JPWO2008010553A1 - スチレン系樹脂組成物および成形体 - Google Patents
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Abstract
Description
1.スチレン系単量体単位90〜99質量%及び(メタ)アクリル酸系単量体単位10〜1質量%からなるスチレン系共重合体100質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が0.05〜0.15で平均粒子径が2〜10μmの未溶融化合物を1〜10質量部、若しくは平均粒子径1〜10μmのポリオルガノシロキサン架橋ビーズを0.5〜2.5質量部と、ヒンダードアミン系化合物を0.1〜2質量部と、ベンゾトリアゾール系化合物を0.1〜2質量部とを含有してなるスチレン系樹脂組成物。
2.未溶融化合物が単量体単位として(メタ)アクリル酸エステル系単量体を含む架橋共重合体である上記1に記載のスチレン系樹脂組成物。
3.未溶融化合物が単量体単位としてメタクリル酸メチル及びアクリル酸n−ブチルを含む架橋重合体である上記1に記載のスチレン系樹脂組成物。
4.ヒンダードアミン系化合物が、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケートである上記1〜3のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。
5.ベンゾトリアゾール系化合物が、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールである上記1〜4のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。
6.スチレン系共重合体100質量部に対して、さらに、ベンゾキサゾール系化合物を0.0005〜0.5質量部含有する、上記1〜5のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。
7.ベンゾキサゾール系化合物が、2,5−チオフェンジイル(5−t−ブチル−1,3−ベンゾキサゾール)である、上記6に記載のスチレン系樹脂組成物。
8.スチレン系樹脂組成物が、スチレン系共重合体100質量部に対して、さらに、アミン系界面活性剤、もしくはアニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤を0.1〜3質量部含有する、上記1〜7のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。
9.アミン系界面活性剤が、N−ヒドロキシエチル−N−(2−ヒドロキシアルキル)アミンである、上記8に記載のスチレン系樹脂組成物。
10.アニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤の配合比が、アニオン系界面活性剤/非アミンノニオン系界面活性剤=0.5/99.5〜15/85(質量比)である上記8に記載のスチレン系樹脂組成物。
11.アニオン系界面活性剤が、炭素数10〜14の有機スルホン酸金属塩であり、非アミンノニオン系界面活性剤が、グリセリン脂肪酸エステルである上記8又は10に記載のスチレン系樹脂組成物。
12.上記1〜11のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物からなる成形体であって、その厚みが1〜7mmである成形体。
13.成形体が、射出成形体である上記12に記載の成形体。
14.成形体が、押出し成形体である上記12に記載の成形体。
15.上記12〜14のいずれか一項に記載の成形体を用いた光拡散シート。
本発明に用いられるスチレン系単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−t−ブチルスチレン等が挙げられるが、好ましくはスチレンである。
本発明に用いられる(メタ)アクリル酸系単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸等が挙げられるが、好ましくはメタクリル酸である。
未溶融化合物としては、特に限定されるものではないが、単量体単位として(メタ)アクリル酸エステル系単量体を含む架橋共重合体、具体的には、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸メチル、アクリル酸n−ブチル等の単量体を含む架橋共重合体が挙げられるが、好ましくはメタクリル酸メチルを含む架橋共重合体又はメタクリル酸メチル及びアクリル酸n−ブチルを含む架橋共重合体である。
未溶融化合物は1気圧の雰囲気下で、200℃以上に融点または軟化点を示す化合物が好ましい。融点、軟化点が200℃未満では、スチレン系重合体との溶融混練時、またはスチレン系樹脂組成物の押出し成形・射出成形時に該化合物が溶融しやすく、優れた光学特性を保持することができない場合がある。未溶融化合物は、スチレン系共重合体との屈折率差が0.05〜0.15、好ましくは0.07〜0.13であり、平均粒子径が2〜10μm、好ましくは3〜9μmである。屈折率差が0.05未満では、得られる成形体の曇り度や拡散率が小さくなり光拡散性が低下し、0.15を超えると全光線透過率が低下する。また、平均粒子径が2μm未満では、得られる成形体の全光線透過率が低下し、10μmを超えると曇り度及び光拡散率が低下する。
