JPWO2010150514A1

JPWO2010150514A1 - 反射防止物品およびディスプレイ装置

Info

Publication number: JPWO2010150514A1
Application number: JP2010527273A
Authority: JP
Inventors: 英子岡本
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp; Mitsubishi Rayon Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp; Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date: 2009-06-23
Filing date: 2010-06-21
Publication date: 2012-12-06
Anticipated expiration: 2030-06-21
Also published as: KR20120049232A; TW201100852A; TWI491909B; EP2447740A4; CN102460228A; US9335445B2; KR101598729B1; EP2447740A1; KR20140045562A; WO2010150514A1; US20120127580A1; JP5605223B2

Abstract

本発明は、人や物が触れる可能性のある第１の表面が十分な耐擦傷性を有し、かつ可視光領域の全域において反射率を低く抑えることができる反射防止物品、ディスプレイ装置を提供する。本発明は、光透過性を有する反射防止物品（１０）であって、視認側に位置する第１の表面（１１）および前記表面とは反対側の第２の表面（１３）に複数の凸部を有し、凸部間の平均間隔が、４００ｎｍ以下であり、第１の表面における、凸部の高さＨ１と凸部の底部の幅Ｗ１との比（Ｈ１／Ｗ１）が１．３以上であり、第２の表面における、凸部の高さＨ２と凸部の底部の幅Ｗ２との比（Ｈ２／Ｗ２）が、Ｈ１／Ｗ１よりも大きい、反射防止物品（１０）に関する。

Description

本発明は、反射防止物品およびディスプレイ装置に関する。
本願は、２００９年６月２３日に日本に出願された特願２００９−１４８６６４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られている。特に、モスアイ構造と呼ばれる微細凹凸構造は、空気の屈折率から物品の材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。

反射防止物品としては、片面または両面に微細凹凸構造を有する物品が提案されている（特許文献１、２）。
しかし、前記微細凹凸構造を構成する凸部は微小なため機械的強度が低く、反射防止物品の表面の微細凹凸構造は耐擦傷性が不十分である。そのため、前記反射防止物品をディスプレイ装置の反射防止機能付き保護フィルタ等に用いた場合、その表面に人や物が触れると、容易に微細凹凸構造は壊れ、反射防止機能が低下する。

微細凹凸構造を構成する凸部の機械的強度を高めるためには、凸部のアスペクト比（凸部の高さと凸部の底部の幅との比）を低くすればよい。
しかし、凸部のアスペクト比を低くすると、可視光領域における最大反射率と最小反射率との差が大きくなる、すなわち反射率に波長依存性が生じ、一部の波長の光の反射を十分に抑えることができない。

特開２００２−２６７８１５号公報特開２００７−２４０９５４号公報

本発明は、人や物が触れる可能性のある表面が十分な耐擦傷性を有し、かつ可視光領域の全域において反射率を低く抑えることができる反射防止物品、およびディスプレイ装置を提供する。

本発明の反射防止物品は、光透過性を有する反射防止物品であって、視認側に位置する第１の表面および前記表面とは反対側の第２の表面に複数の凸部を有し、前記凸部間の平均間隔が、４００ｎｍ以下であり、前記第１の表面における、凸部の高さＨ１と凸部の底部の幅Ｗ１との比（Ｈ１／Ｗ１）が１．３以上であり、前記第２の表面における、凸部の高さＨ２と凸部の底部の幅Ｗ２との比（Ｈ２／Ｗ２）が、Ｈ１／Ｗ１よりも大きいことを特徴とする。

本発明の反射防止物品は、第１の表面における、凸部の高さＨ１と凸部の底部の幅Ｗ１との比（Ｈ１／Ｗ１）が、２．１以下であることが好ましい。
本発明の反射防止物品は、Ｈ１／Ｗ１＋Ｈ２／Ｗ２ ≧ ３．１であることが好ましい。
本発明の反射防止物品の視感度反射率は、０．４％以下であることが好ましい。
本発明の反射防止物品の、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率との差（ΔＲ）は、１．０％以下であることが好ましい。
本発明の反射防止物品の、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率との差（ΔＲ）は、０．６％以下であることがより好ましい。
本発明のディスプレイ装置は、ディスプレイ本体と、前記ディスプレイ本体の画面の前方に、前記第１の表面が視認側に、かつ前記第２の表面が前記ディスプレイ本体側になるように配置された、本発明の反射防止物品とを有することを特徴とする。

