JPH07219212A - フォトマスクの撓み矯正装置およびその方法 - Google Patents
フォトマスクの撓み矯正装置およびその方法Info
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- JPH07219212A JPH07219212A JP6010668A JP1066894A JPH07219212A JP H07219212 A JPH07219212 A JP H07219212A JP 6010668 A JP6010668 A JP 6010668A JP 1066894 A JP1066894 A JP 1066894A JP H07219212 A JPH07219212 A JP H07219212A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】構成が簡単で、水平方向に設置したフォトマス
クが的確に水平精度を保つことができ、確認が各ワーク
毎にでき、既存の露光作業の流れの中で水平精度の維持
を行うことができるフォトマスクの撓み矯正装置および
その方法。 【構成】紫外線を照射してワークに所定のパターンを露
光するフォトマスクの水平精度の矯正装置１であって、
前記フォトマスクＰの少なくとも２個所に位置決めマー
クが設けられ、このフォトマスクＰの少なくとも一面側
を空密に保持する囲繞部２と、この囲繞部２内の圧力を
調整する圧力調整手段３と、前記フォトマスクＰの位置
決めマークを撮像する撮像手段４と、この撮像手段４か
らの撮像情報を処理し前記圧力調整手段３を制御する制
御部５とから構成され、前記囲繞部２は、フォトマスク
Ｐと対面する位置に透光板２ｂを設けたフォトマスクの
撓み矯正装置。
クが的確に水平精度を保つことができ、確認が各ワーク
毎にでき、既存の露光作業の流れの中で水平精度の維持
を行うことができるフォトマスクの撓み矯正装置および
その方法。 【構成】紫外線を照射してワークに所定のパターンを露
光するフォトマスクの水平精度の矯正装置１であって、
前記フォトマスクＰの少なくとも２個所に位置決めマー
クが設けられ、このフォトマスクＰの少なくとも一面側
を空密に保持する囲繞部２と、この囲繞部２内の圧力を
調整する圧力調整手段３と、前記フォトマスクＰの位置
決めマークを撮像する撮像手段４と、この撮像手段４か
らの撮像情報を処理し前記圧力調整手段３を制御する制
御部５とから構成され、前記囲繞部２は、フォトマスク
Ｐと対面する位置に透光板２ｂを設けたフォトマスクの
撓み矯正装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、フォトリソグラフィ
に用いられるフォトマスクの平面精度を維持する装置に
係り、特に、大型のフォトマスクを使用する際に、重力
によるフォトマスクの撓みを矯正する、フォトマスクの
撓み矯正装置およびその方法に関する。
に用いられるフォトマスクの平面精度を維持する装置に
係り、特に、大型のフォトマスクを使用する際に、重力
によるフォトマスクの撓みを矯正する、フォトマスクの
撓み矯正装置およびその方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、大型のサイズのワークを露光す
る一括露光装置は、フォトマスクが自重で撓み、フォト
マスクのパターンの距離が変動して、本来ワークに露光
しようとするパターンがずれてしまう。そして、特に、
投影露光機、プロキシミテー露光機の場合、フォトマス
クの撓みが、大きく解像度に影響するため、種々の解決
手段が提案されている。
る一括露光装置は、フォトマスクが自重で撓み、フォト
マスクのパターンの距離が変動して、本来ワークに露光
しようとするパターンがずれてしまう。そして、特に、
投影露光機、プロキシミテー露光機の場合、フォトマス
クの撓みが、大きく解像度に影響するため、種々の解決
手段が提案されている。
【０００３】その一つとして、フォトマスクが大型にな
ると必然的に重力により撓むため、フォトマスクを縦置
きにして重力の影響を回避し、ワークをその縦置きのフ
ォトマスクに位置合わせし、縦置き状態で露光が行われ
ている。
ると必然的に重力により撓むため、フォトマスクを縦置
きにして重力の影響を回避し、ワークをその縦置きのフ
ォトマスクに位置合わせし、縦置き状態で露光が行われ
ている。
【０００４】また、図３で示すように、フォトマスクＰ
は、水平に設置し、このフォトマスクＰの所定位置にギ
ャップ量測定センサ５１を設置している。さらに、ワー
クＷを設置するフレキシブル板５２と、このフレキシブ
ル板５２を自在に撓ませる押圧装置５３とを備えてい
る。そして、前記ギャップ量測定センサ５１は、フォト
マスクＰと、ワークＷのギャップ量を検出するものであ
る。
は、水平に設置し、このフォトマスクＰの所定位置にギ
ャップ量測定センサ５１を設置している。さらに、ワー
クＷを設置するフレキシブル板５２と、このフレキシブ
ル板５２を自在に撓ませる押圧装置５３とを備えてい
る。そして、前記ギャップ量測定センサ５１は、フォト
マスクＰと、ワークＷのギャップ量を検出するものであ
る。
【０００５】したがって、前記各ギャップ量測定センサ
５１からフォトマスクＰの撓み量の情報が押圧装置５３
