JP2001109160A - 基板露光装置におけるマスク撓み補正機構 - Google Patents
基板露光装置におけるマスク撓み補正機構Info
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- JP2001109160A JP2001109160A JP28783399A JP28783399A JP2001109160A JP 2001109160 A JP2001109160 A JP 2001109160A JP 28783399 A JP28783399 A JP 28783399A JP 28783399 A JP28783399 A JP 28783399A JP 2001109160 A JP2001109160 A JP 2001109160A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板露光装置におけるマスク撓み補正機構に
おいて、サイズが大型化したマスクの自重による撓みを
簡単に補正することを可能とする。 【解決手段】 ガラス基板３を上面に保持する露光チャ
ック１と、上記ガラス基板３の上方からパターンを転写
するマスク２を上面に保持するマスクホルダ４とを備
え、上記マスク２とガラス基板３との間に所定の微少間
隔をあけてマスク２上方から光を照射してガラス基板３
にパターンを形成する基板露光装置において、上記マス
クホルダ４は、マスク２の対向する両側二辺だけを保持
するように対向する二つのホルダ部材５ａ，５ｂで構成
し、このマスクホルダ４に保持されるマスク２の両側二
辺の縁部を上方から押圧してマスク２の撓みを補正する
マスク押え部７ａ，７ｂを設けたものである。これによ
り、サイズが大型化したマスク２の自重による撓みを簡
単に補正することができる。
おいて、サイズが大型化したマスクの自重による撓みを
簡単に補正することを可能とする。 【解決手段】 ガラス基板３を上面に保持する露光チャ
ック１と、上記ガラス基板３の上方からパターンを転写
するマスク２を上面に保持するマスクホルダ４とを備
え、上記マスク２とガラス基板３との間に所定の微少間
隔をあけてマスク２上方から光を照射してガラス基板３
にパターンを形成する基板露光装置において、上記マス
クホルダ４は、マスク２の対向する両側二辺だけを保持
するように対向する二つのホルダ部材５ａ，５ｂで構成
し、このマスクホルダ４に保持されるマスク２の両側二
辺の縁部を上方から押圧してマスク２の撓みを補正する
マスク押え部７ａ，７ｂを設けたものである。これによ
り、サイズが大型化したマスク２の自重による撓みを簡
単に補正することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マスク上方から光
を照射してガラス基板にパターンを形成する基板露光装
置において上記マスクの撓みを補正するマスク撓み補正
機構に関し、特に、サイズが大型化したマスクの自重に
よる撓みを簡単に補正することができるマスク撓み補正
機構に関する。
を照射してガラス基板にパターンを形成する基板露光装
置において上記マスクの撓みを補正するマスク撓み補正
機構に関し、特に、サイズが大型化したマスクの自重に
よる撓みを簡単に補正することができるマスク撓み補正
機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の基板露光装置は、ガラス基板を上
面に保持する露光チャックと、上記ガラス基板の上方か
らパターンを転写するマスクを上面に保持するマスクホ
ルダとを備え、上記マスクとガラス基板との間に所定の
微少間隔（プロキシミティギャップ）をあけてマスク上
方から光を照射してガラス基板にパターンを形成するよ
うになっていた。そして、上記マスクホルダは、平面視
で例えば矩形の枠状になっており、この矩形の枠状の上
面にマスクを載置し、該マスクホルダの上面部に設けら
れた真空吸着機構によりマスクに対して全周方向で吸着
保持していた。
面に保持する露光チャックと、上記ガラス基板の上方か
らパターンを転写するマスクを上面に保持するマスクホ
ルダとを備え、上記マスクとガラス基板との間に所定の
微少間隔（プロキシミティギャップ）をあけてマスク上
方から光を照射してガラス基板にパターンを形成するよ
うになっていた。そして、上記マスクホルダは、平面視
