WO2012039141A1 - 6-アシルピリジン-2-オン誘導体及び除草剤 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a novel 6-acylpyridin-2-one derivative or a salt thereof, and a herbicide containing the same as an active ingredient.
- Patent Document 1 and Non-Patent Document 1 are known as pyridone derivatives.
- the herbicide used for useful crops is a drug that is applied to soil or foliage and shows a sufficient herbicidal effect at a low dose.
- demands for chemical safety and environmental impacts are increasing, and the development of safer plant control agents for agriculture and horticulture is desired.
- the present invention has been made to address such problems.
- the present inventors synthesized a 6-acylpyridin-2-one derivative (hereinafter also referred to as a pyridone derivative) that has not been known to have herbicidal activity, The usefulness was studied earnestly. As a result, it was found that by applying the 6-acylpyridin-2-one derivative of the present invention to weeds or soil where weeds grow, the present invention has shown excellent herbicidal effects over a long period of time. It came to do.
- a 6-acylpyridin-2-one derivative hereinafter also referred to as a pyridone derivative
- R 1 represents a C 1 -C 6 alkyl group; a C 2 -C 6 alkenyl group; a C 2 -C 6 alkynyl group; a C 3 -C 8 cycloalkyl group; a C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 ⁇ C 6 alkyl group; C 1 ⁇ C 6 haloalkyl group; C 2 ⁇ C 6 haloalkenyl; C 2 ⁇ C 6 haloalkynyl group; C 3 ⁇ C 8 halocycloalkyl group; C 3 ⁇ C 8 halocycloalkyl C 1 -C 6 alkyl group; amino C 1 -C 6 alkyl group; nitro C 1 -C 6 alkyl group; C 1 -C 6 alkylamino C 1 -C 6 alkyl group; di (C 1 -C 6 alkyl) Amino C 1 -C 6 alkyl group; C 1 -C 6 alkyl group
- Phenyl phenylthio C 1 ⁇ C 6 alkyl group (in which the substituent One or more substituents selected from the group ⁇ or the same or different 2 to 5 substituents; a phenylsulfinyl C 1 -C 6 alkyl group (the phenyl of the group is selected from the substituent group ⁇ ); Or a phenylsulfonyl C 1 -C 6 alkyl group (wherein the phenyl is one selected from the substituent group ⁇ , or a phenylsulfonyl C 1 -C 6 alkyl group) It may be substituted with 2 to 5 substituents which are the same or different.
- R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom; a nitro group; a cyano group; a C 1 to C 6 alkyl group; a C 2 to C 6 alkenyl group; a C 2 to C 6 alkynyl group; and a C 3 to C 8.
- cycloalkyl group C 1 ⁇ C 6 haloalkyl group; C 2 ⁇ C 6 haloalkenyl; C 2 ⁇ C 6 haloalkynyl group; C 1 ⁇ C 6 alkoxy group; C 1 ⁇ C 6 haloalkoxy group; C 1 ⁇ C 10 alkylthio group; C 1 ⁇ C 10 alkylsulfinyl group; C 1 ⁇ C 10 alkylsulfonyl group; C 1 ⁇ C 6 haloalkylthio group; C 1 ⁇ C 6 haloalkylsulfinyl group; C 1 ⁇ C 6 haloalkylsulfonyl group; C 1 -C 6 alkoxy C 1 -C 6 alkyl group; C 3 -C 8 cycloalkyloxy C 1 -C 6 alkyl group; di (C 1 -C 6 alkoxy) C 1- A C 6 alkyl group; a C 1 -C 6 al
- R 4 represents a hydroxyl group; O - M + (. M + represents an alkali metal cation or an ammonium cation); amino group, a halogen atom, a cyano group, an isothiocyanate group; isocyanate group; hydroxycarbonyl group; C 1 ⁇ A C 6 alkoxycarbonyloxy group; a benzyloxycarbonyloxy group which may be substituted with a substituent selected from the substituent group ⁇ ; a C 1 -C 12 alkoxy group; a C 1 -C 6 alkoxy group; a C 2 -C 6 alkenyl oxy group; C 2 ⁇ C 6 alkynyloxy group; C 3 ⁇ C 8 cycloalkyl group; a cyano methylene group; C 3 ⁇ C 8 cycloalkyl C 1 ⁇ C 6 alkyl group; C 1 ⁇ C 6 alkyl carbonyl oxy group; C 1 ⁇ C 6 haloalky
- a C3-C10 heterocyclic group having one or more heteroatoms selected from the same or different oxygen, sulfur and nitrogen atoms (the group is one selected from the substituent group ⁇ ) Or may be substituted by the same or different 2 to 5 substituents.); Or the number of carbons having one or more heteroatoms selected from the same or different oxygen, sulfur and nitrogen atoms 3 to 10 heterocyclic oxy groups (the group may be substituted by one or a same or different 2 to 5 substituents selected from the substituent group ⁇ );
- a 1 is the following general formula
- R 5 , R 6 , R 8 , R 9 , R 35 and R 36 each independently represent a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group
- R 5 and R 8 may combine with a C 2 to C 5 alkylene chain or a C 2 to C 5 alkenylene chain to form a ring
- R 5 and R 35 may combine with a C 1 -C 5 alkylene chain to form a ring
- R 7 , R 33 and R 34 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group, a C 1 -C 6 haloalkyl group, a C 2 -C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group, or Represents a C 1 -C 6 alkoxy group
- R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are each independently substituted with a substituent selected from a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group
- R 18 represents a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group, a C 2 -C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group, a cyanomethyl group, or a benzyl group
- R 20 represents a C 1 to C 6 alkyl group, a C 2 to C 6 alkenyl group, a C 2 to C 6 alkynyl group, a C 3 to C 8 cycloalkyl group, or a C 3 to C 8 cycloalkyl C 1 to C 6.
- R 21 represents a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group, or a halogen atom
- R 23 is, C 1 ⁇ C 6 alkyl group, C 1 ⁇ C 6 haloalkyl group, C 3 ⁇ C 8 cycloalkyl group, C 1 ⁇ C 10 alkylthio group, C 1 ⁇ C 10 alkylsulfinyl group, C 1 ⁇ C 10 alkylsulfonyl group, phenylthio group which may be substituted with a substituent selected from substituent group ⁇ , benzylthio group which may be substituted with a substituent selected from substituent group ⁇ , substituent selected from substituent group ⁇
- a phenylsulfinyl group which may be substituted with, a benzylsulfinyl group which may be substituted with a substituent selected from substituent group ⁇ , a phenylsulfonyl group which may be
- the “substituent group ⁇ ” is: Hydroxyl group; C 1 -C 6 alkyl group; C 3 -C 8 cycloalkyl group; C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 -C 6 alkyl group; C 2 -C 6 alkenyl group; C 2 -C 6 alkynyl group; C 1 -C 6 haloalkyl group; C 2 -C 6 haloalkenyl group; C 2 -C 6 haloalkynyl group; C 3 -C 8 halocycloalkyl group; C 3 -C 8 halocycloalkyl C 1 ⁇ C 6 alkyl group; C 1 ⁇ C 6 alkoxy group; C 3 ⁇ C 8 cycloalkyl group; C 2 ⁇ C 6 alkenyloxy group; C 2 ⁇ C 6 alkynyloxy group; C 1 ⁇ C 6 alkylcarbonyloxy C 1 -C 6 haloalk
- a heterocyclic group having 2 to 10 carbon atoms having 1 to 5 heteroatoms selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom (the group is one, the same or a phase selected from the substituent group ⁇ ) And may be substituted with 2 to 5 different substituents.);
- the “substituent group ⁇ ” is: A group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a C 1 -C 6 alkyl group, a C 1 -C 6 haloalkyl group, a C 1 -C 6 alkoxy group, and a C 1 -C 6 haloalkoxy group. ] Or a salt thereof
- R 5 and R 6 in the above [X 1 ] are a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group
- R 8 and R 9 in [X 3 ] are a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group
- R 35 and R 36 in [X 9 ] are a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group, or R 5 and R 35 are bonded together by a C 1 -C 5 alkylene chain.
- the pyridone derivative or the salt thereof according to (3) which is a group that may form a ring.
- the pyridone derivative or the salt thereof according to (1), wherein W in the general formula [1] is W-3.
- R 1 in the general formula [1] is, C 1 ⁇ C 12 alkyl radical; C 2 ⁇ C 6 alkenyl group; C 2 ⁇ C 6 alkynyl; C 3 ⁇ C 6 cycloalkyl group; C 3 ⁇ C 6 -cycloalkenyl group; C 1 -C 6 haloalkyl group; C 2 -C 6 haloalkenyl group; C 1 -C 6 alkoxy C 1 -C 6 alkyl group; C 1 -C 6 alkylthio C 1 -C 6 alkyl group C 1 -C 6 alkylsulfinyl C 1 -C 6 alkyl group; C 1 -C 6 alkylsulfonyl C 1 -C 6 alkyl group; C 1 -C 6 alkoxycarbonyl C 1 -C 6 alkyl group; substituent group ⁇ is a phenyl group which may substituted with a substituent selected from; phenyl C 1 may be
- R 2 in the general formula [1] is a halogen atom; a C 1 -C 6 alkyl group; a C 1 -C 6 haloalkyl group; a phenyl group which may be substituted with a substituent selected from the substituent group ⁇ And a heterocyclic group having 3 to 10 carbon atoms having one or more heteroatoms selected from the same or different oxygen, sulfur and nitrogen atoms (the group is one selected from substituent group ⁇ ); Or a pyridone derivative or a salt thereof according to any one of (1) to (8), wherein the pyridone derivative is a group selected from the group consisting of: (10) An agrochemical composition comprising the pyridone derivative or a salt thereof according to any one of (1) to (9) and an agriculturally acceptable carrier.
- the herbicide according to (13), wherein the plant for agriculture and horticulture is a plant for agriculture and horticulture to which resistance is imparted by a breeding method or a gene recombination technique.
- the present invention provides a novel 6-acylpyridin-2-one derivative represented by the general formula [1] or a salt thereof capable of effectively controlling weeds.
- the 6-acylpyridin-2-one derivatives or salts thereof of the present invention are various weeds that are particularly problematic in upland fields, such as giant beetle, greenfish, white-tailed, chickweed, chamomile, ichibi, American stag beetle, American horned fox, ragweed, In addition to broad-leaved weeds such as daisies, morning glory, and red fir tree, perennials and annual perennial weeds such as hamasuge, kihamasuge, himekug, cyper, and white-necked crickets, barnyard grass, mosquito, wild stag beetle, horned grass, It exhibits excellent herbicidal effect over a wide range of growing seasons from before germination of family weeds.
- the present invention has high safety against useful crops and useful plants, and particularly shows high safety against rice, wheat, barley, corn, sorghum, soybean, cotton, sugar beet and the like.
- the present invention provides an agrochemical composition having an extremely excellent effect as a herbicide.
- the halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
- the notation such as C 1 to C 6 indicates that the number of carbon atoms of the subsequent substituent is, for example, 1 to 6 in this case.
- the C 1 -C 6 alkyl group means a straight or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified, and includes, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec -Butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 1-ethylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, 1,2-dimethylpropyl, neopentyl, n-hexyl 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 4-methylpentyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl
- the C 1 ⁇ C 10 alkyl group unless otherwise specified, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, for example, in addition to the above illustration C 1 ⁇ C 6 alkyl group, n- Heptyl, 1-methylhexyl, 5-methylhexyl, 1,1-dimethylpentyl, 2,2-dimethylpentyl, 4,4-dimethylpentyl, 1-ethylpentyl, 2-ethylpentyl, 1,1,3-trimethyl Butyl, 1,2,2-trimethylbutyl, 1,3,3-trimethylbutyl, 2,2,3-trimethylbutyl, 2,3,3-trimethylbutyl, 1-propylbutyl, 1,1,2,2 -Tetramethylpropyl, n-octyl, 1-methylheptyl, 3-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 5,5-dimethylhexyl, 2,4,
- the C 3 -C 8 cycloalkyl group means a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms unless specifically limited, and examples thereof include groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl.
- the C 3 -C 8 halocycloalkyl group is, unless otherwise limited, a cycloalkyl moiety and a halogen atom having 1 to 5 halogen atoms as defined above, preferably 1 to 3 carbon atoms substituted with 1 to 3 carbon atoms.
- 8 represents a cycloalkyl group, and examples thereof include 2,2-difluorocyclopropyl and 2,2-dichlorocyclopropyl.
- a C 3 -C 8 halocycloalkyl C 1 -C 6 alkyl group is, unless otherwise specified, a cycloalkyl part, an alkyl part and a halogen atom having 1 to 5 halogen atoms as defined above, preferably 1 to 3 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted by a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and is a group such as 2,2-difluorocyclopropylmethyl or 2,2-dichlorocyclopropylmethyl Can be mentioned.
- the hydroxy C 1 -C 6 alkyl group means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted by a hydroxyl group, wherein the alkyl moiety has the above-mentioned meaning, unless otherwise limited, for example, 2-hydroxyethyl, 3
- groups such as -hydroxypropyl.