に伝達され、その撓み量の情報に基づいて押圧装置５３
がフレキシブル板５２を押動させ、フォトマスクＰと同
じ撓み状態にワークＷを撓ませている。
５１からフォトマスクＰの撓み量の情報が押圧装置５３
に伝達され、その撓み量の情報に基づいて押圧装置５３
がフレキシブル板５２を押動させ、フォトマスクＰと同
じ撓み状態にワークＷを撓ませている。
【０００６】さらに、図４で示すように、フォトマスク
Ｐは、減圧室５５の一開口面を密閉するように、レチク
ルステージ５６により取り付けられている。そして、前
記減圧室５５には、減圧室内の気圧を調整する圧力調整
部５９を備えており、フォトマスクＰの下方には、三角
測量機である投光部５７と、この投光部５７から照射さ
れた光を受光する受光部５８とを備え、前記受光部５８
には、フォトマスクＰの撓み量を検出して前記圧力調整
部５９を制御する制御部（図示せず）とを備えている。
Ｐは、減圧室５５の一開口面を密閉するように、レチク
ルステージ５６により取り付けられている。そして、前
記減圧室５５には、減圧室内の気圧を調整する圧力調整
部５９を備えており、フォトマスクＰの下方には、三角
測量機である投光部５７と、この投光部５７から照射さ
れた光を受光する受光部５８とを備え、前記受光部５８
には、フォトマスクＰの撓み量を検出して前記圧力調整
部５９を制御する制御部（図示せず）とを備えている。
【０００７】したがって、フォトマスクＰを設置した
後、三角測量機の投光部５７から投光して、フォトマス
クＰの所定位置に照射し、そのフォトマスクＰから反射
した光を受光部５８で受光することでフォトマスクＰの
水平精度を検出して、その検出情報に基づいて圧力調整
部５９を制御し、フォトマスクＰの水平精度を維持して
いる。
後、三角測量機の投光部５７から投光して、フォトマス
クＰの所定位置に照射し、そのフォトマスクＰから反射
した光を受光部５８で受光することでフォトマスクＰの
水平精度を検出して、その検出情報に基づいて圧力調整
部５９を制御し、フォトマスクＰの水平精度を維持して
いる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の撓み矯
正装置では、つぎのような問題点があった。 フォトマスクと、ワークを縦置きとする場合、ワー
クの搬送方法は、水平搬送がほとんどであり、水平方向
で搬送したワークを縦置きのフォトマスクに位置合わせ
するには、装置が複雑になる。
正装置では、つぎのような問題点があった。 フォトマスクと、ワークを縦置きとする場合、ワー
クの搬送方法は、水平搬送がほとんどであり、水平方向
で搬送したワークを縦置きのフォトマスクに位置合わせ
するには、装置が複雑になる。
【０００９】 フォトマスクの撓みに合わせてワーク
を撓ませる装置は、ギャップ量測定センサや、押動装置
などの機構が複雑になる欠点がある。また、完全にフォ
トマスクの撓みに合わせてワークを撓ませることが不可
能なため、解像度の向上を望むことはできない。
を撓ませる装置は、ギャップ量測定センサや、押動装置
などの機構が複雑になる欠点がある。また、完全にフォ
トマスクの撓みに合わせてワークを撓ませることが不可
能なため、解像度の向上を望むことはできない。
【００１０】 三角測量機を使用するものは、投光部
が投光したフォトマスクの所定位置しか測定することが
できず、適切な減圧調整をすることができない。また、
投光部や受光部などの新たな装置が必要となるなどの装
置が複雑になる。
が投光したフォトマスクの所定位置しか測定することが
できず、適切な減圧調整をすることができない。また、
投光部や受光部などの新たな装置が必要となるなどの装
置が複雑になる。
【００１１】この発明は、前述の問題点を解決すべく創
案されたもので、構成が簡単で、水平方向に設置したフ
ォトマスクが的確に水平精度を保つことができ、確認が
各ワーク毎にでき、既存の露光作業の流れの中で水平精
度の維持を行うことができるフォトマスクの撓み矯正装
置およびその方法を提供することを目的とする。
案されたもので、構成が簡単で、水平方向に設置したフ
ォトマスクが的確に水平精度を保つことができ、確認が
各ワーク毎にでき、既存の露光作業の流れの中で水平精
度の維持を行うことができるフォトマスクの撓み矯正装
置およびその方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め、この発明は、「紫外線を照射してワークに所定のパ
ターンを露光するフォトマスクの水平精度の矯正装置で
あって、前記フォトマスクの少なくとも２個所に位置決
めマークが設けられ、このフォトマスクの少なくとも一
面側を空密に保持する囲繞部と、この囲繞部内の圧力を
調整する圧力調整手段と、前記フォトマスクの位置決め
マークを撮像する撮像手段と、この撮像手段からの撮像
情報を処理し前記圧力調整手段を制御する制御部とから
構成され、前記囲繞部は、フォトマスクと対面する位置
に透光板を設けたフォトマスクの撓み矯正装置。」とし
て構成した。
め、この発明は、「紫外線を照射してワークに所定のパ
ターンを露光するフォトマスクの水平精度の矯正装置で
あって、前記フォトマスクの少なくとも２個所に位置決
めマークが設けられ、このフォトマスクの少なくとも一