で例えば矩形の枠状になっており、この矩形の枠状の上
面にマスクを載置し、該マスクホルダの上面部に設けら
れた真空吸着機構によりマスクに対して全周方向で吸着
保持していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような基
板露光装置におけるマスクの保持では、マスクのサイズ
が大型化すると、マスクホルダによって全周方向で吸着
保持されたマスクは、その中央部分が自重によって下方
に撓むものであった。このようにマスクが下方に撓む
と、ガラス基板との間の所定の微少間隔が場所によって
一定ではなくなり、マスクパターンを平行光によってガ
ラス基板上に転写することができなくなって、正確なパ
ターンが形成できなくなるものであった。したがって、
ガラス基板へのパターン焼付けの精度が低下することが
あった。これに対して、従来の基板露光装置では、マス
クとガラス基板との間のエア圧を加圧してマスクの撓み
を補正しようとしたものはあるが、構造が複雑かつ大掛
かりとなり、簡単にマスクの撓みを補正することはでき
なかった。
板露光装置におけるマスクの保持では、マスクのサイズ
が大型化すると、マスクホルダによって全周方向で吸着
保持されたマスクは、その中央部分が自重によって下方
に撓むものであった。このようにマスクが下方に撓む
と、ガラス基板との間の所定の微少間隔が場所によって
一定ではなくなり、マスクパターンを平行光によってガ
ラス基板上に転写することができなくなって、正確なパ
ターンが形成できなくなるものであった。したがって、
ガラス基板へのパターン焼付けの精度が低下することが
あった。これに対して、従来の基板露光装置では、マス
クとガラス基板との間のエア圧を加圧してマスクの撓み
を補正しようとしたものはあるが、構造が複雑かつ大掛
かりとなり、簡単にマスクの撓みを補正することはでき
なかった。
【０００４】そこで、本発明は、このような問題点に対
処し、サイズが大型化したマスクの自重による撓みを簡
単に補正することができる基板露光装置におけるマスク
撓み補正機構を提供することを目的とする。
処し、サイズが大型化したマスクの自重による撓みを簡
単に補正することができる基板露光装置におけるマスク
撓み補正機構を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるマスク撓み補正機構は、ガラス基板を
上面に保持する露光チャックと、上記ガラス基板の上方
からパターンを転写するマスクを上面に保持するマスク
ホルダとを備え、上記マスクとガラス基板との間に所定
の微少間隔をあけてマスク上方から光を照射してガラス
基板にパターンを形成する基板露光装置において、上記
マスクホルダは、マスクの対向する両側二辺だけを保持
するように対向する二つのホルダ部材で構成し、このマ
スクホルダに保持されるマスクの両側二辺の縁部を上方
から押圧してマスクの撓みを補正するマスク押え部を設
けたものである。
に、本発明によるマスク撓み補正機構は、ガラス基板を
上面に保持する露光チャックと、上記ガラス基板の上方
からパターンを転写するマスクを上面に保持するマスク
ホルダとを備え、上記マスクとガラス基板との間に所定
の微少間隔をあけてマスク上方から光を照射してガラス
基板にパターンを形成する基板露光装置において、上記
マスクホルダは、マスクの対向する両側二辺だけを保持
するように対向する二つのホルダ部材で構成し、このマ
スクホルダに保持されるマスクの両側二辺の縁部を上方
から押圧してマスクの撓みを補正するマスク押え部を設
けたものである。
【０００６】また、上記マスクホルダの各ホルダ部材の
上面の外側縁部にはその長手方向に延びる段差を形成
し、この段差を利用して上記マスク押え部でマスクホル
ダに保持されるマスクの両側二辺の縁部を上方から押圧
するものである。
上面の外側縁部にはその長手方向に延びる段差を形成
し、この段差を利用して上記マスク押え部でマスクホル
ダに保持されるマスクの両側二辺の縁部を上方から押圧
するものである。
【０００７】さらに、上記マスク押え部のマスクに対す
る押圧力は、マスクの撓み量に応じて任意に可変とした
ものである。
る押圧力は、マスクの撓み量に応じて任意に可変とした
ものである。
【０００８】さらにまた、上記マスク押え部によるマス
クの撓み補正の補正量を計測する補正量検出センサを設
けたものである。
