JPWO2011078381A1 - ファラデー回転子用磁気回路およびファラデー回転子用磁気回路の製造方法 - Google Patents

ファラデー回転子用磁気回路およびファラデー回転子用磁気回路の製造方法 Download PDF

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Abstract

不可逆減磁が発生するのを抑制することが可能なファラデー回転子用磁気回路を提供する。このファラデー回転子用磁気回路(100、200、300、400、500、600、700、800、900)は、第1磁石(2、202、302、702、802)と、第2磁石(3、203、303、703、803)と、第3磁石(4、304、604、704、804、904)とを備え、第3磁石の第3貫通孔(4a、304a、604a、704a、804a、904a)の少なくとも内周面近傍には、第1高保磁力領域(4b、304b、604b、704b、904b)が設けられている。

Description

本発明は、ファイバーレーザーなどの高出力レーザーに用いられるファラデー回転子用磁気回路およびファラデー回転子用磁気回路の製造方法に関する。
ファラデー回転子は、ファラデー回転子用磁気回路とファラデー素子とからなり、ファラデー効果によって光を一方向のみ通し、逆方向には遮断するデバイスである。ファラデー素子に対してファラデー回転子用磁気回路により磁界を印加させると、レーザー光がファラデー素子から出る際にはレーザー光の偏光面が所定の回転角度になるように構成されている。
ファラデー回転子は様々な用途に使われており、通信用のファラデー回転子には、ファラデー素子としてイットリウム鉄ガーネット(YIG)等の希土類鉄ガーネットのファラデー素子が使用される。また、ファラデー素子に印加される磁界を作り出すファラデー回転子用磁気回路には、フェライト磁石が使用されている。
一方、加工やマーキングに使用される高出力レーザー用のファラデー回転子に、イットリウム鉄ガーネット(YIG)等の希土類鉄ガーネットのファラデー素子を用いた場合には、ファラデー素子の結晶が光を吸収することにより温度が上昇する。この結果、レーザー光の焦点がずれることに起因して、ファラデー素子の光の遮断特性に影響を与えるという問題点があった。このため、高出力レーザー用のファラデー回転子には、ファラデー素子として温度依存性が小さい(温度上昇に伴う焦点のずれが起こりにくい)テルビウムガリウムガーネット(TGG)の結晶がファラデー素子として用いられる。
しかしながら、このTGGは、イットリウム鉄ガーネット(YIG)等の希土類鉄ガーネットと比べて、ファラデー回転係数(ベルデ定数)が小さい。このため、所定の回転角度を得るためには、ファラデー素子に印加する磁界強度を向上させるか、または、ファラデー素子を長くする必要があった。ここで、ファラデー素子を長くする場合には、ファラデー素子が配置されるファラデー回転子用磁気回路も長くなってしまい、ファラデー回転子が大型化してしまうという不都合があった。また、ファラデー素子であるTGGの結晶自体を長く構成すると光が結晶内で歪むため、補正するための高価な光学ガラスも必要となるという不都合もあった。このため、従来から、ファラデー回転子の大型化を抑制するためのファラデー回転子用磁気回路が知られている。このようなファラデー回転子用磁気回路は、たとえば、特開2009−229802号公報に開示されている。
特開2009−229802号公報には、光軸と垂直で光軸に向かう方向に磁化された第1の磁石と、光軸と垂直で光軸から離れる方向に磁化された第2の磁石と、これらの間に配置され光軸と平行で、かつ、第2の磁石から第1の磁石に向かう方向に磁化された第3の磁石とで構成された磁気回路と、ファラデー素子とを備える小型ファラデー回転子が開示されている。この特開2009−229802号公報の小型ファラデー回転子の磁気回路にはファラデー素子が配置される孔部が設けられている。また、孔部における第1の磁石と第2の磁石とから構成される磁界の方向は、光軸と平行で、かつ、第1の磁石から第2の磁石に向かう方向になるように構成されている。つまり、孔部における第1の磁石と第2の磁石とから構成される磁界の方向は、第3の磁石の磁化方向と逆の方向になるように構成されている。また、第1の磁石と第2の磁石の光軸方向の長さをL2、第3の磁石の光軸方向の長さをL3としたとき、L2/10≦L3≦L2の関係が成立するように構成されている。
特開2009−229802号公報
しかしながら、特開2009−229802号公報に記載のファラデー回転子では、高出力レーザーに用いるために高い磁界強度を有するファラデー回転子用磁気回路を用いた場合に、孔部における第3の磁石の磁化方向と、第1の磁石と第2の磁石とから構成された磁界の方向とが逆方向になるため、逆磁界に起因して第3の磁石の磁石動作点が低くなる。このため、第3の磁石が不可逆減磁しやすくなるという問題点がある。また、高出力のレーザーに用いられる場合には、ファラデー素子がTGGからなる場合であっても温度上昇しやすいため、70℃以上の温度上昇に伴う熱エネルギーに起因して、さらに第3の磁石が不可逆減磁しやすくなるという問題点もある。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、不可逆減磁が発生するのを抑制することが可能なファラデー回転子用磁気回路およびファラデー回転子用磁気回路の製造方法を提供することである。
課題を解決するための手段および発明の効果
この発明の第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路は、ファラデー回転子のファラデー素子が内部に配置されるファラデー回転子用磁気回路であって、軸方向に延びる第1貫通孔を含み、軸方向と垂直でかつ第1貫通孔から離れる方向に磁化されている第1磁石と、軸方向に延びる第2貫通孔を含み、軸方向と垂直でかつ第2貫通孔に向かう方向に磁化されている第2磁石と、軸方向の第1磁石と第2磁石との間に配置され、軸方向と平行で、かつ、第1磁石から第2磁石に向かう方向に磁化されている第3磁石とを備え、第3磁石は、第1貫通孔および第2貫通孔を接続するように軸方向に延びるとともに、ファラデー素子が内部に配置される第3貫通孔を含み、第3磁石の第3貫通孔の少なくとも内周面近傍には、第1高保磁力領域が設けられている。
この発明の第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路では、上記のように、第3磁石の第3貫通孔の少なくとも内周面近傍に第1高保磁力領域を設けることによって、第1磁石と第2磁石とから構成された磁界に起因する逆磁界によって不可逆減磁を起こしやすい第3磁石の第3貫通孔の内周面近傍に、第3磁石の他の部分よりも保磁力の高い第1高保磁力領域を設けることができるので、第1高保磁力領域における不可逆減磁を抑制することができる。これにより、第3磁石の全体が内周面近傍に設けられた第1高保磁力領域によって不可逆減磁されるのを抑制することができる。また、第1高保磁力領域は保磁力が高いので、温度上昇に起因する不可逆減磁も抑制することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第3磁石に設けられる第1高保磁力領域は、第3磁石の第3貫通孔の内周面のうちの軸方向に沿った第3磁石の少なくとも中央部に設けられている。このように構成すれば、逆磁界による不可逆減磁をより起こしやすい第3磁石の第3貫通孔の内周面のうちの軸方向に沿った第3磁石の中央部に、他の部分よりも保磁力の高い第1高保磁力領域を設けることができるので、第3磁石での不可逆減磁を効果的に抑制することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第1磁石と第2磁石とから構成される磁界のうち、第1磁石の磁化方向および第2磁石の磁化方向と略直交する軸方向で、かつ、第2磁石から第1磁石に向かう方向に向かう磁界の近傍に位置する第3磁石の部分に、第1高保磁力領域が設けられている。このように構成すれば、逆磁界による不可逆減磁を起こしやすい第3磁石の部分に、他の部分よりも保磁力の高い第1高保磁力領域を設けることができるので、第3磁石での不可逆減磁を抑制することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第3磁石は、希土類元素R(Nd、Prを主成分とし、Ndを50%以上含む)と、Feを主とする遷移元素と、B(ホウ素)とを主に含むR−T−B系磁石からなり、第1高保磁力領域は、重希土類元素が第3磁石の第3貫通孔の内周面近傍に濃化することによって形成されている。前記内周面近傍は、R−T−B系焼結磁石の主相中の軽希土類元素であるNdまたはPrの一部のみを重希土類元素であるDyまたはTbに置換することによって重希土類元素が濃化しているので、残留磁束密度の低下を抑制しつつ、第1高保磁力領域の保磁力を向上させることができる。その結果、ファラデー回転子用磁気回路の磁界強度を維持しつつ、第1高保磁力領域を含む第3磁石の保磁力を向上させることができる。
この場合、好ましくは、第1高保磁力領域は、正方晶であるR2Fe14B型化合物の主相を主体とするとともに、主相の外殻部にDyおよびTbの少なくともいずれか一方からなる重希土類元素が外部から拡散され、濃化することによって形成されている。このように、第3磁石の第3貫通孔の内周面近傍にDyおよびTbの少なくともいずれか一方からなる重希土類元素を濃化させることによって、残留磁束密度の低下を略生じさせることなく、保磁力が向上した第1高保磁力領域を含む第3磁石を容易に形成することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第1高保磁力領域は、ファラデー素子が内部に配置される第3貫通孔を取り囲むように周状に設けられている。このように構成すれば、ファラデー素子を取り囲むように第1高保磁力領域を設けることができるので、逆磁界の影響が第3磁石に及ぶのをより抑制することができる。その結果、第3磁石での不可逆減磁をより抑制することができる。
上記第1高保磁力領域が第3磁石の中央部に設けられているファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第1高保磁力領域は、第3貫通孔の内周面における軸方向の全域に渡って設けられている。このように構成すれば、第3磁石での不可逆減磁をより抑制することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第1高保磁力領域は、軸方向と直交し、かつ、第3貫通孔から離れる方向に第3貫通孔の内周面から3mm以上の範囲に渡って形成されている。このように構成すれば、第3磁石での不可逆減磁をより抑制することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第3磁石の第1高保磁力領域以外の部分の保磁力は、第1磁石および第2磁石の保磁力以上である。このように構成すれば、第3磁石の第1高保磁力領域だけでなく、第3磁石の第1高保磁力領域以外の部分も保磁力が大きいので、第1高保磁力領域を発端として第3磁石の全体が不可逆減磁するのをより有効に抑制することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第3磁石の第1高保磁力領域以外の部分の保磁力は、2350kA/m以上であるとともに、第1高保磁力領域の保磁力よりも小さい。このように構成すれば、第1高保磁力領域のみならず、第1高保磁力領域以外の2350kA/m以上の高い保磁力を有する第3磁石の部分によっても、第3磁石が不可逆減磁するのを抑制することができる。さらに好ましくは、第3磁石は1.0T以上の残留磁束密度を有する。このように構成すれば、十分な磁界強度を発生させることができるので、テルビウムガリウムガーネット(TGG)の結晶をファラデー素子として用いる小型のファラデー回転子においても、所望の回転角度を得ることができる。
