出射源Sを固定し、金属部材Mを(より具体的には金属部材Mを載置固定してなる固定部材を)移動させるようにしてもよい。これは、後述するマーキング処理についても同様である。
下地処理照射条件の設定の仕方としては、出射源Sからのレーザー光LBの出射条件(例えば、ピークパワーなど)は本照射条件と同じとする一方で、レーザー光LBの走査速度(出射源Sの移動速度)を本照射条件よりも大きくするのが、好適である。係る場合、単位領域あたりのレーザー光LBの照射時間が小さくなるので、当該単位領域における投入エネルギーが小さくなるからである。また、通常、走査速度の変更は、機械的な動作制御のみで実行でき、出射源Sからのレーザー光LBの照射状態自体を変更する必要がないことから、その実行が容易であるという利点もある。より具体的には、マーキング処理における走査速度の上限のおおよそ3倍〜6倍程度の走査速度にてレーザー光LBを照射するのが好適である。ただし、下地処理自体が好適に行える範囲で走査速度を設定する必要がある。
下地処理ではレーザー光LBの投入エネルギーがマーキング処理に比して小さいことから、下地処理に際してレーザー光LBが照射された箇所において主に起こるのは、照射前まで存在していた凸部(突起部)の除去であり、新たな凹部の形成は、必ずしも支配的ではない。それゆえ、下地領域RE3は、平均的にみれば、マーキング対象面M1との高低差はほとんどないものの、表面粗さがマーキング対象面M1よりも小さい、均質化・平坦化された部位となっている。多くの場合、肉眼視すると、下地処理が施されていないマーキング対象面M1は金属光沢があるのに対して、下地領域RE3ではそのような光沢が失われており、マーキング対象面M1よりも淡い色味に観察される。
例えば、下地処理前の下地処理対象領域RE2の表面粗さ値が0.05μm程度である場合であれば、下地処理を行うことによって形成された下地領域RE3においては、表面粗さ値が0.02μm程度に低減される。
本実施の形態においては、このような下地処理を行ったうえで、マーキング処理を行う。すなわち、図5において矢印AR3およびAR4にて示すように、出射源Sを金属部材Mに対して相対移動させながら、マーキング対象領域RE1に対してのみ本照射条件でレーザー光LBを照射し、マーキング対象領域RE1ではない領域にはレーザー光がLBを照射しないようにする。当然ながら、レーザー光LBが照射されてレーザー光のエネルギーが投入された箇所のみにおいて、当該照射に伴った加工変質や凹部の形成が生じる。なお、図5においては、矢印AR3およびAR4を、レーザー光LBが照射される箇所を実線にて、それ以外の箇所を破線にて示している。
本照射条件の具体的な設定内容は、マーキングパターンMPが良好に形成されることを前提として、レーザー光LBの種類や、金属部材Mの材質などに応じて定められればよい。ただし、走査速度が小さすぎるとマーキング対象領域RE1における単位時間あたりの照射エネルギーが過剰となって、マーキングパターンMPにおける残留応力が大きくなり過ぎるので好ましくない。一方、走査速度が大きすぎると、単位時間あたりの照射エネルギーが充分なエネルギーが与えられないためにマーキングパターンMPの形成自体が充分に行われないので好ましくない。この点を鑑みると、走査速度は、おおよそ90mm/s〜500mm/sであるのが好適である。
このような態様でのレーザー光LBの照射を、マーキング対象領域RE1の全体が加工されるまで順次に繰り返すことで、図6に示すように、マーキングパターンMPが形成される。得られたマーキングパターンMPは、従来のように下地処理を行わずに形成されたマーキングパターンMPに比して、優れた視認性を有するものとなっている。なお、本実施の形態において、視認性とは、概略、観察者が金属部材Mのマーキング対象面M1を肉眼視した場合において、マーキングパターンMPを周囲と明確に判別することができ、マーキングパターンMPが与える視覚的情報を容易に認識可能であることを意味するものとする。端的にいえば、対象部分と周囲との見え方の違い(たとえば、色味、コントラスト、明るさなどの違い)が明りょうである場合に、視認性が高いということになる。多くの場合、肉眼視すると、マーキングパターンMPは周囲の下地領域RE3よりも濃い色味に観察される。係る視認性の実現の詳細については次述する。
