JPWO2007088876A1 - ピリドン誘導体及び除草剤 - Google Patents

ピリドン誘導体及び除草剤 Download PDF

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Abstract

【課題】畑地、果樹園、水田、非農耕地に発生する種々雑草を防除することができ、更に有用植物、有用作物等にに対して高い安全性を示すピリドン誘導体又はその農業上許容される塩、及び、当該ピリドン誘導体又はその塩を活性成分として含有することを特徴とする除草剤を提供する。【解決手段】本発明は、式［１］【化１】Ｒ１はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基等を表し；Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して、水素原子、ニトロ基、シアノ基等を表し；Ａは、式Ａ−１、式Ａ−２、式Ａ−３、式Ａ−４又は式Ａ−５【化２】で表される基を表す。］で示されるピリドン誘導体又はその農業上許容される塩である。【効果】一般式［１］で表される本発明の化合物及びその農業上許容される塩は、畑地、果樹園、水田、非農耕地に発生する種々雑草を防除することができ、更に有用植物、有用作物等にに対して高い安全性を示す。【選択図】なし

Description

本発明は、ピリドン誘導体又はその農業上許容される塩、及び、これらを有効成分とする除草剤に関するものであり、更に詳細には特定のピリドン誘導体及びその使用方法に関するものである。
ピリドン誘導体については例えば、特許文献１及び非特許文献１等が知られているが、これらの文献記載化合物については除草活性の記載はまったくない。又、置換環式ジオン化合物が除草活性を有することは、例えば特許文献２で報告されているが、本願発明のピリドン誘導体は、これらの文献に開示されていない。よって、上記のことから式［１］で示されるピリドン誘導体が除草活性を有することは、文献上まったく知られていないということができる。
ＷＯ２００４／０４３９２４号公報 欧州特許公開ＥＰ−２８３２６１号公報 ヘルベチカ・シミカ・アクタ（Helvetica Chimica Acta）、１９８８年、第７１巻、５９６頁
有用作物に対して使用される除草剤は、土壌又は茎葉に施用し、低薬量で十分な除草効果を示す薬剤であることが望まれている。又、化学物質の安全性、環境に対する影響への要求が高まってきており、より安全な農園芸用植物制御剤の開発が望まれている。本発明はこのような問題点に対処するためになされたものである。
本発明者らは、上記の目的を達成するために、これまで除草活性の知られていないピリドン誘導体を合成し、その除草活性と有用性について鋭意検討した。その結果、本発明のピリドン誘導体を植物に直接施用するか、植物が生育する土壌に施用するか、水田の水面に施用することにより、広範囲にわたる雑草に対して長期間に亘ってすぐれた除草効果を示すこと、及び、有用作物と種々の雑草の間に高い選択性を示すことを見いだし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、次の（１）〜（４）に関するものである。
（１） 式［１］
Figure 2007088876
 ［式中、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェノキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ(Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ)Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ホルミルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキリデンアミノ基、ジ（Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキリデンアミノ基、ＮＲ３１Ｒ３２基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表し；
Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して、水素原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシＣ１〜Ｃ４アルキル基、ジ(Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ)Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキニル基又はハロゲン原子を表し；
Ａは、式Ａ−１、式Ａ−２、式Ａ−３、式Ａ−４又は式Ａ−５
Figure 2007088876
 のいずれかで表される基を表し；
Ｒ４は、ヒドロキシル基、Ｏ−Ｍ＋（Ｍ＋はアルカリ金属カチオン又はアンモニウムカチオンを表す）、ハロゲン原子、シアノ基、イソチオシアナート基、イソシアナート基、ヒドロキシカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、シアノメチレンオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ８アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルコキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルホニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルチオ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）アミノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルアミノ基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルオキシ基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表し；
Ａ０は、式Ｘ１０又は式Ｘ１１
Figure 2007088876
 で表される基を表し；
Ａ１は、式Ｘ１又は式Ｘ２
Figure 2007088876
 で表される基を表し；
Ａ２は、式Ｘ３、式Ｘ４、式Ｘ５、式Ｘ６又は式Ｘ７
Figure 2007088876
 のいずれかで表される基を表し；
Ａ３は、式Ｘ８又は式Ｘ９
Figure 2007088876
 で表される基を表し；
ｎは０、１又は２を表し；
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立して、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
ここで、Ｒ５とＲ８はＣ１〜Ｃ５アルキレン鎖又はＣ２〜Ｃ５アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく、
又、Ｒ５とＲ１１はＣ２〜Ｃ５アルキレン鎖又はＣ２〜Ｃ５アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく；
Ｒ７、Ｒ３３及びＲ３４はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し；
Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又は置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基を表し；
Ｒ１８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、シアノメチル基又は置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基を表し；
Ｒ２０は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し；
Ｒ２１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はハロゲン原子を表し；
Ｒ２３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルチオ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基又は置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基を表し；
Ｒ２４は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルアミノ基を表し；
Ｒ２５は、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、シアノ基又はニトロ基を表し、
Ｒ３１、Ｒ３２はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表す。］
で示されるピリドン誘導体又はその農業上許容される塩。
「置換基群α」
ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキレンジオキシ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルアミノ基
（２）式［１］において、
Ａは、前記式Ａ−１、式Ａ−２、式Ａ−３、式Ａ−４又は式Ａ−５のいずれかで表される基を表し、
Ａ−１におけるＡ０は、式Ｘ１０、式Ｘ１１−ａ又はＸ１１−ｂ
Figure 2007088876
 のいずれかで表される基を表し；
Ａ２は、式Ｘ３、式Ｘ４、式Ｘ５、式Ｘ６又は式Ｘ７は、
Figure 2007088876
 のいずれかで表される基を表し；
Ａ３は、式Ｘ８又は式Ｘ９
Figure 2007088876
 で表される基を表し；
ｎは０、１又は２を表し；
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立して、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ７、Ｒ３３及びＲ３４はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し；
ＴはＣ２〜Ｃ５アルキレン鎖又はＣ２〜Ｃ５アルケニレン鎖を表す、
前記（１）に記載のピリドン誘導体又はその農業上許容される塩。
（３） 式［１］において、
Ｒ１がＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群α’より選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されたフェニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェノキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ(Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ)Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ホルミルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキリデンアミノ基、ジ（Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキリデンアミノ基、ＮＲ３１Ｒ３２基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基はハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基及びシアノ基より選ばれる１又は２個以上の置換基で置換される）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表し、
Ｒ３１が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表し、
Ｒ３２が、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表す
前記（１）に記載のピリドン誘導体又はその農業上許容される塩。
「置換基群α’」
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルアミノ基を表す。
（４） 前記（１）〜（３）のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその農業上許容される塩を活性成分として含有することを特徴とする除草剤。
一般式［１］で表される本発明の化合物及びその農業上許容される塩は、畑地、果樹園、水田、非農耕地に発生する種々雑草を防除することができ、更に有用植物、有用作物等にに対して高い安全性を示す。
ここで、本明細書に記載された記号及び用語について説明する。
ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。
Ｃ１〜Ｃ６等の表記は、これに続く置換基の炭素数が、この場合では１〜６であることを示している。
Ｃ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、sｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、ネオペンチル、ｎ−へキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が３〜８のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、１〜１３のハロゲン原子によって置換された、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばフルオロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル、２−フルオロエチル、１−クロロエチル、２−クロロエチル、１−ブロモエチル、２−ブロモエチル、２，２−ジフルオロエチル、１，２−ジクロロエチル、２，２−ジクロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，１，２，２−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、２−ブロモ−２−クロロエチル、２−クロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエチル、１−クロロ−１，２，２，２−テトラフルオロエチル、１−クロロプロピル、２−クロロプロピル、３−クロロプロピル、２−ブロモプロピル、３−ブロモプロピル、２−ブロモ−１−メチルエチル、３−ヨードプロピル、２，３−ジクロロプロピル、２，３−ジブロモプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、３，３，３−トリクロロプロピル、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピル、３，３−ジクロロ−３−フルオロプロピル、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル、１−ブロモ−３，３，３−トリフルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル、ヘプタフルオロプロピル、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル、２，３−ジクロロ−１，１，２，３，３−ペンタフルオロプロピル、２−クロロブチル、３−クロロブチル、４−クロロブチル、２−クロロ−１，１−ジメチルエチル、４−ブロモブチル、３−ブロモ−２−メチルプロピル、２−ブロモ−１，１−ジメチルエチル、２，２−ジクロロ−１，１−ジメチルエチル、２−クロロ−１−クロロメチル−２−メチルエチル、４，４，４−トリフルオロブチル、３，３，３−トリフルオロ−１−メチルプロピル、３，３，３−トリフルオロ−２−メチルプロピル、２，３，４−トリクロロブチル、２，２，２−トリクロロ−１，１−ジメチルエチル、４−クロロ−４，４−ジフルオロブチル、４，４−ジクロロ−４−フルオロブチル、４−ブロモ−４，４−ジフルオロブチル、２，４−ジブロモ−４，４−ジフルオロブチル、３，４−ジクロロ−３，４，４−トリフルオロブチル、３，３−ジクロロ−４，４，４−トリフルオロブチル、４−ブロモ−３，３，４，４−テトラフルオロブチル、４−ブロモ−３−クロロ−３，４，４−トリフルオロブチル、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチル、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル、２，２，２−トリフルオロ−１−メチル−１−トリフルオロメチルエチル、３，３，３−トリフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、２，３，３，３−テトラフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル、ノナフルオロブチル、４−クロロ−１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル、５−フルオロペンチル、５−クロロペンチル、５，５−ジフルオロペンチル、５，５−ジクロロペンチル、５，５，５−トリフルオロペンチル、６，６，６−トリフルオロヘキシル又は５，５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキシル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル、１−プロペニル、イソプロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、１−メチル−１−プロペニル、２−ブテニル、１−メチル−２−プロペニル、３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、１，３−ブタジエニル、１−ペンテニル、１−エチル−２−プロペニル、２−ペンテニル、１−メチル−１−ブテニル、３−ペンテニル、１−メチル−２−ブテニル、４−ペンテニル、１−メチル−３−ブテニル、３−メチル−１−ブテニル、１，２−ジメチル−２−プロペニル、１，１−ジメチル−２−プロペニル、２−メチル−２−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１，２−ジメチル−１−プロペニル、２−メチル−３−ブテニル、３−メチル−３−ブテニル、１，３−ペンタジエニル、１−ビニル−２−プロペニル、１−ヘキセニル、１−プロピル−２−プロペニル、２−へキセニル、１−メチル−１−ペンテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、１−メチル−４−ペンテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−（イソブチル）ビニル、１−エチル−１−メチル−２−プロペニル、１−エチル−２−メチル−２−プロペニル、１−（イソプロピル)−２−プロペニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１，３−ジメチル−２−ブテニル、１，１−ジメチル−３−ブテニル、３−メチル−４−ペンテニル、４−メチル−４−ペンテニル、１，２−ジメチル−３−ブテニル、１，３−ジメチル−３−ブテニル、１，１，２−トリメチル−２−プロペニル、１，５−ヘキサジエニル、１−ビニル−３−ブテニル又は２，４−ヘキサジエニル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、１−メチル−２−プロピニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、１−エチル−２−プロピニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−２−ブチニル、４−ペンチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、１−ヘキシニル、１−（ｎ−プロピル）−２−プロピニル、２−ヘキシニル、１−エチル−２−ブチニル、３−ヘキシニル、１−メチル−２−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニル、４−メチル−１−ペンチニル、３−メチル−１−ペンチニル、５−ヘキシニル、１−エチル−３−ブチニル、１−エチル−１−メチル−２−プロピニル、１−（イソプロピル）−２−プロピニル、１，１−ジメチル−２−ブチニル又は２，２−ジメチル−３−ブチニル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜１１で置換されている炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば２−クロロビニル、２−ブロモビニル、２−ヨードビニル、３−クロロ−２−プロペニル、３−ブロモ−２−プロペニル、１−クロロメチルビニル、２−ブロモ−１−メチルビニル、１−トリフルオロメチルビニル、３，３，３−トリクロロ−１−プロペニル、３−ブロモ−３，３−ジフルオロ−１−プロペニル、２，３，３，３−テトラクロロ−１−プロペニル、１−トリフルオロメチル−２，２−ジフルオロビニル、２−クロロ−２−プロペニル、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル、２，３，３−トリクロロ−２−プロペニル、４−ブロモ−３−クロロ−３，４，４−トリフルオロ−１−ブテニル、１−ブロモメチル−２−プロペニル、３−クロロ−２−ブテニル、４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル、４−ブロモ−４，４−ジフルオロ−２−ブテニル、３−ブロモ−３−ブテニル、３，４，４−トリフルオロ−３−ブテニル、３，４，４−トリブロモ−３−ブテニル、３−ブロモ−２−メチル−２−プロペニル、３，３−ジフルオロ−２−メチル−２−プロペニル、３，３，３−トリフルオロ−２−メチルプロペニル、３−クロロ−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル、３，３，３−トリフルオロ−１−メチル−１−プロペニル、３，４，４−トリフルオロ−１，３−ブタジエニル、３，４−ジブロモ−１−ペンテニル、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロ−１−ペンテニル、５，５−ジフルオロ−４−ペンテニル、４，５，５−トリフルオロ−４−ペンテニル、３，４，４，４−テトラフルオロ−３−トリフルオロメチル−１−ブテニル、４，４，４−トリフルオロメチル−３−メチル−２−ブテニル、３，５，５−トリフルオロ−２，４−ペンタジエニル、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−ヘキセニル、３，４，４，５，５，５−ヘキサフルオロ−３−トリフルオロメチル−１−ペンテニル、４，５，５，５−テトラフルオロ−４−トリフルオロメチル−２−ペンテニル又は５−ブロモ−４，５，５−トリフルオロ−４−トリフルオロメチル−２−ペンテニル等をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜９で置換されている炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えば、３−クロロ−２−プロピニル、３−ブロモ−２−プロピニル、３−ヨード−２−プロピニル、３−クロロ−１−プロピニル、５−クロロ−４−ペンチニル等をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分の炭素数が１〜６の（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペンチルオキシ又はヘキシルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分の炭素数が１〜１２の（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ又はノニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基とは、特に限定しない限り、ハロアルキル部分が前記の意味を有する、同一又は相異なるハロゲン原子１〜１３で置換されている炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル−Ｏ−基を示し、例えばクロロメトキシ、ジフルオロメトキシ、クロロジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ又は２，２，２−トリフルオロエトキシ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルコキシ部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜６のアルコキシ基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばメトキシメチル、エトキシメチル、イソプロポキシメチル、ペンチルオキシメチル、メトキシエチル又はブトキシエチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルコキシ部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜６のアルコキシ基により置換された炭素数が１〜６のアルコキシ基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えば２−（２−メトキシエトキシ）エチル又は２−（２−エトキシエトキシ）エチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、ハロアルコキシ部分及びアルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜６のハロアルコキシ基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばクロロメトキシメトキシ、ジフルオロメトキシメトキシ、クロロジフルオロメトキシメトキシ、トリフルオロメトキシメトキシ又は２，２，２−トリフルオロエトキシメトキシ等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分が上記の意味である炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ又はシクロヘキシルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシＣ１〜Ｃ４アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−Ｏ−基により置換された炭素数が１〜４のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルオキシメチル、シクロブチルオキシメチル、シクロペンチルオキシメチル又はシクロヘキシルオキシメチル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−Ｏ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルオキシメチル、シクロブチルオキシメチル、シクロペンチルオキシメチル又はシクロヘキシルオキシメチル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分及びアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８のシクロアルキルにより置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル、１−シクロプロピルエチル、２−シクロプロピルエチル、１−シクロプロピルプロピル、２−シクロプロピルプロピル、３−シクロプロピルプロピル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル又はシクロヘキシルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分及びアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８のシクロアルキルにより置換された炭素数が１〜３の（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルメトキシ、１−シクロプロピルエトキシ、２−シクロプロピルエトキシ、１−シクロプロピルプロポキシ、２−シクロプロピルプロポキシ、３−シクロプロピルプロポキシ、シクロブチルメトキシ、シクロペンチルメトキシ又はシクロヘキシルメトキシ等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（アルケニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロペニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（アルキニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロピニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルコキシ部分及びアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（アルコキシ）−Ｎ＝ＣＨ−により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばメトキシイミノメチル又はエトキシイミノメチル等の基をあげることができる。
フェノキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、フェノキシ部分及びアルキル部分が上記の意味である、フェノキシ−Ｎ＝ＣＨ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばフェノキシイミノメチル等の基をあげることができる。