上記第1高保磁力領域が第3磁石の中央部に設けられているファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第1高保磁力領域は、第3貫通孔から離れる方向の内周面からの分布範囲が、軸方向に沿った第3磁石の両端部側から中央部側に向かって大きくなるように構成されている。このように構成すれば、第1高保磁力領域を、逆磁界による不可逆減磁をより起こしやすい中央部でより広い範囲に分布させることができるので、より少ないDy、Tbの少なくともいずれかの重希土類元素の拡散によって第3磁石の中央部での不可逆減磁を効果的に抑制することができる。なお、逆磁界により不可逆減磁を起こしやすい分布範囲が第3磁石の両端部側から中央部側に向かって大きくなる点については、後述するシミュレーションにおいて確認済みである。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第3磁石は、軸方向と直交する面で分断されることにより形成されるととともに、各々に第2高保磁力領域が設けられている複数の第1磁石片が軸方向に組み合わされて、複数の第2高保磁力領域からなる第1高保磁力領域が構成されており、複数の第2高保磁力領域からなる第1高保磁力領域は、第3貫通孔の少なくとも内周面近傍に設けられている。このように構成すれば、貫通孔の内周面を複数の第1磁石片に分割することができるので、貫通孔が形成されている状態で貫通孔の内周面に第1高保磁力領域を設ける場合と比べて、個々の第1磁石片のうち、分割された貫通孔の内周面に対応する面に、確実に第2高保磁力領域を設けることができる。これにより、第2高保磁力領域が設けられている複数の第1磁石片を組み合わせることによって、第3磁石の第1高保磁力領域をより確実に形成することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第1磁石と第2磁石とは、第3磁石を間に挟んで軸方向に沿って交互に並ぶように配置されている。このように構成すれば、第1磁石と第2磁石と第3磁石とを1単位とするファラデー回転子用磁気回路を有するファラデー回転子では十分なファラデー効果が得られない場合であっても、第1磁石と第2磁石とを第3磁石を間に挟んで軸方向に沿って交互に並ぶように配置することによって、複数単位のファラデー回転子用磁気回路を形成することができる。これにより、十分なファラデー効果が得られるようにファラデー回転子を構成することができる。
上記第1の局面によるファラデー回転子用磁気回路において、好ましくは、第1磁石、第2磁石および第3磁石の軸方向と直交する方向における一方端から他方端までの距離は、第1距離であり、第1貫通孔、第2貫通孔および第3貫通孔の軸方向と直交する方向における一方端から他方端までの距離は、第2距離であり、第1距離は、第2距離の8倍以上20倍以下である。このように構成すれば、第1距離を第2距離の8倍以上にすることによって、ファラデー回転子用磁気回路において高い磁界強度を形成するのが困難になるのを抑制することができる。また、第1距離を第2距離の20倍以下にすることによって、ファラデー回転子用磁気回路における磁界強度が高すぎることに起因して、第1高保磁力領域において不可逆減磁が起きやすくなるのを抑制することができる。
この発明の第2の局面によるファラデー回転子用磁気回路の製造方法は、軸方向に延びる第1貫通孔を含み、軸方向と垂直でかつ第1貫通孔から離れる方向に磁化されている第1磁石と、軸方向に延びる第2貫通孔を含み、軸方向と垂直でかつ第2貫通孔に向かう方向に磁化されている第2磁石と、第1貫通孔および第2貫通孔を接続するように軸方向に延びるとともに、ファラデー素子が内部に配置される第3貫通孔を含み、軸方向と平行で、かつ、第1磁石から第2磁石に向かう方向に磁化されている第3磁石とを備えるファラデー回転子用磁気回路の製造方法であって、希土類元素R(Nd、Prを主成分とし、Ndを50%以上含む)と、Feを主とする遷移元素と、B(ホウ素)とを主に含むR−T−B系磁石からなる第3磁石の第3貫通孔の内周面から重希土類元素を拡散させることによって、第3貫通孔の少なくとも内周面近傍に第1高保磁力領域を設ける工程と、第1貫通孔、第2貫通孔および第3貫通孔が軸方向に接続するとともに、第3磁石が軸方向の第1磁石と第2磁石との間に配置されるように第1磁石、第2磁石および第3磁石を接続する工程とを備える。
この発明の第2の局面によるファラデー回転子用磁気回路の製造方法では、上記のように、第3貫通孔の少なくとも内周面近傍に第1高保磁力領域を設けることによって、第1高保磁力領域での不可逆減磁を抑制することができる。これにより、不可逆減磁した第1高保磁力領域が内周面近傍に設けられた第3磁石の全体が不可逆減磁されるのを抑制することができる。また、第1高保磁力領域は保磁力が高いので、温度上昇に起因する不可逆減磁も抑制することができる。また、希土類元素R(Nd、Prを主成分とし、Ndを50%以上含む)と、Feを主とする遷移元素と、B(ホウ素)とを主に含むR−T−B系磁石からなる第3磁石の第3貫通孔の内周面から重希土類元素を拡散させることにより、第3貫通孔の少なくとも内周面近傍に第1高保磁力領域を設けることによって、R−T−B系焼結磁石の主相中の軽希土類元素であるNdまたはPrの一部のみを重希土類元素であるDyまたはTbに置換することができるので、残留磁束密度の低下を抑制しつつ、第1高保磁力領域の保磁力を向上させることができる。その結果、ファラデー回転子用磁気回路の磁界強度を維持しつつ、第1高保磁力領域の保磁力を向上させることができる。
上記第2の局面によるファラデー回転子用磁気回路の製造方法において、好ましくは、第1高保磁力領域を設ける工程は、第3磁石の第3貫通孔の内周面から重希土類元素を拡散させることによって、第3貫通孔の内周面のうちの少なくとも中央部に第1高保磁力領域を設ける工程を含む。このように構成すれば、逆磁界による不可逆減磁をより起こしやすい第3磁石の第3貫通孔の内周面のうちの軸方向に沿った第3磁石の中央部に、他の部分よりも保磁力の高い第1高保磁力領域を設けることができるので、第3磁石での不可逆減磁を効果的に抑制することができる。
上記第2の局面によるファラデー回転子用磁気回路の製造方法において、好ましくは、第1高保磁力領域を設ける工程は、ファラデー素子が内部に配置される第3貫通孔を取り囲むように周状に第1高保磁力領域を設ける工程を含む。このように構成すれば、ファラデー素子を取り囲むように第1高保磁力領域を設けることができるので、逆磁界の影響が第3磁石に及ぶのをより抑制することができる。その結果、第3磁石での不可逆減磁をより抑制することができる。
上記中央部に第1高保磁力領域を設ける工程を含むファラデー回転子用磁気回路の製造方法において、好ましくは、中央部に第1高保磁力領域を設ける工程は、第3貫通孔の内周面の略全面から重希土類元素を拡散させることによって、第3貫通孔の内周面における軸方向の全域に渡って第1高保磁力領域を設ける工程を含む。このように構成すれば、逆磁界による不可逆減磁を起こしやすい第3磁石の第3貫通孔の内周面における軸方向の全域に渡って第1高保磁力領域を設けることができるので、第3磁石での不可逆減磁をより抑制することができる。
上記中央部に第1高保磁力領域を設ける工程を含むファラデー回転子用磁気回路の製造方法において、好ましくは、中央部に第1高保磁力領域を設ける工程は、第3貫通孔から離れる方向の内周面からの分布範囲が、軸方向に沿った第3磁石の両端部側から中央部側に向かって大きくなるように第1高保磁力領域を設ける工程を含む。このように構成すれば、第1高保磁力領域を、逆磁界による不可逆減磁をより起こしやすい中央部でより広い範囲に分布させることができるので、第3磁石の中央部での不可逆減磁を効果的に抑制することができる。
本発明の第1実施形態によるファラデー回転子の構造を示した斜視図である。 本発明の第1実施形態によるファラデー回転子を中心軸線の延びる方向に沿って切断した場合の断面図である。 本発明の第1実施形態による第3磁石を中心軸線の延びる方向に対して垂直に切断した場合の断面図である。 本発明の第1実施形態の第1変形例によるファラデー回転子の構造を示した斜視図である。 本発明の第1実施形態の第1変形例によるファラデー回転子用磁気回路の構造を示した分解斜視図である。 本発明の第1実施形態の第2変形例によるファラデー回転子の構造を示した斜視図である。 本発明の第1実施形態の第2変形例によるファラデー回転子用磁気回路の構造を示した分解斜視図である。 本発明の第1実施形態の効果を確認するために行ったシミュレーションの結果を示した図である。 本発明の第2実施形態によるファラデー回転子の構造を示した斜視図である。 本発明の第2実施形態によるファラデー回転子を中心軸線の延びる方向に沿って切断した場合の断面図である。 本発明の第2実施形態の変形例によるファラデー回転子の構造を示した斜視図である。 本発明の第3実施形態によるファラデー回転子の構造を示した斜視図である。 本発明の第3実施形態によるファラデー回転子用磁気回路の構造を示した分解斜視図である。 本発明の第4実施形態によるファラデー回転子の構造を示した斜視図である。 本発明の第4実施形態によるファラデー回転子用磁気回路の構造を示した分解斜視図である。 本発明の第4実施形態の変形例によるファラデー回転子の構造を示した斜視図である。 本発明の第5実施形態によるファラデー回転子を中心軸線の延びる方向に沿って切断した場合の断面図である。
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
まず、図1〜図3を参照して、本発明の第1実施形態によるファラデー回転子100の構成について説明する。
本発明の第1実施形態におけるファラデー回転子100は、図1に示すように、円筒形状を有するファラデー回転子用磁気回路1と、円柱状のファラデー素子10とを備えている。具体的には、ファラデー回転子用磁気回路1は、中心軸線1000の延びる軸方向(X方向)と直交する断面(Y−Z平面)が円環状を有した状態で、この断面形状を保ったままX方向に延びるように形成されている。また、ファラデー回転子用磁気回路1の断面(Y−Z平面)の中央には、一方端面から他方端面に向かってX方向に延びる貫通孔1aが形成されている。そして、ファラデー素子10は、ファラデー回転子用磁気回路1の貫通孔1a内に配置されるように構成されている。
ファラデー素子10は、ファラデー素子10がファラデー回転子用磁気回路1によって形成された磁界の内部に配置された際、入射したレーザー光の偏光面を所定の回転角度に回転させた状態で出射させる機能を有する。この際、回転角度は、ファラデー素子10の材質に特有のファラデー回転係数(ベルデ定数)と、ファラデー効果(回転角度)を起こすのに必要な磁界強度と、貫通孔1aの後述する直径L2とによって決まる。
また、所望のファラデー効果(回転角度)を得るために必要な磁界強度は、ファラデー回転子用磁気回路1内に配置されるファラデー素子10の長さによって変わってくる。具体的には、所望のファラデー効果(回転角度)を得るために必要な磁界強度と、ファラデー素子10の長さとは、反比例の関係にある。例えば、所定の長さのファラデー素子で所望のファラデー効果を得るために必要な磁界強度が2Tである一方、ファラデー回転子用磁気回路で得られる磁界強度が1Tであった場合には、ファラデー素子は所定の長さの2倍の長さにしないと同等の特性(所望のファラデー効果)を得ることができない。このため、ファラデー素子の長さが大きくなるのに伴い、ファラデー回転子用磁気回路が大型化するとともに、レーザー光の形状がファラデー素子の結晶内で歪むため、レーザー光の歪みを補正するための高価なガラスも必要となる。したがって、ファラデー回転子用磁気回路を大型化するのに必要な大型の磁石と、歪みを補正するためのガラスとを必要とするため、余計なコストがかかってしまう。
また、ファラデー素子10は、温度依存性が小さい(温度上昇に伴う焦点のずれが起こりにくい)テルビウムガリウムガーネット(TGG)からなる。このTGGは、イットリウム鉄ガーネット(YIG)等の希土類鉄ガーネットと比べて、ファラデー回転係数が小さい。
また、図2にファラデー回転子用磁気回路1の断面を示す。TGGを用いた小型のファラデー回転子として、図2のファラデー回転子用磁気回路1の断面(Y−Z平面)における外径L1は、約30mm以上約70mm以下が好ましい。また、ファラデー回転子用磁気回路1の貫通孔1aの直径L2は、約3mm以上約7mm以下が好ましい。また、ファラデー回転子用磁気回路1(貫通孔1a)のX方向の長さL3は、約20mm以上約60mm以下が好ましい。
また、ファラデー回転子用磁気回路1は、図1に示すように、円筒形状を有する第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4からなる。第1磁石2は、ファラデー回転子用磁気回路1の一方側(X1側)に配置されているとともに、第2磁石3は、ファラデー回転子用磁気回路1の他方側(X2側)に配置されている。また、第1磁石2と第2磁石3とは、同一の形状を有している。また、第3磁石4は、軸方向(X方向)における第1磁石2と第2磁石3との間に挟まれて配置されている。なお、第1磁石2と第2磁石3と第3磁石4とは、X方向に延びる同一の中心軸線1000に沿って配置されている。
