KR20100025520A

KR20100025520A - 노광방법 및 노광장치

Info

Publication number: KR20100025520A
Application number: KR1020097025058A
Authority: KR
Inventors: 켄 미야케; 토시히로 타카기
Original assignee: 상에이 기켄 가부시키가이샤
Priority date: 2007-05-10
Filing date: 2007-08-10
Publication date: 2010-03-09
Also published as: JP4176819B1; CN101663619B; WO2008139643A1; KR101118854B1; CN101663619A; TW200912551A; TWI430048B; JPWO2008139643A1

Abstract

본 발명은 기판(1)을 사각의 기판지지부재(11)의 주면(主面)에 고정하여 지지시킨다. 패턴이 그려진 포토마스크(2)를, 기판(1)의 감광층을 덮는 위치에 배치한다. 포토마스크(2)를 통해 기판(1)의 감광층에 광을 조사함으로써 패턴을 기판에 전사한다. 노광시에, 포토마스크(2)와 기판(1)이 서로 균일하게 접촉되어 있으며 또한 기판지지부재(11) 및 기판(1)이 원하는 만곡형상으로 변형된 상태로 되어 있다. 기판지지부재(11)는 서로 대향되는 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 1 축, 또는 서로 대향되는 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 2 축을 중심으로 하여 만곡량이 개별제어되면서 기판(1)과 함께 만곡된다. 이로써, 패턴의 사이즈는 실질적으로 변화되어 기판(1)에 전사된다.

Description

노광방법 및 노광장치{EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS}

본 발명은 패턴이 그려진 포토마스크와, 표면에 감광층이 형성된 기판을 겹쳐 배치하고, 포토마스크를 통해 기판에 광을 조사함으로써, 패턴을 기판에 전사하는 노광방법 및 노광장치에 관한 것이다.

종래, 프린트 회로기판 등의 표면에 도전패턴 등을 성형하기 위하여, 표면에 감광층이 형성된 기판과, 패턴이 그려진 포토마스크를 겹쳐 배치하고, 포토마스크를 통해 기판에 광을 조사함으로써, 패턴을 기판표면의 감광층에 전사하는 노광방법이 널리 실행되어 왔다.

상기 노광방법에 있어서는, 기판의 거의 전면(全面)에 미리 형성된 다수의 도전구멍들과, 포토마스크에 그려진 패턴의 위치를 맞출 필요가 있다. 위치를 맞춤에 있어서는, 포토마스크와 기판의 서로 대응하는 위치에 각각 설치된 복수의 위치 맞춤 마크가 이용된다.

기판과 포토마스크에 각각 설치된 위치 맞춤 마크를, 서로 겹친 상태에서 CCD카메라 등의 광 센서에 의해 판독하고, 그 데이터에 근거하여 기판과 포토마스크에 있어서의 위치 맞춤 마크간의 어긋남량을 연산한다. 그 연산결과에 따라, 위치 맞춤 마크들의 위치를 일치시키도록 기판 또는 포토마스크 중 어느 하나를, 기 판 또는 포토마스크의 면 내에 포함되는 X축 방향, Y축 방향 및 θ방향으로 이동시켜 기판과 포토마스크의 위치 맞춤을 수행한다.

기판과 포토마스크의 위치 맞춤을 수행한 후, 포토마스크를 통해 기판에 광을 조사함으로써, 포토마스크에 그려진 패턴이 기판표면의 감광층 상에 전사되어 노광처리가 완료된다.

그러나, 포토마스크와 기판에 부착된 복수의 위치 맞춤 마크간의 거리, 즉, 위치 맞춤 마크간 피치는, 제작 오차나 온도, 습도의 변화 혹은 노광공정에 이르기까지의 가열처리 등에 따른 기판의 수축 등의 변형으로 인해 변동된다. 이 때문에, 포토마스크와 기판에 각각 부착된 복수의 위치 맞춤 마크간의 피치에 오차가 생기며, 그 결과, 포토마스크와 기판의 위치 맞춤 마크를 모두 완전히 일치시키기는 어렵다.

이에, 포토마스크와 기판이 서로 균일하게 접촉하며 또한 포토마스크와 기판이 서로에 대하여 오목형상 또는 볼록형상으로 만곡된 상태에서 포토마스크를 통해 기판의 감광층에 광을 조사함으로써, 포토마스크에 그려진 패턴을 그 치수를 실질적으로 변화시켜 기판에 전사하는 노광방법이 고려되었다.

상기 노광방법의 원리에 대하여 도 15를 참조하여 설명하도록 한다.

도 15A는, 동일한 길이(L)의 기판(1)과 포토마스크(2)가 평면형상으로 균일하게 접촉하여 겹쳐진 상태를 나타낸다. 포토마스크(2)의 한쪽 주면(主面 : 2A)에 패턴이 그려져 있다. 한편, 포토마스크(2)로서, 패턴이 그려진 얇은 필름을 유리판에 밀착시킨 것을 사용하여도 무방하다. 통상적으로 사용되는 유리제의 포토마 스크(2)의 두께(T2)는 5mm 전후이다. 기판(1)이 프린트 회로기판인 경우, 그 두께(T1)는 대부분의 경우 1mm 이하이다. 한편, 포토마스크(2)의 두께(T2)의 중심선(2C) 및 기판(1)의 두께(T1)의 중심선(2B)을 각각 1점 쇄선으로 나타낸다.

다음으로 도 15B는, 기판(1)과 포토마스크(2)가 서로 접촉하여 겹쳐진 상태에서 포토마스크(2)의 기판(1)쪽이 오목형상이 되도록, 포토마스크(2)와 기판(1)이 모두 구부러진 상태를 나타낸다. 도시된 바와 같이, 포토마스크(2)는 두께(T2)가 두꺼우므로, 두께(T2)의 중심선(2C)을 경계선으로 하여 기판(1)쪽이 축소되고 반대쪽이 신장된다. 기판(1)은 두께(T1)의 중심선(2B)을 경계선으로 하여 포토마스크(2)쪽이 신장되고 반대쪽은 축소된다. 단, 기판(1)의 두께(T1)는 포토마스크에 비해 상당히 얇으므로, 기판(1)의 표리면에 있어서의 신축량은 작다.

그 결과, 기판(1)과 포토마스크(2)가 서로 접하는 부분에 있어서, 기판(1)에 대한 포토마스크(2)의 길이는, 포토마스크(2)의 기판(1)쪽 면의 축소량(S1)과 기판(1)의 포토마스크(2)쪽 면의 신장량(S2)과의 합만큼 실질적으로 축소된 것이 된다. 따라서, 이 상태에서 노광하면, 포토마스크(2)의 주면(2A)에 그려진 패턴은, 실질적으로 이 값에 비례하여 축소되어 기판(1)에 전사되게 된다.

또, 도 15C는 기판(1)과 포토마스크(2)가 도 15B의 경우와는 역방향으로 구부러진 상태를 나타낸다. 이 경우, 기판(1)과 포토마스크(2)가 서로 접하는 부분에 있어서, 기판(1)에 대한 포토마스크(2)의 길이는, 포토마스크(2)의 기판(1)쪽 면의 신장량(S1')과 기판(1)의 포토마스크(2)쪽 면의 축소량(S2')의 합만큼 실질적으로 신장된 것이 된다.

