JPS6071085A - 過酸化水素の除去方法 - Google Patents
過酸化水素の除去方法Info
- Publication number
- JPS6071085A JPS6071085A JP17991783A JP17991783A JPS6071085A JP S6071085 A JPS6071085 A JP S6071085A JP 17991783 A JP17991783 A JP 17991783A JP 17991783 A JP17991783 A JP 17991783A JP S6071085 A JPS6071085 A JP S6071085A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- palladium
- hydrogen peroxide
- exchange resin
- carrier
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、液中の過酸化水素を迅速かつ確実に除去す
る方法に関する。
る方法に関する。
液中の過酸化水素を除去する方法には、還元剤を添加す
る方法と、活性炭と接触させる方法があった。還元剤と
しては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、チ
オ硫酸ナトリウムなどが用いられ、これらを添加すると
過酸化水素との反応速度がはやく、確実に除去できるけ
れども、還元剤の添加量のコントロールが難しく、過酸
化水素を確実に除去するためには、過剰量を添加する必
要があり、還元剤が液中に残留する欠点があった。また
。
る方法と、活性炭と接触させる方法があった。還元剤と
しては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、チ
オ硫酸ナトリウムなどが用いられ、これらを添加すると
過酸化水素との反応速度がはやく、確実に除去できるけ
れども、還元剤の添加量のコントロールが難しく、過酸
化水素を確実に除去するためには、過剰量を添加する必
要があり、還元剤が液中に残留する欠点があった。また
。
液中のイオン量が増加する欠点があった。
活性炭と接触させる方法は1通常、充填層を形成してこ
れに通液するが、空間速度(SV)が最大でも20 (
1/hr)程度しかとれず、装置が大型化する欠点があ
った。また、長い間使用すると、活性炭が崩壊して処理
液中に流出したり、充填層に細菌などの微生物が繁殖し
、処理液中に流出する欠点があった。
れに通液するが、空間速度(SV)が最大でも20 (
1/hr)程度しかとれず、装置が大型化する欠点があ
った。また、長い間使用すると、活性炭が崩壊して処理
液中に流出したり、充填層に細菌などの微生物が繁殖し
、処理液中に流出する欠点があった。
本発明は、処理液中のイオン量を増加することなく、ま
た微生物を繁殖させることなく、簡単な操作で迅速かつ
確実に過酸化水素を除去する方法を提供することを目的
とする。
た微生物を繁殖させることなく、簡単な操作で迅速かつ
確実に過酸化水素を除去する方法を提供することを目的
とする。
本発明は、過酸化水素を含有する液をパラジウム触媒と
接触させることを特徴とする過酸化水素の除去方法であ
る。
接触させることを特徴とする過酸化水素の除去方法であ
る。
過酸化水素を含有する液としては、用廃水系に過酸化水
素を添加し、酸化、還元、殺菌、洗浄を行った処理液ま
たは排液がある。例えば、過酸化水素の存在下に紫外線
を照射し有機物を酸化分解した処理水、フェントン試薬
を用いて廃水処理を行った処理水、6価クロムを含有す
る廃水を過酸化水素で還元処理した処理水、逆浸透膜、
限外沖過膜、イオン交換膜、透析膜などを過酸化水素で
殺菌または洗浄した廃液などがある。本発明法は、特に
。
素を添加し、酸化、還元、殺菌、洗浄を行った処理液ま
たは排液がある。例えば、過酸化水素の存在下に紫外線
を照射し有機物を酸化分解した処理水、フェントン試薬
を用いて廃水処理を行った処理水、6価クロムを含有す
る廃水を過酸化水素で還元処理した処理水、逆浸透膜、
限外沖過膜、イオン交換膜、透析膜などを過酸化水素で
殺菌または洗浄した廃液などがある。本発明法は、特に
。
液中に無機塩類の存在しない液に好適である。
例えば、半導体製造工程から排出される洗浄廃水を超純
水として回収再利用するため、過酸化水素の存在下に紫
外線を照射し有機物を酸化分解した処理水に好適である
。
水として回収再利用するため、過酸化水素の存在下に紫
外線を照射し有機物を酸化分解した処理水に好適である
。
(3)
パラジウム触媒は5金属パラジウム、酸化パラジウム、
水酸化パラジウムなどのパラジウム化合物のほか、イオ
ン交換樹脂やアルミナ、活性炭、ゼオライトなどの担体
にパラジウムを担持させた触媒も用いることができる。
水酸化パラジウムなどのパラジウム化合物のほか、イオ
ン交換樹脂やアルミナ、活性炭、ゼオライトなどの担体
にパラジウムを担持させた触媒も用いることができる。
担持量は、担体に対し通常0.1〜10%程度である。
特に、担体としてアニオン交換樹脂を用いると、少ない