- An amino C 1 -C 6 alkyl group means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted by an amino group, wherein the alkyl moiety has the above-mentioned meaning, unless otherwise limited, for example, 2-aminoethyl, 3 -Groups such as aminopropyl can be mentioned.
- nitro C 1 ⁇ C 6 alkyl group unless otherwise specified, the alkyl moiety is an alkyl group with a carbon number of 1-6, which is substituted by a nitro group is above meanings, nitromethyl, groups such as 2-nitroethyl Can be mentioned.
- the C 1 -C 6 haloalkyl group represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, which is substituted with a halogen atom.
- the C 2 -C 6 alkenyl group means a straight chain or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms unless otherwise specified, and examples thereof include vinyl, 1-propenyl, isopropenyl, 2-propenyl, 1- Butenyl, 1-methyl-1-propenyl, 2-butenyl, 1-methyl-2-propenyl, 3-butenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methyl-2-propenyl, 1,3-butadienyl, 1- Pentenyl, 1-ethyl-2-propenyl, 2-pentenyl, 1-methyl-1-butenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-2-butenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl, 3-methyl- 1-butenyl, 1,2-dimethyl-2-propenyl, 1,1-dimethyl-2-propenyl, 2-methyl-2-butenyl, 3-methyl-2-butenyl, 1,2- Methyl-1-propeny
- the C 2 -C 6 alkynyl group means a straight-chain or branched alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms unless otherwise specified, and includes, for example, ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, -Methyl-2-propynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1-pentynyl, 1-ethyl-2-propynyl, 2-pentynyl, 3-pentynyl, 1-methyl-2-butynyl, 4-pentynyl, 1-methyl -3-butynyl, 2-methyl-3-butynyl, 1-hexynyl, 1- (n-propyl) -2-propynyl, 2-hexynyl, 1-ethyl-2-butynyl, 3-hexynyl, 1-methyl-2 -Pentynyl, 1-methyl-3-penty
- the C 2 -C 6 haloalkenyl group is the same or different and represents a straight or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms substituted with a halogen atom 1 to 4 unless otherwise specified, for example, 2-chlorovinyl, 2-bromovinyl, 2-iodovinyl, 3-chloro-2-propenyl, 3-bromo-2-propenyl, 1-chloromethylvinyl, 2-bromo-1-methylvinyl, 1-trifluoromethylvinyl 3,3,3-trichloro-1-propenyl, 3-bromo-3,3-difluoro-1-propenyl, 2,3,3,3-tetrachloro-1-propenyl, 1-trifluoromethyl-2, 2-difluorovinyl, 2-chloro-2-propenyl, 3,3-difluoro-2-propenyl, 2,3,3-trichloro-2-propenyl, 4-bromo-3
- the C 2 -C 6 haloalkynyl group is the same or different and represents a straight-chain or branched alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms substituted with a halogen atom 1 to 4 unless otherwise specified.
- C 1 -C 6 alkoxy group means an (alkyl) -O— group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl moiety has the above-mentioned meaning, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, n-propoxy, isopropoxy, butoxy And groups such as pentyloxy or hexyloxy.
- C 1 -C 6 haloalkoxy group means a linear or branched alkyl-O having 1 to 6 carbon atoms in which the haloalkyl moiety has the above-mentioned meaning and is substituted with the same or different halogen atoms 1 to 13 A group such as chloromethoxy, difluoromethoxy, chlorodifluoromethoxy, trifluoromethoxy or 2,2,2-trifluoroethoxy;
- the C 1 -C 6 alkoxy C 1 -C 6 alkyl group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted by alkoxy having 1 to 6 carbon atoms, wherein the alkyl part and the alkoxy part have the above-mentioned meanings.
- groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl, isopropoxymethyl, pentyloxymethyl, methoxyethyl or butoxyethyl can be mentioned.
- C 1 -C 6 alkoxy C 1 -C 6 alkoxy C 1 -C 6 alkyl group means that the alkyl part and the alkoxy part have the above-mentioned meaning, and the number of carbon atoms substituted by alkoxy having 1 to 6 carbon atoms is 1
- the phenyl C 1 ⁇ C 6 alkoxy C 1 ⁇ C 6 alkyl group unless otherwise specified, the alkyl moiety and alkoxy moiety is the above sense, the number of carbon atoms which is substituted by phenyl by an alkoxy group having 1 to 6 substituted And an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as benzyloxymethyl or benzyloxyethyl.
- the C 1 -C 6 haloalkoxy C 1 -C 6 alkyl group is an alkyl having 1 to 6 carbon atoms in which the haloalkoxy moiety and the alkyl moiety are substituted with a haloalkoxy having 1 to 6 carbon atoms as defined above.
- a group such as chloromethoxymethoxy, difluoromethoxymethoxy, chlorodifluoromethoxymethoxy, trifluoromethoxymethoxy, or 2,2,2-trifluoroethoxymethoxy.
- a C 1 -C 6 haloalkoxy C 1 -C 6 alkoxy group is a carbon substituted with a haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, wherein the haloalkoxy moiety and the alkoxy moiety have the above-mentioned meanings.
- An alkoxy group having a number of 1 to 6 includes, for example, a group such as chloromethoxymethoxy, difluoromethoxymethoxy, chlorodifluoromethoxymethoxy, trifluoromethoxymethoxy, or 2,2,2-trifluoroethoxymethoxy.
- the C 3 -C 8 cycloalkyloxy group means a (cycloalkyl) -O— group having 3 to 8 carbon atoms as defined above, for example, cyclopropyloxy, cyclopropyl, unless otherwise specified. Examples include butyloxy, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy and the like.
- the C 3 -C 8 cycloalkyloxy C 1 -C 6 alkyl group is a carbon in which the alkyl part and the cycloalkyl part are substituted by a (cycloalkyl) -O— group having 3 to 8 carbon atoms as defined above.
- An alkyl group having a number of 1 to 6 is exemplified, and examples thereof include cyclopropyloxymethyl, cyclobutyloxymethyl, cyclopentyloxymethyl, cyclohexyloxymethyl and the like.
- a C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 -C 6 alkyl group has a carbon number substituted with a cycloalkyl having 3 to 8 carbon atoms as defined above for the cycloalkyl portion and the alkyl portion.
- 1 to 6 alkyl groups such as cyclopropylmethyl, 1-cyclopropylethyl, 2-cyclopropylethyl, 1-cyclopropylpropyl, 2-cyclopropylpropyl, 3-cyclopropylpropyl, cyclobutylmethyl, cyclopentylmethyl
- a group such as cyclohexylmethyl can be exemplified.
- the C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 -C 6 alkyloxy group means, unless otherwise specified, the number of carbon atoms in which the cycloalkyl moiety and the alkyl moiety are substituted with a cycloalkyl having 3 to 8 carbon atoms as defined above.
- a C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 -C 6 alkyloxy C 1 -C 6 alkyl group means, unless otherwise specified, an alkyl part, an alkoxy part and a cycloalkyl part having the above-mentioned meanings.
- 8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted by an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, which is substituted by an cycloalkyl group having 8 cycloalkyl groups, such as cyclopropylmethyloxymethyl, cyclobutylmethyloxymethyl, cyclopentylmethyloxy Mention may be made of groups such as methyl or cyclohexylmethyloxymethyl.
- R 31 R 32 N—C ⁇ O C 1 -C 6 alkyl group is a carbon in which the alkyl moiety is substituted with R 31 R 32 N— (C ⁇ O) as defined above.
- An alkyl group having a number of 1 to 6 includes N, N-dimethylaminocarbonylmethyl, N, N-dimethylaminocarbonylethyl, N-methyl-N-ethylaminocarbonylmethyl and the like.
- the C 1 -C 6 alkoxycarbonyl C 1 -C 6 alkyl group is, unless specifically limited, the number of carbon atoms in which the alkoxy moiety and the alkyl moiety are substituted with an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms as defined above.
- 1 to 6 alkyl groups such as 2-methoxy-2-oxoethyl, 2-ethoxy-2-oxoethyl, 2-tert-butoxy-2-oxoethyl and the like.
- a C 1 -C 6 alkylcarbonyl C 1 -C 6 alkyl group is, unless otherwise specified, an alkylcarbonyl moiety, the number of carbon atoms substituted by an alkylcarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms having the above-mentioned meaning.
- the C 1 -C 6 alkylcarbonyloxy C 1 -C 6 alkyl group is a (alkyl) -C ( ⁇ O) O— group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning unless otherwise specified.
- the C 2 -C 6 alkenyloxy group means an (alkenyl) -O— group having 2 to 6 carbon atoms as defined above, unless otherwise specified, and includes, for example, 2-propenyloxy and the like. Can do.
- the C 2 -C 6 alkynyloxy group means a (alkynyl) -O— group having 2 to 6 carbon atoms, as defined above, unless otherwise specified, and includes, for example, 2-propynyloxy Can do.
- the phenyloxy C 1 -C 6 alkyl group means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted by a (phenyl) -O— group, where the alkyl part has the above meaning, unless otherwise specified. Examples include groups such as phenoxymethyl, 2-phenoxyethyl, and 3-phenoxypropyl.
- the phenylthio C 1 -C 6 alkyl group means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with a (phenyl) -S— group, where the alkyl portion has the above meaning, unless otherwise specified. Mention may be made of groups such as thiomethyl, 2-phenylthioethyl, 3-phenylthiopropyl and the like.
- a phenylsulfinyl C 1 -C 6 alkyl group means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with a (phenyl) -SO— group, wherein the alkyl portion has the above-mentioned meaning, unless specifically limited. Mention may be made of groups such as phenylsulfinylmethyl, 2-phenylsulfinylethyl, 3-phenylsulfinylpropyl and the like.
- phenylsulfonyl C 1 ⁇ C 6 alkyl group unless otherwise specified, the alkyl moiety is the above sense, (phenyl) -SO 2 - represents an alkyl group having a carbon number which is substituted by group 1-6, Examples thereof include 2-phenylsulfonylethyl, 3-phenylsulfonylpropyl, 4-phenylsulfonylbutyl and the like.
- the C 1 -C 6 alkoxyimino C 1 -C 6 alkyl group is a C 1-6 alkyl group in which the alkoxyimino moiety and the alkyl moiety are substituted by an alkoxyimino group having 1-6 carbon atoms as defined above.
- An alkyl group for example, methoxyiminomethyl or ethoxyiminomethyl;
- the phenoxyimino C 1 -C 6 alkyl group refers to an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which the phenoxyimino moiety and the alkyl moiety are substituted by the phenoxyimino group as defined above, and examples thereof include phenoxyiminomethyl and the like. be able to.
- the di (C 1 -C 6 alkoxy) C 1 -C 6 alkyl group refers to an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that is di-substituted with an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
- the formyl C 1 -C 6 alkyl group means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with a formyl group, wherein the alkyl portion has the above-mentioned meaning, for example, (2-formyl) ethyl, (3-formyl ) Propyl and the like.
- the C 1 -C 6 alkylthio group means an (alkyl) -S— group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio and the like. Can do.
- the C 1 -C 10 alkylthio group means an (alkyl) -S— group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning.
- n- Examples include heptylthio, n-octylthio, n-nonylthio, n-decylthio and the like.
- C 1 -C 6 alkylsulfinyl group means an (alkyl) -SO— group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl moiety has the above meaning, for example, methylsulfinyl, ethylsulfinyl, n-propylsulfinyl or isopropylsulfinyl. Etc.
- the C 1 -C 10 alkylsulfinyl group means an (alkyl) -S— group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, for example, in addition to the above C 1 -C 6 alkylsulfinyl group, Examples thereof include n-heptylsulfinyl, n-octylsulfinyl, n-nonylsulfinyl, n-decylsulfinyl and the like.
- C 1 -C 6 alkylsulfonyl group refers to an (alkyl) -SO 2 — group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl or isopropyl
- lifted can be mention
- the C 1 -C 10 alkylsulfonyl group refers to an (alkyl) -S— group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning.
- Examples thereof include n-heptylsulfonyl, n-octylsulfonyl, n-nonylsulfonyl, n-decylsulfonyl and the like.
- the C 2 -C 6 alkenylthio group means an (alkenyl) -S— group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkenyl moiety has the above-mentioned meaning, and examples include groups such as allylthio.
- the C 2 -C 6 alkenylsulfinyl group refers to an (alkenyl) -SO— group having 3 to 6 carbon atoms in which the alkenyl moiety has the above meaning, and examples thereof include allylsulfinyl groups.
- the C 2 -C 6 alkenylsulfonyl group means an (alkenyl) -SO 2 — group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkenyl moiety has the above-mentioned meaning, and examples include groups such as allylsulfonyl.
- the C 2 -C 6 alkynylthio group refers to a (alkynyl) -S— group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkynyl moiety has the above meaning, and examples thereof include 2-propynylthio and the like.
