JP3217886B2 - 転写パターンの転写方法 - Google Patents
転写パターンの転写方法Info
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- JP3217886B2 JP3217886B2 JP00489693A JP489693A JP3217886B2 JP 3217886 B2 JP3217886 B2 JP 3217886B2 JP 00489693 A JP00489693 A JP 00489693A JP 489693 A JP489693 A JP 489693A JP 3217886 B2 JP3217886 B2 JP 3217886B2
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Duplication Or Marking (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、転写パターンの転写方
法に係り、特にパターン転写用基板に形成した転写パタ
ーンを被転写基板に転写する際に、転写パターンの位置
ズレを起さないようにした転写パターンの転写方法に関
する。
法に係り、特にパターン転写用基板に形成した転写パタ
ーンを被転写基板に転写する際に、転写パターンの位置
ズレを起さないようにした転写パターンの転写方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】精密電子部品の配線パターンなどの製造
においては、被加工物（例えば、ポリイミド，ガラス基
板，シリコンウェーハ）に電気回路または素子構成用微
細パターンを正確に形成する必要がある。
においては、被加工物（例えば、ポリイミド，ガラス基
板，シリコンウェーハ）に電気回路または素子構成用微
細パターンを正確に形成する必要がある。
【０００３】この導体回路基板の製造においては、例え
ば、被加工物に直接レジストインキを印刷するか、又は
予めフォトレジスト層を塗布した被加工物に所定形状で
紫外線を遮断する印刷インキ層を印刷した後、露光・現
像し、次いでエッチング処理を行なう印刷法を採用して
電気回路あるいは素子構成用の微細パターンを形成する
方法が考えられる。
ば、被加工物に直接レジストインキを印刷するか、又は
予めフォトレジスト層を塗布した被加工物に所定形状で
紫外線を遮断する印刷インキ層を印刷した後、露光・現
像し、次いでエッチング処理を行なう印刷法を採用して
電気回路あるいは素子構成用の微細パターンを形成する
方法が考えられる。
【０００４】ここで、前記印刷法を採用して電気回路等
の微細パターンを正確に形成するためには、被印刷体と
印刷インキパターンとの密着強度が均一であると共に、
該被印刷体上に既に形成されている印刷パターンと新た
に印刷すべき印刷インキパターンとの位置合わせが正確
に行なわれる必要がある。
の微細パターンを正確に形成するためには、被印刷体と
印刷インキパターンとの密着強度が均一であると共に、
該被印刷体上に既に形成されている印刷パターンと新た
に印刷すべき印刷インキパターンとの位置合わせが正確
に行なわれる必要がある。
【０００５】しかし、従来のいわゆる平行平板方式の印
刷装置（転写装置）においては、印刷インキパターンが
形成されたパターン転写用平板と被印刷体（被印刷用平
板）との密着を両平板の全面に渡って同時に行なうた
め、局部的な密着不良が生じ易く、均一な密着強度を達
成することが困難であった。
刷装置（転写装置）においては、印刷インキパターンが
形成されたパターン転写用平板と被印刷体（被印刷用平
板）との密着を両平板の全面に渡って同時に行なうた
め、局部的な密着不良が生じ易く、均一な密着強度を達
成することが困難であった。
【０００６】また、一般に被印刷体と印刷インキパター
ンとの位置合わせは予め予備印刷を行って調整し、良好
な結果が得られた段階で被印刷体上に印刷インキパター
ンを転写させるために、被印刷体と印刷インキパターン
との位置関係に変動が起きてもそのまま続行するのが通
例であった。従って、前記従来の印刷装置により被印刷
体上に転写される印刷インキパターンの位置合せ精度お
よびその再現性は２０〜３０μｍが限度であり、例え
ば、薄膜半導体素子の導電性微細パターンに要求される
位置合せ精度およびその再現性の水準には至っていなか
った。
ンとの位置合わせは予め予備印刷を行って調整し、良好
な結果が得られた段階で被印刷体上に印刷インキパター
ンを転写させるために、被印刷体と印刷インキパターン
との位置関係に変動が起きてもそのまま続行するのが通
例であった。従って、前記従来の印刷装置により被印刷
体上に転写される印刷インキパターンの位置合せ精度お
よびその再現性は２０〜３０μｍが限度であり、例え
ば、薄膜半導体素子の導電性微細パターンに要求される
位置合せ精度およびその再現性の水準には至っていなか