ジ(Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ)Ｃ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜６のアルコキシ基でジ置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えば（２，２−ジメトキシ）エチル、（３，３−ジメトキシ）プロピル、（２，２−ジエトキシ）エチル基、（３，３−ジエトキシ）プロピル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である、炭素数が１〜６の（アルキル）−Ｓ−基を示し、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である、炭素数が１〜６の（アルキル）−ＳＯ−基を示し、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル又はイソプロピルスルフィニル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（アルキル）−ＳＯ２−基を示し、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル又はイソプロピルスルホニル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−Ｓ−基を示し、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−ＳＯ−基を示し、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル又はイソプロピルスルフィニル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−ＳＯ２−基を示し、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル又はイソプロピルスルホニル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルホニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）ＳＯ２−Ｏ−基を示し、例えばメチルスルホニルオキシ又はエチルスルホニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルキルチオ部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜６のアルキルチオ基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばメチルチオメチル又はエチルチオメチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルキルスルフィニル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜６のアルキルスルフィニル基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばメチルスルフィニルメチル又はエチルスルフィニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルキルスルホニル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜６のアルキルスルホニル基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばメチルスルホニルメチル又はエチルスルホニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（アルキル）−Ｃ（＝Ｏ）−基を示し、例えばアセチル又はプロピオニル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ８アルキルカルボニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜８の（アルキル）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を示し、例えばメチルカルボニルオキシ基又はエチルカルボニルオキシ基等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニルオキシ基とは、特に限定しない限り、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（ハロアルキル）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を示し、例えばクロロメチルカルボニルオキシ、ジフルオロメチルカルボニルオキシ、クロロジフルオロメチルカルボニルオキシ、トリフルオロメチルカルボニルオキシ又は２，２，２−トリフルオロエチルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニルカルボニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（アルケニル）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を示し、例えば１−プロペニルカルボニルオキシ、２−プロペニルカルボニルオキシ、１−ブテニルカルボニルオキシ、１−メチル−１−プロペニルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニルカルボニルオキシ基とは、特に限定しない限り、ハロアルケニル部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（ハロアルケニル）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を示し、例えば３−クロロ−２−プロペニルカルボニルオキシ、３−ブロモ−２−プロペニルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニルカルボニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（アルキニル）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を示し、例えば１−プロピニルカルボニルオキシ、２−プロピニルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニルカルボニルオキシ基とは、特に限定しない限り、ハロアルキニル部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（ハロアルキニル）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を示し、例えば、３−クロロ−１−プロピニルカルボニルオキシ、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピニルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキリデンアミノ基とは、特に限定しない限り、炭素数が２〜６のアルキリデンで置換されたアミノ基を示し、例えば、エチリデンアミノ又はプロピリデンアミノ等の基をあげることができる。
ジ（Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキリデンアミノ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜１０のアルキル基でジ置換されたアミノ基により置換された、炭素数が１〜６のアルキリデン基で置換されたアミノ基を示し、例えば、ジメチルアミノメチリデンアミノ基又はジエチルアミノメチリデンアミノ基等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルアミノ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−ＮＨ−基を示し、例えばメチルアミノ又はエチルアミノ等の基をあげることができる。
ジ(Ｃ１〜Ｃ１０アルキル)アミノ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）２Ｎ−基を示し、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジプロピルアミノ又はジブチルアミノ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜６のアルキルアミノ基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばＮ−メチルアミノメチル、Ｎ−メチルアミノエチル等の基をあげることができる。
ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜６の（アルキル）２Ｎ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばＮ、Ｎ−ジメチルアミノメチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルアミノ基とは、特に限定しない限り、アルコキシ部分が上記の意味である、炭素数が１〜６の（アルコキシ）−Ｃ（＝Ｏ）−基で置換されたアミノ基を示し、例えばメトキシカルボニルアミノ又はエトキシカルボニルアミノ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（アルキル）−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−基を示し、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル又はイソプロポキシカルボニル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルコキシ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である、炭素数が１〜６の（アルキル）−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−基で置換された炭素数が１〜６の（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシカルボニルメトキシ、エトキシカルボニルエトキシ、ｎ−プロポキシカルボニルプロピルオキシ又はイソプロポキシカルボニルプロポキシ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルコキシカルボニル部分が上記の意味である、炭素数が１〜６の（アルコキシ）−Ｃ（＝Ｏ）−基で置換されたオキシ基を示し、例えばメトキシカルボニルオキシ又はエトキシカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ基とは、特に限定しない限り、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（ハロアルキル）−Ｓ−基を示し、例えばジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル基とは、特に限定しない限り、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（ハロアルキル）−ＳＯ−基を示し、例えばトリフルオロメチルスルフィニル又はジフルオロメチルスルフィニル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル基とは、特に限定しない限り、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（ハロアルキル）−ＳＯ２−基を示し、例えばクロルメチルスルホニル、ジフルオロメチルスルホニル又はトリフルオロメチルスルホニル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ6ハロアルキルスルホニルアミノ基とは、特に限定しない限り、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（ハロアルキル）−ＳＯ２−アミノ基を示し、例えばクロルメチルスルホニルアミノ、ジフルオロメチルスルホニルアミノ又はトリフルオロメチルスルホニルアミノ等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルチオＣ１〜Ｃ6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−Ｓ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルチオメチル、シクロブチルチオメチル、シクロペンチルチオメチル又はシクロヘキシルチオメチル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−ＳＯ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルスルフィニルメチル、シクロブチルスルフィニルメチル、シクロペンチルスルフィニルメチル又はシクロヘキシルスルフィニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−ＳＯ２−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルスルホニルメチル、シクロブチルスルホニルメチル、シクロペンチルスルホニルメチル又はシクロヘキシルスルホニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ6アルキルチオＣ１〜Ｃ6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−Ｓ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチルチオメチル、シクロブチルエチルチオメチル、シクロペンチルエチルチオメチル又はシクロヘキシルメチルチオエチル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−ＳＯ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチルスルフィニルメチル、シクロブチルエチルスルフィニルメチル、シクロペンチルエチルスルフィニルメチル又はシクロヘキシルメチルスルフィニルエチル等の基をあげることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−ＳＯ２−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチルスルホニルメチル、シクロブチルエチルスルホニルメチル、シクロペンチルエチルスルホニルメチル又はシクロヘキシルメチルスルホニルエチル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ6アルケニルチオＣ１〜Ｃ6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルケニル部分が上記の意味である、炭素数が２〜６の（アルケニル）−Ｓ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばプロペニルチオメチル、ブテニルチオメチル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルケニル部分が上記の意味である、炭素数が２〜６の（アルケニル）−ＳＯ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばエテニルスルフィニルメチル、プロペニルスルフィニルメチル、ブテニルスルフィニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルケニル部分が上記の意味である、炭素数が２〜６の（アルケニル）−ＳＯ２−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばエテニルスルホニルメチル、プロペニルスルホニルメチル、ブテニルスルホニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルキニル部分が上記の意味である、炭素数が２〜６の（アルキニル）−Ｓ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばプロピニルチオメチル、ブチニルチオメチル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルキニル部分が上記の意味である、炭素数が２〜６の（アルキニル）−ＳＯ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばプロピニルスルフィニルメチル、ブチニルスルフィニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルキニル部分が上記の意味である、炭素数が２〜６の（アルキニル）−ＳＯ２−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばプロピニルスルホニルメチル、ブチニルスルホニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びハロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が１〜６の（ハロアルキル）−Ｓ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えば、ジフルオロメチルチオメチル、トリフルオロメチルチオメチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びハロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が１〜６の（ハロアルキル）−ＳＯ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばジフルオロメチルスルフィニルメチル、トリフルオロメチルスルフィニルメチル等の基をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びハロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が１〜６の（ハロアルキル）−ＳＯ２−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えば、ジフルオロメチルスルホニルメチル、トリフルオロメチルスルホニルメチル等の基をあげることができる。
シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有するシアノ基が置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、シアノメチル、シアノエチル等の基をあげることができる。
フェニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有するフェニル基で置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばフェネチル、フェニルプロピル等の基をあげることができる。
フェニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基とは、特に限定しない限り、アルケニル部分が前記の意味を有するフェニル基で置換された炭素数が２〜６のアルケニル基を示し、例えばスチリル、シンナミル等をあげることができる。
フェニルＣ２〜Ｃ６アルキニル基とは、特に限定しない限り、アルキニル部分が前記の意味を有するフェニル基で置換された炭素数が２〜６のアルキニル基を示し、例えばフェニルエチニル、４−フェニル−１−ブチニル等の基をあげることができる。
ベンジルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である、フェニル−ＣＨ２−Ｏ−基により置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばベンジルオキシメチル又はベンジルオキシエチル等の基をあげることができる。
フェニルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、（フェニル）−Ｃ（＝Ｏ）−炭素数１〜６の（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばフェニルカルボニルメチルオキシ等の基をあげることができる。
酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基としては、特に限定しない限り、例えばオキシラン、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンズイミダゾール、イソオキサゾール、イソオキサゾリン、オキサゾール、オキサゾリン、イソチアゾール、イソチアゾリン、チアゾール、テトラヒドロフラン、チオモルホリン又はチアゾリン等の基をあげることができる。
酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基としては、特に限定しない限り、アルキル部分及び複素環部分が前記の意味を有する複素環で置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えば（２−フラン）メチル、（３−フラン）メチル、（２−チオフェン）メチル又は（３−チオフェン）メチル等の基をあげることができる。
酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基としては、特に限定しない限り、アルキル部分及び複素環部分が前記の意味を有する複素環で置換された炭素数が１〜６のアルキル−Ｎ−基を示し、例えば（２−フラン）メチルアミノ、（３−フラン）メチルアミノ、（２−チオフェン）メチルアミノ又は（３−チオフェン）メチルアミノ等の基をあげることができる。
酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基としては、特に限定しない限り、アルキル部分、アルコキシ部分及び複素環部分が前記の意味を有する、複素環で置換された炭素数が１〜６のアルコキシ基で置換された炭素数が１〜６のアルキル基を示し、例えばテトラヒドロフルフリルオキシエチル又はテトラヒドロフルフリルオキシメチル等の基をあげることができる。
酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルオキシ基としては、特に限定しない限り、複素環部分が前記の意味を有する複素環により置換された炭素数１〜６の（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えば６−メチル−２−ピリジンメトキシ基又はテトラヒドロフルフリルオキシ基等の基をあげることができる。
アルカリ金属としては、例えばナトリウム、カリウム等をあげることができる。
Ｃ1〜Ｃ５アルキレン鎖としては、例えばメチレン、エチレン、プロピレン又はペンタメチレン等をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ５アルキレン鎖としては、例えばエチレン、プロピレン又はペンタメチレン等をあげることができる。
Ｃ１〜Ｃ４アルキレンジオキシ基としては、例えばメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基又はプロピレンジオキシ基等をあげることができる。
Ｃ２〜Ｃ５アルケニレン鎖としては、例えばビニレン又はプロペニレン等をあげることができる。
次に、式［１］で示される本発明化合物の具体例を表１〜表２１に記載する。しかしながら、本発明化合物はこれらの化合物に限定されるものではない。
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Ｍｅ ：メチル基 Ｅｔ ：エチル基
Ｐｒ−ｎ ：ｎ−プロピル基 Ｐｒ−ｉ ：イソプロピル基
Ｐｒ−ｃ ：シクロプロピル基 Ｂｕ−ｎ ：ｎ−ブチル基
Ｂｕ−ｓ ：セカンダリーブチル基 Ｂｕ−ｉ ：イソブチル基
Ｂｕ−ｔ ：ターシャリーブチル基 Ｂｕ−ｃ ：シクロブチル基
Ｐｅｎ−ｎ：ｎ−ペンチル基 Ｐｅｎ−ｃ：シクロペンチル基
Ｈｅｘ−ｎ：ｎ−ヘキシル基 Ｈｅｘ−ｃ：シクロヘキシル基
Ａｃ ：アセチル Ｐｈ ：フェニル基
Ｂｎ ：ベンジル基 Ｔｓ ：トルエンスルホニル基
ｐｙｒｉｄｙｌ：ピリジル基
ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｙｌ：ピリミジニル基
Ｐｈ（２−ＯＭｅ）：２−メトキシフェニル基
ＣＨ２Ｐｈ（２−ＯＭｅ） ：２−メトキシベンジル基
Ｐｈ（３，４−ｄｉ−Ｃｌ）：３，４−ジクロルフェニル基
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
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Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
＜製造方法１＞
本発明化合物である式［１ａ］の化合物は、下記に例示する反応式からなる方法により製造することができる。尚、式［１ａ］の化合物は、式［１］の化合物において、Ａが式Ａ−１で表される基であって、更にＲ４がヒドロキシ基の化合物である。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａ０はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｑは、ハロゲン原子、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ハロアルキルカルボニルオキシ基、ハロアルコキシカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ピリジル基、イミダゾリル基等の脱離基を表す。）
（工程１）
式［２］の化合物と式［３ａ］の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより、式［４ａ］のエノールエステル化合物を製造することができる。
ここで使用する式［３ａ］の化合物の使用量は、式［２］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［２］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。又、四級アンモニウム塩等の相間移動触媒を用いて、二層系で反応させることもできる。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
反応の目的物である式［４ａ］の化合物は、反応終了後、常法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
（工程２）
式［４ａ］の化合物は、式［２］と式［３ｂ］の化合物とを、塩基の存在下／非存在下、溶媒中で脱水縮合剤を反応させることによっても製造することができる。
本工程で使用する式［３ｂ］の化合物の使用量は、式［２］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミド（ＥＤＣ又はＷＳＣ）、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリウムクロリド、ヨウ化−２−クロロ−１−ピリジニウム等を用いることができる。
本工程で使用できる溶媒としては、工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができ、又、本工程で塩基を使用する場合は、工程１で説明した塩基と同様のものを使用することができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
（工程３）
式［１ａ］の化合物は、前記工程２又は３で製造された式［４ａ］の化合物とシアン化合物とを塩基の存在下反応させることによって製造することができる。
本工程で使用できる塩基としては、工程１で説明した塩基と同様のものをあげることができ、塩基の使用量は、式［４ａ］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できるシアン化合物としては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素、シアン化水素を保持したポリマー等をあげることができる。シアン化合物の使用量は、式［４ａ］の化合物１モルに対して０．０１〜１．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．０５〜０.２モルである。
又、本工程では、少量のクラウンエーテル等の相間移動触媒を用いてもよい。
本反応で使用できる溶媒としては、工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
尚、工程１又は工程２で製造される式［４ａ］の化合物を単離することなく用いても、本工程により式［１ａ］の化合物を製造することができる。
（工程４）
式［１ａ］の化合物は、式［２］の化合物と式［３ｃ］の化合物とを、塩基又はルイス酸存在下で反応させることによっても製造することができる。
本工程で使用する式［３ｃ］の化合物の使用量は、式［２］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
ルイス酸としては、塩化亜鉛、塩化アルミニウム等が使用できる。
本工程で使用できる塩基としては、工程１で説明した塩基と同様のものをあげることができ、塩基の使用量は、式［２］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本反応で使用できる溶媒としては、工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
（工程５）
式［１ａ］の化合物は、式［２］の化合物と式［３ａ］の化合物とを、シアン化合物の存在下で反応させることによっても製造することができる。
本工程で使用する式［３ａ］の化合物の使用量は、式［２］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できるシアン化合物としては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素、シアン化水素を保持したポリマー等をあげることができる。シアン化合物の使用量は、式［２］の化合物１モルに対して１〜５．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３.０モルである。
又、本工程では、少量のクラウンエーテル等の相間移動触媒を用いてもよい。
本反応で使用できる溶媒としては、工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
＜製造方法２＞
本発明の式［１ａ］で表される化合物から、以下の製造方法によって本発明の式［１ｂ］及び［１ｃ−１］で表される化合物を製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａ０はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ４ａは、前記Ｒ４からハロゲン原子を除いたものと同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）
すなわち、式［１ａ］の化合物とハロゲン化剤とを反応させることにより、式［１ｂ］の化合物を製造し、更に式［１ｂ］の化合物と求核試薬とを、塩基の存在下で反応させることにより式［１ｃ−１］の化合物を製造することができる。
式［１ａ］から式［１ｂ］の工程で使用できるハロゲン化剤としては、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド、メルドラム酸トリブロミド等があげられる。ハロゲン化剤の使用量は、式［１ａ］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる溶媒としては、製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
式［１ｂ］から式［１ｃ−１］の工程で、使用できる求核試薬としては、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；メチルメルカプタン、エチルメルカプタン等のメルカプタン類；アンモニア、メチルアミン、エチルアミン等のアミン類等をあげることができる。求核試薬の使用量は、式［１ａ］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる塩基としては、製造方法１の工程１で説明した塩基と同様のものをあげることができ、使用できる溶媒としては製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
＜製造方法３＞
式［１ｃ−２］の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａ０はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ２２は、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、シアノメチルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ８アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルコキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルホニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニルオキシ基又は置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニルオキシ基を表す。）
すなわち、式［１ａ］の化合物と求電子試薬とを、溶媒中、塩基の存在下／非存在下で反応させることにより、式［１ｃ−２］の化合物を製造することができる。
使用できる求電子試薬としては、例えばヨードメタン、ベンジルブロマイド等のハロゲン化物；塩化アセチル、ベンゾイルクロライド等の酸塩化物；メタンスルホニルクロライド、ｐ−トルエンスルホニルクロライド等のスルホン酸塩化物；ジメチル硫酸，ジエチル硫酸等の硫酸エステル等があげられる。求電子試薬の使用量は、式［１ａ］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる塩基としては、製造方法１の工程１で説明した塩基と同様のものをあげることができ、塩基の使用量は、式［５］の化合物１モルに対して０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる溶媒としては製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