- the C 2 -C 6 alkynylsulfinyl group refers to a (alkynyl) -SO— group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkynyl moiety has the above-mentioned meaning, and examples thereof include a group such as 2-propynylsulfinyl.
- the C 2 -C 6 alkynylsulfonyl group means a (alkynyl) -SO 2 -group having 2 to 6 carbon atoms, the alkynyl moiety having the above meaning, and examples thereof include 2-propynylsulfonyl and the like. .
- the C 1 -C 10 alkylsulfonyloxy group means an (alkyl) SO 2 —O— group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include methylsulfonyloxy and ethylsulfonyloxy. be able to.
- the C 1 ⁇ C 6 alkylthio C 1 ⁇ C 6 alkyl group, an alkyl moiety, and alkylthio moiety is an alkyl group of 1 to 6 carbon which is substituted by an alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms having the meanings given above For example, methylthiomethyl or ethylthiomethyl can be mentioned.
- C 1 -C 6 alkylsulfinyl is a C 1 -C 6 alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl moiety and the alkylsulfinyl moiety are substituted with an alkylsulfinyl group having 1 to 6 carbon atoms as defined above.
- An alkyl group for example, methylsulfinylmethyl or ethylsulfinylmethyl;
- C 1 -C 6 alkylsulfonyl is a C 1 -C 6 alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl moiety and the alkylsulfonyl moiety are substituted with an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms as defined above.
- An alkyl group is shown, and examples thereof include methylsulfonylmethyl and ethylsulfonylmethyl.
- C 1 -C 6 alkoxy C 1 -C 6 alkoxy group means an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms substituted by alkoxy having 1 to 6 carbon atoms, wherein the alkoxy moiety has the above-mentioned meaning, for example, , Methoxymethoxy, ethoxymethoxy, 2-methoxyethoxy, 2-ethoxyethoxy and the like.
- a C 1 -C 6 haloalkylthio C 1 -C 6 alkyl group is substituted by a (haloalkyl) -S— group having 1 to 6 carbon atoms, wherein the alkyl and haloalkyl moieties are as defined above.
- an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as difluoromethylthiomethyl and trifluoromethylthiomethyl.
- a C 1 -C 6 haloalkylsulfinyl C 1 -C 6 alkyl group is substituted by a (haloalkyl) -SO— group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl and haloalkyl moieties are as defined above.
- an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as difluoromethylsulfinylmethyl and trifluoromethylsulfinylmethyl.
- a C 1 -C 6 haloalkylsulfonyl C 1 -C 6 alkyl group means, unless otherwise specified, a (haloalkyl) -SO 2 — group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl and haloalkyl moieties have the above-mentioned meanings.
- a substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is exemplified, and examples thereof include difluoromethylsulfonylmethyl, trifluoromethylsulfonylmethyl and the like.
- C 1 -C 6 alkylthio C 1 -C 6 alkoxyC 1 -C 6 alkyl group means an alkylthio having 1 to 6 carbon atoms, unless otherwise specified, the alkylthio moiety, the alkoxy moiety and the alkyl moiety have the above-mentioned meanings.
- C 1 -C 6 alkylsulfinyl C 1 -C 6 alkoxyC 1 -C 6 alkyl group means, unless otherwise specified, an alkylsulfinyl moiety, an alkoxy moiety and an alkyl moiety having the above-mentioned meanings having 1 to 6 carbon atoms.
- a C 1 -C 6 alkylsulfonyl C 1 -C 6 alkoxy C 1 -C 6 alkyl group has an alkylsulfonyl moiety, an alkoxy moiety and an alkyl moiety as defined above, and has 1 to 6 carbon atoms.
- the C 1 -C 6 alkylcarbonyl group means an (alkyl) -C ( ⁇ O) — group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include acetyl and propionyl. .
- the C 1 -C 6 alkylcarbonyloxy group means an (alkyl) -C ( ⁇ O) —O— group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, such as acetoxy or propionyloxy. I can give you.
- C 1 -C 6 haloalkylcarbonyloxy group means a (haloalkyl) -C ( ⁇ O) —O— group having 1 to 6 carbon atoms in which the haloalkyl moiety has the above meaning, such as chloromethylcarbonyloxy, difluoro Examples include methylcarbonyloxy, chlorodifluoromethylcarbonyloxy, trifluoromethylcarbonyloxy, 2,2,2-trifluoroethylcarbonyloxy, and the like.
- the C 2 -C 6 haloalkenylcarbonyloxy group refers to a (haloalkenyl) -C ( ⁇ O) —O— group having 2 to 6 carbon atoms in which the haloalkenyl moiety has the above meaning, for example, 3- Examples thereof include chloro-2-propenylcarbonyloxy, 3-bromo-2-propenylcarbonyloxy and the like.
- C 2 -C 6 alkynylcarbonyloxy group means an (alkynyl) -C ( ⁇ O) —O— group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkynyl moiety has the above meaning, for example, 1-propynylcarbonyloxy , 2-propynylcarbonyloxy and the like.
- C 2 -C 6 haloalkynylcarbonyloxy group means a (haloalkynyl) -C ( ⁇ O) —O— group having 2 to 6 carbon atoms, wherein the haloalkynyl moiety is as defined above. Examples thereof include chloro-1-propynylcarbonyloxy, 3,3,3-trifluoro-1-propynylcarbonyloxy and the like.
- the C 2 -C 6 alkylideneamino group means an alkyl-CH ⁇ N— group having 1 to 5 carbon atoms, the alkyl part of which has the above meaning, and examples thereof include groups such as ethylidene and propylidene.
- the di (C 1 -C 10 alkyl) amino C 1 -C 6 alkylideneamino group is a carbon in which the alkyl portion is substituted by an amino group having the above meaning and disubstituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
- An amino group substituted with an alkylidene group having a number of 1 to 6 includes, for example, a group such as a dimethylaminomethylideneamino group or a diethylaminomethylideneamino group.
- the C 1 -C 10 alkylamino group refers to an (alkyl) -NH— group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include methylamino and ethylamino.
- the di (C 1 -C 10 alkyl) amino group means an (alkyl) 2 N-group in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, such as dimethylamino, diethylamino, methylethylamino, dipropylamino, dibutylamino, etc. I can give you.
- the C 1 -C 6 alkylamino group means an (alkyl) -NH— group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, and examples thereof include groups such as methylamino and ethylamino. .
- di (C 1 -C 6 alkyl) amino group means an (alkyl) 2 N— group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, for example, dimethylamino, diethylamino, methylethylamino, di Examples include groups such as propylamino and dibutylamino.
- C 1 A ⁇ C 6 alkylamino C 1 ⁇ C 6 alkyl group the number of carbon atoms which is substituted by an alkylamino group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl moiety is as defined above is an alkyl group of 1 to 6 Examples thereof include N-methylaminomethyl and N-methylaminoethyl.
- the di (C 1 -C 6 alkyl) amino C 1 -C 6 alkyl group means that the number of carbon atoms substituted by an (alkyl) 2 N-group having 1 to 6 carbon atoms having the above-mentioned meaning is 1 6 to 6 alkyl groups such as N, N-dimethylaminomethyl, N, N-dimethylaminoethyl and the like.
- C 1 -C 6 alkoxycarbonylamino group refers to an amino group in which an alkoxy moiety is substituted with an (alkoxy) -C ( ⁇ O) — group having 1 to 6 carbon atoms as defined above. Examples include amino or ethoxycarbonylamino.
- C 1 -C 6 alkylcarbonylamino group means an amino group in which the alkylcarbonyl moiety is substituted with an alkylcarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, as defined above, unless otherwise specified, and includes formamide, acetamido, propion Examples include amide groups.
- the C 1 -C 6 alkoxycarbonyl group means an (alkyl) -O—C ( ⁇ O) — group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n -Propoxycarbonyl or isopropoxycarbonyl and the like can be mentioned.
- C 1 -C 6 alkoxycarbonyl is a C 1 -C 6 alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms substituted with an alkoxycarbonyl moiety and an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms as defined above. Examples thereof include methoxycarbonylmethoxy group, methoxycarbonylethoxy group, ethoxycarbonylmethoxy group, ethoxycarbonylethoxy group and the like.
- C 1 -C 10 alkylthiocarbonyl group means an (alkyl) -S—C ( ⁇ O) — group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, such as methylthiocarbonyl or ethylthiocarbonyl Can give.
- C 1 -C 6 alkoxycarbonyloxy group refers to an oxy group in which the alkoxycarbonyl moiety is substituted with an (alkoxy) -C ( ⁇ O) — group having 1 to 6 carbon atoms as defined above. Examples thereof include carbonyloxy and ethoxycarbonyloxy.
- the C 1 -C 6 haloalkylthio group means a (haloalkyl) -S— group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl portion has the above meaning, and examples thereof include difluoromethylthio and trifluoromethylthio. .
- the C 1 -C 6 haloalkylsulfinyl group means a (haloalkyl) -SO— group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl portion has the above meaning, and examples thereof include trifluoromethylsulfinyl and difluoromethylsulfinyl. it can.
- the C 1 -C 6 haloalkylsulfonyl group means a (haloalkyl) -SO 2 — group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl moiety has the above meaning, such as chloromethylsulfonyl, difluoromethylsulfonyl or trifluoromethylsulfonyl. Etc.
- C 1 -C 6 haloalkylsulfonyloxy group means a (haloalkyl) SO 2 —O— group having 1 to 6 carbon atoms, wherein the haloalkyl moiety is as defined above, for example, chloromethylsulfonyloxy or trifluoromethylsulfonyloxy Etc.
- the mono (C 1 ⁇ C 6 alkyl) aminocarbonyl group, the number of carbon atoms the alkyl moiety has the meaning described above for 1-6 (alkyl) -NH-C ( O) - represents a group, for example, methylaminocarbonyl And groups such as ethylaminocarbonyl.
- the di (C 1 -C 6 alkyl) aminocarbonyl group means an (alkyl) 2 N—C ( ⁇ O) — group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, for example, dimethylaminocarbonyl , Diethylaminocarbonyl, methylethylaminocarbonyl, dipropylaminocarbonyl, dibutylaminocarbonyl and the like.
- the cyano C 1 -C 6 alkyl group means a cyanoalkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, and examples thereof include cyanomethyl and cyanoethyl.
- the cyano C 1 -C 6 alkoxy group means an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms substituted with a cyano group, wherein the alkoxy moiety has the above-mentioned meaning, such as 2-cyanoethoxy, 3-cyanopropoxy, etc. The group can be mentioned.
- the cyano C 1 ⁇ C 6 alkoxy C 1 ⁇ C 6 alkyl group unless otherwise specified, the alkoxy moiety and the alkyl moiety is as defined above, the number of carbon atoms which is substituted by a cyano group by an alkoxy group having 1 to 6
- a substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is exemplified, and examples thereof include 2-cyanoethoxymethyl, 3-cyanopropoxymethyl and the like.
- the phenyl C 1 -C 6 alkyl group means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion is substituted with the phenyl group having the above-mentioned meaning, and examples thereof include benzyl, phenethyl, phenylpropyl and the like. .
- the phenyl C 2 -C 6 alkenyl group means an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkenyl moiety is substituted with the phenyl group having the above-mentioned meaning, and examples thereof include styryl, cinnamyl and the like.
- the phenyl C 2 -C 6 alkynyl group refers to an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkynyl moiety is substituted with the phenyl group having the above-mentioned meaning, such as (2-phenyl) ethynyl, 2- (3- Phenyl) ethynyl and the like.
- the phenylcarbonyloxy group is a (phenyl) -C ( ⁇ O) —O— group.
- the phenylcarbonyl C 1 -C 6 alkyloxy group refers to an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted by a (phenyl) -C ( ⁇ O) —O— group, such as phenylcarbonyloxymethyl. be able to. Indicates.
- the phenylthio group means a (phenyl) -S- group.
- the phenylsulfinyl group is a (phenyl) -SO- group.
- the phenylsulfonyl group refers to a (phenyl) -SO 2 — group.
- the phenylsulfonyloxy group refers to a (phenyl) -SO 2 —O— group.
- heterocyclic group having 3 to 10 carbon atoms having one or more hetero atoms selected from the same or different oxygen atom, sulfur atom and nitrogen atom examples include furan, thiophene, pyrrole, pyrazole, imidazole and pyridine.
- a heterocyclic group having 2 to 10 carbon atoms having 1 to 5 heteroatoms selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom is the same as the above-described heterocyclic group.
- a heterocyclic oxy group having 3 to 10 carbon atoms and having one or more heteroatoms selected from oxygen atoms, sulfur atoms and nitrogen atoms which may be the same or different from each other means the above meanings to oxygen atoms unless otherwise specified.
- a heterocyclic group having a substituent for example, (tetrahydrofuran-2-yl) oxy, (4,5-dihydroisoxazol-5-yl) oxy, (isoxazol-5-yl) oxy, (thiophen-2-yl) ) An oxy group etc. can be mentioned.