面側を空密に保持する囲繞部と、この囲繞部内の圧力を
調整する圧力調整手段と、前記フォトマスクの位置決め
マークを撮像する撮像手段と、この撮像手段からの撮像
情報を処理し前記圧力調整手段を制御する制御部とから
構成され、前記囲繞部は、フォトマスクと対面する位置
に透光板を設けたフォトマスクの撓み矯正装置。」とし
て構成した。
【００１３】また、「前記囲繞部内の圧力を調整する圧
力調整手段は、圧力媒体の冷却手段を備えると共に、囲
繞部内が所定温度になったときに冷却手段を作動させる
冷却作動手段を備える前記フォトマスクの撓み矯正装
置。」として構成した。さらに、「上下のフォトマスク
のそれぞれの位置決めマークの比較か、フォトマスクの
位置決めマークおよびワークの各位置決めマークとの比
較のうち、少なくとも一方の比較が撮像手段および制御
部により行われ、各位置決めマークが一致しない場合
は、前記制御部を介して前記圧力調整手段を作動させ、
前記囲繞部内の圧力を調整するフォトマスクの撓み矯正
方法。」として構成した。
力調整手段は、圧力媒体の冷却手段を備えると共に、囲
繞部内が所定温度になったときに冷却手段を作動させる
冷却作動手段を備える前記フォトマスクの撓み矯正装
置。」として構成した。さらに、「上下のフォトマスク
のそれぞれの位置決めマークの比較か、フォトマスクの
位置決めマークおよびワークの各位置決めマークとの比
較のうち、少なくとも一方の比較が撮像手段および制御
部により行われ、各位置決めマークが一致しない場合
は、前記制御部を介して前記圧力調整手段を作動させ、
前記囲繞部内の圧力を調整するフォトマスクの撓み矯正
方法。」として構成した。
【００１４】そして、「フォトマスクの少なくとも２個
所に設けた位置決めマークを撮像手段により撮像して位
置決めマーク間の距離を測定し、あらかじめ制御部に入
力されている基準値と比較して適正距離の是非を検出す
る第一工程と、前記第一工程の結果、適正距離で無かっ
た場合、圧力調整手段を前記制御部が作動させて前記囲
繞部内の圧力を調整する第２工程と、前記撮像手段によ
りフォトマスクの位置決めマークの位置を測定し、基準
値と比較して適正距離であれば次作業に、適正距離で無
ければ前記第２工程から繰り返すフォトマスクの撓み矯
正方法。」として構成した。
所に設けた位置決めマークを撮像手段により撮像して位
置決めマーク間の距離を測定し、あらかじめ制御部に入
力されている基準値と比較して適正距離の是非を検出す
る第一工程と、前記第一工程の結果、適正距離で無かっ
た場合、圧力調整手段を前記制御部が作動させて前記囲
繞部内の圧力を調整する第２工程と、前記撮像手段によ
りフォトマスクの位置決めマークの位置を測定し、基準
値と比較して適正距離であれば次作業に、適正距離で無
ければ前記第２工程から繰り返すフォトマスクの撓み矯
正方法。」として構成した。
【００１５】
【作用】この発明は上記のように構成したので以下のよ
うな作用を有している。 フォトマスクは、少なくともその一面を離間した状
態で空密に囲繞部で囲んでいる。そして、前記囲繞部内
の圧力を圧力調整手段が作動して調整し、フォトマスク
の水平精度を維持することができる。そして、この水平
精度は、フォトマスクの位置決めマークを撮像手段で撮
像し、その撮像情報に基づいて制御部が信号を送り前記
圧力調整手段が作動することで行われる。
うな作用を有している。 フォトマスクは、少なくともその一面を離間した状
態で空密に囲繞部で囲んでいる。そして、前記囲繞部内
の圧力を圧力調整手段が作動して調整し、フォトマスク
の水平精度を維持することができる。そして、この水平
精度は、フォトマスクの位置決めマークを撮像手段で撮
像し、その撮像情報に基づいて制御部が信号を送り前記
圧力調整手段が作動することで行われる。
【００１６】 囲繞部内の温度に対応して、囲繞部内
の圧力を調整する圧力媒体を冷却する冷却手段を備えて
おり、露光中、光源装置からの光の熱により、フォトマ
スクが所定温度に到達すると、冷却手段が冷却作動手段
により作動する構成としている。 フォトマスクに設けられた少なくとも２個所の位置
決めマークは、撮像手段により撮像され、その撮像情報
は、制御部に送られる。そして、制御部であらかじめ入
力された基準値と比較演算が行われ、その基準値と一致
しない場合は、制御部が圧力調整手段を作動させ、囲繞
部内の圧力を調整することでフォトマスクの水平精度の
矯正を行う。
の圧力を調整する圧力媒体を冷却する冷却手段を備えて
おり、露光中、光源装置からの光の熱により、フォトマ
スクが所定温度に到達すると、冷却手段が冷却作動手段
により作動する構成としている。 フォトマスクに設けられた少なくとも２個所の位置
決めマークは、撮像手段により撮像され、その撮像情報
は、制御部に送られる。そして、制御部であらかじめ入
力された基準値と比較演算が行われ、その基準値と一致
しない場合は、制御部が圧力調整手段を作動させ、囲繞
部内の圧力を調整することでフォトマスクの水平精度の
矯正を行う。
【００１７】 フォトマスクが上下にある場合は、フ
ォトマスクの各位置決めマークの距離の比較か、フォト
マスクとワークの位置決めマークの距離の比較のうち、
どちらかが行われる。その比較は、撮像手段により各位
置決めマークが撮像され、その撮像情報に基づいて制御