尚、本発明の式［１ａ］の化合物には、以下に示すように多数の互変異性体が存在するが、これらのすべてが本発明の化合物に含まれる。
Figure 2007088876
＜製造方法４＞
式［１ｄ］の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。尚、式［１ｄ］の化合物は、式［１］の化合物において、Ａが式Ａ−２で表される基であると共に、Ｒ４がヒドロキシ基の化合物である。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８又はＱはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
すなわち、式［５ａ］の化合物と式［３ａ］の化合物とを、溶媒中、ルイス塩基の存在下で反応させることにより、式［１ｄ］の化合物を製造することができる。
式［３ａ］の化合物の使用量は、式［５ａ］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できるルイス塩基としては、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ベンジルリチウム等の有機リチウム化合物；よう化メチルマグネシウム、臭化エチルマグネシウム等のグリニャール試薬；リチウム、カリウム、ナトリウム等の金属化合物；グリニャール試薬又は有機金属化合物と１価の銅塩から調製した有機銅化合物；リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）等のアルカリ金属アミド；トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン等があげられ、特に好ましくは、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）である。ルイス塩基の使用量は、式［５ａ］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる溶媒としては前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができ、特に好ましくはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類である。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
尚、本発明の式［１ｄ］の化合物には、以下に示すように多数の互変異性体が存在するが、これらのすべてが本発明の化合物に含まれる。
Figure 2007088876
＜製造方法５＞
式［１ｅ］の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。尚、式［１ｅ］の化合物は、式［１］の化合物において、Ａが式Ａ−３で表される基であると共に、Ｒ４がヒドロキシ基の化合物である。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ２０、Ｒ２１又はＱはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
すなわち、式［５］の化合物と式［３ａ］の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させることにより式［４ｃ］の化合物を製造し、更に式［４ｃ］の化合物とシアン化合物とを塩基存在下で反応させることにより、式［１ｅ］の化合物を製造することができる。
上記の反応において、式［５］から式［４ｃ］の工程で、式［３ａ］の化合物の使用量は、式［５］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる塩基及び溶媒としては、前記製造方法１の工程１で説明した同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
上記の反応において、式［４ｃ］から式［１ｅ］の工程で使用できるシアン化合物としては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素、シアン化水素を保持したポリマー等があげられる。シアン化合物の使用量は、式［５］の化合物１モルに対して０．０１〜１．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．０５〜０.２モルである。
使用できる塩基としては、前記製造方法１の工程１で説明した塩基と同様のものをあげることができ、塩基の使用量は、式［５］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる溶媒としては前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
尚、本発明の式［１ｅ］の化合物には、以下に示すように多数の互変異性体が存在するが、これらのすべてが本発明の化合物に含まれる。
Figure 2007088876
＜製造方法６＞
ピラゾール環の置換基をハロゲンに変換した式［１ｆ］の化合物、及び、Ｒ４ａに変換した式［１ｇ−１］の化合物は、前記製造方法５で合成した式［１ｅ］の化合物を用いて、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ４ａ、及びＸはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
すなわち、式［１ｅ］の化合物とハロゲン化剤とを反応させて、式［１ｆ］の化合物とし、更に求核試薬と反応させることによりことにより、式［１ｇ−１］の化合物を製造することができる。
上記の反応において、式［１ｅ］の化合物から式［１ｆ］の化合物の工程で使用できるハロゲン化剤としては、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド、メルドラム酸トリブロミド等があげられる。ハロゲン化剤の使用量は、式［１ｅ］１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
溶媒を使用する場合、使用できる溶媒としては前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
式［１ｆ］の化合物から式［１ｇ−１］の化合物の工程で使用できる求核試薬としては、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン等のメルカプタン類、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン等のアミン類等があげられる。求核試薬の使用量は、式［１ｆ］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる溶媒としては前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
＜製造方法７＞
式［１ｇ−２］の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
すなわち、式［１ｅ］の化合物と求電子試薬とを、溶媒中、塩基の存在下／非存在下で反応させることにより、式［１ｇ−２］の化合物を製造することができる。
使用できる求電子試薬とは、ヨードメタン、ベンジルブロマイド等のハロゲン化物；塩化アセチル、ベンゾイルクロライド等の酸塩化物；メタンスルホニルクロライド、ｐ−トルエンスルホニルクロライド等のスルホン酸塩化物；ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等の硫酸エステル等があげられる。求電子試薬の使用量は、式［１ｅ］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本反応で使用できる溶媒としては、前記製造方法１の工程１で説明したものと同様のものをあげることができる。
本反応で塩基を使用する場合、使用できる塩基としては前記製造方法１の工程１で説明したものと同様のものをあげることができ、塩基の使用量は、式［１ｅ］の化合物１モルに対して０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
＜製造方法８＞
式［１ｈ］の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。尚、式［１ｈ］の化合物は、式［１］の化合物において、Ａが式Ａ−５で表される基である化合物である。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＱはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
すなわち、式［７］の化合物と式［３ａ］の化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより、式［４ｄ］の化合物を製造し、その後、式［４ｄ］の化合物とシアン化合物とを塩基の存在下反応させることにより、式［１ｈ］の化合物を製造することができる。
式［７］から式［４ｄ］の工程で、式［３ａ］の化合物の使用量は、式［７］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる塩基としては前記製造方法１の工程１で説明した塩基と同様のものをあげることができ、塩基の使用量は、式［７］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる溶媒としては前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
式［４ｄ］から式［１ｈ］の工程で使用できるシアン化合物としては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素、シアン化水素を保持したポリマー等があげられる。シアン化合物の使用量は、式［４ｄ］の化合物１モルに対して０．０１〜１．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．０５〜０.２モルである。
使用できる塩基としては前記製造方法１の工程１で説明したものと同様のものをあげることができ、塩基の使用量は、式［４ｄ］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
使用できる溶媒としては前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
尚、本発明の式［１ｈ］の化合物には、以下に示すように多数の互変異性体が存在するが、これらのすべてが本発明の化合物に含まれる。
Figure 2007088876
＜製造方法９＞
式［１ｉ］の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。尚、式［１ｉ］の化合物は、式［１］の化合物において、Ａが式Ａ−４で表される基である化合物である。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ２４はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ３０はカルボン酸エステルを表し、Ｒ２６はアルコキシ基、ハロアルコキシ基、シクロアルコキシ基、ジメチルアミノ基を表し、Ｒ２７はアルキル基、ベンジル基を表す。）
（工程１）
本工程においては、式［１ｈ］の化合物と酸とを、不活性溶媒中あるいは溶媒を使用することなく反応させることにより、式［８ａ］の化合物を製造することができる。
本工程で使用できる酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類をあげることができ、酸の使用量は、式［１ｈ］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で溶媒を用いる場合、使用できる溶媒としては前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
（工程２）
式［８ａ］の化合物とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール化合物あるいは無水酢酸中オルト蟻酸エステル化合物を反応させることにより、式［８ｂ］の化合物を得ることができる。
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミドジメチルアセタール及びオルト蟻酸エステルの使用量は、式［８ａ］の化合物１モルに対して各々０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１５０℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
（工程３）
式［８ａ］の化合物と二硫化炭素を反応させ、単離することなく、ハロゲン化剤を加えることにより、式［８ｃ］の化合物を得ることができる。
二硫化炭素の使用量は、式［８ａ］の化合物１モルに対して各々０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルであり、ハロゲン化剤の使用量は、式［８ａ］の化合物１モルに対して各々０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは２．０〜２．４モルである。
ハロゲン化剤としては、ヨウ化メチル、臭化メチル、塩化メチル、ヨウ 化エチル、臭化エチル、塩化エチル、臭化ベンジル、塩化ベンジル等をあげることができる。
本工程で使用できる溶媒としては前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
（工程４）
前記工程２又は前記工程３で製造した、式［８ｂ］又は［８ｃ］の化合物とヒドロキシルアミン塩酸塩とを溶媒中と反応させることにより、式［１ｉ］の化合物を製造することができる。
ヒドロキシルアミンの使用量は、式［８ｂ］又は［８ｃ］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、前記製造方法１の工程１で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
＜製造方法１０＞
式［１ｌ］の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。尚、式［１ｊ］、［１ｋ］及び［１ｌ］の化合物は、式［１］の化合物において、Ａが式Ａ−１で表される基であって、更にＲ２がそれぞれＣ１〜Ｃ６アルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル基、又は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル基の化合物である。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ａ０はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ４４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基を表す。）
（工程１）
式［１ｋ］で表されるスルホキシド誘導体は、式［１ｊ］で表されるスルフィド誘導体と酸化剤とを、適当な溶媒中で反応させることにより製造することができる。
反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１時間〜７２時間で終了する。
反応に供される試剤の量は、式［１ｊ］で表される化合物１モルに対して酸化剤は１〜３モルである。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン又はジエチルエーテル等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ.−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸、水或いはこれらの混合物があげられる。
酸化剤としては、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、過ギ酸又は過酢酸等の有機過酸化物、過酸化水素、過マンガン酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウム等の無機過酸化物があげられる。
（工程２）
式［１ｌ］で表されるスルホン誘導体は、式［１ｋ］で表されるスルホキシド誘導体と酸化剤とを、適当な溶媒中で反応させることにより製造することができる。
反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１時間〜７２時間で終了する。
反応に供される試剤の量は、式［１ｋ］で表される化合物１モルに対して酸化剤は１〜３モルである。
溶媒及び酸化剤としては、製造方法１０の工程１と同様なものがあげられる。
次に本発明化合物の合成中間体の製造方法を示す。
＜中間体製造方法１＞
製造方法１で使用する式［３ｂ］の化合物は、以下の反応式からなる方法で製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ４１はアルキル基を表し、Ｒ４５はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルコキアルキルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェノキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ(Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ)Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ホルミルＣ２〜Ｃ６アルキル基を表す。）
（ルートａ）
式［９］の化合物は、ヘルベチカ・キミカ・アクタ（Helvetica Chimica Acta）、第７１巻、第５９６頁（１９８８年）に記載されている方法に準じて製造することができる。すなわち、式［３１］の化合物とマロノジアミドとを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。
塩基の使用量は、式［３１］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
マロノジアミドの使用量は、式［３１］の化合物１モルに対して１．０〜３．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．５モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、アセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［１０］の化合物は、テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letters）、第３６巻、第４９号、第８９１７頁（１９９５年）に記載の方法に準じて、式［９］の化合物を溶媒中、塩基の存在下、アルキル化剤と反応させることによって製造することができる。
アルキル化剤としては、ヨウ化メチル、臭化メチル、塩化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチル、塩化エチル、ジメチル硫酸又はジエチル硫酸等をあげることができる。アルキル化剤の使用量は、式［９］の化合物１モルに対して１．０〜５．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜２．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［９］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、アセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［３ｂ’］の化合物は、式［１０］の化合物を溶媒中、酸性条件下又は塩基性条件下で加水分解することによってを製造することができる。
本工程で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物等があげられ、塩基の使用量は、式［１０］の化合物１モルに対して１．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
本工程で使用できる酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸等をあげることができ、酸の使用量は、式［１０］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば水；メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
（ルートｂ）
式［１１］の化合物は、式［３１］の化合物と式［３２］の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する式［３２］の化合物の使用量は、式［３１］の化合物１モルに対して０．５〜２．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．８〜１．５モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［３１］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、アセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
更に、式［１１］の化合物を溶媒中、酸性条件下又は塩基性条件下で加水分解することによって式［３ｂ］の化合物を製造することができる。
本工程で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物等があげられ、塩基の使用量は、式［１１］の化合物１モルに対して１．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
本工程で使用できる酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸等をあげることができ、酸の使用量は、式［１１］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば水；メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
（ルートｃ）
式［１２］の化合物は、式［３１］の化合物と式［３３］の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する式［３３］の化合物の使用量は、式［３１］の化合物１モルに対して０．５〜２．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．８〜１．５モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［３１］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［３ｂ］の化合物は、式［１２］の化合物を溶媒中、酸性条件下又は塩基性条件下で加水分解することによって製造することができる。
本工程で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物等があげられ、塩基の使用量は、式［１２］の化合物１モルに対して１．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
本工程で使用できる酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸等をあげることができ、酸の使用量は、式［１２］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば水；メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
（ルートｄ）
式［１３］の化合物は、式［３１］の化合物と式［３４］の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する式［３４］の化合物の使用量は、式［３１］の化合物１モルに対して０．５〜２．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．８〜１．５モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［３１］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、アセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［１４］の化合物は、式［１３］の化合物と式［３５］の化合物とを溶媒中又は無溶媒で、酸存在下又は非存在下に反応させることにより製造することができる。
ここで使用する式［３５］の化合物の使用量は、式［１３］の化合物１モルに対して０．５〜２．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．８〜１．５モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で酸を使用する場合、使用できる酸としては、酢酸、p-トルエンスルホン酸、塩化アルミニウム、四塩化チタン等のルイス酸等があげられ、使用量は、式［１３］の化合物１モルに対して０．００１〜溶媒量の範囲から適宜選択すればよい。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［３ｂ］の化合物は、式［１４］の化合物を溶媒中、酸性条件下又は塩基性条件下、加水分解することによって製造することができる。
本工程で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物等があげられ、塩基の使用量は、式［１４］の化合物１モルに対して１．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
本工程で使用できる酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸等をあげることができ、酸の使用量は、式［１４］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、水；メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
〈中間体製造方法２〉
式［３ｄ］の化合物は、テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letter）、第３７巻、第１６号、第２８２９頁（１９９６年）に記載の方法に準じ、式［１５］の化合物を触媒の存在下、転移反応させ、加水分解させることによって製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４１は前記と同じ意味を表し、Ｒ２８及びＲ２９は、それぞれ独立して水素原子又はアルキル基を表す。）
〈中間体製造方法３〉
又、製造方法４で使用する、本発明化合物の中間体である式［５ａ］のチアジン化合物は、シンレト（SYNLETT）、第９１５頁（１９９７年）に記載の方法に準じて製造することができる。
〈中間体製造方法４〉
本発明化合物の中間体である式［１９］、式［２０]及び式［２１]の化合物は、以下の反応式からなる方法で製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４１は、それぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ４２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキル基を表し、ｍは１又は２を表す。）
すなわち、式［１７］の化合物は、式［３ｂ−Ｍｅ］の化合物とアルコールとを、酸の存在下で反応させることにより製造することができる。
本工程で使用できる酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、硫酸をあげることができ、酸の使用量は、式［３ｂ−Ｍｅ］の化合物１モルに対して０．０００１〜１モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０.００１〜０．１モルである。
本工程で使用できるアルコールとしては、例えばメタノール、エタノール又はプロパノール等をあげることができ、アルコールの使用量は、式［３ｂ−Ｍｅ］の化合物１モルに対して１．０〜５０Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜２０Ｌである。
反応温度は−２０℃から使用する溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
式［１８］の化合物は、式［１７］の化合物と臭素化剤とを溶媒中、ラジカル開始剤の存在下で反応させることにより、場合によっては光反応装置を用いて製造することができる。
本工程で使用できるラジカル開始剤としては、過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）をあげることができ、ラジカル開始剤の使用量は、式［１７］の化合物１モルに対して０．０００１〜１モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０.００１〜０．１モルである。
本工程で使用できる臭素化剤としては、例えば臭素又はＮ−ブロモスクシンイミド等をあげることができ、臭素化剤の使用量は、式［１７］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、四塩化炭素又はクロロベンゼン等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
式［１９］の化合物は、式［１８］の化合物と式［３６］の化合物とを溶媒中、塩基の存在下又は非存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する式［３６］の化合物の使用量は、式［１８］の化合物１モルに対して１．０〜２０．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜５．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［１８］の化合物１モルに対して０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［２０］の化合物は、式［１８］の化合物と式［３７］の化合物とを溶媒中、塩基の存在下又は非存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する式［３７］の化合物の使用量は、式［１８］化合物１モルに対して１．０〜２０．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜５．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で塩基を用いる場合、使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［１８］化合物１モルに対して０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、アセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
更に、式［２０］の化合物を溶媒中、酸化剤と反応させることにより、式［２１］の化合物を製造することができる。
酸化剤としては、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、過ギ酸又は過酢酸等の有機過酸化物、過酸化水素、過マンガン酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウム等の無機過酸化物があげられる。
ここで使用する酸化剤の使用量は、式［２０］の化合物１モルに対して０．５〜５．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．８〜３．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