本発明の反射防止物品は、人や物が触れる可能性のある表面が十分な耐擦傷性を有し、かつ可視光領域の全域において反射率を低く抑えることができる。
本発明のディスプレイ装置は、画面側の最表面が十分な耐擦傷性を有し、かつ画面側の最表面での反射率が可視光領域の全域にわたって十分に低い。

本発明の反射防止物品の一例を示す断面図である。本発明の反射防止物品に用いる反射防止フィルムの一例を示す断面図である。本発明の反射防止物品に用いる反射防止フィルムの製造装置の一例を示す構成図である。表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。

本明細書において、（メタ）アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。

＜反射防止物品＞
図１は、本発明の反射防止物品の一例を示す断面図である。反射防止物品１０は、基材本体１２と、基材本体１２の表面（第１の表面１１側）および裏面（第２の表面１３側）に接着剤層１４を介して貼着された、表面に複数の凸部（図示略）を有する反射防止フィルム１６とを有する。
なお、粘着剤層１４を介さず、インサート成形で基材本体１２と反射防止フィルム１６とを有する本発明の反射防止物品を得てもよい。

（基材本体）
基材本体１２は、光透過性を有する基材である。基材本体１２の材料としては、ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等）、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。

（接着剤層）
接着剤層１４の接着剤としては、公知の透明接着剤、両面接着テープ等が挙げられる。

（反射防止フィルム）
反射防止フィルム１６は、図２に示すように、フィルム本体１８と、フィルム本体１８の表面に形成された、複数の凸部１９を有する硬化樹脂膜２０とを有する。
フィルム本体１８は、光透過性を有するフィルムである。フィルム本体１８の材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等）、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。

硬化樹脂膜２０は、後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる光透過性の膜であり、表面に複数の凸部１９を有する。
前記凸部１９としては、陽極酸化アルミナの表面の複数の細孔（凹部）を転写して形成されたものが好ましい。

複数の凸部１９は、略円錐形状、角錐形状、円錐台形状、釣鐘形状等の突起（凸部）が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造を形成していることが好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。

不要な回折光を除去するためには、凸間の平均間隔は２００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が特に好ましい。
凸部１９間の平均間隔は、硬化樹脂膜２０の断面を電子顕微鏡で観察し、隣接する凸部１９間の間隔Ｐ（凸部１９の中心から隣接する凸部１９の中心までの距離）を５点測定し、これらの値を平均したものである。

表面における凸部１９の高さＨ１は、１３０〜２１０ｎｍが好ましく、１４０〜２００ｎｍがより好ましく、１４０〜１７０ｎｍが最も好ましい。凸部１９の高さＨ１が１３０ｎｍ以上であれば、反射率が十分に低くなる。表面における凸部１９の高さＨ１が２１０ｎｍ以下であれば、凸部１９の機械的強度が良好となる。
裏面における凸部１９の高さＨ２は、１５０〜５００ｎｍが好ましく、１５０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが最も好ましい。凸部１９の高さＨ２が１５０ｎｍ以上であれば、反射率が十分に低く、波長依存性も低くなる。また、裏面における凸部１９の高さＨ２は、高ければ高いほど反射率の波長依存性はより良好になるため特に限定されないが、５００ｎｍ以下が製造しやすい。

Ｈ１およびＨ２は、硬化樹脂膜２０の断面を電子顕微鏡で観察することによって測定できる。
Ｈ１およびＨ２は、凸部１９の周囲に形成される凹部の最底部と同一平面（以下、基準面と記す。）から凸部１９の最頂部までの高さとする。

本発明は、凸部１９の高さＨと凸部１９の底部の幅Ｗとの比（Ｈ／Ｗ）を、反射防止物品１０の表面（第１の表面１１）側と裏面（第２の表面１３）側とで異ならせることに特徴がある。
ここで、第１の表面１１は、人や物が触れる可能性のある表面であることから、第１の表面１１における、凸部１９の高さＨ１と凸部１９の底部の幅Ｗ１との比（Ｈ１／Ｗ１）は、機械的強度を高めるために、できるだけ小さくする必要がある。具体的には、Ｈ１／Ｗ１は、２．１以下であり、２．０以下が好ましく、１．７以下がより好ましい。また、Ｈ１／Ｗ１は、反射防止物品１０の反射率およびその波長依存性を向上させる観点から、１．３以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。