また、本発明のスチレン系樹脂組成物は、スチレン系共重合体100質量部に対してポリオルガノシロキサン架橋ビーズを0.5〜2.5質量部、好ましくは0.8〜2.2質量部含有するものである。ポリオルガノシロキサン架橋ビーズの含有量が0.5質量部未満では曇り度や拡散率が小さくなり光拡散性が低下し、2.5質量部を超えると全光線透過率が低下する。
なお、未溶融化合物及びポリオルガノシロキサン架橋ビーズの平均粒子径は、コールター・マルチサイザー(ベックマン・コールター社製)を用いて測定して得られる値である。測定はレーザー回折光散乱法により行い、溶媒には水を用い、1分間、ホモジナイザーを用いて200Wの出力をかけて試料を分散させ、PIDS(Polarization Intensity Differential Scattering)濃度を45〜55%に調整、水の屈折率を1.33として測定を行い、体積分布より算出したものを平均粒子径とした。
ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が0.1質量部未満では、耐光性が十分ではなく、2質量部を超えると、得られる光拡散シートの黄色度が強く好ましくない。
ヒンダードアミン系化合物は、アミン系の光安定性向上剤であって、例えば、デカンニ酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドリキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、メチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート等が挙げられ、それらを単独で用いてもよく、また2種類以上を併用してもよい。
また、ベンゾトリアゾール系化合物は、紫外線吸収剤であって、例えば、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−[5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチル]−6−(t−ブチル)フェノール、2,4−ジ−t−ブチル−6−(5−クロロベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−t−ペンチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール等が挙げられ、それらを単独で用いてもよく、また2種類以上を併用してもよい。
ベンゾキサゾール系化合物としては、例えば、2,5−チオフェンジイル(5−t−ブチル−1,3−ベンゾキサゾール)、2,5−チオフェンジイル(5−t−ブチル−1,3−ベンゾキサゾール)10%とジシクロヘキシルフタレート90%の混合物、4,4‘−ビス(ベンゾオキサゾール−2−イル)スチルベン等が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、またはこれらを併用してもよい。
アミン系界面活性剤としては、例えば、アルキルジエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルジエタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−(2−ヒドロキシアルキル)アミンなどが挙げられ、それらを単独で用いてもよく、また2種類以上を併用してもよい。
また、スチレン系共重合体に未溶融化合物又はポリオルガノシロキサン架橋ビーズを高濃度に混合した高濃度混合物を作製しておき、射出/押出し成形時に、この高濃度混合物とスチレン系共重合体をドライブレンドし、未溶融化合物又はポリオルガノシロキサン架橋ビーズの含有量が規定の濃度となるようにしたものを原料に用いてもよい。
製造に用いた槽は、容積約5Lの第1完全混合槽と約15Lの第2完全混合槽を直列に接続し、さらに予熱器を付した第1脱揮槽と第2脱揮槽を2基直列に接続して構成した。参考例で得られた4−t−ブチルカテコールが0.1ppm含まれるスチレン85質量%、メタクリル酸15質量%で構成する単量体溶液100質量部に対し、エチルベンゼン15質量部、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート0.01質量部、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン0.2質量部を混合し原料溶液とした。この原料溶液を毎時6.0kgで135℃に制御した第1完全混合槽に供給した。第1完全混合槽出口での転化率は28質量%であった。次に第1完全混合槽より連続的に抜き出し、135℃に制御した第2完全混合槽に供給した。第2完全混合槽出口での転化率は63質量%であった。次に第2完全混合槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、67kPa、160℃に制御した第1脱揮槽に導入した。さらに第1脱揮槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、1.3kPa、230℃に制御した第2脱揮槽に導入し単量体を除去した。これをストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体(A−1)を得た。