った。
【０００７】そこで、先に本願出願人は、かかる不都合
を解決した「アライメント転写方法」を提案した（特願
平３−２４５５７４号）。この提案は、パターン転写用
基板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に所定
ギャップを隔てて対向配置し、順次回転ロールにより圧
着して前記被転写基板にパターンを転写するようにした
ものである。このようにすると、前記不都合を解決する
ことができる。
を解決した「アライメント転写方法」を提案した（特願
平３−２４５５７４号）。この提案は、パターン転写用
基板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に所定
ギャップを隔てて対向配置し、順次回転ロールにより圧
着して前記被転写基板にパターンを転写するようにした
ものである。このようにすると、前記不都合を解決する
ことができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記提
案においては、転写パターンを被転写基板に転写する際
に、被転写基板に転写されるパターンの「位置ズレ」の
発生を完全に防止することができなかった。
案においては、転写パターンを被転写基板に転写する際
に、被転写基板に転写されるパターンの「位置ズレ」の
発生を完全に防止することができなかった。
【０００９】そこで、本発明は上記課題を解決するため
になされたものであり、被転写基板に転写パターンを転
写する際に、転写パターンの「位置ズレ」を起さないよ
うにした被転写基板への転写パターンの転写方法を提供
することを目的とする。
になされたものであり、被転写基板に転写パターンを転
写する際に、転写パターンの「位置ズレ」を起さないよ
うにした被転写基板への転写パターンの転写方法を提供
することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、転写パターンを有するパターン転写用基
板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対向配
置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着しつ
つ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転写パ
ターンの転写方法であって、前記被転写基板を支持した
被転写基板支持板を、前記回転ロールの進行方向に対し
てフリー状態に支持して転写するようにした。
に、本発明は、転写パターンを有するパターン転写用基
板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対向配
置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着しつ
つ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転写パ
ターンの転写方法であって、前記被転写基板を支持した
被転写基板支持板を、前記回転ロールの進行方向に対し
てフリー状態に支持して転写するようにした。
【００１１】また、転写パターンを有するパターン転写
用基板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対
向配置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着
しつつ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転
写パターンの転写方法であって、前記回転ロールを、該
回転ロールの進行方向に対してフリー状態に支持して転
写するようにした。
用基板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対
向配置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着
しつつ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転
写パターンの転写方法であって、前記回転ロールを、該
回転ロールの進行方向に対してフリー状態に支持して転
写するようにした。
【００１２】また、転写パターンを有するパターン転写
用基板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対
向配置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着
しつつ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転
写パターンの転写方法であって、前記回転ロールを所定
位置に固定し、前記被転写基板を支持した被転写基板支