一方、第２の表面１３は、人や物が触れる可能性の低い表面であることから、第２の表面１３における、凸部１９の高さＨ２と凸部１９の底部の幅Ｗ２との比（Ｈ２／Ｗ２）は、比較的大きくできる。Ｈ２／Ｗ２はＨ１／Ｗ１よりも大きければよいが、Ｈ２／Ｗ２は、反射防止物品１０の反射率およびその波長依存性を向上させる観点から、１．３≦Ｈ１／Ｗ１≦１．５の時はＨ１／Ｗ１よりも０．３以上大きいことが好ましく、０．６以上大きいことがより好ましい。また、１．５＜Ｈ１／Ｗ１≦１．９の場合、Ｈ２／Ｗ２は、Ｈ１／Ｗ１よりも０．３以上大きいことが好ましい。１．９＜Ｈ１／Ｗ１の場合、Ｈ２／Ｗ２は、Ｈ１／Ｗ１よりも０．１以上大きいことが好ましい。また、Ｈ２／Ｗ２は、高ければ高いほど反射率の波長依存性はより良好になるため特に限定されないが、製造しやすさから、４．０以下が好ましく、２．３以下がより好ましい。
反射防止物品１０の反射率およびその波長依存性を向上させる観点から、Ｈ１／Ｗ１とＨ２／Ｗ２との和（Ｈ１／Ｗ１＋Ｈ２／Ｗ２）は３．１以上が好ましく、３．５以上が更に好ましい。
Ｗ１およびＷ２は、硬化樹脂膜２０の断面を電子顕微鏡で観察することによって測定できる。
Ｗ１およびＷ２は、前記基準面における幅とする。

硬化樹脂膜２０の屈折率とフィルム本体１８の屈折率との差は、０．２以下が好ましく、０．１以下がより好ましく、０．０５以下が特に好ましい。屈折率差が０．２以下であれば、硬化樹脂膜２０とフィルム本体１８との界面における反射が抑えられる。

表面にモスアイ構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。

硬化樹脂膜２０の材料が疎水性の場合のモスアイ構造の表面の水接触角は、９０゜以上が好ましく、１００゜以上がより好ましく、１１０゜以上が特に好ましい。水接触角が９０゜以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。

硬化樹脂膜２０の材料が親水性の場合のモスアイ構造の表面の水接触角は、２５゜以下が好ましく、２３゜以下がより好ましく、２１゜以下が特に好ましい。水接触角が２５゜以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。前記水接触角は、硬化樹脂膜２０の吸水によるモスアイ構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、３゜以上が好ましい。

反射防止物品１０の視感度反射率は、０．４％以下が好ましく、０．３５％以下がより好ましく、０．３０％以下が最も好ましい。
反射防止物品１０の、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率との差（ΔＲ）は、１．０％以下が好ましく、０．６％以下がより好ましい。

＜反射防止物品の製造方法＞
反射防止物品１０は、基材本体１２の両面に、凸部１９のＨ／Ｗが異なる２種類の反射防止フィルム１６のそれぞれを、接着剤層１４を介して貼着することにより製造される。

反射防止フィルム１６は、例えば、図３に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
複数の凸部１９に対応した複数の凹部（図示略）を表面に有するロール状モールド２２と、ロール状モールド２２の表面に沿って移動する帯状のフィルム本体１８との間に、タンク２４から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。

ロール状モールド２２と、空気圧シリンダ２６によってニップ圧が調整されたニップロール２８との間で、フィルム本体１８および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、フィルム本体１８とロール状モールド２２との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド２２の凹部内に充填する。

ロール状モールド２２の下方に設置された活性エネルギー線照射装置３０から、フィルム本体１８を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状モールド２２の表面の複数の凹部が転写された硬化樹脂膜２０を形成する。
剥離ロール３２により、表面に硬化樹脂膜２０が形成されたフィルム本体１８を剥離することによって、反射防止フィルム１６を得る。

活性エネルギー線照射装置３０としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。

（ロール状モールド）
ロール状モールド２２は、表面に陽極酸化アルミナを有するモールドである。表面に陽極酸化アルミナを有するモールドは、継ぎ目なく大面積化が可能であり、作製が簡便である。

