JPH06198843A - 転写装置 - Google Patents

転写装置

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JPH06198843A
JPH06198843A JP5224768A JP22476893A JPH06198843A JP H06198843 A JPH06198843 A JP H06198843A JP 5224768 A JP5224768 A JP 5224768A JP 22476893 A JP22476893 A JP 22476893A JP H06198843 A JPH06198843 A JP H06198843A
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JP
Japan
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pattern
transfer
flat plate
plate
glass substrate
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Application number
JP5224768A
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English (en)
Inventor
Satoshi Takeuchi
敏 武内
Kenji Asaka
健二 浅香
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 パターン転写用平板上のパターンを被転写平
板に精度良く転写する転写装置を提供する。 【構成】 パターン転写用平板Ｆと被転写平板Ｇとを整
合ギャップＨを隔てて対向配置せしめ、パターン転写用
平板Ｆと被転写平板Ｇの位置合せの後、転写ロール７５
でパターン転写用平板Ｆ等の端部から順次他端側に圧着
していき、精度良く転写する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、転写装置に係り、特に
原版に形成した転写パターンを被転写平板に転写するた
めの転写装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】薄膜半導体素子の製造においては、被加
工物（例えば、シリコンウェーハ）に電気回路または素
子構成用微細パターンを正確に形成する必要がある。
【０００３】この薄膜半導体素子の製造においては、例
えば、被加工物に直接レジストインキを印刷するか、又
は予めフォトレジスト層を塗布した被加工物に所定形状
で紫外線を遮断する印刷インキ層を印刷した後、露光・
現像し、次いでエッチング処理を行なう印刷法を採用し
て電気回路あるいは素子構成用の微細パターンを形成す
る方法が考えられる。
【０００４】ここで、前記印刷法を採用して薄膜半導体
素子の電気回路等の微細パターンを正確に形成するため
には、被印刷体と印刷インキパターンとの密着強度が均
一であると共に、該被印刷体上に既に形成されている印
刷パターンと新たに印刷すべき印刷インキパターンとの
位置合わせが正確に行なわれる必要がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
いわゆる平行平板方式の印刷装置（転写装置）において
は、印刷インキパターンが形成されたパターン転写用平
板と被印刷体（被印刷用平板）との密着を両平板の全面
に渡って同時に行なうため、局部的な密着不良が生じ易
く、均一な密着強度を達成することが困難であった。
【０００６】また、一般に被印刷体と印刷インキパター
ンとの位置合わせは予め予備印刷を行って調整し、良好
な結果が得られた段階で被印刷体上に印刷インキパター
ンを転写させるために、被印刷体と印刷インキパターン
との位置関係に変動が起きてもそのまま続行するのが通
例であった。
【０００７】従って、前記従来の印刷装置により被印刷
体上に転写される印刷インキパターンの位置合せ精度お
よびその再現性は２０〜３０μｍが限度であり、例え
ば、薄膜半導体素子の導電性微細パターンに要求される
位置合せ精度およびその再現性の水準には至っていなか
った。
【０００８】そこで、本発明は前記事情に鑑みてなされ
