JPS6071085A - 過酸化水素の除去方法 - Google Patents

過酸化水素の除去方法

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JPS6071085A
JPS6071085A JP17991783A JP17991783A JPS6071085A JP S6071085 A JPS6071085 A JP S6071085A JP 17991783 A JP17991783 A JP 17991783A JP 17991783 A JP17991783 A JP 17991783A JP S6071085 A JPS6071085 A JP S6071085A
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palladium
hydrogen peroxide
exchange resin
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water
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Kazumi Yagishita
八木下 一壬
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Kurita Water Industries Ltd
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Kurita Water Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、液中の過酸化水素を迅速かつ確実に除去す
る方法に関する。
〔背景技術〕
液中の過酸化水素を除去する方法には、還元剤を添加す
る方法と、活性炭と接触させる方法があった。還元剤と
しては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、チ
オ硫酸ナトリウムなどが用いられ、これらを添加すると
過酸化水素との反応速度がはやく、確実に除去できるけ
れども、還元剤の添加量のコントロールが難しく、過酸
化水素を確実に除去するためには、過剰量を添加する必
要があり、還元剤が液中に残留する欠点があった。また
液中のイオン量が増加する欠点があった。
活性炭と接触させる方法は1通常、充填層を形成してこ
れに通液するが、空間速度(SV)が最大でも20 (
1/hr)程度しかとれず、装置が大型化する欠点があ
った。また、長い間使用すると、活性炭が崩壊して処理
液中に流出したり、充填層に細菌などの微生物が繁殖し
、処理液中に流出する欠点があった。
〔発明の開示〕
本発明は、処理液中のイオン量を増加することなく、ま
た微生物を繁殖させることなく、簡単な操作で迅速かつ
確実に過酸化水素を除去する方法を提供することを目的
とする。
本発明は、過酸化水素を含有する液をパラジウム触媒と
接触させることを特徴とする過酸化水素の除去方法であ
る。
過酸化水素を含有する液としては、用廃水系に過酸化水
素を添加し、酸化、還元、殺菌、洗浄を行った処理液ま
たは排液がある。例えば、過酸化水素の存在下に紫外線
を照射し有機物を酸化分解した処理水、フェントン試薬
を用いて廃水処理を行った処理水、6価クロムを含有す
る廃水を過酸化水素で還元処理した処理水、逆浸透膜、
限外沖過膜、イオン交換膜、透析膜などを過酸化水素で
殺菌または洗浄した廃液などがある。本発明法は、特に
液中に無機塩類の存在しない液に好適である。
例えば、半導体製造工程から排出される洗浄廃水を超純
水として回収再利用するため、過酸化水素の存在下に紫
外線を照射し有機物を酸化分解した処理水に好適である
(3) パラジウム触媒は5金属パラジウム、酸化パラジウム、
水酸化パラジウムなどのパラジウム化合物のほか、イオ
ン交換樹脂やアルミナ、活性炭、ゼオライトなどの担体
にパラジウムを担持させた触媒も用いることができる。
担持量は、担体に対し通常0.1〜10%程度である。
特に、担体としてアニオン交換樹脂を用いると、少ない
パラジウム担持量で優れた効果を発揮するので好ましい
。アニオン交換樹脂は、スチレン−ジビニルベンゼン共
重合体を母体とした強塩基性アニオン交換樹脂が適当で
ある。アニオン交換樹脂にパラジウムを担持させるには
、アニオン交換樹脂をカラムに充填し、次いで塩化パラ
ジウムの酸性溶液を通水すればよい。その際、パラジウ
ム担持量は02〜107−Pd/8−樹脂が好ましく、
さらに好ましくは0.5〜6デーPd1e−樹脂である
アニオン交換樹脂のイオン形は、CI形でもよいがOH
形の方が処理能力が大きいので好(4) ましい。OH形とするには、前述のように塩化パラジウ
ムを通液してパラジウム化合物したC1形のアニオン交
換樹脂に水酸化す) IJウムなどのアルカリ液を通液
するとよい。
オだ、パラジウムを担持したアニオン交換樹脂を、ヒド
ラジン溶液またはヒドラジン水酸化す) IJウムとの
混合溶液と接触させたのち水洗したものを用いることも