이 상태에서 노광하면, 포토마스크의 주면(2A)에 그려진 패턴은, 실질적으로 이 값에 비례하여 확대되어 기판(1)에 전사되게 된다.

상기 노광방법에 따르면, 기판의 위치 맞춤 마크간 피치의 치수가 기판마다 달라도, 1장의 포토마스크의 위치 맞춤 마크간 피치의 치수를 실질적으로 변화시켜, 기판의 위치 맞춤 마크간 피치의 치수에 가깝게 할 수가 있다. 그 결과, 생산성을 손상시키지 않고, 또한, 비용상승을 억제하며 포토마스크에 그려진 패턴을 기판의 정해진 위치에 양호한 정밀도로 전사할 수 있게 된다.

도 11 내지 도 14를 참조하여, 상기 종래의 노광방법 및 이 방법에 이용되는 종래의 노광장치에 대해 설명하도록 한다.

도 12는 종래의 노광장치의 개략적인 측단면도이며, 도 11은 포토마스크 및 포토마스크 지지부재를 생략하고 나타낸 평면도이다.

종래의 노광장치는, 기판(1)을 지지하기 위한 기판지지부재(4)와, 기판지지부재(4)를 지지하기 위한 베이스부재(5)와, 포토마스크(2)의 외측 가장자리부를 지지하는 포토마스크 지지부재(12)를 구비하고 있다.

포토마스크 지지부재(12)는, 구동기구(도시생략)에 의해, 가이드 기구(도시생략)에 의해 안내되어 기판지지부재(4)에 대하여 접근 및 이반(離反)가능한 구조로 되어 있다.

또한, 포토마스크 지지부재(12)는, 프레임(15)과, 포토마스크(2)의 지지면 내의 위치를 규제하기 위한 위치규제 핀(19) 및 코일 스프링(18)과, 기판지지부재(4)에 대하여 접근 및 이반하는 방향으로 포토마스크(2)가 소정량 이동하는 것을 허용하기 위한 가압 판스프링(16)과, 프레임(15)과 가압 판스프링(16)의 사이를 접속하는 스페이서(17)를 구비하고, 이들에 의해 포토마스크(2)를 지지하는 구조로 되어 있다.

기판지지부재(4)상에는, 기판(1)을 둘러싸도록 하여 시일부재(9)가 설치되어 있다. 기판(1)의 노광면(1a)과 반대되는 쪽의 면은 기판지지부재(4)에 맞닿는다. 기판지지부재(4)는, 진공흡인구멍(10)을 통해 작용하는 부압(negative pressure) 에 의해 기판(1)을 흡착유지하며, 또한, 부압을 해방시킴으로써 기판(1)의 흡착유지를 해제할 수 있다.

베이스부재(5)에는, 기판지지부재(4)에 가압력 또는 인장력을 부여하기 위한 액추에이터(6)가 설치되어 있다. 기판지지부재(4)와 베이스부재(5)의 사이에는, 기판지지부재(4)의 경사(傾斜) 이외의 움직임을 구속하는 복수의 연결부재(7)가 액추에이터(6)를 둘러싸듯이 균일하게 배치되어 있다.

우선, CCD 카메라(3) 등의 광 센서에 의해 기판(1)의 위치 맞춤 마크와 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크를 판독하고, 판독한 데이터에 근거하여 기판(1)과 포토마스크(2)에 있어서의 위치 맞춤 마크간의 어긋남량을 연산한다(도 12). 그 연산결과에 따라, 액추에이터(6)를 작동시켜 기판지지부재(4)를 기판(1)과 함께 원하는 균일한 구(球)형상으로 만곡시킨다(도 13). 그 후, 포토마스크 지지부재(15)를 구동기구(도시생략)에 의해 기판지지부재(4)를 향해 하강시켜, 포토마스크(2)와 시일부재(9)를 접촉시킨다. 이로써, 기판(1)과 기판지지부재(4)와 포토마스크(2)에 의해 둘러싸이는 공간영역이, 시일부재(9)에 의해 시일된다. 다음으로, 상기 공간 영역을 진공펌프(도시생략) 등의 수단에 의해 감압한다. 차압(差壓)에 의해 포토마스크(2)는 기판(1)을 추종하여 만곡되면서 기판(1)에 균일하게 접촉된다. 포토마스크(2)를 기판(1)을 추종하도록 만곡시킴으로써, 기판(1)에 대향되는 쪽의 포토마스크 표면에 그려진 위치 맞춤 마크간의 피치가 변화하게 된다.

이 상태에서 다시 CCD카메라(3)로 기판(1)의 위치 맞춤 마크와 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크를 판독하고, 판독한 데이터에 근거하여 기판(1)과 포토마스크(2)에 있어서의 위치 맞춤 마크간의 어긋남량을 연산한다. 연산값이 소정의 어긋남량 이하이면, 포토마스크(2)를 통해 기판(1)에 광(8)을 조사하여 노광한다(도 14).

그러나, 상술한 종래의 노광방법 및 노광장치로는 불충분함을 알았다. 종래의 노광방법 및 노광장치는, 기판을 균일한 구형상으로 만곡시키기 때문에, 기판의 변형이 균일한 경우에만 유효한 것이다. 실제의 기판의 치수변화는, X축 방향 및 Y축 방향 중 어느 하나의 변화가 다른 하나의 변화보다 큰 경우가 있다. 또한 발생된 치수변화가 X축 또는 Y축을 따라 균일하지 않은 경우도 있다. 어떠한 경우든, 기판의 변형이 균일하지는 않으므로, 종래의 노광방법 및 노광장치로는, 포토마스크의 위치 맞춤 마크와 기판의 위치 맞춤 마크의 피치를 일치시킬 수 없으며, 또한, 포토마스크에 그려진 패턴과 기판의 도전구멍 등을 일치시킬 수 없는 것이다.

또한, 종래의 노광장치에서의 기판지지방법에 있어서는, 기판의 지지력이 충분하지 않아, 기판지지부재를 만곡시킬 때 기판지지부재와 기판의 사이에 상대적인 위치 어긋남이 발생한다. 이 때문에, 패턴 치수의 실질적인 변화량은, 실용상 필요시되는 양보다 적었다.