持板とパターン転写用基板とを一体として移動しつつ前
記転写パターンを前記被転写基板に転写するようにし、
かつ、少なくとも前記回転ロールまたは一体化された被
転写基板支持板とパターン転写用基板との、いずれか一
方をフリー状態で支持するようにした。
用基板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対
向配置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着
しつつ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転
写パターンの転写方法であって、前記回転ロールを所定
位置に固定し、前記被転写基板を支持した被転写基板支
持板とパターン転写用基板とを一体として移動しつつ前
記転写パターンを前記被転写基板に転写するようにし、
かつ、少なくとも前記回転ロールまたは一体化された被
転写基板支持板とパターン転写用基板との、いずれか一
方をフリー状態で支持するようにした。
【００１３】
【作用】回転ロールは、パターン転写用基板を、被転写
基板を支持した被転写基板支持板の方向に圧着する。こ
こに、前記被転写基板支持板は回転ロールの進行方向に
対してフリー状態に支持されているので、前記圧着の際
にパターン転写用基板と被転写基板との間には無理な力
が加えられず、転写後のパターンが位置ズレを起さな
い。
基板を支持した被転写基板支持板の方向に圧着する。こ
こに、前記被転写基板支持板は回転ロールの進行方向に
対してフリー状態に支持されているので、前記圧着の際
にパターン転写用基板と被転写基板との間には無理な力
が加えられず、転写後のパターンが位置ズレを起さな
い。
【００１４】また、回転ロールは、その進行方向に対し
てフリー状態に支持されているので、回転ロールで圧着
の際に、パターン転写用基板と被転写基板との間には無
理が力が加えられず、前記位置ズレを起さない。
てフリー状態に支持されているので、回転ロールで圧着
の際に、パターン転写用基板と被転写基板との間には無
理が力が加えられず、前記位置ズレを起さない。
【００１５】また、少なくとも回転ロールまたは一体化
された被転写基板支持板とパターン転写用基板のいずれ
かがフリー状態で支持されているので、パターン転写用
基板と被転写基板との間には無理な力が加えられず、前
記位置ズレを起さない。
された被転写基板支持板とパターン転写用基板のいずれ
かがフリー状態で支持されているので、パターン転写用
基板と被転写基板との間には無理な力が加えられず、前
記位置ズレを起さない。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明
する。図１に本実施例に使用する転写装置１の外観斜視
図を示す。
する。図１に本実施例に使用する転写装置１の外観斜視
図を示す。
【００１７】図１に示すように、転写装置１は、垂直型
であり、台座２およびこの台座２の前面両側に立設した
支柱３ａ，３ｂ等のフレーム部と、このフレーム部の上
面中央に取り付けられたメインモータ５および前記支柱
３ａ，３ｂに沿って配せられ、メインモータによって駆
動されるボールネジ４ａ，４ｂ等の駆動部と、パターン
転写用平板Ｆを支持する平板クランプ９ａ，９ｂと、被
転写基板Ｇを固定するガラス基板固定盤２１と、前記ボ
ールネジ４ａ，４ｂによって上下に移動し、パターン転
写用平板Ｆをガラス基板Ｇに圧着する圧着ロールおよび
転写後の剥離の際に使用する剥離ロール等からなるロー
ル部７０と、前記ガラス基板固定盤２１の背面に配設さ
れた光学観察系部および位置合せ部を兼ねたワークステ
ージ５０と、転写後の基板を剥離する際に用いる牽引装
置１００等により構成されている。
であり、台座２およびこの台座２の前面両側に立設した
支柱３ａ，３ｂ等のフレーム部と、このフレーム部の上
面中央に取り付けられたメインモータ５および前記支柱
３ａ，３ｂに沿って配せられ、メインモータによって駆
動されるボールネジ４ａ，４ｂ等の駆動部と、パターン
転写用平板Ｆを支持する平板クランプ９ａ，９ｂと、被
転写基板Ｇを固定するガラス基板固定盤２１と、前記ボ
ールネジ４ａ，４ｂによって上下に移動し、パターン転
写用平板Ｆをガラス基板Ｇに圧着する圧着ロールおよび
転写後の剥離の際に使用する剥離ロール等からなるロー
ル部７０と、前記ガラス基板固定盤２１の背面に配設さ
れた光学観察系部および位置合せ部を兼ねたワークステ
ージ５０と、転写後の基板を剥離する際に用いる牽引装
置１００等により構成されている。
【００１８】前記台座２の両側からは２枚の側板（手前
側の側板３ｄのみを図示し、背面側の側板は図示せず）
が対向立設されている。前記２本の支柱３ａ，３ｂの先
端部には支持板３ｃが横設され、この支持板３ｃの中央
部背面には駆動源であるメインモータ５が固定されてい
る。前記支持板３ｃには、前記メインモータ５の出力を