第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4は、共に、中心軸線1000の延びる軸方向(X方向)と直交するY−Z平面において円環状の断面形状を有した状態で、X方向に延びるように形成されている。また、第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4の断面(Y−Z平面)の中央には、それぞれ、X方向に延びる貫通孔2a、3aおよび4aが形成されている。この貫通孔2a、3aおよび4aは、円形状の断面(Y−Z平面)を有している。なお、貫通孔2a、3aおよび4aは、それぞれ、本発明の「第1貫通孔」、「第2貫通孔」および「第3貫通孔」の一例である。
また、貫通孔2a、3aおよび4aが互いに接続されることによって、貫通孔1aが形成されている。また、ファラデー素子10は、X方向の中央部が、第3磁石4の貫通孔4aのX方向の中央部に略位置する状態で、貫通孔1aの内部に配置されている。
また、図2に示すように、第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4の外径は、ファラデー回転子用磁気回路1の外径L1と同一である。また、貫通孔2a、3aおよび4aの直径は、貫通孔1aの直径L2と同一である。また、第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4の外径L1は、貫通孔2a、3aおよび4aの直径L2の約10倍になるように構成されているのが好ましい。本発明では、高保磁力の第3磁石において貫通孔4aから高保磁力領域を形成されていることにより、高出力レーザーに用いられる70℃以上の高温下でも第3磁石が不可逆減磁しにくいため、貫通孔2a、3aおよび4aの直径は、貫通孔1aの直径L2と同一にすることができている。なお、外径L1は、本発明の「第1距離」の一例であり、直径L2は、本発明の「第2距離」の一例である。
なお、第1実施形態では、上記特許文献1で懸念されるような第1磁石2および第2磁石3の磁界の影響があっても、第3磁石4が約70℃以上80℃以下の高温度条件下にあっても不可逆減磁が発生しない。そのため、貫通孔4aだけ外径を大きくして、第3磁石4における第1磁石2および第2磁石3の磁界の影響を小さくする必要がないので、貫通孔2a、3aおよび4aの直径を同じ長さ(L2)にすることができる。
また、第1磁石2(貫通孔2a)および第2磁石3(貫通孔3a)のX方向の長さL4は、共に約8.5mm以上約25mm以下が好ましい。また、第3磁石4(貫通孔4a)のX方向の長さL5は、約3mm以上約10mm以下が好ましい。
第1磁石2は、軸方向(X方向)と垂直で、かつ、貫通孔2aから離れる方向(矢印A方向)に磁化されている。また、第2磁石3は、軸方向(X方向)と垂直で、かつ、貫通孔3aに向かう方向(矢印B方向)に磁化されている。すなわち、第2磁石3の磁化の方向(矢印B方向)は、第1磁石2の磁化の方向(矢印A方向)と反対方向であるように構成されている。これにより、貫通孔4aの内部における磁界の方向は、軸方向(X方向)に沿って第2磁石3から第1磁石2に向かう方向(矢印X1方向)になるように構成されている。
一方、第3磁石4は、軸方向(X方向)と平行で、かつ、第1磁石2から第2磁石3に向かう方向(矢印X2方向)に磁化されている。すなわち、貫通孔4aの内部における磁界の方向(矢印X1方向)と、第3磁石4の磁化の方向(矢印X2方向)とは、反対方向になるように構成されている。
また、第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4は、約1.5T以上約3.0T以下の強い磁界を発生させることが可能なR−Fe−B系焼結磁石からなる。R−Fe−B系焼結磁石は、希土類元素R(Nd、Prを主成分とし、Ndを50%以上含む)と、Feを主とする遷移元素と、B(ホウ素)とを主に含んでいる。これにより、第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4を用いて約1.5T以上約3.0T以下の強い磁界を発生させることによって、ファラデー素子10のX方向の長さを小さくしても所望のファラデー効果(回転角度)を得ることが可能である。
また、第3磁石4は、第1磁石2および第2磁石3のR−Fe−B系焼結磁石と同一のR−Fe−B系焼結磁石か、または、第1磁石2および第2磁石3のR−Fe−B系焼結磁石よりも保磁力が大きなR−Fe−B系焼結磁石からなる。また、第3磁石4は少なくとも約1.0Tの残留磁束密度と、少なくとも2350kA/mの保磁力とを有している。これにより、TGGをファラデー素子に用いたファラデー回転子用磁気回路1の貫通孔1aの内部に、約1.5T以上約3.0T以下の強い磁界を発生させることが可能になるので、磁界強度が大きい分、ファラデー素子10の長さを小さくすることが可能である。
ここで、第1実施形態では、図2および図3に示すように、第3磁石4の貫通孔4aの内周面近傍には、高保磁力領域4bが形成されている。高保磁力領域4bは、第3磁石4の高保磁力領域4b以外の部分の保磁力(約2350kA/m)よりも大きな保磁力(約2800kA/m)を有する。これにより、第3磁石4において、70℃以上の温度条件下で逆磁界に起因する磁石動作点の低下を抑制することが可能である。
また、高保磁力領域4bは、第3磁石4の貫通孔4aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成されている。つまり、高保磁力領域4bは、第3磁石4の貫通孔4aの内周面において、中央部4cだけでなく、X1側の端部4dからX2側の端部4eまで一様に形成されている。また、高保磁力領域4bは、貫通孔4aの内周面から第3磁石4の内部(矢印A方向)に向かって少なくとも約3mmの深さ(厚み)L6を有して形成されている。なお、高保磁力領域4bは、本発明の「第1高保磁力領域」の一例である。
なお、図3に示すように、高保磁力領域4bは、DyおよびTbの少なくとも一方からなる重希土類元素RHが貫通孔4aの内周面の全域から拡散されることによって形成されている。好ましくは、高保磁力領域4bは、正方晶であるR2Fe14B型化合物の結晶粒からなる主相を主体とするとともに、主相の外殻部(粒界の近傍)に位置する希土類元素Rのうちの軽希土類元素RL(Nd、Prの少なくともいずれか)が、DyおよびTbの少なくともいずれか一方からなる重希土類元素RHと置換されることによって形成される。これにより、主相であるR14B相の外殻部における結晶磁気異方性が高められるので、高保磁力領域4bにおける保磁力が大きい。一方、主相であるR14B相自体(結晶粒の内部)には重希土類元素RHは拡散しないので、軽希土類元素RLが結晶内部に残る。これにより、高保磁力領域4bにおける残留磁束密度の低下が抑制される。
次に、図1〜図3を参照して、本発明の第1実施形態によるファラデー回転子100の製造プロセスについて説明する。
まず、円筒形状を有するとともに、貫通孔2a、3aおよび4aが形成された第1磁石体、第2磁石体および第3磁石体をそれぞれ準備する。この第1磁石体、第2磁石体および第3磁石体には、共に、希土類元素R(Nd、Prを主成分とし、Ndを50%以上含む)と、Feを主とする遷移元素と、B(ホウ素)とを主に含むR−Fe−B系焼結磁石を用いる。また、少なくとも第3磁石には、2350kA/mの保磁力を有するR−Fe−B系焼結磁石を用いる。なお、第1磁石体、第2磁石体および第3磁石体は、それぞれ、磁化される前の第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4に対応している。
ここで、第1実施形態では、WO2007/102391に記載の蒸着拡散法(以下、RH拡散法という)に基づいて、第3磁石体の貫通孔4aの内周面近傍に、図3に示す高保磁力領域4bを形成する。具体的には、重希土類元素RH(少なくともDyおよびTbを含む群から選択された少なくとも1種)を含有するバルク体(図示せず)を、第3磁石体と共に処理室(図示せず)内に対向配置する。そして、処理室内のバルク体および第3磁石体を約700℃以上約1000℃以下に加熱することにより、バルク体から重希土類元素RHを第3磁石体の貫通孔4aの内周面側に供給することによって、第3磁石体の内部に拡散させる。必要によりさらに熱処理を行い、第3磁石体のより内部まで重希土類元素RHを拡散させる。
これにより、主相の外殻部(粒界の近傍)に位置するR2Fe14B型化合物の希土類元素Rのうちの軽希土類元素RLが、重希土類元素RHと置換される。この結果、第3磁石体の貫通孔4aの内周面の全域に渡って、図3に示す高保磁力領域4bが内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成される。なお、高保磁力領域4bは、貫通孔4aの内周面から第3磁石4の内部(矢印A方向)に向かって少なくとも約3mmの深さ(厚み)L6を有して形成される。なお、第3磁石体の所定の領域にマスクを形成することによって、マスク以外の部分にのみ高保磁力領域を形成することが可能である。
なお、第3磁石体の貫通孔4aの内周面近傍に高保磁力領域4bを形成する方法として、上記した蒸着拡散法以外の方法を用いてもよい。たとえば、第3磁石体の貫通孔4aの内周面近傍に重希土類元素RHを被着させた後に熱処理をすることによって、第3磁石体の貫通孔4aの内周面近傍に高保磁力領域4bを形成してもよい。
その後、第1磁石体を、軸方向(X方向)と垂直で、かつ、貫通孔2aから離れる方向(矢印A方向)に磁化することによって、第1磁石2を形成する。また、第2磁石体を、軸方向(X方向)と垂直で、かつ、貫通孔3aに向かう方向(矢印B方向)に磁化することによって、第2磁石3を形成する。また、第3磁石体を、軸方向(X方向)と平行で、かつ、第1磁石2(第1磁石体)から第2磁石3(第2磁石体)に向かう方向(矢印X2方向)に磁化することによって、第3磁石4を形成する。
そして、X1側からX2側に向かって第1磁石2、第3磁石4および第2磁石3を、貫通孔2a、3aおよび4aが互いに接続されるように配置する。その後、第1磁石2、第3磁石4および第2磁石3を2液混合式の接着剤を用いて互いに接合する。これにより、ファラデー回転子用磁気回路1が形成される。
最後に、TGGからなるファラデー素子10をファラデー回転子用磁気回路1の貫通孔1aの内部に配置する。この際、ファラデー素子10を、ファラデー素子10のX方向の中央部が貫通孔3aのX方向の中央部に略位置するように配置する。これにより、ファラデー回転子100が製造される。
第1実施形態では、上記のように、高保磁力領域4bを、軸方向(X方向)に沿って第2磁石3から第1磁石2に向かう方向(矢印X1方向)の磁界の近傍である第3磁石4の貫通孔4aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成することによって、第1磁石2と第2磁石3とから構成された磁界に起因する逆磁界による第3磁石4全体での不可逆減磁を抑制することができる。また、高保磁力領域4bは保磁力が高いので、温度上昇に起因する不可逆減磁も抑制することができる。この結果、十分に高い磁界(約1.5T以上約3.0T以下)をファラデー素子10に印加することができるとともに、ある程度の高温(70℃以上80℃以下)の温度条件下であっても、不可逆減磁も抑制することができる。つまり、第1実施形態のファラデー回転子用磁気回路1は、ファラデー回転数が小さいTGGをファラデー素子10として用いた場合に特に適している。
また、第1実施形態では、上記のように、第3磁石4が、希土類元素R(Nd、Prを主成分とし、Ndを50%以上含む)と、Feを主とする遷移元素と、B(ホウ素)とを主に含むR−Fe−B系焼結磁石からなるとともに、高保磁力領域4bを、DyおよびTbの少なくとも一方からなる重希土類元素RHを貫通孔4aの内周面の全域から導入し、正方晶であるR2Fe14B型化合物の結晶粒からなる主相の外殻部(粒界の近傍)に位置する軽希土類元素RL(Nd、Pr)と置換させることによって形成すれば、残留磁束密度の低下を略生じさせることなく、高保磁力領域4bの保磁力を向上させることができる。これにより、ファラデー回転子用磁気回路1の磁界強度を維持しつつ、高保磁力領域4bの保磁力を容易に向上させることができる。
また、第1実施形態では、上記のように、高保磁力領域4bを、貫通孔4aの内周面から第3磁石4の内部(矢印A方向)に向かって少なくとも3mmの深さ(厚み)L6まで形成すれば、逆磁界による不可逆減磁を起こしやすい第3磁石4の貫通孔4aの内部に、内周面から3mmの範囲に渡って高保磁力領域4bを設けることができるので、第3磁石4での不可逆減磁をより抑制することができる。したがって、第1実施形態におけるファラデー回転子用磁気回路1は、TGGをファラデー素子に用いるファラデー回転子に最適である。
