JPWO2007148435A1 - エステルまたはアルコールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
一般式（９）で表されるフルオロイミジニウムスルホネート誘導体または一般式（６）で表されるフルオロイミジニウムカルボキシレート誘導体を用いる、立体配置の反転を伴ったアルコールを原料とするエステルまたはアルコールの製造方法を提供する。さらに、一般式（９）で表されるフルオロイミジニウムスルホネート誘導体およびその製造方法等を提供する。
Description
本発明は、新規な含フッ素化合物に関し、およびそれを用いた、アルコールを原料とし、原料のアルコールに対して立体配置の反転を伴ったエステルまたはアルコールの製造方法に関する。さらに具体的には、含フッ素化合物であるフルオロイミジニウムスルホネート誘導体、その製造方法、およびそれを用いたアルコールを原料とするスルホン酸エステルの製造方法に関する。さらに、含フッ素化合物であるフルオロイミジニウムカルボキシレート誘導体、その製造方法、およびそれを用いたアルコールを原料とする立体配置の反転を伴ったカルボン酸エステルまたはアルコール誘導体の製造方法に関するものである。本発明によって製造されるエステルおよびアルコールは、望みとする各種の官能基が容易に導入でき、高い光学純度で必要とする立体配置を有している。したがって、医薬、農薬、化粧品材料を始めとする多くの分野の製造原料として非常に有用な化合物群となる。
アルコールを原料とするスルホン酸エステル誘導体の製造方法に関して、従来技術を以下の（１）〜（３）で説明する。
（１）スルホン酸ハライドを用いる方法
アルコールに対して、スルホン酸ハライドを反応させ、対応するスルホン酸エステル誘導体を製造する方法である。多くの場合、ハライドは、クロライドまたはフルオライドである（非特許文献１）。一般に、等モル以上の塩基共存下で実施しないと、副生する酸成分の影響により、上記反応は完結しない。また、別途調製した金属アルコキシドと反応させる方法もある（非特許文献２）。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン等を用いることが多い。しかし、共存する塩基の影響により、生成したスルホン酸エステル誘導体が分解する、あるいは光学活性な化合物がラセミ化し光学純度が低下するなどの問題を有している。光学活性なアルコールを原料とした場合、ラセミ化がなければ、立体保持した対応するスルホン酸エステル誘導体が得られる。
アルコールに対して、スルホン酸ハライドを反応させ、対応するスルホン酸エステル誘導体を製造する方法である。多くの場合、ハライドは、クロライドまたはフルオライドである（非特許文献１）。一般に、等モル以上の塩基共存下で実施しないと、副生する酸成分の影響により、上記反応は完結しない。また、別途調製した金属アルコキシドと反応させる方法もある（非特許文献２）。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン等を用いることが多い。しかし、共存する塩基の影響により、生成したスルホン酸エステル誘導体が分解する、あるいは光学活性な化合物がラセミ化し光学純度が低下するなどの問題を有している。光学活性なアルコールを原料とした場合、ラセミ化がなければ、立体保持した対応するスルホン酸エステル誘導体が得られる。
（２）スルホン酸無水物を用いる方法
アルコールに対して、スルホン酸無水物を反応させ、対応するスルホン酸エステル誘導体を製造する方法である（非特許文献３）。塩基が共存しない場合には、反応が完結しない。問題点としては、上記（１）と同様に、共存する塩基の影響で、生成したスルホン酸エステル誘導体が分解する、あるいは光学活性な化合物がラセミ化し光学純度が低下する等が考えられる。光学活性なアルコールを原料とした場合、ラセミ化がなければ、立体保持した対応するスルホン酸エステル誘導体が得られる。
アルコールに対して、スルホン酸無水物を反応させ、対応するスルホン酸エステル誘導体を製造する方法である（非特許文献３）。塩基が共存しない場合には、反応が完結しない。問題点としては、上記（１）と同様に、共存する塩基の影響で、生成したスルホン酸エステル誘導体が分解する、あるいは光学活性な化合物がラセミ化し光学純度が低下する等が考えられる。光学活性なアルコールを原料とした場合、ラセミ化がなければ、立体保持した対応するスルホン酸エステル誘導体が得られる。
（３）光延反応による方法
アルコールに対して、アゾジカルボン酸エステルとホスフィン誘導体共存下でスルホン酸を反応させ、対応するスルホン酸エステル誘導体を製造する方法である（非特許文献４および５）。光学活性なアルコールを原料とした場合、上記の（１）、（２）と異なり立体配置の反転を伴ってスルホン酸エステル誘導体が得られる点が特徴である。光延反応は、目的物であるスルホン酸エステル誘導体と、副生するアゾジカルボン酸エステルおよびホスフィン誘導体由来の化合物とが分離困難であるという問題を有している。加えて、使用するアゾジカルボン酸エステルは爆発の危険性があり、かつ比較的高価であることから、工業化スケールでの反応には適さない。
アルコールに対して、アゾジカルボン酸エステルとホスフィン誘導体共存下でスルホン酸を反応させ、対応するスルホン酸エステル誘導体を製造する方法である（非特許文献４および５）。光学活性なアルコールを原料とした場合、上記の（１）、（２）と異なり立体配置の反転を伴ってスルホン酸エステル誘導体が得られる点が特徴である。光延反応は、目的物であるスルホン酸エステル誘導体と、副生するアゾジカルボン酸エステルおよびホスフィン誘導体由来の化合物とが分離困難であるという問題を有している。加えて、使用するアゾジカルボン酸エステルは爆発の危険性があり、かつ比較的高価であることから、工業化スケールでの反応には適さない。
アルコールを原料とする立体配置の反転を伴ったカルボン酸エステルまたはアルコール誘導体の製造方法に関して、従来技術を以下の（４）で説明する。
（４）光延反応による方法
アルコールに対して、アゾジカルボン酸エステルとホスフィン誘導体共存下でカルボン酸を反応させ、対応するカルボン酸エステル誘導体を製造する光延反応が広く知られている（非特許文献６）。光学活性なアルコールを原料とした場合、立体配置の反転を伴ってカルボン酸エステル誘導体が得られる。光延反応は、目的物であるカルボン酸エステル誘導体と、副生するアゾジカルボン酸エステルおよびホスフィン誘導体由来の化合物とが分離困難であるという問題がある。また使用するアゾジカルボン酸エステルは爆発の危険性があり、かつ比較的高価であるという問題を有していることから、工業化スケールでの反応には適さない。
（４）光延反応による方法
アルコールに対して、アゾジカルボン酸エステルとホスフィン誘導体共存下でカルボン酸を反応させ、対応するカルボン酸エステル誘導体を製造する光延反応が広く知られている（非特許文献６）。光学活性なアルコールを原料とした場合、立体配置の反転を伴ってカルボン酸エステル誘導体が得られる。光延反応は、目的物であるカルボン酸エステル誘導体と、副生するアゾジカルボン酸エステルおよびホスフィン誘導体由来の化合物とが分離困難であるという問題がある。また使用するアゾジカルボン酸エステルは爆発の危険性があり、かつ比較的高価であるという問題を有していることから、工業化スケールでの反応には適さない。
加えて、得られたカルボン酸エステル誘導体を塩基性または酸性条件下で加水分解反応を行うか、あるいは水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム等を用いた還元的な反応を行うことで、対応するアルコール誘導体を製造できることが一般的に知られている。
また、本発明で用いられるフルオロイミジニウムカルボキシレート誘導体の範疇に含まれるテトラアルキルフルオロアミジニウムトリフルオロアセテートは、トリフルオロアセトキシ化剤として公知である。しかしながら、本発明のように、フルオロイミジニウムカルボキシレート誘導体を用いることで、アルコールから高い立体選択性で立体配置の反転を伴ってカルボン酸エステルまたはアルコールが製造できることは全く知られていなかった（特許文献１）。
Ｒ． Ｓｔｕａｒｔ Ｔｉｐｓｏｎ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，第２３５−２４１頁（１９４４） Ｈｅｒｂｅｒｔ Ｃ． Ｂｒｏｗｎ， ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ.．，８９，第３７０−３７８頁（１９６７） Ｌ．Ｒ．Ｓｕｂｒａｍａｎｉａｎ， ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，１０５，第１４６５−１４７０頁（１９７２） Ｉｇｏｒ Ｇａｌｙｎｋｅｒ， ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ.．，２３，第４４６１−４４６４頁（１９８２） Ｎｅａｌ Ｇ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ， ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６１，第７９５５−７９５８頁（１９９６） Ｏｙｏ Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，第１−２８頁（１９８１） 特開２０００−１２８８６８号公報
Ｒ． Ｓｔｕａｒｔ Ｔｉｐｓｏｎ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，第２３５−２４１頁（１９４４） Ｈｅｒｂｅｒｔ Ｃ． Ｂｒｏｗｎ， ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ.．，８９，第３７０−３７８頁（１９６７） Ｌ．Ｒ．Ｓｕｂｒａｍａｎｉａｎ， ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，１０５，第１４６５−１４７０頁（１９７２） Ｉｇｏｒ Ｇａｌｙｎｋｅｒ， ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ.．，２３，第４４６１−４４６４頁（１９８２） Ｎｅａｌ Ｇ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ， ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６１，第７９５５−７９５８頁（１９９６） Ｏｙｏ Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，第１−２８頁（１９８１）
本発明は、（１）光学活性または幾何異性を有するアルコールを原料とする、原料のアルコールに対して立体配置の反転を伴ったエステルまたはアルコールの製造方法であって、工業的な生産に適した新規な製造方法を提供するものである。加えて、（２）アルコールを原料とするスルホン酸エステル、カルボン酸エステル、およびアルコールの製造における非常に有用な反応試剤として、新規な含フッ素化合物であるフルオロイミジニウムスルホネート誘導体およびフルオロイミジニウムカルボキシレート誘導体、およびその製造方法を提供するものである。
本発明によれば、以下が提供される。
［１］ 光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールと、一般式（１）
[式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ１とＲ２とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい。Ａは、水素原子、一般式（２）
（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ４とＲ５とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子とを含む環を形成してもよい。あるいは、Ｒ１とＲ４とが結合して窒素原子を含む環を形成してもよい。）で表される置換基、または一般式（３）
（式中、Ｒ６は、フッ素原子またはフッ素原子で一部あるいは全てが置換されたアルキル基を示す。）で表される置換基を示す。Ｘは、一般式（４）、
（式中、Ｒ３は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示す。）または一般式（５）
（式中、Ｒ３は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示す。）で表される化合物を示す。]で表される化合物とを反応させる、原料のアルコールに対して立体配置が反転したエステルまたはアルコールの製造方法。
［２］ 一般式（１）で表される化合物において、Ｘが一般式（４）で表され、スルホン酸エステルを得ることを含む、［１］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［３］ 一般式（１）で表される化合物が、一般式（６）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＡは前記一般式（１）中のものと同義である。）で表され、カルボン酸エステルまたはアルコールを得ることを含む、［１］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［４］ 一般式（６）で表される化合物が、一般式（７）
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＡは前記一般式（１）中のものと同義である。）で表され、カルボン酸エステルまたはアルコールを得ることを含む、［３］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［５］ 前記光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールが、光学活性な２級アルコールであり、スルホン酸エステルを得ることを含む、［２］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［６］ 前記光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールが、光学活性な２級アルコールであり、カルボン酸エステルまたはアルコールを得ることを含む、［３］または［４］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［７］ 前記光学活性な２級アルコールが、一般式（８）
（式中、Ｒ８は水素原子、カルボン酸、カルボン酸エステル、またはカルボン酸アミドを示す。Ｒ９は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルカルボニル基、または置換または無置換のアリールカルボニル基を示す。＊印は、水酸基が光学活性であることを示し、Ｒ体またはＳ体いずれか一方の化合物を表す。）で表され、スルホン酸エステルを得ることを含む、［５］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［８］ 前記光学活性な２級アルコールが、一般式（８）
（式中、Ｒ８は水素原子、カルボン酸、カルボン酸エステル、またはカルボン酸アミドを示す。Ｒ９は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルカルボニル基、または置換または無置換のアリールカルボニル基を示す。＊印は、水酸基が光学活性であることを示し、Ｒ体またはＳ体いずれか一方の化合物を表す。）で表され、カルボン酸エステルまたはアルコールを得ることを含む、［６］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［９］ 一般式（９）
[式中、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は、それぞれ独立して、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ１とＲ２とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい。Ａは、水素原子、一般式（２）
（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ４とＲ５とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい。あるいは、Ｒ１とＲ４とが結合して窒素原子を含む環を形成してもよい。）で表される置換基、または一般式（３）
（式中、Ｒ６は、フッ素原子またはフッ素原子で一部あるいは全てが置換されたアルキル基を示す。）で表される置換基を示す。]
で表される化合物。
［１０］ 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１０）
（式中、Ｒ１〜Ｒ５は前記一般式（９）中のものと同義である。）で表される、［９］記載の化合物。
［１１］ 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１１）
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は前記一般式（９）中のものと同義である。）で表される、［９］記載の化合物。
［１２］ 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１２）
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は前記一般式（９）中のものと同義である。Ｒ７は、フッ素原子またはフッ素原子で全て置換された炭素数１〜６のアルキル基を示す。）で表される、［９］記載の化合物。
［１３］ 一般式（１０）で表される化合物において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、およびＲ５が、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基である、［１０］記載の化合物。
［１４］ 一般式（１０）で表される化合物が、一般式（１３）
（式中、Ｒ３は前記一般式（９）中のものと同義である。）で表される、［１０］記載の化合物。
［１５］ 一般式（１４）
[式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ１とＲ２とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい。Ａは、水素原子、一般式（２）
（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ４とＲ５とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい。あるいは、Ｒ１とＲ４とが結合して窒素原子を含む環を形成してもよい。）で表される置換基、または一般式（３）
