JPWO2009118888A1 - 真空処理装置、当該真空処理装置を用いた画像表示装置の製造方法及び当該真空処理装置により製造される電子装置 - Google Patents
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Abstract
Description
被処理対象物を載置する基台と、被処理対象物の一方の面側に配置されている磁性材料よりなるマスクと、被処理対象物の他の面側に配置されている基台に含まれる永電磁石とを有し、磁気材料からなるマスクを永電磁石で吸着することにより基台上に被処理対象物を固定することを特徴とする真空処理装置である。
102 マスク膜状平面の固定機構(永電磁石)
102X マスク膜状平面の中央部固定機構(永電磁石)
102Y マスク膜状平面の周辺部固定機構(永電磁石)
102a 磁性体である永電磁石構成部品
102b 極性固定磁石
102c 極性可変磁石
102d コイル
102e 磁石固定部品
102f 配線用空間
102g 非磁性体
102h エンボス加工突起部
102i 連通間隙空間
102j 貫通穴
151a 駆動用電源
151b 駆動用電源
151c 駆動用電源
152a 配線
152b 配線
152c 配線
161 排気配管
162 バルブ
163 真空ポンプ
164 真空計
171 ガス導入配管
172 バルブ
173 ガスボンベ
174 圧力計
200 マスク
200a マスク枠
200b マスク膜状平面
300 被処理対象物
基台
401a バルブ
401b バルブ
401c バルブ
402a 真空ポンプ
402b 真空ポンプ
403c 真空ポンプ
他の放出ガスを小さくする方法としては、磁石固定部材102e上に0054段で記載したような表面処理を施した非磁性体金属部材を配置し、該非磁性体金属部材を0054段で記載したような表面処理を施したSS400(一般用構造用圧延部材)等で作製されている磁性体102aに溶接固定する方法がある。
また、永電磁石の内のコイル102dに電流を供給するために102fには配線が収納されているが、この配線を大気状態の外部から真空状態の永電磁石102内部の102fに導入する方法としては、市販されている真空用電流導入端子(フィールドスルー)を用いれば良い。
Claims (16)
- 真空排気手段と、
その内部を前記真空排気手段で排気し得る容器と、
被処理対象物を載置する基台と、
前記被処理対象物の一方の面側に配置されている磁性材料よりなるマスクと、
前記被処理対象物の他の面側に配置されている基台に含まれる永電磁石とを有し、
前記磁気材料からなるマスクを前記永電磁石で吸着することにより前記基台上に被処理対象物を固定することを特徴とする真空処理装置。 - 前記永電磁石の構成要素は、材料からの単位面積あたりの放出ガス速度を4.0×10-4Pam/s以下であることを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
- 前記永電磁石の構成要素は、表面にめっき処理、ブラスト処理、研磨処理、樹脂コーティング、セラミックスコーティング若しくは真空ベーキング処理が施されているか、又は前記のいずれかの処理を施した金属板、樹脂板、若しくはセラミックス板で覆われていることを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
- 前記永電磁石の被処理対象物との接触面には、エンボス形状あるいは微細ピン形状の凸凹が設けられており、被処理対象物との接触面積を98%以下としたことを特徴とする請求項1乃至3項のいずれか一項に記載の真空処理装置。
- 前記永電磁石と被処理対象物とが形成している微小空間にガスを導入および排気できる機構を設け、かつ、そのガス圧力を制御する機構を設けたことを特徴とする請求項1乃至4項のいずれか一項に記載の真空処理装置。
- 前記永電磁石と被処理対象物との間に薄板を挿入して、これを介して被処理対象物を固定することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の真空処理装置。
- 前記薄板は、メッキ処理、ブラスト処理、研磨処理、真空ベーキングが施されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の真空処理装置。
- 前記磁性材料よりなるマスクは、マスク膜状平面及び前記マスク膜状平面の周囲を固定するマスク枠より構成されており、
前記磁性材料よりなるマスク膜状平面は、永電磁石よりなる第一の磁石固定手段によって固定され、
前記磁性材料よりなるマスク枠は、前記第一磁石固定手段とは独立の動作をする永電磁石よりなる第二の磁石固定手段によって固定されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の真空処理装置。 - 前記第一の磁石固定手段において、中央部と周縁部で永電磁石を独立に駆動することを特徴とする請求項8に記載の真空処理装置。
- 前記マスク膜状平面に対する前記第一の磁石固定手段は、前記マスクを固定させる際、前記処理対象物の中心部から開始して、周縁部に向かって終了するように、前記磁性材料よりなるマスク膜状平面に対して磁力を作用させることを特徴とする請求項9項に記載の真空処理装置。
- 前記永電磁石は、脱着磁式タイプのものであることを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の真空処理装置。
- 前記永電磁石は、電流を通電したときのみ磁気吸着力がオフになることを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の真空処理装置。
- 前記請求項1に記載の真空処理装置を用いて、画像表示装置の導電部を形成することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
- 前記請求項1に記載の真空処理装置を用いて、画像表示装置のゲッタ部を形成することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
- 前記請求項1に記載の真空処理装置を用いて形成されたパターン部を有することを特徴とする電子装置。
- 前記永電磁石の被処理対象物との接触面の平面度を50μm以下としたことを特徴とする請求項1乃至12項のいずれか一項に記載の真空処理装置。
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