パラジウム担持量で優れた効果を発揮するので好ましい
。アニオン交換樹脂は、スチレン−ジビニルベンゼン共
重合体を母体とした強塩基性アニオン交換樹脂が適当で
ある。アニオン交換樹脂にパラジウムを担持させるには
、アニオン交換樹脂をカラムに充填し、次いで塩化パラ
ジウムの酸性溶液を通水すればよい。その際、パラジウ
ム担持量は02〜107−Pd/8−樹脂が好ましく、
さらに好ましくは0.5〜6デーPd1e−樹脂である
。
パラジウム担持量で優れた効果を発揮するので好ましい
。アニオン交換樹脂は、スチレン−ジビニルベンゼン共
重合体を母体とした強塩基性アニオン交換樹脂が適当で
ある。アニオン交換樹脂にパラジウムを担持させるには
、アニオン交換樹脂をカラムに充填し、次いで塩化パラ
ジウムの酸性溶液を通水すればよい。その際、パラジウ
ム担持量は02〜107−Pd/8−樹脂が好ましく、
さらに好ましくは0.5〜6デーPd1e−樹脂である
。
アニオン交換樹脂のイオン形は、CI形でもよいがOH
形の方が処理能力が大きいので好(4) ましい。OH形とするには、前述のように塩化パラジウ
ムを通液してパラジウム化合物したC1形のアニオン交
換樹脂に水酸化す) IJウムなどのアルカリ液を通液
するとよい。
形の方が処理能力が大きいので好(4) ましい。OH形とするには、前述のように塩化パラジウ
ムを通液してパラジウム化合物したC1形のアニオン交
換樹脂に水酸化す) IJウムなどのアルカリ液を通液
するとよい。
オだ、パラジウムを担持したアニオン交換樹脂を、ヒド
ラジン溶液またはヒドラジン水酸化す) IJウムとの
混合溶液と接触させたのち水洗したものを用いることも
できる。ヒドラジン溶液の濃度は0.2〜10%程度、
混合溶液の水酸化す) IJウム溶液の濃度は0.2〜
5%程度でよい。接触方法は、浸漬法でもカラム充填通
液法のいずれでもよい。
ラジン溶液またはヒドラジン水酸化す) IJウムとの
混合溶液と接触させたのち水洗したものを用いることも
できる。ヒドラジン溶液の濃度は0.2〜10%程度、
混合溶液の水酸化す) IJウム溶液の濃度は0.2〜
5%程度でよい。接触方法は、浸漬法でもカラム充填通
液法のいずれでもよい。
パラジウム触媒の形状は、粉末状、粒状。
ベレット状などいずれの形状でも使用できる。
粉末状のものを使用するときには反応槽を設けて、この
反応槽に過酸化水素を含有する液を導入し、触媒を適自
負添加する。粒状、ペレット状のものけカラムなどに充
填し、連続的に被処理液を通液するとよい、もちろん。
反応槽に過酸化水素を含有する液を導入し、触媒を適自
負添加する。粒状、ペレット状のものけカラムなどに充
填し、連続的に被処理液を通液するとよい、もちろん。
粉末状のものでもカラムに充填して流動床状態で運転す
ることができる。
ることができる。
過酸化水素を含有する液をパラジウム触媒と接触させる
と、過酸化水素は水と酸素に分解される。接触方法は、
浸漬法でもよいがカラム充填通液法が好ましい。パラジ
ウム触媒をカラムに充填し、被処理液を上向流または下
向流で通液する。通液のSVはパラジウム触媒の種類、
担体の種類および形態により異なる。アニオン交換樹脂
を担体とした場合。
と、過酸化水素は水と酸素に分解される。接触方法は、
浸漬法でもよいがカラム充填通液法が好ましい。パラジ
ウム触媒をカラムに充填し、被処理液を上向流または下
向流で通液する。通液のSVはパラジウム触媒の種類、
担体の種類および形態により異なる。アニオン交換樹脂
を担体とした場合。
CI形では5VIO〜50(1/hr)、OH形Tij
SVI O〜500 (1/hr)とすることができる
。
SVI O〜500 (1/hr)とすることができる
。
また、パラジウムを担持したアニオン交換樹脂をヒドラ
ジン溶液またはヒドラジン−水酸化ナトリウム混合溶液
で処理した場合は、5v10〜500 (1/hr )
とすることができる。
ジン溶液またはヒドラジン−水酸化ナトリウム混合溶液
で処理した場合は、5v10〜500 (1/hr )
とすることができる。
本発明によれば、処理液中のイオン量を増加することな
く、また、微生物を繁殖させることなく、単に被処理液
をパラジウム触媒と接触させることにより迅速かつ確実
に過酸化水素を除去することができ、カラム充填通液法
の場合、Svを大きくすることができるので設備が小型
で設置面積が少なくてよいなどの利点がある。また、過
酸化水素を確実に除去できるため、処理液の下流側に悪
影響を与えない。例えは、半導体洗浄廃水から超純水を
回収する場合、通常、廃水を活性炭吸着処理し、さらに
イオン交換樹脂により脱塩したのち、過酸化水素の存在
下に紫外線全照射して有機物を分解し、逆浸透膜処理、
超純水サブシステム(紫外線殺菌装置→混床式イオン交
換装宜→限外濾過装置)を経て超純水を回収している。
く、また、微生物を繁殖させることなく、単に被処理液
をパラジウム触媒と接触させることにより迅速かつ確実
に過酸化水素を除去することができ、カラム充填通液法
の場合、Svを大きくすることができるので設備が小型
で設置面積が少なくてよいなどの利点がある。また、過
酸化水素を確実に除去できるため、処理液の下流側に悪