따라서 본 발명은, 기판의 변형이 균일하지 않은 경우에도, 이에 대응하여 기판의 스케일(scale)과 포토마스크의 스케일을 전체 영역에 걸쳐 일치시켜 노광할 수 있는 노광방법 및 노광장치를 제공하는 것과, 실용상 충분한 치수 변화량을 확보하는 것을 과제로 한다.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 따르면,

패턴이 그려진 포토마스크를, 표면에 감광층이 형성된 기판의 감광층을 덮는 위치에 배치하고, 상기 포토마스크와 상기 기판을 서로 균일하게 접촉시킨 후, 상기 포토마스크를 통해 상기 기판의 감광층에 광을 조사함으로써 상기 패턴을 상기 기판에 전사하는 노광방법으로서,

전체가 사각형상을 하고 있고, 서로 대향되는 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와 서로 대향되는 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부를 갖는 판형상의 기판지지부재를 준비하고,

상기 포토마스크의 상기 패턴이 그려진 표면에 상기 감광층이 대향되도록 하여, 상기 기판을, 상기 기판지지부재의 주면(主面)에 상대적인 어긋남을 발생시키지 않으면서 고정 지지시키며,

상기 기판지지부재를, 상기 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 1 축, 또는 상기 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 2 축을 중심으로 하여, 개별적으로 만곡량을 제어하면서 만곡시킴으로써, 상기 기판지지부재를 상기 기판과 함께 원하는 만곡형상으로 변형시키며,

상기 포토마스크와 상기 기판이 서로 균일하게 접촉되어 있고, 또한, 상기 기판지지부재 및 상기 기판이 상기 원하는 만곡형상으로 변형된 상태에서, 상기 포토마스크를 통해 상기 감광층에 광을 조사함으로써, 상기 패턴의 치수를 실질적으로 변화시켜 상기 기판에 전사하는 것을 특징으로 하는 노광방법이 제공된다.

상기 기판지지부재를 상기 제 1 축을 중심으로 하거나, 또는 상기 제 2 축을 중심으로 하여 만곡시킬 때, 상기 제 1 및 제 2 축의 각각을 따른 복수의 위치에서 상기 기판지지부재의 만곡량을 개별 제어하는 것이 바람직하다.

상기 제 1 축을 중심으로 하는 상기 기판지지부재의 만곡은, 상기 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부에 힘 또는 모멘트를 작용시킴으로써 이루어질 수 있으며, 상기 제 2 축을 중심으로 하는 만곡은, 상기 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부에 힘 또는 모멘트를 작용시킴으로써 이루어질 수 있다.

상기 포토마스크와 상기 기판의 서로 대응하는 위치에 각각 복수의 위치 맞춤 마크를 설치하고, 상기 위치 맞춤 마크를 마크검출수단에 의해 검출하며, 검출한 데이터를 바탕으로, 상기 포토마스크의 상기 위치 맞춤 마크와 상기 기판의 상기 위치 맞춤 마크간의 피치의 어긋남량을 연산하여, 그 연산결과에 따라 상기 기판지지부재의 만곡량을 제어하도록 하여도 무방하다.

상기 마크검출수단은 CCD 카메라로 할 수 있다.

상기 포토마스크 상에 상기 패턴을 크게 작성하고, 노광시에는, 상기 기판지지부재를 상기 기판과 함께 상기 포토마스크에 대하여 볼록형상으로 만곡시킴으로써, 상기 기판의 상기 감광층이 형성된 면의 치수를 실질적으로 확대시켜 소정의 크기로 하고, 또한, 상기 포토마스크를 상기 기판에 추종시킴으로써, 상기 패턴의 치수를 실질적으로 축소시켜 소정의 크기로 하며, 그 후, 상기 패턴을 상기 기판에 전사할 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 패턴이 그려진 포토마스크와 감광층이 형성된 기판을 서로 균일하게 접촉시킨 후, 상기 포토마스크를 통해 상기 기판의 감광층에 광을 조사함으로써 상기 패턴을 상기 기판에 전사하는 노광방법에 이용되는 노광장치로서,

상기 감광층이 형성된 면과 반대 쪽의 상기 기판의 면 전체에 걸쳐 상기 기판을 고정 지지하기 위한 기판지지부재로서, 서로 대향되는 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와, 서로 대향되는 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부와, 상기 기판을 상대적인 어긋남이 발생되지 않도록 하여 고정 지지하기 위한 고정지지기구를 갖는 기판지지부재와,

상기 패턴이 그려진 상기 포토마스크의 표면이 상기 감광층에 대향되도록 상기 포토마스크를 지지하기 위한 포토마스크 지지부재와,

상기 포토마스크가 상기 기판에 대하여 균일하게 접촉하며 추종하도록 상기 기판지지부재와 상기 포토마스크 지지부재를 서로 상대이동시키기 위한 구동기구와,

상기 기판지지부재의 상기 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부를 따라 형성된 복수의 제 1 작용점과,

상기 복수의 제 1 작용점에 대하여 힘 또는 모멘트를 작용시킴으로써, 상기 기판지지부재를 상기 기판과 함께 상기 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 1 축을 중심으로 하여 만곡시키기 위한 제 1 변형기구와,

상기 기판지지부재의 상기 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부를 따라 형성된 복수의 제 2 작용점과,

상기 복수의 제 2 작용점에 대하여 힘 또는 모멘트를 작용시킴으로써, 상기 기판지지부재를 상기 기판과 함께 상기 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 2 축을 중심으로 하여 만곡시키기 위한 제 2 변형기구와,

상기 구동기구의 작동시에 상기 기판지지부재와 상기 포토마스크 지지부재의 상대이동을 안내하기 위한 가이드 기구와,

상기 포토마스크를 통해 상기 기판의 상기 감광층에 광을 조사하기 위한 광 조사장치를 구비하고 있는 노광장치도 제공된다.

상기 제 1 변형기구를, 상기 복수의 제 1 작용점의 각각에 있어서, 작용시키는 힘 또는 모멘트의 크기를 소정의 양으로 제어가능한 것으로 하고,

상기 제 2 변형기구를, 상기 복수의 제 2 작용점의 각각에 있어서, 작용시키는 힘 또는 모멘트의 크기를 소정의 양으로 제어가능한 것으로 할 수 있다.

상기 제 1 변형기구 또는 상기 제 2 변형기구는, 모터를 구비하고 있어도 무방하다.

혹은, 상기 제 1 변형기구 또는 상기 제 2 변형기구는, 공기압력으로 구동되는 기구를 구비하고 있어도 무방하다.

상기 포토마스크와 상기 기판의 서로 대응하는 위치에 각각 설치된, 복수의 위치 맞춤 마크를 검출하기 위한 마크 검출 수단과,

상기 마크 검출 수단에 의해 검출한 데이터를 기초로 하여, 상기 포토마스크의 상기 위치 맞춤 마크와 상기 기판의 상기 위치 맞춤 마크간의 피치의 어긋남량을 연산하기 위한 연산수단을 가지고,

상기 제 1 변형기구 및 상기 제 2 변형기구 중 적어도 하나가, 상기 연산 수단의 연산결과에 따라 상기 제 1 작용점 및 상기 제 2 작용점 중 적어도 하나에 대해 작용시키는 힘 또는 모멘트의 크기를 조정하여 상기 기판지지부재의 만곡량을 제어하도록 하여도 무방하다.

상기 포토마스크 지지부재는, 상기 기판에 대하여 접근 및 이반하는 방향으로 상기 포토마스크가 소정량 이동하는 것을 허용하는 구조를 가져도 무방하다.

상기 포토마스크 지지부재는, 상기 포토마스크의 상기 포토마스크 지지부재의 지지면 내의 위치를 규제하기 위한 위치규제기구를 구비하여도 무방하다.

