JPWO2009082008A1 - 過酸化水素除去方法およびその装置、オゾン水製造方法およびその装置、並びに洗浄方法およびその装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2007年12月26日に日本国特許庁に出願された特願2007−333451号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本発明の過酸化水素除去装置の第1の実施形態について、図1を用いて説明する。図1は、本発明の実施形態にかかる超純水製造装置8のフロー図である。なお、本発明において、「純水」は「超純水」を含むものとする。
本発明の過酸化水素除去装置の第2の実施形態について、図2を用いて説明する。図2は、第2の実施形態にかかる、超純水製造装置100のフロー図である。本実施形態は図1に示した第1の実施形態の過酸化水素除去装置53を、イオン交換装置52a、52bを並列に配置した過酸化水素除去装置55に変更したものである。また、本実施形態の、過酸化水素除去装置55は、イオン交換装置52a、52bとが並列に配置され、イオン交換装置52aの一次側には開閉バルブ51aが接続され、イオン交換装置52bの一次側には開閉バルブ51bが接続されて構成されている。さらに、開閉バルブ51a、52bには制御装置72が接続されている。そして、開閉バルブ51aと51bとの一次側の流路は1つの流路に統合され、サブシステム40と接続されている。また、イオン交換装置52aと52bの二次側の流路は、1つの流路に統合された後、ユースポイント61と接続されている。
本発明の過酸化水素除去装置の第3の実施形態について、図3を用いて説明する。
図3は、第3の実施形態にかかる、オゾン水製造装置110のフロー図である。本実施形態は、図1に示した第1の実施形態の過酸化水素除去装置53の二次側に、オゾン溶解装置54が設置されており、該オゾン溶解装置54にはオゾン発生装置56が接続されているものである。
サブシステム40で製造された超純水を過酸化水素除去装置53にて処理し、過酸化水素を除去する。オゾン発生装置56で製造したオゾンガスを、オゾン溶解装置54に送る。過酸化水素が除去された水に、オゾン溶解装置54にてオゾンガスを溶解する。水中に所定濃度のオゾンが溶解されたオゾン水を、ユースポイント66へ供給する。
本発明の過酸化水素除去装置の第4の実施形態について、図4を用いて説明する。図4は、第4の実施形態にかかる、オゾン水製造装置120のフロー図である。本実施形態は図3に示した第3の実施形態の過酸化水素除去装置53を、イオン交換装置52a、52bを並列に配置にした過酸化水素除去装置55に変更したものである。
サブシステム40で製造された超純水を過酸化水素除去装置55にて処理し、過酸化水素を除去する。オゾン発生装置56で製造したオゾンガスをオゾン溶解装置54へ送る。過酸化水素が除去された水に、オゾン溶解装置54にてオゾンガスを溶解し、所定濃度のオゾンが溶解されたオゾン水を、ユースポイント67へ供給する。
本発明の過酸化水素除去方法ならびに過酸化水素除去装置は、上述の実施形態に限られない。
第1〜第4の実施形態では、サブシステム40のUF膜装置50の出口からの分岐水(超純水)を被処理水として、各イオン交換装置に通水している。しかし、被処理水は当該分岐水に限られず、過酸化水素を含む水であれば良い。例えば、紫外線酸化装置46、非再生型イオン交換装置48の出口水であっても良いし、サブシステム40で製造された超純水をタンクに受けた水であっても良い。さらには、一次システム20の水であっても良い。
(実施例1)
アクリル製カラムに、ローム・アンド・ハース社製イオン交換樹脂、アンバージェット4002(OH)(OH形強塩基性アニオン交換樹脂、ゲル型)を100mL、層高200mmで充填して、イオン交換装置Aを得た。得られたイオン交換装置Aに、20〜25℃とした過酸化水素濃度15〜30ppbの水を、SV=50L/L−R・h−1で通水した。通水開始2時間後に、イオン交換装置Aの一次側の開閉バルブを閉じて通水を停止し、5時間放置した。5時間放置した後、再度、通水を2時間行った。このように2時間通水/5時間通水停止のサイクルで、10日間の連続通水を行って処理水を得た。通水開始29時間後(通水時間合計:9時間、通水量:BV(イオン交換装置の樹脂体積に対する通水量=体積倍)=450)および10日後(通水時間合計:68時間、通水量:BV=3400)に得られた処理水について、過酸化水素濃度の測定を行った。その測定値を表1に示す。なお、本実施例における水は、一次純水を熱交換器、膜式脱気装置、紫外線酸化装置、非再生型混床式イオン交換装置、UF膜装置の順に通水し、処理して得られた抵抗率=18MΩ・cm以上、TOC=1ppb以下の超純水である(以降、実施例2〜4および比較例1、2において同じ)。
アクリル製カラムに、ローム・アンド・ハース社製イオン交換樹脂、アンバーライトIRA900(OH)(OH形強塩基性アニオン交換樹脂、マクロポーラス型)を100mL、層高200mmで充填し、イオン交換装置Bを得た。以下、実施例1と同様にして、10日間の連続通水を行い、処理水を得た。通水開始29時間後(通水時間合計:9時間、通水量:BV=450)、および10日後(通水時間合計:68時間、通水量:BV=3400)に得られた処理水の、過酸化水素濃度を測定し、その結果を表1に示す。
実施例1で得られたイオン交換装置Aに、20〜25℃とした過酸化水素濃度15〜30ppbの水を、SV=50L/L−R・h−1で通水して処理水を得た。通水開始30分後(BV=25)、および24時間後(BV=1200)の処理水中の過酸化水素濃度を測定し、その結果を表1に記載する。