また、得られたマーキングパターンMPが形成された金属部材Mは、従来のように下地処理を行わずに形成されたマーキングパターンMPに比して、優れた耐腐食性を有するものとなっている。ただし、本実施の形態において、耐腐食性とは、金属部材Mについて、下地領域RE3あるいはマーキングパターンMPの形成箇所を起点とする応力腐食割れの発生が抑制されてなることをいう。係る耐腐食性の実現の詳細についても後述する。
<マーキングパターンの視認性>
図7は、従来のレーザーマーキング手法のように、下地処理を行わずマーキング対象面M1に直接にマーキング処理を行った場合と、本実施の形態のように下地処理を行ったうえでマーキング処理を行った場合とのそれぞれについて、金属部材Mの各部位における表面位置の平均高さと表面粗さとの相対的な大小関係を、模式的に示す図である。なお、図7においては、便宜上、下地処理およびマーキング処理のいずれもが行われていない領域(非照射領域)を、マーキング対象面M1と表している。図7に示すマーキング対象面M1の状態は、非照射領域の状態を表すとともに、下地処理およびマーキング処理を行う前の下地領域RE3およびマーキングパターンMPの形成領域の状態をも表していることになる。また、マーキング対象面M1の表面粗さ値は0.01μm以上1.0μm以下程度であるとする。
まず、図7(a)は、従来手法の場合を示している。係る場合、マーキングパターンMPが周囲のマーキング対象面M1よりも平均高さが低い凹部として形成される照射条件にて、レーザー光LBが照射される。換言すれば、凹部が形成される程度の投入エネルギーにてレーザー光LBが照射される。その結果として、このときの、マーキングパターンMPにおける表面粗さの程度は、マーキング対象面M1とあまり相違がないものとなっている。なお、図7(a)においては、図示の簡単のためにマーキング対象面M1(非照射領域)とマーキングパターンMPとの表面粗さを同じにしているが、実際には、両者の間には多少の相違は生じている。
これに対して、図7(b)には、本実施の形態の場合を示している。本実施の形態の場合、下地処理によって形成される下地領域RE3は、マーキング対象面M1とほとんど変わらないか、あるいはマーキング対象面M1(非照射領域)よりもわずかに低い平均高さを有しつつも、表面粗さはマーキング対象面M1(非照射領域)よりも小さい、均質化・平坦化された領域となっている。これは、下地処理において、マーキングパターンMPを形成するための照射条件である本照射条件よりもレーザー光LBの投入エネルギーが小さい下地処理照射条件に従ってレーザー光LBが照射されることで、実現されたものである。
一方、本照射条件にてレーザー光LBが照射されることによって形成されたマーキングパターンMPは、周囲の下地領域RE3よりも平均高さが低く、かつ、表面粗さが下地領域RE3よりも大きい凹部となっている。すなわち、図7(b)に示すように、マーキングパターンMPとその周囲の下地領域RE3との間には、平均高さおよび表面粗さの双方において相違があることになる。
よって、本実施の形態の場合、表面粗さの小さい下地領域RE3を設けることで、マーキングパターンMPとその周囲の下地領域RE3との間に凹凸差が与えられており、かつ、下地領域RE3とその周囲のマーキング対象面M1(非照射領域)との間、および、マーキングパターンMPとその周囲の下地領域RE3との間の双方において、表面粗さに差異が与えられている。これらによって、マーキングパターンMPの視認性が確保されているものといえる。
これに対して、従来手法の場合、マーキングパターンMPとその周囲のマーキング対象面M1(非照射領域)との間には、凹凸差は与えられているものの、表面粗さの相違はほとんどない。それゆえ、マーキングパターンMPの視認性が十分に得られないものと考えられる。
また、本実施の形態においてマーキングパターンMPとして形成する凹部の深さは、従来手法の場合と同程度であってよく、図7(b)においても、そのような場合を例示している。しかしながら、従来手法の場合と異なり、表面粗さが小さい下地領域RE3に対してマーキングパターンMPを形成することから、形成する凹部が従来手法の場合に比して浅く(深さが小さく)、あるいはさらにマーキングパターンMPの表面粗さがマーキング対象面M1(非照射領域)より小さいような場合であっても、充分に視認性のあるマーキングパターンMPを形成することは可能である。このことは、本実施の形態のように、下地処理を行ったうえでマーキング処理を行う場合は、下地処理を行わない従来手法の場合に比して、より小さい投入エネルギーでのレーザー光LBの照射であっても、従来よりも視認性の優れたマーキングパターンMPを形成できることを意味している。