影響を与えない。例えは、半導体洗浄廃水から超純水を
回収する場合、通常、廃水を活性炭吸着処理し、さらに
イオン交換樹脂により脱塩したのち、過酸化水素の存在
下に紫外線全照射して有機物を分解し、逆浸透膜処理、
超純水サブシステム(紫外線殺菌装置→混床式イオン交
換装宜→限外濾過装置)を経て超純水を回収している。
その際、紫外線照射処理後に過酸化水素が残留すると、
逆浸透膜を劣化させるため超純水の水質が低下すること
になる。
逆浸透膜を劣化させるため超純水の水質が低下すること
になる。
本発明を適用すれは、この紫外線照射処理後に残留する
過酸化水素をイオン量を増加することなく除去できるの
で、高純度の超純水を得ることができる。
過酸化水素をイオン量を増加することなく除去できるの
で、高純度の超純水を得ることができる。
実施例エ
パラジウムを担持したCI形強塩基性アエ(7)
オン交換樹脂(lewatit QC1045:バイエ
ル社商標)、をガラス製カラムに50m1充填し、純水
に過酸化水素を4.6■/8添加した液を5v4o(t
/hr)で下向流通水した。結果を第1表に示す。
ル社商標)、をガラス製カラムに50m1充填し、純水
に過酸化水素を4.6■/8添加した液を5v4o(t
/hr)で下向流通水した。結果を第1表に示す。
なお、この樹脂のパラジウム担持量は17ダーPd /
ml3−樹脂であった。
ml3−樹脂であった。
第1表
実施例2
1〕watit QC1045のC1形樹脂20m1を
4%NaOH溶液xoomA!に16時間浸漬し、OI
(形とした。次に、この樹脂を水洗したのち。
4%NaOH溶液xoomA!に16時間浸漬し、OI
(形とした。次に、この樹脂を水洗したのち。
ガラス製カラムに充填し、SV 1o O(i/hr)
で原水を下向流通水した。また、CI形樹脂に(8〕 についても同条件で通水した。原水および処理水の水質
を第2表に示す。
で原水を下向流通水した。また、CI形樹脂に(8〕 についても同条件で通水した。原水および処理水の水質
を第2表に示す。
第2表
第2表から、パラジウムを担持したアニオン交換樹脂を
OR形にすると、Svを大きくしてもH2O2の除去率
は高いことがわかる。
OR形にすると、Svを大きくしてもH2O2の除去率
は高いことがわかる。
実施例3
Lewatit QC1045のCI形樹脂20rll
f2%N2H4溶液100m1に16時間浸漬シタ。
f2%N2H4溶液100m1に16時間浸漬シタ。
次に、この樹脂を水洗したのち、ガラス製カラムに充填
し、sV 1 o o (i/hr)で原水を下向流通
水した。また、ヒドラジン処理しないC1形樹脂につい
ても同条件で通水した。原水および処理水の水質を第3
表に示す。
し、sV 1 o o (i/hr)で原水を下向流通
水した。また、ヒドラジン処理しないC1形樹脂につい
ても同条件で通水した。原水および処理水の水質を第3
表に示す。
第3表
第3表から、ヒドラジン接触処理した樹脂は、SVを犬
きくしてもH2O2の除去率は高いことがわかる。
きくしてもH2O2の除去率は高いことがわかる。
実施例4
Lewa t i t QC1045のCI形樹脂を0
.5%NaOH−2%N2H4混合溶液100rlLl
に16時間浸漬した。次にこの樹脂を水洗したのち、ガ
ラス製カラムに充填し、5v100(1/hr)で原水
を下向流通水した。t−た、CI形のままの樹脂につい
ても同条件で通水した。原水および処理水の水質を第4
表に示す。
.5%NaOH−2%N2H4混合溶液100rlLl
に16時間浸漬した。次にこの樹脂を水洗したのち、ガ
ラス製カラムに充填し、5v100(1/hr)で原水
を下向流通水した。t−た、CI形のままの樹脂につい
ても同条件で通水した。原水および処理水の水質を第4
表に示す。
第4表
第4表から、Na1l−N2H4混合溶液で処理した樹
脂は、Svを太きくしてもH2O2の除去率は高いこと
がわかる。
脂は、Svを太きくしてもH2O2の除去率は高いこと
がわかる。
出願人 栗田工業株式会社
〔11〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)過酸化水素を含有する液をパラジウム触媒と接触さ
せることを特徴とする過酸化水素の除去方法。 2)パラジウム触媒はアニオン交換樹脂な担体とするも
のである特許請求の範囲第1項記載の過酸化水素の除去
方法。 3)アニオン交換樹脂はOH形のものである特許請求の
範囲第2項記載の過酸化水素の除去方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17991783A JPS6071085A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 過酸化水素の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17991783A JPS6071085A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 過酸化水素の除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6071085A true JPS6071085A (ja) | 1985-04-22 |
