JPWO2008102678A1 - 含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体およびその製造方法、並びに該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用して得られる含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体およびその製造方法。 - Google Patents

Abstract

含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体およびその製造法、並びに該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用して得られる含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体およびその製造方法を提供する。含フッ素アシル誘導体とアミノアクリロニトリル誘導体から含フッ素アシルアクリロニトリル誘導体を調製した後に、ヒドラジン誘導体と反応させることにより、下記一般式（１）【化１】（式中、Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基等を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基等を表す。）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を製造する。また、一般式（１）で表される化合物と水とを反応させることで、含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体を製造する。

Description

本発明は、含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体およびその製造方法、並びに該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用して得られる含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体およびその製造方法に関する。

含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を含む化合物群は医薬及び農薬分野における有効な生理活性物質となりうることが知られている。更にシアノ基は、カルボン酸、アミノメチル基、アミノカルボニル基、アルコキシイミドイル基等の多様な官能基に変換できるために、該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体は該分野における有用な製造中間体にもなりうる。従って、新規な該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体及びその製造方法を提供することは重要であり、様々な技術開発が行われてきた。

以下に代表的な先行技術例を示す。
（１）［ビス（トリフルオロアセトキシ）ヨード］ベンゼンとヨウ素を使用してトリフルオロメチルピラゾール誘導体をヨウ素化した後に、シアン化銅にてシアノ基を導入する方法（例えば、特許文献１参照）。
（２）ヴィルスマイヤー試薬にてトリフルオロメチルピラゾール誘導体にホルミル基を導入した後に、ヒドロキシルアミン、続くオキシ塩化リンと反応させてピラゾールカルボニトリル誘導体を合成する方法（例えば、特許文献２参照）。
国際公開第０５／０５６０１５号パンフレット 特開平８−２０８６２０号公報

しかしながら、（１）の方法に関しては、［ビス（トリフルオロアセトキシ）ヨード］ベンゼンやシアン化銅等の試剤は安全上好ましくなく、銅のような遷移金属類は廃棄上の問題がある。さらに、トリフルオロメチル源からの工程数も多く、工業的生産には適していない。（２）についても同様の問題を抱えている。安全上問題となる試剤としてヒドロキシルアミンを、廃棄上問題となる試剤としてオキシ塩化リンを使用しており、また工程数も多い。さらに、大量合成には不向きなシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を必要とする。

本発明は、新規含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体、および簡便かつ工業的規模での実施が可能な該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法、並びに該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を用いた含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法および新規含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体を提供することを課題とする。

前記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、含フッ素アシル誘導体とアミノアクリロニトリル誘導体から２−含フッ素アシル−３−アミノアクリロニトリル誘導体を調製した後に、ヒドラジン誘導体と反応させることにより、目的とする含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を製造できることを見出した。この方法は、１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルのような新規ピラゾールカルボニトリル誘導体を効率よく供給することを可能にした。さらに、該新規ピラゾールカルボニトリル誘導体は、農園芸用殺菌剤等の重要な原料となる１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸に収率良く変換できるために、非常に有用な製造中間体であることが判明した。以上により、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は以下のとおりである。
＜１＞ 下記一般式（１）（化１）

（式中、Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリールアルキル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基を表す。）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体である。
＜２＞ 一般式（１）中、Ｒ２は水素原子を表す、前記＜１＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体である。
＜３＞ 一般式（１）中、Ｒｆは、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表す、前記＜２＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体である。
＜４＞ 下記一般式（１）（化２）

（式中、Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリールアルキル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表す。）で表される化合物と水とを反応させる工程を含む、下記一般式（２）（化３）

（式中、Ｒｆ、Ｒ１及びＲ２は前記と同義である。）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜５＞ 一般式（１）および一般式（２）で表される化合物中、Ｒ２は水素原子を表す、前記＜４＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜６＞ 一般式（１）および一般式（２）で表される化合物中、Ｒｆはトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表す、前記＜５＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜７＞ 下記一般式（３）（化４）

（式中、Ｒｆ、Ｒ２は前記＜４＞に記載のものと同義であり、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基、もしくは炭素数１〜６の置換されてもよいアシル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。）で表される化合物と、下記一般式（４）（化５）

（式中、Ｒ１は前記＜４＞に記載のものと同義である。）で表される化合物とから一般式（１）で表される化合物を製造する工程を更に含む、前記＜４＞に記載の一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜８＞ 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒ２は水素原子を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す前記＜７＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜９＞ 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒｆはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４は、ともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群を表す、前記＜８＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜１０＞ 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒｆがジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はともにメチル基を表す、前記＜８＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜１１＞ 下記一般式（５）（化６）

（式中、Ｒｆは前記＜７＞に記載のものと同義であり、Ｘはハロゲン原子、水酸基、またはカルボニルオキシ基を表す。）で表される化合物と、下記一般式（６）（化７）

（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は前記＜７＞に記載のものと同義である。）で表される化合物とから一般式（３）で表される化合物を製造する工程を更に含む、前記＜７＞に記載の一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜１２＞ 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒ２は水素原子を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、もしくは、炭素数３〜６のシクロアルキル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環構造を形成するのに必要な原子群を表し、Ｘはハロゲン原子、水酸基、または−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒｆを表す、前記＜１１＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜１３＞ 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒｆがトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４は、ともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群を表す前記＜１２＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜１４＞ 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒｆがジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はともにメチル基を表す前記＜１２＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法である。
＜１５＞ 下記一般式（３）（化８）

（式中、Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基、もしくは炭素数１〜６の置換されてもよいアシル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。）で表される化合物と、下記一般式（４）（化９）

（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表す。）で表される化合物とを反応させる工程を含む、下記一般式（１）（化１０）

（式中、Ｒｆ、Ｒ１、Ｒ２は前記と同義である。）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法である。
＜１６＞ 一般式（１）、一般式（３）および一般式（４）中、Ｒ２は水素原子を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す、前記＜１５＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法である。
＜１７＞ 一般式（１）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒｆはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４は、ともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群を表す前記＜１６＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法である。
＜１８＞ 一般式（１）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒｆがジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はともにメチル基を表す前記＜１６＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法である。
＜１９＞ 下記一般式（５）（化１１）

（式中、Ｒｆは前記＜１５＞に記載のものと同義であり、Ｘはハロゲン原子、水酸基、またはカルボニルオキシ基を表す。）で表される化合物と、下記一般式（６）（化１２）

（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は前記＜１５＞に記載のものと同義である）で表される化合物とから一般式（３）で表される化合物を製造する工程を更に含む、前記＜１５＞に記載の一般式（１）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法である。
＜２０＞ 一般式（１）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒ２は水素原子を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、もしくは、炭素数３〜６のシクロアルキル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環構造を形成するのに必要な原子群を表し、Ｘはハロゲン原子、水酸基、または−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒｆを表す、前記＜１９＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル酸誘導体の製造方法。
＜２１＞ 一般式（１）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒｆはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４は、ともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群を表す、前記＜２０＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法である。
＜２２＞ 一般式（１）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒｆはジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はともにメチル基を表す、前記＜２０＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
＜２３＞ 下記一般式（２）（化１３）

（式中、Ｒｆは、炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ２は水素原子を表す。）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体である。
＜２４＞ 一般式（２）中、Ｒｆは、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表す、前記＜２３＞に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体である。

本発明によれば、新規含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体、および簡便かつ工業的規模での実施が可能な該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法、並びに該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を用いた含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法および新規含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体を提供することができる。

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。

以下、下記一般式（１）で表される化合物の説明を記載する。

一般式（１）中のＲｆにおける炭素数１〜６のアルキル基は直鎖アルキル基であっても分岐アルキル基であってもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の直鎖状のものや、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基等の分岐したものを表す。

一般式（１）中のＲｆは、前記炭素数１〜６のアルキル基が少なくとも１つのフッ素原子で置換されていればよい。具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ノナフルオロブチル基等のペルフルオロアルキル基であっても、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基等の水素原子を有するフルオロアルキル基であっても、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基等のフッ素原子と他のハロゲン原子とを有するフルオロアルキル基であってもよい。

本発明においてＲｆは、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、およびヘプタフルオロプロピル基から選ばれるフルオロアルキル基であることが好ましく、トリフルオロメチル基であることがより好ましい。

一般式（１）中のＲ１における炭素数１〜６のアルキル基は、Ｒｆにおける炭素数１〜６のアルキル基と同義である。

一般式（１）中のＲ１における炭素数３〜６のシクロアルキル基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を表す。