（式中、Ｒ６は、フッ素原子またはフッ素原子で一部あるいは全てが置換されたアルキル基を示す。）で表される置換基を示す。また、窒素原子が結合している炭素原子上の一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になっていてもよい。]で表される化合物と、一般式（１５）
（式中、Ｒ３は置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示す。Ｍ＋は、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを示す。）で表される化合物とを反応させることを含む、一般式（９）
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＡは、前記と同義である。]
で表される化合物の製造方法。
［１６］ 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１６）、
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、およびＲ５は前記一般式（１４）中のものと同義である。また、窒素原子が結合している炭素原子上の一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になっていてもよい。）で表される、［１５］記載の製造方法。
［１７］ 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１７）、
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記一般式（１４）中のものと同義である。また、窒素原子が結合している炭素原子上の一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になっていてもよい。）で表される、［１５］記載の製造方法。
［１８］ 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１８）、
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記一般式（１４）中のものと同義である。Ｒ７は、フッ素原子またはフッ素原子で全て置換された炭素数１〜６のアルキル基を示す。また、窒素原子が結合している炭素原子上の一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になっていてもよい。あるいは、フッ化水素が脱離してオレフィン型化合物となっていてもよい。）で表される、［１５］記載の製造方法。
［１９］ 一般式（１４）で表される化合物のＲ１、Ｒ２、Ｒ４、およびＲ５が、炭素数１〜６のアルキル基である、［１５］記載の製造方法。
［２０］ 一般式（１４）で表される化合物が、式（１９）
で表される、［１５］記載の製造方法。
［２１］ アルコールと、一般式（９）
[式中、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は、それぞれ独立して置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ１とＲ２とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい。Ａは、水素原子、一般式（２）
（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ４とＲ５とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい。あるいは、Ｒ１とＲ４とが結合して窒素原子を含む環を形成してもよい。）で表される置換基、または一般式（３）
（式中、Ｒ６は、フッ素原子またはフッ素原子で一部あるいは全てが置換されたアルキル基を示す。）で表される置換基を示す。]で表される化合物とを反応させることを含む、スルホン酸エステルの製造方法。
本発明によれば、以下が提供される。
［１］ 光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールと、一般式（１）
［２］ 一般式（１）で表される化合物において、Ｘが一般式（４）で表され、スルホン酸エステルを得ることを含む、［１］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［３］ 一般式（１）で表される化合物が、一般式（６）
［４］ 一般式（６）で表される化合物が、一般式（７）
［５］ 前記光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールが、光学活性な２級アルコールであり、スルホン酸エステルを得ることを含む、［２］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［６］ 前記光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールが、光学活性な２級アルコールであり、カルボン酸エステルまたはアルコールを得ることを含む、［３］または［４］記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
［７］ 前記光学活性な２級アルコールが、一般式（８）
［８］ 前記光学活性な２級アルコールが、一般式（８）
［９］ 一般式（９）
で表される化合物。
［１０］ 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１０）
［１１］ 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１１）
［１２］ 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１２）
［１３］ 一般式（１０）で表される化合物において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、およびＲ５が、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基である、［１０］記載の化合物。
［１４］ 一般式（１０）で表される化合物が、一般式（１３）
［１５］ 一般式（１４）
で表される化合物の製造方法。
［１６］ 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１６）、
［１７］ 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１７）、
［１８］ 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１８）、
［１９］ 一般式（１４）で表される化合物のＲ１、Ｒ２、Ｒ４、およびＲ５が、炭素数１〜６のアルキル基である、［１５］記載の製造方法。
［２０］ 一般式（１４）で表される化合物が、式（１９）
［２１］ アルコールと、一般式（９）
本発明によれば、アルコールを原料とするスルホン酸エステル、カルボン酸エステル、およびアルコールの製造が簡便かつ高収率に可能である。また、原料のアルコールに対して立体配置の反転を伴ってスルホン酸エステル、カルボン酸エステルおよびアルコールに誘導化することができる。加えて、反応試薬由来の副生成物の除去が容易であり、また爆発等の危険性が無く安全性も高い。したがって、工業的な見地から非常に効果的な製造方法が提供される。
以下、本発明を詳細に説明する。
一般式（１）は以下のように表される。
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ１とＲ２とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい。）
一般式（１）は以下のように表される。
一般式（１）において、Ｒ１およびＲ２中の「置換または無置換のアルキル基」とは、アルキル基の任意の水素原子が置換基で置換されたアルキル基または無置換のアルキル基を意味する。アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、ビニル基、アリル基等を挙げることができる。また、アルキル基の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、ビニル基、アリル基等のアルキル基、メトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基または、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
一般式（１）において、Ｒ１およびＲ２中の「置換または無置換のアリール基」とは、アリール基の任意の水素原子が置換基で置換されたアリール基または無置換のアリール基を意味する。アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントラセニル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基等を挙げることができる。また、アリール基の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、ビニル基、アリル基等のアルキル基、メトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、またはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
一般式（１）において、Ｒ１およびＲ２中の「置換または無置換のヘテロ環」とは、ヘテロ環の任意の水素原子が置換基で置換されたヘテロ環または無置換のヘテロ環を意味する。ヘテロ環としては、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、モルホリン、ジオキサン等を挙げることができる。また、ヘテロ環の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、ビニル基、アリル基等のアルキル基、メトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、またはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
一般式（１）において、「Ｒ１とＲ２とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を形成してもよい」とは、Ｒ１とＲ２とが結合して窒素原子を含む環を形成してもよく、または窒素原子と他のヘテロ原子とを含む環を形成してもよいことを意味する。窒素原子を含む環としては、例えばピラゾール、ピロリジン、イミダゾール、ピペリジン、インドール、ベンズイミダゾール、カルバゾール等を挙げることができる。窒素原子と他のヘテロ原子とを含む環としては、例えばモルホリン、チオモルホリン等を挙げることができる。
一般式（１）において、Ａは、水素原子、下記一般式（２）で表される置換基、または下記一般式（３）で表される置換基を示す。
一般式（２）は以下のように表される。
（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環を示し、同一でも異なってもよい。また、Ｒ４とＲ５とが結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子とを含む環を形成してもよい。あるいは、Ｒ１とＲ４とが結合して窒素原子を含む環を形成してもよい。）
一般式（２）は以下のように表される。
一般式（２）において、Ｒ４およびＲ５中の「置換または無置換のアルキル基」、「置換または無置換のアリール基」、「置換または無置換のヘテロ環」は、前記の一般式（１）中のＲ１およびＲ２中の「置換または無置換のアルキル基」、「置換または無置換のアリール基」、「置換または無置換のヘテロ環」と同義である。
一般式（２）において、「Ｒ４とＲ５が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子とを含む環を形成してもよい」とは、Ｒ４とＲ５とが結合して窒素原子を含む環を形成してもよく、または窒素原子と他のヘテロ原子とを含む環を形成してもよいことを意味する。窒素原子を含む環としては、例えばピラゾール、ピロリジン、イミダゾール、ピペリジン、インドール、ベンズイミダゾール、カルバゾール等を挙げることができる。窒素原子と他のヘテロ原子とを含む環としては、例えばモルホリン、チオモルホリン等を挙げることができる。
一般式（２）において、Ｒ１とＲ４とが結合して窒素原子を含む環を形成してもよい。窒素原子を含む環としては、例えばイミダゾリン、テトラヒドロピリミジン、ベンズイミダゾリン等を挙げることができる。
一般式（３）は以下のように表される。
一般式（３）において、Ｒ６の「フッ素原子で一部あるいは全てが置換されたアルキル基」とは、アルキル基の任意の一部の水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基またはアルキル基の全ての水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基を意味する。アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、ビニル基、アリル基等を挙げることができる。
一般式（１）において、Ｘは、下記一般式（４）または下記一般式（５）で表される化合物を示す。
一般式（４）は以下のように表される。
一般式（４）は以下のように表される。
一般式（５）は以下のように表される。
本発明は、以下の一般式（１）で表される化合物を、原料である光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールに反応させた場合、立体配置の反転を伴ってエステルまたはアルコールが得られるという非常に有用な知見を見出したものである。従来のエステル化剤では、光延反応を用いた場合のみ立体配置の反転を伴ったエステル化あるいはアルコールへの誘導が可能であった。しかし、光延反応の場合、目的物の単離や安全性、さらには製造コスト等を考慮すると、工業的なスケールには適さない製造方法であった。光延反応と比較して本反応は、ホスフィン誘導体を用いないことから単離精製が非常に容易であり、かつ爆発の危険性のあるジアゾカルボン酸エステルを必要としない安全な製造方法である。
一般式（１）で表される化合物は、例えば、下記一般式（９）で表される。
一般式（９）で表される化合物は、アルコールを原料とするスルホン酸エステル化剤として優れた能力を有する。すなわち、原料アルコールに対して立体配置が反転したスルホン酸エステルを製造することができる。また、スルホン酸エステル化反応後、目的化合物と試薬由来の化合物との分離が非常に容易であり、かつ爆発の心配も無く安全性も高い。したがって、工業的な観点から非常に有用である。
また、一般式（１）で表される化合物は、例えば、下記一般式（６）で表される。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＡは前記と同義である。）
一般式（６）で表される化合物は、アルコールを原料とする立体反転試薬として優れた能力を有する。すなわち、原料アルコールに対して立体配置が反転したカルボン酸エステルまたはアルコールを製造することができる。また、反応後、目的化合物と試薬由来の化合物との分離が非常に容易であり、かつ爆発の心配も無く安全性も高い。したがって、工業的な観点から非常に有用である。
一般式（６）で表される化合物は、例えば、下記一般式（７）で表される。
一般式（９）で表される化合物は、例えば、下記一般式（１０）〜（１２）で表される。
一般式（１０）において、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、およびＲ５が、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基である。また、一般式（１０）で表される化合物は、例えば、下記一般式（１３）で表される。
（式中、Ｒ３は前記と同義である。）
一般式（１２）において、Ｒ７の「フッ素原子で全て置換された炭素数１〜６のアルキル基」とは、炭素数１〜６のアルキル基で、全ての水素原子がフッ素原子で置換されているアルキル基を意味する。炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、ビニル基、アリル基等を挙げることができる。
ここで、一般式（９）で表される化合物は、下記一般式（１４）および下記一般式（１５）で表される化合物を反応させることで簡便に製造可能である。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、およびAは前記と同義である。また、窒素原子が結合している炭素原子上の一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になっていてもよい。）
一般式（１４）において、「一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になっていてもよい」とは、一般式（１４）で表される化合物の一方のフッ素原子がアニオンとなり、イオン対型の化合物である下記一般式（２０）で表される化合物となってもよいことを意味する。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、およびAは一般式（１）中のものと同義である。）
好ましくは、一般式（１４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ５は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基である。「炭素数１〜６のアルキル基」とは、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、ビニル基またはアリル基等を意味する。
一般式（１５）におけるアルカリ金属イオンとしては、例えばリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオン等を挙げることができる。一般式（１５）におけるアルカリ土類金属イオンとしては、例えばマグネシウムイオン、カルシウムイオン、バリウムイオン等を挙げることができる。
さらに、一般式（１４）で表される化合物は、例えば、下記一般式（１６）〜（１９）で表される。
一般式（１６）〜（１９）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ７は前記と同義である。また、窒素原子が結合している炭素原子上の一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になっていてもよい。また、一般式（１８）において、フッ化水素が脱離してオレフィン型化合物となっていてもよい。
一般式（１６）において、「一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になってもよい」とは、一般式（１６）で表される化合物の一方のフッ素原子がアニオンとなり、イオン対型の化合物である一般式（２１）で表される化合物となっていてもよいことを意味する。