상기 고정지지기구는, 상기 기판지지부재의, 상기 기판을 고정 지지하는 면에 형성된 복수의 홈 또는 봉우리부를 포함하여도 무방하다.

상기 고정지지기구는, 상기 기판지지부재의, 상기 기판을 고정 지지하는 면에 형성된 복수의 홈과, 상기 홈의 바닥부에 형성되어 부압원에 접속된 적어도 하나의 진공흡인구멍을 포함하여도 무방하다.

상기 복수의 홈의 바닥부에 형성된 상기 적어도 하나의 진공흡인구멍이, 홈마다 또는 복수의 홈을 포함하는 그룹마다의 부압원에 접속되도록 하여도 무방하다.

상기 기판지지부재의 두께는 5mm 이상으로 할 수 있다.

상기 제 1 변형기구 및 상기 제 2 변형기구는, 상기 기판지지부재를 지지하기 위한 베이스부재에 재치(載置)할 수 있다.

이와 같이, 본 발명에 따르면, 실용상 충분한 치수변화량을 확보할 수 있고, 또한, 기판이 다양한 양태로 변형되어도 그에 대응하여 기판 및 포토마스크를 만곡시킬 수 있으므로, 기판의 스케일(scale)과 포토마스크의 스케일을 전 영역에 걸쳐 일치시켜 노광을 수행할 수가 있다.

도 1은 본 발명의 일실시형태에 따른 노광장치의 개략적인 측단면도로서, 기판이 기판지지부재와 함께 변형되기 전의 상태를 나타내는 도면이다.

도 2는 본 발명의 일실시형태에 따른 노광장치의 개략적인 측단면도로서, 기판이 기판지지부재와 함께 변형된 후의 상태를 나타내는 도면이다.

도 3은 본 발명의 일실시형태에 따른 노광장치의 개략적인 횡단면도로서, 도 1에서의 A-A 화살선도에 상당하는 도면이다.

도 4는 종래 방법에 있어서, 기판과 포토마스크가 만곡되었을 때의, 쌍방에 설치된 위치 맞춤 마크의 위치관계를 설명하는 도면이다.

도 5는 본 발명의 방법의 한 양태에 있어서, 기판과 포토마스크가 만곡되었을 때의, 쌍방에 설치된 위치 맞춤 마크의 위치관계를 설명하는 도면이다.

도 6은 본 발명의 방법의 다른 양태에 있어서, 기판과 포토마스크가 만곡되었을 때의, 쌍방에 설치된 위치 맞춤 마크의 위치관계를 설명하는 도면이다.

도 7은 본 발명의 다른 실시형태에 따른 노광장치의 개략적인 종단면도로서, 기판이 기판지지부재와 함께 변형되기 전의 상태를 나타내는 도면이다.

도 8은 본 발명의 다른 실시형태에 따른 노광장치의 개략적인 횡단면도로서, 도 7에서의 B-B 화살선도에 상당하는 도면이다.

도 9는 본 발명에 따른 노광방법의 원리를 설명하기 위한 모식도이다.

도 10은 기판지지부재의 고정지지기구를 나타내는 도면으로서, A는 평면도, B는 하나의 홈을 지나는 면으로 자른 단면도, C는 고정지지기구의 홈의 단면형상을 나타내는 도면, D는 홈의 다른 단면형상을 나타내는 도면이다.

도 11은 포토마스크 및 포토마스크 지지부재를 생략한 상태에서의 종래의 노광장치의 개략적인 평면도이다.

도 12는 종래의 노광장치의 개략적인 측단면도로서, 기판이 변형되기 전의 상태를 나타내는 도면이다.

도 13은 종래의 노광장치의 개략적인 측단면도로서, 기판이 변형된 후의 상태를 나타내는 도면이다.

도 14는 종래의 노광장치의 개략적인 측단면도로서, 포토마스크를 변형시켜 노광작업을 수행하고 있는 상태를 나타내는 도면이다.

도 15는 기판 및 포토마스크를 만곡시켜 수행하는 노광방법의 원리를 설명하기 위한 모식도이다.

상술한 본 발명의 내용을 도면을 참조하여 설명하도록 한다. 도 9A 내지 도 9C는 본 발명의 원리를 설명하는 단면도이다.

도 9A는 기판지지부재(11)와의 사이에 상대적인 위치 어긋남이 발생하지 않도록 밀착 고정된 기판(1)과, 포토마스크(2)가 평면형상으로 균일하게 접촉하여 겹쳐진 상태를 나타내고 있다.

포토마스크(2)의 한 쪽 주면(2A)에 패턴이 그려져 있다. 한편, 포토마스크(2)로서, 패턴이 그려진 얇은 필름을 유리판에 밀착시킨 것을 사용하여도 무방하다. 통상적으로 사용되는 유리제의 포토마스크(2)의 두께(T2)는 5mm 전후이며, 기판(1)이 프린트 회로기판일 경우, 기판(1)의 두께(T1)는 대부분의 경우 1mm 이하이다. 한편, 포토마스크(2)의 두께(T2)의 중심선(2C), 및 기판(1)의 두께(T1)와 기판지지부재(4)의 두께(T3)를 합한 두께의 중심선(2D)이 각각 1점 쇄선으로 도시되어 있다.

다음으로 도 9B에는 기판(1)과 포토마스크(2)가 서로 접촉하여 겹쳐진 상태에서, 포토마스크(2)의 기판(1)쪽이 오목형상이 되도록 포토마스크(2)와 기판(1) 및 기판지지부재(11) 모두 구부러진 상태가 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 포토마스크(2)는 두께(T2)의 중심선(2C)을 경계선으로 하여, 기판(1)쪽이 축소되고 반대쪽은 신장된다.

한편, 기판(1)은, 기판지지부재(11)와의 사이에 상대적인 위치 어긋남이 발생하지 않도록 밀착 고정된 상태에서 구부러지기 때문에, 기판(1)의 두께(T1)와 기 판지지부재(11)의 두께(T3)를 합한 두께의 중심선(2D)을 경계선으로 하여 전체가 신장(伸張)쪽에 있다. 그 결과, 포토마스크(2)에 면한 쪽의 기판(1)의 면은 S3만큼 신장된다.

도 15의 단일 기판(1)에 비해, 기판지지부재(11)와 일체화된 도 9의 기판(1)은, 기판지지부재(11)의 두께(T3)분만큼 두꺼워졌다고 생각할 수 있다. 따라서, 도 9B에서의 기판(1)의 신장량(S3)은, 도 15B에서의 기판(1)의 신장량(S2)에 비해 커진다. 그 결과, 기판(1)과 포토마스크(2)가 서로 접하는 부분에서의 기판(1)에 대한 포토마스크(2)의 길이는, 포토마스크(2)의 기판(1)쪽 면의 축소량(S1)과 기판(1)의 포토마스크(2)쪽 면의 신장량(S3)의 합만큼 실질적으로 축소된 것이 된다. 이 상태에서 노광하면, 포토마스크(2)의 주면(2A)에 그려진 패턴을 실질적으로 그 값에 비례하여 축소하여 기판에 전사하게 된다.