<マーキングパターンの耐腐食性>
金属部材Mに対してレーザー光LBを照射すると、瞬間的に非常に大きなエネルギーが与えられることで、その被照射領域に残留応力が生じる。すなわち、レーザー光LBが照射された領域と照射されていない領域との間には、応力状態に違いが生じる。
図8は、従来のレーザーマーキング手法のように、下地処理を行わずマーキング対象面M1に直接にマーキング処理を行った場合と、本実施の形態のように下地処理を行ったうえでマーキング処理を行った場合とのそれぞれについて、金属部材Mの各部位における残留応力の相対的な大小関係を、模式的に示す図である。また、図8に示す場合においても、図7の場合と同様、マーキング対象面M1の表面粗さ値は0.01μm以上1.0μm以下程度であるとする。
従来のように、下地処理を行うことなくマーキングパターンMPを形成した場合、概略的には、図8(a)に示すように、マーキングパターンMPのところでは残留応力が相対的に大きく、その周囲のマーキング対象面M1(非照射領域)においては残留応力が相対的に小さい、二段階の分布となっている。このマーキングパターンMPとその周囲との残留応力差(あるいは両者の間の残留応力勾配)が、従来手法でレーザーマーキングされた金属部材Mにおいて、マーキングパターンMPの形成箇所を起点とする応力腐食割れが生じる要因であると考えられる。
一方、本実施の形態のように、下地処理を行ったうえでマーキング処理を行う場合、下地処理がなされた時点で該下地処理にて形成される下地領域RE3に残留応力が生じ、さらにその後のマーキング処理の際に、マーキングパターンMPに残留応力が生じる。図8(b)には、後者に際し、下地処理を行わない場合と同程度の残留応力が生じる場合を例示している。ただし、下地処理におけるレーザー光LBの投入エネルギーはマーキング処理の場合に比して相対的に小さいため、下地処理によって下地領域RE3に生じる残留応力は、マーキング処理によってマーキングパターンMPに生じる残留応力に比して小さいと考えられる。
すなわち、本実施の形態の場合、残留応力は三段階の分布となっていると考えられる。それゆえ、マーキングパターンMPとその周囲の下地領域RE3との間の残留応力差、および、下地領域RE3とその周囲のマーキング対象面M1(非照射領域)との間の残留応力差は、従来手法におけるマーキングパターンMPとその周囲との残留応力差に比して、小さいと考えられる。あるいは、下地領域RE3が介在していることで、本実施の形態においては、従来手法の場合に比して、マーキングパターンMPとマーキング対象面M1(非照射領域)との間の残留応力勾配が小さいともいえる。
そして、金属部材Mがこのような残留応力の分布を有してなることが、下地領域RE3あるいはマーキングパターンMPを起点とする応力腐食割れの抑制、つまりは、マーキングパターンMPの耐腐食性の向上に寄与していると考えられる。
なお、下地処理およびマーキング処理に供される前の金属部材Mに対して、硬度を高めるための熱処理が行われていることがある。このような熱処理も、上述のような残留応力差を小さくする効果がある。なぜならば、マーキング対象面M1(非照射領域)の残留応力の絶対値が大きくなった状態で、下地処理に供されるからである。例えば、ビッカース硬度が300Hv以上となるような熱処理を行うことは、残留応力差が十分に小さい状態を実現し、耐腐食性をより確実に得るうえにおいて、好適であるといえる。
以上、説明したように、本実施の形態においては、金属部材のマーキング対象面へのマーキングパターンの形成に先立ち、その形成対象領域を含む領域に下地処理を施し、これによって形成された下地領域の上に、マーキングパターンを形成するようにしている。これにより、マーキングパターンを起点とする応力腐食割れの発生が抑制されてなる。また、下地領域が設けられることで、形成されたマーキングパターンは視認性が優れたものとなっている。
<変形例>
上述の実施の形態に係るレーザーマーキングの手法は、マーキング対象面M1の表面凹凸が上述よりも小さい、例えば表面粗さの値が0.01μm以下であるような、より表面平坦性の優れた金属部材Mに対して適用されてもよい。図9は、係る金属部材Mを対象に、下地処理を行わずマーキング対象面M1に直接にマーキング処理を行った場合と、下地処理を行ったうえでマーキング処理を行った場合とのそれぞれについて、金属部材Mの各部位における表面位置の平均高さと表面粗さとの相対的な大小関係を、模式的に示す図である。