〈中間体製造方法５〉
本発明化合物の中間体である式［２４]の化合物は、以下の反応式からなる方法で製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４１はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ４３はアルキル基を表す。）
すなわち、式［２３］の化合物は、式［２２］の化合物と式［３８］の化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する式［３８］の化合物の使用量は、式［２２］化合物１モルに対して１．０〜５．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［２２］化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［２４］の化合物は、式［２３］の化合物と酸化剤とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
酸化剤としては、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、過ギ酸又は過酢酸等の有機過酸化物、過酸化水素、過マンガン酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウム等の無機過酸化物があげられる。
ここで使用する酸化剤の使用量は、式［２３］の化合物１モルに対して０．５〜５．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．８〜３．０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
〈中間体製造方法６〉
本発明化合物の中間体である式［２７]の化合物は、以下の反応式からなる方法で製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４１はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
すなわち、式［２６］の化合物は、式［２５］の化合物とヒドロキシルアミン塩酸塩とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることによりを製造することができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［２５］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
ヒドロキシルアミン塩酸塩の使用量は、式［２５］の化合物１モルに対して０．８〜５．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［２７］の化合物は、式［２６］の化合物と脱水剤とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
脱水剤としては、例えばＷＳＣ（Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミド）、無水酢酸、チオニルクロリド、ホスゲン、オキシ塩化リン等があげられる。
脱水剤の使用量は、式［２６］の化合物１モルに対して１．０〜２０．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１０モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
〈中間体製造方法７〉
本発明化合物の中間体である式［３０]の化合物は、以下の反応式からなる方法で製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ３、Ｒ４１、Ｒ４４、Ｒ４５はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
すなわち、式［２９］の化合物は、式［２８］の化合物と式［３９］の化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［２８］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる式［３９］の化合物としては、例えばメチルメルカプタン、エチルメルカプタン等があげられ、式［３９］の化合物の使用量は、式［２８］化合物１モルに対して１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜２．０モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
式［３０］の化合物は、式［２９］の化合物とアルキル化剤とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
アルキル化剤としては、ヨウ化メチル、臭化メチル、塩化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチル、塩化エチル、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等をあげることができ、アルキル化剤の使用量は、式［２９］の化合物１モルに対して１．０〜５．０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［２９］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
〈中間体製造方法８〉
本発明化合物の中間体である式［３ａ]の化合物は、以下の反応式からなる方法で製造することができる。
Figure 2007088876
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３, Ｑはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
式［３ａ］の化合物は、［３ｂ］の化合物とハロゲン化剤、アシル化剤、縮合剤を必要ならば塩基の存在下反応させることによって製造することができる。
ハロゲン化剤としては、チオニルクロリド、チオニルブロミド、オキサリルクロリド等を用いることができる。
アシル化剤としては、アセチルクロリド、クロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチル、トリフルオロ酢酸無水物、ベンゾイルクロリド等を用いることができる。
縮合剤としては、ヨウ化−２−クロロ−１−メチルピリジニウム、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール等を用いることができる。
本工程で使用できる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、式［２］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１２０℃の範囲で行なうのがよい。又、四級アンモニウム塩等の相間移動触媒を用いて、二層系で反応させることもできる。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
本発明の除草剤は、上記のようなピリドン誘導体又はその農業上許容される塩を活性成分として含有することを特徴とする。
本発明除草剤には、必要に応じ農薬製剤に通常用いられる添加成分を含有することができる。
この添加成分としては、固体担体又は液体担体等の担体、界面活性剤、結合剤や粘着付与剤、増粘剤、着色剤、拡展剤、展着剤、凍結防止剤、固結防止剤、崩壊剤、分解防止剤等があげられ、その他必要に応じ、防腐剤や、植物片等を添加成分に用いてもよい。
これらの添加成分は１種用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記添加成分について説明する。
固体担体としては、例えば石英、クレー、カオリナイト、ピロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライト、珪藻土等の天然鉱物質類、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、塩化カリウム等の無機塩類、合成ケイ酸、合成ケイ酸塩、デンプン、セルロース、植物粉末等の有機固体担体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック担体等があげられる。これらは単独で用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
液体担体としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等の一価アルコール類や、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類に大別されるアルコール類、プロピレン系グリコールエーテル等の多価アルコール誘導体類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、エチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ノルマルパラフィン、ナフテン、イソパラフィン、ケロシン、鉱油等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、ジイソプロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、アジピン酸ジメチル等のエステル類、γ−ブチロラクトン等のラクトン類、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−アルキルピロリジノン等のアミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類、大豆油、ナタネ油、綿実油、ヒマシ油等の植物油、水等をあげることができる。これらは単独で用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
界面活性剤は特に制限されないが、好ましくは水中でゲル化するか、あるいは膨潤性を示すものであり、例えばソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ジエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンジアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、アルキルポリオキシエチレンポリプロピレンブロックポリマーエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレン脂肪酸ビスフェニルエーテル、ポリアルキレンベンジルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル、アセチレンジオール、ポリオキシアルキレン付加アセチレンジオール、ポリオキシエチレンエーテル型シリコーン、エステル型シリコーン、フッ素系界面活性剤、ポリオキシエチレンひまし油、ポリオキシエチレン硬化ひまし油等の非イオン性界面活性剤、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、脂肪酸塩、ポリカルボン酸塩、Ｎ−メチル−脂肪酸サルコシネート、樹脂酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸塩等のアニオン性界面活性剤、ラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン塩酸塩、オレイルアミン塩酸塩、ステアリルアミン酢酸塩、ステアリルアミノプロピルアミン酢酸塩、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルジメチルベンザルコニウムクロライド等のアルキルアミン塩等のカチオン界面活性剤、アミノ酸型又はベタイン型等の両性界面活性剤等があげられる。
これらの界面活性剤は１種用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
又、結合剤や粘着付与剤としては、例えばカルボキシメチルセルロースやその塩、デキストリン、水溶性デンプン、キサンタンガム、グアーガム、蔗糖、ポリビニルピロリドン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸ナトリウム、平均分子量６０００〜２００００のポリエチレングリコール、平均分子量１０万〜５００万のポリエチレンオキサイド、天然燐脂質（例えばセフアリン酸、レシチン等）等があげられる。
増粘剤としては、例えばキサンタンガム、グアーガム、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、アクリル系ポリマー、デンプン誘導体、多糖類のような水溶性高分子、高純度ベントナイト、ホワイトカーボンのような無機微粉等があげられる。
着色剤としては、例えば酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルーのような無機顔料、アリザリン染料、アゾ染料、金属フタロシアニン染料のような有機染料等があげられる。
拡展剤としては、例えばシリコーン系界面活性剤、セルロース粉末、デキストリン、加工デンプン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、架橋ポリビニルピロリドン、マレイン酸とスチレン類、メタアクリル酸共重合体、多価アルコールのポリマーとジカルボン酸無水物とのハーフエステル、ポリスチレンスルホン酸の水溶性塩等があげられる。
展着剤としては、例えばジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルなどの種々の界面活性剤、パラフィン、テルペン、ポリアミド樹脂、ポリアクリル酸塩、ポリオキシエチレン、ワックス、ポリビニルアルキルエーテル、アルキルフェノールホルマリン縮合物、合成樹脂エマルション等があげられる。
凍結防止剤としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類等があげられる。
固結防止剤としては、例えばデンプン、アルギン酸、マンノース、ガラクトース等の多糖類、ポリビニルピロリドン、ホワイトカーボン、エステルガム、石油樹脂等があげられる。
崩壊剤としては、例えばトリポリリン酸ソーダ、ヘキサメタリン酸ソーダ、ステアリン酸金属塩、セルロース粉末、デキストリン、メタクリル酸エステルの共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、スルホン化スチレン・イソブチレン・無水マレイン酸共重合体、デンプン・ポリアクリロニトリルグラフト共重合体等があげられる。
分解防止剤としては、例えばゼオライト、生石灰、酸化マグネシウムのような乾燥剤、フェノール系、アミン系、硫黄系、リン酸系等の酸化防止剤、サリチル酸系、ベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤等があげられる。
防腐剤としては、例えばソルビン酸カリウム、１，２−ベンズチアゾリン−３−オン等があげられる。
植物片としては、例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸、タバコ茎等があげられる。
本発明の除草剤において、上記添加成分を含有させる場合、その含有割合については、質量基準で、担体では通常５〜９５％、好ましくは２０〜９０％、界面活性剤では通常０．１％〜３０％、好ましくは０．５〜１０％、その他の添加剤は０．１〜３０％、好ましくは０．５〜１０％の範囲で選ばれる。
本発明除草剤は、液剤、乳剤、水和剤、粉剤、油剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、乳懸濁剤、粒剤、ジャンボ剤、サスポエマルション、豆つぶ（登録商標）剤等の任意の剤型に製剤化して使用される。
この製剤化時に、他の除草剤、殺虫剤、殺菌剤植物成長調整剤等の農薬から少なくとも１種類、薬害軽減剤、肥料等との混合組成物とすることもできるし、併用して処理することもできる。
使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するか又は直接施用する。
混合又は併用してもよい公知の除草剤化合物、植物成長調整剤を例示する。
２，３，６−ＴＢＡ(2,3,6-TBA)、２，４−Ｄ(2,4-D)、２，４−ＤＢ(2,4-DB)、ＤＮＯＣ(DNOC)、EPTC(EPTC)、ＨＣ−２５２(HC-252)、ＭＣＰＡ(MCPA)、ＭＣＰＡ・チオエチル(MCPA-thioethyl)、ＭＣＰＢ(MCPB)、Ｓ−メトラクロール(S-metolachlor)、ＴＣＡ(TCA)、アイオキシニル(ioxynil)、アクロニフェン(aclonifen)、アザフェニジン(azafenidin)、アシフルオルフェン(acifluorfen)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、アシュラム(asulam)、アセトクロ−ル(acetochlor)、アトラジン(atrazine)、アニロホス(anilofos)、アミカルバゾン(amicarbazone)、アミドスルフロン(amidosulfuron)、アミトロール(amitrole)、アミノピラリド(aminopyralid)、アミプロホス・メチル(amiprophos-methyl)、アメトリン(ametryn)、アラクロール(alachlor)、アロキシジム(alloxydim)、アンシミドール(ancymidol)、イオドスルフロン(iodosulfulon-methyl-sodium)、イソウロン(isouron)、イソキサクロルトール(isoxachlortole)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、イソキサベン(isoxaben)、イソプロツロン(isoproturon)、イマザキン(imazaquin)、イマザピル(imazapyr)、イマザメタベンズメチル(imazamethabenz-methyl)、イマザメメタピル(イマザピク)(imazapic)、イマザモックス(imazamox)、イマゼタピル(imazethapyr)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、インダノファン(indanofan)、エスプロカルブ(esprocarb)、エタメトスルフロン・メチル(ethametsulfuron-methyl)、エタルフルラリン(ethalfluralin)、エチジムロン(ethidimuron)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、エトフメセート(ethofumesate)、エトベンザニド(etobenzanid)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキサジアルギル(oxadiargyi)、オキサジクロメフォン(oxaziclomefone)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、オリザリン(oryzalin)、オルベンカルブ(orbencarb)、カフェンストロール(cafenstrole)、カルフェントラゾン・エチル(carfentrazone-ethyl)、カルブチレート(karbutilate)、カルベタミド(carbetamide)、キザロホップ・Ｐ(quizalofop-P)、キザロホップ・Ｐ・エチル(quizalofop-P-ethyl)、キザロホップ・Ｐ・テフリル(quizalofop-P-tefuryl)、キザロホップ・エチル(quizalofop-ethyl)、キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)、クミルロン(cumyluron)、グリホサート(glyphosate)、グリホサート・トリメシウム塩(スルホセート)("sulfosate)、(glyphosate-trimesium)")、グルホシネート(glufosinate-ammonium)、グルホシネートナトリウム塩(glufosinate-sodium)、クレトジム(clethodim)、クロジナホップ(clodinafop-propargyl)、クロピラリド(clopyralid)、クロマゾン(clomazone)、クロメトキシフェン(chlomethoxyfen)、クロメプロップ(clomeprop)、クロランスラム・メチル(cloransulam-methyi)、クロランベン(chloramben)、クロリダゾン(chloridazon)、クロリムロン・エチル(chlorimuron-ethyl)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、クロルタル・ジメチル(chlorthal-dimethyl)、クロルチアミド(chlorthiamid)、クロルプロファム(chlorpropham)、クロルメコート(chlormequat chloride)、クロロクスロン(chloroxuron)、クロロトルロン(chlorotoluron)、クロロブロムロン(chlorobromuron)、シアナジン(cyanazine)、ジウロン(diuron)、ジカンバ(dicamba)、シクロエート(cycloate)、シクロキシジム(cycloxydim)、ジクロスラム(diclosulam)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、ジクロベニル(dichlobenil)、ジクロホップ・メチル(diclofop-methyl)、ジクロルプロップ(dichlorprop)、ジクロルプロップ−Ｐ(dichlorprop-P)、ジクワット(diquat dibromide)、ジチオピル(dithiopyr)、シデュロン(siduron)、ジニトラミン(dinitramine)、シニドン・エチル(cinidon-ethyl)、シノスルフロン(cinosulfuron)、ジノセブ(dinoseb)、ジノテルブ(dinoterb)、シハロホップ・ブチル(cyhalofop-butyl)、ジフェナミド(diphenamid)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr)、ジフルメトリム(diflumetorim)、シマジン(simazine)、ジメタクロール(dimethachlor)、ジメタメトリン(dimethametryn)、ジメテナミド(dimethenamid)、シメトリン(simetryn)、ジメピペレート(dimepiperate)、ジメフロン(dimefuron)、シンメチリン(cinmethylin)、スルコトリオン(sulcotrione)、スルフェントラゾン(sulfentrazone)、スルホスルフロン(sulfosulfuron)、スルホメツロン・メチル(sulfometuron-methyl)、セトキシジム(sethoxydim)、ターバシル(terbacil)、ダイムロン(daimuron)、ダラポン(dalapon)、チアゾピル(thiazopyr)、チオカルバジル(tiocarbazil)、チオベンカルブ(thiobencarb)、チジアジミン(thidiazimin)、チジアズロン(thidiazuron)、チフェンスルフロン・メチル(thifensulfuron-methyl)、デスメディファム(desmedipham)、デスメトリン(desmetryne)、テニルクロール(thenylchlor)、テブタム(tebutam)、テブチウロン(tebuthiuron)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、テフリルトリオン(tefuryltrion)、テルブチラジン(terbuthylazine)、テルブトリン(terbutryn)、テルブメトン(terbumeton)、テンボトリオン(tembotrione)、トプラメゾン(topramezone)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、トリアジフラム(triaziflam)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリアレート(triallate)、トリエタジン(trietazine)、トリクロピル(triclopyr)、トリスルフロン・メチル(triflusulfuron-methyl)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、トリフルラリン(trifluralin)、トリフロキシスルフロン・ナトリウム塩(trifloxysulfuron-sodium)、トリベニュロン・メチル(tribenuron-methyl)、ナプタラム(naptalam)、ナプロアニリド(naproanilide)、ナプロパミド(napropamide)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、ネブロン(neburon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、バーナレート(vernolate)、パラコート(paraquat dichloride)、ハロキシホップ(haloxyfop)、ハロキシホップ・Ｐ(haloxyfop-P)、ハロキシホップ・Ｐ・メチル(haloxyfop-P-methyl)、ハロスルフロン・メチル(halosulfuron-methyl)、ピノキサデン(pinoxaden)、ピクロラム(picloram)、ピコリナフェン(picolinafen)、ビスピリバック・ナトリウム塩(bispyribac-sodium)、ビフェノックス(bifenox)、ピペロホス(piperophos)、ピラクロニル(pyraclonil)、ピラスルホトール(pyrasulfotole)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、ピラゾスルフロン・エチル(pyrazosulfuron-ethyl)、ピラゾリネート(pyrazolynate)、ビラナホス(bilanafos)、ピラフルフェン・エチル(pyraflufen-ethyl)、ピリダフォル(pyridafol)、ピリチオバック・ナトリウム塩(pyrithiobac-sodium)、ピリデート(pyridate)、ピリフタリド(pyriftalid)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)、ピリミスルフロン・メチル(primisulfuron-methyl)、ピリミノバックメチル(pyriminobac-methyl)、ピロキシスラム(pyroxysulam)、フェニュロン(fenuron)、フェノキサプロップ・Ｐ・エチル(fenoxaprop-P-ethyl)、フェノキサプロップ・エチル(fenoxaprop-ethyl)、フェンクロリム(fenclorim)、フェントラザミド(fentrazamide)、フェンメディファム(phenmedipham)、フォラムスルフロン(foramsulfuron)、ブタクロール(butachlor)、ブタフェナシル(butafenacil)、ブタミホス(butamifos)、ブチレート(butylate)、ブトラリン(butralin)、ブトロキシジム(butroxydim)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フラムプロップ・Ｍ(flamprop-M)、フルアジホップ(fluazifop-butyl)、フルアジホップ・Ｐ(fluazifop-P-butyl)、フルアゾレート(fluazolate)、フルオメツロン(fluometuron)、フルオメツロン(fluometuron)、フルオログリコフェン(fluoroglycofen-ethyl)、フルカルバゾン・ナトリウム塩(flucarbazone-sodium)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、フルチアセット・メチル(fluthiacet-methyl)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron-methyl-sodium)、フルフェナセット(flufenacet)、フルフェンピル・エチル(flufenpyr-ethyl)、フルプロパネート(flupropanate)、フルポキサム(flupoxame)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルミクロラック・ペンチル(flumiclorac-pentyl)、フルメツラム(flumetsulam)、フルリドン(fluridone)、フルルタモン(flurtamone)、フルルプリミドール(flurprimidol)、フルロキシピル(fluroxypyr)、フルロクロリドン(flurochloridone)、プレチラクロール(pretilachlor)、プロジアミン(prodiamine)、プロスルフロン(prosulfuron)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、プロパキザホップ(propaquizafop)、プロパクロール(propachlor)、プロパジン(propazine)、プロパニル(propanil)、プロピザミド(propyzamide)、プロピソクロール(propisochlor)、プロファム(propham)、プロフルアゾール(profluazol)、プロポキシカルバゾン(propoxycarbazone)、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩(propoxycarbazone-sodium)、プロホキシジム(profoxydim)、ブロマシル(bromacil)、プロメトリン(prometryn)、プロメトン(prometon)、ブロモキシニル(bromoxynil)、ブロモフェノキシム(bromofenoxim)、ブロモブチド(bromobutide)、フロラスラム(florasulam)、ヘキサジノン(hexazinone)、ペトキサミド(pethoxamid)、ベナゾリン(benazolin)、ペノキススラム(penoxsulam)、ベフルブタミド(beflubutamid)、ペブレート(pebulate)、ベンカルバゾン（bencarbazone）、ペンジメタリン(pendimethalin)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ベンスリド(bensulide)、ベンスルフロン・メチル(bensulfuron-methyl)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、ベンゾフェナップ(benzofenap)、ベンタゾン(bentazone)、ペンタノクロール(pentanochlor)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ベンフルラリン(benfluralin)、ベンフレセート(benfuresate)、ホサミン(fosamine)、ホメサフェン(fomesafen)、ホルクロルフェニュロン(forchlorfenuron)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、メコプロップ(mecoprop)、メコプロップ−Ｐ・カリウム塩(mecoprop-P)、メソスフロン・メチル(mesosulfuron-methyl)、メソトリオン(mesotrione)、メタザクロール(metazachlor)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、メタミトロン(metamitron)、メタミホップ(metamifop)、メチルダイムロン(methyl-dimuron)、メトキスロン(metoxuron)、メトスラム(metosulam)、メトスルフロン・メチル(metsulfuron-methyl)、メトブロムロン(metobromuron)、メトベンズロン(metobenzuron)、メトラクロール(metolachlor)、メトリブジン(metribuzin)、メピコート・クロリド(mepiquat chloride)、メフェナセット(mefenacet)、モノリニュロン(monolinuron)、モリネート(molinate)、ラクトフェン(lactofen)、リニュロン(linuron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、レナシル(lenacil)、プロヘキサジオン・カルシウム塩(prohexadione-calcium)、トリネキサパックエチル(trinexapac-ethyl)、ＫＩＨ−４８５、式［４０］