一般式（１）中のＲ１における置換されてもよいアリールアルキル基の置換基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘキサフルオロプロピル基、ヘキサフルオロイソプロピル基、トリフルオロエチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、モノフルオロメチル基等のハロゲン置換アルキル基；フェニル基等のアリール基；ベンジル基等のアリールアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基；シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等のシクロアルコキシ基；トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロエトキシ基、トリクロロエトキシ基等のハロゲン置換アルコキシ基；フェノキシ基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基等のアリールアルキルオキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；シクロプロポキシカルボニル基、シクロブトキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等のシクロアルコキシカルボニル基；トリフルオロメトキシカルボニル基、ジフルオロメトキシカルボニル基、トリフルオロエトキシカルボニル基、トリクロロエトキシカルボニル基等のハロゲン置換アルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基；ベンジルオキシカルボニル基等のアリールアルキルオキシカルボニル基；メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等のアルキルチオ基；シクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等のシクロアルキルチオ基；トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロエチルチオ基等のハロゲン置換アルキルチオ基；フェニルチオ基等のアリールチオ基；ベンジルチオ基等のアリールアルキルチオ基；メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、プロパンスルフィニル基、ブタンスルフィニル基等のアルキルスルフィニル基；シクロプロパンスルフィニル基、シクロブタンスルフィニル基、シクロペンタンスルフィニル基、シクロヘキサンスルフィニル基等のシクロアルキルスルフィニル基；トリフルオロメタンスルフィニル基、ジフルオロメタンスルフィニル基、トリフルオロエタンスルフィニル基等のハロゲン置換アルキルスルフィニル基；フェニルスルフィニル基等のアリールスルフィニル基；ベンジルスルフィニル基等のアリールアルキルスルフィニル基；メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基；シクロプロパンスルホニル基、シクロブタンスルホニル基、シクロペンタンスルホニル基、シクロヘキサンスルホニル基等のシクロアルキルスルホニル基；トリフルオロメタンスルホニル基、ジフルオロメタンスルホニル基、トリフルオロエタンスルホニル基等のハロゲン置換アルキルスルホニル基；フェニルスルホニル基等のアリールスルホニル基；ベンジルスルホニル基等のアリールアルキルスルホニル基；
メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基等のアルキルカルボニル基；シクロプロピルカルボニル基、シクロブチルカルボニル基、シクロプロピルカルボニル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基等のシクロアルキルカルボニル基；トリフルオロメタンカルボニル基、ジフルオロメタンカルボニル基、トリクロロメタンカルボニル基等のハロゲン置換アルキルカルボニル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基等；メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基；シクロプロピルカルボニルオキシ基、シクロブチルカルボニルオキシ基、シクロプロピルカルボニルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基等のシクロアルキルカルボニルオキシ基；ベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基；メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、イソプロピルカルボニルアミノ基、ブチルカルボニルアミノ基、イソブチルカルボニルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ基等のアルキルカルボニルアミノ基；シクロプロピルカルボニルアミノ基、シクロブチルカルボニルアミノ基、シクロプロピルカルボニルアミノ基、シクロペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基等のシクロアルキルカルボニルアミノ基；ベンゾイルアミノ基等のアリールカルボニルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシカルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イソブトキシカルボニルアミノ基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、メトキシカルボニル（メチル）アミノ基、エトキシカルボニル（メチル）アミノ基、プロポキシカルボニル（メチル）アミノ基、イソプロポキシカルボニル（メチル）アミノ基、ブトキシカルボニル（メチル）アミノ基、イソブトキシカルボニル（メチル）アミノ基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル（メチル）アミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（メチル）アミノ基、メトキシカルボニル（エチル）アミノ基、エトキシカルボニル（エチル）アミノ基、プロポキシカルボニル（エチル）アミノ基、イソプロポキシカルボニル（エチル）アミノ基、ブトキシカルボニル（エチル）アミノ基、イソブトキシカルボニル（エチル）アミノ基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル（エチル）アミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（エチル）アミノ基等のアルコキシカルボニルアミノ基；シクロプロポキシカルボニルアミノ基、シクロブトキシカルボニルアミノ基、シクロペンチルオキシカルボニルアミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ基、シクロプロポキシカルボニル（メチル）アミノ基、シクロブトキシカルボニル（メチル）アミノ基、シクロペンチルオキシカルボニル（メチル）アミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニル（メチル）アミノ基、シクロプロポキシカルボニル（エチル）アミノ基、シクロブトキシカルボニル（エチル）アミノ基、シクロペンチルオキシカルボニル（エチル）アミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニル（エチル）アミノ基等のシクロアルコキシカルボニルアミノ基；トリフルオロメトキシカルボニルアミノ基、ジフルオロメトキシカルボニルアミノ基、トリフルオロエトキシカルボニルアミノ基、トリクロロエトキシカルボニルアミノ基、トリフルオロメトキシカルボニル（メチル）アミノ基、ジフルオロメトキシカルボニル（メチル）アミノ基、トリフルオロエトキシカルボニル（メチル）アミノ基、トリクロロエトキシカルボニル（メチル）アミノ基、トリフルオロメトキシカルボニル（エチル）アミノ基、ジフルオロメトキシカルボニル（エチル）アミノ基、トリフルオロエトキシカルボニル（エチル）アミノ基、トリクロロエトキシカルボニル（エチル）アミノ基等のハロゲン置換アルコキシカルボニルアミノ基；フェノキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニル（メチル）アミノ基、フェノキシカルボニル（エチル）アミノ基等のアリールオキシカルボニルアミノ基；ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ベンジルオキシカルボニル（メチル）アミノ基、ベンジルオキシカルボニル（エチル）アミノ基等のアリールアルキルオキシカルボニルアミノ基；
メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、プロピルアミノカルボニルオキシ基、イソプロピルアミノカルボニルオキシ基、ブチルアミノカルボニルオキシ基、イソブチルアミノカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、{エチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{プロピル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{イソプロピル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{ブチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{イソブチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、 {ｓｅｃ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{ｔｅｒｔ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{メチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、{プロピル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{イソプロピル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{ブチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{イソブチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{ｓｅｃ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{ｔｅｒｔ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基等のアルキルアミノカルボニルオキシ基；シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロブチルアミノカルボニルオキシ基、シクロペンチルアミノカルボニルオキシ基、シクロヘキシルアミノカルボニルオキシ基、{シクロプロピル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロブチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロペンチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロヘキシル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロプロピル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロブチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロペンチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロヘキシル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基等のシクロアルキルアミノカルボニルオキシ基；トリフルオロメチルアミノカルボニルオキシ基、ジフルオロメチルアミノカルボニルオキシ基、トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、トリクロロエチルアミノカルボニルオキシ基、{トリフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{ジフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{トリフルオロエチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{トリクロロエチル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{トリフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{ジフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{トリフルオロエチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{トリクロロエチル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基等のハロゲン置換アルキルアミノカルボニルオキシ基；フェニルアミノカルボニルオキシ基、{フェニル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{フェニル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基等のアリールアミノカルボニルオキシ基；ベンジルアミノカルボニルオキシ基、{ベンジル（メチル）アミノ}カルボニルオキシ基、{ベンジル（エチル）アミノ}カルボニルオキシ基等のアリールアルキルアミノカルボニルオキシ基；ピロリジノカルボニルオキシ基、ピペリジノカルボニルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基等の環状アミノカルボニルオキシ基；
メチルアミノカルボニルアミノ基、エチルアミノカルボニルアミノ基、プロピルアミノカルボニルアミノ基、イソプロピルアミノカルボニルアミノ基、ブチルアミノカルボニルアミノ基、イソブチルアミノカルボニルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニルアミノ基、ジメチルアミノカルボニルアミノ基、{エチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{プロピル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{イソプロピル（メチル）アミノ}カルボニルメチル基、{ブチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{イソブチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{ｓｅｃ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{ｔｅｒｔ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{メチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、ジエチルアミノカルボニルアミノ基、{プロピル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{イソプロピル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{ブチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{イソブチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{ｓｅｃ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{ｔｅｒｔ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、メチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、エチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、プロピルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、イソプロピルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、ブチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、イソブチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、メチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、エチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、プロピルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、イソプロピルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、ブチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、イソブチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、ジメチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、{エチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{プロピル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{イソプロピル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{ブチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{イソブチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{ｓｅｃ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{ｔｅｒｔ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、ジメチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、{エチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{プロピル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{イソプロピル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{ブチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{イソブチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{ｓｅｃ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{ｔｅｒｔ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、ジエチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、{エチル（プロピル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{エチル（イソプロピル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{ブチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{エチル（イソブチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{ｓｅｃ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{ｔｅｒｔ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、ジエチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、{エチル（プロピル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{エチル（イソプロピル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{エチル（ブチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{エチル（イソブチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{ｓｅｃ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{ｔｅｒｔ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基等のアルキルアミノカルボニルアミノ基；
シクロプロピルアミノカルボニルアミノ基、シクロブチルアミノカルボニルアミノ基、シクロペンチルアミノカルボニルアミノ基、シクロヘキシルアミノカルボニルアミノ基、{シクロプロピル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロブチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロペンチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロヘキシル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロプロピル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロブチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロペンチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロヘキシル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、シクロブチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、シクロペンチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、シクロヘキシルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、シクロブチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、シクロペンチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、シクロヘキシルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、{シクロプロピル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{シクロブチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{シクロペンチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{シクロヘキシル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{シクロプロピル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{シクロブチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{シクロペンチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{シクロヘキシル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{シクロプロピル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{シクロブチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{シクロペンチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{シクロヘキシル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{シクロプロピル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{シクロブチル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{シクロペンチル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{シクロヘキシル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基等のシクロアルキルアミノカルボニルアミノ基；
トリフルオロメチルアミノカルボニルアミノ基、ジフルオロメチルアミノカルボニルアミノ基、トリフルオロエチルアミノカルボニルアミノ基、トリクロロエチルアミノカルボニルアミノ基、{トリフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{ジフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{トリフルオロエチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{トリクロロエチル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{トリフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{ジフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{トリフルオロエチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{トリクロロエチル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、トリフルオロメチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、ジフルオロメチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、トリフルオロエチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、トリクロロエチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、トリフルオロメチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、ジフルオロメチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、トリフルオロエチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、トリクロロエチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、{トリフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{ジフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{トリフルオロエチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{トリクロロエチル（メチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{トリフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{ジフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{トリフルオロエチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{トリクロロエチル（メチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{トリフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{ジフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{トリフルオロエチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{トリクロロエチル（エチル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{トリフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{ジフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{トリフルオロエチル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{トリクロロエチル（エチル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基等のハロゲン置換アルキルアミノカルボニルアミノ基；
フェニルアミノカルボニルアミノ基、{フェニル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{フェニル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、フェニルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、フェニルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、{メチル（フェニル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{メチル（フェニル）アミノ }カルボニル（エチル）アミノ基、{エチル（フェニル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{エチル（フェニル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基等のアリールアミノカルボニルアミノ基；ベンジルアミノカルボニルアミノ基、{ベンジル（メチル）アミノ}カルボニルアミノ基、{ベンジル（エチル）アミノ}カルボニルアミノ基、ベンジルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、ベンジルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、{メチル（ベンジル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{メチル（ベンジル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基、{エチル（ベンジル）アミノ}カルボニル（メチル）アミノ基、{エチル（ベンジル）アミノ}カルボニル（エチル）アミノ基等のアリールアルキルアミノカルボニルアミノ基；ピロリジノカルボニルアミノ基、ピペリジノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基、ピロリジノカルボニル（メチル）アミノ基、ピペリジノカルボニル（メチル）アミノ基、モルホリノカルボニル（メチル）アミノ基、ピロリジノカルボニル（エチル）アミノ基、ピペリジノカルボニル（エチル）アミノ基、モルホリノカルボニル（エチル）アミノ基等の環状アミノカルボニルアミノ基；
メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、イソプロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、イソブチルアミノカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、{エチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{メチル（プロピル）アミノ}カルボニル基、{イソプロピル（メチル）アミノ}カルボニル基、{ブチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{イソブチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{ｓｅｃ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{ｔｅｒｔ−ブチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{エチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{エチル（プロピル）アミノ}カルボニル基、{エチル（イソプロピル）アミノ}カルボニル基、{ブチル（エチル）アミノ}カルボニル基、{イソブチル（エチル）アミノ}カルボニル基、{ｓｅｃ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニル基、{ｔｅｒｔ−ブチル（エチル）アミノ}カルボニル基等のアルキルアミノカルボニル基；シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロブチルアミノカルボニル基、シクロペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、{シクロプロピル（メチル）アミノ}カルボニル基、{シクロブチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{シクロペンチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{シクロヘキシル（メチル）アミノ}カルボニル基、{シクロプロピル（エチル）アミノ}カルボニル基、{シクロブチル（エチル）アミノ}カルボニル基、{シクロペンチル（エチル）アミノ}カルボニル基、{シクロヘキシル（エチル）アミノ}カルボニル基等のシクロアルキルアミノカルボニル基；トリフルオロメチルアミノカルボニル基、ジフルオロメチルアミノカルボニル基、トリフルオロエチルアミノカルボニル基、トリクロロエチルアミノカルボニル基、{トリフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{ジフルオロメチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{トリフルオロエチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{トリクロロエチル（メチル）アミノ}カルボニル基、{トリフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニル基、{ジフルオロメチル（エチル）アミノ}カルボニル基、{トリフルオロエチル（エチル）アミノ}カルボニル基、{トリクロロエチル（エチル）アミノ}カルボニル基等のハロゲン置換アルキルアミノカルボニル基；フェニルアミノカルボニル基、{フェニル（メチル）アミノ}カルボニル基、{フェニル（エチル）アミノ}カルボニル基等のアリールアミノカルボニル基；ベンジルアミノカルボニル基、{ベンジル（メチル）アミノ}カルボニル基、{ベンジル（エチル）アミノ}カルボニル基等のアリールアルキルアミノカルボニル基；ピロリジノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基等の環状アミノカルボルニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニルオキシ基、イソブトキシカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基等のアルコキシカルボニルオキシ基；シクロプロポキシカルボニルオキシ基、シクロブトキシカルボニルオキシ基、シクロペンチルオキシカルボニルオキシ基、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ基等のシクロアルコキシカルボニルオキシ基；トリフルオロメトキシカルボニルオキシ基、ジフルオロメトキシカルボニルオキシ基、トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、トリクロロエトキシカルボニルオキシ基等のハロゲン置換アルコキシカルボニルオキシ基；フェノキシカルボニルオキシ基等のアリールオキシカルボニルオキシ基；ベンジルオキシカルボニルオキシ基等のアリールアルキルオキシカルボニルオキシ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基等のアルキルアミノ基；ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基等の環状アミノ基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基等のシリルオキシ基；塩素、フッ素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基等が例示される。