この場合、下地処理を行わない場合の表面位置と表面粗さとの関係は、図9(a)に示すように図7(a)の場合と同様となるが、下地処理を行った場合の両者の関係は、図7(b)の場合とは異なってくる。具体的には、図9(b)に示すように、下地処理を行うことで形成される下地領域RE3の表面粗さは処理前よりも大きくなる。しかしながら、その後に行うレーザーマーキングで形成されるマーキングパターンMPの表面粗さの方が、下地領域RE3の表面粗さよりも大きくなることから、視認性が十分に確保されたマーキングパターンMPが形成できる点は金属部材Mの表面平坦性が優れている場合でも同様である。
一方で、各部位の残留応力の関係については、図8(b)に示す場合と同様である。すなわち、表面平坦性が優れた金属部材Mに対してマーキングを行う場合も、下地領域RE3が存在することでマーキングパターンMPと周囲との残留応力差が小さくなり、結果として優れた耐腐食性が実現される。すなわち、視認性および耐腐食性に優れたマーキングパターンMPを形成することができる。
下地処理照射条件でレーザー光LBを照射して形成された被照射領域と金属部材Mとの間にも、ある程度のコントラストは生じるので、係る照射条件のもとで金属部材Mにレーザーマーキングを行う態様も考えられる。しかしながら、レーザーマーキングされるのは主として線の細い文字や記号などであるのに対し、多くの場合、下地処理照射条件のもとで形成される被照射領域の色味は淡いため、係る下地処理照射条件で細い文字や記号を形成したとしても、視認性という点では上述の実施の形態に比して劣ることになる。また、視認性を高めるべくレーザー光の強度を強めることは、結局のところ従来の手法に近づいてしまい、応力腐食割れの可能性が高くなる。一方で、レーザー光の強度が弱いと、視認性そのものが低下してしまうことになる。すなわち、下地処理照射条件でのレーザー光の照射のみでマーキングを行い、好適なマーキングパターンが形成される場合は、ある程度限定的であるといえる。
(マーキングの対象物)
図10は、本実施の形態に係るマーキング処理の対象の一例としてのガスセンサ100の本体部(以下、センサ本体部)1の外観斜視図である。図11は、係るセンサ本体部1の要部の内部構成を示す断面図である。本実施の形態において、ガスセンサ100とは、内部に備わるセンサ素子10(図11)によって所定のガス成分(例えば、NOx等)を検出するためのものである。
なお、センサ素子10は、ジルコニアなどの酸素イオン伝導性固体電解質セラミックスからなる素子体を主たる構成材料とする長尺の柱状あるいは薄板状の部材である。センサ素子10は、一先端部10aの側にガス導入口や内部空所などを備えるとともに、素子体表面および内部に種々の電極や配線パターンを備えた構成を有する。センサ素子10においては、内部空所に導入された被検ガスが内部空所内で還元ないしは分解されて酸素イオンが発生する。ガスセンサ100においては、素子内部を流れる酸素イオンの量が被検ガス中における当該ガス成分の濃度に比例することに基づいて、係るガス成分の濃度が求められる。
ガスセンサ100のセンサ本体部1の外側は、主として、第1カバー2と、固定ボルト3と、第2カバー4とから構成される。
第1カバー2は、センサ素子10のうち、使用時に被検ガスに直接に接触する部分、具体的には、ガス導入口や内部空所などが備わる一先端部10aを保護する、略円筒状の外装部材である。より詳細には、第1カバー2は、外側カバー2aと内側カバー2bとの2層構造となっている。外側カバー2aと内側カバー2bは、それぞれ、一方側が有底の円筒状をしているとともに、側面部分に気体が通過可能な複数の貫通孔H1、H2が設けられてなる。なお、図10および図11に示す貫通孔H1、H2の配置位置および配置個数はあくまで例示であって、これに限られるものではない。
固定ボルト3は、センサ本体部1を測定位置に固定する際に用いられる環状の部材である。固定ボルト3は、ねじ切りがされたボルト部3aと、ボルト部3aを螺合する際に保持される保持部3bとを備えている。ボルト部3aは、センサ本体部1の取り付け位置に設けられたナットと螺合する。例えば、自動車の排気管に設けられたナット部にボルト部3aが螺合されることで、センサ本体部1は、第1カバー2の側が排気管内に露出する態様にて該排気管に固定される。
第2カバー4は、センサ本体部1の他の部位を保護する円筒状部材である。第2カバー4の端部からは、センサ本体部1と図示しない駆動制御部とを電気的に接続するためのケーブルCが延在している。