減速中継するギアボックス６が固定され、このギアボッ
クス６の左右側面からそれぞれ駆動軸７ａ，７ｂが延出
されている。前記駆動軸７ａ，７ｂのそれぞれの先端部
には、該駆動軸の駆動力を９０°下方に変換せしめるギ
アボックス８ａ，８ｂが配設されている。
側の側板３ｄのみを図示し、背面側の側板は図示せず）
が対向立設されている。前記２本の支柱３ａ，３ｂの先
端部には支持板３ｃが横設され、この支持板３ｃの中央
部背面には駆動源であるメインモータ５が固定されてい
る。前記支持板３ｃには、前記メインモータ５の出力を
減速中継するギアボックス６が固定され、このギアボッ
クス６の左右側面からそれぞれ駆動軸７ａ，７ｂが延出
されている。前記駆動軸７ａ，７ｂのそれぞれの先端部
には、該駆動軸の駆動力を９０°下方に変換せしめるギ
アボックス８ａ，８ｂが配設されている。
【００１９】前記支柱３ａの内側面側に沿って次に説明
するロール部７０を上下駆動せしめるボールネジ４ａが
配設され、このボールネジ４ａの先端部は、前記ギアボ
ックス８ａで前記駆動軸７ａに螺合されている。同様
に、前記支柱３ｂに沿ってボールネジ４ｂが配設され、
このボールネジ４ｂの先端部は、前記ギアボックス８ｂ
で前記駆動軸７ｂに螺合されている。
するロール部７０を上下駆動せしめるボールネジ４ａが
配設され、このボールネジ４ａの先端部は、前記ギアボ
ックス８ａで前記駆動軸７ａに螺合されている。同様
に、前記支柱３ｂに沿ってボールネジ４ｂが配設され、
このボールネジ４ｂの先端部は、前記ギアボックス８ｂ
で前記駆動軸７ｂに螺合されている。
【００２０】前記パターン転写用平板（以下、パターン
基板と記す）Ｆは、図２に示すように、長方形の可撓性
を有する金属薄板，樹脂シート等からなる基板Ｆ0 上
に、印刷インキあるいはメッキ等により電気回路等のパ
ターンＰが形成され、平板下の両端は長い支持板１１，
１１にそこから突き出したピン１２，１２・・・１２に
よって固定されている。前記パターン基板Ｆのパターン
Ｐの近傍には、複数の位置決めマークＭp が印刷されて
いる。前記支持板１１の両端部には、前記牽引装置１０
０を使用する際に掛止する掛止孔１１ａ，１１ｂが穿設
されている。
基板と記す）Ｆは、図２に示すように、長方形の可撓性
を有する金属薄板，樹脂シート等からなる基板Ｆ0 上
に、印刷インキあるいはメッキ等により電気回路等のパ
ターンＰが形成され、平板下の両端は長い支持板１１，
１１にそこから突き出したピン１２，１２・・・１２に
よって固定されている。前記パターン基板Ｆのパターン
Ｐの近傍には、複数の位置決めマークＭp が印刷されて
いる。前記支持板１１の両端部には、前記牽引装置１０
０を使用する際に掛止する掛止孔１１ａ，１１ｂが穿設
されている。
【００２１】前記支持板３ｃの手前側面には、前記パタ
ーン基板Ｆの支持板１１を挟持固定するクランプ部９ａ
が配設されている。このクランプ部９ａは、背面板と前
面板とが上部で回動自在に連結され、フレームに固定さ
れている。そして、次に説明するガラス基板固定盤２１
の下方位置には、前記パターン基板Ｆの他方の支持板１
１を挟持固定するクランプ部９ｂが配設され、このクラ
ンプ部９ｂはフレームにバネ（図示せず）を介してフリ
ー状態で支持されている。
ーン基板Ｆの支持板１１を挟持固定するクランプ部９ａ
が配設されている。このクランプ部９ａは、背面板と前
面板とが上部で回動自在に連結され、フレームに固定さ
れている。そして、次に説明するガラス基板固定盤２１
の下方位置には、前記パターン基板Ｆの他方の支持板１
１を挟持固定するクランプ部９ｂが配設され、このクラ
ンプ部９ｂはフレームにバネ（図示せず）を介してフリ
ー状態で支持されている。
【００２２】前記ガラス基板固定盤２１は、転写装置１
の前面中央部やや上方に配置され、この固定盤２１の背
面には位置合わせ用の観察光学系（図示せず）が配設さ
れている。また、この固定盤２１の左右側方には、図３
に示すように、断面形状Ｕ字状の２本のガイドレール１
０１ａ，１０１ｂが配設されている。そして、前記固定
盤２１の左右側面には第１〜第４ローラ１０２ａ〜１０
２ｄが突設され、これらローラ１０２ａ〜１０２ｄは、
前記ガイドレール１０１ａ，１０１ｂの内面に係合さ
れ、前記固定盤２１はガイドレール１０１ａ，１０１ｂ
に沿って上下動自在に構成されている。また、前記固定
盤２１の上下側面には、一端がフレーム（図示せず）に
固定されたコイルバネ１０３ａ，１０３ｂが配設され、
前記固定盤２１を上下方向にフリー状態で支持してい
る。
の前面中央部やや上方に配置され、この固定盤２１の背
面には位置合わせ用の観察光学系（図示せず）が配設さ
れている。また、この固定盤２１の左右側方には、図３
に示すように、断面形状Ｕ字状の２本のガイドレール１
０１ａ，１０１ｂが配設されている。そして、前記固定
盤２１の左右側面には第１〜第４ローラ１０２ａ〜１０