前記置換基の置換位置はアリールアルキル基を構成するアリール基上であっても、アルキル部位であってもよいが、アリール基上であることが好ましい。またアリール基上の置換基数は限定されることはない。２箇所以上の置換基で置換される場合、同一もしくは２種類以上の置換基で構成されてよく、特に限定されることはない。

一般式（１）中のＲ１における置換されてもよいアリールアルキル基のアリール基とは、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナンスリル基等を表す。

一般式（１）中のＲ１における置換されてもよいアリールアルキル基のアルキル部位は、炭素数１〜４のアルキレン基を表す。

一般式（１）中のＲ２における炭素数１〜６のアルキル基は、Ｒｆにおける炭素数１〜６のアルキル基と同義である。

一般式（１）中のＲ２における炭素数３〜６のシクロアルキル基とは、Ｒ１における炭素数３〜６のシクロアルキル基と同義である。

一般式（１）中のＲ２における置換されてもよいアリール基での置換基は、Ｒ１における置換されてもよいアリールアルキル基中の置換基と同義である。

一般式（１）中のＲ２における置換されてもよいアリール基でのアリール基は、Ｒ１における置換されてもよいアリールアルキル基中のアリール基と同義である。

一般式（１）中のＲ２における置換されてもよいアリールアルキル基は、Ｒ１における置換されてもよいアリールアルキル基と同義である。

本発明における一般式（１）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体としては、Ｒ２が水素原子である化合物であることが好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆが少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜３のアルキル基である化合物がより好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆがトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基またはヘプタフルオロプロピル基であって、Ｒ１が炭素数１〜６のアルキル基である化合物がより好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆがトリフルオロメチル基であって、Ｒ１が炭素数１〜６のアルキル基である化合物が更に好ましい。

以下、下記一般式（２）で表される化合物の説明を記載する。

一般式（２）におけるＲｆは、一般式（１）におけるＲｆと同義である。

一般式（２）におけるＲ１は、一般式（１）におけるＲ１と同義である。

一般式（２）におけるＲ２は、一般式（１）におけるＲ２と同義である。

本発明の上記一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法は、一般式（１）で表される化合物と水とを反応させる工程を含むものである。かかる製造方法であることによって、一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体を、簡便かつ収率良く製造することができる。

また、本発明の一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法は、必要に応じて、一般式（１）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造工程、後処理工程、精製工程等をさらに含むことができる。

以下、一般式（１）で表される化合物と水とを反応させて、一般式（２）で表される化合物に変換する加水分解反応について記載する。

加水分解反応を進行させるためには、酸もしくは塩基を用いることが好ましい。

先ず、酸性条件下で、一般式（１）で表される化合物と水とを反応させて、一般式（２）で表される化合物に変換する加水分解反応について記載する。

水の使用量は、一般式（１）で表される化合物に対して２当量以上あれば、特に限定されることはない。また、水は溶媒としても利用することできる。溶媒としての使用量は、前記の当量数を満たしていれば特に限定されることはない。通常、その上限は一般式（１）で表される化合物に対して４０倍以下の重量とすることができる。

使用する酸は、反応が進行する限りにおいて特に限定されるものではなく、有機酸、無機酸である。

有機酸の具体例として、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等のスルホン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸等が挙げられる。

無機酸の具体例として、塩酸、臭化水素酸、硫酸等が挙げられる。

酸の使用量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。通常、一般式（１）で表される化合物に対して０．１当量以上であればよい。

本発明においては溶媒を使用することができる。使用する溶媒は、酢酸等のカルボン酸系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用することもできるが、２種類以上を任意の割合で混合することも可能である。

溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式（１）で表される化合物の重量に対して、３倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

反応温度に関しては、目的とする反応が進行すれば特に制限を設けるものではないが、通常、０℃以上１５０℃以下、もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。

酸性条件下において、一般式（１）で表される化合物と水を反応させることによって得られる一般式（２）で表される化合物を含む反応混合物の後処理方法に関しては、目的物である一般式（２）で表される化合物が分解されない限りにおいて、特に制限を設けるものではない。以下、後処理方法の具体例を述べる。

反応混合物、もしくは溶媒留去した反応混合物から一般式（２）で表される化合物が析出した場合は、析出物を濾取すればよい。

反応混合物や溶媒留去した反応混合物については、分液を実施することができる。その際、必要であるならば水や有機溶媒を追加することができる。分液に使用する水は、塩化ナトリウムのような塩を含んでいてもよい。また、分液回数は特に限定されることはない。

分液に使用する有機溶媒は、一般式（２）で表される化合物が分解されない限りにおいて、特に制限されることはない。

有機溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、および酢酸ブチル等のエステル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。

有機溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式（２）で表される化合物の重量に対して１倍以上４０倍以下の重量が好ましい
分液して得られる一般式（２）で表される化合物を含む有機層を、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。

分液して得られる一般式（２）で表される化合物を含む有機層、もしくは硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水後の有機層を、減圧下で溶媒留去することによって該化合物を得ることができる。また、要求される純度に応じて、得られた該化合物を、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄、蒸留等にて精製することが可能である。

再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式（２）で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。

再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。

溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すればよく、特に制限されることはない。通常、一般式（２）で表される化合物の重量に対して１倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

次に、塩基性条件下で、一般式（１）で表される化合物と水とを反応させて、一般式（２）で表される化合物に変換する加水分解反応について記載する。

水の使用量は、一般式（１）で表される化合物に対して２当量以上あれば、特に限定されることはない。この際、水は溶媒としても利用することができる。溶媒としての使用量は、前記の当量数を満たしていれば特に限定されることはない。通常、その上限は一般式（１）で表される化合物に対して４０倍以下の重量である。

使用する塩基は、反応が進行する限りにおいて特に制限を設けるものではなく、有機塩基、無機塩基である。

有機塩基の具体例として、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、ジイソプロピルアミン等の２級アミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の３級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、および４−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等が挙げられる。

無機塩基の具体例として、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。

これらの塩基は、単独で使用することもできるし、２種類以上を任意の割合で混合することも可能である。

塩基の使用量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。通常、一般式（１）で表される化合物に対して０．１当量以上２０当量以下とすることができる。

反応には溶媒を使用することができる。使用する溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用することもできるが、２種類以上を任意の割合で混合することも可能である。

溶媒の使用量は、特に限定されることはない。通常、一般式（１）で表される化合物の重量に対して、３倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

反応温度に関しては、目的とする反応が進行すれば特に制限を設けるものではないが、通常、０℃以上１５０℃以下、もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。

塩基性条件下において、一般式（１）で表される化合物と水とを反応させることによって得られる一般式（２）で表される化合物を含む反応混合物を後処理する方法は、目的物である一般式（２）で表される化合物が分解されない限りにおいて、特に制限されることがない。以下、後処理方法の具体例を述べる。

塩基性条件下、一般式（１）で表される化合物と水とを反応させることによって得られる一般式（２）で表される化合物は、反応混合物中では塩の状態で存在する。その塩が反応混合物中で析出する場合は析出物を濾取すればよい。一方、塩が析出しない場合は、水と分離可能な有機溶媒を加えて分液することにより、不純物を除去することが可能である。分液操作の前には、減圧下で溶媒を留去したり、水もしくは塩化ナトリウムを含有するような水溶液を追加したりすることができる。

濾取して得られた塩、分液精製した反応混合物に含まれる塩、或いは未処理の反応混合物中に含まれる塩に対して、酸を加えることにより、一般式（２）で表される化合物に変換することができる。

添加する酸は、メタンスルホン酸、スルホン酸等の有機酸や、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸等が挙げられる。

酸の使用量は、反応に使用した塩基と発生するアンモニアの総和したモル数に対して１当量あれば、特に制限されることはない。

酸添加によって調製された一般式（２）で表される化合物の取り出し方法に関しては、反応混合物から該化合物が析出する場合は析出物を濾取すればよい。また、析出に関係なく、該化合物を有機溶媒で抽出することもできる。抽出した有機層を減圧下で溶媒留去することによって、該化合物が得られる。減圧留去の前には、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。こうして得られた該化合物は、要求される純度に応じて、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄、蒸留等の精製を行うことが可能である。

再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式（２）で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。

再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、水、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、およびアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。

溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すればよく、特に限定されることはない。通常、一般式（２）で表される化合物の重量に対して１倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

本発明の一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法においては、一般式（１）および一般式（２）で表される化合物中、Ｒ２が水素原子である化合物であることが好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆが少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜３のアルキル基である化合物がより好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆがトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基またはヘプタフルオロプロピル基であって、Ｒ１が炭素数１〜６のアルキル基である化合物がより好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆがトリフルオロメチル基であって、Ｒ１が炭素数１〜６のアルキル基である化合物が更に好ましい。

本発明の一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法は、下記一般式（３）で表される化合物と、下記一般式（４）で表される化合物とから、一般式（１）で表される化合物を製造する工程を更に含むことが好ましい。これにより、一般式（２）で表される化合物を、より効率的に製造することができる。

以下、一般式（１）で表される化合物の製造方法について説明する。

先ず、一般式（３）で表される化合物の説明を記載する。

一般式（３）中のＲｆは、一般式（１）におけるＲｆと同義である。

一般式（３）中のＲ２は、一般式（１）におけるＲ２と同義である。

一般式（３）中のＲ３とＲ４はそれぞれ独立している。

一般式（３）中のＲ３もしくはＲ４における炭素数１〜６のアルキル基は、一般式（１）中のＲｆにおける炭素数１〜６のアルキル基と同義である。

一般式（３）中のＲ３もしくはＲ４における炭素数３〜６のシクロアルキル基は、一般式（１）中のＲ１における炭素数３〜６のシクロアルキル基と同義である。

一般式（３）中のＲ３もしくはＲ４における置換されてもよいアリール基は、一般式（１）中のＲ２における置換されてもよいアリール基と同義である。

一般式（３）中のＲ３もしくはＲ４における置換されてもよいアリールアルキル基とは、一般式（１）中のＲ１における置換されてもよいアリールアルキル基と同義である。

一般式（３）中のＲ３もしくはＲ４における炭素数１〜６の置換されてもよいアシル基の置換基とは、一般式（１）中のＲ１における置換されてもよいアリールアルキル中の置換基と同義である。

一般式（３）中のＲ３もしくはＲ４における炭素数１〜６の置換されてもよいアシル基でのアシル基とは、ホルミル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、イソアミルカルボニル基、３−メチル−２−ブチルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルカルボニル基、ｎｅｏ−ペンチルカルボニル基、２−ペンチルカルボニル基、３−ペンチルカルボニル基等を表す。

一般式（３）中のＲ３およびＲ４は、ヘテロ原子０〜１個を含む５〜６員環構造を形成するのに必要な原子群であってもよい。５〜６員環構造の具体例としては、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基等である。

一般式（３）で表される化合物は、トランス体もしくはシス体のいずれか一方の構造である化合物、またはトランス体とシス体が任意の割合で混合した化合物でよく、その構造は限定されることはない。

一般式（３）で表される化合物は、後述する製造方法によって適宜製造したものを用いることができる。

以下、一般式（４）で表される化合物の説明を記載する。

一般式（４）中のＲ１は、一般式（１）におけるＲ１と同義である
一般式（４）で表される化合物は、市販品を使用することもできるし、公知の方法で製造したものを使用することもできる。