陽極酸化アルミナは、アルミニウムの多孔質の酸化皮膜（アルマイト）であり、表面に複数の細孔（凹部）を有する。

表面に陽極酸化アルミナを有するモールドは、例えば、下記（ａ）〜（ｅ）工程を経て製造できる。
（ａ）ロール状のアルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。
（ｂ）酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
（ｃ）ロール状のアルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
（ｄ）細孔の径を拡大させる工程。
（ｅ）前記（ｃ）工程と（ｄ）工程を繰り返し行う工程。

（ａ）工程：
図４に示すように、アルミニウム３４を陽極酸化すると、細孔３６を有する酸化皮膜３８が形成される。
アルミニウムの純度は、９９％以上が好ましく、９９．５％以上がより好ましく、９９．８％以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、硫酸、シュウ酸等が挙げられる。

シュウ酸を電解液として用いる場合：
シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が３０〜６０Ｖの時、周期が１００ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。

硫酸を電解液として用いる場合：
硫酸の濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が２５〜３０Ｖの時、周期が６３ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が３０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。

（ｂ）工程：
図４に示すように、酸化皮膜３８を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点４０にすることで細孔の規則性を向上することができる。

酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。

（ｃ）工程：
図４に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム３４を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３６を有する酸化皮膜３８が形成される。
陽極酸化は、（ａ）工程と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。

（ｄ）工程：
図４に示すように、細孔３６の径を拡大させる処理（以下、細孔径拡大処理と記す。）を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。

（ｅ）工程：
図４に示すように、（ｃ）工程の陽極酸化と、（ｄ）工程の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔３６を有する陽極酸化アルミナが形成され、表面に陽極酸化アルミナを有するモールド（ロール状モールド２２）が得られる。
繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が２回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて製造された硬化樹脂膜２０の反射率低減効果は不十分である。

陽極酸化アルミナの表面は、硬化樹脂膜２０との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。処理方法としては、例えば、シリコーン樹脂またはフッ素含有ポリマーをコーティングする方法、フッ素含有化合物を蒸着する方法、フッ素含有シランカップリング剤またはフッ素含有シリコーン系シランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。

細孔３６の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円錐台形状、逆釣鐘形状等が挙げられる。
細孔３６間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下である。細孔３６間の平均間隔は、２５ｎｍ以上が好ましい。
細孔３６の深さは、１００〜５３０ｎｍが好ましく、１５０〜３００ｎｍがより好ましい。
図４に示すような細孔３６を転写して形成された硬化樹脂膜２０の表面は、いわゆるモスアイ構造となる。

なお、凸部１９のＨ／Ｗが異なる２種類の反射防止フィルム１６を製造するためには、表面の細孔（凹部）のアスペクト比（細孔の深さ／細孔の開口部の幅）が異なる２種類のロール状モールド２２を用意すればよい。
または、同じアスペクト比のロール状モールドを使用して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の粘度を変えて細孔への充填率を変更する方法もある。
また、ロール状モールド２２の代わりに、平板状モールドを用いてもよい。

（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物）
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。

ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
単官能モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート誘導体；（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル；スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート等の三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の四官能以上のモノマー；二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。

オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。

非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。

アルコキシシラン化合物としては、下記式（１）の化合物が挙げられる。
Ｒ^１１ _ｘＳｉ（ＯＲ^１２）_ｙ・・・（１）。
ただし、Ｒ^１１、Ｒ^１２は、それぞれ炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｘ、ｙは、ｘ＋ｙ＝４の関係を満たす整数を表す。

アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。

アルキルシリケート化合物としては、下記式（２）の化合物が挙げられる。
Ｒ^２１Ｏ［Ｓｉ（ＯＲ^２３）（ＯＲ^２４）Ｏ］_ｚＲ^２２・・・（２）。
ただし、Ｒ^２１〜Ｒ^２４は、それぞれ炭素数１〜５のアルキル基を表し、ｚは、３〜２０の整数を表す。

アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｎ−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。

光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４'−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド；メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物；前記有機過酸化物にＮ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。

重合開始剤の量は、重合性化合物１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。重合開始剤の量が０．１質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が１０質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、離型剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤；微粒子、少量の溶剤を含んでいてもよい。

（疎水性材料）
硬化樹脂膜２０のモスアイ構造の表面の水接触角を９０°以上にするためには、疎水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。

