JP5394234B2 - セラミック多孔質膜及びセラミックフィルタ - Google Patents
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Description
(1)多孔質基材
平均細孔径が0.2μmのアルミナの膜が形成されているモノリス形状(外径30mm,セル内径3mm×37セル,長さ500mm)を基材とした。尚、基材両端部はガラスにてシールした。基材の平均細孔径はASTM F306記載のエアーフロー法に基づいて測定した。
チタンイソプロポキシドに硝酸の存在下で、加水分解し、チタニアゾル液を得た。動的光散乱法で測定されたゾル粒径は、100nmであった。
チタニアゾル液を水で希釈して成膜のゾル液とし、基材セル内に流通、接触させることにより、セル内に膜を形成した。
試料を、乾燥した後、500℃で熱処理した。これをチタニアUF膜が形成されたチタニアUF基材とした。チタニアUF基材の細孔径を測定したところ、平均細孔径で8nmであった。細孔径の測定原理は、非特許文献1で記載されている方法と同じであるが、非特許文献2では水蒸気と窒素を使用しているのに対し、本発明で用いた測定方法ではn−ヘキサンと窒素を使用した。
テトラエトシキシランに硝酸の存在下で、加水分解し、シリカゾル液を得た。上記シリカゾル液をエタノールで希釈し、シリカ換算で0.7wt%となるように調整し成膜用ゾル液とした。
試料(多孔質基材)の外周側面をマスキングテープでシールした。広口ロート下端に多孔質基材を固定し、基材上部から60mlのシリカゾル液を流し込みセル内を通過させた。なお、この成膜工程により、内側壁の全体に成膜されることを確認した。
シリカゾルを流し込んだ多孔質基材を30℃、湿度50%の条件で2hr乾燥した。
100℃/hrにて昇温し、500℃で1時間保持した後、100℃/hrで降温した。なお、上記(6)〜(8)の操作を3回〜5回繰り返して実施例1を得た。
実施例1の成膜において、チタニアUF膜の成膜は実施例と同様であるが、試料を、400℃で熱処理した。これをチタニアUF膜が形成されたチタニアUF基材とした。チタニアUF基材の細孔径を測定したところ、平均細孔径で2nmであった。これに(5)〜(8)のシリカゾル成膜を行った。
実施例1の成膜において、チタニアUF膜の成膜は実施例と同様であるが試料を、700℃で熱処理した。これをチタニアUF膜が形成されたチタニアUF基材とした。チタニアUF基材の細孔径を測定したところ、平均細孔径で40nmであった。これに(5)〜(8)のシリカゾル成膜を行った。
実施例1の成膜において、チタニアUF膜の成膜を行わず、アルミナ多孔質基材に直接(5)〜(8)のシリカゾル成膜を行った。
Claims (4)
- 平均細孔径が2〜20nmのチタニア膜である限外濾過膜上に形成され、前記限外濾過膜の細孔内にその一部が浸透しており、
前記限外濾過膜への浸透深さが、前記限外濾過膜の最表面から前記限外濾過膜の膜厚の
1/2以上3/4以下であって、シリカ膜であるセラミック多孔質膜。 - セラミックゾルが前記限外濾過膜に浸透して固化することにより形成された請求項1に記載のセラミック多孔質膜。
- 多孔質基材と、
その多孔質基材上に形成された平均細孔径が2〜20nmのチタニア膜である限外濾過膜と、
その限外濾過膜上に形成され、前記限外濾過膜の細孔内にその一部が浸透しているシリカ膜であるセラミック多孔質膜と、を含み、
前記セラミック多孔質膜の前記限外濾過膜への浸透深さが、前記限外濾過膜の最表面か
ら前記限外濾過膜の膜厚の1/2以上3/4以下であるセラミックフィルタ。 - セラミックゾルが前記限外濾過膜に浸透して固化することにより前記セラミック多孔質
膜が形成された請求項3に記載のセラミックフィルタ。
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