クの撓み補正の補正量を計測する補正量検出センサを設
けたものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による基
板露光装置におけるマスク撓み補正機構の実施の形態を
示す要部説明の正面図である。このマスク撓み補正機構
は、マスク上方から光を照射してガラス基板にパターン
を形成する基板露光装置において上記マスクの撓みを補
正するものである。図１において、基板露光装置の露光
チャック１は、後述のマスク２に形成されたパターンを
転写するガラス基板３を上面に保持するもので、所定の
厚さの平板状に形成され、その上面は高い平面度に仕上
げられている。
図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による基
板露光装置におけるマスク撓み補正機構の実施の形態を
示す要部説明の正面図である。このマスク撓み補正機構
は、マスク上方から光を照射してガラス基板にパターン
を形成する基板露光装置において上記マスクの撓みを補
正するものである。図１において、基板露光装置の露光
チャック１は、後述のマスク２に形成されたパターンを
転写するガラス基板３を上面に保持するもので、所定の
厚さの平板状に形成され、その上面は高い平面度に仕上
げられている。
【００１０】上記露光チャック１の周りには、マスクホ
ルダ４が設けられている。このマスクホルダ４は、上記
ガラス基板３の上方からパターンを転写するマスク２を
上面に保持するものである。そして、図示省略したが、
上記露光チャック１の下面の３箇所にはチルト機構が配
置されており、このチルト機構を駆動して露光チャック
１を上昇又は傾けて、上記マスク２とガラス基板３との
間に所定の微少間隔（プロキシミティギャップ）をあけ
てマスク上方から光を照射してガラス基板にパターンを
形成するようになっている。
ルダ４が設けられている。このマスクホルダ４は、上記
ガラス基板３の上方からパターンを転写するマスク２を
上面に保持するものである。そして、図示省略したが、
上記露光チャック１の下面の３箇所にはチルト機構が配
置されており、このチルト機構を駆動して露光チャック
１を上昇又は傾けて、上記マスク２とガラス基板３との
間に所定の微少間隔（プロキシミティギャップ）をあけ
てマスク上方から光を照射してガラス基板にパターンを
形成するようになっている。
【００１１】ここで、本発明においては、上記マスクホ
ルダ４は、マスク２の対向する両側二辺だけを保持する
ように、対向する二つのホルダ部材５ａ，５ｂで構成さ
れている。すなわち、図２に示すように、矩形状のマス
ク２の四辺の内で対向する両側の二辺だけを保持するよ
うに、二つのホルダ部材５ａ，５ｂを対向させて平行に
設けている。この場合、上記二つのホルダ部材５ａ，５
ｂは、マスク２の対向する両側二辺だけをその上端面で
保持するようになっており、上記マスク２の両側二辺と
直交する二辺部は基準ピン６，６，…で位置決めされる
ようになっている。そして、このときは、マスク２は、
上記二つのホルダ部材５ａ，５ｂに平行な方向において
のみ、自重によって下方に撓むこととなる。
ルダ４は、マスク２の対向する両側二辺だけを保持する
ように、対向する二つのホルダ部材５ａ，５ｂで構成さ
れている。すなわち、図２に示すように、矩形状のマス
ク２の四辺の内で対向する両側の二辺だけを保持するよ
うに、二つのホルダ部材５ａ，５ｂを対向させて平行に
設けている。この場合、上記二つのホルダ部材５ａ，５
ｂは、マスク２の対向する両側二辺だけをその上端面で
保持するようになっており、上記マスク２の両側二辺と
直交する二辺部は基準ピン６，６，…で位置決めされる
ようになっている。そして、このときは、マスク２は、
上記二つのホルダ部材５ａ，５ｂに平行な方向において
のみ、自重によって下方に撓むこととなる。
【００１２】また、上記マスクホルダ４の二つのホルダ
部材５ａ，５ｂの外側面には、マスク押え部７ａ，７ｂ
が設けられている。このマスク押え部７ａ，７ｂは、上
記マスクホルダ４に保持されるマスク２の両側二辺の縁
部を上方から押圧して該マスク２の自重による撓みを補
正するもので、図２に示すように、マスク２の対向する
両側二辺の長手方向に沿って設けられている。
部材５ａ，５ｂの外側面には、マスク押え部７ａ，７ｂ
が設けられている。このマスク押え部７ａ，７ｂは、上