一般式（１７）において、「一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になってもよい」とは、一般式（１７）で表される化合物の一方のフッ素原子がアニオンとなり、イオン対型の化合物である一般式（２２）で表される化合物となってもよいことを意味する。
一般式（１８）において、「窒素原子が結合している炭素原子上の一方のフッ素原子がアニオンとしてイオン対型になってもよい」とは、一般式（１８）で表される化合物の一方のフッ素原子がアニオンとなり、イオン対型の化合物である一般式（２３）で表される化合物となってもよいことを意味する。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ７は前記と同義である。）
一般式（１８）において、「フッ化水素が脱離してオレフィン型になってもよい」とは、一般式（１８）で表される化合物からフッ化水素が脱離し、オレフィン型の化合物である一般式（２４）で表される化合物となってもよいことを意味する。
本発明における「アルコール」とは、鎖式または脂環式の炭化水素化合物にヒドロキシ基（ＯＨ基）が結合した化合物を意味する。鎖式アルコールとしては、例えばメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、４−フェニル−１−ブタノール、エチレングリコール、２−（４'−クロロフェノキシ）エタノール、（Ｓ）−２−ブタノール、（Ｒ）−２−ヘキサノール、（Ｒ）−２−オクタノール等を挙げることができる。脂環式アルコールとしては、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、trans-４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール、cis-４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール、（Ｒ）−N-tert-ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラヒドロフラン、（２Ｓ，４Ｒ）−N-tert-ブトキシカルボニル-４−ヒドロキシプロリンメチルエステル等を挙げることができる。
本発明における「光学活性なアルコール」とは、例えば（Ｓ）−２−ブタノール、（Ｒ）−２−ヘキサノール、（Ｒ）−２−オクタノール、（Ｒ）−N-tert-ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラヒドロフラン、（２Ｓ，４Ｒ）−N-tert-ブトキシカルボニル-４−ヒドロキシプロリンメチルエステル等を挙げることができる。
本発明における「幾何異性を有するアルコール」とは、例えば、trans-４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール、cis-４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール、trans-３−メチルシクロブタノール等を挙げることができる。
本発明における「光学活性な２級アルコール」としては、例えば（Ｓ）−２−ブタノール、（Ｒ）−２−ヘキサノール、（Ｒ）−２−オクタノール、（Ｒ）−N-tert-ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラヒドロフラン、（２Ｓ，４Ｒ）−N-tert-ブトキシカルボニル-４−ヒドロキシプロリンメチルエステル等を挙げることができる。
光学活性な２級アルコールは、例えば、下記一般式（８）で表される。
（式中、Ｒ８は水素原子、カルボン酸、カルボン酸エステル、またはカルボン酸アミドを示す。Ｒ９は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルカルボニル基、または置換または無置換のアリールカルボニル基を示す。＊印は、水酸基が光学活性であることを示し、Ｒ体またはＳ体いずれか一方の化合物を表す。）
一般式（８）において、Ｒ９中の「置換または無置換のアルキル基」、「置換または無置換のアリール基」とは、前記の一般式（１）における「置換または無置換のアルキル基」、「置換または無置換のアリール基」と同義である。
一般式（８）において、Ｒ９中の「置換または無置換のアルコキシカルボニル基」とは、アルコキシカルボニル基の任意の水素原子が置換基で置換されたアルコキシカルボニル基、または無置換のアルコキシカルボニル基を意味する。アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基、tert-ブトキシキカルボニル基、n-ペンチルオキシカルボニル基、n-ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等を挙げることができる。また、アルコキシ基の置換基としては、例えばフェニル基、メトキシ基、エトキシ基またはベンジルオキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、またはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
一般式（８）において、Ｒ９中の「置換または無置換のアリールオキシカルボニル基」とは、アリールオキシカルボニル基の任意の水素原子が置換基で置換されたアリールオキシカルボニル基、または無置換のアリールオキシカルボニル基を意味する。アリールオキシカルボニル基としては、例えばフェノキシ基、ナフチルオキシ基、ピリジルオキシ基等を挙げることができる。また、アリールオキシカルボニル基の置換基としては、例えばフェニル基、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、またはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
一般式（８）において、Ｒ９中の「置換または無置換のアルキルカルボニル基」とは、アルキルカルボニル基の任意の水素原子が置換基で置換されたアルキルカルボニル基または無置換のアルキルカルボニル基を意味する。アルキルカルボニル基としては、例えばホルミル基、アセチル基、ピバロイル基等を挙げることができる。また、アルキルカルボニル基の置換基としては、例えばフェニル基、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、またはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
一般式（８）において、Ｒ９中の「置換または無置換のアリールカルボニル基」とは、アリールカルボニル基の任意の水素原子が置換基で置換されたアリールカルボニル基または無置換のアリールカルボニル基を意味する。アリールカルボニル基としては、例えばベンゾイル基、ナフトイル基、アントラセニルカルボニル基、ピリジルカルボニル基、フリルカルボニル基、チエニルカルボニル基等を挙げることができる。また、アリールカルボニル基の置換基としては、例えばアルキル基、メトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、またはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子などを挙げることができる。
本発明における、立体配置の反転を伴うことを特徴とする、原料のアルコールに対して立体配置が反転したエステルまたはアルコールの製造方法の例について以下に説明する。
例えば、立体配置が反転したエステルまたはアルコールの製造方法とは、エステルとしてスルホン酸エステルを得る場合、光学活性なアルコールを原料とし、（反応式１）のように原料のヒドロキシ基（ＯＨ基）の立体に対して、立体配置が反転したスルホン酸エステルを製造する。
また、立体配置が反転したエステルまたはアルコールの製造方法とは、例えば、幾何異性を有するアルコールを原料とし、（反応式２）のように原料のヒドロキシ基（ＯＨ基）の立体に対して、立体配置が反転したスルホン酸エステルを製造する。
一方、立体配置が反転したエステルまたはアルコールの製造方法とは、例えばエステルとしてカルボン酸エステルを得る場合、光学活性なアルコールを原料とし、（反応式３）のように原料のヒドロキシ基（ＯＨ基）の立体に対して、立体配置が反転したカルボン酸エステルを製造する。
また、幾何異性を有するアルコールを原料とし、例えば、（反応式４）のように原料のヒドロキシ基（ＯＨ基）の立体に対して、立体配置が反転したカルボン酸エステルを製造する。
さらには、例えばアルコールを得る場合、光学活性なアルコールを原料とし、（反応式５）のように原料のヒドロキシ基（ＯＨ基）の立体に対して、立体配置が反転したアルコールを製造する。（反応式５）の方法は、立体配置が反転したカルボン酸エステルを中間体とする製造方法である。
また、幾何異性を有するアルコールを原料とし、例えば、（反応式６）のように原料のヒドロキシ基（ＯＨ基）の立体に対して、立体配置が反転したカルボン酸エステルを製造する。（反応式６）の方法は、立体配置が反転したカルボン酸エステルを中間体とする製造方法である。
（式中、Ｘ、Ｚはそれぞれ異なった置換基を表す。Ｒ３は、前記と同義である。）
スルホン酸エステル化剤等として有用な一般式（９）で表される化合物の製造方法について説明する。一般式（１４）で表される化合物に、一般式（１５）で表される化合物を反応させることで、一般式（９）で表される化合物を製造することができる。一般式（１５）で表される化合物の使用当量に特に制限はないが、好ましくは一般式（１４）で表される化合物に対して０．５〜３当量、さらに好ましくは０．９〜１．５当量の範囲である。
反応は無溶媒でも実施可能な場合もあるが、必要に応じて希釈溶媒中で行ってもよい。反応に用いることができる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に制限はない。例えば、トルエン、キシレン、クメン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。また、前記の各溶媒を用いて、任意の比率の混合溶媒として使用してもよい。
反応温度に関しては、反応が進行する温度であれば特に制限はなく、通常、反応は−１００℃〜溶媒の沸点で行うことが可能である。より好ましくは、−２０℃〜６０℃の温度範囲である。
上記一般式（１０）、（１１）、（１２）、および（１３）で表される化合物は、前記の一般式（９）で表される化合物と同様に処理することにより製造可能である。なお、一般式（１２）で表される化合物は、一般式（２５）で表される化合物の構造をとってもよい。
アルコールを原料としたスルホン酸エステルの製造方法について説明する。アルコールを原料とし、一般式（９）で表される化合物をスルホン酸エステル化剤として用いることでスルホン酸エステルを製造することができる。この場合、一般式（９）で表される化合物は、前記記載の製造方法によって製造した後に、特に精製を加えることなく溶液状態のままで使用することができる。また場合によっては、前記記載の製造方法によって製造した後、ろ過による副生する塩の除去または減圧濃縮による溶媒の除去、あるいは一般式（９）で表される化合物の蒸留等の後処理、精製をした状態で使用することも可能である。
原料のアルコールに対して、一般式（９）で表されるスルホン酸エステル化剤の使用当量に特に制限はないが、好ましくは原料のアルコールに対して０．１〜１０当量、さらに好ましくは０．８〜２．０当量の範囲である。
反応は無溶媒でも実施可能な場合もあるが、必要に応じて希釈溶媒中で行ってもよい。反応に用いることができる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に制限はない。例えば、トルエン、キシレン、クメン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。また、前記の各溶媒を用い、任意の比率の混合溶媒としても用いてもよい。
反応温度に関しては、反応が進行する温度であれば特に制限はなく、通常、反応は−２０℃〜溶媒の沸点で行うことが可能である。より好ましくは、０℃〜１２０℃の温度範囲である。
本反応は、特に塩基を添加することなしに反応が進行するが、場合によっては塩基共存下反応することも可能である。使用可能な塩基としては、特に制限はないが、例えばトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類を挙げることができる。
次に、光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールを原料とする立体配置の反転を伴ったエステルの製造方法について説明する。エステルがスルホン酸エステルである場合には、前記記載のアルコールを原料とするスルホン酸エステルの製造方法と同様に反応させることで実施可能である。エステルがカルボン酸エステルである場合には、一般式（６）で表される化合物をカルボン酸エステル化剤として用いることで製造することができる。この場合、一般式（６）で表される化合物は、公知の方法、例えば特開２０００−１２８８６８に記載の製造方法により製造することができる。例えば一般式（１９）で表される化合物とトリフルオロ酢酸ナトリウムとを用いて希釈溶媒中で、一般式（６）で表される化合物を製造した後に、特に精製を加えることなく均一溶液状態あるいは懸濁溶液状態のままで使用することができる。また場合によっては、上記方法によって得られた一般式（６）で表される化合物を含む溶液から、ろ過による副生する塩の除去、または減圧濃縮による溶媒の除去、あるいは蒸留等の後処理、精製をした状態で使用することも可能である。
原料のアルコールに対して、一般式（６）で表されるカルボン酸エステル化剤の使用等量に特に制限はないが、好ましくは原料のアルコールに対して０．１〜１０等量、さらに好ましくは０．８〜３．０等量の範囲である。
反応は無溶媒でも実施可能な場合もあるが、必要に応じて希釈溶媒中で行ってもよい。反応に用いることができる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものでああれば特に制限はない。例えば、トルエン、キシレン、クメン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。また、前記の各溶媒を用い、任意の比率の混合溶媒として用いてもよい。
反応温度に関しては、反応が進行する温度であれば特に制限はなく、通常、反応は−７８℃〜溶媒の沸点で行う。より好ましくは、−２０℃〜１２０℃の温度範囲である。ただし、立体配置の反転の選択性が低い場合、一般式（６）で表される化合物と原料のアルコールとを−２０〜１０℃程度の低温で混合した後、２５℃以上の温度に加温することで選択性が向上する場合がある。
本反応では、特に塩基を添加することなしに反応が進行するが、場合によっては塩基共存下反応させてもよい。使用可能な塩基としては、特に制限はないが、例えばトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が挙げられる。
次に、光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールを原料とする立体配置の反転を伴ったアルコールの製造方法について説明する。まず、光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールを原料とし、前記の立体配置の反転を伴ったエステルの製造方法と同様に反応を行う。その後、反応溶液をアルカリ性の水溶液と混合することでカルボン酸エステル化反応の後処理と同時にエステル基の加水分解反応を進行させる。
アルカリ性の水溶液としては、特に制限はないが、好ましくは水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液等の強アルカリ性の水溶液が挙げられる。また、アルカリ性の水溶液の使用等当量は、特に制限はないが、好ましくは原料のアルコールに対して１〜１０等当量、さらに好ましくは２．０〜４．０等当量の範囲である。
反応温度は、反応が進行する温度であれば特に制限はなく、通常、−７８℃〜溶媒の沸点の範囲である。より好ましくは、−２０℃〜１２０℃の温度範囲である。
立体配置の反転は、対応する異性体を通常のＨＰＬＣ分析またはＧＣ分析することにより、あるいはキラルＨＰＬＣ分析あるいはキラルＧＣ分析することにより、確認することができる。
本発明で得られた化合物の単離方法としては、特に制限はないが、例えば、反応液をアルカリ水で中和処理した水溶液から直接結晶化によって単離する方法、前記の中和処理した水溶液から有機溶媒で抽出した後に有機溶媒を濃縮し、結晶性化合物を単離する方法、前記有機溶媒を濃縮して得られる残渣から蒸留操作によって単離する方法、または前記有機溶媒を濃縮して得られる残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって単離する方法等が挙げられる。
なお、本明細書に記載の使用原料は、市販品、または公知の方法によって入手可能である。
以下に、本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
以下に、本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
［実施例１］
２−フルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウム メタンスルホネート（以下ＦＭＳＩと略す）の製造
２−フルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウム メタンスルホネート（以下ＦＭＳＩと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（２．３７ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲で２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリジン（以下ＤＦＩと略す）（２．７３ｇ）を滴下した。
反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＭＳＩ）のアセトニトリル溶液を得た。
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（６６ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（７６ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＭＳＩ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＤＦＩに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．８５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），２．９６（ｓ，６Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，１００ＭＨｚ） δ１５９（ｄ，Ｊ＝２７８Ｈｚ），４７，７，３９．６，３２．２