たものであり、いわゆる平行平板方式のパターン転写用
平板から被転写平板への転写パターンの転写を均一な密
着強度を達成しつつ高い位置合せ精度およびその再現性
の下に正確に行うことができて、例えば薄膜半導体素子
の製造に好適な転写装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、転写パターンを有するパターン転
写用平板と被転写平板との相互位置を調整した後に圧着
し、被転写平板に転写パターンを転写せしめる転写装置
において、可撓性を有する基板上に転写可能な転写パタ
ーンおよびパターン側位置決めマークを設けたパターン
転写用平板とワーク側位置決めマークを設けた被転写平
板とを均一な整合ギャップを隔てて対向せしめる整合装
置と、前記整合ギャップを維持した状態で前記パターン
側位置決めマークと前記ワーク側位置決めマークとの位
置関係を光学系で観察する観察光学装置と、この観察光
学装置で光学的に観察しつつ該観察光学装置から得られ
る情報に応じて前記パターン転写用平板または被転写平
板の少なくとも一方を移動させて両平板の位置合わせを
行なう位置合せ装置と、前記パターン転写用平板を被転
写平板上に圧着せしめる圧着装置と、を備えて構成し
た。
【００１０】
【作用】整合装置は、パターン転写用平板と被転写平板
との整合ギャップを均一にして対向せしめる。この均一
ギャップの状態で、観察光学装置はパターン側位置決め
マークとワーク側位置決めマークとの位置関係を観察
し、この観察情報に基づいて、位置合せ装置はパターン
転写用平板または被転写平板の少なくとも一方を移動さ
せて、パターン転写用平板と被転写平板の位置合せを行
う。前記位置合せ終了後、圧着装置は、パターン転写用
平板を被転写平板上に順次圧着し、両平板の全面に渡っ
て圧着を行う。この圧着の結果、パターン転写用平板上
の転写パターンが被転写平板に精度良く転写される。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明
する。図１に前記実施例の転写装置の外観斜視図を示
す。
【００１２】図１に示すように、転写装置１は、垂直型
であり、台座２およびこの台座２の前面両側に立設した
支柱３ａ，３ｂ等のフレーム部と、このフレーム部の上
面中央に取り付けられたメインモータ５および前記支柱
３ａ，３ｂに沿って配せられ、メインモータによって駆
動されるボールネジ４ａ，４ｂ等の駆動部と、パターン
転写用平板Ｆを支持する平板クランプ９ａ，９ｂと、被
転写平板Ｇを固定するガラス基板固定盤２１と、前記ボ
ールネジ４ａ，４ｂによって上下に移動し、パターン転
写用平板Ｆをガラス基板Ｇに圧着する圧着ロールと転写
後に平板Ｆを剥離する剥離ロールからなるロール部７０
と、前記ガラス基板固定盤２１の背面に配設された光学
観察系部および位置合せ部を兼ねたワークステージ５０
（図６参照）等により構成されている。
【００１３】前記台座２の両側からは２枚の側板（手前
側の側板３ｄのみを図示し、背面側の側板は図示せず）
が対向立設されている。前記２本の支柱３ａ，３ｂの先
端部には支持板３ｃが横設され、この支持板３ｃの中央
部背面には駆動源であるメインモータ５が固定されてい
る。前記支持板３ｃには、前記メインモータ５の出力を
減速中継するギアボックス６が固定され、このギアボッ
クス６の左右側面からそれぞれ駆動軸７ａ，７ｂが延出
されている。前記駆動軸７ａ，７ｂのそれぞれの先端部
には、該駆動軸の駆動力を９０°下方に変換せしめるギ
アボックス８ａ，８ｂが配設されている。
【００１４】前記支柱３ａの内側面側に沿って次に説明
するロール部７０を上下駆動せしめるボールネジ４ａが
配設され、このボールネジ４ａの先端部は、前記ギアボ
ックス８ａで前記駆動軸７ａに螺合されている。同様
に、前記支柱３ｂに沿ってボールネジ４ｂが配設され、
このボールネジ４ｂの先端部は、前記ギアボックス８ｂ
で前記駆動軸７ｂに螺合されている。
【００１５】前記パターン転写用平板（以下、パターン
基板と記す）Ｆは、図２に示すように、長方形の可撓性
を有する金属薄板，樹脂シート等からなる基板Ｆ0 上
に、印刷インキあるいはメッキ等により電気回路等のパ
ターンＰが形成され、平板下の両端は長い支持板１１，
１１にそこから突出したピン１２，１２・・・１２によ
って固定されている。前記パターン基板ＦのパターンＰ