実施例2で得られたイオン交換装置Bに、20〜25℃とした過酸化水素濃度15〜30ppbの水を、SV=50L/L−R・h−1で通水して処理水を得た。通水開始30分後(BV=25)、および24時間後(BV=1200)の処理水中の過酸化水素濃度を測定し、その結果を表1に記載する。
比較例1で、24時間通水した後に、イオン交換装置Aへの通水を3日間停止した。その後、再度、20〜25℃とした過酸化水素濃度15〜30ppbの水を、SV=50L/L−R・h−1で通水を再開した。通水再開30分後の処理水中の過酸化水素濃度を測定し、その結果を表2に示す。
比較例2で、24時間通水した後に、イオン交換装置Bへの通水を3日間停止した。その後、再度、20〜25℃とした、過酸化水素濃度15〜30ppbの水を、SV=50L/L−R・h−1で通水を再開した。通水再開30分後の処理水中の過酸化水素濃度を測定し、その結果を表2に示す。
G5ボンベ(オルガノ株式会社製)に、ローム・アンド・ハース社製イオン交換樹脂、アンバージェット4002(OH)を5L充填して、イオン交換装置Cを得た。過酸化水素濃度15〜20ppbの水を流量200L/h(SV=40L/L−R・h−1)で通水して、処理水を得た。次いで、ジャパンゴアテックス株式会社製、GM−02RES(オゾン溶解膜モジュール)で、得られた処理水中にオゾンガスを溶解し、オゾン水を製造した。オゾン水の製造開始3時間後、および4日後における、処理水中の過酸化水素濃度、オゾン水中のオゾン濃度を測定し、その結果を表3に示す。なお、本実施例における水は、一次純水を紫外線酸化装置、非再生型混床式イオン交換装置、UF膜装置の順に通水し、処理して得られた、抵抗率=18MΩ・cm以上、TOC=1ppb以下の超純水である(以降、比較例3において同じ)。
過酸化水素濃度15〜20ppbの水をイオン交換装置Cに通水しない他は、実施例5と同じ条件で、オゾン水を製造した。オゾン水の製造開始4日後における、処理水中の過酸化水素濃度、オゾン水中のオゾン濃度を測定し、その結果を表3に示す。
超純水中の低濃度過酸化水素の定量方法としては、公知のフェノールフタリン法、例えば、特公昭56−54582号公報に記載の方法に準じた。
オゾン濃度の測定は、ポータブル型溶存オゾン濃度計(OM−101P−30、株式会社アプリクス製)を用い、紫外線吸光光度法によって測定した。
Claims (18)
- 過酸化水素を含む水をOH形アニオン交換体が充填されたイオン交換装置に、間欠的に通水させることを特徴とする過酸化水素除去方法。
- 前記イオン交換装置を並列に複数配列し、前記過酸化水素を含む水を複数のイオン交換装置に交互に通水させる請求項1に記載の過酸化水素除去方法。
- 前記イオン交換装置は、OH形アニオン交換体の単床形態である請求項1または2に記載の過酸化水素除去方法。
- 前記OH形アニオン交換体は、強塩基性アニオン交換体である請求項1〜3のいずれか1項に記載の過酸化水素除去方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法により、過酸化水素が除去された水に、さらにオゾンを溶解するオゾン水製造方法。
- OH形アニオン交換体が充填されたイオン交換装置と、該イオン交換装置に過酸化水素を含む水を間欠的に通水させる手段とを有することを特徴とする過酸化水素除去装置。
- 前記イオン交換装置が並列に複数配列され、過酸化水素を含む水を複数のイオン交換装置に交互に通水させる手段を有する請求項6に記載の過酸化水素除去装置。
- 前記イオン交換装置は、OH形アニオン交換体の単床形態である請求項6または7に記載の過酸化水素除去装置。
- 前記OH形アニオン交換体は、強塩基性アニオン交換体である請求項6〜8のいずれか1項に記載の、過酸化水素除去装置。
- 前記手段が、前記イオン交換装置の一次側に設置された開閉バルブの開閉を一定時間毎に行う制御装置である請求項6記載の過酸化水素除去装置。
- 前記手段が、前記イオン交換装置に過酸化水素を含む水を送水するポンプの起動及び停止を行う制御装置である請求項6記載の過酸化水素除去装置。
- 前記手段が、前記複数のイオン交換装置の一次側にそれぞれ設置された開閉バルブの開閉を一定時間毎に交互に行う制御装置である請求項7記載の過酸化水素除去装置。
- 前記手段が、前記複数のイオン交換装置に過酸化水素を含む水を送水するポンプの起動及び停止を行う制御装置である請求項7記載の過酸化水素除去装置。
- 請求項6〜13のいずれか1項に記載の過酸化水素除去装置と、過酸化水素が除去された水にオゾンを溶解する手段とを有するオゾン水製造装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項記載の過酸化水素除去方法により、過酸化水素が除去された水で、電子部品又は電子部品の製造器具を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
- 請求項6〜13のいずれか1項記載の過酸化水素除去装置と、過酸化水素が除去された水で、電子部品又は電子部品の製造器具を洗浄する装置とを有することを特徴とする洗浄装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項記載の過酸化水素除去方法により、過酸化水素が除去された水に、オゾンを溶解してオゾン水を作製し、このオゾン水で電子部品又は電子部品の製造器具を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
- 請求項6〜13のいずれか1項記載の過酸化水素除去装置と、過酸化水素が除去された水に、オゾンを溶解してオゾン水を作製する装置と、このオゾン水で電子部品又は電子部品の製造器具を洗浄する装置とを有することを特徴とする洗浄装置。
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