- the “heterocyclic oxy group having 2 to 10 carbon atoms having 1 to 5 heteroatoms selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom” is the same as the above heterocyclic oxy group.
- the C 1 -C 6 alkyl group substituted with a C 3-10 heterocycle having one or more heteroatoms selected from the same or different oxygen, sulfur and nitrogen atoms is an alkyl moiety.
- an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which the heterocyclic moiety is substituted with a heterocyclic ring having the above-mentioned meaning, such as (2-furan) methyl, (3-furan) methyl, (2-thiophene) methyl, or (3-thiophene) methyl and the like can be mentioned.
- the group represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with an alkoxy having 1 to 6 carbon atoms in which the alkyl portion, the alkoxy portion and the heterocyclic portion are substituted with the above-mentioned heterocyclic ring, for example, Tetrahydrofurfuryloxyethyl or tetrahydrofurfuryloxymethyl can be exemplified.
- a C 1 -C 6 alkyloxy group substituted with a C 3-10 heterocycle having one or more heteroatoms selected from the same or different oxygen, sulfur and nitrogen atoms is a heterocycle
- the 6- alkyl group refers to an alkyloxy group having 1 to 6 carbon atoms and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which the heterocyclic portion, the alkyloxy portion and the alkyl portion are substituted by the heterocyclic ring having the above-mentioned meanings, For example, (tetrahydrofuran-2-yl) oxymethoxymethyl, (4,5-dihydroisoxazol-5-yl) oxyethoxymethyl, (isoxazol-5-yl) oxymethoxymethyl or (thiophen-2-yl) oxyethoxy Examples include methyl and the like.
- alkali metals examples include sodium and potassium.
- C 2 A ⁇ C 5 alkylene chain refers to a linear or saturated hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms in the branched chain, ethylene, propylene, may be mentioned butylene, isobutylene, pentylene or hexylene, and the like.
- Me represents a methyl group
- Et represents an ethyl group
- Pr-n represents an n-propyl group
- Pr-i represents an isopropyl group
- Pr-c represents a cyclopropyl group
- Bu-n represents an n-butyl group
- Bu-s represents a secondary butyl group
- Bu-i represents an isobutyl group
- Bu-t represents a tertiary butyl group
- Bu-c Represents a cyclobutyl group
- Pen-n represents an n-pentyl group
- Pen-c represents a cyclopentyl group
- Hex-n represents an n-hexyl group
- Hex-c represents a cyclohexyl group
- Ac represents an acetyl group
- Ph represents a phenyl group
- Bn represents a benzyl group
- Ts represents a p-toluene
- Ph (2-OMe) represents a 2-methoxyphenyl group
- CH 2 Ph (2-OMe) represents a 2-methoxybenzyl group
- Ph (3,4-di-Cl) represents 3 , 4-dichlorophenyl group.
- the 6-acylpyridin-2-one derivative compound of the general formula [1] which is the compound of the present invention or a salt thereof can be produced by various methods. Although the typical manufacturing method is illustrated below, it is not limited to these methods.
- the compound of the general formula [1a], which is a kind of the compound of the present invention, can be produced by a method comprising the reaction formula illustrated below.
- Q is a halogen atom, an alkylcarbonyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, a haloalkylcarbonyloxy group. Represents a group such as haloalkoxycarbonyloxy group, benzoyloxy group, pyridyl group or imidazolyl group.)
- the enol ester compounds of the general formulas [4a] and [4b] can be produced by reacting the compound of the general formula [2] with the compound of the general formula [3a] in a solvent in the presence of a base. .
- the amount used of the general formula [3a] used here may be appropriately selected from the range of 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [2]. is there.
- Examples of the base that can be used in this step include organic amines such as triethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, or 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene; Metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, magnesium carbonate or calcium carbonate; metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate; metal acetates such as sodium acetate, potassium acetate, calcium acetate or magnesium acetate Metal carboxylates such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tertiary butoxide, potassium methoxide or potassium tertiary butoxide; sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide Or metal hydroxides such as magnesium hydroxide; or lithium hydride, sodium hydride, metal hydrides such as potassium hydride or calcium hydride and the like.
- the amount of the base used may be appropriately selected from the range of 0.5 to
- the solvent that can be used in this step is not particularly limited as long as it does not inhibit the progress of this reaction.
- nitriles such as acetonitrile, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, monoglyme or diglyme; dichloroethane, Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride or tetrachloroethane; Aromatic hydrocarbons such as benzene, chlorobenzene, nitrobenzene or toluene; Amides such as N, N-dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide; 1 Imidazolinones such as 1,3-dimethyl-2-imidazolinone; sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide; and a mixed solvent thereof can also be used.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction can be carried out in a two-layer system using a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compounds of the general formulas [4a] and [4b], which are the objectives of the reaction, are collected from the reaction system by a conventional method after the completion of the reaction, and may be purified by operations such as column chromatography and recrystallization as necessary. it can.
- the amount of the general formula [3b] used in this step may be appropriately selected from the range of 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [2]. It is.
- dehydrating condensing agent examples include dicyclohexylcarbodiimide (DCC), N- (3-dimethylaminopropyl) -N′-ethylcarbodiimide (EDC or WSC), N, N-carbonyldiimidazole, 2-chloro-1,3-dimethyl. Imidazolium chloride or 2-chloro-1-pyridinium iodide can be used.
- Step 1 As the base and the solvent that can be used in this step, the same ones described in Step 1 can be mentioned.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compound of the general formula [1a] can be produced by reacting the compound of the general formulas [4a] and [4b] produced in the step 2 or 3 with a cyano compound in the presence of a base.
- the same bases as described in Step 1 can be mentioned.
- the amount of the base used may be appropriately selected from the range of 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, per 1 mol of the general formulas [4a] and [4b].
- cyano compounds examples include potassium cyanide, sodium cyanide, acetone cyanohydrin, hydrogen cyanide, or a polymer holding hydrogen cyanide.
- the amount of the cyano compound used may be appropriately selected from the range of 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.2 mol, relative to 1 mol of the general formulas [4a] and [4b]. .
- a small amount of a phase transfer catalyst such as crown ether may be used.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compound of the general formula [1a] can be produced even if the general formulas [4a] and [4b] produced in the step 1 or 2 are used without isolation.
- the compound of the general formula [1a] can also be produced by reacting the compound of the general formula [2] and the compound of the general formula [3c] in the presence of a base or a Lewis acid.
- the amount of the general formula [3c] used in this step may be appropriately selected from the range of 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [2]. It is.
- Lewis acid zinc chloride, aluminum chloride or the like can be used.
- the same bases as described in Step 1 can be mentioned.
- the amount of the base used may be appropriately selected from the range of 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [2].
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the general formula [1a] produced by the production method 1 can convert the hydroxyl group of the cyclohexane ring into another substituent by a method comprising the following reaction formula.
- R 4a is an amino group; a cyano group; an isothiocyanate group; an isocyanate group; a hydroxycarbonyloxy group; a C 1 -C 6 alkoxycarbonyloxy group; a benzyloxycarbonyloxy optionally substituted with a substituent selected from the substituent group ⁇ Group: C 1 -C 6 alkoxy group; C 2 -C 6 alkenyloxy group; C 2 -C 6 alkynyloxy group; C 3 -C 8 cycloalkyloxy group; cyanomethyleneoxy group; C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 -C 6 alkyloxy group; C 1 -C 6 alkylcarbonyloxy group; C 1 -C 6 haloalkylcarbonyloxy group; C 2 -C 6 alkenyl
- a heterocyclic oxy group having 3 to 10 carbon atoms and having one or more heteroatoms selected from the same or different oxygen, sulfur and nitrogen atoms [the group is 1 or 2 to 5 Substituents selected from the same or different substituent groups ⁇ may be substituted.
- X represents a halogen atom.
- a compound of the general formula [1b] is produced by reacting a compound of the general formula [1a] with a halogenating agent, and the compound of the general formula [1b] and the nucleophile are further added in the presence of a base.
- General formula [1c] can be manufactured by making it react.
- halogenating agent examples include thionyl chloride, thionyl bromide, phosphorus oxychloride, phosphorus oxybromide, phenyltrimethylammonium tribromide, and Meldrum acid tribromide.
- the amount of the halogenating agent used may be appropriately selected from the range of 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [1a].
- Examples of the solvent that can be used include the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the nucleophile is, for example, a compound represented by the general formula R 4a -H, an alcohol such as methanol, ethanol or benzyl alcohol, methyl mercaptan or ethyl mercaptan.
- Mercaptans such as ammonia, amines such as ammonia, methylamine or ethylamine, phenols such as p-cresol or phenol, thiophenols such as p-chlorothiphenol, C 1 -C 6 alkyl carboxylic acids such as acetic acid, or Examples include benzoic acids.
- the amount of the nucleophilic reagent to be used may be appropriately selected from the range of 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [1b].
- Examples of the base that can be used include the same bases described in Step 1 of Production Method 1.
- the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1 can be used.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- R 4b is a hydroxycarbonyl group; a C 1 -C 6 alkoxycarbonyl group; a benzyloxycarbonyl group optionally substituted with a substituent selected from the substituent group ⁇ ; a C 1 -C 6 alkyl group; a C 2 -C 6 alkenyl; C 2 ⁇ C 6 alkynyl group; C 3 ⁇ C 8 cycloalkyl group; a cyanomethyl group; C 3 ⁇ C 8 cycloalkyl C 1 ⁇ C 6 alkyl group; C 1 ⁇ C 6 alkyl group; C 1 ⁇ C 10 alkylthiocarbonyl group; C 1 -C 6 haloalkylcarbonyl group; C 2 -C 6 alkenylcarbonyl group; C 2 -C 6 haloalkenylcarbonyl group; C 2 -C 6 alkynyl
- the electrophile is, for example, a compound represented by the general formula R 4b -La (La represents a leaving group), and a C 1 -C 6 alkyl halide such as methyl iodide or propyl chloride; benzyl bromide, etc.
- Benzyl halides C 1 -C 6 alkylcarbonyl halides such as acetyl chloride or propionyl chloride; benzoyl halides such as benzoyl chloride; C 2 -C 6 alkenylcarbonyl halides such as methacryl chloride or crotonyl chloride; C 2 -C 6 alkynylcarbonyl halides such as pentionoyl; C 1 -C 6 alkyl sulfonic acid halides such as methanesulfonyl chloride or ethanesulfonyl chloride; benzene sulfonic acid halides such as benzenesulfonyl chloride or p-toluenesulfonyl chloride; or Di C 1 ⁇ C 6 alkyl sulfate such as dimethyl sulfate or diethyl sulfate.
- the amount of the electrophile used may be appropriately selected from
- Examples of the base that can be used include the same bases described in Step 1 of Production Method 1.
- the amount of the base used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, per 1 mol of the general formula [1a].
- the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1 can be used.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compound of the general formula [1e] of the present invention can be produced by a method comprising the following reaction formula.
- the compound of the general formula [1e] can be produced by reacting the compound of the general formula [5a] and the compound of the general formula [3a] in a solvent in the presence of a Lewis base.
- the amount of the general formula [3a] used may be appropriately selected from the range of 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [5a].
- Lewis bases examples include organolithium compounds such as methyllithium, ethyllithium, n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium and benzyllithium; Grignard reagents such as methylmagnesium iodide and ethylmagnesium bromide; Metal compounds such as lithium, potassium or sodium; organic copper compounds prepared from Grignard reagents or organometallic compounds and monovalent copper salts; alkali metal amides such as lithium diisopropylamide (LDA); or triethylamine, pyridine, 4-dimethylamino And organic amines such as pyridine, N, N-dimethylaniline or 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, and the like, particularly preferably n-butyllithium or lithium. Isopropyl amide (LDA).
- the amount of the Lewis base used may be appropriately selected from the range
- the solvent examples include the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1, with diethyl ether or tetrahydrofuran being particularly preferred.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compound of the general formula [1f] can be produced by a method consisting of the following reaction formula.
- the compound of the general formula [4c] is produced by reacting the compound of the general formula [5] and the compound of the general formula [3a] in the presence of a base in a solvent, and further the compound of the general formula [4c]. Can react with cyanide in the presence of a base to produce a compound of general formula [1f].
- the amount of the general formula [3a] used is appropriately within the range of 0.1 to 10 mol with respect to 1 mol of the general formula [5]. What is necessary is just to select, Preferably it is 1.0-1.2 mol.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- examples of the cyanide compound that can be used in the steps of the general formula [4c] to the general formula [1f] include potassium cyanide, sodium cyanide, acetone cyanohydrin, hydrogen cyanide, or a polymer holding hydrogen cyanide.
- the amount of the cyan compound used may be appropriately selected from the range of 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [5].
- Examples of the base that can be used include the same bases as those described in Step 1 of Production Method 1.
- the amount of the base used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, per 1 mol of the general formula [5].
- Examples of the solvent that can be used include the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compound of the general formula [1h] in which the substituent of the pyrazole ring is converted can be produced by the method consisting of the following reaction formula using the compound of the general formula [1f] synthesized above.