また、第1実施形態では、上記のように、第3磁石4を、第1磁石2および第2磁石3のR−Fe−B系焼結磁石と同一のR−Fe−B系焼結磁石か、または、第1磁石2および第2磁石3のR−Fe−B系焼結磁石よりも保磁力が大きなR−Fe−B系焼結磁石からなるように構成すれば、第3磁石4の高保磁力領域4bだけでなく、第3磁石4の高保磁力領域4b以外の部分も保磁力が大きいので、不可逆減磁した高保磁力領域4bを発端として、第3磁石4の全体が不可逆減磁するのをより抑制することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、第3磁石4の高保磁力領域4b以外の部分の保磁力を、少なくとも2350kA/mであるとともに、高保磁力領域4bの保磁力よりも小さくなるように構成すれば、高保磁力領域4bのみならず、高保磁力領域4b以外の少なくとも2350kA/mの高い保磁力を有する第3磁石4の部分によっても、第3磁石4が不可逆減磁するのを抑制することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、第3磁石4が少なくとも約1.0Tの残留磁束密度を有するように構成すれば、テルビウムガリウムガーネット(TGG)の結晶をファラデー素子10として用いる小型のファラデー回転子100においても、十分な磁界強度(約1.5T以上約3.0T以下)を発生させることができる。
また、第1実施形態では、上記のように、第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4の外径L1を、貫通孔2a、3aおよび4aの直径L2の約10倍になるように構成するのがよい。第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4の外径L1を、それぞれ、貫通孔2a、3aおよび4aの直径L2の約10倍になるように構成することにより、ファラデー回転子用磁気回路1において高い磁界強度を形成するのが困難になるのを抑制することができるとともに、ファラデー回転子用磁気回路1における磁界強度が高すぎることに起因して、高保磁力領域4bにおいて不可逆減磁が起きやすくなるのを抑制することができる。
(第1実施形態の第1変形例)
次に、図4および図5を参照して、本発明の第1実施形態の第1変形例について説明する。この第1実施形態の第1変形例によるファラデー回転子200では、上記第1実施形態と異なり、ファラデー回転子用磁気回路201において、個々の断面形状が円弧状(扇形状)を有する磁石片220および230をそれぞれ8つ組み合わせて、1つの第1磁石202および第2磁石203を構成している場合について説明する。
本発明の第1実施形態の第1変形例によるファラデー回転子200のファラデー回転子用磁気回路201は、図4および図5に示すように、円筒形状を有する第1磁石202、第2磁石203および第3磁石4からなる。また、第1磁石202と第2磁石203とは同一の形状を有している。なお、第1磁石202と第2磁石203と第3磁石4とは、X方向に延びる同一の中心軸線1000に沿って配置されている。
また、第1磁石202と第2磁石203の断面(Y−Z平面)の中央には、それぞれ、X方向に延びる貫通孔202aおよび203aが形成されている。なお、貫通孔202aおよび203aは、それぞれ、本発明の「第1貫通孔」および「第2貫通孔」の一例である。
また、第1磁石202および第2磁石203は、それぞれ、中心軸線1000から第1磁石202および第2磁石203の外周面側に向かって放射状に分割されることによって形成された、8つの磁石片220および230が組み合わされて構成されている。この8つの磁石片220および230は、共に、軸方向(X方向)と直交するY−Z平面において、同一の円弧状(扇形状)の断面を有した状態で、X方向に延びるように形成されている。なお、磁石片220および230の円弧の角度は、共に、約45度になるように構成されている。なお、第1実施形態の第1変形例によるその他の構成は、第1実施形態と同様である。
次に、図5を参照して、本発明の第1実施形態の第1変形例によるファラデー回転子200の製造プロセスについて説明する。
まず、8つの磁石片220に対応する8つの磁石体片と、8つの磁石片230に対応する8つの磁石体片と、円筒形状を有するとともに、貫通孔4aが形成された第3磁石体とを準備する。なお、8つの磁石片220に対応する8つの磁石体片と、8つの磁石片230に対応する8つの磁石体片とは、共に、同一の円弧状(扇形状)の断面を有した状態で、X方向に延びるように形成されている。
その後、8つの磁石片220に対応する8つの磁石体片を、軸方向(X方向)と垂直で、かつ、貫通孔202aに対応する部分から離れる方向(矢印A方向)に磁化することによって、8つの磁石片220を形成する。また、8つの磁石片230に対応する8つの磁石体片を、軸方向(X方向)と垂直で、かつ、貫通孔203aに対応する部分に向かう方向(矢印B方向)に磁化することによって、8つの磁石片230を形成する。
そして、図5に示すように、8つの磁石片220および230を、それぞれ、貫通孔2aおよび3aを形成するように周状に配置する。そして、8つの磁石片220および230を、それぞれ、2液混合式の接着剤を用いて互いに接着する。これにより、第1磁石202および第2磁石203がそれぞれ形成される。なお、第1実施形態の第1変形例によるその他の製造プロセスは、第1実施形態と同様である。
また、第1実施形態の第1変形例による効果は、第1実施形態と同様である。
(第1実施形態の第2変形例)
次に、図6および図7を参照して、本発明の第1実施形態の第2変形例について説明する。この第1実施形態の第2変形例によるファラデー回転子300では、上記第1実施形態と異なり、ファラデー回転子用磁気回路301において、四角柱状を有する磁石片320および330をそれぞれ8つ組み合わせて、1つの第1磁石302および第2磁石303を構成している場合について説明する。
本発明の第1実施形態の第2変形例によるファラデー回転子300のファラデー回転子用磁気回路301は、図6および図7に示すように、正八角柱形状を有する第1磁石302、第2磁石303および第3磁石304からなる。また、第1磁石302と第2磁石303とは同一の形状を有している。なお、第1磁石302と第2磁石303と第3磁石304とは、X方向に延びる同一の中心軸線1000に沿って配置されている。
第1磁石302、第2磁石303および第3磁石304は、共に、中心軸線1000に沿った軸方向(X方向)と直交するY−Z平面において正八角形の断面形状を有した状態で、X方向に延びるように形成されている。また、第1磁石302、第2磁石303および第3磁石304の断面(Y−Z平面)の中央には、それぞれ、X方向に延びる貫通孔302a、303aおよび304aが形成されている。この貫通孔302a、303aおよび304aは、正八角形の断面(Y−Z平面)を有している。なお、貫通孔302a、303aおよび304aは、それぞれ、本発明の「第1貫通孔」、「第2貫通孔」および「第3貫通孔」の一例である。
また、第1磁石302および第2磁石303は、それぞれ、中心軸線1000から第1磁石302および第2磁石303の外周面側に向かって放射状に分割されることによって形成された、8つの磁石片320および330が組み合わされて構成されている。この8つの磁石片320および330は、四角柱形状を有するとともに、軸方向(X方向)と直交するY−Z平面において同一の台形状の断面を有した状態で、X方向に延びるように形成されている。
また、第3磁石304には、高保磁力領域304bが形成されている。この高保磁力領域304bは、貫通孔304aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成されている。なお、第1実施形態の第2変形例によるその他の構成は、第1実施形態と同様である。
次に、図7を参照して、本発明の第1実施形態の第2変形例によるファラデー回転子300の製造プロセスについて説明する。
まず、8つの磁石片320に対応する8つの磁石体片と、8つの磁石片330に対応する8つの磁石体片と、正八角柱形状を有するとともに、貫通孔304aが形成された第3磁石体とを準備する。なお、8つの磁石片320に対応する8つの磁石体片と、8つの磁石片330に対応する8つの磁石体片とは、同一の台形状の断面を有した状態で、X方向に延びるように形成されている。なお、第3磁石体は、磁化される前の第3磁石304に対応する。
そして、第3磁石体の貫通孔304aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に高保磁力領域304bを形成する。
その後、8つの磁石片320に対応する8つの磁石体片を、軸方向(X方向)と垂直で、かつ、貫通孔302aに対応する部分から離れる方向(矢印A方向)に磁化することによって、8つの磁石片320を形成する。また、8つの磁石片330に対応する8つの磁石体片を、軸方向(X方向)と垂直で、かつ、貫通孔303aに対応する部分に向かう方向(矢印B方向)に磁化することによって、8つの磁石片330を形成する。また、第3磁石304に対応する第3磁石体を、軸方向(X方向)と平行で、かつ、第1磁石302(第1磁石体)から第2磁石303(第2磁石体)に向かう方向(矢印X2方向)に磁化することによって、第3磁石304を形成する。
そして、図7に示すように、8つの磁石片320および330を、それぞれ、貫通孔302aおよび303aを形成するように周状に配置する。そして、8つの磁石片320および330を、それぞれ、2液混合式の接着剤を用いて互いに接着する。これにより、第1磁石302および第2磁石303がそれぞれ形成される。なお、第1実施形態の第2変形例によるその他の製造プロセスは、第1実施形態と同様である。
また、第1実施形態の第2変形例による効果は、第1実施形態と同様である。
[実施例1]
次に、図1〜図8を参照して、上記第1実施形態と上記第1実施形態の第1変形例および第2変形例によるファラデー回転子用磁気回路1、200および300の組成を確認するために行ったパーミアンス係数の分布状態のシミュレーションと、不可逆減磁温度測定とについて説明する。
(パーミアンス係数の分布状態のシミュレーション)
まず、図1、図2および図8を参照して、パーミアンス係数の分布状態のシミュレーションについて説明する。パーミアンス係数の分布状態のシミュレーションでは、図1および図2に示す第1実施形態に対応する第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4からなるファラデー回転子用磁気回路1を想定して、ファラデー回転子用磁気回路1におけるパーミアンス係数の分布状態をシミュレーションにより求めた。なお、パーミアンス係数とは、磁石の特性を示す減磁曲線における、磁石動作点と原点とを結んだ直線の傾きのことである。このパーミアンス係数が大きい場合には、磁石において不可逆減磁が起こりにくいことを示す一方、パーミアンス係数が小さい場合には、磁石において不可逆減磁が起こりやすいことを示す。
具体的な構成としては、図2に示すように、第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4の断面(Y−Z平面)における外径L1は、50mmであり、貫通孔2a、3aおよび4aの直径L2は、5mmであると想定した。また、第1磁石2および第2磁石3のX方向の長さL4は、共に20mmであり、第3磁石4のX方向の長さL5は、5mmであると想定した。
また、第1磁石2および第2磁石3は、残留磁束密度が1.30Tであり、保磁力が1270kA/mであると想定した。また、第3磁石4は、残留磁束密度が1.14Tであり、保磁力が2350kA/mであると想定した。
図8に示すパーミアンス係数の分布状態のシミュレーション結果から、第3磁石4の貫通孔4aの内周面近傍は、パーミアンス係数が小さく不可逆減磁が起こりやすいことが分かった。これにより、第3磁石4の貫通孔4aの少なくとも内周面近傍に高保磁力層を設けることによって、第3磁石4が不可逆減磁するのを抑制できることが判明した。
また、特に、第3磁石4の貫通孔4aの内周面のうちの、X方向に沿った第3磁石4の中心部4cにおいては、パーミアンス係数が小さく不可逆減磁が起こりやすいことが分かった。また、中心部4cにおいては、パーミアンス係数が小さい領域が、他の貫通孔4aの内周面よりも、貫通孔4aの内周面から深い位置にまで存在することが分かった。さらに、パーミアンス係数が小さい領域は、第3磁石4の中心部4cにおいて、貫通孔4aの内周面から3mm(距離L7)の範囲まで形成されていることが分かった。これにより、少なくとも第3磁石4の中心部4cにおいて、貫通孔4aの内周面から3mm以上の深さまで高保磁力領域4bを設けることによって、第3磁石4が不可逆減磁するのをより抑制できることが判明した。
(不可逆減磁温度測定)
次に、図2、図5および図7を参照して、不可逆減磁温度測定について説明する。不可逆減磁温度測定では、上記第1実施形態の第1変形例に対応する実施例1として、図5に示す高保磁力領域4bが設けられた第3磁石4を備えるファラデー回転子用磁気回路201を作製した。また、実施例1に対する比較例1として、高保磁力領域が設けられていない第3磁石を備えるファラデー回転子用磁気回路を作製した。