部が比較処理を行い、各位置決めマークが一致していな
い場合は、圧力調整手段を制御部が作動させ、囲繞部内
の圧力を調整することで、フォトマスクの水平精度を矯
正する。
ォトマスクの各位置決めマークの距離の比較か、フォト
マスクとワークの位置決めマークの距離の比較のうち、
どちらかが行われる。その比較は、撮像手段により各位
置決めマークが撮像され、その撮像情報に基づいて制御
部が比較処理を行い、各位置決めマークが一致していな
い場合は、圧力調整手段を制御部が作動させ、囲繞部内
の圧力を調整することで、フォトマスクの水平精度を矯
正する。
【００１８】 フォトマスクが上下どちらか一方の場
合は、フォトマスクとワークの各位置決めマークを撮像
手段が撮像し、その撮像情報に基づいて制御部が比較処
理し、各位置決めマークが一致していない場合は、制御
部は、圧力調整手段を作動させ、囲繞部内の圧力を調整
することでフォトマスクの撓みを矯正している。
合は、フォトマスクとワークの各位置決めマークを撮像
手段が撮像し、その撮像情報に基づいて制御部が比較処
理し、各位置決めマークが一致していない場合は、制御
部は、圧力調整手段を作動させ、囲繞部内の圧力を調整
することでフォトマスクの撓みを矯正している。
【００１９】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図１は、フォトマスクの水平精度の矯正装置を
を示す原理図である。図１で示すように、フォトマスク
の水平精度の矯正を行う矯正装置１の構成はフォトマス
クＰの一方面側を空密に取り付ける囲繞部２と、この囲
繞部２の側壁を貫通して囲繞部２内の圧力を調整する圧
力調整手段３と、フォトマスクＰの少なくとも２個所に
設けた位置決めマークＰ1 を撮像する撮像手段４、４
と、これら撮像手段４、４からの撮像情報を処理して前
記圧力調整手段３を制御する制御部５とから成る。
明する。図１は、フォトマスクの水平精度の矯正装置を
を示す原理図である。図１で示すように、フォトマスク
の水平精度の矯正を行う矯正装置１の構成はフォトマス
クＰの一方面側を空密に取り付ける囲繞部２と、この囲
繞部２の側壁を貫通して囲繞部２内の圧力を調整する圧
力調整手段３と、フォトマスクＰの少なくとも２個所に
設けた位置決めマークＰ1 を撮像する撮像手段４、４
と、これら撮像手段４、４からの撮像情報を処理して前
記圧力調整手段３を制御する制御部５とから成る。
【００２０】前記囲繞部２は、枠状のフレーム２ａと、
このフレーム２ａの一方面を密閉するガラス、アクリル
板などの透光体２ｂと、フォトマスクＰの取付手段とし
てのフランジ２ｃとから構成されている。また、前記フ
ォトマスクＰは、ガラス乾板で形成されており、このフ
ォトマスクＰは、その周側部分を、前記フレーム２ａの
上面側に取付金具としてのフランジ２ｃおよびボルト
（図示せず）などで着脱自在になるように取り付けてい
る。
このフレーム２ａの一方面を密閉するガラス、アクリル
板などの透光体２ｂと、フォトマスクＰの取付手段とし
てのフランジ２ｃとから構成されている。また、前記フ
ォトマスクＰは、ガラス乾板で形成されており、このフ
ォトマスクＰは、その周側部分を、前記フレーム２ａの
上面側に取付金具としてのフランジ２ｃおよびボルト
（図示せず）などで着脱自在になるように取り付けてい
る。
【００２１】なお、フォトマスクの取付手段として、溝
をフレーム２ａの上面に周設し、この溝内を真空吸引す
ることで、フォトマスクＰを着脱自在に真空吸着する構
成としても構わない。また、フォトマスクＰを真空吸着
する別の手段として、フレーム２ａの上面にシールゴム
を２本併設し、このシールゴムとフレーム上面およびフ
ォトマスクＰで囲繞される空間を真空吸引することで、
フォトマスクＰをフレーム２ａに着脱自在に保持させる
構成としても構わない（図２参照）。
をフレーム２ａの上面に周設し、この溝内を真空吸引す
ることで、フォトマスクＰを着脱自在に真空吸着する構
成としても構わない。また、フォトマスクＰを真空吸着
する別の手段として、フレーム２ａの上面にシールゴム
を２本併設し、このシールゴムとフレーム上面およびフ
ォトマスクＰで囲繞される空間を真空吸引することで、
フォトマスクＰをフレーム２ａに着脱自在に保持させる
構成としても構わない（図２参照）。
【００２２】前記囲繞部２のフォトマスクと対面する位
置には、透光板２ｂが設けられている。この透光板２ｂ
は、光源装置（図２参照）から照射される露光に必要な
光（紫外線）を透過させるガラスや、アクリル板などの
部材で構成されている。そして、図１では、前記フレー
ム２ａは、その下面に透光板２ｂを一体に保持している
が、フランジなどを介して着脱自在に保持する構成と
し、紫外線照射のために、透光板２ｂの紫外線透過率が
低下した場合に交換できるようにすると都合が良い。ま
た、囲繞部２が透光板２ｂを介して露光作業が行われる
ことから、透光板２ｂによる紫外線の減衰を考慮して、
透光板２ｂに反射防止膜を取り付ける構成としても構わ
ない。
置には、透光板２ｂが設けられている。この透光板２ｂ
は、光源装置（図２参照）から照射される露光に必要な
光（紫外線）を透過させるガラスや、アクリル板などの
部材で構成されている。そして、図１では、前記フレー