一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で表される化合物とを反応させることによって、一般式（１）で表される化合物を製造することができる。なお、一般式（１）で表される化合物は新規化合物である。以下に、その製造方法を説明する。

一般式（４）で表される化合物の使用量は、一般式（３）で表される化合物に対して０.９当量以上あれば特に制限されることはないが、経済的観点から０.９当量以上１０当量以下とすることができる。

一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で表される化合物の反応は、一般式（３）で表される化合物を一般式（４）で表される化合物に装入する方法、或いは、一般式（４）で表される化合物を一般式（３）で表される化合物に装入する方法のいずれでもよい。装入形態は、粉体装入、滴下等が挙げられる。この際、一般式（３）もしくは一般式（４）で表される化合物は、適当な溶媒に溶解、もしくは懸濁させて使用することが可能である。

本反応には溶媒を使用することができる。使用する溶媒は、反応が進行する限りにおいて、特に限定されることはない。使用する溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノン等のウレア系溶媒、ジメチルスルホオキシド等のスルホニルオキシド系溶媒、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。

溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式（３）で表される化合物の重量に対して、３倍以上４０倍以下の重量が好ましい
反応温度に関しては、目的とする反応が進行すれば特に制限を設けるものではないが、通常、−１０℃以上１５０℃以下、もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。

一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で表される化合物を反応させて得られる一般式（１）の化合物を含む反応混合物の後処理は、一般式（１）の化合物が分解しない限りにおいて、特に制限されることがなく実施できる。以下に後処理方法の具体例を述べる。

水と相溶しない有機溶媒と水から構成される二層系溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、分液することによって、一般式（１）で表される化合物を含む有機層を得ることができる。

水と相溶する有機溶媒と水から構成される単一系溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、減圧下で有機溶媒を留去した後に、水と分離する有機溶媒で一般式（１）で表される化合物を抽出することができる。

水と相溶しない有機溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、そのまま減圧下で溶媒を留去して、一般式（１）で表される化合物を得ることができる。もしくは、溶媒留去の前に、後述する分液操作を実施してもよい。

水と相溶する有機溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、そのまま減圧下で溶媒を留去して、一般式（１）で表される化合物を得ることができる。溶媒留去の後に、水と分離する有機溶媒と水を加えて、以下に示す分液操作を実施してもよい。この際、水は酸性水溶液、アルカリ水溶液、或いは食塩水等の水溶液に代替してもよい。

水が反応溶媒である反応混合物に関しては、一般式（１）で表される化合物が析出した際には析出物を濾取すればよい。該化合物が析出しない場合は、水と分離する有機溶媒を加えて抽出することが可能である。

一般式（１）で表される化合物を含む有機層を、水、酸性水溶液、アルカリ水溶液、或いは食塩水で洗浄することができる。洗浄回数、洗浄順序等は、該化合物が分解しないかぎりにおいて、特に限定されることはない。

洗浄に使用する酸性水溶液、アルカリ水溶液は、一般式（１）で表される化合物が分解しない限りにおいて特に制限されることはない。通常、塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸性水溶液や、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等のアルカリ水溶液が例示される。

一般式（１）で表される化合物を含む有機層を、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。

一般式（１）で表される化合物を含む有機層を、そのまま次工程の加水分解工程に使用することができる。また、減圧下で溶媒留去した後に該化合物を加水分解することも可能である。

一般式（１）で表される化合物の純度を挙げるために、蒸留、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄等を実施することができる。

再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式（１）で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。

再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。

溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すればよく、特に限定されることはない。通常、一般式（１）で表される化合物の重量に対して１倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で表される化合物を反応させる際に、一般式（１）で表される化合物の他に、下記一般式（７）（化１７）

（式中、Ｒｆ、Ｒ１及びＲ２は一般式（１）におけるＲｆ、Ｒ１及びＲ２と同義である。）で表される化合物が生成することがある。

一般式（７）で表される化合物は、分液、蒸留、再結晶、再沈殿及び溶媒洗浄等で、一般式（１）で表される化合物と分離することができる。

例えば、一般式（３）中のＲｆがトリフルオロメチル基であり、Ｒ２が水素、Ｒ３とＲ４がメチル基である化合物と一般式（４）中のＲ１がメチル基である化合物を用いて、反応温度１５℃以下、トルエンと水の混合溶媒中で反応を実施すると、一般式（１）で表される化合物と一般式（７）で表される化合物の混合物が得られる。この反応混合物は分液することによって、一般式（１）で表される化合物は主に有機層に、一般式（７）で表される化合物は主に水層に分配することができる。すなわち、簡便に一般式（１）で表される化合物を精製することが可能である。

本発明における一般式（１）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法においては、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒ２が水素原子である化合物が好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆが少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜３のアルキル基である化合物がより好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群である化合物がより好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆがトリフルオロメチル基であって、Ｒ１が炭素数１〜６のアルキル基であって、Ｒ３とＲ４はともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群である化合物が更に好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆがジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基またはヘプタフルオロプロピル基であって、Ｒ１が炭素数１〜６のアルキル基であって、Ｒ３とＲ４がともにメチル基である化合物もまた更に好ましい。

本発明において一般式（３）で表される化合物は、下記一般式（５）で表される化合物と、下記一般式（６）で表される化合物とから製造することができる。本発明のおける一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法は、一般式（５）で表される化合物と、一般式（６）で表される化合物とから一般式（３）で表される化合物を製造する工程を更に含むことが好ましい。

以下、一般式（３）で表される化合物の製造方法について説明する。

まず、一般式（５）で表される化合物を説明する。

一般式（５）中のＲｆは、一般式（１）におけるＲｆと同義である。

一般式（５）中のＸにおけるハロゲン原子とは、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を表す。

一般式（５）中のＸにおけるカルボニルオキシ基とは、下記一般式（８）（化１９）

（式中、Ｒ５は、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。）で表される置換基、もしくは、一般式（９）（化２０）

（式中、Ｒ５は前記と同様である）で表される置換基を表す。

一般式（８）及び一般式（９）中のＲ５におけるハロゲン原子は、一般式（５）中のＸにおけるハロゲン原子と同義である。

一般式（８）及び一般式（９）中のＲ５における炭素数１〜６のアルキル基は、一般式（１）中のＲｆにおける炭素数１〜６のアルキル基と同義である。また、これらのアルキル基は１箇所以上のハロゲン原子で置換されてもよく、目的とするアシル基が導入される限りにおいて、特に制限されることはない。２箇所以上にハロゲン原子を置換する場合には、同一もしくは２種類以上のハロゲン原子で置換してもよく、目的とするアシル基が導入される限りにおいて、特に制限されることはない。

一般式（５）で表される化合物としては、例えば、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロアセチルクロリド、ジフルオロ酢酸、クロロジフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ヘプタフルオロ酪酸等を挙げることができる。これらは市販品を使用することもできるし、公知の方法で製造したものを使用することもできる。

以下、一般式（６）で表される化合物を説明する。

一般式（６）中のＲ２は、一般式（１）におけるＲ２と同義である。

一般式（６）中のＲ３およびＲ４は、一般式（３）におけるＲ３およびＲ４と同義である。

一般式（６）で表される化合物は、トランス体もしくはシス体のいずれか一方の構造である化合物、或いはトランス体とシス体が任意の割合で混合した化合物でよく、その構造は限定されることはない。

一般式（６）で表される化合物としては、例えば、３−ジメチルアミノ−アクリロニトリル、３−シクロヘキシル（メチル）アミノ−アクリロニトリル、３−ピロリジノ−アクリロニトリル、３−モルホリノ−アクリロニトリル等を挙げることができる。これらの化合物は市販品を使用することもできるし、また、特開昭５５−１３０９５０号公報や米国特許第３９６６７９１号明細書等を参考にして製造されたものを使用することもできる。

以下、一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物とを反応させて、一般式（３）で表される化合物を合成する方法について記載する。

以下、一般式（５）中のＸがハロゲン原子である反応を説明する。

一般式（５）で表される化合物の使用量は、一般式（６）で表される化合物に対して１当量以上あれば特に限定されることはない。ただし、経済的観点から、１当量以上３当量以下が好ましい。

一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物を反応させる際に、塩基を使用することが好ましい。

使用する塩基は、有機塩基や無機塩基である。

有機塩基の具体例として、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の３級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等を挙げることができ、無機塩基の具体例として、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。これらの塩基は、単独で使用することもできるし、２種類以上を任意の割合で混合することも可能である。

使用する塩基の当量は、一般式（６）に対して１当量以上あれば、特に限定されることはない。経済的観点から、１当量以上５当量以下が好ましい。

反応には溶媒を使用することができる。反応に使用する溶媒は、一般式（５）で表される化合物と反応しなければ、特に限定されることはない。

溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、およびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等の非プロトン性溶媒が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。

溶媒の使用量は、特に限定されることはないが、通常、一般式（６）の重量に対して、３倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

反応温度に関しては、各化合物が分解しないように設定すれば特に限定されることはないが、通常、−３０℃以上１５０℃以下もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。
一般式（５）で表される化合物のＸがハロゲン原子の場合、一般式（５）中のＲｆが少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜３のアルキル基である化合物が好ましく本発明に適合できる。さらに好ましくは、一般式（５）で表される化合物がトリフルオロアセチルクロリド、トリフルオロアセチルフルオリドである。

以下、一般式（５）中のＸが水酸基である場合の反応を説明する。

一般式（５）で表される化合物の使用量は、一般式（６）で表される化合物に対して１当量以上あれば特に限定されることはないが、経済的観点から１当量以上３当量以下が好ましい。

一般式（５）のＸが水酸基である場合、ハロゲン化剤やイミダゾール化剤等を使用することが好ましい。

ハロゲン化剤の具体例としては、塩化チオニル、オキサリルクロライド、ホスゲン、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、オキサリルブロミド、臭化チオニル、三臭化リン等が挙げられる
ハロゲン化剤の使用量は、一般式（５）に対して１当量以上あれば特に制限されることはないが、経済的観点から、通常、１当量以上３当量以下である。

ハロゲン化剤は、ジメチルホルムアミド等のホルムアミド誘導体を添加し、ヴィルスマイヤー試薬に変換して使用することも可能である。

ヴィルスマイヤー試薬とは、下記一般式（１０）（化２１）

（式中、Ｒ６とＲ７はそれぞれ独立していて、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｙはハロゲン原子を表す。）で表される化合物を含む塩である。

一般式（１０）中のＲ６及びＲ７における炭素数１〜６のアルキル基は、一般式（１）中のＲｆにおける炭素数１〜６のアルキル基と同義である。

また、イミダゾール化剤の具体例としては、Ｎ，Ｎ’−カルボニルジイミダゾールが挙げられる。

イミダゾール化剤の使用量は、一般式（５）で表される化合物に対して１当量以上あれば特に制限されることはないが、経済的観点から、通常、１当量以上３当量以下である。

一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物を反応させる際に、塩基を使用することが好ましい。

使用する塩基は、有機塩基や無機塩基である。

有機塩基の具体例として、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の３級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等を挙げることができ、無機塩基の具体例として、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。これらの塩基は、単独で使用することもできるし、２種類以上を任意の割合で混合することも可能である。

使用する塩基の当量は、一般式（６）に対して２当量以上あれば、特に限定されることはない。経済的観点から、２当量以上５当量以下が好ましい。

反応には溶媒を使用することができる。反応に使用する溶媒は、一般式（５）で表される化合物と反応しなければ、特に限定されることはない。

溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、およびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等の非プロトン系溶媒が挙げられる。

溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式（６）で表される化合物の重量に対して、３倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