JPS6235838B2 JPS6235838B2 (ja) | 1987-08-04 |
Family
ID=16074173
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17991783A Granted JPS6071085A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 過酸化水素の除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6071085A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0816294A3 (de) * | 1996-07-03 | 1998-06-10 | Bayer Ag | Verfahren zur Zerstörung oxidierender Substanzen in wässrigen Flüssigkeiten |
KR100343972B1 (ko) * | 1999-11-25 | 2002-07-24 | 주식회사 유니테크 | 과산화수소 함유 폐수의 처리 방법 및 그 장치 |
WO2009082008A1 (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-02 | Organo Corporation | 過酸化水素除去方法およびその装置、オゾン水製造方法およびその装置、並びに洗浄方法およびその装置 |
JP2010069460A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Japan Organo Co Ltd | 過酸化水素低減方法、過酸化水素低減装置及び超純水製造装置並びに洗浄方法 |
JP2011194402A (ja) * | 2004-03-31 | 2011-10-06 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
JP4860008B1 (ja) * | 2011-06-02 | 2012-01-25 | 株式会社アサカ理研 | 過酸化水素分解装置及び過酸化水素の分解方法 |
JP2012063302A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | 超純水中の全有機炭素含有量の測定システム及び方法 |
WO2021261144A1 (ja) * | 2020-06-23 | 2021-12-30 | オルガノ株式会社 | 水処理装置、超純水製造装置及び水処理方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB783590A (en) * | 1954-03-10 | 1957-09-25 | Laporte Chemical | Improvements in or relating to catalysts |
JPS58139746A (ja) * | 1982-02-15 | 1983-08-19 | Agency Of Ind Science & Technol | イオン交換樹脂に担持した貴金属触媒の製造方法 |
-
1983
- 1983-09-28 JP JP17991783A patent/JPS6071085A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB783590A (en) * | 1954-03-10 | 1957-09-25 | Laporte Chemical | Improvements in or relating to catalysts |
JPS58139746A (ja) * | 1982-02-15 | 1983-08-19 | Agency Of Ind Science & Technol | イオン交換樹脂に担持した貴金属触媒の製造方法 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0816294A3 (de) * | 1996-07-03 | 1998-06-10 | Bayer Ag | Verfahren zur Zerstörung oxidierender Substanzen in wässrigen Flüssigkeiten |
KR100343972B1 (ko) * | 1999-11-25 | 2002-07-24 | 주식회사 유니테크 | 과산화수소 함유 폐수의 처리 방법 및 그 장치 |
JP2011194402A (ja) * | 2004-03-31 | 2011-10-06 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