フッ素含有化合物：
フッ素含有化合物としては、下記式（３）で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。
−（ＣＦ_２）_ｎ−Ｘ・・・（３）。
ただし、Ｘは、フッ素原子または水素原子を表し、ｎは、１以上の整数を表し、１〜２０が好ましく、３〜１０がより好ましく、４〜８が特に好ましい。

フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。
フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリレート、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。

フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリレートが好ましく、下記式（４）の化合物が特に好ましい。
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^４１）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ−（ＣＦ_２）_ｎ−Ｘ・・・（４）。
ただし、Ｒ^４１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは、１〜６の整数を表し、１〜３が好ましく、１または２がより好ましく、ｎは、１〜２０の整数を表し、３〜１０が好ましく、４〜８がより好ましい。

フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式（５）の化合物が特に好ましい。
（Ｒ^ｆ）_ａＲ^５１ _ｂＳｉＹ_ｃ・・・（５）。

Ｒ^ｆは、エーテル結合またはエステル結合を１個以上含んでいてもよい炭素数１〜２０のフッ素置換アルキル基を表す。Ｒ^ｆとしては、３，３，３−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル基、３−トリフルオロメトキシプロピル基、３−トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。

Ｒ^５１は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ^５１としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ｙは、水酸基または加水分解性基を表す。
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、Ｒ^５２Ｃ（Ｏ）Ｏ（ただし、Ｒ^５２は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。
Ｒ^５２Ｃ（Ｏ）Ｏとしては、ＣＨ_３Ｃ（Ｏ）Ｏ、Ｃ_２Ｈ_５Ｃ（Ｏ）Ｏ等が挙げられる。

ａ、ｂ、ｃは、ａ＋ｂ＋ｃ＝４であり、かつａ≧１、ｃ≧１を満たす整数を表し、ａ＝１、ｂ＝０、ｃ＝３が好ましい。

フッ素含有シランカップリング剤としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。

フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。

フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数２〜１０のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−［オメガ−フルオロアルキル（Ｃ_６〜Ｃ_１１）オキシ］−１−アルキル（Ｃ_３〜Ｃ_４）スルホン酸ナトリウム、３−［オメガ−フルオロアルカノイル（Ｃ_６〜Ｃ_８）−Ｎ−エチルアミノ］−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル（Ｃ_１１〜Ｃ_２０）カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸（Ｃ_７〜Ｃ_１３）またはその金属塩、パーフルオロアルキル（Ｃ_４〜Ｃ_１２）スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル（Ｃ_６〜Ｃ_１０）スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル（Ｃ_６〜Ｃ_１０）−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル（Ｃ_６〜Ｃ_１６）エチルリン酸エステル等が挙げられる。

フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル（Ｃ_６〜Ｃ_１０）スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族４級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ（オキシアルキレン）基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ（オキシアルキレン）基含有モノマーとの共重合体が好ましい。
ポリ（オキシアルキレン）基としては、下記式（６）で表される基が好ましい。
−（ＯＲ^６１）_ｐ− ・・・（６）。
ただし、Ｒ^６１は、炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｐは、２以上の整数を表す。Ｒ^６１としては、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）−等が挙げられる。

ポリ（オキシアルキレン）基は、同一のオキシアルキレン単位（ＯＲ^６１）からなるものであってもよく、２種以上のオキシアルキレン単位（ＯＲ^６１）からなるものであってもよい。２種以上のオキシアルキレン単位（ＯＲ^６１）の配列は、ブロックであってもよく、ランダムであってもよい。

シリコーン系化合物：
シリコーン系化合物としては、（メタ）アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。
（メタ）アクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーン（ジ）（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（親水性材料）
硬化樹脂膜２０のモスアイ構造の表面の水接触角を２５°以下にするためには、親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの１０〜５０質量％、
２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの３０〜８０質量％、
単官能モノマーの０〜２０質量％の合計１００質量％からなる重合性化合物。