第2カバー4500℃〜600℃の温度で熱処理されたオーステナイト系ステンレス鋼(例えばSUS304Lなど)からなる。なお、熱処理温度が500℃〜600℃の場合には該ステンレス鋼のビッカース硬度は300Hv以上となるが、熱処理温度が300℃を下回る場合は、該ステンレス鋼のビッカース硬度は300Hvを下回ることが、あらかじめ確認されている。また、いずれも円筒形状をなしている第1カバー2と第2カバー4とは、0.2mm〜0.6mm程度(例えば0.55mm)の上記ステンレス鋼からなる板を深絞り加工し、その表面をバレル研磨することによって作製されてなる。
係るセンサ本体部1に対しては、第2カバー4の外側面に、メーカー名、国名、製品型式やロット番号、固体識別用番号などの製品識別情報がマーキング(印字)される。
センサ本体部1の内部においては、図11に示すように、センサ素子10が、ガス導入口等が備わる一先端部10aを残して、交互に隣接配置された複数のガイシと複数の封止材(タルク)のそれぞれの軸中心位置に嵌合されている。なお、図11においては、2つのガイシ6、8と2つの封止材7、9とを示しているが、実際には、封止材9に隣接してさらにガイシが設けられる。また、2つのガイシ6、8とその間の封止材7が、略円筒状をなすハウジング5の内筒部に嵌合されてなる。そして、このハウジング5の一方端側は第1カバー2に嵌合されてなり、他方端側は封止材9およびその上のガイシを被覆する第2カバー4に嵌合されてなり、ハウジング5の外周に、固定ボルト3が固着されてなる。
以上のような構成を有することで、センサ本体部1では、所定位置に取り付けられた状態において、センサ素子10の一先端部10aの周りの雰囲気(第1カバー2内の雰囲気)と外部の雰囲気とが完全に遮断されるようになっており、これにより、被検ガス中における対象ガス成分の濃度を精度良く測定できるようになっている。
(実験例1)
図12および図13は、センサ本体部1の第2カバー4の外側面をマーキング対象面M1とし、下地領域RE3を形成したうえでマーキングパターンMPをマーキングした場合の、マーキングパターンMP近傍の光学顕微鏡像である。一方、図14は、センサ本体部1の第2カバー4の外側面をマーキング対象面M1とし、下地処理を行うことなくマーキングパターンMPをマーキングした場合の光学顕微鏡像(図14(a))に、その撮像内容を説明する図(図14(b)を付したものである。
いずれの場合も、レーザー光LBとしては、発光波長が1.06μmのNd;YVOレーザーを用いた。レーザー光LBのパワー(ピークパワー)は9.6Wとし、周波数は100kHzとした。走査速度は、下地処理では3000mm/sとし、マーキング処理では160mm/sとした。また、マーキングパターンMPの線幅は0.1mmとした。
図12および図13からは、下地領域RE3を形成した場合は、マーキングパターンMPが良好な視認性を有していることがわかる。一方で、図14(a)には、図14(b)に示すように「9」、「E」の2つの文字がマーキングされているはずであるが、マーキングパターンMPと周囲のマーキング対象面M1とのコントラストがほとんどついておらず、極めて視認性の低い状態となっている。
すなわち、図12および図13と、図14(a)とを対比すると、下地処理によって下地領域を形成した上で該下地領域にマーキングパターンをマーキングすることが、マーキングパターンの視認性を確保するうえにおいて有効であることを示している。
(実験例2)
母材となる金属部材Mの種類と、下地処理の有無と、マーキング処理におけるレーザー光の照射条件とを種々に違えることで、計15種類のマーキング処理済みの第2カバー4を作製し(試料No.1〜15)、それぞれについて、応力腐食割れ試験を行った。併せて、試験後の試料についてのマーキングパターンMPの視認性の確認も行った。なお、No.15の試料を除き、試験ロット数は5とした。No.15のみ、試験ロット数は2とした。
具体的には、母材としては厚さが0.5mmのSUS304Lを熱処理したものを用意し、これを深絞り加工した後、バレル研磨を行って、第2カバー4を得た。その際の熱処理温度を、550℃と400℃の2水準に違えた。
下地処理およびマーキング処理においては、レーザー光LBとして、発光波長が1.06μmのNd;YVOレーザーを用いた。レーザー光LBのパワー(ピークパワー)は9.6Wとし、周波数は100kHzとした。
