JPWO2008139643A1 - 露光方法および露光装置 - Google Patents
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Abstract
Description
パターンが描かれたフォトマスクを、表面に感光層が形成された基板の感光層を覆う位置に配置し、前記フォトマスクと前記基板とを互いに均一に接触させた後、前記フォトマスクを通して前記基板の感光層に光を照射することにより前記パターンを前記基板に転写する露光方法において、
全体として四角形状をしており、互いに対向する第一の対の側縁部と互いに対向する第二の対の側縁部とを有する板状の基板支持部材を用意し、
前記フォトマスクの前記パターンが描かれた表面に前記感光層が対向するようにして、前記基板を、前記基板支持部材の主面に、相対的なずれを生じさせることなく固定支持させ、
前記基板支持部材を、前記第一の対の側縁部と同じ方向に延びる第一の軸、又は、前記第二の対の側縁部と同じ方向に延びる第二の軸を中心として、個別に湾曲量を制御しながら湾曲させることにより、前記基板支持部材を前記基板と共に所望の湾曲形状に変形させ、
前記フォトマスクと前記基板とが互いに均一に接触しており、且つ、前記基板支持部材および前記基板が前記所望の湾曲形状に変形した状態で、前記フォトマスクを通して前記感光層に光を照射することにより、前記パターンの寸法を実質的に変化させて前記基板に転写することを特徴とする、露光方法が提供される。
前記感光層が形成された面と反対側の前記基板の面全体にわたって前記基板を固定支持するための基板支持部材にして、互いに対向する第一の対の側縁部と、互いに対向する第二の対の側縁部と、前記基板を相対的なずれを生じさせることなく固定支持するための固定支持機構とを有する基板支持部材と、
前記パターンが描かれた前記フォトマスクの表面が前記感光層に対向するように前記フォトマスクを支持するためのフォトマスク支持部材と、
前記フォトマスクが前記基板に対して均一に接触して倣うように前記基板支持部材と前記フォトマスク支持部材とを互いに相対移動させるための駆動機構と、
前記基板支持部材の前記第一の対の側縁部に沿って設けられた複数の第一の作用点と、
前記複数の第一の作用点に対して力またはモーメントを作用させることにより、前記基板支持部材を前記基板とともに前記第一の対の側縁部と同じ方向に延びる第一の軸を中心として湾曲させるための第一の変形機構と、
前記基板支持部材の前記第二の対の側縁部に沿って設けられた複数の第二の作用点と、
前記複数の第二の作用点に対して力またはモーメントを作用させることにより、前記基板支持部材を前記基板とともに前記第二の対の側縁部と同じ方向に延びる第二の軸を中心として湾曲させるための第二の変形機構と、
前記駆動機構の作動時に前記基板支持部材と前記フォトマスク支持部材との相対移動を案内するためのガイド機構と、
前記フォトマスクを通して前記基板の前記感光層に光を照射するための光照射装置と、
を備えている、露光装置も提供される。
前記第二の変形機構を、前記複数の第二の作用点のそれぞれにおいて、作用させる力またはモーメントの大きさを所定の量に制御可能なものとすることができる。
前記マーク検出手段により検出したデータを基に、前記フォトマスクの前記位置合わせマークと前記基板の前記位置合わせマークとの間のピッチのずれ量を演算するための演算手段とを有し、
前記第一の変形機構および前記第二の変形機構の少なくとも一方が、前記演算手段の演算結果に従って、前記第一の作用点および前記第二の作用点の少なくとも一方に作用させる力またはモーメントの大きさを調整して前記基板支持部材の湾曲量を制御するようにしてもよい。
Claims (18)
- パターンが描かれたフォトマスクを、表面に感光層が形成された基板の感光層を覆う位置に配置し、前記フォトマスクと前記基板とを互いに均一に接触させた後、前記フォトマスクを通して前記基板の感光層に光を照射することにより前記パターンを前記基板に転写する露光方法において、
全体として四角形状をしており、互いに対向する第一の対の側縁部と互いに対向する第二の対の側縁部とを有する板状の基板支持部材を用意し、
前記フォトマスクの前記パターンが描かれた表面に前記感光層が対向するようにして、前記基板を、前記基板支持部材の主面に、相対的なずれを生じさせることなく固定支持させ、
前記基板支持部材を、前記第一の対の側縁部と同じ方向に延びる第一の軸、又は、前記第二の対の側縁部と同じ方向に延びる第二の軸を中心として、個別に湾曲量を制御しながら湾曲させることにより、前記基板支持部材を前記基板と共に所望の湾曲形状に変形させ、
前記フォトマスクと前記基板とが互いに均一に接触しており、且つ、前記基板支持部材および前記基板が前記所望の湾曲形状に変形した状態で、前記フォトマスクを通して前記感光層に光を照射することにより、前記パターンの寸法を実質的に変化させて前記基板に転写することを特徴とする、露光方法。 - 前記基板支持部材を前記第一の軸を中心として、または、前記第二の軸を中心として湾曲させる際、前記第一および第二の軸の各々に沿った複数位置で前記基板支持部材の湾曲量を個別に制御することを特徴とする、請求項1に記載の露光方法。
- 前記第一の軸を中心とする前記基板支持部材の湾曲は、前記第一の対の側縁部に力またはモーメントを作用させることにより行われ、前記第二の軸を中心とする湾曲は、前記第二の対の側縁部に力またはモーメントを作用させることにより行われる、請求項1または2に記載の露光方法。