Figure 2007088876
 ［式中、ｐは０〜２の整数を表し、Ｔ１及びＴ２は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を示し、Ｇ１及びＧ２は互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキル基を示し、Ｗは（１〜５個の同一又若しくは相異なるＶで置換された）フェニル基を表し、Ｖは水素原子、｛同一若しくは相異なる１〜３個のハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、水酸基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６ジアルキルアミノ基、シアノ基又は（置換されていてもよい。）フェノキシで置換されていてもよい｝Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、（同一若しくは相異なる１〜３個のハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基で置換されていてもよい。）Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８のシクロアルキルオキシ基或いはハロゲン原子を表す。］で示されるイソオキサゾリン誘導体
混合又は併用してもよい公知の殺菌剤化合物を例示する。
ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、フベリイダゾール(fuberidazole)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チオファネート(thiophanate)、チオファネート・メチル(thiophanate-methyl)、クロゾリネート(chlozolinate)、イプロジオン(iprodione)、プロシミドン(procymidone)、ビンクロゾリン(vinclozolin)、アザコナゾール(azaconazole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、フェナリモル(fenarimol)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イマザリル(imazalil)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ヌアリモール(nuarimol)、オキスポコナゾール フマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、パクロブトラゾール(paclobutrazol)、ペフラゾエート(pefurazoate)、ペンコナゾール(penconazole)、プロクロラツ(prochloraz)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、ピリフェノックス(pyrifenox)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリフルミゾール(triflumizole)、トリホリン(triforine)、トリチコナゾール(triticonazole)、ベナラキシル(benalaxyl)、フララキシル(furalaxyl)、メフェノキサム(mefenoxam)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル−Ｍ(metalaxyl-M)、オフラセ(ofurace)、オキサジキシル(oxadixyl)、アルジモルフ(aldimorph)、ドデモルフ(dodemorph)、フェンプロピジン(fenpropidin)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、ピペラリン(piperalin)、スピロキサミン(spiroxamine)、トリデモルフ(tridemorph)、エジフェンホス(edifenphos)、イプロベンホス(iprobenfos)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、ピラゾホス(pyrazophos)、ベノダニル(benodanil)、ボスカリド(boscalid)、カルボキシン(carboxin)、フェンフラム(fenfuram)、フルトラニル(flutolanil)、フラメトピル(furametpyr)、メプロニル(mepronil)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、チフルザミド(thifluzamide)、ブピリメート(bupirimate)、ジメチリモール(dimethirimol)、エチリモール(ethirimol)、シプロジニル(cyprodinil)、メパニピリム(mepanipyrim)、ピリメタニル(pyrimethanil)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、アゾキシストロビン(azoxystrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、エネストロビン(enestrobin)、ファモキサドン(famoxadone)、フェナミドン(fenamidone)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、クレソキム−メチル(kresoxim-methyl)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサストロビン(orysastrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)、キノキシフェン(quinoxyfen)、ジフェニール(biphenyl)、クロロネブ(chloroneb)、ジクロラン(dicloran)、エトリジアゾール(etridiazole)、キントゼン(quintozene)、テクナゼン(tecnazene)、トルクロホス・メチル(tolclofos-methyl)、フサライド(fthalide)、ピロキロン(pyroquilon)、トリシクラゾール(tricyclazole)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet)、フェニキサニル(fenoxanil)、フェンヘキサミド(fenhexamid)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ポリオキシン(polyoxin)、ペンシクロン(pencycuron)、シアゾファミド(cyazofamid)、ゾキサミド(zoxamide)、ブラストサイジンＳ(blasticidin-S)、カスガマイシン(kasugamycin)、ストレプトマイシン(streptomycin)、バリダマイシン(validamycin)、シモキサニル(cymoxanil)、ヨードカルブ(iodocarb)、プロパモカルブ(propamocarb)、プロチオカルブ(prothiocarb)、ビナパクリル(binapacryl)、ジノカップ(dinocap)、フェリムゾン(ferimzone)、フルアジナム(fluazinam)、ＴＰＴＡ(fentin acetate)、ＴＰＴＣ(fentin chloride)、ＴＰＴＨ(fentin hydroxide)、オキソリニック酸(oxolinic acid)、ヒメキサゾール(hymexazol)、オクチリノン(octhilinone)、ホセチル(fosetyl)、リン酸及びその塩(phosphonic acid)、テクロフタラム(tecloftalam)、トリアゾキシド(triazoxide)、フルスルファミド(flusulfamide)、ジクロメジン(diclomezine)、シルチファム(silthiofam)、ジフルメトリム(diflumetorim)、ベンチアバリカルブ・イソプロピル(benthiavalicarb-isopropyl)、ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、マンジプロパミド(mandipropamid)、オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、キノメチオネート(chinomethionat)、フルオルイミド(fluoroimide)、ミルネブ(milneb)、水酸化第二銅(copper hydroxide)、オクタン酸銅(copper octanoate)、塩基性塩化銅(copper oxychloride)、硫酸銅(copper sulfate)、酸化第一銅(cuprous oxide)、マンカッパー(mancopper)、オキシキノリン銅(oxine-copper)、イオウ(sulfur)、ファーバム(ferbam)、マンコゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チラム(thiram)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、カプタホール(captafol)、キャプタン(captan)、フォルペット(folpet)、クロロタロニル(chlorothalonil)、ジクロフルアニド(dichlofluanid)、トリルフルアニド(tolylfluanid)、アニラジン(anilazine)、ドジン(dodine)、グアザチン(guazatine)、イミノクタジン(iminoctadine)、ジチアノン(dithianon)、アシベンゾラル・Ｓ・メチル(acibenzolar-S-methyl)、プロベナゾール(probenazole)、チアジニル(tiadinil)、エタボキサム(ethaboxam)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、プロキナジド(proquinazid)、メトラフェノン(metrafenone)、フルオピコリド(fluopicolide)、ダゾメット(dazomet)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、アミスルブロム(amisubrom)、ボルドー液(Bordeaux mixture)、トルニファニド(F-991)、ナーバム(nabam)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、ポリカーバメート(polycarbamate)、ピリベンカルブ(pyribencarb)
混合又は併用してもよい公知の殺虫剤、殺線虫剤化合物を例示する。
デメトン・Ｓ・メチル(demeton-S-methyl)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオアレスリン(bioallethrin S-cyclopentenylisomer)、ファムフル(famphur)、ＤＤＴ(DDT)、ＤＮＯＣ(DNOC)、ＥＰＮ(EPN)、ＸＭＣ(XMC)、アクリナトリン(acrinathrin)、アザディラクチン(azadirachtin)、アザメチホス(azamethiphos)、アジンホス・エチル(azinphos-ethyl)、アジンホス・メチル(azinphos-methyl)、アセキノシル(acequinocyl)、アセタミプリド(acetamiprid)、アセトプロール(acetoprol)、アセフェート(acephate)、アゾシクロチン(azocyclotin)、アバメクチン(abamectin)、アミトラズ(amitraz)、アラニカルブ(alanycarb)、アルジカルブ(aldicarb)、アルファ−シペルメトリン(alpha-cypermethrin)、アレスリン(allethrin[(1R)-isomers])、アレスリン(d-cis-trans Allethrin)、アレスリン(d-trans Allethrin)、イソカルボホス(isocarbophos)、イソキサチオン(isoxathion)、イソフェンホス(isofenphos)、イソプロカルブ(isoprocarb)、イミシアホス(imicyafos)、イミダクロプリド(imidacloprid)、イミプロトリン(imiprothrin)、インドキサカルブ(indoxacarb)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、エチオプロール(ethiprole)、エチオン(ethion)、エチプロール(ethiprole)、エトキサゾール(etoxazole)、エトフェンプロックス(etofenprox)、エトプロホス(ethoprophos)、エマメクチン(emamectin)、エンドスルファン(endosulfan)、エンペントリン(Empenthrin)、エンペントリン(empenthrin[(EZ)-(1R)-isomers])、オキサミル(oxamyl)、オキシジメトン・メチル(oxydemeton-methyl)、オメトエート(omethoate)、カズサホス(cadusafos)、カルタップ(cartap)、カルバリル(carbaryl)、カルボスルファン(carbosulfan)、カルボフラン(carbofuran)、ガンマ・シハロトリン(gamma-cyhalothrin)、ガンマＢＨＣ(リンデン)(gamma-BCH(Lindane))、キシリルカルブ(xylylcarb)、キナルホス(quinalphos)、キノプレン(kinoprene)、キノメチオネート(quinomethionate)、キノメチネート(chinomethionat)、クマホス(coumaphos)、クロチアニジン(clothianidin)、クロフェンテジン(clofentezine)、クロマフェノイド(chromafenozide)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルデン(chlordane)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホス・メチル(chlorpyrifos-methyl)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルフルアズウロン(chlorfluazuron)、クロルメホス(chlormephos)、サノピラフェン(cyenopyrafen)、シアノホス(cyanophos)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ジエノクロル(dienochlor)、ジクロトホス(dicrotophos)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、ジクロルボス(dichlorvos)、ジコホル(ケルセン)(dicofol)、ジスルホトン(disulfoton)、ジノテフラン(dinotefuran)、シハロトリン(cyhalothrin)、シフェノトリン(cyphenothrin[(1R)-trans-isomers])、シフルトリン(cyfluthrin)、ジフルベンズウロン(diflubenzuron)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、シヘキサチン(cyhexatin)、シペルメトリン(cypermethrin)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジメトエート(dimethoate)、酒石酸アンチモニルカリウム(tartaremetic)、シラフルオフェン(silafluofen)、シロマジン(cyromazine)、スピノサド(spinosad)、スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロテトラマト(spirotetramat)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スルホテップ(sulfotep)、ゼタ・シペルメトリン(zeta-cypermethrin)、ダイアジノン(diazinon)、タウフルバリネート(taufluvalinate)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオシクラム(thiocyclam)、チオスルタップ(thiosultap-sodium)、チオファノックス(thiofanox)、チオメトン(thiometon)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、テトラジホン(tetradifon)、テトラメスリン(tetramethrin)、テトラメスリン(tetramethrin[(1R)-isomers])、デパレトリン(depallethrin)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テブフェノジド(tebufenozide)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テフルトリン(tefluthrin)、テフルベンズウロン(teflubenzuron)、テメホス(temephos)、デルタメトリン(deltamethrin)、テルブホス(terbufos)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、トリアザメート(triazamate)、トリアゾホス(triazophos)、トリクロルホン(trichlorfon)、トリブホス(tribufos)、トリフルムロン(triflumuron)、トリメタカルブ(trimethacarb)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、ナレッド(naled)、ニコチン(nicotine)、ニテンピラム(nitenpyram)、ネマデクチン(nemadectin)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、ハイドロプレン(hydroprene)、バミドチオン(vamidothion)、パラチオン(parathion)、パラチオン・メチル(parathion-methyl)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、ハロフェノジド(halofenozide)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ピダフェンチオン(pyridaphenthion)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、ビフェナゼート(bifenazate)、ビフェントリン(bifenthrin)、ピペルニルブトキシド(piperonyl butoxide)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピラクロホス(pyraclofos)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、ピリダベン(pyridaben)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、ピリミカルブ(pirimicarb)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、ピリミホス・メチル(pirimiphos-methyl)、ピレスリン(Pyrethrins(pyrethrum))、フィプロニル(fipronil)、フェナザキン(fenazaquin)、フェナミホス(fenamiphos)、フェニソブロモレート(fenisobromolate)、フェニトロチオン(fenitrothion)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フェノトリン(phenothrin[(1R)-trans-isomer])、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェンチオン(fenthion)、フェントエート(phenthoate)、フェントリファニル(fentrifanil)、フェンバレレート(fenvalerate)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フェンブタンチン・オキシド(fenbutatin oxide)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、ブプロフェジン(buprofrzin)、フラチオカルブ(furathiocarb)、プラレトリン(prallethrin)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルシクロクスウロン(flucycloxuron)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルスルファミド(flusulfamide)、フルバリネート(fluvalinate)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、フルフェネリム(flufenerim)、フルフェノクスウロン(flufenoxuron)、フルベンジアミド(Flubendiamide)、フルメトリン(flumethrin)、フルリムフェン(flurimfen)、プロチオホス(prothiofos)、フロニカミド(flonicamid)、プロパホス(propaphos)、プロパルギット(propargite)、プロフェノフォス(profenofos)、プロペタムホス(propetamphos)、プロポキスル(propoxur)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ベータ・シフルトリン(beta-cyfluthrin)、ベータ−シペルメトリン(beta-cypermethrin)、ヘキサチアゾクス(hexythiazox)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ヘプテノホス(heptenophos)、ペルメトリン(permethrin)、ベンスルタップ(bensultap)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ホウ砂(borax)、ホキシム(phoxim)、ホサロン(phosalone)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホスファミドン(phosphamidon)、ホスメット(phosmet)、ホルメタネート(formetanate)、ホレート(phorate)、マラチオン(malathion)、ミルベメクチン(milbemectin)、メカルバム(mecarbam)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メソミル(methomyl)、メタフルミゾン(metaflumizon)、メタミドホス(methamidophos)、メタム・アンモニウム(metham-ammonium)、メタム・ナトリウム(metham-sodium)、メチオカルブ(methiocarb)、メチダチオン(methidathion)、メトキシクロル(methoxychlor)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、メトトリン(methothrin)、メトプレン(methoprene)、メトルカルブ(metolcarb)、メビンホス(mevinphos)、モノクロトホス(monocrotophos)、ラムダ・シハロトリン(lambda-cyhalothrin)、リナキシピル(rynaxypyr)、りん化アルミニウム(aluminium phosphide)、りん化水素(phosphine)、ルフェヌロン(lufenuron)、レスメトリン(resmethrin)、レピメクチン(lepmectin)、ロテノン(rotenone)、(Bacillus sphaericus)、(Bacillus thuringiensis subsp. Aizawai)、(Bacillus thuringiensis subsp. Israelensis)、(Bacillus thuringiensis subsp. Kurstaki)、(Bacillus thuringiensis subsp. tenebrionis)、ＣＬ９００１６７、ＮＮＩ−０１０１、ＲＵ１５５２５、ＸＤＥ−１７５、ＺＸＩ８９０１
混合又は併用してもよい公知の殺菌剤化合物を例示する。
ベノキサコル（benoxacor）、フリラゾール（furilazole）、ジクロルミド（dichlormid）、ジシクロノン（dicyclonone）、ＤＫＡ−２４（Ｎ１，Ｎ２−ジアリル−Ｎ２−ジクロロアセチルグリシンアミド）、ＡＤ−６７（４−ジクロロアセチル−１−オキサ−４−アザスピロ［４．５］デカン）、ＰＰＧ−１２９２（２，２−ジクロロ−Ｎ−（１，３−ジオキサン−２−イルメチル)−Ｎ−（２−プロペニル）アセトアミド）、Ｒ−２９１４８（３−ジクロロアセチル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン）、クロキントセット−メキシル（cloquintcet-mexyl）、ナフタル酸無水物（1,8-Naphthalic Anhydride） 、メフェンピル−ジエチル（mefenpyr-diethyl）、メフェンピル（mefenpyr）、フェンクロラゾール−エチル（fenchlorazole0ethyl）、フェンクロリム（fenclorim）、ＭＧ−１９１（２−ジクロロメチル−２−メチル−１，３−ジオキサン）、シオメトリニル（cyometrinil）、フルラゾール（flurazole）、フルキソフェニム（fluxofenim）、イソキサジフェン−エチル（isoxadifen−ethyl）、メコプロップ（mecoprop）、ＭＣＰＡ、ダイムロン(daimuron)、２，４−Ｄ、イソキサジフェン（isoxadifen）、ＭＯＮ４６６０、オキサベトリニル（oxabetrinil）、シプロスルファミド（cyprosulfamide）
本発明の除草剤における有効成分の配合割合については、必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤等とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。乳剤及び水和剤等とする場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。又、フロアブル剤等とする場合は１〜４０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の除草剤の施用量は、使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によって変わるが、粉剤及び粒剤等のようにそのまま使用する場合は、有効成分として１ヘクタール当り１ｇ〜５０ｋｇ、好ましくは１０ｇ〜１０ｋｇの範囲から適宜選ぶのがよい。又、乳剤、水和剤及びフロアブル剤等とする場合のように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の除草剤は、畑地、水田又は果樹園等において茎葉散布、土壌施用又は水面施用等により使用することができる。又、本発明の除草剤は、休耕田畑、畦畔、農道、水路、牧草造成地、墓地、公園、道路、運動場、建物の周辺の空き地、開墾地、線路端、森林等の一般雑草の駆除のために使用することもできる。
本発明の除草剤は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイヌタデ、イヌタデ、ギシギシ等のタデ類、アオビユ、オオホナガアオゲイトウ、アオゲイトウ等のヒユ類、、ワルナズビ、イヌホオズキ、シロザ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、ブタクサ、ヒナゲシ、アサガオ、オナモミ、ハコベ、カミツレ、ヤエムグラ、スミレ、オオイヌノフグリ、フラサバソウ、ホトケノザ、カラスノエンドウ、ノボロギク、ナズナ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生及び１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、スズメノテッポウ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、ネズミムギ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。又、水田に発生するタイヌビエ、イヌビエ、タマガヤツリ、アゼガヤ、コナギ、アメリカアゼナ、アゼナ、キカシグサ、アゼトウガラシ、キクモ、ヒメミソハギ、ミゾハコベ、ミズアオイ、チョウジタデ、タカサブロウ、アメリカセンダングサ、クサネム、イボクサ等の一年生雑草、及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ、シズイ、コウキヤガラ、ヒルムシロ、アシカキ、キシュウスズメノヒエ、エゾノサヤヌカグサ、マツバイ等の多年生雑草を防除することもできる。
更に、本発明の除草剤は有用植物及び有用作物に対する安全性が高く、例えば、イネ、コムギ、オオムギ、エンバク、ライムギ、アワ、キビ、トウモロコシ及びグレインソルガム等の穀物類、ダイズ、ワタ、テンサイ、サトウキビ、タマネギ、ヒマワリ、ナタネ、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒー、サツマイモ、ジャガイモ、トマト及びその他の野菜類又はシバ等に対して高い安全性を示す。
ここで言う有用作物及び有用植物とは、遺伝子技術によって形質転換され、除草剤や害虫、病害などに対して耐性を示すトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ、サトウキビ等のいわゆる遺伝子組み換え作物や育種、選抜によって除草剤や害虫、病害などに耐性を示す植物も含んでいる。
以下、本発明化合物による式［１］の化合物の製造方法、製剤例並びに用途を下記の実施例で詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら制約されるものではない。尚、以下の説明において「％」は重量百分率を示し、「部」は重量部を示す。
〔実施例１〕
２−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−ピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オンの製造（本発明化合物番号Ｉ−１）
（１）１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸（３−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）エステルの製造
１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸（１１．２ｇ、５０．６ｍｍｏｌ）を塩化チオニル（７０ｍＬ）に溶解し、２時間還流させた。反応溶液を減圧下濃縮し、１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸クロリドを得た。得られた酸クロリドをアセトニトリル（８０ｍＬ）に溶解し、１，３―シクロヘキサンジオン（４．９８ｇ、４４．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５．４ｇ、５３．３ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（２０ｍＬ）からなる混合液へ氷冷下、滴下した。室温で１昼夜撹拌した後、水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無機物を濾別した後、溶媒を減圧下留去して得られた結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、標題化合物を１４．５ｇ得た。（収率９０．５％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.07-2.15(2H,m)、2.43-2.48(2H,m)、2.66-2.70(2H,m)、3.69(3H,s)、6.01(1H,s)、6.75(1H,d, J=7.5Hz)、8.18(1H,d,J=7.5Hz)