反応温度に関しては、各化合物が分解しないように設定すれば特に限定されることはないが、通常、−３０℃以上１５０℃以下もしくは溶媒の沸点以下である。
試剤の装入方法に関しては、一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物と塩基を含む溶媒に対して、最後にハロゲン化剤を装入することが好ましい。また、一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物と塩基を含む溶媒には必要に応じて、ホルムアミド誘導体を加えてもよい。この装入方法によって、一般式（３）で表される化合物の収率が著しく改善される。

一般式（５）で表される化合物のＸが水酸基の場合、一般式（５）中のＲｆが少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜３のアルキル基が好ましく本発明に適合できる。さらに好ましくは、一般式（５）で表される化合物がトリフルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、クロロジフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ヘプタフルオロ酪酸である。

以下、一般式（５）中のＸがカルボニルオキシ基である場合の反応を説明する。

一般式（５）で表される化合物の使用量は、一般式（６）で表される化合物に対して１当量以上あれば特に限定されることはない。ただし、経済的観点から、１当量以上３当量以下が好ましい。

一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物を反応させる際に、塩基を使用することができるが、必須ではない。

塩基を使用する場合は、有機塩基や無機塩基である。

有機塩基の具体例として、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２.２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の３級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等を挙げることができ、無機塩基の具体例として、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。これらの塩基は、単独で使用することもできるし、２種類以上を任意の割合で混合することも可能である。

使用する塩基の当量は、特に限定されることはない。経済的観点から、５当量以下である。

反応には溶媒を使用することができる。反応に使用する溶媒は、一般式（５）で表される化合物と反応しなければ、特に限定されることはない。

溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、およびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等の非プロトン性溶媒が挙げられる。

溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式（６）で表される化合物の重量に対して、３倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

反応温度に関しては、各化合物が分解しないように設定すれば特に限定されることはないが、通常、−３０℃以上１５０℃以下もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。

一般式（５）で表される化合物のＸがカルボニルオキシ基の場合、一般式（５）中のＲｆが少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｘが一般式（８）で表される置換基であり、かつ一般式（８）中のＲ５がＲｆである対称な化合物（−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒｆと表される）が本発明に適合できる。さらに好ましくは、一般式（５）で表される化合物がトリフルオロ酢酸無水物である。

以下、後処理工程に関して説明する。これらの後処理は、Ｘがハロゲン原子、水酸基、カルボニルオキシ基である場合の各反応において共通である。

一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物を反応させることによって得られる一般式（３）で表される化合物を含む反応混合物は、水、アルカリ水溶液、酸性水溶液、或いは食塩水で洗浄することができる。

洗浄に使用するアルカリ水溶液、酸性水溶液は、一般式（３）で表される化合物が分解しない限りにおいて特に制限されるものではなく、通常、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等のアルカリ水溶液や、塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸性水溶液が例示される。

反応混合物を洗浄する回数は、特に限定されることはない。

水、アルカリ水溶液、或いは酸性水溶液で洗浄した一般式（３）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。

水、アルカリ水溶液、酸性水溶液、或いは食塩水で洗浄した一般式（３）で表される化合物を含む反応混合物、もしくは硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水後の反応混合物は、そのまま次工程のピラゾール化に使用することができる。また、溶媒を留去した後に次工程に使用しても良い。さらには、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄、蒸留等によって精製した後に次工程に使用してもよい。

再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式（３）で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。

再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、水、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、およびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。単独、或いは２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。

溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すれば特に限定されることはない。通常、一般式（３）で表される化合物の重量に対して１倍以上４０倍以下の重量が好ましい。

本発明における一般式（３）で表される化合物の製造方法においては、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒ２が水素原子である化合物が好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆが少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜３のアルキル基である化合物がより好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群であって、Ｘはハロゲン原子、水酸基または−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒｆである化合物がより好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆがトリフルオロメチル基であって、Ｒ１が炭素数１〜６のアルキル基であって、Ｒ３とＲ４はともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群であって、Ｘはハロゲン原子、水酸基または−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒｆである化合物が更に好ましく、Ｒ２が水素原子であって、Ｒｆがジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基またはヘプタフルオロプロピル基であって、Ｒ１が炭素数１〜６のアルキル基であって、Ｒ３とＲ４がともにメチル基であって、Ｘはハロゲン原子、水酸基または−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒｆである化合物もまた更に好ましい。

以上に示した本発明によって、一般式（１）で表される新規な含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体、およびその製造方法、並びにそれを用いた含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法および新規な含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体を提供することが可能になった。

以下に実施例により、本発明を更に詳細に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

以下、３−ジメチルアミノ−アクリロニトリルを化合物（Ｉ）、３−（ジメチルアミノ）−２−トリフルオロアセチルアクリロニトリルを化合物（ＩＩ）、１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルを化合物（ＩＩＩ）、１−メチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルを化合物（ＩＶ）、１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸を化合物（Ｖ）、１−メチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸を化合物（ＶＩ）、３−ピロリジノ−２−トリフルオロアセチルアクリロニトリルを化合物（ＶＩＩ）、３−シクロヘキシル（メチル）アミノ−２−トリフルオロアセチルアクリロニトリルを化合物（ＶＩＩＩ）、３−モルホリノ−２−トリフルオロアセチルアクリロニトリルを化合物（ＩＸ）、３−ジメチルアミノ−２−ジフルオロアセチルアクリロニトリルを化合物（Ｘ）、１−メチル−３−（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルを化合物（ＸＩ）、１−メチル−５−（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルを化合物（ＸＩＩ）、１−メチル−３−（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸を化合物（ＸＩＩＩ）、３−ジメチルアミノ−２−（ペンタフルオロエチルカルボニル）アクリロニトリルを化合物（ＸＩＶ）、１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルを化合物（ＸＶ）、１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸を化合物（ＸＶＩ）、３−ジメチルアミノ−２−（ヘプタフルオロプロピルカルボニル）アクリロニトリルを化合物（ＸＶＩＩ）、１−メチル−３−（ヘプタフルオロプロピル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルを化合物（ＸＶＩＩＩ）、１−メチル−３−（ヘプタフルオロプロピル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸を化合物（ＸＩＸ）、３−ジメチルアミノ−２−（クロロジフルオロメチルカルボニル）アクリロニトリルを化合物（ＸＸ）、１−メチル−３−（クロロジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルを化合物（ＸＸＩ）、１−メチル−５−（クロロジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルを化合物（ＸＸＩＩ）、高速液体クロマトグラフィーをＨＰＬＣと称する。

［実施例１］
アシル化反応：トリフルオロ酢酸とホスゲンによる化合物（ＩＩ）の合成

窒素雰囲気下、９５重量％の化合物（Ｉ） ４．６５ｇとトリエチルアミン ９．３０ｇを含むトルエン ８０ｍｌに氷冷下でトリフルオロ酢酸 ５．２４ｇを滴下した。次いで、ホスゲン ５．００ｇを含むトルエン ４０ｍｌを滴下した。滴下終了後、室温まで昇温し、２時間攪拌した。反応液に窒素を１時間通気した後に、ＨＰＬＣによって反応収率を観測すると、化合物（ＩＩ）は定量的に生成していた。次に、水 １２０ｍｌを加えて分液した後に、有機層を飽和重曹水 １２０ｍｌで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを除去した後に減圧下で溶媒留去を行い、残渣にジイソプロピルエーテルを加えて攪拌した。析出物を濾取し、得られた淡褐色固体は化合物（ＩＩ） ７．３２ｇ（収率８３％）であった。

化合物（ＩＩ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３．３８ （３Ｈ， ｓ）， ３．５８ （３Ｈ， ｓ）， ７．９６ （１Ｈ， ｓ）．
¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３９．４５， ４８．８９， ７５．０８， １１６．０３， １１６．６９（ｑ，Ｊ＝２９０．４Ｈｚ）， １５９．６１， １７６．２５（ｑ，Ｊ＝３４．３Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） １１４０， １１８６， １６２４， ２２１０ｃｍ^−１．
融点 ６８．４−６９．３℃

［実施例２］
環化反応：化合物（ＩＩ）から化合物（ＩＩＩ）への変換 その１

化合物（ＩＩ） １７．０ｇを溶解したトルエン １７０ｍｌに水 ８５ｍｌを加えて氷冷した。これに５．６重量％のメチルヒドラジン水溶液 ９０．１ｇを滴下した。滴下終了後、同温で３時間攪拌し、有機層と水層を分離した。この際に各層をＨＰＬＣにて観測すると、有機層には化合物（ＩＩＩ）７８％と化合物（ＩＶ）２％が生成し、水層には化合物（ＩＩＩ）２％と化合物（ＩＶ）１１％が生成していた。次に、有機層を減圧下で溶媒留去した後に、蒸留にて精製を行った。８ｍｍＨｇ、９６℃〜１０６℃の留分を分取すると、化合物（ＩＩＩ）が無色透明油状物質として収量９.７０ｇ（収率６３％）で得られた。
化合物（ＩＩＩ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４．０３ （３Ｈ， ｓ）， ７．９１ （１Ｈ， ｓ）．
¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４０．１０， ９１．１２， １１０．４３， １１９．５５ （ｑ，Ｊ＝２６９．９Ｈｚ）， １３７．１１， １４３．６４ （ｑ，Ｊ＝３９．２Ｈｚ）．
化合物（ＩＶ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４．０８ （３Ｈ， ｓ）， ７．８３ （１Ｈ， ｓ）．

［実施例３］
環化反応：化合物（ＩＩ）から化合物（ＩＩＩ）への変換 その２
２．８重量％のメチルヒドラジン水溶液 ２０．６ｇに、化合物（ＩＩ） ２．００ｇを含むトルエン ２０ｍｌを氷冷下で滴下した。同温で３時間攪拌した後に、有機層と水層を分離した。この際に各層をＨＰＬＣにて観測すると、有機層には化合物（ＩＩＩ）８１％と化合物（ＩＶ）１％が生成し、水層には化合物（ＩＩＩ）１％と化合物（ＩＶ）９％が生成していた。次いで、有機層を１０ｗｔ％塩酸で洗浄して、減圧下で溶媒留去した後に、純度９０．５重量％の化合物（ＩＩＩ）を収量１．６４ｇ（収率８１％）で得た。

［実施例４］
環化反応：化合物（ＩＩ）から化合物（ＩＩＩ）への変換 その３
下記表１に示した種々の溶媒を用い、以下に示す方法で、化合物（ＩＩ）から化合物（ＩＩＩ）への変換反応の反応収率を算出した。

９．７重量％のメチルヒドラジン水溶液 ６．００ｇに対して、化合物（ＩＩ） ２．００ｇを含む所定の溶媒 ２０ｍｌを氷冷下で滴下した。滴下終了後、同温で２時間攪拌した。ただし、水溶媒で実施したものは、２．２重量％メチルヒドラジン水溶液に化合物（ＩＩ） ２．００ｇを氷冷下で粉体装入した。ジメチルスルホキシド溶媒は氷冷ではなく、室温で反応を実施した。

反応収率の算出方法は以下の通りである。反応混合物が二層分離した場合は、有機層と水層を分液した後に各層の収率をＨＰＬＣにて観測し、合計値を反応収率として算出した。反応混合物が均一状の場合、そのままＨＰＬＣにて観測して反応収率を算出した。水溶媒に関しては、油滴が出ている状態の反応混合物にアセトニトリルを加えて均一にした後に、ＨＰＬＣにて観測して反応収率を算出した。結果を下記表1に示す。