- 前記フォトマスクと前記基板との互いに対応する位置にそれぞれ複数の位置合わせマークが設けられており、該位置合わせマークをマーク検出手段によって検出し、検出したデータを基に、前記フォトマスクの前記位置合わせマークと前記基板の前記位置合わせマークとの間のピッチのずれ量を演算し、この演算結果に従って前記基板支持部材の湾曲量を制御する、請求項1ないし3のいずれかに記載の露光方法。
- 前記マーク検出手段がCCDカメラである、請求項4に記載の露光方法。
- 前記フォトマスク上に前記パターンを大きめに作成し、露光時には、前記基板支持部材を前記基板と共に前記フォトマスクに対して凸状に湾曲させることにより、前記基板の前記感光層が形成された面の寸法を実質的に拡大させて所定の大きさにし、且つ、前記フォトマスクを前記基板に倣わせることにより、前記パターンの寸法を実質的に縮小させて所定の大きさにし、その後、前記パターンを前記基板に転写する、請求項1ないし5に記載の露光方法。
- パターンが描かれたフォトマスクと感光層が形成された基板とを互いに均一に接触させた後、前記フォトマスクを通して前記基板の感光層に光を照射することにより前記パターンを前記基板に転写する露光方法に用いられる露光装置であって、
前記感光層が形成された面と反対側の前記基板の面全体にわたって前記基板を固定支持するための基板支持部材にして、互いに対向する第一の対の側縁部と、互いに対向する第二の対の側縁部と、前記基板を相対的なずれを生じさせることなく固定支持するための固定支持機構とを有する基板支持部材と、
前記パターンが描かれた前記フォトマスクの表面が前記感光層に対向するように前記フォトマスクを支持するためのフォトマスク支持部材と、
前記フォトマスクが前記基板に対して均一に接触して倣うように前記基板支持部材と前記フォトマスク支持部材とを互いに相対移動させるための駆動機構と、
前記基板支持部材の前記第一の対の側縁部に沿って設けられた複数の第一の作用点と、
前記複数の第一の作用点に対して力またはモーメントを作用させることにより、前記基板支持部材を前記基板とともに前記第一の対の側縁部と同じ方向に延びる第一の軸を中心として湾曲させるための第一の変形機構と、
前記基板支持部材の前記第二の対の側縁部に沿って設けられた複数の第二の作用点と、
前記複数の第二の作用点に対して力またはモーメントを作用させることにより、前記基板支持部材を前記基板とともに前記第二の対の側縁部と同じ方向に延びる第二の軸を中心として湾曲させるための第二の変形機構と、
前記駆動機構の作動時に前記基板支持部材と前記フォトマスク支持部材との相対移動を案内するためのガイド機構と、
前記フォトマスクを通して前記基板の前記感光層に光を照射するための光照射装置と、
を備えている、露光装置。 - 前記第一の変形機構が、前記複数の第一の作用点のそれぞれにおいて、作用させる力またはモーメントの大きさを所定の量に制御可能となされており、
前記第二の変形機構が、前記複数の第二の作用点のそれぞれにおいて、作用させる力またはモーメントの大きさを所定の量に制御可能となされている、
請求項7に記載の露光装置。 - 前記第一の変形機構または前記第二の変形機構がモータを備えている、
請求項7または8に記載の露光装置。 - 前記第一の変形機構または前記第二の変形機構が、空気圧力で駆動される機構を備えている、
請求項7または8に記載の露光装置。 - 前記フォトマスクと前記基板との互いに対応する位置にそれぞれ設けられた、複数の位置合わせマークを検出するためのマーク検出手段と、
前記マーク検出手段により検出したデータを基に、前記フォトマスクの前記位置合わせマークと前記基板の前記位置合わせマークとの間のピッチのずれ量を演算するための演算手段とを有し、
前記第一の変形機構および前記第二の変形機構の少なくとも一方が、前記演算手段の演算結果に従って、前記第一の作用点および前記第二の作用点の少なくとも一方に作用させる力またはモーメントの大きさを調整して前記基板支持部材の湾曲量を制御するようになされている、
請求項7ないし10のいずれかに記載の露光装置。 - 前記フォトマスク支持部材が、前記基板に対して接近および離反する方向への前記フォトマスクの所定量の移動を許容する構造を有する、
請求項7ないし11のいずれかに記載の露光装置。 - 前記フォトマスク支持部材が、前記フォトマスクの前記フォトマスク支持部材の支持面内の位置を規制するための位置規制機構を有する、
請求項7ないし12のいずれかに記載の露光装置。 - 前記固定支持機構が、前記基板支持部材の、前記基板を固定支持する面に形成された複数の溝または峰部を含む、
請求項7ないし13のいずれかに記載の露光装置。 - 前記固定支持機構が、前記基板支持部材の、前記基板を固定支持する面に形成された複数の溝と、前記溝の底部に設けられ、負圧源に接続された少なくともひとつの真空吸引孔とを含む、
請求項7ないし13のいずれかに記載の露光装置。 - 前記複数の溝の底部に設けられた前記少なくともひとつの真空吸引孔が、溝ごとまたは複数の溝を含む群ごとの負圧源に接続されている、
請求項15に記載の露光装置。 - 前記基板支持部材の厚みが5mm以上である、
請求項7ないし16のいずれかに記載の露光装置。 - 前記第一の変形機構および前記第二の変形機構が、前記基板支持部材を支持するためのベース部材に載置されている、
請求項7ないし17のいずれかに記載の露光装置。
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