또 도 9C는, 기판(1)과 포토마스크(2)가, 도 9B의 경우와는 역방향으로 구부러진 상태를 나타낸다. 이 경우, 기판(1)과 포토마스크(2)가 서로 접하는 부분에서의 기판(1)에 대한 포토마스크(2)의 길이는, 기판(1)의 길이에 대하여, 포토마스크(2)의 기판(1)쪽 면의 신장량(S1')과 기판(1)의 포토마스크(2)쪽 면의 축소량(S3')의 합만큼 실질적으로 신장된 것이 된다.

어느 경우에 있어서도, S3>S2, S3'>S2'이 되므로, 종래보다 큰 치수변화량을 확보할 수가 있다.

이상의 설명을 통해 알 수 있는 바와 같이, 만곡시키는데 지장이 없는 한, 기판지지부재(11)의 두께(T3)는 두꺼운 것이 유리하다. 왜냐하면, 같은 만곡량이 면, 기판지지부재(11)의 두께(T3)가 두꺼운 쪽이, 기판(1)의 치수변화량이 커지기 때문이다. 따라서, 기판지지부재(11)의 두께는 5mm 이상인 것이 바람직하다.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 일실시양태에 따른 노광장치를 나타낸다. 노광장치는, 기판(1)을 지지하기 위한 기판지지부재(11)와, 포토마스크(2)를 지지하기 위한 포토마스크 지지부재(12)와, 포토마스크(2)가 기판(1)에 대하여 균일하게 접촉하여 추종하도록 기판지지부재(11)와 포토마스크 지지부재(12)를 상대이동시키기 위한 구동기구(도시생략)와, 구동기구의 작동시에 기판지지부재(11)와 포토마스크 지지부재(12)의 상대이동을 안내하기 위한 가이드 기구(도시생략)와, 포토마스크(2)를 통해 기판(1)의 감광층에 광을 조사하기 위한 광 조사장치(도시생략)를 구비하고 있다.

기판지지부재(11)의 상면에는 복수의 홈이 형성되어 있다(여기서는 홈(38)만 표시함). 홈의 바닥부에는, 부압원(負壓源)에 접속된 적어도 하나의 진공흡인구멍이 형성되어 있다(여기서는 진공흡인구멍(38a)만 표시함). 이들 홈 및 진공흡인구멍은, 기판지지부재(11)의 주면에 기판(1)을 고정 지지시키기 위한 고정지지기구를 구성한다. 기판지지부재(11)는, 진공흡인구멍(38a) 등으로부터의 진공흡인에 의해 상면에 기판(1)을 흡착유지할 수 있다. 종래에는 기판지지부재의 표면에 진공흡인구멍만 존재하고 홈은 형성되지 않았지만(도 12 참조), 본 발명에서는 진공흡인구멍과 관련지어 홈을 형성하였다. 이로써, 보다 큰 면적을 이용하여 기판을 흡착 유지할 수가 있다. 따라서, 기판을 종래보다 확실하게 고정 및 유지함으로써, 기판과 기판지지부재간의 상대적인 위치 어긋남이 발생하는 것을 방지할 수가 있다. 고정지지기구에 대해서는 도 10에 근거하여 이후에 상술하도록 한다.

기판지지부재(11)는 지지기둥(13)을 통해 베이스부재(14)에 지지되어 있다. 지지기둥(13)은, 판 스프링(도시생략) 등을 통해 기판지지부재(11)의 중앙 하면과 접속되어 있어 기판지지부재(11)가 만곡되는 것을 방해하지 않는다.

포토마스크 지지부재(12)는, 프레임(15)과, 가압 판스프링(16)과 같은 탄성요소와, 프레임(15)과 가압 판스프링(16)의 사이를 접속하는 스페이서(17)와, 코일 스프링(18)과 같은 편의(偏倚)요소와, 위치규제 핀(19)을 구비한다. 가압 판스프링(16)은, 기판(1)에 대해 포토마스크(2)가 접근 및 이반할 때에, 포토마스크(2)가 기판(1)에 대해 접근 및 이반하는 방향으로 소정량 이동하는 것을 허용한다. 코일 스프링(18) 및 위치규제 핀(19)은, 포토마스크 지지부재(12)에 대한 포토마스크(2)의, 포토마스크 지지부재의 지지면 내에서의 위치를 규제하는 역할을 한다.

기판지지부재(11)는 전체적으로 사각형상을 하고 있고, 서로 대향되는 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부(20)와, 서로 대향되는 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부(21)를 갖는다. 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부(20)의 각각을 따라, 하방으로 뻗는 복수의 로드(22)가 설치되어 있다. 마찬가지로, 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부(21)의 각각을 따라, 하방으로 뻗는 복수의 로드(23)가 설치되어 있다. 로드(22)가 사이드 가장자리부(20)에 부착되어 있는 부위는, 기판지지부재(11)를 만곡시키기 위해 힘 또는 모멘트가 작용되는 복수의 제 1 작용점이 된다. 마찬가지로, 로드(23)가 사이드 가장자리부(21)에 부착되어 있는 부위는, 기판지지부재(11)를 만곡시키기 위해 힘 또는 모멘트가 작용되는 복수의 제 2 작용점이 된다.

노광장치는, 기판지지부재(11)를 만곡시키기 위한 한 쌍의 제 1 변형기구(24)와, 한 쌍의 제 2 변형기구(25)를 구비한다. 제 1 변형기구(24)는, 베이스부재(14)에 재치(載置)된 복수의 액추에이터(26)와, 복수의 액추에이터(26)의 로드 선단에 부착된 힘 전달봉(27)과, 봉(27)을 따라 복수로 설치된 힘 전달롤러(28)를 갖는다. 각각의 롤러(28)는, 로드(22)의 하단에 가압력을 부여할 수 있도록 위치가 부여되어 있다. 제 2 변형기구(25)도 같은 구성을 하고 있으며, 복수의 액추에이터(29)와, 힘 전달봉(30)과, 힘 전달롤러(31)를 갖는다.

액추에이터(26, 29)는 모터를 이용한 것으로 할 수 있다. 혹은, 액추에이터(26, 29)는 공기압력을 이용한 피스톤 실린더형인 것으로 할 수도 있다.

제 1 변형기구(24)의 액추에이터(26)를 작동시켜, 힘 전달봉(27) 및 힘 전달롤러(28)를 통해 로드(22)의 하단에 가압력을 부여하면, 기판지지부재(11)의 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부(20)에 대한 로드(22)의 부착부위, 다시 말해, 복수의 제 1 작용점에 휨 모멘트가 가해진다. 상기 휨 모멘트에 의해, 기판지지부재(11)는 사이드 가장자리부(20)와 동일한 방향으로 뻗는 제 1 축(32)의 둘레로 만곡된다. 마찬가지로 하여, 제 2 변형기구(25)의 액추에이터(29)를 작동시키면, 기판지지부재(11)는 사이드 가장자리부(21)와 동일한 방향으로 뻗는 제 2 축(33)의 둘레로 만곡된다.