［実施例５］
加水分解反応：化合物（ＩＩＩ）から化合物（Ｖ）への変換 その１

化合物（ＩＩＩ）０．２０ｇ、水 ２ｍｌ、酢酸 ２ｍｌ及び硫酸 ２ｍｌの混合物を内温１００℃で５時間反応させた。冷却した後に、酢酸エチルと水を加えて分液した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、次いで除去した後に、減圧下で濃縮した。残渣にトルエンを加えて、再度減圧下で濃縮を行った。残渣に、ジイソプロピルエーテルとヘキサンを加えて攪拌し、析出物を濾取した。得られた淡黄色固体は化合物（Ｖ）であり、収量０．１５ｇ（収率６８％）であった。
化合物（Ｖ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ３．９３ （３Ｈ， ｓ）， ８．４５ （１Ｈ， ｓ）．

［実施例６］
加水分解反応：化合物（ＩＩＩ）から化合物（Ｖ）への変換 その２
純度９８．１重量％の化合物（ＩＩＩ） ０．５０ｇをエタノール ４ｍｌに溶解し、更に３２重量％の水酸化ナトリウム水溶液 ２．０ｇを加えて、周囲温度８５℃で４時間反応を行った。冷却した後に反応液をＨＰＬＣにて観測したところ、化合物（Ｖ）が収率９８％で生成していた。

［実施例７］
加水分解反応：化合物（ＩＩＩ）から化合物（Ｖ）への変換 その３
純度９８．１重量％の化合物（ＩＩＩ） ０．５０ｇをメタノール ４ｍｌに溶解し、更に３２重量％の水酸化ナトリウム水溶液 ２．０ｇを加えて、周囲温度７５℃で４時間反応を行った。冷却した後に反応液をＨＰＬＣにて観測したところ、化合物（Ｖ）が収率９９％以上で生成していた。

［実施例８］
加水分解反応：化合物（ＩＩＩ）から化合物（Ｖ）への変換 その４
純度９８．１重量％の化合物（ＩＩＩ） ０．５０ｇを水 ４ｍｌに溶解し、更に３２重量％の水酸化ナトリウム水溶液 ２．０ｇを加えて、周囲温度１００℃で４時間反応を行った。冷却した後に反応液をＨＰＬＣにて観測したところ、化合物（Ｖ）が収率９９％以上で生成していた。

［実施例９］
化合物（Ｉ）から化合物（Ｖ）までの合成 その１

純度９５重量％の化合物（Ｉ） １７．８ｇとトリエチルアミン ３５．５ｇを含むトルエン ２２０ｍｌを内温４℃まで冷却した。これにトリフルオロ酢酸 ２０．０ｇを滴下して、内温５℃になるまで冷却した。これにオキサリルクロリド ２２．３ｇを含有するトルエン １１０ｍｌを２０℃以下で滴下した。滴下終了後、室温まで昇温し、６時間攪拌した。反応液をＨＰＬＣにて観測すると、化合物（ＩＩ）が収量３０．７ｇ（収率９１％）で生成していた。次に、有機層を水 ３３０ｍｌで２回、飽和重曹水 ３３０ｍｌで１回洗浄した。有機層 ３０４．７ｇをＨＰＬＣにて観測したところ、化合物（ＩＩ）を２７．３ｇ（収率８１％）含有していた。

前記有機層 ３０３．３ｇ（化合物（ＩＩ）として２７．２ｇ）に水 １６５ｇを加えて、内温３℃まで冷却した。これに４０重量％のメチルヒドラジン水溶液 ３２．６ｇを４０分間で滴下した。３時間攪拌した後に分液した。さらに、分離した有機層を０．５規定の塩酸３３０ｍｌ、飽和重曹水３３０ｍｌの順で洗浄した。次いで、有機層を減圧下で溶媒留去した後に、純度９０．４重量％の化合物（ＩＩＩ） ２０．３ｇ（収率７４％）を褐色油状物質として得た。この油状物質には、０．３ｇ（収率１％）の化合物（ＩＶ）が不純物として混入していた。

次に、純度９０．４重量％の化合物（ＩＩＩ） ２０．３ｇに水 １６０ｍｌと３２重量％の水酸化ナトリウム水溶液 ７４．６ｇを加えた後に、内温７５℃まで昇温して、４時間反応を行った。室温まで冷却した後に、ＨＰＬＣにて反応液を観測したところ、化合物（Ｖ）が２０．４ｇ（収率９９％以上）、化合物（ＶＩ）が０．１ｇで生成していた。次いで、濃塩酸でｐＨ＝１．８にした後に、析出物を濾取した。化合物（ＶＩ）は濾液中に除外され、得られた固体は、淡黄色の化合物（Ｖ）であった。収量１９. ６ｇ（収率９６％）。

［実施例１０］
化合物（Ｉ）から化合物（Ｖ）までの合成 その２
純度９５重量％の化合物（Ｉ） ６２．１ｇとトリエチルアミン １２４．２ｇを含むトルエン ９０８ｇを内温５℃まで冷却した。これにトリフルオロ酢酸 ７０．０ｇを内温１５℃以下で滴下した。次いで、内温５℃まで冷却した後に、ホスゲン ９４ｇを２５℃以下で吹き込んだ。室温で２時間攪拌した後に、窒素を１．５時間通気し、過剰のホスゲンを除去した。ＨＰＬＣにて、反応液を観測したところ、化合物（ＩＩ）が収量１１８．０ｇ（収率９９％以上）で生成していた。反応液に水 １０００ｇを加えて、１時間攪拌した後に分液した。分離した有機層を、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液 １０００ｇで洗浄して、化合物（ＩＩ）を１１１．１ｇ（収率９４％）含むトルエン溶液１０１５．６ｇを得た。

９．８重量％のメチルヒドラジン水溶液 ３２４．３ｇを内温５℃まで氷冷し、前記トルエン溶液 １００７．３ｇ（化合物（ＩＩ）の含有量は１１０．２ｇ）を内温１０℃以下に保持して滴下した。滴下終了後、内温６℃で２時間攪拌し、有機層と水層を分離した。分離した有機層を１０重量％塩酸 ３００ｇで洗浄した。次いで、減圧下で溶媒留去して、純度９０．５重量％の化合物（ＩＩＩ） ９１．４ｇ（収率 ８２％）を褐色油状物質として得た。この油状物質には、１．８ｇ（収率２％）の化合物（ＩＶ）が不純物として混入していた。

前記した純度９０．５重量％の化合物（ＩＩＩ） ９０．４ｇに水 ７２３ｇと４７．３重量％水酸化ナトリウム水溶液 ２２５．５ｇを順次加え、内温７５℃まで加熱した。同温で４時間攪拌した後に室温まで冷却した。この時点で反応液をＨＰＬＣにて観測したところ、化合物（Ｖ） ９０．６ｇ（収率９９％以上）と化合物（ＶＩ） ２．３ｇが生成していた。次いで、濃塩酸でｐＨ＝３．３に調製した後に、析出物を濾取した。化合物（ＶＩ）は濾液中に除外され、得られた固体は、白色の化合物（Ｖ）であった。収量８８．２ｇ（収率９７％）。

［実施例１１］
環化反応：１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルの合成

化合物（ＩＩ） １．００ｇをトルエン ２０ｍｌに溶解した後に、水 ８ｍｌを加えて氷冷した。これにエチルヒドラジン ０．６３ｇを含む水 ２ｍｌを滴下して、氷冷下で５時間攪拌した。次いで、分液を行い、分離した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去した後に、減圧下で溶媒留去を行い、１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルと１−エチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルの混合物 ０．６７ｇを８４：１６の比（^１Ｈ ＮＭＲより算出）で黄色油状物質として得た。収率５７％。
１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルの物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．５７ （３Ｈ， ｔ， Ｊ＝７．３Ｈｚ）， ４．２８ （２Ｈ， ｑ， Ｊ＝７．３Ｈｚ）， ７．９１ （１Ｈ， ｓ）．
１−エチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルの物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．５３ （３Ｈ， ｔ， Ｊ＝７．３Ｈｚ）， ４．３４ （２Ｈ， ｑ， Ｊ＝７．３Ｈｚ）， ７．８６ （１Ｈ， ｓ）．

［実施例１２］
加水分解反応：１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸の合成

実施例１１で得たニトリル体 ０．６７に、水 ５ｇと３２重量％水酸化ナトリウム ２．５２ｇを加えて、周囲温度８５℃で２時間反応を行った。濃塩酸で反応マスを酸性にした後に、酢酸エチルを加えて分液を行った。分離した有機層に硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮した後に残渣にヘキサンを加えて、析出物を濾過した。得られた黄色固体は表題の化合物であり、収量０．５１ｇ（収率８１％）で得た。なお、表題化合物の異性体は^１Ｈ ＮＭＲでは検出されなかった。
１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．５６ （３Ｈ， ｔ， Ｊ＝７．３Ｈｚ）， ４．２５（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝７．３Ｈｚ）， ８．０７（１Ｈ，ｓ）．

［実施例１３］
アシル化反応：トリフルオロ酢酸とオキサリルクロリドによる化合物（ＶＩＩ）の合成

窒素雰囲気下、３−ピロリジノ−アクリロニトリル １０．０ｇとトリエチルアミン １５．７８ｇを含むトルエン １５０ｍｌに、トリフルオロ酢酸 ８．８９ｇを氷冷下で滴下した。次いで、オキサリルクロリド ９．８９ｇを滴下した後に、さらに氷冷下で２時間攪拌した。反応液に水を加えて分液し、分離した有機層を飽和重曹水で洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去した後に、減圧下で溶媒を留去した。残渣にイソプロパノールを加えて再結晶を行なったところ、黄土色の固体を得た。得られた固体は表題の化合物（ＶＩＩ） １２．６０ｇ（収率７４％）であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ２．０２ （２Ｈ， ｑｕｉｎｔ， Ｊ＝６．８４Ｈｚ）， ２．１５ （２Ｈ， ｑｕｉｎｔ， Ｊ＝６．８４Ｈｚ）， ３．８０ （２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．８４Ｈｚ）， ４．０５ （２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．８４Ｈｚ）， ８．１５（１Ｈ， ｓ）．
¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ２３．８６， ２５．３５， ４９．０２， ５６．４４， ７５．１５， １１６．４７， １１６．６５ （ｑ， Ｊ＝２９０．４７Ｈｚ）， １１５．８６， １７５．６８（ｑ， Ｊ＝３４．９３）．
ＩＲ（ＫＢｒ） ９４７， １１２７， １２１２， １５９７， １６８０， ２２０１ｃｍ^−１．
融点 ９１．１−９５．４℃

［実施例１４］
環化反応：化合物（ＶＩＩ）から化合物（ＩＩＩ）への変換

９８重量％メチルヒドラジン ０．８６ｇを含む水 ７．８ｇにトルエン ２０ｍｌを加えて氷冷した。これに化合物（ＶＩＩ） ２．０ｇを装入して、同温で２時間撹拌した。ＨＰＬＣにて反応収率を観測すると、化合物（ＩＩＩ）は５６％であり、化合物（ＩＶ）は２１％で生成していた。尚、これらの収率は有機層と水層の合算値である。

［実施例１５］
アシル化反応：トリフルオロ酢酸とオキサリルクロリドによる化合物（ＶＩＩＩ）の合成

３−ピロリジノ−アクリロニトリルの代わりに、３−シクロヘキシル（メチル）アミノ−アクリロニトリルを用い、さらに、残渣にイソプロパノールを加える代わりにエタノールを加えた以外は、実施例１３と同様に反応を行なった。得られた淡褐色固体は表題の化合物（ＶＩＩＩ）であり、収率７１％であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．１６ （１Ｈ， ｍ）， １．３６ （２Ｈ， ｍ）， １．５３ （２Ｈ， ｍ）， １．７５ （１Ｈ， ｍ）， １．９５ （４Ｈ， ｍ）， ３．２４ （３Ｈ， ｓ：ｍｉｎｏｒ）， ３．３３ （１Ｈ， ｍ）， ３．４７ （３Ｈ， ｓ：ｍａｊｏｒ）， ７．９２（１Ｈ， ｓ：ｍｉｎｏｒ）， ８．０５ （１Ｈ， ｓ：ｍａｊｏｒ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） １１４５， １１６５， １２０２， １５９０， １６７２， ２２０５ｃｍ^−１．
融点 １２７．７−１２９．１℃