レーザー光LBの走査速度(具体的には出射源Sの走査速度)は、下地処理では3000mm/sとした。一方、マーキング処理の際の走査速度は、45mm/s、90mm/s、160mm/s、500mm/s、1000mm/sの5水準で違えた。
応力腐食割れ試験は、JIS G 0576のA法に準拠して行った。具体的には、沸点が143℃±1℃の42%塩化マグネシウム水溶液を試験溶液として用意し、温度を沸点に保った該試験溶液中にそれぞれの試料を浸漬し、一定時間が経過するたびに、試料を試験溶液から取り出して、拡大鏡を用いて観察し、クラックの発生の有無を確認した。また、マーキングパターンMPの視認性について、肉眼で確認した。なお、クラックは、応力腐食割れに伴い発生するものと考えられる。試験溶液中への浸漬時間は、30分、60分、90分、120分の4水準に違えた。
それぞれの試料の作製条件と、応力腐食割れ試験の結果と、視認性の確認結果とを表1に示す。なお、表1および以降においては、母材が550℃熱処理品で、かつ、下地処理が行われなかったNo.1〜5の試料をグループAと総称し、母材が550℃熱処理品で、かつ、下地処理が行われたNo.6〜10の試料をグループBと総称し、母材が400℃熱処理品で、かつ、下地処理が行われたNo.11〜15の試料をグループCと総称する。
表1に示すように、グループAの試料についてみると、走査速度が500mm/s以下であるNo.1〜No.4の試料では、視認性は良好であるものの、浸漬時間が30分ないしは60分の時点で、全てのロットでクラックが発生した。一方で、走査速度が1000mm/sであるNo.5の試料においては、120分浸漬した後でも、クラックは確認されなかったが、視認性が十分ではなかった。
一方、グループBの試料についてみると、走査速度が45mm/sであるNo.6の試料では、視認性は良好であるものの、浸漬時間が60分の時点で、全てのロットでクラックが発生した。走査速度が90mm/s〜500mm/sであるNo.7〜No.9の試料では、視認性は良好であり、かつ、わずかな例外(No.7の120分浸漬後の試料のうちの1ロット)を除いては、クラックの発生は確認されなかった。すなわち、これらの試料は、視認性が良好で、かつ、耐腐食性が良好なマーキングパターンが形成されているものであるといえる。なお、走査速度が1000mm/sであるNo.10の試料においては、120分浸漬した後でも、クラックは確認されなかったが、視認性が十分ではなかった。
さらに、グループCの試料についてみると、走査速度が500mm/s以下であるNo.11〜No.14の試料では、視認性は良好であるものの、浸漬時間が30分の時点で、全てのロットでクラックが発生した。一方で、走査速度が1000mm/sであるNo.15の試料においては、90分浸漬した後でクラックが確認され、また、視認性が十分ではなかった。
グループAとグループBの結果を対比すると、下地処理を行うことは、耐腐食性があり、かつ視認性の確保されるマーキングパターンを形成するうえで効果があることがわかる。なお、グループBのNo.6の試料において、下地処理を行ったにもかかわらずクラックが発生したのは、走査速度が遅いためにレーザー光LBの投入エネルギーが必要以上に大きくなってしまったためであると考えられる。一方、グループAのNo.5の試料やグループBのNo.10の試料において視認性が十分ではなかったのは、走査速度が速すぎて、レーザー光LBの投入エネルギーが小さ過ぎたためであると考えられる。また、グループBにおいて、下地処理の走査速度を、No.10の試料における走査速度である1000mm/sの3倍である3000mm/sとしていることは、下地処理に際して、マーキング処理の際よりも小さい投入エネルギーにてレーザー光が照射されていることを意味している。
また、グループBとグループCの結果を対比すると、グループCの試料の母材に対して行われた400℃での熱処理は、母材に十分な硬度を与えるには至らないものであり、熱処理後のマーキング対象面M1(非照射領域)における残留応力はグループBの場合に対して小さいと考えられる。それゆえ、グループBとグループCとは、下地処理の後にマーキング処理を行うという点では共通するものの、グループCの場合は、熱処理後の母材に十分な残留応力が生じていないために、グループBでは耐腐食性が良好なマーキングパターンが形成されているマーキング条件でマーキング処理が行われたものであっても、残留応力差が大きくなってしまい、耐腐食性が得られなかったといえる。なお、No.15の試料において浸漬時間が30分の場合にクラックの発生が確認されなかったのは、走査速度が1000mm/sと大きく投入エネルギーが小さいために、下地領域RE3との残留応力差がNo11.〜No.14の試料に比して小さかったためであると推察される。