기판(1)은 기판지지부재(11)와 함께 만곡된다. 기판(1)이 만곡된 후, 포토마스크(2)를 기판(1)과 균일하게 접촉하도록 이동시키면, 포토마스크(2)도 기판(1)을 추종하여 만곡된다.

포토마스크(2)의, 기판(1)에 대향되는 면에 그려지는 패턴을 크게 작성해 두고, 항상 패턴의 치수를 실질적으로 축소하여 전사하도록 기판(1)을 포토마스크(2)에 대해 볼록형상으로 만곡시켜, 포토마스크(2)를 기판(1)에 추종시킨 상태에서 노광하는 것이 바람직하다.

포토마스크(2)를 기판(1)의 중앙으로부터 주변을 향해 서서히 추종시킴으로써, 쌍방의 사이에 공기가 포획될 가능성이 작아지기 때문이다.

기판(1)과 포토마스크(2)가 균일하게 접촉된 후에, 기판(1) 및 기판지지부재(11)를 만곡시키고, 포토마스크(2)가 이를 추종함으로써 쌍방이 만곡되도록 하여도 무방하다.

본 발명에서는, 제 1 변형기구(24)와 제 2 변형기구(25)를 개별 작동시킴으로써, 기판지지부재(11)의 제 1 축(32) 둘레의 만곡량과, 제 2 축(33) 둘레의 만곡량을 개별 제어할 수 있다.

또, 제 1 변형기구(24)의 복수의 액추에이터(26)의 각각의 작동량을 다르게 함으로써, 각각의 로드(22)에 작용하는 힘, 나아가 복수의 제 1 작용점 각각에 작용하는 모멘트의 크기를 소정량으로 조정하도록 제어할 수 있다. 제 2 변형기구(25)에 있어서도 같은 작동이 가능하다. 이렇게 함으로써, 기판지지부재(11)를 만곡시킴에 있어서, 제 1 축(32) 또는 제 2 축(33)을 따른 복수의 위치에서 기판지지부재(11)의 만곡량을 개별 제어할 수가 있다.

힘 전달봉(27, 30)을 이용함으로써, 사용되는 액추에이터(26, 29)의 수를 모멘트의 작용점의 수보다 적게 할 수가 있다. 작용점의 수는, 힘 전달롤러(28, 31) 의 수를 증감시킴에 따라 임의로 변경가능하다. 하나의 힘 전달봉에 대하여 2개의 액추에이터가 있으면, 축(32, 33)을 따른 복수의 위치에서의 기판지지부재(11)의 만곡량을 연속적으로 변화시킬 수가 있다. 이와 같이, 힘 전달봉(27, 30)은 구조의 간소화 및 제어의 용이화를 가능하게 한다.

본 발명에 의한 만곡량의 개별 제어가 가져오는 이점에 대하여, 도 4 내지 도 6을 참조하여 설명하도록 한다.

도 4 내지 도 6에는 기판(1)과 포토마스크(2)가 서로 겹쳐진 상태가 도시되어 있다.

포토마스크(2)와 기판(1)의 서로 대응하는 위치에는, 각각 복수의 위치 맞춤 마크(34, 35 : 도시된 예에서는 각각 4개)가 설치되어 있다.

기판(1)과 포토마스크(2)의 위치를 맞출 때에는, 위치 맞춤 마크(34, 35)를 CCD 카메라와 같은 마크검출수단에 의해 검출하고, 검출한 데이터를 기초로 하여, 위치 맞춤 마크(34, 35)간의 피치의 어긋남량을 연산하며, 그 연산결과에 따라 만곡량을 제어한다. 본 발명에 의한 노광장치는, 상기 목적을 위하여 마크검출수단 및 연산수단을 구비할 수 있다.

도 4는 종래의 노광방법에서의 만곡방법에 의해 위치 맞춤 마크들을 일치시키려고 하는 경우의 모식도이다.

종래의 만곡방법에서는, 기판(1)이 균일한 구형상으로 만곡되기 때문에, 이것에 포토마스크(2)를 추종시키면, 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)는, 도면의 종횡방향 모두 각각 정해진 비율로밖에 피치를 변화시킬 수 없었다.

이 때문에, 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34a∼34d)를 기판(1)의 위치 맞춤 마크(35a∼35d)에 맞추려고 하여도, 실제로는 위치 맞춤 마크(34a'∼34d')의 위치까지밖에 근접시킬 수가 없다.

결국, 기판(1)의 위치 맞춤 마크(35)에 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)를 일치시킬 수는 없었다.

도 5는 본 발명의 노광방법의 하나의 양태에 의해, 위치 맞춤 마크의 위치가 도 4와 같은 경우에도, 기판(1)의 위치 맞춤 마크(35)에 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)를 일치시킬 수 있음을 설명하는 도면이다.

본 발명에서는 제 1 변형기구에 의해, 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부의 각각에 서로 같은 크기의 소정의 힘(f1, f2 (또는 모멘트))을 가하고, 제 2 변형기구에 의해, 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부의 각각에 서로 같지만 f1, f2와는 다른 크기의 힘(f3, f4 (또는 모멘트))을 가할 수 있기 때문에, 도면의 횡방향 축 둘레의 기판지지부재의 만곡량과 종방향 축 둘레의 기판지지부재의 만곡량을 개별 제어할 수가 있다.

이에 따라, 기판(1)의 만곡량도 마찬가지로 제어되므로, 포토마스크(2)가 기판(1)을 추종함에 따른 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)의 피치 변화량은, 도면의 횡방향과 종방향에 있어서 다르게 된다.

따라서, 도 5에 나타낸 바와 같이, 소정의 힘(f1, f2(또는 모멘트))과 힘(f3, f4(또는 모멘트))을 선택함으로써, 기판(1)의 위치 맞춤 마크(35)에 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)를 일치시킬 수가 있다.

도 6은 기판(1)이 더욱 복잡하게 변형되었을 경우에도, 기판(1)의 위치 맞춤 마크(35)에 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)를 일치시킬 수 있음을 설명하는 도면이다.

이 경우, 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)를 기판(1)의 위치 맞춤 마크(35)에 일치시키기 위해서는, 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)의 피치 변화량을, 도면의 횡방향과 종방향의 각각을 따른 복수의 위치에서 가변적인 것으로 해야만 한다.

본 발명에서는, 제 1 및 제 2 변형기구에 의해 기판지지부재의 각각의 사이드 가장자리부에 작용시키는 힘(f1, f2, f3, f4(또는 모멘트))을, 도면의 횡방향 축과 종방향 축을 따른 복수의 위치에서 각각 소정의 값이 되도록 조정할 수 있으므로, 기판지지부재의 만곡량을 이들 복수의 위치에서 개별 제어할 수가 있다.

이에 따라, 기판지지부재에 의해 지지되는 기판(1)의 만곡량도 마찬가지로 제어되므로, 포토마스크(2)가 기판(1)을 추종함에 따른 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)의 피치 변화량은, 도면의 횡방향과 종방향을 따른 복수의 위치에서 각각 다른 값이 될 수 있다.