具体的には、実施例1および比較例1において、第1磁石、第2磁石および第3磁石が、共に、残留磁束密度が1.14Tであり、保磁力が2350kA/mであるR−Fe−B系焼結磁石(日立金属株式会社製 NMX―33UH)からなるように構成した。
また、上記第1実施形態の第2変形例に対応する実施例2として、図7に示す高保磁力領域304bが設けられた第3磁石304を備えるファラデー回転子用磁気回路301を作製した。一方、実施例2に対する比較例2として、高保磁力領域が設けられていない第3磁石を備えるファラデー回転子用磁気回路を作製した。
具体的には、実施例2および比較例2において、第1磁石および第2磁石が、共に、残留磁束密度が1.30Tであり、保磁力が1270kA/mであるR−Fe−B系焼結磁石(日立金属株式会社製 NMX―43SH)からなるように構成した。また、第3磁石が、残留磁束密度が1.14Tであり、保磁力が2350kA/mであるR−Fe−B系焼結磁石(日立金属株式会社製 NMX―33UH)からなるように構成した。
また、上記第1実施形態の第1変形例に対応する実施例3として、図5に示す高保磁力領域4bが設けられた第3磁石4を備えるファラデー回転子用磁気回路201を作製した。また、実施例3に対する比較例3として、高保磁力領域が設けられていない第3磁石を備えるファラデー回転子用磁気回路を作製した。
具体的には、実施例3および比較例3において、第1磁石および第2磁石が、共に、残留磁束密度が1.30Tであり、保磁力が1270kA/mであるR−Fe−B系焼結磁石(日立金属株式会社製 NMX―43SH)からなるように構成した。また、第3磁石が、残留磁束密度が1.14Tであり、保磁力が2350kA/mであるR−Fe−B系焼結磁石(日立金属株式会社製 NMX―33UH)からなるように構成した。
また、実施例1〜3と比較例1〜3とにおいて、共に、第1磁石、第2磁石および第3磁石の断面(Y−Z平面)における外径L1(図2参照)は、50mmであり、貫通孔の直径L2(図2参照)は、5mmであるように構成した。また、第1磁石および第2磁石のX方向の長さL4(図2参照)は、20mmであり、第3磁石のX方向の長さL5(図2参照)は、5mmであるように構成した。残留磁束密度、保磁力はB−Hトレーサで測定した。
また、実施例1〜3においては、それぞれ、第3磁石4(304)の貫通孔4a(304a)の内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に、高保磁力領域4b(304b)を形成した。具体的には、WO2007/102391に記載の方法によって、RH拡散源であるバルク体と第3磁石とを対向配置した状態で、900℃に加熱し、Dyからなる重希土類元素RHを第3磁石体の貫通孔4a(304a)の内周面側から導入し、第3磁石体の内部に拡散させた。さらに、800℃で熱処理を行なった。これにより、主相の外殻部(粒界の近傍)に位置するR2Fe14B型化合物の希土類元素Rのうちの軽希土類元素RLを、重希土類元素RHと置換することによって高保磁力領域4b(304b)を形成した。また、高保磁力領域4b(304b)を、貫通孔4a(304a)の内周面から第3磁石4(304)の内部(矢印A方向)に向かって3mmの深さ(厚み)L6(図2参照)まで形成した。
また、実施例1〜3と比較例1〜3とにおいて、X1側からX2側に向かって第1磁石、第3磁石および第2磁石を2液混合式の接着剤を用いて互いに接合した。
そして、室温(20℃)の温度条件下における実施例1および2と比較例1および2とにおいて、ファラデー素子が配置される貫通孔(第3貫通孔)における磁界強度を磁気プローブ(図示せず)を用いてそれぞれ測定した。
また、室温(20℃)の温度条件下における実施例1および2と比較例1および2とにおいて、第3磁石の貫通孔の内周面における残留磁束密度および保磁力をB−Hトレーサを用いて測定した。ここで、実施例1および2の第3磁石4の貫通孔4aの内周面における残留磁束密度および保磁力は、実施例1および2の第3磁石と同じ磁石(NMX−33UH)および同じRH拡散条件にて作製し、高保磁力領域4b(304b)のみ切り出してB−Hトレーサによって測定した。
実施例1および2と比較例1および2とにおいて、室温(20℃)から所定の温度(55℃、70℃および80℃)まで上昇させた後、再度、20℃まで温度を減少させることによって、ファラデー回転子用磁気回路に温度履歴を加えた。そして、温度履歴を加えた後の第3磁石の貫通孔での磁界強度を磁気プローブ(図示せず)を用いてそれぞれ測定した。この際、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%未満であった場合に、不可逆減磁が生じたと判断し、不可逆減磁が生じた際の所定の温度(55℃、70℃および80℃)を不可逆減磁温度であるとした。これらの結果を下記表1に示す。
Figure 2011078381
また、実施例3と比較例3とのファラデー回転子用磁気回路において、室温(20℃)から所定の温度(55℃、70℃、80℃および100℃)まで上昇させた後、再度、20℃まで温度を減少させることによって、ファラデー回転子用磁気回路に温度履歴を加えた。そして、温度履歴を加える前の磁界強度に対する温度履歴を加えた後の磁界強度の大きさ(%)を測定した。この結果を下記表2に示す。
Figure 2011078381
表1に示す実験結果としては、第1磁石および第2磁石に残留磁束密度が1.30TのR−Fe−B系焼結磁石を用いた実施例2および比較例2の磁界強度(2.3T)は、第1磁石および第2磁石に残留磁束密度が1.14TのR−Fe−B系焼結磁石を用いた実施例1および比較例1の磁界強度(2.0T)よりも大きくなった。
また、第3磁石4(304)に高保磁力領域4b(304b)を設けた実施例1および2では、第3磁石の貫通孔の内周面における保磁力は、2800kA/mになり、第3磁石4(304)の高保磁力領域4b(304b)以外の部分における保磁力(2350kA/m)よりも大きくなった。また、第3磁石に高保磁力領域を設けていない比較例1では、第3磁石の通常の保磁力(2350kA/m)になった一方、第3磁石に高保磁力領域を設けていない比較例2では、保磁力が1680kA/mになった。これは、比較例2の磁界強度(2.3T)は、比較例1の磁界強度(2.0T)よりも高いため、比較例2のファラデー回転子用磁気回路を製造した段階で、すでに第1磁石と第2磁石とから構成された磁界に起因する逆磁界によって第3磁石に不可逆減磁が発生したからであると考えられる。
また、表1に示す第3磁石4(304)に高保磁力領域4b(304b)を設けた実施例1および2では、不可逆減磁温度が測定できなかった。つまり、実施例1および2の不可逆減磁温度は、80℃より大きくなった。また、表2に示す第3磁石4に高保磁力領域4bを設けた実施例3の実測値では、80℃以下の温度範囲において、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%以上であった一方、100℃において、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%未満であった。つまり、実施例3の不可逆減磁温度は、100℃であった。これは、実施例1〜3において、不可逆減磁が起こりやすい第3磁石4(304)の貫通孔4a(304a)の内周面近傍に高保磁力領域4b(304b)を設けたので、80℃以下の温度範囲において不可逆減磁を抑制できたからであると考えられる。
一方、第3磁石に高保磁力領域を設けなかった比較例1では、不可逆減磁温度が55℃であった。また、表2に示す第3磁石に高保磁力領域を設けなかった比較例3の実測値では、55℃以下の温度範囲において、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%以上であった一方、70℃以上の温度範囲において、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%未満であった。つまり、比較例3の不可逆減磁温度は、70℃であった。これは、比較例1および3において、55℃以上の温度範囲(比較例1)および70℃以上の温度範囲(比較例3)で、第3磁石の貫通孔の内周面近傍において不可逆減磁が発生したと考えられる。そして、不可逆減磁した部分を発端として、第3磁石の他の領域においても不可逆減磁したため、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%未満になったと考えられる。
(第2実施形態)
次に、図9および図10を参照して、本発明の第2実施形態について説明する。この第2実施形態によるファラデー回転子400では、上記第1実施形態と異なり、ファラデー回転子用磁気回路401の第1磁石2および第2磁石3が、第3磁石4を挟んで、中心軸線1000の延びる軸方向に沿って交互に配置されている場合について説明する。
本発明の第2実施形態によるファラデー回転子400のファラデー回転子用磁気回路401は、図9に示すように、円筒形状を有する2つの第1磁石2と、2つの第2磁石3と、3つの第3磁石4とからなる。また、ファラデー回転子用磁気回路401では、中心軸線1000の延びる軸方向(X方向)に沿って、第1磁石2と第2磁石3とが、第3磁石4を間に挟んで交互に並ぶように配置されている。具体的には、X1側からX2側に向かって、第1磁石2、第3磁石4、第2磁石3、第3磁石4、第1磁石2、第3磁石4および第2磁石3の順に配置されている。
また、3つの第3磁石4は、軸方向(X方向)と平行で、かつ、第1磁石2から第2磁石3に向かう方向に磁化されている。つまり、X1側に第1磁石2が位置する第3磁石4(両端側の2つ)は、矢印X2方向に磁化されている一方、X2側に第1磁石2が位置する第3磁石4(中央側の1つ)は、矢印X1方向に磁化されている。
また、図10に示すように、3つの第3磁石4の貫通孔4aの内周面近傍には、高保磁力領域4bが形成されている。この高保磁力領域4bは、第3磁石4の貫通孔4aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成されている。なお、第2実施形態によるその他の構造は、第1実施形態と同様である。
次に、図9および図10を参照して、本発明の第2実施形態によるファラデー回転子400の製造プロセスについて説明する。
まず、第1実施形態と同様の製造プロセスによって、2つの第1磁石2、2つの第2磁石3および3つの第3磁石4を形成する。
その後、2つの第1磁石2、2つの第2磁石3および3つの第3磁石4を、X1側からX2側に向かって第1磁石2、第3磁石4、第2磁石3、第3磁石4、第1磁石2、第3磁石4および第2磁石3の順に配置する。そして、配置した第1磁石2、第2磁石3および第3磁石4を2液混合式の接着剤を用いて互いに接合する。この際、X1側に第1磁石2が位置する第3磁石4(両端側の2つ)は、磁化の方向が矢印X2方向になるように配置するとともに、X2側に第1磁石2が位置する第3磁石4(中央側の1つ)は、磁化の方向が矢印X1方向になるように配置する。これにより、ファラデー回転子用磁気回路401が形成される。なお、第2実施形態によるその他の製造プロセスは、第1実施形態と同様である。
第2実施形態では、上記のように、高保磁力領域4bを、3つの第3磁石4の貫通孔4aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成することによって、不可逆減磁を起こしやすい第3磁石4の貫通孔4aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように他の部分よりも保磁力の高い高保磁力領域4bを設けることができるので、高保磁力領域4bおよび第3磁石4の全体での不可逆減磁を抑制することができる。また、高保磁力領域4bは保磁力が高いので、温度上昇に起因する不可逆減磁も抑制することができる。
また、第2実施形態では、上記のように、X1側からX2側に向かって、第1磁石2、第3磁石4、第2磁石3、第3磁石4、第1磁石2、第3磁石4および第2磁石3の順に配置すれば、第1実施形態のファラデー回転子用磁気回路1を有するファラデー回転子100では十分なファラデー効果が得られない場合であっても、第1磁石2と第2磁石3とを第3磁石4を間に挟んで軸方向に沿って交互に並ぶように配置することによって、複数単位のファラデー回転子用磁気回路401を形成することができるので、十分なファラデー効果が得られるようにファラデー回転子400を構成することができる。なお、第2実施形態によるその他の効果は、第1実施形態と同様である。
(第2実施形態の変形例)