反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＭＳＩ）のアセトニトリル溶液を得た。
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（６６ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（７６ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＭＳＩ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＤＦＩに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．８５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），２．９６（ｓ，６Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，１００ＭＨｚ） δ１５９（ｄ，Ｊ＝２７８Ｈｚ），４７，７，３９．６，３２．２
［実施例２］
２−フルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウム ヘキサンスルホネート（以下ＦＨＳＩと略す）の製造
２−フルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウム ヘキサンスルホネート（以下ＦＨＳＩと略す）の製造
収率＝定量的
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、ヘキサンスルホン酸ナトリウム（１０５ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（７６ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＨＳＩ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＤＦＩに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．８５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），２．９６（ｓ，６Ｈ），２．５７−２．５２（ｍ，２Ｈ），１．６７−１．５７（ｍ，２Ｈ），１．３５−１．２５（ｍ，６Ｈ），０．８４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，１００ＭＨｚ） δ１５９（ｄ，Ｊ＝２７９Ｈｚ），４７，７，３２．２，２９．２，２６．０，２３．１，
１４．２
［実施例３］
２−フルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウム ｐ−トルエンスルホネート（以下ＦＴＳＩと略す）の製造
２−フルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウム ｐ−トルエンスルホネート（以下ＦＴＳＩと略す）の製造
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム（１０８ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（７６ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＴＳＩ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＤＦＩに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），３．８１（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），２．９３（ｓ，６Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，１００ＭＨｚ） δ１５９（ｄ，Ｊ＝２７８Ｈｚ），１４５，１４０，１２９，１２６，４７，７，３２．２，２１．２
［実施例４］
２−フルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウム トリフルオロメタンスルホネート（以下ＦＴＦＩと略す）の製造
２−フルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウム トリフルオロメタンスルホネート（以下ＦＴＦＩと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム（３．２４ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲で２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチルイミダゾリジン（以下ＤＦＩと略す）（２．５６ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＴＦＩ）のアセトニトリル溶液を得た。
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム（９６ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（７６ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＴＦＩ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＤＦＩに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．８３（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），２．９６（ｓ，６Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，１００ＭＨｚ） δ１５９（ｄ，Ｊ＝２７８Ｈｚ），１２２（ｑ，Ｊ＝３２１Ｈｚ），４７，６，３２．１
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム（９６ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（７６ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＦＴＦＩ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＤＦＩに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．８３（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），２．９６（ｓ，６Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，１００ＭＨｚ） δ１５９（ｄ，Ｊ＝２７８Ｈｚ），１２２（ｑ，Ｊ＝３２１Ｈｚ），４７，６，３２．１
［実施例５］
テトラメチル−２−フルオロホルムアミジニウム メタンスルホネート（以下ＢＤＤＦＭＳと略す）の製造
テトラメチル−２−フルオロホルムアミジニウム メタンスルホネート（以下ＢＤＤＦＭＳと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（１．４１ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でビス−ジメチルアミノ−ジフルオロメタン（以下ＢＤＤＦと略す）（１．６５ｇ）を滴下した。
反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＢＤＤＦＭＳ）のアセトニトリル溶液を得た。
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（１４４ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＢＤＤＦ（１６８ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＢＤＤＦＭＳ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＢＤＤＦに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．１２，３．１１（２Ｓ，１２Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，１００ＭＨｚ） δ１５７（ｄ，Ｊ＝２８０Ｈｚ），４０．２，３９．６
反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＢＤＤＦＭＳ）のアセトニトリル溶液を得た。
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（１４４ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＢＤＤＦ（１６８ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＢＤＤＦＭＳ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＢＤＤＦに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．１２，３．１１（２Ｓ，１２Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，１００ＭＨｚ） δ１５７（ｄ，Ｊ＝２８０Ｈｚ），４０．２，３９．６
［実施例６］
Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルイミジウム メタンスルホネート（以下ＰＰＤＡＭＳと略す）の製造
Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルイミジウム メタンスルホネート（以下ＰＰＤＡＭＳと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（１．１８ｇ）をアセトニトリル（１２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＮ，Ｎ−ジエチル−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピルアミン（以下ＰＰＤＡと略す）（２．２２ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＰＰＤＡＭＳ）のアセトニトリル溶液を得た。
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（８９ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＰＰＤＡ（１６８ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＰＰＤＡＭＳ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＰＰＤＡに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．４３−３．３０（ｍ，１Ｈ），２．９４（ｑ，４Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．５８（ｓ，３Ｈ），１．０６（ｔ，６Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
収率＝１００％
上記反応を解析する為、重アセトニトリル溶媒中で反応を実施し、ＮＭＲによる分析を実施した。窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（８９ｍｇ）を重アセトニトリル（２ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＰＰＤＡ（１６８ｍｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、表題化合物（ＰＰＤＡＭＳ）の重アセトニトリル溶液を得た。ＮＭＲの解析から、原料であるＰＰＤＡに由来するピークは完全に消失し、新たに表題化合物に由来するピークを観測した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ３．４３−３．３０（ｍ，１Ｈ），２．９４（ｑ，４Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．５８（ｓ，３Ｈ），１．０６（ｔ，６Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
［実施例７］
４−フェニルブチル ｐ−トルエンスルホネート（以下ＰＢＴＳと略す）の製造
４−フェニルブチル ｐ−トルエンスルホネート（以下ＰＢＴＳと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム（３．０３ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（２．１３ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＴＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、４−フェニル−１−ブタノール（１．５６ｇ）を加え、６０−６５℃で２時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（３．２８ｇ）を水（３５ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（３５ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１→１０：１）で精製し、表題化合物（ＰＢＴＳ）を無色透明シロップとして得た。
収量 ３．１０ｇ
収率 ９８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．１７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．１０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），２．５６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．４４（ｓ，３Ｈ），１．７０−１．６０（ｍ，４Ｈ）
収量 ３．１０ｇ
収率 ９８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．１７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．１０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），２．５６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．４４（ｓ，３Ｈ），１．７０−１．６０（ｍ，４Ｈ）
［実施例８］
２−（４'−クロロフェノキシ）エチル ｐ−トルエンスルホネート（以下ＣＰＥＴＳと略す）の製造
２−（４'−クロロフェノキシ）エチル ｐ−トルエンスルホネート（以下ＣＰＥＴＳと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム（３．２４ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（２．２８ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＴＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、２−（４'−クロロフェノキシ）エタノール（１．９２ｇ）を加え、６０−６５℃で２時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（３．５１ｇ）を水（３５ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（３５ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１→１０：１）で精製し、結晶化（トルエン：ヘキサン＝１：４）を行い、表題化合物（ＣＰＥＴＳ）を白色結晶として得た。
融点 ６４．０℃
収量 ２．９１ｇ
収率 ８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．８０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），６．７０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），４．３５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝４．４，５．０Ｈｚ），４．１１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝４．４，５．０Ｈｚ），２．４５（ｓ，３Ｈ）
融点 ６４．０℃
収量 ２．９１ｇ
収率 ８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．８０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），６．７０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），４．３５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝４．４，５．０Ｈｚ），４．１１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝４．４，５．０Ｈｚ），２．４５（ｓ，３Ｈ）
［実施例９］
ｃｉｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル ｐ−トルエンスルホネート（以下ｃｉｓ−ＴＢＣＴＳと略す）の製造
ｃｉｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル ｐ−トルエンスルホネート（以下ｃｉｓ−ＴＢＣＴＳと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム（１．４５ｇ）をアセトニトリル（５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（１．２０ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＴＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、ｔｒａｎｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール（５７９ｍｇ）を加え、６０−６５℃で２時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（１．５６ｇ）を水（２０ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（２５ｇ）で抽出し、水（２０ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１→１０：１）で精製し、表題化合物（ｃｉｓ−ＴＢＣＴＳ）を白色結晶として得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣの保持時間は、参考例１で得られたｃｉｓ−ＴＢＣＴＳと一致した。
融点 ６２．５℃
収量 ７６８ｍｇ
収率 ８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），４．７４（ｂｓ，１Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ），１．９２（ｂｄ，２Ｈ，Ｊ＝４，２Ｈｚ），１．５４（ｂｄ，２Ｈ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），１．４５−１．３０（ｍ，４Ｈ），１．０５−０．９０（ｍ，１Ｈ），０．８３（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＴＢＣＴＳとtrans−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル ｐ−トルエンスルホネート（以下trans−ＴＢＣＴＳと略す）のピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＴＢＣＴＳ：ｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳ＝９９．０：１．０
ＨＰＬＣ分析条件−１
使用カラム ＹＭＣ−ＰＡＣＫ ＯＤＳ ＡＭ−３１２
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／１０ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４＝７５：２５
カラム温度 ４０℃
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 ２１０ｎｍ
融点 ６２．５℃
収量 ７６８ｍｇ
収率 ８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），４．７４（ｂｓ，１Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ），１．９２（ｂｄ，２Ｈ，Ｊ＝４，２Ｈｚ），１．５４（ｂｄ，２Ｈ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），１．４５−１．３０（ｍ，４Ｈ），１．０５−０．９０（ｍ，１Ｈ），０．８３（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＴＢＣＴＳとtrans−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル ｐ−トルエンスルホネート（以下trans−ＴＢＣＴＳと略す）のピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＴＢＣＴＳ：ｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳ＝９９．０：１．０
ＨＰＬＣ分析条件−１
使用カラム ＹＭＣ−ＰＡＣＫ ＯＤＳ ＡＭ−３１２
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／１０ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４＝７５：２５
カラム温度 ４０℃
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 ２１０ｎｍ
［実施例１０］
ｔｒａｎｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル ｐ−トルエンスルホネート（以下ｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳと略す）の製造
ｔｒａｎｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル ｐ−トルエンスルホネート（以下ｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳと略す）の製造
融点 ７１．０℃
収量 ７６８ｍｇ
収率 ８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），４．３５（ｂｓ，１Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ），２．０５−１．８５（ｍ，２Ｈ），１．８０−１．７０（ｍ，２Ｈ），１．４５−１．３５（ｍ，２Ｈ），１．０５−０．９０（ｍ，３Ｈ），０．８１（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＴＢＣＴＳとtrans−ＴＢＣＴＳのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＴＢＣＴＳ：ｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳ＝０．８：９９．２
ＨＰＬＣ条件は、実施例９のＨＰＬＣ分析条件−１とした。
［実施例１１］
（２Ｓ，４Ｓ）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−メタンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭと略す）の製造
（２Ｓ，４Ｓ）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−メタンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（２．３７ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（２．７３ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＭＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、trans−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル（３．２７ｇ）を加え、６０−６５℃で８時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（４．２１ｇ）を水（４２ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（４０ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝２：１→１：１）で精製し、表題化合物（ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ）をシロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣの保持時間は、参考例３で得られたｃｉｓ−ＭＳＢＰＭと一致した。
収量 ３．５４ｇ
収率 ８２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２３（ｂｓ，１Ｈ），４．５５−４．４５（ｍ、１Ｈ），３．８２−３．７５（ｍ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．０２（ｓ，３Ｈ），２．５６−２．４８（ｍ，２Ｈ），１．４８，１．４３（２ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＭＳＢＰＭと(２Ｓ，４Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−メタンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭと略す）のピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭ＝９９．６：０．４
ＨＰＬＣ分析条件−２
使用カラム ＹＭＣ−ＰＡＣＫ ＯＤＳ ＡＭ−３１２
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／１０ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４＝４０／６０
カラム温度 ４０℃
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 ２１０ｎｍ
収量 ３．５４ｇ
収率 ８２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２３（ｂｓ，１Ｈ），４．５５−４．４５（ｍ、１Ｈ），３．８２−３．７５（ｍ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．０２（ｓ，３Ｈ），２．５６−２．４８（ｍ，２Ｈ），１．４８，１．４３（２ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＭＳＢＰＭと(２Ｓ，４Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−メタンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭと略す）のピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭ＝９９．６：０．４
ＨＰＬＣ分析条件−２
使用カラム ＹＭＣ−ＰＡＣＫ ＯＤＳ ＡＭ−３１２
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／１０ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４＝４０／６０
カラム温度 ４０℃
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 ２１０ｎｍ
［実施例１２］
ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭの製造
実施例１１と同様に処理し、ｃｉｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル（２５０ｍｇ）からｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭを白色結晶として得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣの保持時間は、参考例４で得られたｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭと一致した。
融点 ７７．０℃
収量 ２８０ｍｇ
収率 ８５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），４．３５（ｂｓ，１Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ），２．０５−１．８５（ｍ，２Ｈ），１．８０−１．７０（ｍ，２Ｈ），１．４５−１．３５（ｍ，２Ｈ），１．０５−０．９０（ｍ，３Ｈ），０．８１（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＭＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭ＝０．５：９９．５
ＨＰＬＣ条件は、実施例１１のＨＰＬＣ分析条件−２とした。
融点 ７７．０℃
収量 ２８０ｍｇ
収率 ８５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），４．３５（ｂｓ，１Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ），２．０５−１．８５（ｍ，２Ｈ），１．８０−１．７０（ｍ，２Ｈ），１．４５−１．３５（ｍ，２Ｈ），１．０５−０．９０（ｍ，３Ｈ），０．８１（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＭＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭ＝０．５：９９．５
ＨＰＬＣ条件は、実施例１１のＨＰＬＣ分析条件−２とした。
［実施例１３］
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭの製造
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭの製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（１．８０ｇ）をアセトニトリル（２０ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（２．１１ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＢＤＦＦＭＳのアセトニトリル溶液を得た。続いて、ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル（２．５０ｇ）を加え、７５−８０℃で１８時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（３．２１ｇ）を水（３５ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（３５ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝２：１→１：１）で精製し、表題化合物（ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ）をシロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣの保持時間は、実施例１１で得られたｃｉｓ−ＭＳＢＰＭと一致した。
収量 ０．７５ｇ
収率 ２３％
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＭＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭ＝９８：２
ＨＰＬＣ条件は、実施例１１のＨＰＬＣ分析条件−２とした。
収量 ０．７５ｇ
収率 ２３％
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＭＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭ＝９８：２
ＨＰＬＣ条件は、実施例１１のＨＰＬＣ分析条件−２とした。
［実施例１４］
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭの製造
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭの製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（１．４１ｇ）をアセトニトリル（１６ｇ）に懸濁し、０〜５℃の温度範囲でＰＰＤＡ（２．６６ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＰＰＤＡＭＳのアセトニトリル溶液を得た。続いて、ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル（２．５０ｇ）を加え、２０〜３０℃で４時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（２．５０ｇ）を水（２５ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（４０ｇ）で抽出し、水（２５ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝２：１→１：１）で精製し、表題化合物（ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ）をシロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣの保持時間は、実施例１１で得られたｃｉｓ−ＭＳＢＰＭと一致した。
収量 １．９２ｇ
収率 ７５％
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＭＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭ＝９９．０：１．０
ＨＰＬＣ条件は、実施例１１のＨＰＬＣ分析条件−２とした。
収量 １．９２ｇ
収率 ７５％
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＭＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭ＝９９．０：１．０
ＨＰＬＣ条件は、実施例１１のＨＰＬＣ分析条件−２とした。
［実施例１５］
(２Ｓ，４Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−ヘキサンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｃｉｓ−ＨＳＢＰＭと略す）の製造
(２Ｓ，４Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−ヘキサンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｃｉｓ−ＨＳＢＰＭと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、ヘキサンスルホン酸ナトリウム（２．９６ｇ）をアセトニトリル（１８ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（２．１４ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＭＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル（２．５７ｇ）を加え、６０−６５℃で７時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（３．３０ｇ）を水（３３ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（３３ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝５：１→４：１→３：１）で精製し、表題化合物（ｃｉｓ−ＨＳＢＰＭ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣの保持時間は、参考例５で得られたｃｉｓ−ＨＳＢＰＭと一致した。