- R 22a is amino group; a cyano group; an isothiocyanate group; isocyanate group; hydroxycarbonyl group; C 1 ⁇ C 6 alkoxycarbonyloxy group which can be substituted by a substituent selected from substituent group ⁇ benzyloxycarbonyl Oxy group; C 1 -C 6 alkoxy group; C 2 -C 6 alkenyloxy group; C 2 -C 6 alkynyloxy group; C 3 -C 8 cycloalkyloxy group; cyanomethyleneoxy group; C 3 -C 8 cyclo Alkyl C 1 -C 6 alkyloxy group; C 1 -C 6 alkylcarbonyloxy group; C 1 -C 6 haloalkylcarbonyloxy group; C 2 -C 6 alkenylcarbonyloxy group; C 2 -C 6 halo
- a heterocyclic oxy group having 3 to 10 carbon atoms and having one or more heteroatoms selected from the same or different oxygen, sulfur and nitrogen atoms [the group is 1 or 2 to 5 It may be substituted with a substituent selected from the same or different substituent group ⁇ .
- X represents a halogen atom.
- a compound of the general formula [1h] can be produced by reacting a compound of the general formula [1f] with a halogenating agent to form a compound of the general formula [1g] and further reacting with a nucleophile. it can.
- halogenating agent examples include thionyl chloride, thionyl bromide, phosphorus oxychloride, phosphorus oxybromide, phenyltrimethylammonium tribromide, or Meldrum. And acid tribromide.
- the amount of the halogenating agent to be used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, per 1 mol of the general formula [1f].
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the nucleophile is, for example, a compound represented by the general formula R 22a -H, and alcohols such as methanol, ethanol or benzyl alcohol; methyl mercaptan or ethyl mercaptan Mercaptans such as ammonia; amines such as ammonia, methylamine or ethylamine; phenols such as p-cresol or phenol; thiophenols such as p-chlorothiphenol; C 1 -C 6 alkyl carboxylic acids such as acetic acid; or Examples include benzoic acids.
- the amount of the nucleophilic reagent to be used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, per 1 mol of the general formula [1 g].
- Examples of the solvent that can be used include the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compound of the general formula [1j] can be produced by a method comprising the following reaction formula.
- R 22b represents a hydroxycarbonyl group; a C 1 -C 6 alkoxycarbonyl group; a benzyloxycarbonyl group optionally substituted with a substituent selected from the substituent group ⁇ ; a C 1 -C 6 alkyl group; a C 2 -C 6 alkenyl; C 2 ⁇ C 6 alkynyl group; C 3 ⁇ C 8 cycloalkyl group; a cyanomethyl group; C 3 ⁇ C 8 cycloalkyl C 1 ⁇ C 6 alkyl group; C 1 ⁇ C 6 alkyl group; C 1 ⁇ C 10 alkylthiocarbonyl group; C 1 -C 6 haloalkylcarbonyl group; C 2 -C 6 alkenylcarbonyl group; C 2 -C 6 haloalkenylcarbonyl group; C 2 -C 6 alky
- the electrophile that can be used is, for example, a compound represented by the general formula R 22b -La (La represents a leaving group), and a C 1 -C 6 alkyl halide such as methyl iodide or propyl chloride; Benzyl halides such as benzyl; C 1 -C 6 alkylcarbonyl halides such as acetyl chloride or propionyl chloride; benzoyl halides such as benzoyl chloride; C 2 -C 6 alkenylcarbonyl halides such as methacryl chloride or crotonyl chloride; C 2 ⁇ C 6 alkynylcarbonyl halides such as 4-Penchionoiru; C 1 ⁇ C 6 alkyl sulfonic acid halides such as methanesulfonyl chloride or ethanesulfonyl chloride, benzenesulfonic such as benzenesulfonyl chlor
- Examples of the base and solvent that can be used in this reaction include those described in Step 1 of Production Method 1.
- the amount of the base used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [1f].
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compound of the general formula [1k] can be produced by a method comprising the following reaction formula.
- R 1 , R 2 , R 3 , R 24 , R 25 and Q each have the same meaning as described above.
- the compound of the general formula [7] and the compound of the general formula [3a] are reacted in a solvent in the presence of a base to produce a compound of the general formula [4d], and then the general formula [4d]
- a compound of the general formula [1k] can be produced by reacting a compound of the above with a cyanide compound in the presence of a base.
- the amount of the general formula [3a] used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol with respect to 1 mol of the general formula [7]
- the amount is preferably 1.0 to 1.2 mol.
- Examples of the base that can be used include the same bases described in Step 1 of Production Method 1.
- the amount of the base used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [7].
- Examples of the solvent that can be used include the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1.
- Examples of the cyano compound that can be used in the steps of the general formula [4d] to the general formula [1k] include potassium cyanide, sodium cyanide, acetone cyanohydrin, hydrogen cyanide, or a polymer holding hydrogen cyanide.
- the amount of the cyano compound used may be appropriately selected from the range of 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [4d].
- bases examples include the same bases as described in Step 1 of Production Method 1.
- the amount of the base used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the general formula [4d].
- Examples of the solvent that can be used include the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the compound of the general formula [1m] can be produced by a method comprising the following reaction formula.
- R 25a represents a C 1 ⁇ C 6 alkoxycarbonyl group
- R 26 is C 1 ⁇ C 6 alkoxy groups
- C A 1 to C 6 haloalkoxy group represents a C 3 to C 8 cycloalkyloxy group or a dimethylamino group
- R 27 represents a C 1 to C 6 alkyl group or a benzyl group.
- general formula [8a] can be produced by reacting general formula [1k] with an acid in an inert solvent or without using a solvent.
- acids that can be used in this step include sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid.
- the amount of the acid used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, per 1 mol of the general formula [1k].
- the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1 can be used.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the general formula [8b] can be produced by reacting the general formula [8a] with N, N-dimethylacetamide dimethyl acetal or by reacting an orthoformate compound in acetic anhydride.
- the amount of N, N-dimethylamide dimethyl acetal and orthoformate used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 moles per mole of the general formula [8a], preferably 1.0 to 3 0.0 mole.
- the reaction temperature may be selected from the range of -20 ° C to the boiling range of N, N-dimethylacetamide dimethylacetal or acetic anhydride used as a solvent, preferably 0 ° C to 150 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the general formula [8c] can be produced by reacting the general formula [8a] with carbon disulfide and further reacting with a halide.
- halide examples include methyl iodide, methyl bromide, methyl chloride, ethyl iodide, ethyl bromide, ethyl chloride, benzyl bromide, benzyl chloride and the like.
- the amount of carbon disulfide used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 moles per mole of the general formula [8a], preferably 1.0 to 1.2 moles.
- the amount used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 moles per mole of the general formula [8a], preferably 2.0 to 2.4 moles.
- the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1 can be used.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours. *
- the general formula [1m] can be produced by reacting the general formula [8b] or [8c] produced in the step 2 or the step 3 with hydroxylamine hydrochloride in a solvent.
- the amount of hydroxylamine hydrochloride to be used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.2 mol, per 1 mol of the general formula [8b] or [8c]. .
- the same solvents as those described in Step 1 of Production Method 1 can be used.
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- R 1 , R 2 , R 3 , and X each have the same meaning as described above, R 1a , R 1b , and R 1c represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a C 1 -C 6 alkyl group, and R 28 Represents a C 1 -C 6 alkyl group.
- R 1a , R 1b , and R 1c represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a C 1 -C 6 alkyl group, and R 28 Represents a C 1 -C 6 alkyl group.
- the compound of general formula [11] can be manufactured according to the method described in Journal of Organic Chemistry (Journal of Organic Chemistry, page 1213 (1951)).
- the general formula [3a] can be produced by reacting the general formula [3b] with an appropriate halogenating agent in a solvent or without a solvent.
- halogenating agent examples include oxalyl chloride and thionyl chloride.
- the amount of the halogenating agent to be used may be appropriately selected from the range of 0.01 to 20 mol, preferably 1 to 10 mol, relative to 1 mol of the formula [3b].
- solvent examples include halogen hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran; and aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene.
- halogen hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform
- ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran
- aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene.
- the amount of the solvent used is 0.01 to 100 L, preferably 0.1 to 10 L, relative to 1 mol of the formula [3b].
- the reaction temperature may be selected from the range of the boiling point of the inert solvent used from ⁇ 20 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually 10 minutes to 48 hours.
- the present invention is an intermediate useful for producing a 6-acylpyridin-2-one derivative (pyridone derivative) represented by the general formula [1] or a salt thereof, the general formulas [3b], [3a] Or a compound represented by [3b-1] or a salt thereof.
- pyridone derivative represented by the general formula [1] or a salt thereof
- the general formulas [3b], [3a] Or a compound represented by [3b-1] or a salt thereof are shown in Table 41 to Table 54, but are not limited to these compounds.
- the compounds of the present invention have excellent herbicidal efficacy, and some exhibit excellent selectivity between crops and weeds, and are useful as agricultural chemical compositions in farmland, particularly as herbicides. That is, the compound of the present invention has a herbicidal effect on various weeds which are the following problems in the foliage treatment and soil treatment of fields where agricultural and horticultural plants are cultivated.
- Red-tailed weeds Oenothera erythrosepala, Oenothera laciniata; Buttercup weeds: Ranunculus muricatus, Ranunculus sardous; Weeds: Polygonum convolvulus, Polygonum lapathifolium, Polygonum pensylvanicum, Polygonum persicaria, Rumex crispus, olix tus, olix tus Berberidae weeds: Portulaca oleracea; Dianthus weeds: Stellaria media, Dutch geranium (Cerastium glomeratum); Rubiaceae weeds: Chenopodium album, Kochia scoparia; Amaranthus weeds: Amaranthus retroflexus, Amaranthus hybridus; Brassicaceae weeds: Wild radish (Raphanus raphanistrum), Noragarashi (Sinapis arvensis), Nazuna (Capsella bursa-pastoris), Lepidium virgin
- the compounds of the present invention include corn (Zea mays), wheat (Triticum aestivum), barley (Hordeum vulgare), rice (Orysa sativa), sorghum (Sorghum bicolor), soybean (Glycine max), cotton (Gossypium spp.), Sugar beet (Beta vulgaris), peanuts (Arachis hypogaea), sunflower (Helianthus annuus), rapeseed (Brassica napus) and other horticultural crops such as flowers, sugar beet, etc.
- the compound of the present invention can effectively weed various weeds that are problematic in no-tillage cultivation such as soybean, corn, wheat and the like, and is a phytotoxicity that causes problems for crops. Not shown.
- the compound of the present invention has a herbicidal effect on various weeds which are the following problems in paddy fields.
- Gramineae weeds Echinochloa oryzicola; Longhorn weeds: Azena (Lindernia procumbens); Misohidae weeds: Rotala indica, Ammannia multiflora; Weeping weeds: Elatine triandra; Cyperus Weeds: Cyperus difformis, Scirpus hotarui, Matsubai (Eleocharis acicularis), Cyperus serotinus, Eleocharis kuroguwai, Dog firefly (Scirpus juncoides) Cyprinid weeds: Monochoria vaginalis; Barbet weeds: Urikawa (Sagittaria pygmaea), Barbet (Sagittaria trifolia), Heramodaka (Alisma canaliculatum); Scallop weeds: scallop (Potamogeton distinctus); Cetaceae weeds: Oenanthe javanica.
- the compound of the present invention does not show phytotoxicity that causes a problem for transplanted rice.
- the compounds of the present invention include, for example, a bank of a dike, a riverbed, a road shoulder and a slope, a railroad, a park green space, a ground, a parking lot, an industrial site such as an airport, a factory and a storage facility, a fallow land, Alternatively, it is possible to weed a wide range of weeds that are generated in non-agricultural lands where it is necessary to control the growth of weeds such as city idle land, or in orchards, pastures, lawns, and forestry lands. Further, the compound of the present invention has herbicidal effects on aquatic weeds such as water hyacinth (Eichhornia crassipes) that occur in rivers, waterways, canals, reservoirs and the like.
- aquatic weeds such as water hyacinth (Eichhornia crassipes) that occur in rivers, waterways, canals, reservoirs and the like.
- the agricultural and horticultural plants referred to in the present invention include, for example, crops such as corn, rice, wheat, barley, rye, oat, sorghum, cotton, soybean, peanut, buckwheat, sugar beet, rapeseed, sunflower, sugarcane and tobacco; eggplant Vegetables (eggplant, tomatoes, peppers, peppers, potatoes, etc.), Cucumbers (cucumbers, pumpkins, zucchini, watermelons, melons, etc.), cruciferous vegetables (radish, turnip, horseradish, kohlrabi, Chinese cabbage, cabbage, mustard, Broccoli, cauliflower, etc.), Asteraceae vegetables (burdock, garlic, artichoke, lettuce, etc.), liliaceae vegetables (sleek, onion, garlic, asparagus), sericaceae vegetables (carrot, parsley, celery, redfish, etc.), Akaza Vegetables (spinach, chard) ), Lamiaceae vegetables (perilla, mint, basil,
- the plant for agricultural and horticultural use in the present invention refers to an HPPD inhibitor such as isoxaflutol, an ALS inhibitor such as imazetapyr and thifensulfuron methyl, an EPSP synthase inhibitor such as glyphosate, and a glutamine synthetase inhibitor such as glufosinate.