WO2009082008A1 (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-02 | Organo Corporation | 過酸化水素除去方法およびその装置、オゾン水製造方法およびその装置、並びに洗浄方法およびその装置 |
JP5441714B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2014-03-12 | オルガノ株式会社 | 純水の製造方法およびその装置、オゾン水製造方法およびその装置、並びに洗浄方法およびその装置 |
JP2010069460A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Japan Organo Co Ltd | 過酸化水素低減方法、過酸化水素低減装置及び超純水製造装置並びに洗浄方法 |
JP2012063302A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | 超純水中の全有機炭素含有量の測定システム及び方法 |
JP4860008B1 (ja) * | 2011-06-02 | 2012-01-25 | 株式会社アサカ理研 | 過酸化水素分解装置及び過酸化水素の分解方法 |
WO2012164948A1 (ja) * | 2011-06-02 | 2012-12-06 | 株式会社アサカ理研 | 過酸化水素分解装置及び過酸化水素の分解方法 |
WO2021261144A1 (ja) * | 2020-06-23 | 2021-12-30 | オルガノ株式会社 | 水処理装置、超純水製造装置及び水処理方法 |
JP7012196B1 (ja) * | 2020-06-23 | 2022-01-27 | オルガノ株式会社 | 水処理装置、超純水製造装置、水処理方法及び再生型イオン交換塔 |
JP2022036290A (ja) * | 2020-06-23 | 2022-03-04 | オルガノ株式会社 | 水処理装置、純水製造装置、超純水製造装置及び水処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6235838B2 (ja) | 1987-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20090127201A1 (en) | Process and Apparatus for Removing Hydrogen Peroxide | |
JP5000856B2 (ja) | リンサー排水回収装置およびリンサー排水回収システム | |
WO2000064568A1 (fr) | Appareil de production d'eau contenant de l'ozone dissous | |
JPH0647105B2 (ja) | 純水又は超純水の精製方法及び装置 | |
JP4920019B2 (ja) | 過酸化水素低減方法、過酸化水素低減装置及び超純水製造装置並びに洗浄方法 | |
JP3646900B2 (ja) | 硼素含有水の処理装置及び方法 | |
JPS6071085A (ja) | 過酸化水素の除去方法 | |
US5512182A (en) | Process for removing trace amounts of ammonia-containing compounds from aqueous streams | |
JP2014198286A (ja) | 難生物分解性有機物含有水の処理方法及び処理装置 | |
JP2006192354A (ja) | 非再生型イオン交換容器及び超純水製造装置 | |
JP4552327B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP5720138B2 (ja) | 酢酸含有排水の処理方法 | |
JPS6336890A (ja) | 高純度水の製造装置 | |
JPH0638953B2 (ja) | 高純度水の製造装置 | |
JP2001170657A (ja) | 過酢酸含有排水の処理装置 | |
JPH0443705B2 (ja) | ||
JP2001179252A (ja) | 酸化性物質低減純水製造方法及び装置 | |
JP2988290B2 (ja) | 超純水用脱気装置 | |
JP2000301005A (ja) | イオン交換樹脂再生排液の再利用方法 | |
JP2006192352A (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
JP3256647B2 (ja) | 被処理水中の過酸化水素の除去方法及び水処理装置 | |
TW201941830A (zh) | 陰離子交換樹脂及使用此之水處理方法 | |
JP3528287B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
JPH0780473A (ja) | 過酸化水素と界面活性剤とを含む酸性水の処理方法 | |
JP3867944B2 (ja) | 酸化性物質を低減した純水の製造方法及び超純水製造装置 |