（２）２−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オンの製造
前記（１）で得られた１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸（３−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）エステル（１３．５ｇ、４５．１ｍｍｏｌ）にアセトンシアンヒドリン（０．３６ｇ、４．５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５．２０ｇ、５１．４ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（２０ｍＬ）を加え、室温で１昼夜撹拌した。混合溶液を減圧下濃縮して、得られた残渣に飽和重曹水と酢酸エチルの混合液を加え抽出分離した。得られた水層に希塩酸を加えることによりｐＨ３〜４としてから、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、無機物を濾別した後、溶媒を減圧下留去した。得られた結晶をヘキサン−エーテルの混合溶液（ヘキサン／エーテル＝３／１）で洗浄し、標題化合物を８．４ｇ得た（収率６２％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.02-2.11(2H,m)、2.46-2.50(2H,m)、2.71-2.76(2H,m)、3.61(3H,s)、6.72(1H,d,J=7.4Hz)、7.40(1H,d,J=7.1Hz)、16.36
(1H,s)
〔実施例２〕
４−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−５−ヒドロキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製造（本発明化合物番号ＩＶ−１）
（１） ４−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−５−ヒドロキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸（１７．８ｇ、８０．５ｍｍｏｌ）を塩化チオニル（７０ｍＬ）に溶解し、この混合溶液を２時間還流した。反応液を減圧下濃縮し、１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸クロリドを得た。得られた酸クロリドをアセトニトリル（８０ｍＬ）に溶解し、５−ヒドロキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール塩酸塩（１０．８ｇ、８０．３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２０．４ｇ、２０１ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（２０ｍＬ）からなる混合液へ氷冷下で滴下した。この混合溶液を室温で１昼夜撹拌した後、アセトンシアンヒドリン（０．６９ｇ、８．０５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（９．８ｇ、９６．６ｍｍｏｌ）を加え、更に室温で１昼夜撹拌した。反応液を減圧下濃縮して得られた残渣に、飽和重曹水と酢酸エチルの混合液を加え、抽出分離した。得られた水層に希塩酸を加えることによりｐＨ３〜４としてから、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、無機物を濾別した。溶媒を減圧下留去して標題化合物の粗生成物を１０．４ｇ得た。
（１）で得られた粗生成物の精製方法を（２）及び（３）に示す。
（２）前記（１）で得られた４−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−５−ヒドロキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの粗生成物（０．７０ｇ）、塩化アセチル（０．２０ｇ、２．６ｍｍｏｌ）及びクロロホルム（２０ｍＬ）の混合溶液中にトリエチルアミン（０．２８ｇ、２．８ｍｍｏｌ）を氷冷下で滴下した。滴下後、室温で３時間撹拌した。反応液を水にあけクロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無機物を濾別した後、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１．５）にて精製し、５−アセチルオキシ−４−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールを０．５１ｇ（収率６４％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.41(3H,s)、3.68(3H,d)、3.71(3H,s)、6.74(1H,d,J=7.3Hz)、7.62(1H,d,J=7.3Hz)、7.73(1H,s)
（３）上記で得られた５−アセチルオキシ−４−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール（０．７２ｇ、２．１ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム１水和物（０．１１ｇ、２．６ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（５ｍＬ）及び水（５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、室温で３時間撹拌した。反応溶液に炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルの混合液を加え、抽出分離した。得られた水層に希塩酸を加えることによりｐＨ３〜４としてから、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、無機物を濾別した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣を再結晶（クロロホルム／へキサン）し、４−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−５−ヒドロキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールを０．３７ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：3.68(3H,s)、3.72(3H,d)、6.80(1H,d,J=7.4Hz)、7.78(1H,s)、7.87(1H,d,J=7.4Hz)
〔実施例３〕
４−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−１−メチル−５−トシルオキシ−１Ｈ−ピラゾールの製造 （本発明化合物番号ＩＶ−１９８）
４−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−５−ヒドロキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール（０．２５ｇ、０.８０ｍｍｏｌ）、ピリジン（０．１３ｇ、１．６ｍｍｏｌ）及びクロロホルム（５ｍＬ）の混合溶液へ、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（０．２３ｇ、１．２ｍｍｏｌ）を少量ずつ加えた。室温で１昼夜撹拌した後、水にあけクロロホルムで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無機物を濾別した後、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１．５）にて精製し、標記化合物を０．３３ｇ得た（収率９２％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.46(3H,s)、3.62(3H,s)、6.69(2H,d,J=7.4Hz)、7.35(1H,d,J=8.3Hz)、7.55(1H,d,J=7.4Hz)、7.76(1H,d,J=8.5Hz)、7.82(1H,s)
〔実施例４〕
２−シアノ−３−シクロプロピル−１−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−イル］プロパン−１，３−ジオンの製造 （本発明化合物番号Ｖ−９）
１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸（１．０ｇ、４．５ｍｍｏｌ）を塩化チオニル（５ｍＬ）に溶解し、２時間還流させた。反応溶液を減圧下濃縮し、１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸クロリドを得た。得られた酸クロリドをアセトニトリル（２０ｍＬ）に溶解し、３−シクロプロピル−３−オキソプロパンニトリル（０．４９ｇ、４．５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．５５ｇ、５．４ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（１０ｍＬ）からなる混合液へ氷冷下で滴下した。室温で１昼夜撹拌した後、更にアセトンシアンヒドリン（０．０４ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．５５ｇ、５．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１昼夜撹拌した。反応混合液を減圧下で濃縮し、得られた残渣に飽和重曹水と酢酸エチルの混合液を加え、分液した。得られた水層に希塩酸を加え、ｐＨ３〜４としてからクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、得られた結晶をエーテルで洗浄して標記化合物を０．２９ｇ得た（収率２０％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.24-1.31(2H,m)、1.39-1.44(2H,m)、2.35-2.43(1H,m)、3.71(3H,d)、6.77(1H,d,J=7.4Hz)、7.72(1H,d,J=7.4Hz)、17.2
(1H,s)
〔実施例５〕
２−［１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルメチル−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ −２−シクロヘキセン−１−オンの製造（本発明化合物番号Ｉ−７２）
１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルメチル−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸（２.０ｇ、７.２ｍｍｏｌ）に、トルエン（２０ｍＬ）、塩化チオニル（１.３ｇ、１０．７ｍｍｏｌ）及び触媒量のＮ、Ｎ’-ジメチルホルムアミドを加え、２時間還流させた。反応混合物を減圧下濃縮し、１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルメチル−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸クロリドを得た。得られた酸クロリドをアセトニトリル（３０ｍＬ）に溶解し、１，３−シクロヘキサンジオン（０.９ｇ、７．９ｍｍｏｌ）、シアン化ナトリウム（０.８ｇ、１５.８ｍｍｏｌ）を加え、この混合物を室温で１昼夜撹拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無機物をろ別した後、溶媒を減圧下留去し、得られた濃縮液をカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物を１.５g得た（収率６８％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.99-2.08(2H,m)、2.42-2.47(2H,m)、2.68-2.72(2H,m)、5.33(1H,s)、6.80(1H,d,J=7.3Hz)、7.11-7.32(6H,m)、7.48(1H,d,J=7.3
Hz)、16.21(1H,s)
〔実施例６〕
２−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルチオ−２−オキソ−ピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オンの製造（本発明化合物番号Ｉ-２４０）
１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルチオ−２−オキソピリジン−３−カルボン酸（３−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）エステル（１．１８ｇ、４．０ｍｍｏｌ）、アセトンシアンヒドリン０．０３ｇ（０．４ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン０．４９ｇ（４．８ミリモル）をアセトニトリルに溶解し、室温で１昼夜撹拌した。混合溶液を減圧下濃縮して得られた残渣に飽和重曹水と酢酸エチルの混合液を加え、抽出分離した。得られた水層に希塩酸を加えることによりｐＨ３〜４としてから、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、無機物を濾別した後、溶媒を減圧下留去した。得られた結晶をヘキサン−エーテルの混合溶液で再結晶し、標記化合物を０．４４ｇ（収率３７％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.02-2.10(2H,m)、2.49-2.54(2H,m)、2.54(3H,s)、2.63-2.70(2H,m)、3.57(3H,s)、6.02(1H,d,J=7.3Hz)、7.57(1H,d,J=7.3Hz)、16.30(1H,s)
〔実施例７〕
２−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルスルフィニル−２−オキソピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オン及び２−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルスルホニル−２−オキソピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オンの製造（本発明化合物番号Ｉ-２４１、Ｉ-２４２）
２−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルチオ−２−オキソピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ− ２−シクロヘキセン−１−オン（１．２ｇ、４．１ｍｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム（０．１３ｇ、０．４ｍｍｏｌ）及び３５％過酸化水素水（０．４８ｇ、５．４ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）に溶解し、室温で５時間撹拌した。混合溶液を亜硫酸水素ナトリウム溶液にあけ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、無機物を濾別した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、２−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルスルフィニル−２−オキソピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オンを０．３６ｇ（１．２ミリモル：収率２９％）及び２−［１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルスルホニル−２−オキソピリジン−３−カルボニル］−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オンを０．１６ｇ（０．４９ミリモル：収率１２％）を得た。
前者の１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.05-2.11(2H,m)、2.46-2.49(2H,m)、2.75(3H,s)、2.71-2.75(2H,m)、3.48(3H,s)、6.97(1H,d,J=7.3Hz)、7.61(1H,d,J=7.3Hz)、16.46(1H,s)
後者の１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.05-2.08(2H,m)、2.46-2.49(2H,m)、3.24(3H,s)、2.73-2.76(2H,m)、3.85(3H,s)、7.19(1H,d,J=7.3Hz)、7.44(1H,d,J=7.3Hz)、16.33(1H,s)
前記実施例に準じて合成した本願化合物［１］の構造式と物性値を、前記実施例を含め表２２から表３１に示す。但し、表中の記号は前記と同様の意味を表す。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
Figure 2007088876
Figure 2007088876
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化合物番号Ｉ−１１、Ｉ−５８、Ｉ−５９、Ｉ−６４、Ｉ−７０、Ｉ−８１、Ｉ−１２１、Ｉ−１２２、Ｉ−１４７、Ｉ−１５４、Ｉ−１９２、Ｉ−２２１、Ｉ−２４２、ＩＩ−１２、ＩＩ−１９、ＩＩ−３０、ＩＩ−３５、ＩＩＩ−１４、ＩＩＩ−２８、ＩＩＩ−４３、ＩＶ−３４、ＩＶ−４７、ＩＶ−４９、ＩＶ−５５、ＩＶ−７３、ＩＶ−８９、ＩＶ−１０４、ＩＶ−１１９、ＩＶ−１３８、ＩＶ−１４２、ＩＶ−１４３、ＩＶ−１９３、ＩＶ−１９４、 ＩＶ−２０３、ＩＶ−２０５、ＩＶ−２０６、ＩＶ−２３８、ＩＶ−２４０については、１Ｈ−ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ３/ＴＭＳ δ(ｐｐｍ)値）を以下に示す。
化合物番号Ｉ−１１ ： 2.02-2.10(2H,m)、2.44-2.49(2H,m)、2.70-2.74(2H,m)、4.67（2H,d,J=5.5Hz）、5.15-5.23(2H,m)、5.81-5.94(1H,s)、6.73(1H,d,J=7.1Hz)、7.41(1H,d,J=7.4Hz)、16.36(1H,br)
化合物番号Ｉ−５８ ： 0.54(2H,m)、0.73(2H,m)、1.28(2H,m)、2.06(2H,m)、2.44(2H,m)、2.74(2H,m)、3.22(2H, d, J=7.3Hz)、5.37(2H,bs)、6.84(1H,d, J=7.3Hz)、7.44(1H,d,J=7.3Hz)、16.4(1H,s)
化合物番号Ｉ−５９ ： 1.4-1.8(8H,m)、2.07(2H,m)、2.46(2H,m)、2.74(2H,m)、3.64(1H,m)、5.22(2H,bs)、6.73(1H,d, J=7.3Hz)、7.35(1H,d,J=7.0Hz)、16.4(1H,s).
化合物番号Ｉ−６４ ： 2.07(2H,m)、2.46(2H,m)、2.76(2H,m)、4.25(2H,m)、5.50(2H,bs)、6.87(1H,d, J=7.1Hz)、7.47 (1H,d,J=7.1Hz)、16.4(1H,s)
化合物番号Ｉ−７０ ： 2.06(m,2H)、2.15(2H,m)、2.45(2H,m)、2.59(3H,s)、2.76(2H,m)、4.26(2H,q,J=7.1Hz)、6.73(1H,d,J=7.4Hz)、 7.37(1H,s)、7.51(1H,d,J=6.9Hz)、 16.2(1H,s)
化合物番号Ｉ−８１ ： 2.06(m,2H)、2.44(2H,m)、2.6-2.8(5H,m)、6.83(1H,d,J=6.8Hz)、 7.4-7.8(5H, m)、 16.2(1H, s)
化合物番号Ｉ−１２１ ： 2.03(2H,m)、2.44(2H,m)、2.70(2H,m)、3.78(3H,s)、5.43(2H,bs)、6.6-6.8(4H,m)、7.1-7.2(1H,m)、7.47(1H,d,J=7.1Hz)、16.2(1H,s)
化合物番号Ｉ−１２２ ： 2.04(2H,m)、2.45(2H,m)、2.70(2H,m)、3.76(3H,s)、5.26(2H,bs)、6.6-6.8(3H,m)、7.09(2H,d,J=8.5Hz)、7.45(1H,d,J=7.1Hz)、16.2(1H,s)
化合物番号Ｉ−１４７ ： 2.01(2H,m)、2.43(2H,m)、2.69(2H,m)、6.81(1H,d, J=7.4Hz)、7.02-7.05(2H,m)、7.42-7.48 (2H,m)、16.2(1H,s)
化合物番号Ｉ−１５４ ： 1.6-2.1(5H,m)、2.4-2.8(4H,m)、3.5-4.2(6H,m)、6.79(1H,d,J=7.3Hz)、7.41(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号Ｉ−１９２ ： 1.31 (3H,t,J=7.4Hz)、2.04(m,2H)、2.40(2H,m)、2.76(2H,m)、2.82(2H,m)、4.22(t,2H d,J=7.7Hz)、6.75(1H,d,J=7.1Hz)、7.40(1H,d,J=7.4Hz)、 16.4(1H,s)
化合物番号Ｉ−２２１ ： 2.02-2.11(2H,m)、2.30-2.50(2H,m)、2.71-2.75(2H,m)、3.59(3H,s)、6.35-6.70(1H,t,J=53Hz)、6.46(1H,d,J=7.1Hz)、7.42(1H,d,J=7.1Hz)、16.41(1H,br)
化合物番号Ｉ−２４２ ： 2.07(2H,m)、2.47(2H,m)、2.75(2H,m)、3.23(3H,s)、3.85(3H,s)、7.19(1H,d, J=7.3Hz)、7.44 (1H,d,J=7.3Hz)、16.33(1H,s)
化合物番号ＩＩ−１２ ：2.02-2.08(2H,m)、2.42-2.55(4H,m)、3.61(3H,s)、6.77(1H,d, J=7.4Hz)、7.26-7.43(3H,m)、7.54(1H, s)、7.99 (1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＩ−１９ ： 1.07(3H,s)、1.15(3H,s)、2.35-2.69(4H,m)、3.40(3H,s)、6.30(1H,d,J=7.3Hz)、6.69(1H,d,J=7.1Hz)、7.13-7.31(5H,m)
化合物番号ＩＩ−３０ ： 1.92-2.03(2H,m)、2.38-2.51(4H,m)、3.34(3H,s)、3.48(2H,t, J=6.0Hz)、4.12(2H,t,J=7.7Hz)、6.77(1H,d,J=7.4Hz)、7.36-7.56(5H,m)、7.94 (1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＩ−３５ ： 1.13(3H,d,J=6.8Hz)、1.72-1.84(1H,m)、2.07-2.16(1H,m)、2.45-2.52(1H,m)、2.70-2.74(2H,m)、3.64(3H,s)、3.80(3H,s)、6.74(1H,d,J=7.3Hz)、8.02(1H,d,J=7.5Hz)
化合物番号ＩＩＩ−１４ ： 2.05-2.20(6H,m)、2.92(1H,br)、3.18(1H,br)、3.40(3H,s)、6.28-6.32(1H,m)、6.58-6.72(1H,dd)、7.12-7.31(5H,m)
化合物番号ＩＩＩ−２８ ： 1.6-2.2(6H,m)、2.21(3H,3)、2.76(2H,ｔ,J=7.9Hz)、2.92(1H,m)、3.10(1H, m)、4.22(2H,ｔ,J=7.9Hz)、6.71(1H,d, J=7.4Hz)、7.36(1H,d,J=7.1Hz)、16.4(1H,s)
化合物番号ＩＩＩ−４３ ： 1.2-2.1(4H,m)、2.5-2.7(2H,m)、3.35(1H,m)、3.37(1H,m)、3.7-3.9(3H,m)、4.3-4.5(2H,m)、 6.3-6.4(2H,m)、6.7(1H,d,J=7.3Hz)、 7.37(1H,d,J=7.1)、16.6(1H,s)
化合物番号ＩＩＩ−４６ ： 1.6-2.1(4H,m)、2.5-2.7(2H,m)、3.4(1H,m)、3.5(1H,m)、3.7-3.9(3H,m)、4.3-4.4(2H,m)、6.3-6.4(2H,m)、7.26-7.43(3H,m)、6.70(1H,d,J=7.3Hz)、7.38 (1H,d,J=7.1Hz)、16.6(1H,s)
化合物番号ＩＶ−３４ ： 1.18(3H,t,J=6.8)、3.53(2H,q,J=6.8Hz)、3.67(3H,s)、3.73(2H,t,J=6.6Hz)、4.36(2H,t,J=6.9Hz)、6.80(1H,d,J=7.4Hz)、7.77(1H,s)、7.88 (1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＶ−４７ ： 2.0-2.1(2H,m)、3.35(3H,s)、3.54(2H,t,J=5.8Hz)、3.67(3H,s)、4.23(2H,t,J=8.0Hz)、6.80(1H,d,J=7.4Hz)、7.78(1H,s)、7.88(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＶ−４９ ： 1.19(3H,t,J=7.4Hz)、1.25(3H,d,J=6.0Hz)、2.08(2H,m)、3.73(2H,m)、3.85(3H,s)、4.0-4.6(5H,m)、6.75(1H,d,J=7.4Hz)、 7.11-7.45(5H,m)、7.45(1H,s)、7.64(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＶ−５５ ： 1.17 (3H,t,J=7.4Hz)、2.09(m,2H)、3.11(s,3H)、3.45(m,2H)、3.74(2H,m)、3.88(3H,s)、4.50(2H,m)、6.85(1H,d,J=7.1Hz)、 7.65(1H,s)、7.71(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＶ−７３ ： 1.16(3H,t,J=7.4Hz)、2.10(2H,m)、2.75(3H,s)、3.71(3H,m)、3.85(3H,s)、6.88(1H,d,J=7.4Hz)、 7.4-7.8(5H,m)、7.79(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号ＩＶ−８９ ： 2.43(3H,s)、3.70(3H,s)、6.92(1H,d,J=7.4Hz)、 7.44(1H,t,J=9.1Hz).、7.74(1H,s)、7.81(1H,d,J=7.1Hz)、8.29(1H,m)、8.45(1H,m)
化合物番号ＩＶ−１０４ ： 1.15 (3H,t,J=7.4Hz)、2.09(m,2H)、3.71(m,2H)、3.77(3H,s)、3.84(3H,s)、5.34(2H,bs)、6.6-6.9(4H,m)、7.21(1H,d,J=7.7Hz)、 7.57(1H,s)、7.73(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＶ−１１９ ： 3.67(3H,s)、3.8-4.1(4H,m)、4.32(2H,d,J=5Hz)、5.45(1H,t,J=5Hz)、6.80(1H,d,J=7.4Hz)、7.78(1H,s)、7.87(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号ＩＶ−１３８ ： 1.7-2.1(4H,m)、2.56(3H,s)、3.64(3H,s)、3.73-4.45(5H,m)、5.54(2H,s)、6.74(1H,d,J=7.1Hz)、7.12(1H,d,J=7.7Hz)、7.29(1H,d,J=7.7Hz)、7.59-7.63 (3H,m)
化合物番号ＩＶ−１４２ ： 1.58-2.17(4H,m)、3.73-3.88(2H,m)、3.92(3H,s)、4.02-4.23(2H,m)、4.39(1H,br)、6.66(1H,d,J=7.1Hz)、7.40(1H,d,J=7.4Hz)、7.69(1H,s)、8.22 (2H,d,J=8.5Hz) 、8.36 (2H,d,J=8.5Hz)
化合物番号ＩＶ−１４３ ： 1.75-2.1(3H,m)、3.53-4.30(6H,m)、3.64(3H,s)、6.82(1H,d,J=7.4Hz)、7.74(1H,s)、7.88(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＶ−１９３ ： 3.52(3H,s)、3.67(3H,s)、3.83(3H,s)、5.48(2H,s)、6.71(1H,d,J=7.1Hz)、6.87-6.95(2H,m)、7.30-7.37(2H,m)、7.55-7.57(2H,m)
化合物番号ＩＶ−１９４ ： 2.46 (3H,s)、3.62(6H,s)、6.68(1H,d,J=7.4Hz)、7.34(2H,d,J=8.3Hz)、7.53(1H,d,J=7.4Hz)、7.75(2H,d,J=8.3Hz)、7.82(1H,s)
化合物番号ＩＶ−２０３ ： 1.42(3H,t,J=8.3Hz)、3.36(3H,s)、3.53(2H,t,J=4.4Hz)、3.66(2H,t,J=4.5Hz)、3.79(2H,t,J=6.6Hz)、4.04(2H,q,J=7.2Hz)、4.38(2H,t,J=6.8Hz)、6.80(1H,d,J=7.4Hz)、7.75(1H,s)、7.87(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＶ−２０５ ： 1.42(3H,t,J=7.1Hz)、1.64-2.16(4H,m)、3.71-4.46(7H,m)、6.79(1H,d,J=7.4Hz)、7.77(1H,s)、7.85(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号ＩＶ−２０６ ： 1.47(3H,t,J=7.1Hz)、1.61-2.16(4H,m)、3.7-4.4(7H,m)、6.74(1H,d,J=7.4Hz)、7.46(2H,s)、7.69(1H,d,J=7.4Hz)、 7.83 (1H,s)
化合物番号ＩＶ−２３８ ： 1.62-2.16(4H,m)、2.10(3H,s)、3.60(3H,s)、3.7-3.9(2H,m)、4.0-4.5(3H,m)、6.80(1H,d,J=7.1Hz)、7.50(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号ＩＶ−２４０ ： 1.58-2.10(4H,m)、2.41(3H,s)、2.47(3H,s)、3.7-4.4(5H,m)、6.59(1H,d,J=7.3Hz)、7.30(2H,d,J=8.0Hz) 7.41(1H,d,J=7.3Hz)、7.64(2H,d,J=8.6Hz)
〔参考例１〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−ピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−１）（合成法１）
（１）１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸アミドの製造
ナトリウムメトキシド（７４ｇ、１．３７ｍｏｌ）をメタノール（１０００ｍＬ）に溶解し、この溶液へマロン酸ジアミド（１００ｇ、０．９７９ｍｏｌ）を室温で加えた。この混合物に２５〜３０℃で４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン（１９１ｇ、１．１４ｍｏｌ）を滴下し、２時間加熱還流した。４５℃に冷却した後、混合溶液に濃塩酸を加え、ｐＨ３〜４とし、常圧でメタノールを５００ｍＬ留去した。残渣に水（５００ｍＬ）を加えて室温にて１昼夜撹拌した。これを氷冷して析出した結晶をろ過採取し、水洗後、減圧下乾燥し、標題化合物を１６７ｇ得た（収率８３％）。