できる。ヒドラジン溶液の濃度は0.2〜10%程度、
混合溶液の水酸化す) IJウム溶液の濃度は0.2〜
5%程度でよい。接触方法は、浸漬法でもカラム充填通
液法のいずれでもよい。
パラジウム触媒の形状は、粉末状、粒状。
ベレット状などいずれの形状でも使用できる。
粉末状のものを使用するときには反応槽を設けて、この
反応槽に過酸化水素を含有する液を導入し、触媒を適自
負添加する。粒状、ペレット状のものけカラムなどに充
填し、連続的に被処理液を通液するとよい、もちろん。
粉末状のものでもカラムに充填して流動床状態で運転す
ることができる。
過酸化水素を含有する液をパラジウム触媒と接触させる
と、過酸化水素は水と酸素に分解される。接触方法は、
浸漬法でもよいがカラム充填通液法が好ましい。パラジ
ウム触媒をカラムに充填し、被処理液を上向流または下
向流で通液する。通液のSVはパラジウム触媒の種類、
担体の種類および形態により異なる。アニオン交換樹脂
を担体とした場合。
CI形では5VIO〜50(1/hr)、OH形Tij
SVI O〜500 (1/hr)とすることができる
また、パラジウムを担持したアニオン交換樹脂をヒドラ
ジン溶液またはヒドラジン−水酸化ナトリウム混合溶液
で処理した場合は、5v10〜500 (1/hr )
 とすることができる。
本発明によれば、処理液中のイオン量を増加することな
く、また、微生物を繁殖させることなく、単に被処理液
をパラジウム触媒と接触させることにより迅速かつ確実
に過酸化水素を除去することができ、カラム充填通液法
の場合、Svを大きくすることができるので設備が小型
で設置面積が少なくてよいなどの利点がある。また、過
酸化水素を確実に除去できるため、処理液の下流側に悪
影響を与えない。例えは、半導体洗浄廃水から超純水を
回収する場合、通常、廃水を活性炭吸着処理し、さらに
イオン交換樹脂により脱塩したのち、過酸化水素の存在
下に紫外線全照射して有機物を分解し、逆浸透膜処理、
超純水サブシステム(紫外線殺菌装置→混床式イオン交
換装宜→限外濾過装置)を経て超純水を回収している。
その際、紫外線照射処理後に過酸化水素が残留すると、
逆浸透膜を劣化させるため超純水の水質が低下すること
になる。
本発明を適用すれは、この紫外線照射処理後に残留する
過酸化水素をイオン量を増加することなく除去できるの
で、高純度の超純水を得ることができる。
実施例エ パラジウムを担持したCI形強塩基性アエ(7) オン交換樹脂(lewatit QC1045:バイエ
ル社商標)、をガラス製カラムに50m1充填し、純水
に過酸化水素を4.6■/8添加した液を5v4o(t
/hr)で下向流通水した。結果を第1表に示す。
なお、この樹脂のパラジウム担持量は17ダーPd /
ml3−樹脂であった。
第1表 実施例2 1〕watit QC1045のC1形樹脂20m1を
4%NaOH溶液xoomA!に16時間浸漬し、OI
(形とした。次に、この樹脂を水洗したのち。
ガラス製カラムに充填し、SV 1o O(i/hr)
で原水を下向流通水した。また、CI形樹脂に(8〕 についても同条件で通水した。原水および処理水の水質
を第2表に示す。
第2表 第2表から、パラジウムを担持したアニオン交換樹脂を
OR形にすると、Svを大きくしてもH2O2の除去率
は高いことがわかる。
実施例3 Lewatit QC1045のCI形樹脂20rll
 f2%N2H4溶液100m1に16時間浸漬シタ。
次に、この樹脂を水洗したのち、ガラス製カラムに充填
し、sV 1 o o (i/hr)で原水を下向流通
水した。また、ヒドラジン処理しないC1形樹脂につい
ても同条件で通水した。原水および処理水の水質を第3
表に示す。
第3表 第3表から、ヒドラジン接触処理した樹脂は、SVを犬
きくしてもH2O2の除去率は高いことがわかる。
実施例4 Lewa t i t QC1045のCI形樹脂を0
.5%NaOH−2%N2H4混合溶液100rlLl
に16時間浸漬した。次にこの樹脂を水洗したのち、ガ
ラス製カラムに充填し、5v100(1/hr)で原水
を下向流通水した。t−た、CI形のままの樹脂につい
ても同条件で通水した。原水および処理水の水質を第4
表に示す。
第4表 第4表から、Na1l−N2H4混合溶液で処理した樹
脂は、Svを太きくしてもH2O2の除去率は高いこと
がわかる。
出願人 栗田工業株式会社 〔11〕

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)過酸化水素を含有する液をパラジウム触媒と接触さ
    せることを特徴とする過酸化水素の除去方法。 2)パラジウム触媒はアニオン交換樹脂な担体とするも
    のである特許請求の範囲第1項記載の過酸化水素の除去
    方法。 3)アニオン交換樹脂はOH形のものである特許請求の
    範囲第2項記載の過酸化水素の除去方法。
JP17991783A 1983-09-28 1983-09-28 過酸化水素の除去方法 Granted JPS6071085A (ja)

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