４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸のモル比１：２：４の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ２２０、ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０、ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０Ｋ、ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９、ＥＢＥＣＲＹＬ８２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ８３０１、ＫＲＭ８２００）、ポリエーテルアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ８１）、変性エポキシアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６）、ポリエステルアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ６５７、ＥＢＥＣＲＹＬ８００、ＥＢＥＣＲＹＬ８１０、ＥＢＥＣＲＹＬ８１１、ＥＢＥＣＲＹＬ８１２、ＥＢＥＣＲＹＬ１８３０、ＥＢＥＣＲＹＬ８４５、ＥＢＥＣＲＹＬ８４６、ＥＢＥＣＲＹＬ１８７０）等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、５官能以上の多官能（メタ）アクリレートがより好ましい。

４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合は、１０〜５０質量％が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、２０〜５０質量％がより好ましく、３０〜５０質量％が特に好ましい。４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合が１０質量％以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合が５０質量％以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。

２官能以上の親水性（メタ）アクリレートとしては、アロニックスＭ−２４０、アロニックスＭ２６０（東亞合成社製）、ＮＫエステルＡＴ−２０Ｅ、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ（新中村化学社製）等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、６〜４０が好ましく、９〜３０がより好ましく、１２〜２０が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が６以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が４０以下であれば、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとの相溶性が良好となり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が分離しにくい。

２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合は、３０〜８０質量％が好ましく、４０〜７０質量％がより好ましい。２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合が３０質量％以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合が８０質量％以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。

単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。
親水性単官能モノマーとしては、Ｍ−２０Ｇ、Ｍ−９０Ｇ、Ｍ−２３０Ｇ（新中村化学社製）等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。
また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、基材への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。

単官能モノマーの割合は、０〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、基材と硬化樹脂との密着性が向上する。単官能モノマーの割合が２０質量％以下であれば、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートまたは２官能以上の親水性（メタ）アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。

単官能モノマーは、１種または２種以上を（共）重合した低重合度の重合体として活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に０〜３５質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、Ｍ−２３０Ｇ（新中村化学社製）等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの４０／６０共重合オリゴマー（ＭＲＣユニテック社製、ＭＧポリマー）等が挙げられる。

以上説明した反射防止物品１０にあっては、視認側に位置する第１の表面１１および前記表面とは反対側の第２の表面１３に複数の凸部１９を有し、凸部１９間の平均間隔が４００ｎｍ以下であり、反射防止物品の第２の表面１３における、凸部の高さＨ２と凸部の底部の幅Ｗ２との比（Ｈ２／Ｗ２）が、第１の表面１１における、凸部の高さＨ１と凸部の底部の幅Ｗ１との比（Ｈ１／Ｗ１）よりも大きいため、人や物が触れる可能性のある第１の表面が十分な耐擦傷性を有し、かつ可視光領域の全域において反射率を低く抑えることができる。

なお、本発明の反射防止物品は、図示例の反射防止物品１０に限定はされない。例えば、複数の凸部１９は、反射防止物品１０においては、反射防止フィルム１６の硬化樹脂膜２０の表面に形成されているが、硬化樹脂膜２０を設けることなくフィルム本体１８の表面に直接形成されていてもよく、反射防止フィルム１６を貼着することなく基材本体１２の表面に直接形成されていてもよい。ただし、ロール状モールド２２を用いて効率よく複数の凸部１９を形成できる点、および凸部１９が破損した際に反射防止フィルム１６を貼りなおすことができる点から、反射防止フィルム１６の硬化樹脂膜２０の表面に複数の凸部１９が形成されていることが好ましい。

＜用途＞
本発明の反射防止物品の用途としては、ディスプレイ装置の反射防止機能付き保護板や保護フィルタ、太陽電池の表面保護板、計器類のカバー、照明の前面板、額縁の前面板、美術品のケース、ショーケース、眼鏡等、一方の面に人や物が触れる可能性があり、他方の面に人や物が触れる可能性が少なくなるような場所に設置される用途が挙げられる。
例えば、ディスプレイ装置の場合、本発明の反射防止物品は、ディスプレイ本体の画面の前方に、第１の表面が視認側に、かつ第２の表面がディスプレイ本体側になるように配置される。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（凸部形状）
硬化樹脂膜の破断面にプラチナを５分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、ＪＳＭ−７４００Ｆ）を用いて、加速電圧３．００ｋＶの条件にて断面を観察し、凸部の平均間隔、凸部の高さ、凸部の底部の幅、凸部の先端部の曲率半径を測定した。各測定は、それぞれ５点について行い、平均値を求めた。

（反射率特性）
分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で反射防止物品の相対反射率を測定し、ＪＩＳＲ３１０６に準拠して視感度反射率を算出した。
波長３８０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率との差をΔＲとした。