収量 ３．３１ｇ
収率 ８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２３（ｂｓ，１Ｈ），４．５１，４．４０（２ｂｔ、１Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．７８−３．７４（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．０７（ｂｔ，２ＨＪ＝７．８Ｈｚ），２．５４（ｂｓ，１Ｈ），２．４９（ｂｓ，１Ｈ），１．８５−１．７８（ｍ，２Ｈ），１．５０−１．４０（ｍ，２Ｈ），１．４８，１．４３（２ｓ，９Ｈ），１．３５−１．３０（ｍ，４Ｈ），０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＨＳＢＰＭと(２Ｓ，４Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−ヘキサンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭ略す）のピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＨＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭ＝９９．４：０．６
ＨＰＬＣ分析条件−３
使用カラム ＹＭＣ−ＰＡＣＫ ＯＤＳ ＡＭ−３１２
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／１０ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４＝６０／４０
カラム温度 ４０℃
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 ２１０ｎｍ
収量 ３．３１ｇ
収率 ８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２３（ｂｓ，１Ｈ），４．５１，４．４０（２ｂｔ、１Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．７８−３．７４（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．０７（ｂｔ，２ＨＪ＝７．８Ｈｚ），２．５４（ｂｓ，１Ｈ），２．４９（ｂｓ，１Ｈ），１．８５−１．７８（ｍ，２Ｈ），１．５０−１．４０（ｍ，２Ｈ），１．４８，１．４３（２ｓ，９Ｈ），１．３５−１．３０（ｍ，４Ｈ），０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＨＳＢＰＭと(２Ｓ，４Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−ヘキサンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭ略す）のピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＨＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭ＝９９．４：０．６
ＨＰＬＣ分析条件−３
使用カラム ＹＭＣ−ＰＡＣＫ ＯＤＳ ＡＭ−３１２
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／１０ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４＝６０／４０
カラム温度 ４０℃
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 ２１０ｎｍ
［実施例１６］
ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭと略す）の製造
ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭと略す）の製造
収量 ３１５ｍｇ
収率 ７８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２５（ｂｓ，１Ｈ），４．４６，４．３９（２ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），３．８６−３．７２（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．１３−３．０９（ｍ，２Ｈ），２．６８−２．５２（ｍ，１Ｈ），２．３０−２．２０（ｍ，１Ｈ），１．８８−１．７８（ｍ，２Ｈ），１．４５−１．４０（ｍ，２Ｈ），１．４７，１．４２（２ｓ，９Ｈ），１．３５−１．２５（ｍ，４Ｈ），０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、ｃｉｓ-ＨＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＨＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭ＝０．５：９９．５
ＨＰＬＣ条件は、実施例１５のＨＰＬＣ分析条件−３とした。
［実施例１７］
(２Ｓ，４Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−ｐ−トルエンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭと略す）の製造
(２Ｓ，４Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−ｐ−トルエンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム（３．７５ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（２．６３ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＴＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル（３．１５ｇ）を加え、６０−６５℃で３時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（４．０５ｇ）を水（４０ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（４０ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝４：１→３：１→２：１）で精製し、表題化合物（ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭ）をシロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣの保持時間は、参考例７で得られたｃｉｓ−ＴＳＢＰＭと一致した。
収量 ３．８５ｇ
収率 ７５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），５．１０−５．００（ｍ，１Ｈ），４．４５−４．３０（ｍ、１Ｈ），３．７０−３．５５（ｍ，２Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），２．５０−２．３５（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），１．４４，１．４０（２ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＴＳＢＰＭと(２Ｓ，４Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−ｐ−トルエンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭ略す）のピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭ＝９９．２：０．８
ＨＰＬＣ分析条件−４
使用カラム ＹＭＣ−ＰＡＣＫ ＯＤＳ ＡＭ−３１２
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／１０ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４＝５０／５０
カラム温度 ４０℃
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 ２１０ｎｍ
収量 ３．８５ｇ
収率 ７５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），５．１０−５．００（ｍ，１Ｈ），４．４５−４．３０（ｍ、１Ｈ），３．７０−３．５５（ｍ，２Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），２．５０−２．３５（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），１．４４，１．４０（２ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＴＳＢＰＭと(２Ｓ，４Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-４−ｐ−トルエンスルホニルオキシピロリジン−２−カルボン酸 メチルエステル（以下ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭ略す）のピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭ＝９９．２：０．８
ＨＰＬＣ分析条件−４
使用カラム ＹＭＣ−ＰＡＣＫ ＯＤＳ ＡＭ−３１２
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／１０ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４＝５０／５０
カラム温度 ４０℃
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 ２１０ｎｍ
［実施例１８］
ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭの製造
実施例１７と同様に処理し、ｃｉｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル（２５０ｍｇ）からｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭを白色結晶として得た。１Ｈ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣの保持時間は、参考例８で得られたｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭと一致した。
融点 ７２．５℃
収量 ３３８ｍｇ
収率 ８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），５．１０−５．００（ｍ，１Ｈ），４．４０−４．３３（ｍ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．６５−３．５５（ｍ，２Ｈ），２．５７−２．３７（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．２０−２．０５（ｍ，１Ｈ），１．４２，１．３９（２ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＴＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭ＝０．６：９９．４
ＨＰＬＣ条件は、実施例１７のＨＰＬＣ分析条件−４とした。
融点 ７２．５℃
収量 ３３８ｍｇ
収率 ８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），５．１０−５．００（ｍ，１Ｈ），４．４０−４．３３（ｍ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．６５−３．５５（ｍ，２Ｈ），２．５７−２．３７（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．２０−２．０５（ｍ，１Ｈ），１．４２，１．３９（２ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、反応液をＨＰＬＣ分析し、cis-ＴＳＢＰＭとｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭのピーク面積比によって求めた。
ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭ：ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭ＝０．６：９９．４
ＨＰＬＣ条件は、実施例１７のＨＰＬＣ分析条件−４とした。
［実施例１９］
(Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−メタンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｓ−ＢＭＳＰと略す）の製造
(Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−メタンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｓ−ＢＭＳＰと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（２．２８ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（２．６２ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＭＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン（２．４１ｇ）を加え、６０−６５℃で７時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（４．０５ｇ）を水（４０ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（４０ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝３：１→２：１）で精製し、表題化合物（Ｓ−ＢＭＳＰ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲおよび参考例１２による誘導化と光学活性ＨＰＬＣカラム分析の結果は、参考例９で得られたＳ−ＢＭＳＰと一致した。
収量 ２．７４ｇ
収率 ８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２８−５．２４（ｍ，１Ｈ），３．６８−３．４６（ｍ，４Ｈ），３．０５（ｓ，３Ｈ），２．２８−２．１２（ｍ，２Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、参考例１２のように（Ｒ）-３-フタルイミド- Ｎ−ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニルピロリジン（以下Ｒ−ＢＰＰと略す）に誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰと（Ｓ）-３-フタルイミド- Ｎ−ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニルピロリジン（以下Ｓ−ＢＰＰと略す）のピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝９９．５：０．５
収量 ２．７４ｇ
収率 ８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２８−５．２４（ｍ，１Ｈ），３．６８−３．４６（ｍ，４Ｈ），３．０５（ｓ，３Ｈ），２．２８−２．１２（ｍ，２Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、参考例１２のように（Ｒ）-３-フタルイミド- Ｎ−ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニルピロリジン（以下Ｒ−ＢＰＰと略す）に誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰと（Ｓ）-３-フタルイミド- Ｎ−ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニルピロリジン（以下Ｓ−ＢＰＰと略す）のピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝９９．５：０．５
［実施例２０］
Ｒ−ＢＭＳＰの製造
Ｒ−ＢＭＳＰの製造
実施例１９と同様に処理し、(Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン（２．４１ｇ）から表題化合物（Ｒ−ＢＭＳＰ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲは、実施例１９で得られたＳ−ＢＭＳＰと一致した。
収量 ２．８１ｇ
収率 ８２％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝０．５：９９．５
収量 ２．８１ｇ
収率 ８２％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝０．５：９９．５
［実施例２１］
Ｓ−ＢＭＳＰの製造
Ｓ−ＢＭＳＰの製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（１．４１ｇ）をアセトニトリル（１５ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＢＤＤＦ（１．６５ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＢＤＤＦＭＳのアセトニトリル溶液を得た。続いて、(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン（１．４９ｇ）を加え、７５−８０℃で８時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（２．５０ｇ）を水（２５ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（３０ｇ）で抽出し、水（２０ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝３：１→２：１）で精製し、表題化合物（Ｓ−ＢＭＳＰ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲは、実施例１９で得られたＳ−ＢＭＳＰと一致した。