- HPPD inhibitor such as isoxaflutol
- an ALS inhibitor such as imazetapyr and thifensulfuron methyl
- an EPSP synthase inhibitor such as glyphosate
- glutamine synthetase inhibitor such as glufosinate.
- a plant that has been imparted with resistance to acetyl-CoA carboxylase inhibitors such as cetoxydim, PPO inhibitors such as flumioxazin, herbicides such as bromoxynil, dicamba and 2,4-D by classical breeding methods and gene recombination techniques Is also included.
- Examples of “agricultural and horticultural plants” that have been given resistance by classical breeding methods include rapeseed, wheat, sunflower, rice, and corn that are resistant to imidazolinone-based ALS-inhibiting herbicides such as imazetapil. It has already been sold under the product name>.
- SR corn and the like are examples of agricultural and horticultural plants to which resistance has been imparted to acetyl CoA carboxylase inhibitors such as trion oxime and aryloxyphenoxypropionic acid herbicides by classical breeding methods.
- Agro-horticultural plants tolerated by acetyl-CoA carboxylase inhibitors are Procedures of the National Academy of Sciences of the United States of America (Proc.Natl.Acad) Sci. USA) 87, 7175-7179 (1990).
- mutant acetyl CoA carboxylase resistant to acetyl CoA carboxylase inhibitors has been reported in Weed Science 53, 728-746 (2005), etc.
- a plant resistant to an acetyl-CoA carboxylase inhibitor can be produced by introducing a mutation into the plant acetyl-CoA carboxylase or introducing a mutation associated with imparting resistance into the plant.
- a nucleic acid introduced with a base substitution mutation represented by chimera plastic technology (Gura T. 1999. Repairing the Genome's Spelling Mistakes. Science 285: 316-318) is introduced into plant cells (acetyl CoA carboxylase / herbicide). Plants that are resistant to acetyl-CoA carboxylase inhibitors / herbicides can be created by inducing site-specific amino acid substitution mutations in the target) gene.
- Examples of agricultural and horticultural plants that have been rendered resistant by genetic recombination technology include glyphosate-resistant corn, soybean, cotton, rapeseed, sugar beet varieties, and trade names such as Roundup Ready (registered trademark), AgritureGT, etc. Already on sale. Similarly, there are corn, soybean, cotton and rapeseed varieties that are resistant to glufosinate by genetic recombination technology, and are already sold under trade names such as LibertyLink (registered trademark). Similarly, bromoxynyl-resistant cotton by gene recombination technology is already sold under the trade name BXN.
- the above “agricultural and horticultural plants” include plants that can synthesize, for example, selective toxins known in the genus Bacillus, using genetic recombination techniques.
- insecticidal toxins expressed in such transgenic plants include insecticidal proteins derived from Bacillus cereus and Bacillus cilpopilliae; Cry1Ab derived from Bacillus cilthuringiensis , Cry1Ac, Cry1F, Cry1Fa2, Cry2Ab, Cry3A, Cry3Bb1 or Cry9C, etc., insecticidal proteins such as VIP1, VIP2, VIP3 or VIP3A; nematode-derived insecticidal proteins; scorpion toxin, spider toxin, bee toxin or Toxins produced by animals such as insect-specific neurotoxins; filamentous fungi toxins; plant lectins; agglutinins; protease inhibitors such as trypsin inhibitors, serine protease inhibitors, patatin, cystatins, papain inhibitors; ricin Ribosome inactivating protein (RIP) such as corn-RIP, abrin, saporin, bry
- toxins expressed in such transgenic plants Cry1Ab, Cry1Ac, Cry1F, Cry1Fa2, Cry2Ab, Cry3A, Cry3Bb1 or Cry9C and other ⁇ -endotoxin proteins, VIP1, VIP2, VIP3, VIP3A and other insecticidal proteins such as VIP3A
- hybrid toxins include hybrid toxins, partially defective toxins, and modified toxins.
- Hybrid toxins are produced by new combinations of different domains of these proteins using recombinant techniques.
- Cry1Ab lacking a part Cry1Ab lacking a part of the amino acid sequence is known.
- the modified toxin one or more amino acids of the natural toxin are substituted.
- Examples of these toxins and recombinant plants capable of synthesizing these toxins include, for example, EP-A-0374753, WO93 / 07278, WO95 / 34656, EP-A-0427529, EP-A-451878, WO03 / 052073, etc. It is described in the patent literature.
- the toxins contained in these recombinant plants particularly confer resistance to Coleoptera, Diptera, and Lepidoptera pests.
- genetically modified plants that contain one or more insecticidal pest resistance genes and express one or more toxins are already known, and some are commercially available.
- these genetically modified plants include YieldGuard (registered trademark) (a corn variety that expresses Cry1Ab toxin), Yieldgard rootworm (registered trademark) (a corn variety that expresses Cry3Bb1 toxin), YieldGuard Plus (registered trademark) (a corn variety expressing Cry1Ab and Cry3Bb1 toxin), Herculex I (registered trademark) (phosphino for conferring resistance to Cry1Fa2 toxin and glufosinate Maize variety expressing tricine N-acetyltransferase (PAT), NuCOTN33B ⁇ registered trademark> (cotton variety expressing Cry1Ac toxin), Volga Bollgard I (registered trademark) (cotton varieties expressing Cry1Ac toxin), Volgard II (registered trademark) (
- the above “agricultural and horticultural plants” include those given the ability to produce an anti-pathogenic substance having a selective action using genetic recombination technology.
- anti-pathogenic substances examples include PR proteins (described in PRPs, EP-A-0392225); sodium channel inhibitors, calcium channel inhibitors (virus-produced KP1, KP4, KP6 toxins, etc.) Ion channel inhibitors; stilbene synthase; bibenzyl synthase; chitinase; glucanase; peptide antibiotics, heterocyclic antibiotics, protein factors involved in plant disease resistance (called plant disease resistance genes) And the like, which are produced by microorganisms such as those described in WO 03/000906).
- PR proteins described in PRPs, EP-A-0392225
- sodium channel inhibitors calcium channel inhibitors (virus-produced KP1, KP4, KP6 toxins, etc.) Ion channel inhibitors
- stilbene synthase bibenzyl synthase
- chitinase glucanase
- peptide antibiotics heterocyclic antibiotics
- protein factors involved in plant disease resistance called plant disease resistance genes
- the above “agricultural and horticultural plants” include crops to which useful traits such as oil component modification and amino acid content enhancing traits have been imparted using genetic recombination technology. Examples include VISTIVE ⁇ (R)> (low linolenic soybeans with reduced linolenic content) or high-lysine (high hill) corn (corn with increased lysine or oil content).
- the agrochemical composition of the present invention comprises the 6-acylpyridin-2-one derivative (pyridone derivative) of the present invention or a salt thereof, and an agriculturally acceptable carrier. Furthermore, the agrochemical composition of the present invention can contain additive components that are usually used in agrochemical formulations as necessary.
- a carrier such as a solid carrier or a liquid carrier, a surfactant, a binder or a tackifier, a thickener, a colorant, a spreading agent, a spreading agent, an antifreezing agent, an anti-caking agent, Examples include disintegrants and decomposition inhibitors.
- additive components may be used alone or in combination of two or more.
- the solid support examples include natural minerals such as quartz, clay, kaolinite, pyrophyllite, sericite, talc, bentonite, acid clay, attapulgite, zeolite, diatomaceous earth, and inorganic minerals such as calcium carbonate, ammonium sulfate, sodium sulfate, and potassium chloride.
- natural minerals such as quartz, clay, kaolinite, pyrophyllite, sericite, talc, bentonite, acid clay, attapulgite, zeolite, diatomaceous earth
- inorganic minerals such as calcium carbonate, ammonium sulfate, sodium sulfate, and potassium chloride.
- organic solid carriers such as salts, synthetic silicic acid, synthetic silicate, starch, cellulose and plant powder, and plastic carriers such as polyethylene, polypropylene and polyvinylidene chloride. These may be used alone or in combination of two or more.
- liquid carrier examples include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and butanol, and polyhydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and glycerin.
- monohydric alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and butanol
- polyhydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and glycerin.
- Alcohols such as propylene glycol ether, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl ether, dioxane, cellosolve, dipropyl ether, tetrahydrofuran, etc.
- Ethers normal paraffins, naphthenes, isoparaffins, kerosene, mineral hydrocarbons and other aliphatic hydrocarbons, benzene, toluene
- Aromatic hydrocarbons such as xylene, solvent naphtha and alkylnaphthalene, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, esters such as ethyl acetate, diisopropyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate and dimethyl adipate, Lactones such as ⁇ -butyrolactone, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-alkylpyrrolidinone, nitriles such as acetonitrile, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide And vegetable oils such as soybean oil, rapes
- the surfactant is not particularly limited, but is preferably one that gels in water or exhibits swelling properties, such as sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, sucrose fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, Polyoxyethylene resin acid ester, polyoxyethylene fatty acid diester, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene dialkylphenyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether formalin condensate, polyoxyethylene polyoxypropylene block Polymer, alkyl polyoxyethylene polypropylene block polymer ether, polyoxyethylene alkylamine, polyoxyethylene fatty acid polymer Polyoxyethylene fatty acid bisphenyl ether, polyalkylene benzyl phenyl ether, polyoxyalkylene styryl phenyl ether, acetylene diol, polyoxyalkylene-added acetylenic diol, polyoxyethylene
- surfactants may be used alone or in combination of two or more.
- binder and tackifier examples include carboxymethylcellulose and salts thereof, dextrin, water-soluble starch, xanthan gum, guar gum, sucrose, polyvinylpyrrolidone, gum arabic, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, sodium polyacrylate, and average molecular weight of 6000.
- examples include polyethylene glycol having a molecular weight of ⁇ 20,000, polyethylene oxide having an average molecular weight of 100,000 to 5,000,000, and natural phospholipids (for example, cephalic acid and lecithin).
- thickener examples include xanthan gum, guar gum, carboxymethylcellulose, polyvinylpyrrolidone, carboxyvinyl polymer, acrylic polymer, starch derivative, water-soluble polymer such as polysaccharide, high-purity bentonite, inorganic fine powder such as white carbon, etc. Is mentioned.
- the colorant examples include inorganic pigments such as iron oxide, titanium oxide and Prussian blue, organic dyes such as alizarin dyes, azo dyes and metal phthalocyanine dyes.
- the spreading agent examples include silicone surfactant, cellulose powder, dextrin, modified starch, polyaminocarboxylic acid chelate compound, cross-linked polyvinyl pyrrolidone, maleic acid and styrenes, methacrylic acid copolymer, polyhydric alcohol polymer, Examples thereof include half esters with dicarboxylic acid anhydrides and water-soluble salts of polystyrene sulfonic acid.
- the spreading agent examples include various surfactants such as sodium dialkylsulfosuccinate, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, paraffin, terpene, polyamide resin, polyacrylate, Examples include polyoxyethylene, wax, polyvinyl alkyl ether, alkylphenol formalin condensate, and synthetic resin emulsion.
- antifreezing agent examples include polyhydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, and glycerin.
- anti-caking agent examples include polysaccharides such as starch, alginic acid, mannose, and galactose, polyvinyl pyrrolidone, white carbon, ester gum, and petroleum resin.
- Disintegrants include, for example, sodium tripolyphosphate, sodium hexametaphosphate, metal stearate, cellulose powder, dextrin, methacrylic acid ester copolymer, polyvinylpyrrolidone, polyaminocarboxylic acid chelate compound, sulfonated styrene / isobutylene / maleic anhydride Examples include copolymers and starch / polyacrylonitrile graft copolymers.
- decomposition inhibitor examples include desiccants such as zeolite, quicklime and magnesium oxide, antioxidants such as phenols, amines, sulfurs and phosphates, and UV absorbers such as salicylic acid and benzophenone. It is done.
- preservative examples include potassium sorbate, 1,2-benzthiazolin-3-one and the like.
- the content ratio is usually 5 to 95% for the carrier, preferably 20 to 90%, and usually 0.1% for the surfactant, based on mass. -30%, preferably 0.5-10%, and other additives are selected in the range of 0.1-30%, preferably 0.5-10%.
- the agrochemical composition of the present invention is used by formulating it into any dosage form such as liquid, emulsion, wettable powder, powder, oil, granule wettable powder, flowable powder, granule, jumbo drug, suspoemulsion and the like. .
- the agrochemical composition of the present invention can be used by foliage application, soil application, water application, and the like.
- the agrochemical composition of the present invention, particularly the herbicide, is used in soil, particularly in upland fields for growing agricultural and horticultural plants or paddy field.