次に、図11を参照して、本発明の第2実施形態の変形例について説明する。この第2実施形態の変形例によるファラデー回転子500では、上記第2実施形態と異なり、ファラデー回転子用磁気回路501において、個々の断面形状が円弧状(扇形状)を有する磁石片220および230をそれぞれ8つ組み合わせて、1つの第1磁石202および第2磁石203を構成している場合について説明する。
本発明の第2実施形態の変形例によるファラデー回転子500のファラデー回転子用磁気回路501は、図11に示すように、円筒形状を有する2つの第1磁石202と、2つの第2磁石203と、3つの第3磁石4とからなる。また、第1磁石202と第2磁石203とは、共に、上記した第1実施形態の第1変形例と同一の構成を有している。つまり、第1磁石202および第2磁石203は、それぞれ、8つの磁石片220および230が組み合わされて構成されている。なお、第2実施形態の変形例によるその他の構成は、第2実施形態と同様である。
また、本発明の第2実施形態によるファラデー回転子500の製造プロセスでは、第1実施形態の第1変形例と同様の製造プロセスによって、8つの磁石片220が組み合わされた2つの第1磁石202と、8つの磁石片230が組み合わされた2つの第2磁石203と、3つの第3磁石4を形成する。なお、第2実施形態の変形例によるその他の製造プロセスは、第2実施形態と同様である。
また、第2実施形態の変形例による効果は、第2実施形態と同様である。
[実施例2]
次に、図10および図11を参照して、上記第2実施形態の変形例によるファラデー回転子用磁気回路501の組成を確認するために行った不可逆減磁温度測定について説明する。
(不可逆減磁温度測定)
不可逆減磁温度測定では、図11に示す第2実施形態の変形例に対応する実施例4として、高保磁力領域4b(図10参照)が設けられた3つの第3磁石4を備えるファラデー回転子用磁気回路501を作製した。また、実施例4に対する比較例4として、高保磁力領域が設けられていない3つの第3磁石を備えるファラデー回転子用磁気回路を作製した。
具体的には、実施例4および比較例4において、第1磁石および第2磁石が、共に、残留磁束密度が1.30Tであり、保磁力が1270kA/mであるR−Fe−B系焼結磁石(日立金属株式会社製 NMX―43SH)からなるように構成した。また、第3磁石が、残留磁束密度が1.14Tであり、保磁力が2350kA/mであるR−Fe−B系焼結磁石(日立金属株式会社製 NMX―33UH)からなるように構成した。
また、実施例4と比較例4とにおいて、共に、第1磁石、第2磁石および第3磁石の断面(Y−Z平面)における外径L1(図10参照)は、50mmであり、貫通孔の直径L2(図10参照)は、5mmであるように構成した。また、第1磁石および第2磁石のX方向の長さL4(図10参照)は、20mmであり、第3磁石のX方向の長さL5(図10参照)は、5mmであるように構成した。
また、実施例4においては、3つの第3磁石4の貫通孔4aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に、高保磁力領域4bを形成した。また、高保磁力領域4bを、貫通孔4aの内周面から第3磁石4の内部(矢印A方向)に向かって3mmの深さ(厚み)L6(図10参照)まで形成した。
なお、実施例4と比較例4とにおいて、X1側からX2側に向かって、第1磁石、第3磁石、第2磁石、第3磁石、第1磁石、第3磁石および第2磁石の順に並ぶように2液混合式の接着剤を用いて互いに接合した。この際、X1側に第1磁石が位置する第3磁石(両端側の2つ)は、磁化の方向が矢印X2方向になるように配置するとともに、X2側に第1磁石が位置する第3磁石(中央側の1つ)は、磁化の方向が矢印X1方向になるように配置した。
また、実施例4と比較例4とのファラデー回転子用磁気回路において、室温(20℃)から所定の温度(55℃、70℃、80℃および100℃)まで上昇させた後、再度、20℃まで温度を減少させることによって、ファラデー回転子用磁気回路に温度履歴を加えた。そして、温度履歴を加える前の磁界強度に対する温度履歴を加えた後の磁界強度の大きさ(%)を測定した。この結果を下記表3に示す。
Figure 2011078381
表3に示す実験結果としては、3つの第3磁石4に高保磁力領域4bを設けた実施例4では、80℃以下の温度範囲において、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%以上であった一方、100℃において、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%未満であった。つまり、実施例4の不可逆減磁温度は、100℃であった。これは、実施例4において、不可逆減磁が起こりやすい第3磁石4の貫通孔4aの内周面近傍に高保磁力領域4bを設けたので、80℃以下の温度範囲において、不可逆減磁を抑制できたからであると考えられる。
一方、3つの第3磁石に高保磁力領域を設けなかった比較例4では、55℃以下の温度範囲において、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%以上であった一方、70℃以上の温度範囲において、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%未満であった。つまり、比較例4の不可逆減磁温度は、70℃であった。これは、比較例4において、70℃以上の温度範囲で、第3磁石の貫通孔の内周面近傍において不可逆減磁が発生したと考えられる。そして、不可逆減磁した部分を発端として、第3磁石の他の領域においても不可逆減磁したため、温度履歴を加えた後の磁界強度の値が、温度履歴を加える前の磁界強度の値の99%未満になったと考えられる。
(第3実施形態)
次に、図12および図13を参照して、本発明の第3実施形態について説明する。この第3実施形態によるファラデー回転子600では、上記第1実施形態と異なり、ファラデー回転子用磁気回路601の第3磁石604が、中心軸線1000に直交する断面(Y−Z平面)で2つに分断されている場合について説明する。
本発明の第3実施形態によるファラデー回転子600のファラデー回転子用磁気回路601では、図12および図13に示すように、円筒状の第3磁石604は、X1側に位置する円筒状の磁石片640と、X2側に位置する円筒状の磁石片650とが、中心軸線1000に沿った軸方向(X方向)に組み合わされることによって形成されている。この磁石片640および650は、第3磁石604のX方向の中心を通るY−Z平面により、第3磁石604がX1側およびX2側に分断されることによって形成されている。なお、磁石片640および650は、本発明の「第1磁石片」の一例である。
また、磁石片640および650は、それぞれ、貫通孔640aおよび650aと、高保磁力領域640bおよび650bとを有している。この貫通孔640aおよび650aが互いに接続されることによって、貫通孔604aが形成されている。また、貫通孔640aおよび650aは、それぞれ、貫通孔2aおよび3aと接続されるように構成されている。なお、貫通孔604aは、本発明の「第3貫通孔」の一例である。
また、高保磁力領域640bおよび650bが組み合わされることによって、高保磁力領域604bが形成されている。また、高保磁力領域640bおよび650b(高保磁力領域604b)は、貫通孔640aおよび650a(貫通孔604a)の内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成されている。なお、高保磁力領域640bおよび650bは、本発明の「第2高保磁力領域」の一例である。また、第3実施形態によるその他の構造は、第1実施形態と同様である。
次に、図13を参照して、本発明の第3実施形態によるファラデー回転子600の製造プロセスについて説明する。
まず、磁石片640および650に対応する2つの円筒状の磁石体片を準備する。そして、2つの磁石体片の貫通孔640aおよび650aの内周面の全域に渡って、それぞれ、高保磁力領域640bおよび650bを形成する。その後、2つの磁石体片を、軸方向(X方向)と平行で、かつ、第1磁石2(第1磁石体)から第2磁石3(第2磁石体)に向かう方向(矢印X2方向)に磁化することによって、図13に示す磁石片640および650を形成する。
その後、磁石片640および650を、貫通孔640aおよび650aが互いに接続されるように、軸方向(X方向、図1および図2参照)に沿うように配置する。そして、磁石片640および650を2液混合式の接着剤を用いて互いに接合する。これにより、図13に示す第3磁石604が形成される。なお、第3実施形態によるその他の製造プロセスは、第1実施形態と同様である。
第3実施形態では、上記のように、高保磁力領域640bおよび650bを、それぞれ、磁石片640の貫通孔640aの内周面および磁石片650の貫通孔650aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成することによって、不可逆減磁を起こしやすい磁石片640の貫通孔640aの内周面および磁石片650の貫通孔650aの内周面の全域に渡って、他の部分よりも保磁力の高い高保磁力領域640bおよび650bをそれぞれ設けることができるので、高保磁力領域604bおよび第3磁石604の全体での不可逆減磁を抑制することができる。また、高保磁力領域640bおよび650bは保磁力が高いので、温度上昇に起因する不可逆減磁も抑制することができる。
また、第3実施形態では、上記のように、第3磁石604のX方向の中心を通るY−Z平面により、第3磁石604がX1側およびX2側に分断されることによって形成された磁石片640および650が軸方向に組み合わされて、高保磁力領域640bおよび650bからなる高保磁力領域604bが形成されるとともに、高保磁力領域640bおよび650b(高保磁力領域604b)を、それぞれ、磁石片640の貫通孔640aの内周面および磁石片650の貫通孔650a(貫通孔604a)の内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成することによって、貫通孔604aの内周面を磁石片640および650に分割することができるので、第3磁石604の軸方向(X方向)の厚みが大きい状態で高保磁力領域604bを設ける場合と比べて、個々の磁石片640および650の内周面に、確実に高保磁力領域640bおよび650bを設けることができる。これにより、高保磁力領域640bおよび650bが設けられている磁石片640および650を組み合わせることによって、第3磁石604の高保磁力領域604bをより確実に形成することができる。なお、第3実施形態によるその他の効果は、第1実施形態と同様である。
(第4実施形態)
次に、図14および図15を参照して、本発明の第4実施形態について説明する。この第4実施形態によるファラデー回転子700では、上記第1実施形態と異なり、ファラデー回転子用磁気回路701の第3磁石704が、中心軸線1000に沿った軸方向(X方向)に4つに分断されている場合について説明する。
本発明の第4実施形態によるファラデー回転子700のファラデー回転子用磁気回路701は、図14および図15に示すように、正四角柱形状を有する第1磁石702、第2磁石703および第3磁石704からなる。この第1磁石702、第2磁石703および第3磁石704の断面(Y−Z平面)の中央には、それぞれ、正方形の断面形状を有する貫通孔702a、703aおよび704a(図15参照)が形成されている。また、第1磁石702、第2磁石703および第3磁石704は、Z方向に延びるように形成されている。なお、貫通孔702a、703aおよび704aは、それぞれ、本発明の「第1貫通孔」、「第2貫通孔」および「第3貫通孔」の一例である。
また、第1磁石702、第2磁石703および第3磁石704は、それぞれ、中心軸線1000から第1磁石702、第2磁石703および第3磁石704の外周面側に向かって放射状に分割されることによって形成された、4つの磁石片720、730および760が組み合わされて構成されている。この4つの磁石片720、730および760は、共に、軸方向(X方向)と直交するY−Z平面において、正方形の4角のうち、貫通孔702a、703aおよび704aに対応する部分が正方形状に切り取られた形状の断面を有する。また、貫通孔702a、703aおよび704aは、それぞれ、磁石片720、730および760が周状に組み合わされることによって形成されている。
また、第1磁石702は、軸方向(X方向)と垂直な方向に磁化した4つの磁石片720を組み合わせることによって、X1側から見て、中心軸線1000を回転軸として時計回りに磁化されている。また、第2磁石703は、軸方向(X方向)と垂直な方向に磁化した4つの磁石片730を組み合わせることによって、X1側から見て、中心軸線1000を回転軸として反時計回りに磁化されている。