따라서, 도 6에 나타낸 바와 같이, 복수의 위치에 힘(f1, f2, f3, f4(또는 모멘트))을 각각 소정의 값으로 가함으로써, 기판(1)의 위치 맞춤 마크(35)에 포토마스크(2)의 위치 맞춤 마크(34)를 일치시킬 수가 있다.

도 7 및 도 8은 본 발명에 의한 노광장치의 다른 실시양태를 나타낸다. 도 1 내지 도 3에 도시된 실시양태와 다른 점은, 제 1 및 제 2 변형기구로서의 구동장 치(36)가, 기판지지부재(11)의 각각의 사이드 가장자리부에, 모멘트가 아닌 힘을 가하는 구성으로 되어 있다는 것이다. 구동장치(36)는, 기판지지부재(11)의 사이드 가장자리부(20, 21)의 각각을 따라 복수로 설치되어 있다. 구동장치(36)는, 베이스부재(14)에 재치(載置)되어 있으며, 구동장치(36)의 작동로드(37)의 선단은, 유니버셜 조인트(universal joint) 등을 이용하여 기판지지부재(11)의 사이드 가장자리부(20, 21)의 하면에 접속되어 있다.

각각의 구동장치(36)는 개별 작동이 가능하며, 기판지지부재(11)의 사이드 가장자리부(20, 21)를 따른 복수의 위치에 대해 인장력 및 가압력을 부여할 수 있다. 따라서, 도 7 및 도 8에 도시된 노광장치에 있어서도, 도 5 및 도 6에서 설명한 것과 같은 위치맞춤이 가능하다.

도 10은 기판(1)을 상기 기판지지부재(11)의 주면에, 상대적인 어긋남이 발생하지 않도록 고정 지지시키기 위한 고정지지기구의 구체적인 구성을 나타낸다. 고정지지기구는, 기판지지부재(11)의 상면, 즉, 기판(1)을 고정 지지하는 면에 형성된 복수의 홈(38, 39, 40)을 포함한다. 홈 대신에 봉우리부(도시생략)를 설치하여도 무방하다. 이들 홈(38, 39, 40) 또는 봉우리부는, 기판지지부재(11)상에 기판(1)을 파지(把持)하는 역할을 한다.

고정지지기구는 또한, 이들 홈(38, 39, 40)과, 이들 홈(38, 39, 40)의 바닥부에 형성되어 부압원에 접속된 적어도 하나의 진공흡인구멍(38a, 39a, 40a)을 포함하도록 구성될 수 있다. 각각의 진공흡인구멍(38a, 39a, 40a)은 부압원에 접속되어 있다. 도 10B는 홈(38) 내부의 진공흡인구멍(38a)이 부압원(41)에 접속되어 있는 구조를 나타낸다. 기판(1)은 부압원으로부터의 부압에 의해 기판지지부재(11)상에 흡착 고정된다.

도 10A에 나타내는 바와 같이 홈(38, 39, 40)은, 각각 서로 격리되도록 형성할 수 있다. 이 경우, 각 홈마다 별개의 부압원이 설치되도록 하여도 무방하다. 혹은, 도 10A에 도시된 2개의 홈(38)을 제 1 그룹의 홈으로 하고 2개의 홈(39)을 제 2 그룹의 홈으로 하며 1개의 홈(40)을 제 3 그룹의 홈으로 하여 각각의 그룹마다 별개의 부압원이 설치되도록 하여도 무방하다. 어떠한 경우에 있어서도, 일부 영역에서 공기의 누출이 발생했을 경우에도 기판(1)을 기판지지부재(11)상에 충분히 고정 지지할 수 있는 부압력이 기판(1)에 작용하도록 되어 있다.

홈(38, 39, 40)을 둘러싸도록 하여 홈(42)이 기판지지부재(11)에 형성되어 있다. 홈(42)은 기판(1)의 외주에 맞춘 위치에 형성되어 있다. 도 10C에 도시된 바와 같이, 기판(1)의 외주 가장자리는 홈(42) 내에 위치하고 있기 때문에, 상기 외주 가장자리와 홈(42)의 기계적인 「걸림」이, 기판(1)을 유지하는 데 도움이 된다. 따라서, 상기 홈(42)도 고정지지기구에 포함시킬 수 있다. 또한, 홈(42)이 존재함에 따라, 기판(1)과 포토마스크(2)가 밀착할 때, 기판(1)의 외주 가장자리가 홈(42) 내부로 피할 수 있어, 기판(1)의 외주 가장자리에 의해 포토마스크(2)가 손상을 입거나 깨지는 것을 방지할 수가 있다.

도 10C에는 단면이 사각형상인 홈이 도시되어 있는데, 도 10D에 도시된 바와 같이 홈(38, 39, 40,42)은 단면이 V자형이어도 무방하다.

또한, 도 1 내지 도 3에 도시된 노광장치의 변형예로서, 제 1 변형기구(24) 및 제 2 변형기구(25)를 로드(22, 23)의 안쪽에 배치하고, 로드(22, 23)의 하단에 인장력을 부여함으로써, 기판지지부재(11)의 사이드 가장자리부(20, 21)에 모멘트를 부여하도록 한 노광장치도, 본 발명의 범위 내의 것이다.

도 1 내지 도 3에 도시된 노광장치의 또다른 변형예로서, 로드(22, 23)의 하단에 가압력과 인장력 모두를 부여할 수 있도록 하여, 기판지지부재(11)의 사이드 가장자리부(20, 21)에 플러스 및 마이너스의 모멘트를 선택적으로 부여하도록 한 노광장치도 본 발명의 범위 내의 것이다.

Claims

패턴이 그려진 포토마스크를, 표면에 감광층이 형성된 기판의 감광층을 덮는 위치에 배치하고, 상기 포토마스크와 상기 기판을 서로 균일하게 접촉시킨 후, 상기 포토마스크를 통해 상기 기판의 감광층에 광을 조사함으로써 상기 패턴을 상기 기판에 전사하는 노광방법으로서,

전체적으로 사각형상을 하고 있고, 서로 대향되는 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와 서로 대향되는 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부를 갖는 판형상의 기판지지부재를 준비하고,

상기 포토마스크의 상기 패턴이 그려진 표면에 상기 감광층이 대향되도록 하고, 상기 기판을, 상기 기판지지부재의 주면(主面)에, 상대적인 어긋남이 발생하지 않도록 하여 고정 지지시키며,

상기 기판지지부재를, 상기 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 1 축, 또는 상기 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 2 축을 중심으로 하여, 만곡량을 개별 제어하면서 만곡시킴으로써 상기 기판지지부재를 상기 기판과 함께 원하는 만곡형상으로 변형시키고,

상기 포토마스크와 상기 기판이 서로 균일하게 접촉되어 있으며, 또한 상기 기판지지부재 및 상기 기판이 상기 원하는 만곡형상으로 변형된 상태에서, 상기 포토마스크를 통해 상기 감광층에 광을 조사함으로써, 상기 패턴의 치수를 실질적으로 변화시켜 상기 기판에 전사하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
제 1항에 있어서,