ム２ａは、その下面に透光板２ｂを一体に保持している
が、フランジなどを介して着脱自在に保持する構成と
し、紫外線照射のために、透光板２ｂの紫外線透過率が
低下した場合に交換できるようにすると都合が良い。ま
た、囲繞部２が透光板２ｂを介して露光作業が行われる
ことから、透光板２ｂによる紫外線の減衰を考慮して、
透光板２ｂに反射防止膜を取り付ける構成としても構わ
ない。
【００２３】一方、囲繞部２内の圧力を調整する圧力調
整手段３は、空気の圧力調整手段を使用し、この空気の
圧力調整手段は、前記フレーム２ａの側面からそのフレ
ーム２ａを貫通する供給管３ａと、この供給管３ａに接
続された接続ホース３ｂと、この接続ホース３ｂを介し
て接続した加圧・減圧自在な圧力ポンプ３ｃ等から構成
されている。
整手段３は、空気の圧力調整手段を使用し、この空気の
圧力調整手段は、前記フレーム２ａの側面からそのフレ
ーム２ａを貫通する供給管３ａと、この供給管３ａに接
続された接続ホース３ｂと、この接続ホース３ｂを介し
て接続した加圧・減圧自在な圧力ポンプ３ｃ等から構成
されている。
【００２４】なお、囲繞部２内に送られる空気は、ゴミ
等のワークの露光作業の際に不適切な物が入り込まない
ように、図示しないフィルターなどを介して送られてい
る。また、光源装置（図示せず）からの熱により、フォ
トマスクＰ等が支障をきたすことがないように、冷却手
段（図示せず）をフレーム２ａ内、接続ホース３ｂある
いは圧力ポンプ３ｃ内に設け、この冷却手段（図示せ
ず）を介して送り込まれる空気を所定温度にする構成と
しても構わない。そして、冷却手段が作動する場合は、
温度センサスイッチをフォトマスクＰの上面側あるいは
下面側の所定位置に設置し、この温度センサスイッチに
より作動する構成とすると都合がよい。
等のワークの露光作業の際に不適切な物が入り込まない
ように、図示しないフィルターなどを介して送られてい
る。また、光源装置（図示せず）からの熱により、フォ
トマスクＰ等が支障をきたすことがないように、冷却手
段（図示せず）をフレーム２ａ内、接続ホース３ｂある
いは圧力ポンプ３ｃ内に設け、この冷却手段（図示せ
ず）を介して送り込まれる空気を所定温度にする構成と
しても構わない。そして、冷却手段が作動する場合は、
温度センサスイッチをフォトマスクＰの上面側あるいは
下面側の所定位置に設置し、この温度センサスイッチに
より作動する構成とすると都合がよい。
【００２５】また、前記囲繞部２内の圧力を変える手段
として、水などの液体を囲繞部２内に充満させ、この液
体の給入・排出を行う圧力ポンプにより、囲繞部２内を
押圧する圧力を変えることで、フォトマスクＰの撓みを
矯正させる構成としても構わない。もちろん、液体のフ
ィルターや、冷却手段、冷却手段の作動スイッチなどを
備える構成とすると都合がよい。そして、前記圧力調整
手段３は、撮像手段４の撮像情報を処理する制御部に接
続されている。
として、水などの液体を囲繞部２内に充満させ、この液
体の給入・排出を行う圧力ポンプにより、囲繞部２内を
押圧する圧力を変えることで、フォトマスクＰの撓みを
矯正させる構成としても構わない。もちろん、液体のフ
ィルターや、冷却手段、冷却手段の作動スイッチなどを
備える構成とすると都合がよい。そして、前記圧力調整
手段３は、撮像手段４の撮像情報を処理する制御部に接
続されている。
【００２６】前記撮像手段４は、フォトマスクＰの位置
決めマークＰ1 の数に応じて設置され（図面では２個
所）、フォトマスクＰ、ワークＷの位置決めマークの撮
像を行っている。この撮像手段４は、ＣＣＤカメラ（Ｍ
ＯＳ形、ＣＣＤ形、ＭＯＳ−ＣＣＤ形などを含む）を使
用しており、ＣＣＤカメラで認識した位置決めマーク
は、電荷の違いにより位置が測定され、制御部５として
の画像処理部で各位置決めマークの距離が検出される。
そして、検出された各位置決めマークの距離が一致（フ
ォトマスク同士の位置決めマークの一致か、フォトマス
クとワークの位置決めマークの一致）していない場合
は、空気圧調整手段３を作動させて囲繞部２内の気圧を
調整する構成としている。
決めマークＰ1 の数に応じて設置され（図面では２個
所）、フォトマスクＰ、ワークＷの位置決めマークの撮
像を行っている。この撮像手段４は、ＣＣＤカメラ（Ｍ
ＯＳ形、ＣＣＤ形、ＭＯＳ−ＣＣＤ形などを含む）を使
用しており、ＣＣＤカメラで認識した位置決めマーク
は、電荷の違いにより位置が測定され、制御部５として
の画像処理部で各位置決めマークの距離が検出される。
そして、検出された各位置決めマークの距離が一致（フ
ォトマスク同士の位置決めマークの一致か、フォトマス
クとワークの位置決めマークの一致）していない場合
は、空気圧調整手段３を作動させて囲繞部２内の気圧を
調整する構成としている。
【００２７】なお、フォトマスクＰの位置決めマークＰ
1 の適正基準値を、あらかじめ制御部５内に入力してお
き、撮像手段４で撮像した撮像情報と、基準値とを比較
演算することで、フォトマスクＰの水平精度を矯正する
構成としても構わない。
1 の適正基準値を、あらかじめ制御部５内に入力してお
き、撮像手段４で撮像した撮像情報と、基準値とを比較
演算することで、フォトマスクＰの水平精度を矯正する
構成としても構わない。