（２） １，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸アミドの製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸アミド（２２ｇ、０．１１ｍｏｌ）をジメトキシエタン（２００ｍＬ）及びＤＭＦ（５０ｍＬ）の混合溶媒に溶解した。この混合液へ窒素気流下、水素化ナトリウム（純度６０％、４．５ｇ、０．１１ｍｏｌ）を少量ずつ加えた後、臭素化リチウム（１８．６ｇ、０．２１ｍｏｌ）を加えた。室温で１５分撹拌した後、液温を６５〜７０℃にし、ヨウ化メチル（３０．４ｇ、０．２１ｍｏｌ）を滴下した。１０時間撹拌した後、室温に戻し、析出結晶をろ過により除去した。得られた混合液を飽和食塩水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して、標題化合物を１６．４ｇ得た（収率７０％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：3.72(3H,s)、6.20(1H,br)、6.88(1H,d,J=7.4Hz)、8.55(1H,d,J=7.6Hz)、9.32(1H,br)
（３） １，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸アミド（１６．４ｇ、７４．５ｍｍｏｌ）に濃塩酸（５０ｍＬ）を加え、９０〜１００℃で４時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却後、氷水にあけ、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶をｎ−へキサンで洗浄して、標題化合物を１５．９ｇ得た（収率９６％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：3.81(3H,s)、7.03(1H,s,J=7.4Hz)、8.57(1H,d,J=7.4Hz)、13.91(1H,s)
〔参考例２〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−１）（合成法２）
（１）Ｎ，Ｎ’−ジメチルマロン酸ジアミドの合成
マロン酸ジエチル（２５ｇ、０．１６ｍｏｌ）に、４０％メチルアミン水溶液（６０ｇ、０．７５ｍｏｌ）を室温で加え、一晩反応させた。溶媒を留去し、Ｎ，Ｎ’−ジメチルマロンジアミドを得た。
（２）１，２−ジヒドロ−Ｎ，１−ジメチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸アミドの製造
前記（１）で製造したＮ，Ｎ’−ジメチルマロンジアミド（２０．３ｇ、０．１６ｍｏｌ）をエタノール（２００ｍＬ）に溶解し、２０％ナトリウムエチラートエタノール溶液（５９ｇ、０．１７ｍｏｌ）を室温で加え、１０分撹拌した。４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン（２９ｇ、０．１７ｍｏｌ）を室温下で滴下し、８０℃で５時間反応させた。冷却後、クエン酸と食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、乾燥、濃縮して得られる油状物をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜２／３）で精製して、目的物を７．１g得た（収率１９％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：3.00(3H,d,J=4.9Hz)、3.71(3H,s)、6.88(1H,s,J=7.7Hz)、8.55(1H,d,J=7.4Hz)、9.55(1H,br)
（３）１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造
前記で製造した１，２−ジヒドロ−Ｎ，１−ジメチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸アミド（１．２ｇ、５．１ｍｍｏｌ）に濃塩酸（２０ｍL）を加え、１２０℃で１０時間撹拌した。室温に冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウムで抽出し、クエン酸を加えて酸性化して酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、乾燥、濃縮して得られた結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して、目的物を１．０８ｇ得た（収率９８％）。
〔参考例３〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−１）（合成法３）
（１） ２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−２Ｈ−ピラン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
マロン酸ジエチル（３３．７ｇ、０．２ｍｏｌ）をアセトニトリル（２００ｍＬ）に溶解し、塩化マグネシウム（２１．４ｇ、０．２２ｍｏｌ）を０〜５℃で徐々に加えた。１０分後、トリエチルアミン（４４．５ｇ、０．４４ｍｏｌ）を０〜５℃で滴下し、室温で１時間反応させた。この混合物に４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン（３７．０ｇ、０．２２ｍｏｌ）を０〜５℃で滴下し、室温で１時間反応させた。希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、乾燥、濃縮して得られた油状物をトルエン（１００ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸（５ｇ）を加えて３時間加熱反応させた。冷却後、溶媒を留去して得られた結晶を酢酸エチルで再結晶して、目的物を３１．８ｇ得た（収率６７％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.36(3H,t,J=7.1Hz)、4.36(2H,q,J=7.1Hz)、6.75(1H,d,J=7.1Hz)、8.19(1H,d,J=6.9Hz)
（２） １，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造
前記で製造した２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−２Ｈ−ピラン−３−カルボン酸エチルエステル（８．０ｇ、３４ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（５０ｍＬ）に溶解し、３０％メチルアミンエタノール溶液（４．２ｇ、４１ｍｍｏｌ）を氷冷下で滴下し、室温で一晩撹拌した。析出した固体を濾別し、ジエチルエーテルで洗浄した。この固体をエタノール（７０ｍＬ）に溶解し、２０％ナトリウムエチラートエタノール溶液（１０．３ｇ、３０ｍｍｏｌ）を室温で加え、６時間加熱撹拌した。冷却後、クエン酸水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウムで抽出し、クエン酸を加えて酸性化して酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、乾燥、濃縮して得られた結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して、目的物を２.２６ｇ得た（収率３０％）。
〔参考例４〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−５６）
（１） ２−フェニルカルバモイル酢酸エチルエステルの製造
エチルマロニルクロリド（１５．１ｇ、０．１０ｍｏｌ）を、アニリン（９．３ｇ、０．１０ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１１．１ｇ、０．１１ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（１．５ｇ、０．０１２ｍｏｌ）及びジクロロメタン（３００ｍＬ）の混合溶液へ、１０℃以下で加えた。この混合物を室温で３時間撹拌した後、水にあけ、有機層を希塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水の順に洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、標題化合物を１９．５ｇ得た（収率９４％）。
（２）１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
前記で製造した２−フェニルカルバモイル酢酸エチルエステル（８．３ｇ、４０ｍｍｏｌ）及び４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン６．７ｇ（４０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１００ｍＬ）に溶解した混合液へ、ＤＢＵ（６．４ｇ、４２ｍｍｏｌ）を室温で滴下した。５時間撹拌後、水にあけ、酢酸エチルで抽出し、希塩酸、飽和食塩水の順に洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、無機物を濾別した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣に、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸１水和物及びトルエン（３００ｍＬ）を加え、ディーンスターク装置で水を除去しながら３０分間加熱還流させた。室温に冷却後、得られた混合物を水、飽和重曹水、水の順に洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、得られた結晶を再結晶（エタノール／ヘキサン）によって精製し、標題化合物を３．５ｇ得た。又、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝３／７）にて精製し、標題化合物を２．３ｇ得た（収率４６％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.36(3H,s,J=7.1Hz)、4.37(2H,q,J=7.2Hz)、6.79(1H,s,J=7.6Hz)、7.22-7.24(2H,m)、7.48-7.52(3H,m)、8.19(1H,d,J=7.4Hz)
（３）１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造
前記で製造した１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（５．１ｇ、１６ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム１水和物（１．４ｇ、３３ｍｍｏｌ）を、１，４−ジオキサン（６０ｍＬ）及び水（６０ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、室温で３時間撹拌した。反応混合物を半量に濃縮後、残渣に水を加え酢酸エチルで洗浄した。得られた水層に希塩酸を加え酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、標題化合物を３．１ｇ得た（収率６７％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：7.13(1H,s,J=7.6Hz)、7.26-7.30(2H,m)、7.56-7.61(3H,m)、8.68(1H,d,J=7.2Hz)、13.55(1H,s)
〔参考例５〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−１−（ジメチルアミノ）−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−ピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−１９）
（１）２−（ジメチルアミノ）カルバモイル酢酸エチルエステルの製造
エチルマロニルクロリド（５．０ｇ、３３ｍｍｏｌ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジン（４．０ｇ、６７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（６．７ｇ、６６ｍｍｏｌ）及びアセトニトリル（３０ｍＬ）の混合溶液へ１０℃以下で加え、更に室温で一晩撹拌した。反応混合物にクエン酸水溶液を加えて、クロロホルムで抽出した。有機層を水で洗浄し、乾燥、濃縮して目的物を４．６ｇ得た（収率７９％）。
（２）１，２−ジヒドロ−１−（ジメチルアミノ）−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
前記で製造した２−（ジメチルアミノ）カルバモイル酢酸エチルエステル（４．６ｇ、（２６ｍｍｏｌ）、４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン４．４ｇ（２６ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（５０ｍＬ）の混合液へ、ＤＢＵ（４．０ｇ、２６ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、更に７０℃で５時間加熱撹拌した。クエン酸水溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄し、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜２／３）にて精製し、目的物を２．０ｇ得た（収率２２％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.31(3H,ｔ,J=7.1Hz)、3.04（6H,s）4.36(2H,q,J=7.2Hz)、6.57(1H,d,J=7.6Hz)、8.04(1H,d,J=7.4Hz)
（３）１，２−ジヒドロ−１−（ジメチルアミノ）−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造
前記で製造した１，２−ジヒドロ−１−（ジメチルアミノ）−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（２．０ｇ、７．２ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム１水和物（０．６ｇ、１４ｍｍｏｌ）を、１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）及び水（３ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、室温で一晩撹拌した。炭酸水素ナトリウム溶液を加え酢酸エチルで抽出し、水層をクエン酸で酸性化した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、乾燥、濃縮して目的物を１．５０ｇ得た。（収率８３％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：3.08（6H,s）、6.91(1H,d,J=7.6Hz)、8.51(1H,d,J=7.4Hz)、13.62(1H,br)
〔参考例６〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−１−（２−メチル−２−プロペン−１−イル）−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−７）
（１）１，２−ジヒドロ−１−（２−メチル−２−プロペン−１−イル）−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステルの製造
ヘキサンで洗浄した水素化ナトリウム（鉱油中６０％、２．２ｇ、５５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７０ｍＬ）に懸濁させ、氷冷下、１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステル（１０．０ｇ、４５ｍｍｏｌ）を徐々に加えた後、室温で２０分撹拌した。３−ブロモ−２−メチルプロペン（７．９ｇ、５９ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で６時間撹拌した。冷却後、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水で洗浄、乾燥、濃縮して、２−（２−メチル−２−プロペン−１−イルオキシ）−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステルと１，２−ジヒドロ−１−（２−メチル−２−プロペン−１−イル）−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステルの混合物を得た。この混合物をクロロホルム（５０ｍＬ）に溶解し、窒素雰囲気下で、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）（１．７ｇ、４．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩反応させた。炭酸水素ナトリウム溶液を加え、有機層をクエン酸水溶液、水で洗浄し、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜２／３）で精製して、目的物を７.５g得た。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.82(3H,s)、3.93(3H,s)、4.27(1H,s)、4.63(2H,s)、4.83(1H,s)、6.74(1H,d,J=7.6Hz)、8.10(1H,d,J=7.6Hz)
（２）１，２−ジヒドロ−１−（２−メチル−２−プロペン−１−イル）−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステル（１．５４ｇ、５．６ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（３０ｍＬ）及び水（１０ｍＬ）の混合溶媒に加え、水酸化リチウム１水和物（０．５ｇ、１２ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩反応させた。炭酸水素ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水層をクエン酸で酸性化した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、乾燥、濃縮して目的物を１．３６ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.87(3H,s)、4.23(1H,s)、4.75 (2H,s)、4.90 (1H,s)、7.06(1H,d,J=7.6Hz)、8.60(1H,d,J=7.6Hz) 、13.80(1H,br)
〔参考例７〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−１−エチルスルホニルメチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−４５）
（１）１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステルの製造
１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸（１１４.０ｇ、０.５２ｍｏｌ）をジクロロメタン（５００ｍＬ）に溶解し、オキサリルクロリド（９９ｇ、０.７８ｍｏｌ）を室温下で加え、Ｎ、Ｎ’−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）を加えて、２時間加熱還流させた。溶媒を留去し、アセトニトリル（５００ｍＬ）を加え、メタノール（３３ｇ、１.０３ｍｏｌ）とトリエチルアミン（１０４ｇ、１.０３ｍｏｌ）の混合液を、氷冷下で滴下した。室温下で２時間反応させた後、溶媒を留去し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層をクエン酸水溶液及び水で洗浄し、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜１／１）で精製して、目的物を１１３.５g得た（収率９４％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：3.67(3H,s)、3.93(3H,s)、6.70(1H,d,J=7.3Hz)、8.08(1H,d,J=7.3Hz)
（２）１−ブロモメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステルの製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−１−メチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステル（３０.０ｇ、０.１２８ｍｏｌ）を四塩化炭素４００ｍＬに加え、Ｎ−ブロモスクシンイミド（６８.３ｇ、０．３８４ｍｏｌ）と２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．２ｇを加えて、５００Ｗタングステンランプで光照射しながら、１６時間還流させた。冷却後、固体をろ別して、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜３／２）で精製して、目的物を２４.０g得た（収率６０％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：3.94(3H,s)、5.38(1H,br)、6.21(1H,br)、6.80(1H,d,J=7.3Hz)、8.13(1H,d,J=7.3Hz)
（３）１，２−ジヒドロ−１−エチルチオメチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステルの製造
エチルメルカプタン（３.０ｇ、４８ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（６.６ｇ、４８ｍｍｏｌ）をＮ、Ｎ’-ジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）に懸濁させ、この懸濁液に上記で得られた１−ブロモメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステル（１０.０ｇ、３２ｍｏｌ）のＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド３０ｍＬ溶液を室温下で滴下した。室温下で２時間撹拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液及び水で洗浄し、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜３／２）で精製して、目的物を６.７９g得た（収率７２％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.26(3H,t)、2.94(2H,q)、3.93(3H,s)、5.25(2H,br),6.71(1H,d,J=7.4Hz)、8.08(1H,d,J=7.4Hz)
（４）１，２−ジヒドロ−１−エチルスルホニルメチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステルの製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−１−エチルチオメチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステル（６.７９ｇ、２３ｍｍｏｌ）をクロロホルム１００ｍＬに溶解し、７０％ｍ-クロロ過安息香酸（１２.５ｇ、５１ｍｍｏｌ）を、氷冷下で少量ずつ添加した後、室温下で一晩撹拌した。固体をろ別して、有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄し、乾燥、濃縮して目的物を７.３６g得た（収率９８％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.48(3H,t)、3.39(2H,q)、3.93(3H,s)、5.39(2H,br),6.85(1H,d,J=7.7Hz)、8.20(1H,d,J=7.7Hz)
（５）１，２−ジヒドロ−１−エチルスルホニルメチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−１−エチルスルホニルメチル−２−オキソ−６−（トリフルオロメチル）ピリジン−３−カルボン酸メチルエステル（７.３６ｇ、２２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（５０ｍＬ）に溶解し、６Ｎ塩酸（４５ｍＬ）を添加し、５０℃で一晩撹拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて分液し、水層にクエン酸を加え酸性化した。水を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗し、乾燥、濃縮し、得られた結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、目的物を５.７６ｇ得た。（収率８２％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.52(3H,t)、3.38(2H,q)、5.46(2H,br),7.15(1H,d,J=7.7Hz)、8.65(1H,d,J=7.7Hz)
〔参考例８〕
（製造中間体）６−シアノ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−６４）
（１）１，２−ジヒドロ−６−メチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸の製造
３−オキソ−３−（フェニルアミノ）プロピオン酸エチル（５６.８ｇ、０．２７ｍｏｌ）及び４−メトキシ−３−ブテン−２−オン（３０.２ｇ、０.３０ｍｏｌ）をエタノール（３００ｍＬ）に溶解し、室温下で２０％ナトリウムエトキシド（１１２ｇ、０．３３ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、８時間加熱還流した。反応混合物を冷却後、減圧下で濃縮し、得られた残渣を１，４−ジオキサン（２００ｍＬ）と水（２００ｍＬ）の混合溶液に溶解した。この溶液に水酸化リチウム一水和物（２３.０ｇ、０.５５ｍｏｌ）を加えて室温下で一晩撹拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで洗浄した。水層にクエン酸を加え酸性にした後、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗し、乾燥、濃縮し、得られた結晶を酢酸エチルで洗浄し、目的物を４３.４ｇ得た。（収率６９％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.15(3H,s)、6.53(1H,d,J=7.4Hz)、7.22(2H,m)、7.54(3H,m)、8.48(1H,d,J=7.3Hz) 、13.98(1H,s)
（２）１，２−ジヒドロ−６−メチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−６−メチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸の３３.４ｇ（０．１４６ｍｏｌ）をジクロロメタン（１５０ｍＬ）に溶解し、オキサリルクロリド（３７.１ｇ、０．２９ｍｏｌ）を室温下で加え、Ｎ、Ｎ’-ジメチルホルムアミド５滴を加えて、２時間加熱還流させた。溶媒を留去し、アセトニトリル（２５０ｍＬ）を加え、この混合物にエタノール（１３.４ｇ、０.２９ｍｏｌ）とトリエチルアミン（２９.５ｇ、０.２９ｍｏｌ）の混合液を、氷冷下で滴下した。室温下で２時間反応させた後、溶媒を留去し、クエン酸水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗し、乾燥、濃縮し、得られた固体をヘキサン／酢酸エチル＝１／１の混合溶媒で洗浄して、目的物を３３.１g得た（収率８８％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.33(3H,s)、2.03(3H,s)、4.31(2H,q)、6.19(1H,d,J=7.4Hz)、7.16(2H,m)、7.43(3H,m)、8.17(1H,d,J=7.4Hz)
（３）５−ブロモ−６−ブロモメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−６−メチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（３３.１ｇ、０.１２９ｍｏｌ）を四塩化炭素（４００ｍＬ）に加え、Ｎ−ブロモスクシンイミド（５７.０ｇ、０．３２ｍｏｌ）と２，２’-アゾビスイソブチロニトリル０．２ｇを加えて、５００Ｗタングステンランプで光照射しながら、５時間還流させた。反応混合物を冷却後、固体をろ別し、ろ液を濃縮して得られた固体をヘキサン／酢酸エチル＝１／１の混合溶媒で洗浄して、目的物を４５.３g得た（収率８５％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.34(3H,t)、2.04(3H,s)、4.1(2H,s)、4.33(2H,q)、7.30(2H,m)、7.50(3H,m)、8.30(1H,s)
（４）５−ブロモ−１，２−ジヒドロ−６−ヒドロキシメチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
上記で得られた５−ブロモ−６−ブロモメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（２５.９ｇ、６２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（１００ｍＬ）と水（５０ｍＬ）に懸濁させ、この懸濁液に炭酸水素ナトリウム（１５.７ｇ、０.１８７ｍｏｌ）を加えて６０℃で３時間反応させた。反応混合物を冷却後、水にあけ、クロロホルムで抽出し、有機層をクエン酸水溶液及び水で洗浄し、乾燥、濃縮した。得られた固体をヘキサン／酢酸エチル＝１／１の混合溶媒で洗浄し、目的物を１６.１ｇ得た。（収率７３％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.34(3H,t)、2.04(1H,s)、4.32(4H,m)、4.33(2H、7.24(2H,m)、7.49(3H,m)、8.33(1H,s)
（５）１，２−ジヒドロ−６−ヒドロキシメチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
上記で得られた５−ブロモ−１，２−ジヒドロ−６−ヒドロキシメチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（１６.１ｇ、４６ｍｍｏｌ）を酢酸エチル２００ｍＬに懸濁させ、窒素雰囲気下で、この懸濁液にぎ酸アンモニウム（８．６ｇ、０．１３６ｍｏｌ）、１０％パラジウム炭素（１.６ｇ）を加えて６５℃で８時間反応させた。反応混合物を冷却し、不溶物をろ過し、濃縮して得られた固体をヘキサン／酢酸エチル＝１／１の混合溶媒で洗浄し、目的物を８.４ｇ得た。（収率６７％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.32(3H,t)、2.95(1H,t)、4.05(2H,d)、4.29(2H,q)、6.55(1H,d,J=7.7Hz)、7.07 (2H,m)、7.45(3H,m)、8.24(1H,d,J=7.7Hz)