（耐擦傷性）
眼鏡拭き（東レ社製、商品名：トレシー（登録商標））を用いて第１の表面側の硬化樹脂膜の表面の摩耗試験を行った。条件は、荷重２０００ｇ／２０ｍｍφ、１０００回回転とした。試験後のサンプルを目視して、表３の基準で評価した。

（総合評価）
第１の表面に人や物が触れる可能性があり、第２の表面に人や物が触れる可能性が少なくなるような場所に設置される反射防止物品においては、耐擦傷性が重要な特性として扱われるべきである。すなわち、反射率特性がどんなに優れていても、耐擦傷性が不十分であれば、人や物が軽く触れるだけで、優れた反射率特性をまったく発揮できなくなるからである。よって、本実施例においては、視感度反射率、ΔＲおよび耐擦傷性の評価結果に、表１〜３に示す評価を行うことによって、反射防止物品の総合評価を行った。総合評価は、各評価結果について以下に示す点数で合計点を計算し、合計点が８点以上をＡ、７点をＢ、６点をＣ、５点以下をＤとした。
ａ＝３点
ｂ＝２点
ｃ＝１点
ｄ＝０点

〔モールドａの製造〕
（ａ）工程：
電解液として０．３Ｍシュウ酸を用い、陰極および陽極としてそれぞれ厚さ２ｍｍの９９．９９％アルミニウム板を用い、電圧４０Ｖ、温度１６℃の条件で０．５時間陽極酸化を行った。
（ｂ）工程：
酸化皮膜が形成された陽極を、７０℃の６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混酸に浸漬して、酸化皮膜を除去した。

（ｃ）工程：
陽極を純水で洗浄した後、電解液として０．３Ｍシュウ酸を用い、電圧４０Ｖ、温度１６℃の条件で２０秒陽極酸化を行った。
（ｄ）工程：
陽極を３２℃の５質量％リン酸に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。

（ｅ）工程：
前記（ｃ）工程および（ｄ）工程を合計で５回繰り返し、細孔間の平均間隔１００ｎｍ、細孔の深さ１６１ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたモールドａを得た。
なお、（ｃ）工程の時間および／または（ｄ）工程の温度を調整することにより、細孔の深さを調節することができる。例えば、（ｃ）工程を３０秒、（ｄ）工程を３１．５℃とすることで、細孔間の平均間隔が１００ｎｍであり、細孔の深さが１９０ｎｍであるモールドを得ることが可能である。また、（ｃ）工程を３５秒、（ｄ）工程を３１．５℃とすることで、細孔の深さが２４０ｎｍであるモールドを得ることができる。このように、後述の実施例においては、（ｃ）工程および／または（ｄ）工程の条件を種々に変更し、細孔の深さが異なる種々のモールド（モールドｂ〜ｄ）を得た。
モールドａを、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業社製）の０．１質量％希釈溶液で処理することにより、酸化皮膜表面のフッ素化処理を行った。

〔モールドｂ〜ｄの製造〕
（ｃ）工程の時間および／または（ｄ）工程の温度を調整した以外は、モールドａの製造と同様にして、細孔間の平均間隔が１００ｎｍであり、細孔の深さがそれぞれ異なるモールドｂ〜ｄを得た。

〔活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの調製〕
コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸のモル比１：２：４の縮合反応混合物の４５質量部、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（大阪有機化学工業社製）の４５質量部、
ラジカル重合性シリコーンオイル（信越化学工業社製、Ｘ−２２−１６０２）の１０質量部、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）１８４）の３質量部、
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）８１９）の０．２質量部
を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａを得た。

〔反射防止フィルムαの製造〕
モールドａの表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａを塗布し、この上にアクリルフィルム（三菱レイヨン社製、アクリプレン（登録商標）ＨＢＳ０１０）を被せた。
紫外線照射機（高圧水銀ランプ）を用いて、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２でアクリルフィルム越しに紫外線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの硬化を行った後、モールドａから分離し、表面に凸部が形成された反射防止フィルムαを得た。
凸部の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは１４０ｎｍであり、凸部の底部の幅は１００ｎｍであり、凸部の先端部の曲率半径は３０ｎｍであった。