【００２８】つぎに、この実施例の使用手順を図面に基
づいて説明する。図２で示すように、露光装置の露光作
業がワークＷの両面を露光するものである場合、フォト
マスクＰの位置決めマークＰ1 は、ワークＷの位置決め
マークＷ 1 と比較するか、フォトマスクＰ同士の各位置
決めマークＰ1 を比較することで、フォトマスクＰの水
平精度が判断できる。その理由として、上下に配置した
フォトマスクＰは、対面する側に位置決めマークＰ1 が
付されているため、フォトマスクＰが撓んでいる場合
は、上側は位置決めマークＰ1 が離間し、下側は位置決
めマークＰ1 が近接する方向にフォトマスクＰが撓むこ
とになる。そのため、フォトマスクＰが撓んでいると、
位置決めマークＰ1 同士が一致することはない。ワーク
Ｗの位置決めマークＷ1 と比較した場合も同じである。
したがって、撓みがない場合は、各位置決めマークが一
致することになる。
づいて説明する。図２で示すように、露光装置の露光作
業がワークＷの両面を露光するものである場合、フォト
マスクＰの位置決めマークＰ1 は、ワークＷの位置決め
マークＷ 1 と比較するか、フォトマスクＰ同士の各位置
決めマークＰ1 を比較することで、フォトマスクＰの水
平精度が判断できる。その理由として、上下に配置した
フォトマスクＰは、対面する側に位置決めマークＰ1 が
付されているため、フォトマスクＰが撓んでいる場合
は、上側は位置決めマークＰ1 が離間し、下側は位置決
めマークＰ1 が近接する方向にフォトマスクＰが撓むこ
とになる。そのため、フォトマスクＰが撓んでいると、
位置決めマークＰ1 同士が一致することはない。ワーク
Ｗの位置決めマークＷ1 と比較した場合も同じである。
したがって、撓みがない場合は、各位置決めマークが一
致することになる。
【００２９】図２で示すように、撮像手段１３の数は、
露光装置の露光方法により異なり、例えば、両面露光装
置であっても、ワークＷとフォトマスクＰを密着させた
状態で露光するものは、一方のフォトマスクＰのみの水
平精度を維持することで、ワークＷおよび他方のフォト
マスクＰが、水平精度を維持している一方のフォトマス
クに副って矯正されるため、圧力調整手段は、一方のみ
のフォトマスク側に設けておけば足りる。なお、符号１
０は矯正装置、１１は囲繞部、１２は圧力調整手段、１
３は撮像手段、１４は制御部としての画像処理部、１５
は光源装置である。
露光装置の露光方法により異なり、例えば、両面露光装
置であっても、ワークＷとフォトマスクＰを密着させた
状態で露光するものは、一方のフォトマスクＰのみの水
平精度を維持することで、ワークＷおよび他方のフォト
マスクＰが、水平精度を維持している一方のフォトマス
クに副って矯正されるため、圧力調整手段は、一方のみ
のフォトマスク側に設けておけば足りる。なお、符号１
０は矯正装置、１１は囲繞部、１２は圧力調整手段、１
３は撮像手段、１４は制御部としての画像処理部、１５
は光源装置である。
【００３０】そして、図２で示すように、プロキシミテ
ーなどのワークＷ（厚さが充分あるか、もしくは、張力
をかけるかして撓みは無視できる程度であるとする）と
フォトマスクＰが離間した状態で露光される露光装置の
場合は、ＣＣＤカメラなどの撮像手段１３を上下に少な
くとも２台づつ設置しており、上側のフォトマスクＰと
ワークＷの表面に有る各位置決めマークＰ1 、Ｗ1 の距
離を比較測定し、下側のフォトマスクＰとワークＷの裏
面の位置決めマークを比較測定することで、フォトマス
クＰの水平精度が測定できる。
ーなどのワークＷ（厚さが充分あるか、もしくは、張力
をかけるかして撓みは無視できる程度であるとする）と
フォトマスクＰが離間した状態で露光される露光装置の
場合は、ＣＣＤカメラなどの撮像手段１３を上下に少な
くとも２台づつ設置しており、上側のフォトマスクＰと
ワークＷの表面に有る各位置決めマークＰ1 、Ｗ1 の距
離を比較測定し、下側のフォトマスクＰとワークＷの裏
面の位置決めマークを比較測定することで、フォトマス
クＰの水平精度が測定できる。
【００３１】上側のフォトマスクＰに撓みが有る場合は
（各位置決めマークが一致しない）、撮像手段１３で撮
像した情報が制御部としての画像処理部１４で処理さ
れ、その画像処理部１４から圧力調整手段１２に信号が
送られ、圧力調整手段１２が作動し、囲繞部１１内の圧
力を加圧するように調整してフォトマスクＰの撓みが矯
正される。
（各位置決めマークが一致しない）、撮像手段１３で撮
像した情報が制御部としての画像処理部１４で処理さ
れ、その画像処理部１４から圧力調整手段１２に信号が
送られ、圧力調整手段１２が作動し、囲繞部１１内の圧
力を加圧するように調整してフォトマスクＰの撓みが矯
正される。
【００３２】下側のフォトマスクＰに撓みが有る場合
は、同じように画像処理部１４から圧力調整手段１２に
信号が送られ、圧力調整手段１２が作動し、囲繞部１１
内の圧力を減圧するように調整してフォトマスクＰの撓
が矯正される。
は、同じように画像処理部１４から圧力調整手段１２に
信号が送られ、圧力調整手段１２が作動し、囲繞部１１
内の圧力を減圧するように調整してフォトマスクＰの撓
が矯正される。
【００３３】フォトマスクＰを矯正する場合、撮像手段
１３が常に、位置決めマークを確認して測定値を判断す