未溶融化合物としてのポリオルガノシロキサン架橋ビーズは、GE東芝シリコーン社製シリコーンビーズであるトスパール120(平均粒子径2μm、屈折率1.420)(B−1)、トスパール2000B(平均粒子径6μm、屈折率1.420)(B−2)、トスパール3120(平均粒子径12μm、屈折率1.420)(B−3)を使用した。
攪拌機付きオートクレーブにメタクリル酸メチル20質量部、n−ブチルアクリレート80質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン5質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド0.2質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.001質量部及び第三リン酸カルシウム0.5質量部、純水200質量部を仕込み、温度95℃にて6時間、さらに温度130℃にて2時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ(C)を得た。架橋ビーズ(C)の平均粒子径は4μm、屈折率は、1.460であった。
攪拌機付きオートクレーブにスチレン60質量部、メタクリル酸メチル40質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン5質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド0.2質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.001質量部及び第三リン酸カルシウム0.5質量部、純水200質量部を仕込み、温度95℃にて6時間、さらに温度130℃にて2時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ(D)を得た。架橋ビーズの平均粒子径は8μm、屈折率は、1.555であった。
攪拌機付きオートクレーブにメタクリル酸メチル100質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン5質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド0.2質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.001質量部及び第三リン酸カルシウム0.5質量部、純水200質量部を仕込み、温度95℃にて6時間、さらに温度130℃にて2時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ(E−1)を得た。架橋ビーズの平均粒子径は8μm、屈折率は、1.494であった。
第三リン酸カルシウム1.5質量部を用いた以外はE−1と同様な製法により平均粒子径1μm、屈折率1.494の架橋ビーズ(E−2)を得た。
また、第三リン酸カルシウム1.0質量部を用いた以外はE−1と同様な製法により平均粒子径3μm、屈折率1.494の架橋ビーズ(E−3)を得た。
更に、第三リン酸カルシウム0.2質量部を用いた以外はE−1と同様な製法により平均粒子径13μm、屈折率1.494の架橋ビーズ(E−4)を得た。
着色剤として、蛍光増白剤2,5−チオフェンジイル(5−t−ブチル−1,3−ベンゾキサゾール)(チバスペシャルティケミカルズ社製ユビテックスOB)(F−1)、樹脂着色剤であるアンスラキノン系誘導品(三菱化学社製ダイアレジンBLUE J)(F−2)を用いた。
アミン系界面活性剤として、N−ヒドロキシエチル−N−(2−ヒドロキシアルキル)アミン(ミヨシ油脂社製ダスパー125B)を(G−1)として用いた。アニオン系界面活性剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム(G−2)を、非アミン系ノニオン系界面活性剤としてグリセリンステアリン酸ジエステル(G−3)を用いた。
スチレン系樹脂組成物1−1〜1−23を用いて、2オンス・インラインスクリュー射出成形機(新潟鉄工所社製)にて、シリンダー温度230℃で射出成形し寸法300mm×300mm×0.5mm厚、300mm×300mm×2mm厚、300×300×10mm厚の成形体を得た。
得られた成形体の光学特性、耐光性、寸法安定性(吸水反り)、帯電防止性(表面固有抵抗値)、熱安定性を評価し、表1−4〜1−6に示した。