の近傍には、複数の位置決めマークＭp が印刷されてい
る。
【００１６】前記支持板３ｃの手前側面には、図３
（Ａ），（Ｂ）に示す前記パターン基板Ｆの支持板１１
を挟持固定するクランプ部９ａが配設されている。この
クランプ部９ａは、背面板１３と前面板１４とが上部で
回動自在に連結され、前面板１４の下端部側には階段凹
部状の挟持部１４ｃが形成されている。また、前面板１
４の下方側面には２個の縦状の長孔１４ａ，１４ｂが形
成され、この長孔１４ａ，１４ｂにはそれぞれ押えシリ
ンダ１６の出力軸１６ａが挿通され、出力軸１６ａの先
端には前記長孔１４ａ，１４ｂに挿通して、９０°回転
してパターン基板Ｆをクランプ部９ａに固定する固定摘
み１５ａ，１５ｂが取り付けられている。
【００１７】また、次に説明するガラス基板固定盤２１
の下方位置には、前記パターン基板Ｆの他方の支持板１
１を挟持固定するクランプ部９ｂが配設されている。こ
のクランプ部９ｂは、図３（Ｃ）に示すように、背面板
１３ａと前面板１４ａとを備え、背面板１３ａの背後に
は図示しないパターン基板を押える押えシリンダが配設
され、そのシリンダの出力軸に取り付けられた固定摘み
１５ｃ，１５ｄが配設されている。背面板１３ａには２
個のネジ孔１３ｂ，１３ｃが穿設され、背面板１３ａの
背面側に配置されたネジ受けとの間にネジ止めされるよ
うになっている。そして、ネジ孔１３ｂ，１３ｃに図示
しないネジを挿入してネジ止めすることにより、矢印Ｙ
方向に背面板１３ａの角度調整が可能にされている。即
ち、前記クランプ部９ａとクランプ部９ｂ間にパターン
基板Ｆを挟持固定した場合に生じるパターン基板Ｆの撓
みを、背面板１３ａを矢印Ｙ方向に回転調整することに
より、除去することができる。
【００１８】前記ガラス基板固定盤２１は、転写装置１
の中央部やや上方に配置され、図４に示すように、前記
固定盤２１のほぼ正方形の中央部には縦方向に次に説明
する観察光学系をなすカメラレンズの観察窓である観察
用スリット２３が形成されている。この観察用スリット
２３の上方から覗いているのは次に説明する第１カメラ
のレンズ２２ａであり、同様に下方から覗いているのは
第２カメラのレンズ２２ｂである。また、ガラス基板固
定盤２１には、多数の吸引孔２４が穿設され、中央部に
向けてネジによりガラス基板を固定するためのガラス基
板位置決め用の３本の長孔２５ａ〜２５ｃが形成され、
前記固定盤２１の背面四隅と背面左右辺中央には次に説
明する係合脚２６ａ〜２６ｆが突設されている。
【００１９】前記ガラス基板固定盤２１の上下には、図
５に示すガラス基板とパターン基板とを所定間隔で対向
整合せしめる整合装置であるスペーサステージ３０が配
設されている。スペーサステージ３０は、長方形の第１
スペーサ３０ａと前後方向に移動するスライド板３３と
台座３１等により構成されている。前記第１スペーサ３
０ａの前側端面は、フィルム基板Ｆが滑かに摺動される
ように円弧状に形成され、後部側は前記スライド板３３
に固定されている。台座３１上には２本のレール３２
ａ，３２ｂが前後方向に平行配設され、このレール上を
前記スライド板３３がスライドするようになっている。
このスライド板３３の中央にはほぼ正方形の取付孔３３
ａが形成され、該取付孔３３ａの手前側面には台座３１
上に固定されたエアシリンダ３４の出力軸の先端が固定
されている。また、エアシリンダ３４の背面側には前進
端調整ネジ３５の先端が対向し、この調整ネジ３５を回
転調整することにより、第１スペーサ３０ａが前後に微
調整可能となる。即ち、前記調整ネジ３５がエアシリン
ダの背面に当接した位置でスライド板３３の前進は停止
して第１スペーサ３０ａの前進位置が規制される。
【００２０】前述の如くガラス固定板２１の背面側には
図６に示すワークステージ５０が配設されている。ワー
クステージ５０のほぼ正方形の取付板５１の中央部に窓
５２が形成され、前記窓５２の中央やや右よりには各種
部材を取付支持するガラス基板固定盤２１に固定された
支持板５７が配設されている。この支持板５７の上部側
には、第１カメラ５５ａ，第１レンズ２２ａ等をｘｙ方
向に微調整可能するための第１微調整機構５８ｃが配設
され、この微調整機構５８ｃを構成するカメラ取付板５
８ｅには前記第１レンズ２２ａ（図４参照）を有する第
１カメラ５５ａが固定されている。また、前記支持板５