る構成としても良く、測定値からどのくらい圧力を調整
するかあらかじめ測定しておき、その数値に基づいて自
動的に調整する構成としても構わない。フォトマスクＰ
の矯正が完了したら、次作業に移行する。
１３が常に、位置決めマークを確認して測定値を判断す
る構成としても良く、測定値からどのくらい圧力を調整
するかあらかじめ測定しておき、その数値に基づいて自
動的に調整する構成としても構わない。フォトマスクＰ
の矯正が完了したら、次作業に移行する。
【００３４】なお、一度撓みを矯正した後のフォトマス
クＰの撓みは、ワークＷとフォトマスクＰの位置決め作
業（アライメント作業）が行われる場合、撮像手段１３
により各位置決めマークＰ1 、Ｗ1 が撮像され、画像処
理部１４で処理される。したがって、フォトマスクＰの
水平精度がアライメント作業をする都度確認できること
になる。
クＰの撓みは、ワークＷとフォトマスクＰの位置決め作
業（アライメント作業）が行われる場合、撮像手段１３
により各位置決めマークＰ1 、Ｗ1 が撮像され、画像処
理部１４で処理される。したがって、フォトマスクＰの
水平精度がアライメント作業をする都度確認できること
になる。
【００３５】なお、この発明は、上記した実施例に限定
されるものではなく、フォトマスク同士の各位置決めマ
ークを比較測定する場合や、フォトマスクとワークの位
置決めマークを比較測定する場合であっても、あらかじ
め制御部に基準値を入力しておき、その基準値との比較
を確認手段として使用すること等、この発明の要旨を逸
脱しない範囲で種々の変更ができることは勿論である。
されるものではなく、フォトマスク同士の各位置決めマ
ークを比較測定する場合や、フォトマスクとワークの位
置決めマークを比較測定する場合であっても、あらかじ
め制御部に基準値を入力しておき、その基準値との比較
を確認手段として使用すること等、この発明の要旨を逸
脱しない範囲で種々の変更ができることは勿論である。
【００３６】
【発明の効果】以上に述べたごとく本発明は次の優れた
効果を発揮する。 フォトマスクの設置方向が水平に置いた状態で水平
精度を矯正できるため、縦置きと比べ、ワークの搬送機
構が簡素化できると共に、適切なフォトマスクの矯正が
可能である。
効果を発揮する。 フォトマスクの設置方向が水平に置いた状態で水平
精度を矯正できるため、縦置きと比べ、ワークの搬送機
構が簡素化できると共に、適切なフォトマスクの矯正が
可能である。
【００３７】 フォトマスクの水平精度を矯正する矯
正装置は、フォトマスクおよびワークの撓み状態を利用
して撮像手段により各位置決めマークが一致しなけれ
ば、フォトマスクに撓みがあると判断し、フォトマスク
を圧力を調整することでフォトマスクの水平精度を矯正
して維持することができる。
正装置は、フォトマスクおよびワークの撓み状態を利用
して撮像手段により各位置決めマークが一致しなけれ
ば、フォトマスクに撓みがあると判断し、フォトマスク
を圧力を調整することでフォトマスクの水平精度を矯正
して維持することができる。
【００３８】 光源装置からの光によりフォトマスク
や囲繞部内などの温度が所定以上に上昇した場合、冷却
作動手段により冷却手段が作動し、囲繞部内の圧力を調
整する圧力媒体が冷却される。そのため、熱によるフォ
トマスクなどに与える弊害を防ぐことができる。
や囲繞部内などの温度が所定以上に上昇した場合、冷却
作動手段により冷却手段が作動し、囲繞部内の圧力を調
整する圧力媒体が冷却される。そのため、熱によるフォ
トマスクなどに与える弊害を防ぐことができる。
【００３９】 フォトマスク同士の各位置決めマーク
とを比較測定するか、フォトマスクの位置決めマークと
ワークの位置決めマークとを比較測定するか、あるい
は、あらかめじ基準値を入力してその基準値とフォトマ
スクの位置決めマークを比較してフォトマスクの水平精
度を矯正する場合、露光作業中のワークの位置決め作業
時に撮像手段が撮像するフォトマスクの位置決めマーク
から、フォトマスクの水平精度が検出できる。したがっ
て、露光作業中のフォトマスクの水平精度が維持でき
る。
とを比較測定するか、フォトマスクの位置決めマークと
ワークの位置決めマークとを比較測定するか、あるい
は、あらかめじ基準値を入力してその基準値とフォトマ
スクの位置決めマークを比較してフォトマスクの水平精
度を矯正する場合、露光作業中のワークの位置決め作業
時に撮像手段が撮像するフォトマスクの位置決めマーク
から、フォトマスクの水平精度が検出できる。したがっ
て、露光作業中のフォトマスクの水平精度が維持でき
る。
【図１】この発明のフォトマスクの水平精度の矯正装置
を示す原理図である。
を示す原理図である。
【図２】この発明のフォトマスクの水平精度の矯正装置
を示す原理図である。
を示す原理図である。
【図３】従来のフォトマスク水平精度の矯正機構を示す
側面図である。
側面図である。
【図４】従来のフォトマスク水平精度の矯正機構を示す
側面図である。
側面図である。
１、１０ 矯正装置 ２、１１ 囲繞部 ２ｂ，１１ｂ 透光板 ３、１２ 圧力調整手段 ４、１３ 撮像手段 ５、１４ 制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 (72)発明者 渡 部 國 輝 東京都調布市調布ケ丘３丁目34番１号 株 式会社オーク製作所内