記マスクホルダ４に保持されるマスク２の両側二辺の縁
部を上方から押圧して該マスク２の自重による撓みを補
正するもので、図２に示すように、マスク２の対向する
両側二辺の長手方向に沿って設けられている。
【００１３】すなわち、図３に示すように、ホルダ部材
５ａの両側部に設けられた二つの駆動シリンダ８と、こ
の駆動シリンダ８から伸びるロッド９，１０，１１と、
上記ホルダ部材５ａの両側端部に設けられロッド１１の
上昇下降を案内する二つのガイドブロック１２と、両側
端部に位置する二つのロッド１１を橋渡しする細長板状
の連結部材１３と、この連結部材１３の上面に所定間隔
で設けられた複数の押え部材１４とから成る。
５ａの両側部に設けられた二つの駆動シリンダ８と、こ
の駆動シリンダ８から伸びるロッド９，１０，１１と、
上記ホルダ部材５ａの両側端部に設けられロッド１１の
上昇下降を案内する二つのガイドブロック１２と、両側
端部に位置する二つのロッド１１を橋渡しする細長板状
の連結部材１３と、この連結部材１３の上面に所定間隔
で設けられた複数の押え部材１４とから成る。
【００１４】そして、図３において、二つの駆動シリン
ダ８の動作によりロッド９が矢印Ａ，Ｂのように上昇下
降すると、これに連結されたロッド１１が矢印Ｃ，Ｄの
ように上昇下降し、さらに二つのガイドブロック１２を
介して連結部材１３の全体が矢印Ｅ，Ｆのように上昇下
降する。このとき、図１において、上記連結部材１３の
上面に設けられた押え部材１４の先端部１５が矢印Ｆの
ように下降することにより、該先端部１５でマスク２の
対向する両側二辺の外側の縁部を上方から押圧する。こ
れにより、例えば図４において二点鎖線で示すように自
重で中央部分が下方に撓んだ（例えば撓み量３００μm
程度）マスク２を、上記押え部材１４の先端部１５の押
圧力で中央部分を持ち上げて上記撓みと相殺し、全体と
して略平らになるように撓みを補正する。
ダ８の動作によりロッド９が矢印Ａ，Ｂのように上昇下
降すると、これに連結されたロッド１１が矢印Ｃ，Ｄの
ように上昇下降し、さらに二つのガイドブロック１２を
介して連結部材１３の全体が矢印Ｅ，Ｆのように上昇下
降する。このとき、図１において、上記連結部材１３の
上面に設けられた押え部材１４の先端部１５が矢印Ｆの
ように下降することにより、該先端部１５でマスク２の
対向する両側二辺の外側の縁部を上方から押圧する。こ
れにより、例えば図４において二点鎖線で示すように自
重で中央部分が下方に撓んだ（例えば撓み量３００μm
程度）マスク２を、上記押え部材１４の先端部１５の押
圧力で中央部分を持ち上げて上記撓みと相殺し、全体と
して略平らになるように撓みを補正する。
【００１５】なお、上記押え部材１４の先端部１５は、
その押圧によりマスク２の表面を傷めないようにベアリ
ング形状の樹脂などから成る。また、上記マスク押え部
７ａ，７ｂのマスク２に対する押圧力は、マスク２の撓
み量に応じて任意に可変とすればよい。
その押圧によりマスク２の表面を傷めないようにベアリ
ング形状の樹脂などから成る。また、上記マスク押え部
７ａ，７ｂのマスク２に対する押圧力は、マスク２の撓
み量に応じて任意に可変とすればよい。
【００１６】図４は本発明の第二の実施形態を示す要部
説明図である。この実施形態は、上記マスクホルダ４の
各ホルダ部材５ａ，５ｂの上面の外側縁部にその長手方
向に延びる段差１６を形成し、この段差１６を利用して
上記マスク押え部７ａ，７ｂでマスクホルダ４に保持さ
れるマスク２の両側二辺の縁部を上方から押圧するもの
である。すなわち、上記各ホルダ部材５ａ，５ｂの内側
の縁部を支点として梃子の原理でマスク２の縁部に力を
加えることができるように、各ホルダ部材５ａ，５ｂの
外側縁部を切り欠いたものである。
説明図である。この実施形態は、上記マスクホルダ４の
各ホルダ部材５ａ，５ｂの上面の外側縁部にその長手方
向に延びる段差１６を形成し、この段差１６を利用して
上記マスク押え部７ａ，７ｂでマスクホルダ４に保持さ
れるマスク２の両側二辺の縁部を上方から押圧するもの
である。すなわち、上記各ホルダ部材５ａ，５ｂの内側
の縁部を支点として梃子の原理でマスク２の縁部に力を
加えることができるように、各ホルダ部材５ａ，５ｂの
外側縁部を切り欠いたものである。
【００１７】この場合は、特に、マスク２の横幅がホル
ダ部材５ａ，５ｂの間隔と同一か、或いはそれよりも狭