２ｄが突設され、これらローラ１０２ａ〜１０２ｄは、
前記ガイドレール１０１ａ，１０１ｂの内面に係合さ
れ、前記固定盤２１はガイドレール１０１ａ，１０１ｂ
に沿って上下動自在に構成されている。また、前記固定
盤２１の上下側面には、一端がフレーム（図示せず）に
固定されたコイルバネ１０３ａ，１０３ｂが配設され、
前記固定盤２１を上下方向にフリー状態で支持してい
る。
【００２３】前記牽引装置１００は、対向配置されたガ
イドレール１０６ａ，１０６ｂ間に、ローラ１０７ｃ，
１０７ｄにより上下動フリーに支持された牽引棒１０７
を備え、この牽引棒１０７の奥方側面には前記パターン
基板Ｆの掛止孔１１ａ，１１ｂに掛止される掛止部材１
０７ａ，１０７ｂが取り付けられている。
イドレール１０６ａ，１０６ｂ間に、ローラ１０７ｃ，
１０７ｄにより上下動フリーに支持された牽引棒１０７
を備え、この牽引棒１０７の奥方側面には前記パターン
基板Ｆの掛止孔１１ａ，１１ｂに掛止される掛止部材１
０７ａ，１０７ｂが取り付けられている。
【００２４】前記ガラス基板固定盤２１の上下には、ガ
ラス基板とパターン基板とを所定間隔で対向整合せしめ
る整合装置であるスペーサステージ３０ａ，３０ｂが配
設され、このスペーサステージ３０ａ，３０ｂは、前後
方向に調整可能に構成されている。
ラス基板とパターン基板とを所定間隔で対向整合せしめ
る整合装置であるスペーサステージ３０ａ，３０ｂが配
設され、このスペーサステージ３０ａ，３０ｂは、前後
方向に調整可能に構成されている。
【００２５】前記ロール部７０は、図４（Ａ），
（Ｂ），（Ｃ）に示すように、横長の強固なフレーム８
０に次に説明する各種部材が取り付けられて構成され、
該ロール部７０は、転写後のガラス基板Ｇとパターン基
板Ｆを剥離する際に使用する剥離ロール７２と、パター
ン基板Ｆをガラス基板Ｇに圧着する際に使用する圧着ロ
ール部７３等により構成されている。即ち、フレーム８
０の左右上隅にはそれぞれ前記ボールネジ４ａ，４ｂに
螺合されるナット７１ａ，７１ｂが配設され、ボールネ
ジ４ａ，４ｂの回動によりロール部７０全体がリニアガ
イド（図示せず）に沿って上下動される。
（Ｂ），（Ｃ）に示すように、横長の強固なフレーム８
０に次に説明する各種部材が取り付けられて構成され、
該ロール部７０は、転写後のガラス基板Ｇとパターン基
板Ｆを剥離する際に使用する剥離ロール７２と、パター
ン基板Ｆをガラス基板Ｇに圧着する際に使用する圧着ロ
ール部７３等により構成されている。即ち、フレーム８
０の左右上隅にはそれぞれ前記ボールネジ４ａ，４ｂに
螺合されるナット７１ａ，７１ｂが配設され、ボールネ
ジ４ａ，４ｂの回動によりロール部７０全体がリニアガ
イド（図示せず）に沿って上下動される。
【００２６】前記圧着ロール部７３は、左右に側壁を備
えたロール支持板８４内にそれぞれ軸７６ａ，７６ｂを
基端部としてアーム７７ａとアーム７７ｃとが対向配置
され、前記アーム７７ａと７７ｃとの間にはパターン基
板Ｆをガラス基板Ｇに圧着せしめる弾性部材からなる圧
着ロール７５が回転自在に配設されている。前記圧着ロ
ール７５の手前には、圧着ロール７５に当接して圧着ロ
ール７５の直線性を維持するための金属部材からなる圧
着補助ロール７６が配設されている。この圧着補助ロー
ル７６はロール支持板８４の側壁に回転自在に固定さ
れ、図４（Ｂ）に示すように、前記アーム７７ａ，７７
ｃは前記ロール支持板８４にバネにより引張り付勢され
ている。即ち、圧着時には圧着ロール７５は、ガラス基
板固定盤２１に対してパターン転写用平板Ｆをフリー状
態で圧着する。また、ロール支持板８４の側壁間に剥離
ロール７２が回転自在に取り付けられて構成されてい
る。
えたロール支持板８４内にそれぞれ軸７６ａ，７６ｂを
基端部としてアーム７７ａとアーム７７ｃとが対向配置
され、前記アーム７７ａと７７ｃとの間にはパターン基
板Ｆをガラス基板Ｇに圧着せしめる弾性部材からなる圧
着ロール７５が回転自在に配設されている。前記圧着ロ
ール７５の手前には、圧着ロール７５に当接して圧着ロ
ール７５の直線性を維持するための金属部材からなる圧
着補助ロール７６が配設されている。この圧着補助ロー
ル７６はロール支持板８４の側壁に回転自在に固定さ
れ、図４（Ｂ）に示すように、前記アーム７７ａ，７７
ｃは前記ロール支持板８４にバネにより引張り付勢され
ている。即ち、圧着時には圧着ロール７５は、ガラス基
板固定盤２１に対してパターン転写用平板Ｆをフリー状
態で圧着する。また、ロール支持板８４の側壁間に剥離
ロール７２が回転自在に取り付けられて構成されてい
る。
【００２７】また、前記ロール支持板８４の手前下面左
右には、フレーム８０の突起部８１ａ，８１ｂに載置さ
れたエアシリンダ８２ａ，８２ｂが配設され、それぞれ
の出力軸８３ａ，８３ｂが前記支持板８４の下面に当接
されている。そして、図４（Ｃ）に示すように、フレー
ム８０を軸８０ｂを中心として矢印Ｒ1 方向に回転せし