- the proportion of the active ingredient is appropriately selected as necessary, but in the case of powder or granule, it is 0.01 to 10% (weight), preferably 0.05 to 5 It is preferable to select from the range of% (weight). In the case of using an emulsion, a wettable powder, etc., it is appropriately selected from the range of 1 to 50% (weight), preferably 5 to 30% (weight). In the case of a flowable agent or the like, it is appropriately selected from the range of 1 to 40% (weight), preferably 5 to 30% (weight).
- the application rate of the agrochemical composition of the present invention varies depending on the type of compound used, target weeds, development tendency, environmental conditions, dosage form used, and the like.
- the active ingredient may be appropriately selected from the range of 1 to 50 kg, preferably 10 to 10 kg per hectare.
- a liquid form such as an emulsion, a wettable powder, a flowable agent, etc.
- it may be appropriately selected from the range of 0.1 to 50,000 ppm, preferably 10 to 10,000 ppm.
- the agrochemical composition of the present invention is excellent in herbicidal activity and is particularly useful as a herbicide.
- the agrochemical composition of the present invention includes at least one other agrochemical active ingredient such as other disease control component, insecticide component, acaricide component, fungicidal component, depending on the purpose of use.
- agrochemical active ingredient such as other disease control component, insecticide component, acaricide component, fungicidal component, depending on the purpose of use.
- Nematode component, synergist component, attractant component, repellent component, herbicide component, safener component, microbial pesticide component, plant growth regulator component, fertilizer, soil improver, etc., formulated, mixed or used together May be.
- the preparations of the individual components can be mixed and used at the time of application. Further, each of the individual component preparations may be used sequentially or may be applied after a few days. In the case of application after a certain number of days, the treatment may be performed with an interval of, for example, about 1 to 40 days, depending on other components used.
- the agrochemical composition of the present invention comprises at least one compound selected from 6-acylpyridin-2-one derivatives (pyridone derivatives) represented by the general formula [1] and salts thereof and other agrochemical active ingredients.
- a mixture of at least one selected from the above it is usually applied at a mass ratio of 100: 1 to 1: 100, preferably 20: 1 to 1:20, particularly 10: 1 to 1:10.
- Acetyl CoA carboxylase (ACCase) -inhibiting herbicide (A1-1) Aryloxyphenoxypropionic acid compounds: Clodinafop-propargyl, cyhalofop-butyl, dicloofop-methyl, diclohopop-methyl P-methyl, phenoxaprop-P-ethyl, fluazifop-butyl, fluazifop-P-butyl, haloxyfop, haloxyhop -Etoxyl (haloxyfop-etotyl) Haloxyfop-P, Metamifop, Propaquizafop, Quizalofop-ethyl, Quizalofop-P-ethyl, Quizalofop P.
- Imidazolinone compounds imazamethabenz-methyl, imazamox, imazapic (including salts with amines), imazapyr ) (Including salts such as isopropylamine), imazaquin, imazethapyr (B-2)
- Pyrimidinyloxybenzoic acid compounds bispyribac-sodium, pyribenzoxim, pyriftalid, pyriminobac-methyl, pyrithiobac-sodium , Pyrimisulfan (B-3)
- Sulfonylaminocarbonyltriazolinone compounds flucarbazone sodium salt (flucarbazone-sodium), thiencarbazone (including sodium salt, methyl ester, etc.), propoxycarbazone sodium salt (propoxycarbazone-sodium) , Procarbazone-sodium (B-4) Sulfonylurea compounds:
- Photosynthesis II herbicide 1 in Photosystem II Phenylcarbamate-type compounds: desmedipham, phenmedipham (C1-2) Pyridazinone compounds: chloridazon, brompyrazon (C1-3) Triazine-based compounds: ametrin, atrazine, cyanazine, desmethrin, dimethametryn, eglinazine-ethyl, prometon, promethrin , Propazine, simazine, simetryn, terbumeton, terbuthylazine, terbutryn, trietazine (C1-4) Triazinone compounds: metamitron, metribuzin (C1-5) Triazolinone compounds: amicarbazone (C1-6) Uracil compounds: Bromacil, Lenacil, terbacil C2.
- Photosynthesis II herbicide 2 in Photosystem II Amide compounds: pentanochlor, propanil (C2-2) Urea compounds: chlorbromuron, chlorotoluron, chloroxuron, dimefuron, diuron, ethidimuron, fenuron, fluometuron , Isoproturon, isoouron, isouron, linuron, metabenzthiazron, metrobrothron, metoxuron, monolinuron, neburon, siburon, siburon Tebuthiuron, metobenzuron C3.
- Photosynthesis II herbicide 3 in Photosystem II (C3-1) Benzothiazone compound: Bentazone (C3-2) Nitrile compounds: bromofenoxim, bromoxynil (including esters such as butyric acid, octanoic acid or heptanoic acid), ioxynil (C3-3) Phenylpyrazine herbicidal compounds: pyridafol, pyridate
- Phytoene desaturase (PDS) inhibitor herbicide F1-1) pyridazinone compound: norflurazon (F1-2) Pyrimidine carboxamide compounds: diflufenican, picolinafen (F1-3) Other compounds Beflubutamid, fluridone, flurochloridone, flurtamone F2.4-Hydroxyphenylpyruvate dioxygenase (HPPD) -inhibiting herbicide (F2-1) callistemon compound: mesotrione (F2-2) Isoxazole compounds: pyrasulfotole, isoxaflutole, isoxachlortole (F2-3) Pyrazole compounds: benzofenap, pyrazolynate, pyrazoloxyfen (F2-4) Triketone compounds: sulcotrione, tefuryltrion, tembotrione, pyrasulfotole, topramezone, bicyclopyrone F3.
- DHP Dihydropteroate
- I-1 Carbamate compound: asuram
- N Lipid biosynthesis (other than ACCase inhibition) herbicides
- benzofuran compounds benfuresate, etofumesate
- Halogenated carboxylic acid compounds dalapon, flupropanate, TCA (including salts such as sodium, calcium or ammonia)
- N-3 phosphorodithioate-based compound bensulide
- Thiocarbamate compounds butylate, cycloate, dimepiperate, EPTC, esprocarb, molinate, orbencarb, pebulate, prosulfo Carb (prosulfocarb), thiobencarb (thiobencarb), thiocarbazil (tiocarbazil), triate (tri-allate), vernalate (vernolate)
- P. Auxin transport-inhibiting herbicide Phthalamates compound: naptalam (including salts with sodium, etc.)
- Framprop-M including methyl, ethyl, isopropyl ester
- flamprop including methyl, ethyl, isopropyl ester
- chlorflurenol-methyl Cinmethylin cumyluron, daimuron, methyldymuron, difenzoquat, etobenzanid, fosamine, pyributicarb, oxadiclomephone ), AE-F-150944 (code number), aminocyclopyrachlor, cyanamide, heptamaloxyloglucan, indaziflam, triaziflam, quinoclamine, endothal disodium salt (endothal- disodium), phenisolum (pheniso) pham)
- [Plant growth regulating compound] 1-methylcyclopropene, 1-naphthylacetamide, 2,6-diisopropylnaphthalene, 4-CPA, benzylaminopurine, ansimidol ( ancymidol, aviglycine, carvone, chlormequat, cloprop, cloxyfonac, cloxyfonac-potassium, cyclanilide, cytokinin cytokinins daminodide, dikegulac, dimethipin, ethephon, etychlozate, flumetralin, flurenol, flurprimidol, forchlorfenidol forchlorfenuron), gibberellin acid, inabenfide, Indol acetic acid, indol butyric acid, maleic hydrazide, mefluidide, mepiquat chloride, decyl alcohol (n-decanol), paclo
- Nucleic acid biosynthesis inhibitors Acylalanine compounds: benalaxyl, benalaxyl-M, furalaxyl, metalaxyl, metalaxyl-M; Oxazolidinone compounds: oxadixyl; Butyrolactone compounds: clozylacon, ofurace; Hydroxy- (2-amino) pyrimidine compounds: bupirimate, dimethirimol, ethirimol; Isoxazole compounds: hymexazol; Isothiazolone compounds: octhilinone; Carboxylic acid compound: oxolinic acid
- benzimidazole compounds benomyl, carbendazim, fuberidazole, thiabendazole; Thiophanate compounds: thiophanate, thiophanate-methyl; N-phenylcarbamate compounds: dietofencarb; Toluamide compounds: zoxamide; Phenylurea compounds: pencicuron (pencycuron); Pyridinylmethylbenzamide compounds: fluopicolide
- Respiratory inhibitor Pyrimidineamine compounds diflumetorim; Carboxamide compounds: benodanil, flutolanil, mepronil, fluopyram, fenfuram, carboxin, oxycarboxin, thifluzamide, bixafen ), Furametpyr, isopyrazam, penflufen, penthiopyrad, sedaxane, boscalid; Methoxy acrylate compounds: azoxystrobin, enestroburin, picoxystrobin, pyraoxystrobin; Methoxycarbamate compounds: pyraclostrobin, pyrametostrobin; Oxyiminoacetate compounds: kresoxim-methyl, trifloxystrobin; Oxyiminocetoamide compounds: dimoxystrobin, metominostrobin, oryastrotrobin; Oxazolidinedione compounds: famoxadone; Dihydrodioxazine compounds: fluoxastrobin; Imid
- Anilinopyrimidine compounds cyprodinil, mepanipyrim, pyrimethanil; Enopyranuronic acid antibiotics: blasticidin-S, mildiomycin; Hexopyranosyl antibiotics: kasugamycin; Glucopyranosyl antibiotics: streptomycin; Tetracycline antibiotics: oxytetracycline
- Lipid and cell membrane synthesis inhibitors Phosphorothiolate compounds: edifenphos, iprobenfos, pyrazophos; Dithiolane-based compounds: isoprothiolane; Aromatic hydrocarbon compounds: biphenyl, chloroneb, dichloran, quintozene, tecnazene, tolclofos-methyl; 1,2,4-thiadiazole compounds: etridiazole; Carbamate compounds: iodocarb, propamocarb-hydrochloride, prothiocarb; Cinnamic amide compounds: dimethomorph, flumorph; Valinamide carbamate compounds: Benthiavalicarb-isopropyl, iprovalicarb, valifenalate; Mandelic acid amide compounds: mandipropamid; Bacillus butyris and bactericidal lipopeptide product: Bacillus subtilis (strain: QST 713)
- Piperazine compounds triforine; Pyridine compounds: pyrifenox; Pyrimidine compounds: fenarimol, nuarimol; Imidazole compounds: imazalil, oxpoconazole-fumarate, pefurazoate, prochloraz, triflumizole; Triazole compounds: azaconazole, bitertanol, bromuconazole, cyproconazole, difenoconazole, diniconazole, diniconazole-M, epiconazole (epoxiconazole), etaconazole, fenbuconazole, fluquinconazole, flusilazole, flutria fol, hexaconazole, imibenconazole , Ipconazole, metconazole, microbutanil, penconazole, propiconazole, prothioconazole, cimeconazole, tebuconazole, tetrac
- Glucan synthesis inhibitor glucopyranosyl antibiotics validamycin
- Peptidylpyridine nucleotide compound polyoxin
- Copper compounds cupric hydroxide, copper dioctanoate, basic copper oxychloride, copper sulfate, cuprous oxide (cuprous oxide), oxine-copper, Bordeaux mixture, copper nonyl phenol sulphonate;
- Sulfur compounds sulfur;
- Dithiocarbamate compounds ferbam, mancozeb, maneb, maneb, metiram, propineb, thiram, zineb, ziram, cufraneb ;
- Phthalimide compounds captan, folpet, captafol;
- Chloronitrile compounds chlorothalonil;
- Sulfamide compounds dichlorfluanid, tolylfluanid;
- Guanidine compounds guazatine, iminoctadine-albesilate, iminoctadine-triacetate, dodine;
- Other compounds anilazine, dithianon, cymoxanil, fosetyl (alminium
- Microorganisms and microbial products Agrobacterium radiobacter, Fermented product from Aspergillus spp., Bacillus spp., Harpin protein, Erwinia carotovora (Erwinia carotovora ), Fusarium oxysporum, Gliocladium spp., Laccase, Pseudomonas spp., Talaromyces spp., Trichoderma spp.), Extract from mushroom, Bacteriophage
- Other pesticidal active ingredients that may be mixed or used in combination with the compound of the present invention include known insecticides, acaricides, nematicides, synergists, but are not limited to these examples. is not.