いときであっても、マスク押え部７ａ，７ｂの押え部材
１４の先端部１５でマスク２の両側二辺の縁部を上方か
ら押圧して、二点鎖線で示すように自重で中央部分が下
方に撓んだマスク２を、上記押え部材１４の先端部１５
の押圧力で中央部分を持ち上げて上記撓みと相殺し、全
体として平らになるように撓みを補正することができ
る。
ダ部材５ａ，５ｂの間隔と同一か、或いはそれよりも狭
いときであっても、マスク押え部７ａ，７ｂの押え部材
１４の先端部１５でマスク２の両側二辺の縁部を上方か
ら押圧して、二点鎖線で示すように自重で中央部分が下
方に撓んだマスク２を、上記押え部材１４の先端部１５
の押圧力で中央部分を持ち上げて上記撓みと相殺し、全
体として平らになるように撓みを補正することができ
る。
【００１８】図５は本発明の第三の実施形態を示す要部
説明図である。この実施形態は、上記マスク押え部７
ａ，７ｂによるマスク２の撓み補正の補正量を計測する
補正量検出センサ１７を設けたものである。すなわち、
マスク２の横幅方向の中心位置に、マスク２とガラス基
板３との間のギャップＬを検出するギャップセンサを上
記補正量検出センサ１７として設けるものである。そし
て、補正量検出センサ１７からレーザ光をギャップ検出
位置に投影し、マスク２下面とガラス基板３表面とで反
射した光を検出してギャップＬを求め、所定のプロキシ
ミティギャップとの差がどの程度あるかにより補正量を
計測する。
説明図である。この実施形態は、上記マスク押え部７
ａ，７ｂによるマスク２の撓み補正の補正量を計測する
補正量検出センサ１７を設けたものである。すなわち、
マスク２の横幅方向の中心位置に、マスク２とガラス基
板３との間のギャップＬを検出するギャップセンサを上
記補正量検出センサ１７として設けるものである。そし
て、補正量検出センサ１７からレーザ光をギャップ検出
位置に投影し、マスク２下面とガラス基板３表面とで反
射した光を検出してギャップＬを求め、所定のプロキシ
ミティギャップとの差がどの程度あるかにより補正量を
計測する。
【００１９】この場合は、上記補正量検出センサ１７に
より、必要なマスク２の撓み補正の補正量を計測するこ
とができる。そして、この計測した補正量がゼロになる
ように図３に示すマスク押え部７ａ，７ｂの駆動シリン
ダ８の動作を制御することにより、上記マスク２の撓み
を正しく補正して全体として平らになるようにすること
ができる。
より、必要なマスク２の撓み補正の補正量を計測するこ
とができる。そして、この計測した補正量がゼロになる
ように図３に示すマスク押え部７ａ，７ｂの駆動シリン
ダ８の動作を制御することにより、上記マスク２の撓み
を正しく補正して全体として平らになるようにすること
ができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明は以上のように構成されたので、
マスクホルダを、マスクの対向する両側二辺だけを保持
するように対向する二つのホルダ部材で構成し、このマ
スクホルダに保持されるマスクの両側二辺の縁部を上方
から押圧してマスクの撓みを補正するマスク押え部を設
けたことにより、サイズが大型化したマスクの自重によ
る撓みを簡単に補正することができる。これにより、マ
スクとガラス基板との間の所定の微少間隔を略一定とす
ることができ、マスクパターンを平行光によってガラス
基板上に転写して正確なパターンを形成できる。したが
って、ガラス基板へのパターン焼付けの精度を向上する
ことができる。
マスクホルダを、マスクの対向する両側二辺だけを保持
するように対向する二つのホルダ部材で構成し、このマ
スクホルダに保持されるマスクの両側二辺の縁部を上方
から押圧してマスクの撓みを補正するマスク押え部を設
けたことにより、サイズが大型化したマスクの自重によ
る撓みを簡単に補正することができる。これにより、マ
スクとガラス基板との間の所定の微少間隔を略一定とす
ることができ、マスクパターンを平行光によってガラス
基板上に転写して正確なパターンを形成できる。したが
って、ガラス基板へのパターン焼付けの精度を向上する
ことができる。
【００２１】また、マスクホルダの各ホルダ部材の上面
の外側縁部にはその長手方向に延びる段差を形成し、こ
の段差を利用してマスク押え部でマスクホルダに保持さ
れるマスクの両側二辺の縁部を上方から押圧するものに
おいては、特に、マスクの横幅がホルダ部材の間隔と同