めて圧着ロール７５をガラス基板固定板２１方向に回転
せしめ、パターン基板Ｆとガラス基板Ｇに強い圧着力を
加えるようになっている。
右には、フレーム８０の突起部８１ａ，８１ｂに載置さ
れたエアシリンダ８２ａ，８２ｂが配設され、それぞれ
の出力軸８３ａ，８３ｂが前記支持板８４の下面に当接
されている。そして、図４（Ｃ）に示すように、フレー
ム８０を軸８０ｂを中心として矢印Ｒ1 方向に回転せし
めて圧着ロール７５をガラス基板固定板２１方向に回転
せしめ、パターン基板Ｆとガラス基板Ｇに強い圧着力を
加えるようになっている。
【００２８】次に、以上の如く構成された転写装置１の
動作を図５〜図６に基づいて説明する。図５に示すよう
に、先ず初期設定を行うとロール部７０は図１に示す如
く最下端に位置され、メインモータ５等は動作可能状態
になる（ステップＳ１）。次いで、作業者はガラス基板
固定盤２１にガラス基板Ｆを真空吸着して固定し（ステ
ップＳ２）、上下のクランプ部９ａ，９ｂを開放し（ス
テップＳ３）、パターン基板Ｆの支持板１１，１１をク
ランプ部９ａ，９ｂに固定する（ステップＳ４）。次い
で、上下のスペーサ３０ａ，３０ｂの突出量を調整する
ことによりパターン基板Ｆとガラス基板Ｇとを均一な整
合ギャップＨを隔てて対向させる（ステップＳ５、図６
（Ａ））。なお、予め整合ギャップを調整した後にパタ
ーン基板Ｆ，ガラス基板Ｇを取り付けてもよい。次に、
パターン基板Ｆとガラス基板Ｇとの位置合せ（整合）を
行なう（ステップＳ６）。
動作を図５〜図６に基づいて説明する。図５に示すよう
に、先ず初期設定を行うとロール部７０は図１に示す如
く最下端に位置され、メインモータ５等は動作可能状態
になる（ステップＳ１）。次いで、作業者はガラス基板
固定盤２１にガラス基板Ｆを真空吸着して固定し（ステ
ップＳ２）、上下のクランプ部９ａ，９ｂを開放し（ス
テップＳ３）、パターン基板Ｆの支持板１１，１１をク
ランプ部９ａ，９ｂに固定する（ステップＳ４）。次い
で、上下のスペーサ３０ａ，３０ｂの突出量を調整する
ことによりパターン基板Ｆとガラス基板Ｇとを均一な整
合ギャップＨを隔てて対向させる（ステップＳ５、図６
（Ａ））。なお、予め整合ギャップを調整した後にパタ
ーン基板Ｆ，ガラス基板Ｇを取り付けてもよい。次に、
パターン基板Ｆとガラス基板Ｇとの位置合せ（整合）を
行なう（ステップＳ６）。
【００２９】以上のようにして、パターン基板Ｆとガラ
ス基板Ｇとの整合を行なった後、図６（Ｂ）に示すよう
に整合ギャップＨを維持したままパターン基板Ｆとガラ
ス基板Ｇとの下端部を、圧着ロール７１で挟んで密着固
定し、図６（Ｃ）に示すようにロール部７０（圧着ロー
ル７１）を上昇させてパターン基板Ｆとガラス基板Ｇと
を全面密着させる（ステップＳ７）。ここに、ガラス基
板固定盤２１はバネ１０３ａ，１０３ｂにより上下方向
にフリー状態に支持されているので、パターン基板Ｆと
ガラス基板Ｇとの間に無理な力が加えられず、転写パタ
ーンの位置ズレを起さない。また、前記下端部から上端
部に向けて圧着ロール７１を移動させ、整合ギャップＨ
を維持したまま局部的に加圧することにより均一な密着
強度を達成しつつ圧着を行なうことができる。
ス基板Ｇとの整合を行なった後、図６（Ｂ）に示すよう
に整合ギャップＨを維持したままパターン基板Ｆとガラ
ス基板Ｇとの下端部を、圧着ロール７１で挟んで密着固
定し、図６（Ｃ）に示すようにロール部７０（圧着ロー
ル７１）を上昇させてパターン基板Ｆとガラス基板Ｇと
を全面密着させる（ステップＳ７）。ここに、ガラス基
板固定盤２１はバネ１０３ａ，１０３ｂにより上下方向
にフリー状態に支持されているので、パターン基板Ｆと
ガラス基板Ｇとの間に無理な力が加えられず、転写パタ
ーンの位置ズレを起さない。また、前記下端部から上端
部に向けて圧着ロール７１を移動させ、整合ギャップＨ
を維持したまま局部的に加圧することにより均一な密着
強度を達成しつつ圧着を行なうことができる。
【００３０】次いで、前述の如くパターン基板Ｆとガラ
ス基板Ｇとを圧着した後、上部のクランプ部９ａを開放
し（ステップＳ８）、図６（Ｄ）に示すように、作業員
がパターン基板Ｆの端部にある掛止孔１１ａ，１１ｂ
（図２参照）に、牽引装置１００の牽引部材１０７ａ，
１０７ｂを掛止すると（ステップＳ９）、図７（Ａ）に
示した状態になる。
ス基板Ｇとを圧着した後、上部のクランプ部９ａを開放
し（ステップＳ８）、図６（Ｄ）に示すように、作業員
がパターン基板Ｆの端部にある掛止孔１１ａ，１１ｂ
（図２参照）に、牽引装置１００の牽引部材１０７ａ，
１０７ｂを掛止すると（ステップＳ９）、図７（Ａ）に
示した状態になる。
【００３１】そして、ステップＳ１０，ステップＳ１１
において、図７（Ｂ）に示すように、ロール部７０の剥
離ロール７３の下降と、牽引装置１００の矢印Ｘ方向へ
の牽引とを同期させると、パターン基板Ｆがガラス基板
Ｇから剥離される。この剥離の際に、ガラス基板固定盤