また、工業上量産される種々の部品には、その製造工程において、一般に、メーカー名、国名、製品型式やロット番号、個体識別用番号などの製品識別情報がマーキング(印字)される。これは、後工程や、市場に出回った後におけるトレーサビリティを確保するためである。係るマーキングの一手法として、レーザー光を照射してマーキングを行う技術がある。液晶用のガラス基板の表面にレーザー光を照射してアブレーションによる凹部を形成する技術が既に公知である(例えば、特許文献3参照)。また、セラミック製の電子デバイスの表面に薄膜金属層からなるマーキング層を設け、該マーキング層にレーザー光によって凹部を形成することでマーキングする技術も公知である(例えば、特許文献4参照)。
第2カバー4500℃〜600℃の温度で熱処理されたオーステナイト系ステンレス鋼(例えばSUS304Lなど)からなる。なお、熱処理温度が500℃〜600℃の場合には該ステンレス鋼のビッカース硬度は300Hv以上となるが、熱処理温度が300℃を下回る場合は、該ステンレス鋼のビッカース硬度は300Hvを下回ることが、あらかじめ確認されている。また、いずれも円筒形状をなしている第1カバー2と第2カバー4とは、0.2mm〜0.6mm程度(例えば0.55mm)の上記ステンレス鋼からなる板を深絞り加工し、その表面をバレル研磨することによって作製されてなる。
係るセンサ本体部1に対しては、第2カバー4の外側面に、メーカー名、国名、製品型式やロット番号、個体識別用番号などの製品識別情報がマーキング(印字)される。

Claims (6)

  1. 金属部材に対してレーザーマーキングを行う方法であって、
    前記金属部材のマーキング対象面のマーキング対象領域を含む下地処理対象領域にレーザー光を第1照射条件で照射する下地処理工程と、
    前記マーキング対象領域に前記レーザー光を第2照射条件で照射することによりマーキングパターンを形成するマーキング工程と、
    を備え、
    前記第1照射条件における前記レーザー光の投入エネルギーを前記第2照射条件における前記レーザー光の投入エネルギーよりも小さくすることにより、前記マーキングパターンと前記レーザー光が照射されていない非照射領域との間に、前記非照射領域よりも残留応力が大きく前記マーキングパターンよりも残留応力が小さい下地領域を設ける、
    ことを特徴とする金属部材へのレーザーマーキング方法。
  2. 請求項1に記載のレーザーマーキング方法であって、
    前記下地領域の表面粗さが、前記非照射領域および前記マーキングパターンの表面粗さよりも小さい、
    ことを特徴とする金属部材へのレーザーマーキング方法。
  3. 請求項2に記載のレーザーマーキング方法であって、
    前記マーキング対象面の表面粗さが0.01μm以上1.0μm以下である、
    ことを特徴とする金属部材へのレーザーマーキング方法。
  4. 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のレーザーマーキング方法であって、
    前記金属部材がステンレス鋼であり、かつ、300Hv以上の硬度を有する、
    ことを特徴とする金属部材へのレーザーマーキング方法。
  5. 請求項4に記載のレーザーマーキング方法であって、
    前記金属部材が、前記下地処理工程に先立って硬度を高めるための熱処理が施されたものである、
    ことを特徴とする金属部材へのレーザーマーキング方法。
  6. 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載のレーザーマーキング方法であって、
    前記レーザー光の照射を、所定のレーザー光出射源を前記マーキング対象面に対して相対移動させることにより行い、
    前記第1照射条件における前記レーザー光の走査速度を前記第2照射条件における前記レーザーの走査速度よりも大きくすることにより前記下地領域を設ける、
    ことを特徴とする金属部材へのレーザーマーキング方法。
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