［実施例１６］
環化反応：化合物（ＶＩＩＩ）から化合物（ＩＩＩ）への変換

化合物（ＶＩＩ）を化合物（ＶＩＩＩ）にする以外は実施例１４と同様に行なった。ＨＰＬＣにて観測した反応収率は、化合物（ＩＩＩ）が６５％であり、化合物（ＩＶ）は２５％であった。尚、これらの収率は有機層と水層の合算値である。

［実施例１７］
アシル化反応：トリフルオロ酢酸とオキサリルクロリドによる化合物（ＩＸ）の合成

３−ピロリジノ−アクリロニトリルの代わりに、３−モルホリノ−アクリロニトリルを用い、さらに、残渣にイソプロパノールを加えて再結晶する操作の代わりに、酢酸エチルとジイソプロピルエーテルの混合溶媒で析出物を洗浄する操作に変更した以外は、実施例１３と同様に反応を行なった。得られた淡褐色固体は表題の化合物（ＩＸ）であり、収率７４％であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３．６６ （２Ｈ，ｍ）， ３．８８ （４Ｈ，ｍ）， ４．２２ （２Ｈ，ｍ）， ７．９８ （１Ｈ，ｓ）．
¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４８．１， ５７．２， ６５．９， ６６．８， ７４．８， １１６．０， １１６．７（ｑ， Ｊ＝２９０．５Ｈｚ）， １５７．８， １７６．６（ｑ， Ｊ＝３４．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） ９２９， ９４２， １１１５， １１４６， １１９１， １２１５， １３５５， １５９９， １６８６， ２２０４ｃｍ^−１．
融点 １１２．２−１１３．８℃

［実施例１８］
環化反応：化合物（ＩＸ）から化合物（ＩＩＩ）への変換

化合物（ＶＩＩ）を化合物（ＩＸ）にする以外は実施例１４と同様に行なった。ＨＰＬＣにて観測した反応収率は、化合物（ＩＩＩ）が８０％であり、化合物（ＩＶ）は１２％であった。尚、これらの収率は有機層と水層の合算値である。

［実施例１９］
アシル化反応：ジフルオロ酢酸とホスゲンによる化合物（Ｘ）の合成

窒素雰囲気下、トルエン １２５ｇに純度９５％の化合物（Ｉ） １０．００ｇとトリエチルアミン ２０．０５ｇを加えて氷冷した。これにジフルオロ酢酸 ９．５１ｇを滴下し、３℃まで冷却した。これにホスゲン １２．２ｇを約２０分間かけて吹き込んだ後に、室温まで昇温して２時間攪拌した。この時点でＨＰＬＣにて反応液を観測したところと、表題の化合物が９４％（１６．１７ｇ）で生成していた。これに水を加えて分液した。分離した水層に酢酸エチルを加えて抽出した。これらの有機層を合わせた後に飽和重曹水で洗浄した。次いで、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、濾過を行なった。得られた濾液を減圧下で濃縮し、ジイソプロピルエーテルを加えて攪拌を行なった後に、析出物を濾取した。得られた黄色固体は表題の化合物（Ｘ） １３．１５ｇ（７６％）であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３．３６（３Ｈ， ｓ）， ３．５０（３Ｈ， ｓ）， ６．１９（１Ｈ， ｔ， Ｊ＝５３．７Ｈｚ）， ７．９３（１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３９．５１， ４８．８９， ７６．６５， １０９．３９ （ｔ＝２５０．９Ｈｚ）， １１７．４４， １５８．９１， １８２．６０（ｔ， Ｊ＝２３．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） ８６７， ９７８， １０６４， １１２９， １２７９， １３５６， １４３３， １６１４， １６７４， ２２０１ｃｍ^−１．
融点 ６６．９−６８．９℃．

［実施例２０］
環化反応：化合物（Ｘ）から化合物（ＸＩ）への変換

純度９８重量％メチルヒドラジン ３．２４ｇを含む水 ２９ｇを氷冷し、化合物（Ｘ）を含むトルエン溶液 １００ｍｌを同温で滴下した後に、3時間撹拌した。次に、分液を行い、分離した有機層を０．５規定の塩酸で洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去し、濾液を減圧下で溶媒留去した。得られた茶色固体 ７．６２ｇを^１Ｈ ＮＭＲにて観測すると、化合物（ＸＩ）／化合物（ＸＩＩ）＝９５．７／４．３であった。次いで、この茶色固体をヘキサンとジイソプロピルエーテルの混合溶媒で十分に洗浄して、化合物（ＸＩ）を淡黄色固体 ４．８３ｇ（収率５４％）として得た。

化合物（ＸＩ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３．９９ （３Ｈ， ｓ）， ６．７２ （１Ｈ， ｔ，Ｊ＝５３．７Ｈｚ）， ７．８８ （１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４０．００， ９０．４９， １０９．６９ （ｔ， Ｊ＝２３６．２Ｈｚ）， １１１．４１， １３６．９８， １４８．１５ （ｔ， Ｊ＝２９．４Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）８１２， ８５４， １０３６， １０９１， １１６９， １１９０， １３４９， １５４５， ２２４１， ３１６２ｃｍ^−１．
融点 ３９．０−４０．９℃．

化合物（ＸＩＩ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４．０６ （３Ｈ， ｓ）， ６．８５ （１Ｈ， ｔ，Ｊ＝５２．５Ｈｚ）， ７．７９ （１Ｈ， ｓ）．

［実施例２１］
加水分解反応：化合物（ＸＩ）から化合物（ＸＩＩＩ）への変換

水酸化ナトリウム ３．５６ｇを含む水 ４０ｍｌに、化合物（ＸＩ） ４．０ｇを加えて、周囲温度９５℃で４時間反応した。反応終了後、氷冷下にて反応混合液に濃塩酸を加えて、酸性にした。次いで、室温で１時間撹拌した後に、析出物を濾過した。得られた白色固体 ４．１１ｇは化合物（ＸＩＩＩ）であった。収率９２％。

化合物（ＸＩＩＩ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ３．９１ （３Ｈ，ｓ）， ７．２１ （１Ｈ， ｔ， Ｊ＝５３．７Ｈｚ）， ８．３３（１Ｈ， ｓ）．

［実施例２２］
アシル化反応：ペンタフルオロプロピオン酸とホスゲンによる化合物（ＸＩＶ）の合成

窒素雰囲気下、トルエン ２１０ｇに純度９５％の化合物（Ｉ） １０．００ｇとトリエチルアミン ２０．０５ｇを加えて氷冷した。これにペンタフルオロプロピオン酸 １６．２５ｇを滴下し、５℃まで冷却した。これにホスゲン １２．８ｇを約２０分間かけて吹き込んだ後に、室温まで昇温して２時間攪拌した。これに水と酢酸エチルを加えて分液し、分離した有機層を飽和重曹水で洗浄した。さらに、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、濾過を行なった。得られた濾液を減圧下で濃縮し、ジイソプロピルエーテルを加えて攪拌を行なった後に、析出物を濾取した。得られた淡黄色固体は表題の化合物（ＸＩＶ） ２１．０３ｇ（８８％）であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３．３９ （３Ｈ， ｓ）， ３．５６ （３Ｈ， ｓ）， ７．９８ （１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３９．５１， ４９．１１， ７６．６９， １０８．３９（ｔｑ， Ｊ＝３８．６， ２６８．４Ｈｚ）， １１５．８８， １１８．０５（ｔｑ， Ｊ＝３４．０， ２８６．８Ｈｚ）， １６０．１０， １７８．１３ （ｔ，Ｊ＝２５．７Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） １１１７， １１５５， １２２０， １３１０， １３５４， １６１２，１６８１， ２２０２ｃｍ^−１．
融点 １０１．１−１０２．５℃．

［実施例２３］
環化反応：化合物（ＸＩＶ）から化合物（ＸＶ）への変換

純度９８重量％のメチルヒドラジン ２．２８ｇを含む水 ２０．５ｇにトルエン １００ｍｌを加えて氷冷した後に、化合物（ＸＩＶ） １０．０ｇを装入した。同温で３時間撹拌した後に、分液を行なった。分離した有機層を０．５規定の塩酸で洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去した後に、濾液を減圧下で溶媒留去して、化合物（ＸＶ） ７．７８ｇを黄色油状物質として得た。こうして得られた化合物（ＸＶ）は、これ以上精製することなく、次工程の加水分解に使用した。尚、この化合物（ＸＶ）の一部をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製を行い、下記に示す物質データを取得した。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４．０５ （３Ｈ， ｓ）， ７．９５ （１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４０．６２， ９３．００， １１０．６０ （ｔｑ， Ｊ＝４０．６， ２５３．７Ｈｚ）， １１１．２６， １１８．９６ （ｔｑ， Ｊ＝３６．８， ２８６．８Ｈｚ）， １３８．４６ （ｔ， Ｊ＝３８．６Ｈｚ）， １４２．６３ （ｔ， Ｊ＝２９．４Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） ７４１， ９６９， １０１８， １１００， １１５３， １２０７， １３３９， １５４２， ２２４４ｃｍ^−１．

［実施例２４］
加水分解反応：化合物（ＸＶ）から化合物（ＸＶＩ）への変換

実施例２３で得られた化合物（ＸＶ） ５．６１ｇと水酸化ナトリウム ３．４９ｇを含む水 ６０ｍｌを周囲温度９５℃にて４時間反応した。室温まで冷却した後に、反応混合液に濃塩酸を加えて酸性にした。さらに、１時間撹拌した後に、析出物を濾取した。得られた白色固体 ５．５３ｇは化合物（ＸＶＩ）であった。化合物（ＸＩＶ）からの通算収率は７６％であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ３．９５ （３Ｈ， ｓ）， ８．４９ （１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ３９．５９， １１０．６０（ｔｑ， Ｊ＝３８．６， ２５０．３Ｈｚ）， １１４．５９， １１８．８７（ｔｑ， Ｊ＝３７．７， ２８５．０Ｈｚ）， １３８．１６， １３８．１９（ｑ， Ｊ＝２９．４Ｈｚ）， １６１．７０．
ＩＲ（ＫＢｒ） ７４７， ９５８， １１１６， １２０８， １５４８， １７０４， ３４３９ｃｍ^−１．
融点 １３６．４−１４３．５℃．

［実施例２５］
アシル化反応：ヘプタフルオロ酪酸とホスゲンによる化合物（ＸＶＩＩ）の合成

窒素雰囲気下、トルエン ２８０ｇに純度９５％の化合物（Ｉ） １０．００ｇとトリエチルアミン ２０．０５ｇを加えて氷冷した。これにヘプタフルオロ酪酸 ２１．２１ｇを滴下し、６℃まで冷却した。これにホスゲン １２．３ｇを約２０分間かけて吹き込んだ後に、室温まで昇温して２時間攪拌した。これに水を加えて分液し、分離した有機層を飽和重曹水で洗浄した。さらに、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、濾過を行なった。得られた濾液を減圧下で濃縮し、ジイソプロピルエーテルを加えて攪拌を行なった後に、析出物を濾取した。得られた淡黄色固体は表題の化合物（ＸＶＩＩ） ２５．０１ｇ（８６％）であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３．３９ （３Ｈ， ｓ）， ３．５６ （３Ｈ， ｓ）， ８．０１ （１Ｈ， ｓ）．
¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３９．２７， ４８．８７， ７６．６７， １０８．４６（ｍ）， １１０．０７ （ｔｔ， Ｊ＝３１．１７， ２６７．４９Ｈｚ）， １１５．９２， １１７．３６ （ｔｑ， Ｊ＝３３．０９， ２８６．７９Ｈｚ）， １６０．３２， １７７．５１（ｔ， Ｊ＝２３．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） ８７６， １１１９， １２０９， １２２６， １３１６， １３４４， １４２６， １６０６， １６７４， ２２０８ｃｍ^−１．
融点 ７３．９−７５．４℃．

［実施例２６］
環化反応：化合物（ＸＶＩＩ）から化合物（ＸＶＩＩＩ）への変換

純度９８重量％メチルヒドラジン １．８９ｇを含む水 １７．０ｇにトルエン １００ｍｌを加えて氷冷した後に、化合物（ＸＶＩＩ） １０．０ｇを装入した。同温で３時間撹拌した後に、分液を行なった。分離した有機層を０．５規定の塩酸で洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去した後に、濾液を減圧下で溶媒留去して、化合物（ＸＶＩＩＩ） ７．８３ｇを黄色油状物質として得た。こうして得られた化合物（ＸＶＩＩＩ）は、これ以上精製することなく、次工程の加水分解に使用した。尚、上記化合物（ＸＶＩＩＩ） の一部をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製を行い、下記に示す物質データを取得した。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４．０６ （３Ｈ， ｓ）， ７．９４ （１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４０．６２ （ｑ， Ｊ＝１１．０Ｈｚ）， ９３．３４， １０８．８３ （ｍ）， １１１．２８， １１２．００ （ｔｔ， Ｊ＝３３．１， ２８８．６Ｈｚ）， １１８．１１ （ｔｑ， Ｊ＝３４．０， ２８６．８Ｈｚ）， １３８．２０ （ｔ， Ｊ＝４０．４Ｈｚ）， １４２．７１ （ｍ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） ７４５， ８８６， １１２０， １２３６， １３４６， １５４２， ２２４５ｃｍ^−１．

［実施例２７］
加水分解反応：化合物（ＸＶＩＩＩ）から化合物（ＸＩＸ）への変換

水酸化ナトリウム ２．９２ｇを含む水 ６０ｍｌに、エタノール ３０ｍｌと実施例２６で得た化合物（ＸＶＩＩＩ） ５．７４ｇを加えて、周囲温度９５℃で６時間反応した。反応混合物を室温まで冷却した後に、半分量位まで減圧下で濃縮を行なった。次いで、水とクロロホルムを加えて分液を行なった。分離した水層に濃塩酸を加えた後に１時間撹拌し、析出物を濾取した。得られた白色固体 ３．６４ｇは化合物（ＸＩＸ）であった。実施例２６における化合物（ＸＶＩＩ）からの通算収率は４９％であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ３．９６ （３Ｈ， ｓ）， ８．４９ （１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ３９．５７， １０８．５７ （ｔｑ， Ｊ＝３７．４， ２６４．７Ｈｚ）， １１２．６０ （ｔｔ， Ｊ＝３２．２， ２５３．７Ｈｚ）， １１４．８５， １１７．７８ （ｔｑ， Ｊ＝３４．０， ２８８．６Ｈｚ）， １３８．２２， １３８．２５ （ｑ， Ｊ＝３２．５Ｈｚ）， １６１．６３．
ＩＲ（ＫＢｒ） ８８７， １１１８， １２２７， １５４６， １７１０， ３４３５ｃｍ^−１．
融点 １１６．３−１２１．２℃．

［実施例２８］
アシル化反応：クロロジフルオロ酢酸とホスゲンによる化合物（ＸＸ）の合成

窒素雰囲気下、トルエン １７０ｇに純度９５％の化合物（Ｉ） １０．００ｇとトリエチルアミン ２０．０５ｇを加えて氷冷した。これにクロロジフルオロ酢酸 １２．９３ｇを滴下し、５℃まで冷却した。これにホスゲン １２．３ｇを約２０分間かけて吹き込んだ後に、室温まで昇温して２時間攪拌した。これに水を加えて分液し、さらに有機層を飽和重曹水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、濾過を行なった。得られた濾液を減圧下で濃縮し、ジイソプロピルエーテルを加えて攪拌を行なった後に、析出物を濾取した。得られた淡黄色固体は表題の化合物（ＸＸ） １７．２０ｇ（８３％）であった。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３．３８ （３Ｈ， ｓ）， ３．５５ （３Ｈ， ｓ）， ７．９８ （１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ３９．３５， ４８．９６， ７３．８２， １１６．３２， １１９．８３ （ｔ， Ｊ＝３０４．３Ｈｚ）， １６０．１４， １７７．７７ （ｔ， Ｊ＝２８．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） ８９９， ９８１， １１５５， １３５１， １４２７， １６１３， １６８５， ２２０２ｃｍ^−１．
融点 ７２．３−７３．５℃．

［実施例２９］
環化反応：化合物（ＸＸ）から化合物（ＸＸＩ）への変換

純度９８重量％メチルヒドラジン ２．６５ｇを含む水 ２４ｇにトルエン １００ｍｌを加えて氷冷した後に、化合物（ＸＸ）１０．０ｇを装入し、３時間撹拌した。次に、分液を行い、分離した有機層を０．５規定の塩酸で洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去し、濾液を減圧下で溶媒留去した。得られた黄色油状物質 ８．３６ｇを^１Ｈ ＮＭＲにて観測すると、化合物（ＸＸＩ）／化合物（ＸＸＩＩ）＝９７．３／２．７であり、その大部分は化合物（ＸＸＩ）であった。尚、この化合物（ＸＸＩ）の一部をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製を行い、下記に示す物質データを取得した。

化合物（ＸＸＩ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ．４．０２ （３Ｈ， ｓ）， ７．９１ （１Ｈ， ｓ）．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ．３９．９９， ８９．９７， １１０．５８， １２０．９５ （ｔ， Ｊ＝２８５．９Ｈｚ）， １３７．３９， １４７．８８ （ｔ， Ｊ＝３２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ） ６２９， ９１７， １０６４， １１３３， １２３０， １４８４， １５４２， ２２４３ｃｍ^−１．

化合物（ＸＸＩＩ）の物質データ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ４．０９ （３Ｈ， ｓ）， ７．８１ （１Ｈ， ｓ）．

本発明によって、新規な含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を提供することが可能になった。安全性や廃棄上問題のある試剤を使用しない上、操作が簡便であるので、本発明は工業的製造方法としても適している。また、得られた新規含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体は、農園芸用殺菌剤等の重要な原料に変換可能であるために、非常に有用な製造中間体である。以上より、医薬及び農薬分野において、本発明の有用性は非常に高い。

Claims (24)

1. 下記一般式（１）（化１）
   

   

   
   
   （式中、Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリールアルキル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基を表す。）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体。
2. 一般式（１）中、Ｒ２は水素原子を表す、請求項１に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体。
3. 一般式（１）中、Ｒｆは、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表す、請求項２に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体。
4. 下記一般式（１）（化２）
   

   

   
   
   （式中、Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリールアルキル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表す。）で表される化合物と水とを反応させる工程を含む、下記一般式（２）（化３）
   

   

   
   
   （式中、Ｒｆ、Ｒ１及びＲ２は前記と同義である。）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
5. 一般式（１）および一般式（２）で表される化合物中、Ｒ２は水素原子を表す、請求項４に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
6. 一般式（１）および一般式（２）で表される化合物中、Ｒｆはトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表す、請求項５に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
7. 下記一般式（３）（化４）
   

   

   
   
   （式中、Ｒｆ、Ｒ２は請求項４に記載のものと同義であり、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基、もしくは炭素数１〜６の置換されてもよいアシル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。）で表される化合物と、下記一般式（４）（化５）
   

   

   
   
   （式中、Ｒ１は請求項４に記載のものと同義である。）で表される化合物とから一般式（１）で表される化合物を製造する工程を更に含む、請求項４に記載の一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
8. 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒ２は水素原子を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す請求項７に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
9. 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒｆはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４は、ともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群を表す、請求項８に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
10. 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒｆがジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はともにメチル基を表す、請求項８に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
11. 下記一般式（５）（化６）
    

    

    
    
    （式中、Ｒｆは請求項７に記載のものと同義であり、Ｘはハロゲン原子、水酸基、またはカルボニルオキシ基を表す。）で表される化合物と、下記一般式（６）（化７）
    

    

    
    
    （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は請求項７に記載のものと同義である。）で表される化合物とから一般式（３）で表される化合物を製造する工程を更に含む、請求項７に記載の一般式（２）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
12. 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒ２は水素原子を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、もしくは、炭素数３〜６のシクロアルキル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環構造を形成するのに必要な原子群を表し、Ｘはハロゲン原子、水酸基、または−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒｆを表す、請求項１１に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
13. 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒｆがトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４は、ともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群を表す請求項１２に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
14. 一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒｆがジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はともにメチル基を表す請求項１２に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
15. 下記一般式（３）（化８）
    

    

    
    
    （式中、Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基、もしくは炭素数１〜６の置換されてもよいアシル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。）で表される化合物と、下記一般式（４）（化９）
    

    

    
    
    （式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表す。）で表される化合物とを反応させる工程を含む、下記一般式（１）（化１０）
    

    

    
    
    （式中、Ｒｆ、Ｒ１、Ｒ２は前記と同義である。）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
16. 一般式（１）、一般式（３）および一般式（４）中、Ｒ２は水素原子を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、もしくは炭素数３〜６のシクロアルキル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す、請求項１５に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
17. 一般式（１）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒｆはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４は、ともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群を表す請求項１６に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
18. 一般式（１）、一般式（３）および一般式（４）で表される化合物中、Ｒｆがジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はともにメチル基を表す請求項１６に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
19. 下記一般式（５）（化１１）
    

    

    
    
    （式中、Ｒｆは請求項１５に記載のものと同義であり、Ｘはハロゲン原子、水酸基、またはカルボニルオキシ基を表す。）で表される化合物と、下記一般式（６）（化１２）
    

    

    
    
    （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は請求項１５に記載のものと同義である）で表される化合物とから一般式（３）で表される化合物を製造する工程を更に含む、請求項１５に記載の一般式（１）で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
20. 一般式（１）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒ２は水素原子を表し、Ｒ３とＲ４はそれぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、もしくは、炭素数３〜６のシクロアルキル基、または、Ｒ３とＲ４とが結合する窒素原子とヘテロ原子０〜１個とを含む５〜６員環構造を形成するのに必要な原子群を表し、Ｘはハロゲン原子、水酸基、または−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒｆを表す、請求項１９に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル酸誘導体の製造方法。
21. 一般式（１）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒｆはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４は、ともにメチル基、もしくは一方がメチル基かつ他方がシクロヘキシル基、またはＲ３とＲ４とが結合する窒素原子とともにピロリジノ基もしくはモルホリノ基を形成するのに必要な原子群を表す、請求項２０に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
22. 一般式（１）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化合物中、Ｒｆはジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３とＲ４はともにメチル基を表す、請求項２０に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
23. 下記一般式（２）（化１３）
    

    

    
    
    （式中、Ｒｆは、炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ２は水素原子を表す。）で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体。
24. 一般式（２）中、Ｒｆは、ペンタフルオロエチル基、またはヘプタフルオロプロピル基を表す、請求項２３に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体。