２１はバネ１０３ａ，１０３ｂにより上下方向にフリー
状態で支持されているので、無理な力がパターン基板Ｆ
およびガラス基板Ｇに加えられないので、パターン基板
Ｆとガラス基板Ｇは位置ズレおよびハガレを起こすこと
なく剥離され、図７（Ｃ）に示すように、転写パターン
Ｐはパターン基板Ｆから剥離してガラス基板Ｇの所定の
位置に転写され、最後に、下部のクランプ部９ｂを開放
して、パターン転写後のパターン基板Ｆとガラス基板Ｇ
を転写装置１から取り外す（ステップＳ１２）。
において、図７（Ｂ）に示すように、ロール部７０の剥
離ロール７３の下降と、牽引装置１００の矢印Ｘ方向へ
の牽引とを同期させると、パターン基板Ｆがガラス基板
Ｇから剥離される。この剥離の際に、ガラス基板固定盤
２１はバネ１０３ａ，１０３ｂにより上下方向にフリー
状態で支持されているので、無理な力がパターン基板Ｆ
およびガラス基板Ｇに加えられないので、パターン基板
Ｆとガラス基板Ｇは位置ズレおよびハガレを起こすこと
なく剥離され、図７（Ｃ）に示すように、転写パターン
Ｐはパターン基板Ｆから剥離してガラス基板Ｇの所定の
位置に転写され、最後に、下部のクランプ部９ｂを開放
して、パターン転写後のパターン基板Ｆとガラス基板Ｇ
を転写装置１から取り外す（ステップＳ１２）。
【００３２】なお、本実施例では、圧着ロール７５は、
図４（Ｂ）に示すように、上下方向の動作に関しては固
定した場合を示したが、図８および図４（Ｃ）に示すよ
うに、圧着ロール７５をボールベアリング１０４ａ，１
０４ｂに回転自在に支持し、このボールベアリング１０
４ａ，１０４ｂをバネ１０５ａ，１０５ｂ、１０６ａ，
１０６ｂにより上下方向に長孔１１０（図４（Ｃ））内
でフリー状態に支持してもよい。このようにしても、パ
ターンの転写後の位置ズレを防止することが可能であ
る。
図４（Ｂ）に示すように、上下方向の動作に関しては固
定した場合を示したが、図８および図４（Ｃ）に示すよ
うに、圧着ロール７５をボールベアリング１０４ａ，１
０４ｂに回転自在に支持し、このボールベアリング１０
４ａ，１０４ｂをバネ１０５ａ，１０５ｂ、１０６ａ，
１０６ｂにより上下方向に長孔１１０（図４（Ｃ））内
でフリー状態に支持してもよい。このようにしても、パ
ターンの転写後の位置ズレを防止することが可能であ
る。
【００３３】また、本実施例では、図６に示すように、
圧着ロール７１を移動するようにしたが、図９（Ａ），
（Ｂ）に示すように、回転自在の圧着ロール７１を上下
方向に関しては固定しておき、ガラス基板Ｇが固定され
たガラス基板固定盤２１とパターン基板Ｆとを同時に矢
印方向に下降してパターン転写を行うようにしてもよ
い。
圧着ロール７１を移動するようにしたが、図９（Ａ），
（Ｂ）に示すように、回転自在の圧着ロール７１を上下
方向に関しては固定しておき、ガラス基板Ｇが固定され
たガラス基板固定盤２１とパターン基板Ｆとを同時に矢
印方向に下降してパターン転写を行うようにしてもよ
い。
【００３４】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
圧着ロールによりパターン転写用基板上のパターンを被
転写基板固定盤に固定した被転写基板に転写する際に、
前記被転写基板固定盤または圧着ロールのいずれかをフ
リー状態に支持しているので、転写の際に無理な力がパ
ターンに加えられることがなく、位置ズレのない転写を
行うことができる。
圧着ロールによりパターン転写用基板上のパターンを被
転写基板固定盤に固定した被転写基板に転写する際に、
前記被転写基板固定盤または圧着ロールのいずれかをフ
リー状態に支持しているので、転写の際に無理な力がパ
ターンに加えられることがなく、位置ズレのない転写を
行うことができる。
【図１】本発明の実施例に使用する転写装置の外観斜視
図である。
図である。
【図２】前記実施例に使用するパターン基板の外観斜視
図である。
図である。
【図３】前記転写装置のガラス基板固定盤の斜視図であ
る。
る。
【図４】前記実施例に使用する圧着ロール部等を示す図
であって、（Ａ）は外観斜視図、（Ｂ）は圧着ロール部
の動作説明図、（Ｃ）はロール支持板の動作説明図であ
る。
であって、（Ａ）は外観斜視図、（Ｂ）は圧着ロール部
の動作説明図、（Ｃ）はロール支持板の動作説明図であ
る。
【図５】前記実施例における動作フローチャートであ
る。
る。
【図６】前記実施例における動作過程を説明する図であ
る。
る。
【図７】前記図６における動作過程のうち剥離過程を説
明する図である。
明する図である。
【図８】前記実施例の変形例を説明する図である。
【図９】前記他の変形例を説明する図である。