一か、或いはそれよりも狭いときであっても、自重で下
方に撓んだマスクの中央部分を持ち上げてその撓みと相
殺し、全体として平らになるように撓みを補正すること
ができる。
の外側縁部にはその長手方向に延びる段差を形成し、こ
の段差を利用してマスク押え部でマスクホルダに保持さ
れるマスクの両側二辺の縁部を上方から押圧するものに
おいては、特に、マスクの横幅がホルダ部材の間隔と同
一か、或いはそれよりも狭いときであっても、自重で下
方に撓んだマスクの中央部分を持ち上げてその撓みと相
殺し、全体として平らになるように撓みを補正すること
ができる。
【００２２】さらに、マスク押え部のマスクに対する押
圧力を、マスクの撓み量に応じて任意に可変としたもの
においては、マスクに対して適切な押圧力で撓み補正を
することができる。
圧力を、マスクの撓み量に応じて任意に可変としたもの
においては、マスクに対して適切な押圧力で撓み補正を
することができる。
【００２３】さらにまた、マスク押え部によるマスクの
撓み補正の補正量を計測する補正量検出センサを設けた
ものにおいては、必要なマスクの撓み補正の補正量を計
測することができ、この計測した補正量がゼロになるよ
うにマスク押え部の動作を制御することにより、上記マ
スクの撓みを正しく補正して全体として平らになるよう
にすることができる。
撓み補正の補正量を計測する補正量検出センサを設けた
ものにおいては、必要なマスクの撓み補正の補正量を計
測することができ、この計測した補正量がゼロになるよ
うにマスク押え部の動作を制御することにより、上記マ
スクの撓みを正しく補正して全体として平らになるよう
にすることができる。
【図１】本発明による基板露光装置におけるマスク撓み
補正機構の実施の形態を示す要部説明の正面図である。
補正機構の実施の形態を示す要部説明の正面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】図１の右側面図である。
【図４】本発明の第二の実施形態を示す要部説明図であ
る。
る。
【図５】本発明の第三の実施形態を示す要部説明図であ
る。
る。
１…露光チャック ２…マスク ３…ガラス基板 ４…マスクホルダ ５ａ，５ｂ…ホルダ部材 ７ａ，７ｂ…マスク押え部 ８…駆動シリンダ ９，１０，１１…ロッド １２…ガイドブロック １３…連結部材 １４…押え部材 １５…先端部 １６…段差 １７…補正量検出センサ
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラス基板を上面に保持する露光チャッ
クと、上記ガラス基板の上方からパターンを転写するマ
スクを上面に保持するマスクホルダとを備え、上記マス
クとガラス基板との間に所定の微少間隔をあけてマスク
上方から光を照射してガラス基板にパターンを形成する
基板露光装置において、上記マスクホルダは、マスクの
対向する両側二辺だけを保持するように対向する二つの
ホルダ部材で構成し、このマスクホルダに保持されるマ
スクの両側二辺の縁部を上方から押圧してマスクの撓み
を補正するマスク押え部を設けたことを特徴とするマス
ク撓み補正機構。 - 【請求項２】 上記マスクホルダの各ホルダ部材の上面
の外側縁部にはその長手方向に延びる段差を形成し、こ
の段差を利用して上記マスク押え部でマスクホルダに保
持されるマスクの両側二辺の縁部を上方から押圧するこ
とを特徴とする請求項１記載のマスク撓み補正機構。 - 【請求項３】 上記マスク押え部のマスクに対する押圧
力は、マスクの撓み量に応じて任意に可変としたことを
特徴とする請求項１又は２記載のマスク撓み補正機構。 - 【請求項４】 上記マスク押え部によるマスクの撓み補
正の補正量を計測する補正量検出センサを設けたことを
特徴とする請求項１，２又は３記載のマスク撓み補正機
構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28783399A JP3626888B2 (ja) | 1999-10-08 | 1999-10-08 | 基板露光装置におけるマスク撓み補正機構及びマスク撓み補正方法並びにパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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