〔反射防止フィルムβの製造〕
モールドｂを用いた以外は、反射防止フィルムαの製造と同様にして、反射防止フィルムβを得た。
凸部の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは１８０ｎｍであり、凸部の底部の幅は１００ｎｍであり、凸部の先端部の曲率半径は３０ｎｍであった。

〔反射防止フィルムγの製造〕
モールドｃを用いた以外は、反射防止フィルムαの製造と同様にして、反射防止フィルムγを得た。
凸部の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは２２０ｎｍであり、凸部の底部の幅は１００ｎｍであり、凸部の先端部の曲率半径は３０ｎｍであった。

〔反射防止フィルムδの製造〕
モールドｄを用いた以外は、反射防止フィルムαの製造と同様にして、反射防止フィルムδを得た。
凸部の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは１２０ｎｍであり、凸部の底部の幅は１００ｎｍであり、凸部の先端部の曲率半径は２５ｎｍであった。

〔反射防止フィルムεの製造〕
モールドｅを用いた以外は、反射防止フィルムαの製造と同様にして、反射防止フィルムεを得た。
凸部の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは１６０ｎｍであり、凸部の底部の幅は１００ｎｍであり、凸部の先端部の曲率半径は３０ｎｍであった。

〔反射防止フィルムζの製造〕
モールドｆを用いた以外は、反射防止フィルムαの製造と同様にして、反射防止フィルムζを得た。
凸部の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは２００ｎｍであり、凸部の底部の幅は１００ｎｍであり、凸部の先端部の曲率半径は３０ｎｍであった。

〔実施例１〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムαを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムβを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔実施例２〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムαを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムγを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔実施例３〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムεを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムβを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔実施例４〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムεを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムζを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔実施例５〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムβを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムζを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔実施例６〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムβを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムγを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔実施例７〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムζを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムγを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔比較例１〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムαを２ｍｍ厚のアクリル板の両面に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔比較例２〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムεを２ｍｍ厚のアクリル板の両面に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔比較例３〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムβを２ｍｍ厚のアクリル板の両面に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔比較例４〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムγを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムγを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔比較例５〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムδを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、反射防止フィルムγを裏面（第２の表面）に貼り付けて反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

〔比較例６〕
光学用両面接着テープ（日東電工社製、ＣＳ０６２２Ｔ）を用いて、反射防止フィルムβを２ｍｍ厚のアクリル板の表面（第１の表面）に、裏面（第２の表面）には何も貼り付けずに反射防止物品を得た。前記反射防止物品について反射率特性および耐擦傷性を評価した。評価結果を表４に示す。

本発明の反射防止物品は、ディスプレイ装置の反射防止機能付き保護フィルタ、太陽電池の表面保護板、計器類のカバー、照明の前面板、額縁の前面板、美術品のケース、ショーケース、眼鏡等として有用である。

１０反射防止物品
１１第１の表面
１３第２の表面
１９凸部

Claims

光透過性を有する反射防止物品であって、
視認側に位置する第１の表面および前記表面とは反対側の第２の表面に複数の凸部を有し、
前記凸部間の平均間隔が、４００ｎｍ以下であり、
前記第１の表面における、凸部の高さＨ１と凸部の底部の幅Ｗ１との比（Ｈ１／Ｗ１）が１．３以上であり、
前記第２の表面における、凸部の高さＨ２と凸部の底部の幅Ｗ２との比（Ｈ２／Ｗ２）が、Ｈ１／Ｗ１よりも大きい、反射防止物品。
前記第１の表面における、凸部の高さＨ１と凸部の底部の幅Ｗ１との比（Ｈ１／Ｗ１）が、２．１以下である、請求項１に記載の反射防止物品。
Ｈ１／Ｗ１＋Ｈ２／Ｗ２ ≧ ３．１である請求項１または２に記載の反射防止物品。
視感度反射率が、０．４％以下である、請求項１に記載の反射防止物品。
波長３８０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率との差（ΔＲ）が、１．０％以下である、請求項１または２に記載の反射防止物品。
波長３８０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率との差（ΔＲ）が、０．６％以下である、請求項１または２に記載の反射防止物品。
ディスプレイ本体と、
前記ディスプレイ本体の画面の前方に、前記第１の表面が視認側に、かつ前記第２の表面が前記ディスプレイ本体側になるように配置された、請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止物品と
を有する、ディスプレイ装置。