また、4つの磁石片760の貫通孔704a側の内周面近傍には、それぞれ高保磁力領域760bが形成されている。この4つの高保磁力領域760bが組み合わされることによって、第3磁石704の高保磁力領域704bが形成されている。なお、高保磁力領域704bは、貫通孔704aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成されている。なお、第4実施形態によるその他の構造は、第1実施形態と同様である。
次に、図15を参照して、本発明の第4実施形態によるファラデー回転子700の製造プロセスについて説明する。
まず、4つの磁石片720に対応する4つの磁石体片と、4つの磁石片730に対応する4つの磁石体片と、4つの磁石片760に対応する4つの磁石体片とを準備する。なお、12個の磁石体片は、4つの磁石片720に対応する4つの磁石体片、4つの磁石片730に対応する4つの磁石体片および4つの磁石片760に対応する4つの磁石体片は、それぞれ、貫通孔702a、703aおよび704aが形成された状態で、磁化方向が図15の白抜き矢印方向に延びるように形成されている。
そして、4つの磁石片760に対応する4つの磁石体片の貫通孔704a側の内周面近傍に高保磁力領域760bを形成する。その後、磁石体片をそれぞれ所定の方向(白抜き矢印の方向)に磁化することによって、4つの磁石片720、4つの磁石片730および4つの磁石片760を形成する。
そして、4つの磁石片720、4つの磁石片730および4つの磁石片760を、それぞれ、貫通孔702a、703aおよび704aを形成するように周状に配置する。この際、4つの磁石片720を、X1側から見て、中心軸線1000を回転軸として時計回りに磁化するように配置する。また、4つの磁石片730を、X1側から見て、中心軸線1000を回転軸として反時計回りに磁化するように配置する。また、4つの磁石片760を、軸方向(X方向)と平行で、かつ、第1磁石702から第2磁石703に向かう方向に磁化するように配置する。そして、4つの磁石片720、4つの磁石片730および4つの磁石片760を、それぞれ、2液混合式の接着剤を用いて互いに接着する。これにより、第1磁石702、第2磁石703および第3磁石704がそれぞれ形成される。なお、第4実施形態によるその他の製造プロセスは、第1実施形態と同様である。
第4実施形態では、上記のように、高保磁力領域704bを、第3磁石704の貫通孔704aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に形成することによって、不可逆減磁を起こしやすい第3磁石704の貫通孔704aの内周面の全域に渡って、他の部分よりも保磁力の高い高保磁力領域704bを設けることができるので、高保磁力領域704bおよび第3磁石704の全体での不可逆減磁を抑制することができる。また、高保磁力領域704bは保磁力が高いので、温度上昇に起因する不可逆減磁も抑制することができる。
また、第4実施形態では、上記のように、第3磁石704を軸方向(X方向)に沿って分割することによって形成された4つの磁石片760を組み合わせることによって、貫通孔704aの内周面の全域に渡って、内周面を取り囲むように層状、かつ、周状に4つの高保磁力領域760bからなる高保磁力領域704bを形成すれば、貫通孔704aの内周面を4つの磁石片760に分割することができるので、貫通孔704aが形成されている状態で貫通孔704aの内周面に高保磁力領域704bを設ける場合と比べて、4つの磁石片760うち、分割された貫通孔704aの内周面に対応する面に、確実に高保磁力領域760bを設けることができる。これにより、高保磁力領域760bが設けられている4つの磁石片760を組み合わせることによって、第3磁石704の高保磁力領域704bをより確実に形成することができる。なお、第4実施形態によるその他の効果は、第1実施形態と同様である。
(第4実施形態の変形例)
次に、図16を参照して、本発明の第4実施形態の変形例について説明する。この第4実施形態の変形例によるファラデー回転子800では、上記第4実施形態と異なり、ファラデー回転子用磁気回路801の第1磁石802、第2磁石803および第3磁石804が、それぞれ、直方体状の4つの磁石片820、830および870からなる場合について説明する。
本発明の第4実施形態の変形例によるファラデー回転子800のファラデー回転子用磁気回路801では、図16に示すように、第1磁石802、第2磁石803および第3磁石804は、それぞれ、直方体状の4つの磁石片820、830および870が組み合わされることによって形成されている。また、第1磁石802、第2磁石803および第3磁石804の軸方向(X方向)と直交する断面(Y−Z平面)の中央には、それぞれ、正方形の断面形状を有する貫通孔802a、803aおよび804aが形成されている。また、貫通孔802a、803bおよび804aは、それぞれ、直方体状の4つの磁石片820、830および870が周状に組み合わされることによって形成されている。なお、貫通孔802a、803bおよび804aは、それぞれ、本発明の「第1貫通孔」、「第2貫通孔」および「第3貫通孔」の一例である。
なお、第4実施形態の変形例によるその他の構造、製造プロセスおよび効果は、第4実施形態と同様である。
(第5実施形態)
次に、図17を参照して、本発明の第5実施形態について説明する。この第5実施形態によるファラデー回転子900では、上記第1実施形態と異なり、ファラデー回転子用磁気回路901の第3磁石904の内周面に両端部4dおよび4e側から中央部4c側に向かって分布範囲が大きくなるように高保磁力領域904bが形成されている場合について説明する。
本発明の第5実施形態によるファラデー回転子900のファラデー回転子用磁気回路901では、図17に示すように、第3磁石904の貫通孔4aの内周面に高保磁力領域904bが形成されている。この高保磁力領域904bでは、貫通孔4aの内周面から第3磁石904の内部(矢印A方向)に向かう分布範囲(深さ)が、第3磁石904のX1側およびX2側の両端部4dおよび4eから、中央部4c側に向かって徐々に大きくなるように構成されている。なお、第5実施形態によるその他の構造は、第1実施形態と同様である。
また、第5実施形態による製造プロセスは、高保磁力領域904bを、貫通孔4aの内周面から第3磁石904の内部(矢印A方向)に向かう分布範囲が、第3磁石904のX1側およびX2側の両端部4dおよび4eから中央部4c側に向かって徐々に大きくなるように貫通孔4aの内周面に形成することを除いて、第1実施形態と同様である。
第5実施形態では、上記のように、高保磁力領域904bを、貫通孔4aの内周面から第3磁石904の内部(矢印A方向)に向かう分布範囲が、第3磁石904のX1側およびX2側の両端部4dおよび4eから、中央部4c側に向かって徐々に大きくなるように構成することによって、不可逆減磁を起こしやすい第3磁石904の貫通孔4aの内周面に、他の部分よりも保磁力の高い高保磁力領域904bを設けることができるので、高保磁力領域904bおよび第3磁石904の全体での不可逆減磁を抑制することができる。また、高保磁力領域904bは保磁力が高いので、温度上昇に起因する不可逆減磁も抑制することができる。また、高保磁力領域904bを、逆磁界による不可逆減磁をより起こしやすい中央部4cでより広い範囲に分布させることができるので、第3磁石904の中央部4cでの不可逆減磁を、より少ない重希土類元素RHの濃化により効果的に抑制することができる。なお、第5実施形態によるその他の効果は、第1実施形態と同様である。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記第1〜第5実施形態では、第3磁石の内周面側にのみ高保磁力領域を設けた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第3磁石の表面の全域から重希土類元素RHを第3磁石の内部に拡散させることによって、第3磁石の全域に渡って高保磁力領域を設けてもよい。これにより、第3磁石の全体での不可逆減磁をより抑制することが可能である。
また、上記第1〜第5実施形態では、第3磁石にのみ高保磁力領域を設けた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第3磁石だけでなく、第1磁石および第2磁石にも高保磁力領域を設けてもよい。この場合、図8に示すパーミアンス係数の分布状態に関するシミュレーションの結果から、第1磁石および第2磁石においては、貫通孔の内側面および外周面における軸方向の中央部に高保磁力領域を設けるのが好ましい。
また、上記第1〜第5実施形態では、RH拡散法に基づいて、重希土類元素RHを第3磁石体および磁石体片の貫通孔側から第3磁石体および磁石体片の内部に拡散させることによって、高保磁力領域を形成した例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第3磁石および磁石片を内径側磁石片と外径側磁石片とから構成し、内径側磁石片の貫通孔の内側面または内径側磁石片の全体にRH拡散法を施すことによって、内径側磁石片に高保磁力領域を形成する。その後、内径側磁石片と外径側磁石片とを接着することによって、第3磁石および磁石片を形成してもよい。このとき、高保磁力領域は、貫通孔の内周面から第3磁石および磁石片の内部に向かって少なくとも3mmの深さまで形成されるのが好ましい。
また、上記第1〜第5実施形態では、第3磁石として、約2350kA/mの保磁力を有するR−Fe−B系焼結磁石を用いた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第3磁石として、約2350kA/mよりも大きい保磁力を有するR−Fe−B系焼結磁石を用いてもよいし、R−Fe−B系焼結磁石以外の磁石を用いてもよい。
また、上記第5実施形態では、第3磁石904が一体的な磁石からなる例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第3磁石904は、第3実施形態の第3磁石604のように、Y−Z平面で2つに分断されていてもよい。このとき、WO2007/102391に記載の方法によって、磁石片640の貫通孔640aおよび650の貫通孔650aとがRH拡散源であるバルク体と対向配置した状態で重希土類元素RHを拡散させた場合、貫通孔640aおよび650aの内周面だけでなく、バルク体と対向する面にも重希土類元素RHが拡散される。そして、磁石片640の重希土類元素RHが拡散された面と、磁石片650の重希土類元素RHが拡散された面とが互いに対向するように、2液混合式の接着剤を用いて接合する。これにより、重希土類元素RHが略全面に拡散されたバルク体と対向していた面同士を、第3磁石904の中央部4cに配置することができる。この結果、容易に、高保磁力領域904bを、貫通孔4aの内周面から第3磁石904の内部(矢印A方向)に向かう分布範囲が、第3磁石904のX1側およびX2側の両端部4dおよび4eから、中央部4c側に向かって徐々に大きくなるように形成することが可能である。
本発明によれば、TGGをファラデー素子として用いた高出力レーザー用ファラデー回転子に好適である。

Claims (19)

  1. ファラデー回転子(100、200、300、400、500、600、700、800、900)のファラデー素子(10)が内部に配置されるファラデー回転子用磁気回路(1、201、301、401、501、601、701、801、901)であって、
    軸方向に延びる第1貫通孔(2a、202a、302a、702a、802a)を含み、前記軸方向と垂直でかつ前記第1貫通孔から離れる方向に磁化されている第1磁石(2、202、302、702、802)と、
    前記軸方向に延びる第2貫通孔(3a、203a、303a、703a、803a)を含み、前記軸方向と垂直でかつ前記第2貫通孔に向かう方向に磁化されている第2磁石(3、203、303、703、803)と、
    前記軸方向の前記第1磁石と前記第2磁石との間に配置され、前記軸方向と平行で、かつ、前記第1磁石から前記第2磁石に向かう方向に磁化されている第3磁石(4、304、604、704、804、904)とを備え、
    前記第3磁石は、前記第1貫通孔および前記第2貫通孔を接続するように前記軸方向に延びるとともに、前記ファラデー素子が内部に配置される第3貫通孔(4a、304a、604a、704a、804a、904a)を含み、
    前記第1高保磁力領域(4b、304b、604b、704b、904b)は、前記第3磁石の前記第3貫通孔の少なくとも内周面近傍に設けられている、ファラデー回転子用磁気回路。