Claims (4)
- 【請求項１】紫外線を照射してワークに所定のパターン
を露光するフォトマスクの水平精度の矯正装置であっ
て、 前記フォトマスクの少なくとも２個所に位置決めマーク
が設けられ、このフォトマスクの少なくとも一面側を空
密に保持する囲繞部と、この囲繞部内の圧力を調整する
圧力調整手段と、前記フォトマスクの位置決めマークを
撮像する撮像手段と、この撮像手段からの撮像情報を処
理し前記圧力調整手段を制御する制御部とから構成さ
れ、 前記囲繞部は、フォトマスクと対面する位置に透光板を
設けたことを特徴とするフォトマスクの撓み矯正装置。 - 【請求項２】前記囲繞部内の圧力を調整する圧力媒体の
冷却手段を、その圧力媒体の経路内に備えると共に、前
記フォトマスクが所定温度になったときに前記冷却手段
を作動させる冷却作動手段をフォトマスクの近傍に備え
る請求項１に記載のフォトマスクの撓み矯正装置。 - 【請求項３】上下のフォトマスクのそれぞれの位置決め
マークの比較か、フォトマスクの位置決めマークおよび
ワークの各位置決めマークとの比較のうち、少なくとも
一方の比較が撮像手段および制御部により行われ、各位
置決めマークが一致しない場合は、前記制御部を介して
前記圧力調整手段を作動させ、前記囲繞部内の圧力を調
整することを特徴とするフォトマスクの撓み矯正方法。 - 【請求項４】フォトマスクの少なくとも２個所に設けた
位置決めマークを撮像手段により撮像して位置決めマー
ク間の距離を測定し、あらかじめ制御部に入力されてい
る基準値と比較して適正距離の是非を検出する第一工程
と、 前記第一工程の結果、適正距離で無かった場合、前記制
御部が圧力調整手段を作動させて前記囲繞部内の圧力を
調整する第２工程と、 前記撮像手段によりフォトマスクの位置決めマークの位
置を測定し、基準値と比較して適正距離であれば次作業
に、適正距離で無ければ前記第２工程から繰り返すこと
を特徴とするフォトマスクの撓み矯正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6010668A JPH07219212A (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | フォトマスクの撓み矯正装置およびその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6010668A JPH07219212A (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | フォトマスクの撓み矯正装置およびその方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07219212A true JPH07219212A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=11756631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6010668A Pending JPH07219212A (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | フォトマスクの撓み矯正装置およびその方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07219212A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003015310A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 |
| JP2004226897A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法及び露光装置 |
| JP2006010860A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Dainippon Printing Co Ltd | マスクの撓み補正装置 |
| JP2007048823A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Nikon Corp | 位置検出装置、アライメント装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
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| JP2021099410A (ja) * | 2019-12-20 | 2021-07-01 | キヤノン株式会社 | 保持装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
-
1994
- 1994-02-01 JP JP6010668A patent/JPH07219212A/ja active Pending
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