また、スチレン系共重合体として(A−1)〜(A−4)、未溶融化合物として架橋ビーズ(B−1)〜(B−3)、C、D、ヒンダードアミン系化合物としてビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ベンゾトリアゾール系化合物として2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−t−ペンチルフェノール、着色剤として(F−1)、(F−2)、界面活性剤として(G−1)〜(G−3)を表2−2〜2−3に示す配合比にて混合し、40mm径の単軸押出し機にて、温度240℃、スクリュー回転数100rpmにて混練、ペレット化を行い、表2−2に示したスチレン系樹脂組成物2−1〜2−23のペレットを得た。
スチレン系樹脂組成物2−1〜2−23を用いて、インラインスクリュー射出成形機(新潟鉄工所社製)にて、シリンダー温度230℃で射出成形し寸法300mm×300mm×0.5mm厚、300mm×300mm×2mm厚、300×300×10mm厚の成形体を得た。
得られた成形体の光学特性、耐光性、寸法安定性(吸水反り)、帯電防止性(表面固有抵抗値)、熱安定性を評価し、表2−3〜2−5に示した。
曇り度99%以上、全光線透過率65%以上、拡散率17%以上、b値1.0以下、輝度3500cm/m2以上であると、光学特性が良好であると判断できる。また優れた耐光性を発現するためには色差ΔEが1未満、優れた寸法安定性を発現するには吸水反りが1mm以下、優れた熱安定性を発現するには加熱変形が1mm未満、優れた帯電防止性を発現するには表面固有抵抗値が1012Ω以下であることが必要である。
スチレン系樹脂組成物1−1、2−1を用いて、Tダイ方式の押出機にてシートを作製した。尚、押出機は65mmφのフルフライトスクリューの単軸押出機を使用した。シート化における各シリンダー温度は230℃にて運転、成形した。得られた押出しシートの光学特性、耐光性、吸水反り、熱安定性、表面固有抵抗のデータを表1−4、表2−3に示した。
(1)全光線透過率、曇り度:ASTM D−1003に準じて、日本電色工業社製HAZEメーター(NDH−2000)を用いて測定した。
(2)拡散率:日本電色工業社製変角光度計(GC5000L)を用いて、受光角0°の光線透過率I0、受光角70°の光線透過率I70を測定し、次式により算出した。
拡散率(%)=(I70/I0)×100
(3)耐光性:東洋精機製作所社製キセノンウエザオメーター、アトラスCI65Aを用いて400時間照射後の色差△Eを測定した。
(4)寸法安定性(吸水反り):180mm×180mmの大きさに切削した光拡散シートを50℃、湿度80%の雰囲気下に7日間放置、放置前後の四隅の変形量をノギスで測定、その平均値を吸水反りの値とし、この値を寸法安定性の尺度とした。
(5)黄色度、色差:日本電色社製色差計(Σ―80)を用いて、L,a,bを測定し、黄色度の尺度としてb値を示した。また耐光性評価の色差△Eは次式により求めた。
△E=((L−L‘)2+(a−a’)2+(b−b‘)2)1/2
但し、L,a,bは、耐光性評価前の色相、L‘,a’,b‘は、耐光性評価後(400Hr照射後)の色相である。
(6)加熱変形:300mm×300mmの大きさに切削した光拡散シートを80℃の雰囲気下に7日間放置し、放置後の四隅の変形量をノギスで測定、その平均値を加熱変形の値とし、この値を熱安定性の尺度とした。
(7)帯電防止性:成形体をJIS K−6911に準拠して温度23℃、湿度50%RHで24時間調湿したものの表面固有抵抗値を、KAWAGUCHI社製表面固有抵抗測定機(R503)を用いて測定し、この値を帯電防止性の尺度とした。
(8)輝度:反射シートの上に直径5mm、長さ200mmの冷陰極管9本を20mm間隔で並べ、冷陰極管上5mmのところに180mm×180mmの大きさに切削した光拡散シートを設置し、さらにその上に拡散フィルム、プリズムシート、輝度上昇フィルムを載せた。暗室にて冷陰極管を点灯し、光拡散シートより1000mmの位置で、トプコン社製輝度計(BM−7)を用いて30mm間隔で計36点測定し、その平均値を求めた。
(9)屈折率:未溶融化合物については、アッベ式屈折計にて波長589nm、23℃の雰囲気下にて測定した。また、スチレン系共重合体については、デジタル屈折率計(ATAGO社製RX−2000)を用いて、接触液としてヨウ化カリウム飽和水溶液を使用して、温度25℃で測定した。
(10)スチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量の測定:
I.スチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位と残存メタクリル酸の合計量の測定
1)スチレン系共重合体2gにクロロホルム:エタノール混合溶液(2:1)100mlを加え溶解させる。2)これに指示薬として0.5%フェノールフタレイン・エタノール溶液を加え、更に0.1N水酸化カリウム・エタノール溶液で滴定する。指示薬の色が30秒間消えない時を終点とした。3)空試験としてクロロホルム:エタノール混合溶液(2:1)を100mlとり2)と同様の操作を行った。4)以下の式のよりスチレン系共重合体中のメタクリル酸含有量を求めた。
メタクリル酸含有量(%)=[{(A−B)×M}/(S×1000)]×100
A:1)に要した滴定量 (ml)
B:3)に要した滴定量 (ml)
S:スチレン系共重合体の質量 (g)
M:0.1N水酸化カリウム・エタノール溶液1mlと当量となるメタクリル酸の質量(8.6(mg))