Ｆ…パターン基板（パターン転写用基板） Ｇ…ガラス基板（被転写基板） Ｐ…転写パターン １…転写装置 ２１…ガラス基板固定盤（被転写基板支持板） ３０…スペーサステージ ５０…ワークステージ ７０…ロール部 ７１…圧着ロール ７３…剥離ロール １００…牽引装置 １０１ａ〜１０１ｄ…ガイドレール １０６ａ，１０６ｂ…ガイドレール １０７…牽引棒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05K 3/10 - 3/38 B41F 16/00
Claims (3)
- 【請求項１】 転写パターンを有するパターン転写用基
板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対向配
置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着しつ
つ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転写パ
ターンの転写方法であって、 前記被転写基板を支持した被転写基板支持板を、前記回
転ロールの進行方向に対してフリー状態に支持して転写
するようにしたことを特徴とする転写パターンの転写方
法。 - 【請求項２】 転写パターンを有するパターン転写用基
板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対向配
置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着しつ
つ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転写パ
ターンの転写方法であって、 前記回転ロールを、該回転ロールの進行方向に対してフ
リー状態に支持して転写するようにしたことを特徴とす
る転写パターンの転写方法。 - 【請求項３】 転写パターンを有するパターン転写用基
板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に対向配
置し、前記パターン転写用基板を回転ロールで圧着しつ
つ前記転写パターンを前記被転写基板に転写する転写パ
ターンの転写方法であって、 前記回転ロールを所定位置に固定し、前記被転写基板を
支持した被転写基板支持板とパターン転写用基板とを一
体として移動しつつ前記転写パターンを前記被転写基板
に転写するようにし、かつ、少なくとも前記回転ロール
または一体化された被転写基板支持板とパターン転写用
基板との、いずれか一方をフリー状態で支持するように
したことを特徴とする転写パターンの転写方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00489693A JP3217886B2 (ja) | 1993-01-14 | 1993-01-14 | 転写パターンの転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00489693A JP3217886B2 (ja) | 1993-01-14 | 1993-01-14 | 転写パターンの転写方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06216498A JPH06216498A (ja) | 1994-08-05 |
| JP3217886B2 true JP3217886B2 (ja) | 2001-10-15 |
Family
ID=11596439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00489693A Expired - Fee Related JP3217886B2 (ja) | 1993-01-14 | 1993-01-14 | 転写パターンの転写方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3217886B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100798314B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2008-01-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 기판의 변동에 의한 패턴의 오정렬이 보상된 패턴형성용잉크인쇄장치 및 이를 이용한 패턴형성방법 |
| CN117283976B (zh) * | 2023-11-27 | 2024-01-23 | 大力新科技(江苏)有限公司 | 一种化妆品塑料板材包装机 |
-
1993
- 1993-01-14 JP JP00489693A patent/JP3217886B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06216498A (ja) | 1994-08-05 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |