JPWO2007094267A1 - セラミック多孔質膜の製造方法 - Google Patents
セラミック多孔質膜の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2007094267A1 JPWO2007094267A1 JP2008500480A JP2008500480A JPWO2007094267A1 JP WO2007094267 A1 JPWO2007094267 A1 JP WO2007094267A1 JP 2008500480 A JP2008500480 A JP 2008500480A JP 2008500480 A JP2008500480 A JP 2008500480A JP WO2007094267 A1 JPWO2007094267 A1 JP WO2007094267A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- porous
- porous substrate
- sol solution
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 109
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 36
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 abstract description 21
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 12
- 238000000605 extraction Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 61
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 8
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 240000002853 Nelumbo nucifera Species 0.000 description 3
- 235000006508 Nelumbo nucifera Nutrition 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006510 Nelumbo pentapetala Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/87—Ceramics
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D63/00—Apparatus in general for separation processes using semi-permeable membranes
- B01D63/06—Tubular membrane modules
- B01D63/066—Tubular membrane modules with a porous block having membrane coated passages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0039—Inorganic membrane manufacture
- B01D67/0048—Inorganic membrane manufacture by sol-gel transition
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/04—Tubular membranes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/04—Tubular membranes
- B01D69/046—Tubular membranes characterised by the cross-sectional shape of the tube
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/024—Oxides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/024—Oxides
- B01D71/027—Silicium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/624—Sol-gel processing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
- C04B41/4535—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application applied as a solution, emulsion, dispersion or suspension
- C04B41/4537—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application applied as a solution, emulsion, dispersion or suspension by the sol-gel process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/42—Details of membrane preparation apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/00793—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as filters or diaphragms
- C04B2111/00801—Membranes; Diaphragms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
Description
例えば、ホットコート法が知られている(非特許文献1を参照)。これは、約200℃に加熱したチューブ基材の外表面に、シリカゾルを含む布を用いチューブ基材に擦りつけて塗布することにより多孔質膜を成膜する方法である。また、セラミック等の基盤上にディッピング法でゾルを薄膜に成膜する方法も知られており(非特許文献2を参照)、これは、基盤をディッピング液に浸漬し、その後引き上げながら成膜する方法である。
M.Asaeda et al., "Separation and Purification Technology 25(2001)151-159 「ゾルゲル法の科学」作花済夫著、アグネ承風社、P85-95,1988
本発明においては、前記多孔質基材と前記セラミックゾル液の温度差が50℃以内であれば、前記多孔質基材と前記セラミックゾル液のどちらの温度が高くてもよい。
まず、本発明の製造方法に用いる各部材及び材料について説明する。
本発明における多孔質基材(以下、「基材」ということもある。)とは、成膜する面の細孔径が、好ましくは0.1〜100nm、より好ましくは、0.1〜20nmの、細孔径が小さく多数の細孔を有する多孔質体をいい、この多孔質体はその表面に上記範囲の細孔径を有する多孔質膜が形成されているものであっても良い。すなわち、細孔径が大きい基材に、細孔径が順次小さくなるよう多孔質膜を積層していく、いわゆる非対称膜であってもよい。
図1は、本発明のセラミック多孔質膜の製造方法の一例を概略的に示す概要図である。まず、多孔質基材1を、その貫通孔が縦方向になるように成膜チャンバー2内に設置する。なお、基材1は、基材1の外周面側と貫通孔内部とが気密的に隔離されるように貫通孔の両開口端3をO−リング4により固定されている。セラミックゾル液5は、タンク6に貯留され、また、多孔質基材1との温度差が50℃以内になるように調整されている。このように、多孔質基材1との温度差が50℃以内になるように調整されたセラミックゾル液5は、送液ポンプ7を用い、バルブ8を介して、成膜チャンバー2内に設置された多孔質基材1の内壁面に下側より送液されることにより、多孔質基材1の内壁面に対してセラミックゾル液5が接触する。これを模式的に示すと、図2(a)に示す状態であり、多孔質基材1の内側10にセラミックゾル液5が充満した状況である。
また、上記成膜後において、多孔質基材内側の成膜内表面に通風して乾燥させてもよい。
まず、本実施例で使用した多孔質基材、セラミックゾル液及び、成膜方法、焼成方法について説明する。
1.多孔質基材
平均細孔径が8nmのチタニアの膜が形成されているレンコン形状(外径30mm、長さ1000mm、セル:貫通孔の内径3mmで、37本)を多孔質基材とした。尚、基材両端部はガラスにてシールされている(例えば、特開昭62−4411号公報を参照)。
(ゾル液A)
チタンイソプロポキシドを硝酸の存在下で、温度80℃で30分間加水分解し、その後、90〜100℃で3時間エージング処理して、チタニア換算で4wt%のゾル液Aを得た。動的光散乱法で測定されたゾル粒径は、100nmであった。
チタンイソプロポキシドを硝酸の存在下で、温度5℃で1時間加水分解した後、40℃で10時間エージング処理をして、チタニア換算で0.5wt%のゾル液Bを得た。ゾル粒径は30nmであった。
テトラエトキシシランを硝酸の存在下で、60℃で加水分解して、その後100℃で10時間エージング処理して、シリカ換算で0.3wt%のゾル液Cを得た。ゾル粒径は5nmであった。
図1に示す装置を用いて、多孔質基材への成膜(製造方法)を実施した。
上記ゾル液Aを水で4倍に希釈して成膜用のゾル液5とし、ゾル液タンク6に入れた。なお、ゾル液の温度は多孔質基材の温度20℃に対して68℃とした。一方、上記の多孔質基材1をその貫通孔が縦方向になるように成膜チャンバー2内にセットした。次いで、ゾル液5を送液ポンプ7により、多孔質基材1の下側から送液し、ゾル液5が基材上面まで到達したことを確認した後、送液を止めた。
ゾル液5の排出完了直後、多孔質基材1の外側より真空ポンプ9にて減圧吸引を開始した。真空吸引を10分間行った後、多孔質基材1の外側(2次側)を大気圧まで戻して、多孔質基材1を取り外した。
得られた多孔質基材1を、30℃、湿度50%に制御された乾燥器内で12時間乾燥した。
乾燥後、多孔質基材1を100℃/hrにて昇温し、450℃で30分間保持した後、100℃/hrで降温した。
そして、上記3.成膜、4.乾燥、及び5.焼成の操作を5回繰り返して実施例1の焼成した多孔質基材を得た。
多孔質基材として実施例1と同じものを用い、ゾル液としてゾル液Bを使用したこと、ゾル液温度と基材温度がともに室温(20℃)であること以外は、実施例1と同じ方法で多孔質基材を作製した。
多孔質基材として実施例2を用いたこと、ゾル液としてゾル液Cを使用した以外は、実施例2と同じ方法で多孔質基材を作製した。
減圧吸引しないこと以外は、実施例2と同じ成膜方法により多孔質基材を作製した。
ゾル液を送液する前に減圧吸引を開始したこと以外は、実施例2と同じ成膜方法により多孔質基材を作製した。
多孔質基材の温度を75℃にしたこと以外は、実施例1と同じ方法にて多孔質基材を作製した。
実施例1〜3、比較例1〜2で得られた多孔質基材について、それらの細孔径分布を測定した。細孔径の測定原理は、非特許文献1で記載されている方法と同じであるが、非特許文献1では水蒸気と窒素を使用しているのに対し、本発明で用いた測定方法では、n−ヘキサンと窒素を使用した。
用いた多孔質基材、及び実施例1〜3、比較例1〜2で得られた焼成後の多孔質基材の細孔径分布を表1及び図3に示す。
Claims (6)
- 筒状またはレンコン状の多孔質基材の貫通孔内壁面にセラミック多孔質膜を成膜するセラミック多孔質膜の製造方法であって、
前記多孔質基材をその貫通孔が縦方向になるように設置し、
前記多孔質基材との温度差が50℃以内であるセラミックゾル液を、前記多孔質基材の内壁面に送液し、
前記セラミックゾル液が前記多孔質基材の内壁面全体に行き渡った段階で送液を止めて、前記多孔質基材の下側から前記セラミックゾル液を排出し、
次いで、前記セラミックゾル液を排出し終えた後、前記多孔質基材の内壁面側より前記多孔質基材の外周面側が低い圧力になるように圧力差を付与する、
セラミック多孔質膜の製造方法。 - 前記セラミックゾルは、平均粒径が1〜100nmである請求項1に記載のセラミック多孔質膜の製造方法。
- 前記多孔質基材は、その成膜面の平均細孔径が0.1〜100nmである請求項1又は2に記載のセラミック多孔質膜の製造方法。
- 前記セラミックゾル液の、前記多孔質基材の内壁面への送液を、前記多孔質基材の下側又は上側から行う請求項1〜3のいずれか一項に記載のセラミック多孔質膜の製造方法。
- 前記セラミックゾル液が、100℃以下である請求項1〜4のいずれか一項に記載のセラミック多孔質膜の製造方法。
- 前記圧力差の付与方法が、前記多孔質基材の外周面側から真空吸引する方法である請求項1〜5のいずれか一項に記載のセラミック多孔質膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008500480A JP5269583B2 (ja) | 2006-02-16 | 2007-02-09 | セラミック多孔質膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006039661 | 2006-02-16 | ||
JP2006039661 | 2006-02-16 | ||
JP2008500480A JP5269583B2 (ja) | 2006-02-16 | 2007-02-09 | セラミック多孔質膜の製造方法 |
PCT/JP2007/052407 WO2007094267A1 (ja) | 2006-02-16 | 2007-02-09 | セラミック多孔質膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007094267A1 true JPWO2007094267A1 (ja) | 2009-07-09 |
JP5269583B2 JP5269583B2 (ja) | 2013-08-21 |
Family
ID=38371453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008500480A Active JP5269583B2 (ja) | 2006-02-16 | 2007-02-09 | セラミック多孔質膜の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7608298B2 (ja) |
EP (1) | EP1985598B1 (ja) |
JP (1) | JP5269583B2 (ja) |
CN (1) | CN101312929B (ja) |
BR (1) | BRPI0702837A2 (ja) |
CA (1) | CA2604458C (ja) |
WO (1) | WO2007094267A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BRPI0702895A2 (pt) * | 2006-07-20 | 2011-03-15 | Ngk Insulators Ltd | filtro de cerámica |
US8006637B2 (en) * | 2007-03-29 | 2011-08-30 | Corning Incorporated | Method and apparatus for membrane deposition |
JP2009226339A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Ngk Insulators Ltd | セラミックフィルタ及びその製造方法 |
EP2556882B1 (en) * | 2010-03-24 | 2022-11-09 | NGK Insulators, Ltd. | Process for production of silica membrane |
KR101234490B1 (ko) | 2010-12-29 | 2013-02-18 | 이근호 | 세라믹 필터 및 그 제조방법 |
DK177790B1 (en) * | 2013-08-08 | 2014-07-07 | Liqtech Internat A S | A METHOD OF PRODUCING A CERAMIC FILTER MEMBRANE, A METHOD OF IMPROVING A CERAMIC FILTER MEMBRANE AND THE CERAMIC FILTER MEMBRANE OBTAINED BY THE METHOD |
WO2016072421A1 (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-12 | 日本碍子株式会社 | 梱包体、サブナノ膜構造体の保管または輸送方法、及びサブナノ膜構造体 |
KR101993448B1 (ko) * | 2017-12-21 | 2019-06-26 | 한국화학연구원 | 수처리용 다공성 세라믹 분리막 및 이의 제조방법 |
CN112941401A (zh) * | 2021-03-06 | 2021-06-11 | 昆明理工大学 | 基于感应悬浮区熔的钢基藕状多孔材料的制备方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61238315A (ja) | 1985-04-12 | 1986-10-23 | Ngk Insulators Ltd | 複層フイルタの製造方法 |
JPH06198148A (ja) * | 1988-05-27 | 1994-07-19 | Ngk Insulators Ltd | 無機多孔質膜の製造方法 |
US4929406A (en) * | 1988-05-27 | 1990-05-29 | Ngk Insulators, Ltd. | Process for producing an inorganic porous membrane |
DE4040150A1 (de) * | 1990-02-28 | 1991-08-29 | Degussa | Verfahren zum belegen von keramikwabenkoerpern mit feinteiligen feststoffen |
JPH0745010B2 (ja) | 1990-03-16 | 1995-05-17 | 日本碍子株式会社 | セラミック膜フイルタ |
JPH07163848A (ja) * | 1994-08-04 | 1995-06-27 | Ngk Insulators Ltd | 無機多孔質膜の製造方法 |
JP2000288325A (ja) * | 1999-02-01 | 2000-10-17 | Ngk Insulators Ltd | セラミック多孔質膜を分離膜とするフィルタの製造方法 |
US6509060B1 (en) * | 1999-02-01 | 2003-01-21 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for manufacturing filter having ceramic porous film as separating film |
JP4155650B2 (ja) * | 1999-02-01 | 2008-09-24 | 日本碍子株式会社 | セラミックフィルタの製造方法 |
JP2001261464A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス多孔質フィルターの製造方法 |
JP2001261465A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス多孔質フィルターの製造方法 |
JP2001259323A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-25 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス多孔質フィルターの製造方法 |
JP4737945B2 (ja) * | 2004-05-14 | 2011-08-03 | 三菱重工業株式会社 | 分離膜の製造方法 |
-
2007
- 2007-02-09 WO PCT/JP2007/052407 patent/WO2007094267A1/ja active Application Filing
- 2007-02-09 CN CN2007800001939A patent/CN101312929B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-09 BR BRPI0702837-7A patent/BRPI0702837A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2007-02-09 EP EP07714019.2A patent/EP1985598B1/en not_active Not-in-force
- 2007-02-09 JP JP2008500480A patent/JP5269583B2/ja active Active
- 2007-02-09 CA CA2604458A patent/CA2604458C/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-21 US US11/858,973 patent/US7608298B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7608298B2 (en) | 2009-10-27 |
WO2007094267A1 (ja) | 2007-08-23 |
EP1985598A4 (en) | 2012-06-06 |
US20080069950A1 (en) | 2008-03-20 |
CA2604458C (en) | 2010-09-21 |
CA2604458A1 (en) | 2007-08-23 |
CN101312929B (zh) | 2012-06-27 |
EP1985598B1 (en) | 2015-04-08 |
CN101312929A (zh) | 2008-11-26 |
BRPI0702837A2 (pt) | 2011-03-15 |
EP1985598A1 (en) | 2008-10-29 |
JP5269583B2 (ja) | 2013-08-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5269583B2 (ja) | セラミック多孔質膜の製造方法 | |
JP5486300B2 (ja) | セラミック多孔質膜の製造方法及びセラミックフィルタの製造方法 | |
JP2873293B2 (ja) | 複合体膜及びその製造方法 | |
JP5048371B2 (ja) | セラミック多孔質膜の製造方法及びセラミックフィルタの製造方法 | |
JP5438507B2 (ja) | セラミックフィルタの製造方法 | |
WO2009119292A1 (ja) | セラミックフィルタ | |
JP5394234B2 (ja) | セラミック多孔質膜及びセラミックフィルタ | |
JP6436974B2 (ja) | モノリス型分離膜構造体及びモノリス型分離膜構造体の製造方法 | |
WO2013042262A1 (ja) | 炭素膜の製造方法 | |
WO2013136869A1 (ja) | 分離膜の製造方法、分離膜複合体の製造方法、及び分離膜複合体 | |
JP2009241054A (ja) | セラミックフィルタの製造方法 | |
JP2004168615A (ja) | 多孔質シリカ膜及びその製造方法 | |
CN106999864B (zh) | 分离膜结构体及其制造方法 | |
JP6767995B2 (ja) | 分離膜の補修方法及び分離膜構造体の製造方法 | |
JP5033670B2 (ja) | セラミックフィルタの製造方法 | |
JP2009255031A (ja) | セラミック多孔質膜の処理方法 | |
JP2013173131A (ja) | 炭素膜付き多孔質体およびその製造方法 | |
JP6636932B2 (ja) | 膜構造体及びその製造方法 | |
JP2016055272A (ja) | 片端封止型筒状セラミックス | |
WO2020107286A1 (zh) | 多孔涂膜及其制备方法和应用 | |
Wahid et al. | Ceramic Ultrafiltration Membrane from Nanosilica Particles | |
WO2013145857A1 (ja) | 分離膜の製造方法 | |
JP2009226307A (ja) | セラミックフィルタ及びナノ濾過膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120828 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121016 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130409 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130508 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5269583 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |