JP2006010860A - マスクの撓み補正装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のマスクの撓み補正装置は、エッジ領域内の複数の支持部によって2軸駆動ステージ装置の上方に吊り下げられた露光装置のマスクの撓みを補正する装置であって、前記マスクのエッジ領域内において支持部同士の間に設けられ、前記マスクの上面側を下側に向けて押圧する押圧手段と、前記2軸駆動ステージ装置のステージの駆動ストロークによって確定される領域よりも外側に配設され、前記押圧手段を保持する保持手段と、前記押圧手段を前記マスクの押圧部に当接させた時点における前記マスクの撓み量を計測すると共に、この撓み量を補正するために、前記押圧手段を駆動制御する駆動手段とを備える。
【選択図】図1
Description
従来のマスクの撓み補正装置が適用される基板露光装置は、ガラス基板3を上面に保持する露光チャック1と、前記ガラス基板3の上方からパターンを転写するマスク2を上面に保持するマスクホルダ4とを備え、前記マスク2とガラス基板3との間に所定の微少間隔をあけてマスク2上方から光を照射してガラス基板3にパターンを形成する。
液晶用TFT(Thin Film Transistor)、カラーフィルタ、PDP(Plasma Display Panel)等のパネルサイズの大型化や、多面付けによる生産効率の向上により、処理基板のサイズは大型化している。そのため、その主たるプロセス装置である露光機も大型化の必要がある。この露光機の大型化における課題の一つは、マスクの大型化に伴うマスクの自重による撓みである。
このため、特許文献1記載の発明のようにマスクの補正機構をマスクの下側に有する構成では、プロキシミティー露光装置の中でも一括露光ステップ露光装置または1軸ステップ露光装置にしか対応できないという課題があった。
マスクのサイズは、700mm×800mmあるいは800×920mmであるため、液晶ワークの規格サイズである第4世代(680mm×880mmや730mm×920mm)ないし第5世代(1100×1250や1100×1300)に対応するためには、2軸(XY軸)ステップ露光装置が不可欠であった。
図1は、本発明のマスクの撓み補正装置の構成を概略的に示す斜視図である。
図2は、図1に示すマスクの撓み補正装置の構成を概略的に示す側面図である。
なお、図1ではXYステージを省略すると共に、図2では後述する支持装置12のうちの図中手前側のものを省略する。
図1に示すように、上面四辺形の板状体のマスク10は、マスク10の外周部付近のエッジ領域をマスク10の上面側から固定する枠状のマスクホルダ11を介して支持装置12によって吊り下げられている。マスクホルダ11の四辺の各中央部は支持装置12のアーム部12Aに固定されている。すなわち、このマスク10は、エッジ領域内の複数の支持部によって吊り下げられている。
なお、図2に示す状態では、マスク10は撓んでいる。
図2に示すように、まず、マスク10を設置し、固定した後に、ステップS1としてマスク10の撓み量を測定すべくシリンダ13を延伸させ、シリンダ13の先端がマスクホルダ11の四隅に当接した時点(シリンダ13がマスクホルダ11に押圧力を与えていない状態)でのマスク10の撓み量を計測する。
このステップS2が終了するとフローはステップS2に再び進行し、撓みが無くなるまでこのステップS1及びS2を繰り返し行うことになる。
図4は、ステップS3のフローが終了した時点における本発明のマスクの撓み補正装置の構成を概略的に示す側面図である。
図2に比べるとシリンダ13が延伸され、マスク10のたわみが少なくなっているのが分かる。
なお、ステップS2における撓みの有無の判定に際しては、撓み量が零であるか否かを判定する方法に限らず、撓み量が所定量以下であるかを判定するようにしてもよい。
Claims (2)
- エッジ領域内の複数の支持部によって2軸駆動ステージ装置の上方に吊り下げられた露光装置のマスクの撓みを補正する装置であって、
前記マスクのエッジ領域内において支持部同士の間に設けられ、前記マスクの上面側を下側に向けて押圧する押圧手段と、
前記2軸駆動ステージ装置のステージの駆動ストロークによって確定される領域よりも外側に配設され、前記押圧手段を保持する保持手段と、
前記押圧手段を前記マスクの押圧部に当接させた時点における前記マスクの撓み量を計測すると共に、この撓み量を補正するために、前記押圧手段を駆動制御する駆動手段と
を備えることを特徴とするマスクの撓み補正装置。 - 前記押圧手段は、下方に向かって延伸することにより前記マスクを押圧可能に配設されたシリンダであることを特徴とする請求項1記載のマスクの撓み補正装置。
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