  2. 前記第3磁石に設けられる前記第1高保磁力領域は、前記第3磁石の前記第3貫通孔の内周面のうちの前記軸方向に沿った前記第3磁石の少なくとも中央部(4c)に設けられている、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  3. 前記第1磁石と前記第2磁石とから構成される磁界のうち、前記第1磁石の磁化方向および前記第2磁石の磁化方向と略直交する前記軸方向で、かつ、前記第2磁石から前記第1磁石に向かう方向に向かう前記磁界の近傍に位置する前記第3磁石の部分に、前記第1高保磁力領域が設けられている、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  4. 前記第3磁石は、希土類元素R(Nd、Prを主成分とし、Ndを50%以上含む)と、Feを主とする遷移元素と、B(ホウ素)とを主に含むR−T−B系磁石からなり、
    前記第1高保磁力領域は、重希土類元素が前記第3磁石の前記第3貫通孔の内周面近傍に濃化することによって形成されている、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  5. 前記第1高保磁力領域は、正方晶であるR2Fe14B型化合物の主相を主体とするとともに、前記主相の外殻部にDyおよびTbの少なくともいずれか一方からなる前記重希土類元素が拡散され、濃化することによって形成されている、請求項4に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  6. 前記第1高保磁力領域は、前記ファラデー素子が内部に配置される前記第3貫通孔を取り囲むように周状に設けられている、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  7. 前記第1高保磁力領域は、前記第3貫通孔の内周面における前記軸方向の全域に渡って設けられている、請求項2に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  8. 前記第1高保磁力領域は、前記軸方向と直交し、かつ、前記第3貫通孔から離れる方向に前記第3貫通孔の内周面から3mm以上の範囲に渡って形成されている、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  9. 前記第3磁石の前記第1高保磁力領域以外の部分の保磁力は、前記第1磁石および前記第2磁石の保磁力以上である、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  10. 前記第3磁石の前記第1高保磁力領域以外の部分の保磁力は、2350kA/m以上であるとともに、前記第1高保磁力領域の保磁力よりも小さい、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  11. 前記第1高保磁力領域は、前記第3貫通孔から離れる方向の前記内周面からの分布範囲が、前記軸方向に沿った前記第3磁石の両端部(4d、4e)側から前記中央部側に向かって大きくなるように構成されている、請求項2に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  12. 前記第3磁石は、前記軸方向と直交する面で分断されることにより形成されるととともに、各々に第2高保磁力領域(640b、650b)が設けられている複数の第1磁石片(640、650)が軸方向に組み合わされて、複数の前記第2高保磁力領域からなる前記第1高保磁力領域が構成されており、
    前記複数の第2高保磁力領域からなる前記第1高保磁力領域は、前記第3貫通孔の少なくとも前記内周面近傍に設けられている、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  13. 前記第1磁石と前記第2磁石とは、前記第3磁石を間に挟んで前記軸方向に沿って交互に並ぶように配置されている、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  14. 前記第1磁石、前記第2磁石および前記第3磁石の前記軸方向と直交する方向における一方端から他方端までの距離は、第1距離(L1)であり、
    前記第1貫通孔、前記第2貫通孔および前記第3貫通孔の前記軸方向と直交する方向における一方端から他方端までの距離は、第2距離(L2)であり、
    前記第1距離は、前記第2距離の8倍以上20倍以下である、請求項1に記載のファラデー回転子用磁気回路。
  15. 軸方向に延びる第1貫通孔を含み、前記軸方向と垂直でかつ前記第1貫通孔から離れる方向に磁化されている第1磁石と、前記軸方向に延びる第2貫通孔を含み、前記軸方向と垂直でかつ前記第2貫通孔に向かう方向に磁化されている第2磁石と、前記第1貫通孔および前記第2貫通孔を接続するように前記軸方向に延びるとともに、前記ファラデー素子が内部に配置される第3貫通孔を含み、前記軸方向と平行で、かつ、前記第1磁石から前記第2磁石に向かう方向に磁化されている第3磁石とを備えるファラデー回転子用磁気回路の製造方法であって、
    希土類元素R(Nd、Prを主成分とし、Ndを50%以上含む)と、Feを主とする遷移元素と、B(ホウ素)とを主に含むR−T−B系磁石からなる前記第3磁石の前記第3貫通孔の内周面から重希土類元素を拡散させることによって、前記第3貫通孔の少なくとも内周面近傍に第1高保磁力領域を設ける工程と、
    前記第1貫通孔、前記第2貫通孔および前記第3貫通孔が前記軸方向に接続するとともに、前記第3磁石が前記軸方向の前記第1磁石と前記第2磁石との間に配置されるように前記第1磁石、前記第2磁石および前記第3磁石を接続する工程とを備える、ファラデー回転子用磁気回路の製造方法。
  16. 前記第1高保磁力領域を設ける工程は、前記第3磁石の前記第3貫通孔の内周面から前記重希土類元素を拡散させることによって、前記第3貫通孔の内周面のうちの少なくとも前記中央部に前記第1高保磁力領域を設ける工程を含む、請求項15に記載のファラデー回転子用磁気回路の製造方法。
  17. 前記第1高保磁力領域を設ける工程は、前記ファラデー素子が内部に配置される前記第3貫通孔を取り囲むように周状に前記第1高保磁力領域を設ける工程を含む、請求項15に記載のファラデー回転子用磁気回路の製造方法。
  18. 前記中央部に前記第1高保磁力領域を設ける工程は、前記第3貫通孔の内周面の略全面から重希土類元素を拡散させることによって、前記第3貫通孔の内周面における前記軸方向の全域に渡って前記第1高保磁力領域を設ける工程を含む、請求項16に記載のファラデー回転子用磁気回路の製造方法。
  19. 前記中央部に前記第1高保磁力領域を設ける工程は、前記第3貫通孔から離れる方向の前記内周面からの分布範囲が、前記軸方向に沿った前記第3磁石の両端部側から前記中央部側に向かって大きくなるように前記第1高保磁力領域を設ける工程を含む、請求項16に記載のファラデー回転子用磁気回路の製造方法。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9627120B2 (en) * 2010-05-19 2017-04-18 The Board Of Regents Of The University Of Texas System Magnetic throttling and control: magnetic control
CN102279478A (zh) * 2010-06-12 2011-12-14 北京优立光太科技有限公司 光隔离器
JP6239825B2 (ja) * 2013-01-25 2017-11-29 アイチエレック株式会社 永久磁石および永久磁石製造方法
US10130807B2 (en) 2015-06-12 2018-11-20 Cochlear Limited Magnet management MRI compatibility
US20160381473A1 (en) 2015-06-26 2016-12-29 Johan Gustafsson Magnetic retention device
US10917730B2 (en) 2015-09-14 2021-02-09 Cochlear Limited Retention magnet system for medical device
US9872115B2 (en) * 2015-09-14 2018-01-16 Cochlear Limited Retention magnet system for medical device
US11595768B2 (en) 2016-12-02 2023-02-28 Cochlear Limited Retention force increasing components
DE102017122791B4 (de) * 2017-09-29 2019-04-25 Amphos GmbH Magnetanordnung mit einstellbarer mittlerer Magnetebene und Faraday-Rotator mit einer solchen Magnetanordnung
JP7356631B2 (ja) * 2018-05-31 2023-10-05 日本電気硝子株式会社 磁気回路、ファラデー回転子及び磁気光学素子
WO2019230420A1 (ja) * 2018-05-31 2019-12-05 日本電気硝子株式会社 磁気回路、ファラデー回転子及び磁気光学素子
DE102019200361A1 (de) * 2019-01-14 2020-07-16 TE Connectivity Sensors Germany GmbH Magnetisierungseinrichtung mit reduziertem Streufeld
CN111679458A (zh) * 2020-05-25 2020-09-18 电子科技大学 一种平面化磁光开关
JP7484470B2 (ja) 2020-06-15 2024-05-16 日本電気硝子株式会社 磁気回路、ファラデー回転子、及び磁気光学デバイス
JP7476686B2 (ja) 2020-06-15 2024-05-01 日本電気硝子株式会社 磁気回路、ファラデー回転子、及び磁気光学デバイス

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61114420U (ja) * 1984-12-27 1986-07-19
JPH02176622A (ja) * 1988-12-28 1990-07-09 Tokin Corp 光アイソレータ
US5528415A (en) * 1994-11-09 1996-06-18 Duke University Compact enhanced performance optical isolator using a faraday rotator
US6594068B2 (en) * 2000-07-05 2003-07-15 Zhifeng Sui High switching speed digital faraday rotator device and optical switches containing the same
JP2003195241A (ja) * 2001-12-25 2003-07-09 Tdk Corp ファラデー回転子の製造方法、ファラデー回転子、ビスマス置換型希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法、光アイソレータ
JP3997795B2 (ja) * 2002-02-22 2007-10-24 住友金属鉱山株式会社 半導体モジュールの製造方法
JP2004302412A (ja) * 2003-03-14 2004-10-28 Murata Mfg Co Ltd 磁気光学デバイス
DE10333570A1 (de) 2003-07-23 2005-06-09 Linos Photonics Gmbh & Co. Kg Faradayrotator
WO2007102391A1 (ja) 2006-03-03 2007-09-13 Hitachi Metals, Ltd. R-Fe-B系希土類焼結磁石およびその製造方法
JP4564993B2 (ja) 2007-03-29 2010-10-20 株式会社日立製作所 希土類磁石及びその製造方法
US20080241513A1 (en) 2007-03-29 2008-10-02 Matahiro Komuro Rare earth magnet and manufacturing method thereof
JP5239431B2 (ja) * 2008-03-24 2013-07-17 住友金属鉱山株式会社 ファラデー回転子

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