（６）１，２−ジヒドロ−６−（ヒドロキシイミノ）メチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−６−ヒドロキシメチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（５．０ｇ、１８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解し、ＤＭＰ試薬（１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキソール−３(１Ｈ)−オン）（９．３ｇ、２２ｍｏｌ）を室温下で加え、一晩反応させた。反応混合物を、炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、クロロホルムで抽出し、有機層を水洗浄し、乾燥、濃縮して粗製の６−ホルミル−１−フェニル−１，２−ジヒドロ−２−オキソピリジン−３−カルボン酸エチルエステルを得た。この粗製物を、エタノール（１００ｍＬ）に溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩（２.５ｇ、３６ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（３.５ｇ、３６ｍｍｏｌ）を加えて５０℃で８時間反応させた。反応混合物を濃縮し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、温クロロホルムで抽出した。有機層を温水で洗浄し、乾燥、濃縮して得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、目的物を４.５７ｇ得た。（収率８９％、２段階）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.33(3H,t)、4.32(2H,q)、6.86(1H,d,J=7.4Hz)、7.15 (2H,m)、7.47(3H,m)、8.23(1H,d,J=7.7Hz)、8.82(1H,s)
（７）６−シアノ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−６−（ヒドロキシイミノ）メチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（４.５７ｇ、１６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１５０ｍＬ）に溶解し、ＷＳＣ（Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミド）（３.７ｇ、１９ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（２．３ｇ、１９ｍｍｏｌ）を室温下で加えて５０℃で５時間反応させた。反応混合物をクエン酸水溶液にあけ、分液し、有機層を水洗し、乾燥、濃縮した。得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、目的物を４．０ｇ得た。（収率９３％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.35(3H,t)、4.35(2H,q)、6.83(1H,d,J=7.1Hz)、7.26 (2H,m)、7.52(3H,m)、8.12(1H,d,J=7.1Hz)
（８）６−シアノ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸の製造
上記で得られた６−シアノ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（２.０ｇ、１６ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（２０ｍＬ）及び水（５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、室温下で水酸化リチウム一水和物（０.３８ｇ、９.１ｍｍｏｌ）を加えて一晩反応させた。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで洗浄し、水層をクエン酸で酸性とし、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗し、乾燥、濃縮して得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、目的物を１.２０ｇ得た。（収率６７％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：7.15(1H,d,J=7.4Hz)、7.37 (2H,m)、7.64(3H,m)、8.62(1H,d,J=7.1Hz)
〔参考例９〕
（製造中間体）６−ジフルオロメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＶＩ−６５）
（１）６−ジフルオロメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
１，２−ジヒドロ−６−ヒドロキシメチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（５.０ｇ、１８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解し、ＤＭＰ試薬（１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキソール−３(１Ｈ)−オン）（８.５ｇ、２０ｍｏｌ）を室温下で加えて４時間反応させた。反応混合物を、炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗し、乾燥、濃縮して粗製の６−ホルミル−１−フェニル−１，２−ジヒドロ−２−オキソピリジン−３−カルボン酸エチルエステルを得た。この粗製物を、ジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解し、この溶液に窒素雰囲気下でＤＡＳＴ試薬（ジエチルアミノ硫黄三フッ化物）（４.８ｇ、３０ｍｍｏｌ）を５℃で加えて室温下で一晩反応させた。反応混合物を水にあけ、有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、乾燥、濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜３／２）で精製し、得られた固体をヘキサン／酢酸エチル＝１／１の混合溶液で洗浄し、目的物を２.２９ｇ得た（収率５７％、２段階）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：1.34(3H,t)、4.34(2H,q)、6.04(1H,J=53Hz)、6.70(1H,d,J=7.4Hz)、7.24 (2H,m)、7.50(3H,m)、8.25(1H,d,J=7.7Hz)
（２）６−ジフルオロメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸の製造
上記で得られた６−ジフルオロメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（１.５２ｇ、５.２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（２０ｍＬ）と水（５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、室温下で水酸化リチウム一水和物（０.４３ｇ、１０.２ｍｍｏｌ）を加えて一晩反応させた。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、水層にクエン酸を加え酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、乾燥、濃縮して得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、目的物を１.２２ｇ得た。（収率８９％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：6.13(1H,J=53Hz)、7.03(1H,d,J=7.4Hz)、7.26 (2H,m)、7.63(3H,m)、8.691(1H,d,J=7.7Hz)
〔参考例１０〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（ｎ−プロピルスルホニルメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＩＶ−６６）
（１）１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（ｎ−プロピルチオメチル）ピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
１，２−ジヒドロ−６−ヒドロキシメチル−２−オキソ−１−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（５.０ｇ、１８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解し、この溶液に窒素雰囲気下で三臭化リン（１.９５ｇ、７.２ｍｏｌ）を−２０℃で加えて４時間反応させた。反応混合物を水にあけて分液し、有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、乾燥、濃縮して粗製の目的物を３.３０ｇ得た。この粗製物を、Ｎ、Ｎ’−ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）に溶解し、炭酸カリウム（２．０ｇ、１４ｍｍｏｌ）、プロピルメルカプタン（１.１ｇ、１４ｍｍｏｌ）を加えて室温下で２時間反応させた。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層をクエン酸水溶液及び水で洗浄し、乾燥、濃縮した。得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２）で精製し、目的物を１.１７ｇ得た（収率２０％、２段階）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：0.89(3H,t)、1.33(3H,t)、1.41(2H,m)、2.34(2H,t)、3.25(2H,s)、4.31(2H,q)、6.33(1H,d,J=7.4Hz)、7.23(2H,m)、7.44(3H,m)、8.19(1H,d,J=7.7Hz)
（２）１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（ｎ−プロピルスルホニルメチル）ピリジン−３−カルボン酸エチルエステルの製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（ｎ−プロピルチオメチル）ピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（１.９５ｇ、５.９ｍｍｏｌ）をクロロホルム（５０ｍＬ）に溶解し、６５％ｍ-クロロ過安息香酸（３.４ｇ、１２.８ｍｍｏｌ）を、氷冷下で少量ずつ添加した後、室温下で一晩撹拌した。反応混合物の固体を濾別して、ろ液の有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、乾燥、濃縮して目的物を２.０３g得た（収率９５％）。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：0.96(3H,t)、1.33(3H,t)、1.58(2H,m)、2.77(2H,t)、3.98(2H,s)、4.32(2H,q)、6.61(1H,d,J=7.4Hz)、7.26(2H,m)、7.50(3H,m)、8.20(1H,d,J=7.7Hz)
（３）１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（ｎ−プロピルスルホニルメチル）ピリジン−３−カルボン酸の製造
上記で得られた１，２−ジヒドロ−２−オキソ−１−フェニル−６−（ｎ−プロピルスルホニルメチル）ピリジン−３−カルボン酸エチルエステル（２.０３ｇ、５.６ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）に溶解し、６Ｎ塩酸（１０ｍＬ）を添加した後、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層に炭酸水素ナトリウムを加え抽出した。水層にクエン酸を加え酸性化し、クロロホルムで抽出し、水洗、乾燥、濃縮して得られた結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、目的物を１.８４ｇ得た。（収率９８％）
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：（CDCl3/TMS δ(ppm)）：0.98(3H,t)、1.60(2H,m)、2.85(2H,m)、4.08(2H,s)、6.91(1H,d,J=7.4Hz)、7.34(2H,m)、7.62(3H,m)、8.58(1H,d,J=7.7Hz)
〔参考例１１〕
（製造中間体）１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルチオ−２−オキソピリジン−３−カルボン酸の製造（製造中間体ＩＶ−６７）
（１）２−ヒドロキシ−６−メチルチオピリジン−３−カルボン酸メチルの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（７０ｍＬ）とメチルメルカプタンナトリウム８．６ｇ（０.１２ｍｏｌ）の混合液に、２−ヒドロキシ−６−クロロピリジン−３−カルボン酸メチル７．６９ｇ（４１.０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（４０ｍｌ）を４０℃で滴下した。この混合物を１時間撹拌した後、水にあけて酢酸エチルで抽出し、有機層を乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を４．９１ｇ（収率６０％）得た。
（２）１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルチオ−２−オキソピリジン−３−カルボン酸メチルの製造
水素化ナトリウム(６０％ディスパージョン、０．４０ｇ、１０ｍｍｏｌ）とジメトキシエタン（２４ｍＬ）の懸濁液に、２−ヒドロキシ−６−メチルチオピリジン−３−カルボン酸メチル（２.０ｇ、１０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（６ｍＬ）を氷冷下で滴下した。室温で１５分間撹拌した後、リチウムブロミド（１．７ｇ、２０ｍｍｏｌ)を加え、１５分間撹拌した。反応混合液を６０℃に加温し、ヨウ化メチル（２．８ｇ、２０ｍｍｏｌ）を滴下し、更に３時間撹拌した。室温冷却後、反応混合液を水にあけて酢酸エチルで抽出し、有機層を乾燥した後、溶媒を減圧下留去や。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を２．１ｇ（収率９８％）得た。
（３）１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルチオ−２−オキソピリジン−３−カルボン酸の製造
１，２−ジヒドロ−１−メチル−６−メチルチオ−２−オキソピリジン−３−カルボン酸メチル（２．１ｇ、９．８ｍｍｏｌ)と水酸化リチウム１水和物（０．５０ｇ、１２ｍｍｏｌ)をＴＨＦ（３０ｍＬ）と水（２ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、室温で１昼夜撹拌した。反応混合液を減圧下濃縮して得られた残渣に飽和重曹水と酢酸エチルの混合液を加え、分液抽出した。得られた水層に希塩酸を加えることによりｐＨ３〜４としてからクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して目的物を１.６ｇ（収率８２％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲデータ（CDCl3/TMS δ(ppm)）：2.64(3H,s)、3.72(3H,s)、6.30(1H,d, J=8.0Hz)、8.35(1H,d,J=8.2Hz)、14.1(1H,s).
前記参考例に準じて製造した化合物の構造式と物性値を、前記参考例を含め表３２及び表３３に示す。尚、表中の記号は前記と同様の意味を表し、化合物番号は以後の記載において参照される。
Figure 2007088876
Figure 2007088876
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
〈製剤例１〉 水和剤
化合物番号Ｉ−１の化合物 １０部
ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル ０．５部
β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩 ０．５部
珪藻土 ２０部
クレー ６９部
以上を均一に混合粉砕して水和剤とした。又、化合物番号Ｉ−１に代えて、表１〜２１に記載の化合物各々を用いて同様に水和剤を得ることができた。
〈製剤例２〉 フロアブル剤
化合物番号ＩＶ−１４０の化合物 ２０部
水 ６９部
ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩 ４部
エチレングリコール ７部
以上にシリコーンＡＦ−１１８Ｎ（旭化成工業株式会社製）を全量に対し２００ｐｐｍ加え、高速攪拌機にて３０分間混合した後、湿式粉砕機にて粉砕しフロアブル剤とした。又、化合物番ＩＶ−１４４に代えて、表１〜２１に記載の化合物各々を用いて同様にフロアブル剤を得ることができた。
〈製剤例３〉 乳剤
化合物番号Ｉ−７２の化合物 ３０部
キシレンとイソホロンの等量混合物 ６０部
ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート ４部
ポリオキシエチレンポリアルキルアリールエーテル ４部
アルキルアリールスルホネート ２部
以上を均一に溶解して乳剤とした。又、化合物番号Ｉ−７２に代えて、表１〜２１に記載の化合物各々を用いて同様に乳剤を得ることができた。
〈製剤例４〉 粒剤
化合物番号ＩＩＩ−３３の化合物 １０部
タルクとベントナイトの（１：３）混合物 ８０部
ホワイトカーボン ５部
ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート ２部
ポリオキシエチレンポリアルキルアリールエーテル ２部
アルキルアリールスルホネート １部
以上を均一に混合粉砕した。この混合物に水１０部相当量を加えて練合し、押出式造粒機を用いて直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤とした。又、化合物番号ＩＩＩ−３３に代えて、表１〜２１に記載の化合物各々を用いて同様に粒剤を得ることができた。
又、表１〜２１に記載の化合物は、製剤例１〜４に準じて同様の各種製剤を製造することができた。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
〈試験例１〉 水田土壌処理による除草効果試験
１００ｃｍ２プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ、コナギ、アオビユの種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を、１ヘクタール当り１０００ｇ相当とした。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表３４の基準に従って除草効果を調査し、その結果を表３４〜表４４に示す。
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
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Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
尚、表中の比較化合物１及び比較化合物２は、それぞれ欧州特許公開ＥＰ−２８３２６１号に記載された化合物番号７０及び化合物番号３４である。構造式を以下に示す。
Figure 2007088876
〈試験例２〉 畑地土壌処理による除草効果試験
８０ｃｍ２プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ、イチビ、アオビユの種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当り１０００リットル相当を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表３４の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表４５〜表５０に示す。
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
尚、表中の比較化合物１及び比較化合物２は、それぞれ欧州特許公開ＥＰ−２８３２６１号に記載された化合物番号７０及び化合物番号３４である。
〈試験例３〉 畑地茎葉処理による除草効果試験
８０ｃｍ２プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビユ、イチビ、アオビユの種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当り１０００リットル相当を小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表３４の基準に従って、除草効果を調査した。その結果を表５１〜表５８に示す。
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
Figure 2007088876
尚、表中の比較化合物１及び比較化合物２は、それぞれ欧州特許公開ＥＰ−２８３２６１号に記載された化合物番号７０及び化合物番号３４である。

Claims (4)

  1. 式［１］
    Figure 2007088876
     ［式中、
    Ｒ１はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェノキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ(Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ)Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ホルミルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキリデンアミノ基、ジ（Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキリデンアミノ基、ＮＲ３１Ｒ３２基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表し；
    Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して、水素原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシＣ１〜Ｃ４アルキル基、ジ(Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ)Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキニル基又はハロゲン原子を表し；
    Ａは、式Ａ−１、式Ａ−２、式Ａ−３、式Ａ−４又は式Ａ−５
    Figure 2007088876
     のいずれかで表される基を表し；
    Ｒ４は、ヒドロキシル基、Ｏ−Ｍ＋（Ｍ＋はアルカリ金属カチオン又はアンモニウムカチオンを表す）、ハロゲン原子、シアノ基、イソチオシアナート基、イソシアナート基、ヒドロキシカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、シアノメチレンオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ８アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルカルボニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルコキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキルスルホニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニルオキシ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルチオ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルアミノ基、ジ（Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）アミノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルアミノ基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルオキシ基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表し；
    Ａ０は、式Ｘ１０又は式Ｘ１１
    Figure 2007088876
     で表される基を表し；
    Ａ１は、式Ｘ１又は式Ｘ２
    Figure 2007088876
     で表される基を表し；
    Ａ２は、式Ｘ３、式Ｘ４、式Ｘ５、式Ｘ６又は式Ｘ７
    Figure 2007088876
     のいずれかで表される基を表し；
    Ａ３は、式Ｘ８又は式Ｘ９
    Figure 2007088876
     で表される基を表し；
    ｎは０、１又は２を表し；
    Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立して、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
    ここで、Ｒ５とＲ８はＣ１〜Ｃ５アルキレン鎖又はＣ２〜Ｃ５アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく、
    又、Ｒ５とＲ１１はＣ２〜Ｃ５アルキレン鎖又はＣ２〜Ｃ５アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく；
    Ｒ７、Ｒ３３及びＲ３４はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し；
    Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又は置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基を表し；
    Ｒ１８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、シアノメチル基又は置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基を表し；
    Ｒ２０は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し；
    Ｒ２１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はハロゲン原子を表し；
    Ｒ２３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルチオ基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基又は置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基を表し；
    Ｒ２４は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルアミノ基を表し；
    Ｒ２５は、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、シアノ基又はニトロ基を表し、
    Ｒ３１、Ｒ３２はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表す。］
    で示されるピリドン誘導体又はその農業上許容される塩。
    「置換基群α」
    ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ4アルキレンジオキシ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルアミノ基
  2. 式［１］において、
    Ａは、前記式Ａ−１、式Ａ−２、式Ａ−３、式Ａ−４又は式Ａ−５のいずれかで表される基を表し、
    Ａ−１におけるＡ０は、式Ｘ１０、式Ｘ１１−ａ又はＸ１１−ｂ
    Figure 2007088876
     のいずれかで表される基を表し；
    Ａ２は、式Ｘ３、式Ｘ４、式Ｘ５、式Ｘ６又は式Ｘ７
    Figure 2007088876
     のいずれかで表される基を表し；
    Ａ３は、式Ｘ８又は式Ｘ９
    Figure 2007088876
     で表される基を表し；
    ｎは０、１又は２を表し；
    Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立して、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
    Ｒ７、Ｒ３３及びＲ３４はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し；
    ＴはＣ２〜Ｃ５アルキレン鎖又はＣ２〜Ｃ５アルケニレン鎖を表す、
    請求項１に記載のピリドン誘導体又はその農業上許容される塩。
  3. 式［１］において、
    Ｒ１がＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、置換基群α’より選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されたフェニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルＣ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェノキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジ(Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ)Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ホルミルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキリデンアミノ基、ジ（Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）アミノＣ１〜Ｃ６アルキリデンアミノ基、ＮＲ３１Ｒ３２基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基はハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基及びシアノ基より選ばれる１又は２個以上の置換基で置換される。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表し、
    Ｒ３１が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表し、
    Ｒ３２が、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、前記置換基群αより選ばれる１又は２個以上の置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環基（該基は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選択される同一又は異なった１個以上のヘテロ原子を有する炭素数２〜１０の複素環で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基の複素環は１〜５個のハロゲン原子、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はシアノ基で置換されていてもよい。）を表す、
    請求項１に記載のピリドン誘導体又はその農業上許容される塩。
    「置換基群α’」
    Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルアミノ基
  4. 請求項１〜３いずれか１項に記載のピリドン誘導体又はその農業上許容される塩を活性成分として含有することを特徴とする除草剤。
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