７の下部側には、同様に第２微調整機構５８ｄが配設さ
れ、カメラ取付板５８ｆには前記第２レンズ２２ｂ（図
４参照）を有する第２カメラ５５ｂが配設されている。
これら、第１，第２レンズ２２ａ，２２ｂのレンズの周
囲には、ファイバーリング照明が取り付けられている。
ここに、符号５８ａ，５８ｂは、第１，第２微調整機構
５８ｃ，５８ｄをｘ方向に微調整するためのｘ方向微動
ノブであり、符号５９ａ，５９ｂは、第１，第２微調整
機構５８ｃ，５８ｄをｙ方向に微調整するためのｙ方向
微動ノブである。
【００２１】また、前記取付板５１の四隅には小窓５３
ａ〜５３ｄが形成され、前記小窓５３ａ，５３ｂの近傍
にはステップモータ５４ａ，５４ｂが配設され，前記小
窓５３ｃ，５３ｄの近傍には前記ステップモータ５４
ａ，５４ｂとエアシリンダ５４ｄ，５４ｃが配設されて
いる。即ち、専ら次に説明する係合脚２６ｄを下方に押
し下げるエアシリンダ５４ｃと、係合脚２６ａを上方に
押し上げるステップモータ５４ｂとが対をなし、ステッ
プモータ５４ｂの微小動作により、ガラス基板固定盤２
１を微動せしめる。同様に、係合脚２６ｃを下方に押し
下げるエアシリンダ５４ｄと、係合脚２６ｂを上方に押
し上げるステップモータ５４ａとが対をなしている。前
記小窓５３ａ〜５３ｄから前記係合脚２６ａ〜２６ｄ
（図４参照）が突出されるようになっている。同様に、
取付板５１の左右辺近傍には小窓５３ｅ，５３ｆが形成
され、その近傍にはステップモータ５４ｅとエアシリン
ダ５４ｆが配設され、前記小窓５３ｅ，５３ｆからは係
合脚２６ｅ，２６ｆが突出されるようになっている。
【００２２】前記ロール部７０は、図７（Ａ）に示すよ
うに、横長の強固なフレーム８０に次に説明する各種部
材が取り付けられて構成され、該ロール部７０は、転写
後のガラス基板Ｇとパターン基板Ｆを剥離する際に使用
する剥離ロール部７２と、パターン基板Ｆをガラス基板
Ｇに圧着する際に使用する圧着ロール部７３等により構
成されている。即ち、フレーム８０の左右上隅にはそれ
ぞれ前記ボールネジ４ａ，４ｂに螺合されるナット７１
ａ，７１ｂが配設され、ボールネジ４ａ，４ｂの回動に
よりロール部７０全体がリニアガイド（図示せず）に沿
って上下動される。前記剥離ロール部７２は、凸型の２
個の支持板７８ａ，７８ｂ間に３本の剥離ロール７９ａ
〜７９ｃが回転自在に取り付けられて構成されている。
【００２３】前記圧着ロール部７３は、左右に側壁を備
えたロール支持板８４内にそれぞれ軸７６ａ，７６ｂを
基端部としてアーム７７ａとアーム７７ｃとが対向配置
され、前記アーム７７ａと７７ｃとの間にはパターン基
板Ｆをガラス基板Ｇに圧着せしめる弾性部材からなる圧
着ロール７５が回転自在に配設されている。前記圧着ロ
ール７５の手前には、前記圧着ロール７５に当接して圧
着ロール７５の直線性を維持するための金属部材からな
る圧着補助ロール７６が配設されている。この圧着補助
ロール７６はフレーム８０に固定され、図７（Ｂ）に示
すように、前記アーム７７ａ，７７ｃは前記フレーム８
０にバネにより引張り付勢されている。
【００２４】また、前記ロール支持板８４の手前下面左
右には、フレーム８０の突起部８１ａ，８１ｂに載置さ
れたエアシリンダ８２ａ，８２ｂが配設され、それぞれ
の出力軸８３ａ，８３ｂが前記支持板８４の下面に当接
されている。そして、図７（Ｃ）に示すように、フレー
ム８０を軸８０ｂを中心として矢印Ｒ1 方向に回転せし
めて圧着ロール７５をガラス基板固定板２１方向に回転
せしめ、パターン基板Ｆとガラス基板Ｇに強い圧着力を
加えるようになっている。
【００２５】次に、転写装置１の制御系を図８に基づい
て説明する。図８に示すように、制御系９０は、前記第
１カメラ５５ａ，第２カメラ５５ｂ等により構成される
観察光学系９１が制御部９２に接続され、制御部９２は
観察光学系９１の出力情報に基づいてパターン基板Ｆと
ガラス基板Ｇとの位置調整量を算出するアライメント量
算出部９２ａを含んで構成されている。また、制御部９
２には、アライメント量算出部９２ａの算出結果に基づ
いて前記ワークステージ５０の移動量を制御するステー
ジ制御部９３が接続され、ステージ制御部９３は前記ガ
ラス固定盤２１を移動せしめるステップモータ５４ａ等
からなる平板移動機構９４に接続されている。即ち、ス
テージ制御部９３においては、２次座標系（ｘ−ｙ座標
系）における水平方向（ｘ軸方向、ｙ軸方向および原点
から角度θの方向）におけるパターン側位置決めマーク
Ｍp とワーク側位置決めマークＭw （図１１参照）との
位置関係に関し、所定の整合ギャップＨを維持しつつパ
ターン側位置決めマークＭp とワーク側位置決めマーク
Ｍw とが重なり合って観察される位置までガラス基板固
定盤２１が移動するのに必要な制御信号が平板移動機構
９４へ出力される。
【００２６】次に、以上の如く構成された転写装置１の
動作を図９〜図１２に基づいて説明する。図９に示すよ
うに、先ず初期設定を行うとロール部７０は図１に示す
如く最下端に位置され、メインモータ５等は動作可能状
態になる（ステップＳ１）。次いで、作業者はガラス基
板固定盤２１にガラス基板Ｆを真空吸着等により固定し
（ステップＳ２）、上下のクランプ部９ａ，９ｂを開放
し（ステップＳ３）、パターン基板Ｆの支持板１１，１
１をクランプ部９ａ，９ｂに固定する。この際、押えシ
リンダ１６を吸引方向に移動せしめ背面板１３と全面板
１４との間に前記支持板をしっかり固定すると共に、ク
ランプ部９ｂを調整してパターン基板の撓みを除去する
（ステップＳ４）。次いで、上下のスペーサ３０ａ，３
０ｂの突出量を調整することによりパターン基板Ｆとガ
ラス基板Ｇとを均一な整合ギャップＨを隔てて対向させ
る（ステップＳ５、図１０（Ａ）参照）。なお、予めス
ペーサ３０ａ，３０ｂを必要量だけ突出させておいても
よい。
【００２７】次に、パターン基板Ｆとガラス基板Ｇとの
位置合せ（整合）を行なう（ステップＳ６）。ここに、
整合ギャップＨを隔てて対向させたパターン基板Ｆとガ
ラス基板Ｇとの位置合せは、図１０（Ｂ）および図１１
（Ａ），（Ｂ）に示すように、整合ギャップＨを維持し
た状態で、パターン基板Ｆに設けたパターン側位置決め
マークＭp とガラス基板Ｇに設けたワーク側位置決めマ
ークＭw との位置関係を観察光学系９１（レンズ２２
ａ，２２ｂ）で光学的に観察する。この観察光学系９１
から得られる情報をアライメント量算出部９２ａが算出
し、この算出結果に応じてステージ制御部９３が平板移
動機構９４（ステップモータおよびエアシリンダ５４ａ
〜５４ｆ，係合脚２６ａ〜２６ｆ等）を移動させて、パ
ターン側位置決めマークＭp とワーク側位置決めマーク
Ｍw とが所定の関係で観察される位置まで移動させるこ
とにより行なう。即ち、本実施例においては、図１０
（Ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇを載置したガラス基
板固定盤２１を同図中の「破線」で示した位置から「実
線」で示した位置まで破線矢印方向に移動させることに
より整合を行なう。なお、この整合を、複数組のパター
ン側位置決めマークＭpおよびワーク側位置決めマーク
Ｍw について行なえば、位置合せ精度が更に向上する。
【００２８】以上のようにして、パターン基板Ｆとガラ
ス基板Ｇとの整合を行なった後、図１０（Ｃ）に示すよ
うに整合ギャップＨを維持したままパターン基板Ｆとガ
ラス基板Ｇとの下端部を、圧着ロール７５で挟んで密着
固定し、図１０（Ｄ）に示すようにロール部７５を上昇
させてパターン基板Ｆとガラス基板Ｇとを全面密着させ
る（ステップＳ７）。ここに、前記下端部から上端部に
向けて圧着ロール７５を移動させ、整合ギャップＨを維
持したまま局部的に加圧することにより均一な密着強度
を達成しつつ圧着を行なうことができる。
【００２９】次いで、パターン基板Ｆとガラス基板Ｇと
を圧着した後、上部のクランプ部９ａを開放し（ステッ
プＳ８）、図１０（Ｅ）に示すように、作業員がパター
ン基板Ｆの端部を掴んで密着状態にある両基板の端部側
から引き離せば、図１０（Ｆ）に示すように、転写パタ
ーンＰはパターン基板Ｆから剥離してガラス基板Ｇの所
定の位置に転写され（ステップＳ９，Ｓ１０）、最後
に、下部のクランプ部９ｂを開放して、パターン転写後
のパターン基板Ｆとガラス基板Ｇを転写装置１から取り
外す（ステップＳ１１）。なお、前記パターン基板Ｆの
引き剥がしの際に、図１２に示すように、パターン基板
Ｆを剥離ロール７９ａ，７９ｂに接するようにしながら
矢印Ｘ方向に引っ張れば、剥離ロール７９ａが下方に下
がりながらほぼ均一な剥離力が加えられ、完全な剥離を
行うことができる。
【００３０】以上のようにすれば、ガラス基板Ｇ上に転
写される転写パターンＰは、密着強度が均一であると共
に位置合せ精度およびその再現性に優れ、例えば、薄膜
半導体素子の導電性微細パターンに要求される位置合せ
精度およびその再現性の水準（例えば１〜５μｍ）をも
満足する。
【００３１】なお、本実施例では図１０（Ｂ）に示すよ
うに、ガラス基板Ｇとパターン基板Ｆとの間にギャップ
Ｈを維持しつつ圧着したが、図１３に示すように、ガラ
ス基板Ｇとパターン基板Ｆとを密着した状態で圧着ロー
ル７５で加圧しても良いのは勿論である。
【００３２】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
パターン転写用平板と被転写平板との密着強度およびそ
の均一性が向上し、被転写平板への転写パターンの転写
を高い精度で正確に行うことができるとともに、転写パ
ターンと被転写平板との位置関係を光学的に観察しなが
ら整合を行なうので、被転写平板への転写パターンの転
写精度がさらに向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例の外観斜視図である。
【図２】前記実施例に使用するパターン基板の外観斜視
図である。
【図３】前記実施例に使用するクランプ部を示す図であ
って、（Ａ）は上方クランプ部の斜視図、（Ｂ）は上方
クランプ部の側面図、（Ｃ）は下方クランプ部の背面板
の斜視図である。
【図４】前記実施例に使用するガラス基板固定盤の正面
図である。
【図５】前記実施例に使用するスペーサステージの外観
斜視図である。
【図６】前記実施例に使用するワークステージの外観斜
視図である。
【図７】前記実施例に使用する圧着ロール部等を示す図
であって、（Ａ）は外観斜視図、（Ｂ）は圧着ロール部
の動作説明図、（Ｃ）は圧着補助定規ロールの動作説明
図である。
【図８】前記実施例の制御系のブロック図である。
【図９】前記実施例の動作フローチャートである。
【図１０】前記実施例における動作過程を説明する図で
ある。
【図１１】図１０における位置合せを説明する図であっ
て、（Ａ）はパターン基板とガラス基板の双方の位置合
せマークがズレた状態を示し、（Ｂ）は前記マークが一
致した状態を示す図である。
【図１２】前記動作過程においてパターン基板とガラス
基板の剥離状態を説明する図である。
【図１３】ガラス基板とパターン基板とを密着した状態
で、圧着ロールにより圧着する場合を説明する図であ
る。
【符号の説明】
Ｆ…パターン基板（パターン転写用平板） Ｇ…ガラス基板（被転写平板） Ｐ…転写パターン Ｍp …パターン側位置合せマーク Ｍw …ワーク側位置合せマーク １…転写装置 ４ａ，４ｂ…ボールネジ ５…メインモータ ９ａ，９ｂ…クランプ部 ２１…ガラス基板固定盤 ３０…スペーサステージ（整合装置） ５０…ワークステージ（位置合せ装置） ７０…ロール部 ７３…圧着ロール部（圧着装置） ９０…制御系 ９１…観察光学系（観察光学装置）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 29/784 Ｈ０５Ｋ 3/20 Ｃ 7511−4Ｅ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 転写パターンを有するパターン転写用平
    板と被転写平板との相互位置を調整した後に圧着し、被
    転写平板に転写パターンを転写せしめる転写装置におい
    て、 可撓性を有する基板上に転写可能な転写パターンおよび
    パターン側位置決めマークを設けたパターン転写用平板
    とワーク側位置決めマークを設けた被転写平板とを均一
    な整合ギャップを隔てて対向せしめる整合装置と、 前記整合ギャップを維持した状態で前記パターン側位置
    決めマークと前記ワーク側位置決めマークとの位置関係
    を光学系で観察する観察光学装置と、 この観察光学装置で光学的に観察しつつ該観察光学装置
    から得られる情報に応じて前記パターン転写用平板また
    は被転写平板の少なくとも一方を移動させて両平板の位
    置合わせを行なう位置合せ装置と、 前記パターン転写用平板を被転写平板上に圧着せしめる
    圧着装置と、を備えたことを特徴とする転写装置。
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