収量 １．３７ｇ
収率 ６５％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝９９．５：０．５
収量 １．３７ｇ
収率 ６５％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝９９．５：０．５
［実施例２２］
Ｓ−ＢＭＳＰの製造
Ｓ−ＢＭＳＰの製造
窒素雰囲気下にて、メタンスルホン酸ナトリウム（１．１８ｇ）をアセトニトリル（１２ｇ）に懸濁し、０〜５℃の温度範囲でＰＰＤＡ（２．２２ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＰＰＤＡＭＳのアセトニトリル溶液を得た。続いて、(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン（１．２５ｇ）を加え、２０〜３０℃で８時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（２．１０ｇ）を水（２５ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（３０ｇ）で抽出し、水（２０ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝３：１→２：１）で精製し、表題化合物（Ｓ−ＢＭＳＰ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲは、実施例１９で得られたＳ−ＢＭＳＰと一致した。
収量 １．３６ｇ
収率 ７７％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝９９．５：０．５
収量 １．３６ｇ
収率 ７７％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝９９．５：０．５
［実施例２３］
(Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヘキサンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｓ−ＢＨＳＰと略す）の製造
(Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヘキサンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｓ−ＢＨＳＰと略す）の製造
窒素雰囲気下にて、ｐ−ヘキサンスルホン酸ナトリウム（２．６１ｇ）をアセトニトリル（１４ｇ）に懸濁し、２０〜３０℃の温度範囲でＤＦＩ（１．８９ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＨＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン（１．７４ｇ）を加え、２０〜３０℃で８時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（２．９３ｇ）を水（３０ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（３０ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝３：１→２：１）で精製し、表題化合物（Ｓ−ＢＨＳＰ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲおよび参考例１２による誘導化と光学活性ＨＰＬＣカラム分析の結果は、参考例１０で得られたＳ−ＢＨＳＰと一致した。
収量 ２．７４ｇ
収率 ８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２５（ｂｓ，１Ｈ），３．７０−３．４５（ｍ，４Ｈ），２．３５−２．０５（ｍ，２Ｈ）１．９０−１．８０（ｍ，２Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ），１．５０−１．４０（ｍ，２Ｈ），１．３５−１．２８（ｍ，４Ｈ），０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＨＳＰ：(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヘキサンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｒ−ＢＨＳＰと略す）＝９９．５：０．５
収量 ２．７４ｇ
収率 ８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ５．２５（ｂｓ，１Ｈ），３．７０−３．４５（ｍ，４Ｈ），２．３５−２．０５（ｍ，２Ｈ）１．９０−１．８０（ｍ，２Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ），１．５０−１．４０（ｍ，２Ｈ），１．３５−１．２８（ｍ，４Ｈ），０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＨＳＰ：(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヘキサンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｒ−ＢＨＳＰと略す）＝９９．５：０．５
［実施例２４］
Ｒ−ＢＨＳＰの製造
Ｒ−ＢＨＳＰの製造
実施例２３と同様に処理し、３Ｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン（１．７４ｇ）から表題化合物（Ｒ−ＢＨＳＰ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲは、実施例２３で得られたＳ−ＢＨＳＰと一致した。
収量 ２．６４ｇ
収率 ８０％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＨＳＰ：Ｒ−ＢＨＳＰ＝０．５：９９．５
収量 ２．６４ｇ
収率 ８０％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＨＳＰ：Ｒ−ＢＨＳＰ＝０．５：９９．５
［実施例２５］
(Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ｐ−トルエンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｓ−ＢＴＳＰ略す）の製造
(Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ｐ−トルエンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｓ−ＢＴＳＰ略す）の製造
窒素雰囲気下にて、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム（３．７５ｇ）をアセトニトリル（２０ｇ）に懸濁し、０〜５℃の温度範囲でＤＦＩ（２．６３ｇ）を滴下した。反応液を２０〜３０℃で３時間攪拌し、ＦＴＳＩのアセトニトリル溶液を得た。続いて、(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン（２．４１ｇ）を加え、２０〜３０℃で８時間攪拌した。別途、炭酸水素ナトリウム（４．０５ｇ）を水（４０ｇ）に懸濁した溶液に、前記の反応液を滴下した。トルエン（５０ｇ）で抽出し、水（４０ｇ）で洗浄した後に、得られたトルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、トルエン溶液を減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ，ヘキサン：酢酸エチル＝４：１→３：１）で精製し、表題化合物（Ｓ−ＢＴＳＰ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲおよび参考例１２による誘導化と光学活性ＨＰＬＣカラム分析の結果は、参考例１１で得られたＳ−ＢＴＳＰと一致した。
収量 ３．４４ｇ
収率 ７８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３５），５．０４（ｂｓ，１Ｈ），３．５３−３．３７（ｍ，４Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．２０−１．９５（ｍ，２Ｈ），１．４３（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＴＳＰ：(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ｐ−トルエンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｒ−ＢＴＳＰと略す）＝９９．５：０．５
収量 ３．４４ｇ
収率 ７８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ，４００MHｚ） δ７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３５），５．０４（ｂｓ，１Ｈ），３．５３−３．３７（ｍ，４Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．２０−１．９５（ｍ，２Ｈ），１．４３（ｓ，９Ｈ）
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＴＳＰ：(Ｒ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ｐ−トルエンスルホニルオキシピロリジン（以下Ｒ−ＢＴＳＰと略す）＝９９．５：０．５
［実施例２６］
Ｒ−ＢＴＳＰの製造
Ｒ−ＢＴＳＰの製造
実施例２３と同様に処理し、(Ｓ)−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン（２．４１ｇ）から表題化合物（Ｒ−ＢＴＳＰ）を無色透明シロップとして得た。１Ｈ−ＮＭＲは、実施例２３で得られたＳ−ＢＴＳＰと一致した。
収量 ３．５３ｇ
収率 ８０％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝０．５：９９．５
収量 ３．５３ｇ
収率 ８０％
反応における立体選択性は、参考例１２のように誘導化し、ＨＰＬＣ分析条件−５によりＲ−ＢＰＰとＳ−ＢＰＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＢＭＳＰ：Ｒ−ＢＭＳＰ＝０．５：９９．５
［実施例２７］
（Ｓ）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−トリフルオロアセトキシピロリジン（以下Ｓ−ＣＴＦＡＰと略す）の製造
（Ｓ）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−トリフルオロアセトキシピロリジン（以下Ｓ−ＣＴＦＡＰと略す）の製造
トリフルオロ酢酸ナトリウム（１．３４ｇ）をトルエン（８．９ｇ）に懸濁し、室温にてＤＦＩ（１．３４ｇ）を滴下した。室温で１時間攪拌の後、（Ｒ）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−ヒドロキシピロリジン（以下Ｒ−ＣＨＰと略す）（１．８１ｇ）を加えた。反応液を室温で１時間攪拌の後、５０℃で２時間攪拌した。反応液にトルエン（２０ｇ）を加え、氷冷した５重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液（２５．２ｇ）に滴下した。トルエン層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別後、ろ液を減圧濃縮し標題化合物を得た。
収量 ２．９２ｇ
収率 ９２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ） δ７．２０−６．９８（ｍ，５Ｈ），５．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），４．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２，１１．６Ｈｚ），４．６５（ｂｓ，１Ｈ），３．４２−３．０２（ｍ，４Ｈ），１．４０−１．２８（ｍ，１Ｈ），１．２８−１．１５（ｍ，１Ｈ）
反応における立体選択性は、得られた化合物をトルエン（１０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ−ＮａＯＨ水溶液（２０ｍｌ）で室温にて３０分間攪拌することで対応する（Ｓ）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−ヒドロキシピロリジン（以下Ｓ−ＣＨＰと略す）に誘導し、ＨＰＬＣ分析条件６によりＳ−ＣＨＰとＲ−ＣＨＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＣＴＦＡＰ：Ｒ−ＣＴＦＡＰ＝９７：３
ＨＰＬＣ分析条件６
使用キラルカラム ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＣＫ ＡＤ−Ｈ
溶離液 ヘキサン／２−プロパノール＝９５／５
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 紫外線２１０ｎｍ
カラム温度 ３５℃
収量 ２．９２ｇ
収率 ９２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ） δ７．２０−６．９８（ｍ，５Ｈ），５．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），４．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２，１１．６Ｈｚ），４．６５（ｂｓ，１Ｈ），３．４２−３．０２（ｍ，４Ｈ），１．４０−１．２８（ｍ，１Ｈ），１．２８−１．１５（ｍ，１Ｈ）
反応における立体選択性は、得られた化合物をトルエン（１０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ−ＮａＯＨ水溶液（２０ｍｌ）で室温にて３０分間攪拌することで対応する（Ｓ）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−ヒドロキシピロリジン（以下Ｓ−ＣＨＰと略す）に誘導し、ＨＰＬＣ分析条件６によりＳ−ＣＨＰとＲ−ＣＨＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＣＴＦＡＰ：Ｒ−ＣＴＦＡＰ＝９７：３
ＨＰＬＣ分析条件６
使用キラルカラム ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＣＫ ＡＤ−Ｈ
溶離液 ヘキサン／２−プロパノール＝９５／５
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 紫外線２１０ｎｍ
カラム温度 ３５℃
［実施例２８］
Ｓ−ＣＴＦＡＰの製造
Ｓ−ＣＴＦＡＰの製造
トリフルオロ酢酸ナトリウム（１．３４ｇ）をトルエン（８．９ｇ）に懸濁し、０℃にてＤＦＩ（１．３４ｇ）を滴下した。０℃で１時間攪拌の後、Ｒ−ＣＨＰ（１．８１ｇ）を加えた。反応液を０℃で１時間攪拌の後、５０℃で２時間攪拌した。反応液にトルエン（２０ｇ）を加え、氷冷した５重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液（２５．２ｇ）に滴下した。トルエン層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別後、ろ液を減圧濃縮し標題化合物を得た。
収量 ２．９８ｇ
収率 ９４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２７と一致した。
反応における立体選択性は、実施例２７と同様な方法で決定した。
Ｓ−ＣＴＦＡＰ：Ｒ−ＣＴＦＡＰ＝９９．８：０．２
収量 ２．９８ｇ
収率 ９４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２７と一致した。
反応における立体選択性は、実施例２７と同様な方法で決定した。
Ｓ−ＣＴＦＡＰ：Ｒ−ＣＴＦＡＰ＝９９．８：０．２
［実施例２９］
Ｓ−ＣＨＰの製造
Ｓ−ＣＨＰの製造
トリフルオロ酢酸ナトリウム（３２．６ｇ）をトルエン（２１３ｇ）に懸濁し、０℃にてＤＦＩ（３２．６ｇ）を滴下した。０℃で１時間攪拌の後、Ｒ−ＣＨＰ（４４．２ｇ）を加えた。反応液を０℃で１時間攪拌の後、５０℃で２時間攪拌した。反応液を１５℃以下に保ち、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液（４８０ｇ）を滴下した。反応液を室温にて３０分間攪拌した後にトルエン層を分取した。トルエン層を水（１００ｇ）で３回洗浄後、減圧濃縮した。得られた残渣にトルエン（４０ｇ）およびヘキサン（８０ｇ）を加え、０℃にて結晶化を行った。得られた結晶をろ取し、４０℃で１２時間減圧乾燥を行い、標題化合物を得た。
収量 ３９．３ｇ
収率 ８９％
立体異性体比 Ｓ−ＣＨＰ：Ｒ−ＣＨＰ＝９９．９：０．１
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ） δ７．２３−７．２０（ｍ，２Ｈ），７．１３−６．９８（ｍ，３Ｈ），５．１１−４．９９（ｍ，２Ｈ），３．９３（ｂｓ，１Ｈ），３．４６−３．１２（ｍ，４Ｈ），１．６５−１．４５（ｍ，１Ｈ），１，４５−１．３０（ｍ，１Ｈ）
反応における立体選択性は、結晶化前の濃縮残渣をサンプルとして用い、ＨＰＬＣ分析条件６によりＳ−ＣＨＰとＲ−ＣＨＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＣＨＰ：Ｒ−ＣＨＰ＝９９．８：０．２
収量 ３９．３ｇ
収率 ８９％
立体異性体比 Ｓ−ＣＨＰ：Ｒ−ＣＨＰ＝９９．９：０．１
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ） δ７．２３−７．２０（ｍ，２Ｈ），７．１３−６．９８（ｍ，３Ｈ），５．１１−４．９９（ｍ，２Ｈ），３．９３（ｂｓ，１Ｈ），３．４６−３．１２（ｍ，４Ｈ），１．６５−１．４５（ｍ，１Ｈ），１，４５−１．３０（ｍ，１Ｈ）
反応における立体選択性は、結晶化前の濃縮残渣をサンプルとして用い、ＨＰＬＣ分析条件６によりＳ−ＣＨＰとＲ−ＣＨＰのピーク面積比によって決定した。
Ｓ−ＣＨＰ：Ｒ−ＣＨＰ＝９９．８：０．２
［実施例３０］
Ｓ−ＣＴＦＡＰの製造
Ｓ−ＣＴＦＡＰの製造
トリフルオロ酢酸ナトリウム（２．０４ｇ）をトルエン（１０ｇ）に懸濁し、０℃にてＰＰＤＡ（３．３５ｇ）を滴下した。０℃で１時間攪拌の後、Ｒ−ＣＨＰ（１．１１ｇ）を加えた。反応液を０℃で１時間攪拌の後、５０℃で２時間攪拌した。反応液にトルエン（２０ｇ）を加え、氷冷した５重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液（３８ｇ）に滴下した。トルエン層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別後、ろ液を減圧濃縮し標題化合物を得た。
収量 １．６３ｇ
収率 ８４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２７と一致した。
反応における立体選択性は、実施例２７と同様な方法で決定した。
Ｓ−ＣＴＦＡＰ：Ｒ−ＣＴＦＡＰ＝９６：４
収量 １．６３ｇ
収率 ８４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２７と一致した。
反応における立体選択性は、実施例２７と同様な方法で決定した。
Ｓ−ＣＴＦＡＰ：Ｒ−ＣＴＦＡＰ＝９６：４
［実施例３１］
Ｓ−ＣＨＰの製造
Ｓ−ＣＨＰの製造
トリフルオロ酢酸ナトリウム（２．０４ｇ）をトルエン（１０ｇ）に懸濁し、０℃にてＰＰＤＡ（３．３５ｇ）を滴下した。０℃で１時間攪拌の後、Ｒ−ＣＨＰ（１．１１ｇ）を加えた。反応液を０℃で１時間攪拌の後、５０℃で２時間攪拌した。トルエン（２０ｇ）を加えた後、反応液を１５℃以下に保ち、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液（３０ｇ）を滴下した。反応液を室温にて３０分間攪拌した後にトルエン層を分取した。トルエン層を水（２０ｇ）で３回洗浄後、減圧濃縮することで、標題化合物を含む淡褐色固体状残渣を得た。
収量 ０．９４ｇ
収率 ８５％
本反応における立体選択性は、ＨＰＬＣ分析条件６によりＳ−ＣＨＰとＲ−ＣＨＰのピーク面積比によって決定した。
立体異性体比 Ｓ−ＣＨＰ：Ｒ−ＣＨＰ＝９６：４
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２９と一致した。
収量 ０．９４ｇ
収率 ８５％
本反応における立体選択性は、ＨＰＬＣ分析条件６によりＳ−ＣＨＰとＲ−ＣＨＰのピーク面積比によって決定した。
立体異性体比 Ｓ−ＣＨＰ：Ｒ−ＣＨＰ＝９６：４
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２９と一致した。
［実施例３２］
Ｓ−ＣＴＦＡＰの製造
Ｓ−ＣＴＦＡＰの製造
トリフルオロ酢酸ナトリウム（２．０４ｇ）をトルエン（１０ｇ）に懸濁し、０℃にてＢＤＤＦ（２．０７ｇ）を滴下した。０℃で１時間攪拌の後、Ｒ−ＣＨＰ（１．１１ｇ）を加えた。反応液を０℃で１時間攪拌の後、５０℃で２時間攪拌した。反応液にトルエン（２０ｇ）を加え、氷冷した５重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液（３８ｇ）に滴下した。トルエン層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別後、ろ液を減圧濃縮し標題化合物を得た。
収量 １．５５ｇ
収率 ８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２７と一致した。
反応における立体選択性は、実施例２７と同様な方法で決定した。
Ｓ−ＣＴＦＡＰ：Ｒ−ＣＴＦＡＰ＝９４：６
収量 １．５５ｇ
収率 ８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２７と一致した。
反応における立体選択性は、実施例２７と同様な方法で決定した。
Ｓ−ＣＴＦＡＰ：Ｒ−ＣＴＦＡＰ＝９４：６
［実施例３３］
Ｓ−ＣＨＰの製造
Ｓ−ＣＨＰの製造
トリフルオロ酢酸ナトリウム（２．０４ｇ）をトルエン（１０ｇ）に懸濁し、０℃にてＢＤＤＦ（２．０７ｇ）を滴下した。０℃で１時間攪拌の後、Ｒ−ＣＨＰ（１．１１ｇ）を加えた。反応液を０℃で１時間攪拌の後、５０℃で２時間攪拌した。トルエン（２０ｇ）を加えた後、反応液を１５℃以下に保ち、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液（３０ｇ）を滴下した。反応液を室温にて３０分間攪拌した後にトルエン層を分取した。トルエン層を水（２０ｇ）で３回洗浄後、減圧濃縮することで、標題化合物を含む淡褐色固体状残渣を得た。
収量 ０．８７ｇ
収率 ７８％
本反応における立体選択性は、ＨＰＬＣ分析条件６によりＳ−ＣＨＰとＲ−ＣＨＰのピーク面積比によって決定した。
立体異性体比 Ｓ−ＣＨＰ：Ｒ−ＣＨＰ＝９４：６
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２９と一致した。
収量 ０．８７ｇ
収率 ７８％
本反応における立体選択性は、ＨＰＬＣ分析条件６によりＳ−ＣＨＰとＲ−ＣＨＰのピーク面積比によって決定した。
立体異性体比 Ｓ−ＣＨＰ：Ｒ−ＣＨＰ＝９４：６
１Ｈ−ＮＭＲ（ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８，４００MHｚ）は、実施例２９と一致した。
［参考例１］ ｃｉｓ−ＴＢＣＴＳの製造
ｃｉｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｃｉｓ−ＴＢＣＴＳの比較サンプルを得た。
［参考例２］ ｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳの製造
ｔｒａｎｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳの比較サンプルを得た。
［参考例３］ ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭの製造
ｃｉｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、メタンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｃｉｓ−ＭＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例４］ ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、メタンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例５］ ｃｉｓ−ＨＳＢＰＭの製造
ｃｉｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、ヘキサンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｃｉｓ−ＨＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例６］ ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、メタンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例７］ ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭの製造
ｃｉｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｃｉｓ−ＴＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例８］ ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例９］ Ｓ−ＢＭＳＰの製造
３Ｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、メタンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってＳ−ＢＭＳＰの比較サンプルを得た。
［参考例１０］ Ｓ−ＢＨＳＰの製造
３Ｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、ヘキサンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってＳ−ＢＨＳＰの比較サンプルを得た。
［参考例１１］ Ｓ−ＢＴＳＰの製造
３Ｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってＳ−ＢＴＳＰの比較サンプルを得た。
［参考例１２］ Ｓ−ＢＭＳＰからＲ−ＢＰＰへの誘導化
ｃｉｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｃｉｓ−ＴＢＣＴＳの比較サンプルを得た。
［参考例２］ ｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳの製造
ｔｒａｎｓ−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｔｒａｎｓ−ＴＢＣＴＳの比較サンプルを得た。
［参考例３］ ｃｉｓ−ＭＳＢＰＭの製造
ｃｉｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、メタンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｃｉｓ−ＭＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例４］ ｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、メタンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｔｒａｎｓ−ＭＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例５］ ｃｉｓ−ＨＳＢＰＭの製造
ｃｉｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、ヘキサンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｃｉｓ−ＨＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例６］ ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、メタンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例７］ ｃｉｓ−ＴＳＢＰＭの製造
ｃｉｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｃｉｓ−ＴＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例８］ ｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリン メチルエステル、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってｔｒａｎｓ−ＴＳＢＰＭの比較サンプルを得た。
［参考例９］ Ｓ−ＢＭＳＰの製造
３Ｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、メタンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってＳ−ＢＭＳＰの比較サンプルを得た。
［参考例１０］ Ｓ−ＢＨＳＰの製造
３Ｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、ヘキサンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってＳ−ＢＨＳＰの比較サンプルを得た。
［参考例１１］ Ｓ−ＢＴＳＰの製造
３Ｓ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル-３−ヒドロキシピロリジン、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、およびピリジンを用い、[非特許文献１]に記載の公知の方法によってＳ−ＢＴＳＰの比較サンプルを得た。
［参考例１２］ Ｓ−ＢＭＳＰからＲ−ＢＰＰへの誘導化
Ｓ−ＢＭＳＰ（２．６５ｇ）をN,N-ジメチルホルムアミド（３０ｇ）に溶解し、フタルイミドカリウム（２．２２ｇ）を加えた。反応液を８５℃に加熱し、５時間攪拌した。得られた反応液を光学純度測定用のサンプルとした。また、サンプルの一部を単離し構造確認を行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０MHｚ） δ７．８９−７．８３（ｍ，２Ｈ），７．７８−７．７２（ｍ，２Ｈ），４．８６（ｄｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），３．７４−３．６２（ｍ，３Ｈ），３．４６−３．３６（ｍ，１Ｈ），２．６８−２．５６（ｍ，１Ｈ），２．１７−２．０５（ｍ，１Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ）
ＨＰＬＣ分析条件５
使用キラルカラム ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ
溶離液 ヘキサン／２−プロパノール＝９０／１０
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 紫外線２１０ｎｍ
カラム温度 ２５℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０MHｚ） δ７．８９−７．８３（ｍ，２Ｈ），７．７８−７．７２（ｍ，２Ｈ），４．８６（ｄｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），３．７４−３．６２（ｍ，３Ｈ），３．４６−３．３６（ｍ，１Ｈ），２．６８−２．５６（ｍ，１Ｈ），２．１７−２．０５（ｍ，１Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ）
ＨＰＬＣ分析条件５
使用キラルカラム ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ
溶離液 ヘキサン／２−プロパノール＝９０／１０
流量 １ｍｌ／ｍｉｎ
検出波長 紫外線２１０ｎｍ
カラム温度 ２５℃
本発明によれば、アルコールを原料とするスルホン酸エステルの製造が簡便かつ高収率に可能である。また、原料のアルコールに対して立体配置の反転を伴ってスルホン酸エステル、カルボン酸エステルおよびアルコールに誘導化することができる。加えて、反応試薬由来の副生成物の除去が容易であり、また爆発等の危険性のなく安全性も高い製造方法である。よって本発明は、医薬品、農薬、化粧品素材等をはじめとする機能製品に対して、工業的な観点から極めて効率的な新規な製造方法を提供するものであり、その有用性は非常に高い。
反応は無溶媒でも実施可能な場合もあるが、必要に応じて希釈溶媒中で行ってもよい。反応に用いることができる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に制限はない。例えば、トルエン、キシレン、クメン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。また、前記の各溶媒を用いて、任意の比率の混合溶媒として使用してもよい。
反応は無溶媒でも実施可能な場合もあるが、必要に応じて希釈溶媒中で行ってもよい。反応に用いることができる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に制限はない。例えば、トルエン、キシレン、クメン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。また、前記の各溶媒を用い、任意の比率の混合溶媒としても用いてもよい。
［実施例１６］
ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭの製造
ｔｒａｎｓ−ＨＳＢＰＭの製造
Claims (21)
- 光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールと、一般式（１）
- 一般式（１）で表される化合物において、Ｘが一般式（４）で表され、スルホン酸エステルを得ることを含む、請求項１記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
- 一般式（１）で表される化合物が、一般式（６）
- 一般式（６）で表される化合物が、一般式（７）
- 前記光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールが、光学活性な２級アルコールであり、スルホン酸エステルを得ることを含む、請求項２記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
- 前記光学活性なアルコールまたは幾何異性を有するアルコールが、光学活性な２級アルコールであり、カルボン酸エステルまたはアルコールを得ることを含む、請求項３または４記載のエステルまたはアルコールの製造方法。
- 前記光学活性な２級アルコールが、一般式（８）
- 前記光学活性な２級アルコールが、一般式（８）
- 一般式（９）
で表される化合物。 - 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１０）
- 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１１）
- 一般式（９）で表される化合物が、一般式（１２）
- 一般式（１０）で表される化合物において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、およびＲ５が、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基である、請求項１０記載の化合物。
- 一般式（１０）で表される化合物が、一般式（１３）
- 一般式（１４）
で表される化合物の製造方法。 - 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１６）、
- 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１７）、
- 一般式（１４）で表される化合物が、一般式（１８）、
- 一般式（１４）で表される化合物のＲ１、Ｒ２、Ｒ４、およびＲ５が、炭素数１〜６のアルキル基である、請求項１５記載の製造方法。
- 一般式（１４）で表される化合物が、式（１９）
- アルコールと、一般式（９）
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