상기 기판지지부재를 상기 제 1 축을 중심으로 하거나, 또는 상기 제 2 축을 중심으로 하여 만곡시킬 때, 상기 제 1 및 제 2 축의 각각을 따른 복수의 위치에서 상기 기판지지부재의 만곡량을 개별 제어하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,

상기 제 1 축을 중심으로 하는 상기 기판지지부재의 만곡은, 상기 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부에 힘 또는 모멘트를 작용시킴으로써 이루어지고, 상기 제 2 축을 중심으로 하는 만곡은, 상기 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부에 힘 또는 모멘트를 작용시킴으로써 이루어지는 노광방법.
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 포토마스크와 상기 기판의 서로 대응하는 위치에 각각 복수의 위치 맞춤 마크가 설치되어 있으며, 상기 위치 맞춤 마크를 마크 검출 수단에 의해 검출하고, 검출한 데이터를 기초로 하여, 상기 포토마스크의 상기 위치 맞춤 마크와 상기 기판의 상기 위치 맞춤 마크와의 사이의 피치의 어긋남량을 연산하고, 그 연산결과에 따라 상기 기판지지부재의 만곡량을 제어하는 노광방법.
제 4항에 있어서,

상기 마크 검출 수단이 CCD 카메라인 노광방법.
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 포토마스크 상에 상기 패턴을 크게 작성하고, 노광시에는, 상기 기판지지부재를 상기 기판과 함께 상기 포토마스크에 대하여 볼록형상으로 만곡시킴으로써, 상기 기판의 상기 감광층이 형성된 면의 치수를 실질적으로 확대시켜 소정의 크기로 하고, 또한, 상기 포토마스크를 상기 기판에 추종시킴으로써, 상기 패턴의 치수를 실질적으로 축소시켜 소정의 크기로 하며, 그 후, 상기 패턴을 상기 기판에 전사하는 노광방법.
패턴이 그려진 포토마스크와 감광층이 형성된 기판을 서로 균일하게 접촉시킨 후, 상기 포토마스크를 통해 상기 기판의 감광층에 광을 조사함으로써 상기 패턴을 상기 기판에 전사하는 노광방법에 이용되는 노광장치로서,

상기 감광층이 형성된 면과 반대쪽의 상기 기판의 면 전체에 걸쳐 상기 기판을 고정 지지하기 위한 기판지지부재로서, 서로 대향되는 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와, 서로 대향되는 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부와, 상기 기판을 상대적인 어긋남이 발생하지 않도록 고정 지지하기 위한 고정지지기구를 갖는 기판지지부재와,

상기 패턴이 그려진 상기 포토마스크의 표면이 상기 감광층에 대향되도록 상기 포토마스크를 지지하기 위한 포토마스크 지지부재와,

상기 포토마스크가 상기 기판에 대하여 균일하게 접촉하여 추종하도록 상기 기판지지부재와 상기 포토마스크 지지부재를 서로 상대이동시키기 위한 구동기구와,

상기 기판지지부재의 상기 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부를 따라 형성된 복수의 제 1 작용점과,

상기 복수의 제 1 작용점에 대하여 힘 또는 모멘트를 작용시킴으로써, 상기 기판지지부재를 상기 기판과 함께 상기 한 쌍의 제 1 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 1 축을 중심으로 하여 만곡시키기 위한 제 1 변형기구와,

상기 기판지지부재의 상기 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부를 따라 형성된 복수의 제 2 작용점과,

상기 복수의 제 2 작용점에 대하여 힘 또는 모멘트를 작용시킴으로써, 상기 기판지지부재를 상기 기판과 함께 상기 한 쌍의 제 2 사이드 가장자리부와 동일한 방향으로 뻗는 제 2 축을 중심으로 하여 만곡시키기 위한 제 2 변형기구와,

상기 구동기구의 작동시에 상기 기판지지부재와 상기 포토마스크 지지부재의 상대이동을 안내하기 위한 가이드 기구와,

상기 포토마스크를 통해 상기 기판의 상기 감광층에 광을 조사하기 위한 광 조사장치를 구비하고 있는 노광장치.
제 7항에 있어서,

상기 제 1 변형기구가, 상기 복수의 제 1 작용점의 각각에 있어서, 작용시키 는 힘 또는 모멘트의 크기를 소정의 양으로 제어할 수 있도록 이루어져 있고,

상기 제 2 변형기구가, 상기 복수의 제 2 작용점의 각각에 있어서, 작용시키는 힘 또는 모멘트의 크기를 소정의 양으로 제어할 수 있도록 이루어져 있는 노광장치.
제 7항 또는 제 8항에 있어서,

상기 제 1 변형기구 또는 상기 제 2 변형기구가 모터를 구비하고 있는 노광장치.
제 7항 또는 제 8항에 있어서,

상기 제 1 변형기구 또는 상기 제 2 변형기구가 공기압력에 의해 구동되는 기구를 구비하고 있는 노광장치.
제 7항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 포토마스크와 상기 기판의 서로 대응되는 위치에 각각 설치된, 복수의 위치 맞춤 마크를 검출하기 위한 마크 검출 수단과,

상기 마크 검출 수단에 의해 검출한 데이터를 기초로 하여, 상기 포토마스크의 상기 위치 맞춤 마크와 상기 기판의 상기 위치 맞춤 마크간의 피치의 어긋남량을 연산하기 위한 연산수단을 가지고,

상기 제 1 변형기구 및 상기 제 2 변형기구 중 적어도 하나가, 상기 연산수 단의 연산결과에 따라, 상기 제 1 작용점 및 상기 제 2 작용점 중 적어도 하나에 작용시키는 힘 또는 모멘트의 크기를 조정하여 상기 기판지지부재의 만곡량을 제어하도록 이루어져 있는 노광장치.
제 7항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 포토마스크 지지부재는, 상기 기판에 대하여 접근 및 이반(離反)되는 방향으로 상기 포토마스크가 소정량 이동하는 것을 허용하는 구조를 갖는 노광장치.
제 7항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 포토마스크 지지부재가, 상기 포토마스크의 상기 포토마스크 지지부재의 지지면 내의 위치를 규제하기 위한 위치규제기구를 갖는 노광장치.
제 7항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 고정지지기구가, 상기 기판지지부재의, 상기 기판을 고정 지지하는 면에 형성된 복수의 홈 또는 봉우리부를 포함하는 노광장치.
제 7항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 고정지지기구가, 상기 기판지지부재의, 상기 기판을 고정 지지하는 면에 형성된 복수의 홈과, 상기 홈의 바닥부에 형성되어 부압원(負壓源)에 접속된 적 어도 하나의 진공흡인구멍을 포함하는 노광장치.
제 15항에 있어서,

상기 복수의 홈의 바닥부에 형성된 상기 적어도 하나의 진공흡인구멍이 홈마다 또는 복수의 홈을 포함하는 그룹마다의 부압원에 접속되어 있는 노광장치.
제 7항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 기판지지부재의 두께가 5mm 이상인 노광장치.
제 7항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 제 1 변형기구 및 상기 제 2 변형기구가 상기 기판지지부재를 지지하기 위한 베이스부재에 재치(載置)되어 있는 노광장치.