II.スチレン系共重合体中の残存メタクリル酸量の測定
スチレン系共重合体0.5gをクロロホルム10mlに溶解し、N,N−ジメチルホルムアミドを内部標準として測定して、以下のGC測定条件で測定した。
装置名:島津製作所社製 GC14B FID検出器
カラム:ガラスカラム φ3mm×3m
充填剤:ジエチレングリコールサクシネート
キャリヤー:窒素
温度:カラム110℃、注入口180℃
III.Iで測定したスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位と残存メタクリル酸の合計量から、IIで測定したスチレン系共重合体中の残存メタクリル酸量を差し引いた値をスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量として求めた。但し、スチレン系共重合体中の残存メタクリル酸の測定値が0.1質量%未満のものについては、残存メタクリル酸量を0質量%としてスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量を求めた。
(11)スチレン系共重合体の樹脂組成:スチレン系共重合体を重クロロホルムに溶解して2%溶液に調製して測定試料として、FT−NMR(日本電子社製FX−90Q型)を用いて13C−NMRを測定し、スチレンとメチルメタクリレートのピーク面積より算出した。
なお、2006年7月19日に出願された日本特許出願2006−196516号及び2006年8月1日に出願された日本特許出願2006−209984号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (15)
- スチレン系単量体単位90〜99質量%及び(メタ)アクリル酸系単量体単位10〜1質量%からなるスチレン系共重合体100質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が0.05〜0.15で平均粒子径が2〜10μmの未溶融化合物を1〜10質量部、若しくは平均粒子径1〜10μmのポリオルガノシロキサン架橋ビーズを0.5〜2.5質量部と、ヒンダードアミン系化合物を0.1〜2質量部と、ベンゾトリアゾール系化合物を0.1〜2質量部とを含有してなるスチレン系樹脂組成物。
- 未溶融化合物が単量体単位として(メタ)アクリル酸エステル系単量体を含む架橋共重合体である請求項1に記載のスチレン系樹脂組成物。
- 未溶融化合物が単量体単位としてメタクリル酸メチル及びアクリル酸n−ブチルを含む架橋重合体である請求項1に記載のスチレン系樹脂組成物。
- ヒンダードアミン系化合物が、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケートである請求項1〜3のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。
- ベンゾトリアゾール系化合物が、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールである請求項1〜4のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。
- スチレン系共重合体100質量部に対して、さらに、ベンゾキサゾール系化合物を0.0005〜0.5質量部含有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。
- ベンゾキサゾール系化合物が、2,5−チオフェンジイル(5−t−ブチル−1,3−ベンゾキサゾール)である、請求項6に記載のスチレン系樹脂組成物。
- スチレン系樹脂組成物が、スチレン系共重合体100質量部に対して、さらに、アミン系界面活性剤、若しくはアニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤を0.1〜3質量部含有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。
- アミン系界面活性剤が、N−ヒドロキシエチル−N−(2−ヒドロキシアルキル)アミンである、請求項8に記載のスチレン系樹脂組成物。
- アニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤の配合比が、アニオン系界面活性剤/非アミンノニオン系界面活性剤=0.5/99.5〜15/85(質量比)である請求項8に記載のスチレン系樹脂組成物。
- アニオン系界面活性剤が、炭素数10〜14の有機スルホン酸金属塩であり、非アミンノニオン系界面活性剤が、グリセリン脂肪酸エステルである請求項8又は10に記載のスチレン系樹脂組成物。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物からなる成形体であって、その厚みが1〜7mmである成形体。
- 成形体が、射出成形体である請求項12に記載の成形体。
- 成形体が、押出し成形体である請求項12に記載の成形体。
- 請求項12〜14のいずれか一項に記載の成形体を用いた光拡散シート。
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