- Acetylcholinesterase inhibitors (1A) Carbamate compounds: alanycarb, aldicarb, aldoxycarb, bendiocarb, benfuracarb, butocarboxim, butoxycarboxim, carbaryl (carbaryl), carbofuran, carbosulfan, ethiofencarb, fenobucarb, formetanate, furathiocarb, isoprocarb, methiocarb, methomyl , Metolcarb, oxamyl, pirimicarb, propoxur, thiodicarb, thiofanox, thiofanox, triazamate, trimethacarb, 3,5-xylyl methylcarbamate ( XMC), xylylcarb (1B) Organophosphorus compounds: acephate, azamethiphos, azinphos-ethyl, azinpho
- GABA receptor (chloride channel) inhibitors Cyclodiene organochlorine compounds: chlordane, endosulfan, gamma-BHC (gamma-BCH)
- Phenylpyrazole compounds acetoprol, ethiprole, fipronil, pyrafluprole, pyriprole, RZI-02-003 (code number)
- Agents that act on sodium channels (3A) pyrethroid compounds acrinathrin, allethrin (including d-cis-trans, d-trans), bifenthrin, bioallethrin, bioarethrin S -Cyclopentenyl (bioallethrin S-cyclopentenyl) bioresmethrin, cycloprothrin, cyfluthrin (including beta-), cyhalothrin (including gamma-, lambda-), cypermethrin (cypermethrin) ) [Including alpha-, beta-, theta-, zeta-], cyphenothrin [including (1R) -trans-isomers], deltamethrin, empentrin, esfenvalerate , Etofenprox, fenpropathrin, fenvalerate, flucythrinate, flumeto Flumethrin,
- Nicotinic Acetylcholine Receptor Agonist / Antagonist (4A) Neonicotinoid compounds: acetamiprid, clothianidin, dinotefuran, imidacloprid, nitenpyram, thiamethroprid, thiamethopridam ) (4B) Nicotine compounds: Nicotine-sulfate
- Nicotinic acetylcholine receptor allosteric activator Spinosyn compounds: spinetoram, spinosad
- Agents that activate chloride channels Abamectin, milbemycin compounds: Abamectin, emamectin benzoate, lepimectin, milbemectin, ivermectin, polynactins
- Tick growth regulators clofentezine, diflovidazin, hexythiazox, etoxazole
- BT agent Bacillus sphaericus, Bacillus thuringiensis subsp. Aizawai, Bacillus thuringiensis subsp. Israelensis, Bacillus thuringiensis subsp. Kurstaki, Bacillus thuringiensis subsp. Tenebrionis, Bt crop proteins (Cry1Ab, C2, mCry3A, Cry3Ab, Cry3Bb, Cry34 / 35Ab1), Bacillus popilliae, Bacillus subtillis
- Nicotinic acetylcholine channel blocker Nereistoxin compounds: bensultap, cartap, thiocyclam, thiosultap
- Chitin biosynthesis inhibitor type 0
- Benzoylurea compounds bistrifluron, chlorfluazuron, diflubenzuron, flucycloxuron, flufenoxuron, hexaflumuron, lufenuron ), Novaluron, noviflumuron, teflubenzuron, triflumuron, fluazuron
- Ecdysone agonist (promoting molting) Diacylhydrazine compounds: Chromafenozide, halofenozide, methoxyfenozide, tebufenozide
- Mitochondrial electron transport system (complex III) inhibitors Cyflumetofen, hydramethylnon, acequinocyl, fluacrypyrim, cyenopyrafen
- Mitochondrial electron transport system (complex I) inhibitors METI acaricides: fenazaquin, fenpyroximate, pyridaben, pyrimidifen, tebufenpyrad, tolfenpyrad Other: rotenone
- Lipid biosynthesis inhibitor Tetranic insecticide / acaricide: spirodiclofen, spiromesifen, spirotetramat
- Mitochondrial electron transport system (complex IV) inhibitors Aluminum phosphide, hydrogen phosphine, zinc phosphide, calcium cyanide
- Nerve inhibitor (Behavior unknown) bifenazate
- the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was concentrated under reduced pressure.
- the obtained residue was dissolved in 20 ml of acetonitrile, 0.58 g (5.75 mmol) of triethylamine and 0.04 g (0.38 mmol) of acetone cyanohydrin were added, and the mixture was heated to reflux for 30 minutes. After the solvent was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in water and washed with ethyl acetate. The aqueous layer was acidified with citric acid, extracted with chloroform, and dried over magnesium sulfate.
- the reaction solution was concentrated under reduced pressure to obtain 1-allyl-6-oxo-5-trifluoromethyl-1,6-dihydropyridine-2-carboxylic acid chloride as a short yellow oily substance.
- 1.22 g (9.10 mmol) of 1-methyl-4-hydroxypyrazole hydrochloride and 1.53 g (15.17 mmol) of triethylamine were stirred in 30 ml of dichloromethane under ice cooling.
- the 1-allyl-6-oxo-5-trifluoromethyl-1,6-dihydropyridine-2-carboxylic acid chloride prepared earlier was dissolved in 15 ml of dichloromethane and slowly added dropwise. The mixture was stirred for 30 minutes and extracted with chloroform.
- the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was concentrated under reduced pressure.
- the obtained residue was dissolved in 30 ml of acetonitrile, 0.92 g (9.10 mmol) of triethylamine and 0.05 g (0.61 mmol) of acetone cyanohydrin were added, and the mixture was heated to reflux for 30 minutes. After the solvent was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in water and washed with ethyl acetate. The aqueous layer was acidified with citric acid, extracted with chloroform, and dried over magnesium sulfate.
- Example 3 4- (1-allyl-6-oxo-5-trifluoromethyl-1,6-dihydropyridine-2-carbonyl) -1-methyl-pyrazol-5-yl propane-1-sulfonic acid ester Production (Compound No. IV-13) 1-Allyl-6- (5-hydroxy-1-methyl-pyrazole-4-carbonyl) -3-trifluoromethylpyridin-2 (1H) -one (0.71 g, 2.17 mmol) was dissolved in dichloromethane (20 ml) at room temperature. And stirred.
- Example 4 6- (2-Hydroxy-4-oxobicyclo [3.2.1] oct-2-enecarbonyl) -1-methyl-3-trifluoromethylpyridin-2 (1H) -one (compound Number III-1) 1.31 g (5.92 mmol) of 1-methyl-6-oxo-5-trifluoromethyl-1,6-dihydropyridine-2-carboxylic acid and 1.41 g (11.8 mmol) of thionyl chloride were added in 30 ml of toluene. Heated to reflux for hours.
- the reaction solution was concentrated under reduced pressure to obtain 1-methyl-6-oxo-5-trifluoromethyl-1,6-dihydropyridine-2-carboxylic acid chloride as a short yellow oily substance.
- 1.23 g (8.89 mmol) of bicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione and 0.90 g (8.89 mmol) of triethylamine were stirred in 30 ml of dichloromethane under ice cooling.
- the 1-methyl-6-oxo-5-trifluoromethyl-1,6-dihydropyridine-2-carboxylic acid chloride prepared earlier was dissolved in 15 ml of dichloromethane and slowly added dropwise.
- the mixture was extracted with chloroform, washed with water, and dried over magnesium sulfate.
- the crude crystals obtained by concentrating the solvent under reduced pressure were washed with methanol to obtain 0.51 g (7.82 mmol) of the desired product.
- the physical properties (melting point or properties) of the compound of the present invention represented by the general formula [1] synthesized according to the above examples are shown in the following Table 55 and Table 56 including the compounds described in the above Examples.
- surface shows melting
- the aqueous layer was acidified with 1N aqueous hydrochloric acid solution, extracted with ethyl acetate, and dried over magnesium sulfate. The solvent was concentrated under reduced pressure to obtain 2.66 g of 1-methyl-6-oxo-5-trifluoromethyl-1,6-dihydropyridine-2-carboxylic acid (99% yield).
- the reaction was stopped by adding an aqueous ammonium chloride solution and extracted with diethyl ether.
- the organic layer is washed with water and dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off to remove ethyl 2-allyloxy-3-trifluoromethylpyridine-4-carboxylate and 1-allyl-3-trifluoromethyl-2-pyridone-4-carboxyl.
- a mixture of ethyl acids was obtained. This mixture was dissolved in 50 ml of dichloromethane, 0.29 g (0.00113 mol) of bis (acetonitrile) palladium chloride was added thereto, and the mixture was stirred overnight at room temperature.
- the aqueous layer was acidified with 1N aqueous hydrochloric acid solution, extracted with ethyl acetate, and dried over magnesium sulfate.
- the solvent was concentrated under reduced pressure to obtain 1.50 g of 1-allyl-6-oxo-5-trifluoromethyl-1,6-dihydropyridine-2-carboxylic acid (quantitative yield).
- formulation examples relating to the herbicide of the present invention will be shown, but the active ingredient compounds, additives and addition ratios are not limited to these examples, and can be changed in a wide range.
- the part in a formulation example shows a mass part.
- Flowable agent 20 parts of the compound represented by the general formula [1] are dispersed in 69 parts of water, 4 parts of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate and 7 parts of ethylene glycol are added, and silicone AF-118N 200 ppm of Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. was added to the preparation, mixed with a high speed stirrer for 30 minutes, and then pulverized with a wet pulverizer to obtain a flowable agent.
- Emulsion 30 parts of the compound represented by the general formula [1] are mixed with 60 parts of an equal amount mixture of xylene and isophorone, surfactant polyoxyethylene sorbitan alkylate, polyoxyethylene alkylaryl polymer and alkylaryl sulfonate.
- An emulsion was obtained by adding 10 parts of the mixture and stirring them well.
- ⁇ Test Example 2 Herbicidal effect test by field soil treatment An 80 cm 2 plastic pot was filled with field soil, and seeds of Inobie, Enokorogusa, Ichibibi and Aogaeto were sown and covered with soil. The wettable powder prepared according to Formulation Example 1 was diluted with water, and 1000 liters per hectare was uniformly sprayed on the soil surface with a small sprayer so that the active ingredient was 1000 g per hectare. Then, it grew in the greenhouse and investigated the herbicidal effect according to the criteria described in Table 57 on the 21st day of treatment. The results are shown in Table 60 and Table 61 below.
- the compound of the present invention has excellent herbicidal activity.
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Abstract
本発明は、土壌又は茎葉に施用し、低薬量で十分な除草効果を示す化合物、及びそれを用いた農薬組成物、特に除草剤を提供する。 本発明は、下記一般式[1][式中、R1は、C1~C6アルキル基、C2~C6アルケニル基又はC1~C6ハロアルキル基等を表し、R2及びR3は、水素原子、ニトロ基、シアノ基又はC1~C6アルキル基等を表し、Wは、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含有してもよい5又は6員の環式基などを表す。] で示されるピリドン誘導体又はその塩、及びそれを含有してなる除草剤に関する。
Description
本発明は、新規な6-アシルピリジン-2-オン誘導体又はその塩、及びそれを有効成分とする除草剤に関する。
ピリドン誘導体については例えば、特許文献1及び非特許文献1等が知られている。
しかし、後記一般式(1)で表わされる6-アシルピリジン-2-オン誘導体が除草活性を有することは、文献上まったく知られていない。
WO2004/043924号公報
Helvetica Chimica Acta,1988年,第71巻,596頁
有用作物に対して使用される除草剤は、土壌又は茎葉に施用し、低薬量で十分な除草効果を示す薬剤であることが望まれている。また、化学物質の安全性、環境に対する影響への要求が高まってきており、より安全な農園芸用植物制御剤の開発が望まれている。本発明はこのような問題点に対処するためになされたものである。
本発明者らは、上記の目的を達成するために、これまで除草活性の知られていない6-アシルピリジン-2-オン誘導体(以下、ピリドン誘導体ともいう。)を合成し、その除草活性と有用性について鋭意検討した。その結果、本発明の6-アシルピリジン-2-オン誘導体を雑草又は雑草が生育する土壌に施用しておくことにより、長期間に亘ってすぐれた除草効果を示すことを見いだし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、次の(1)から(16)に関するものである。
(1)一般式[1]
(1)一般式[1]
[式中、R1は、C1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C8シクロアルキル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C2~C6ハロアルキニル基;C3~C8ハロシクロアルキル基;C3~C8ハロシクロアルキルC1~C6アルキル基;アミノC1~C6アルキル基;ニトロC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルアミノC1~C6アルキル基;ジ(C1~C6アルキル)アミノC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルスルホニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;ヒドロキシC1~C6アルキル基;フェニルC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基(該基のフェニルは、置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);C1~C6アルコキシC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C3~C8シクロアルキルオキシC1~C6アルキル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシC1~C6アルキル基;フェニルオキシC1~C6アルキル基(該基のフェニルは、置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);フェニルチオC1~C6アルキル基(該基のフェニルは、置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);フェニルスルフィニルC1~C6アルキル基(該基のフェニルは、置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);フェニルスルホニルC1~C6アルキル基(該基のフェニルは、置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);C1~C6ハロアルコキシC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC2~C6アルケニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC2~C6アルキニル基;C1~C6アルコキシイミノC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェノキシイミノC1~C6アルキル基;ジ(C1~C6アルコキシ)C1~C6アルキル基;(R31R32N-C=O)C1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニルオキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキリデンアミノオキシC1~C6アルキル基;ホルミルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルチオC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;シアノC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;シアノC1~C6アルキル基;C2~C6アルキリデンアミノ基;ジ(C1~C10アルキル)アミノC1~C6アルキリデンアミノ基;NR31R32基;C1~C6アルコキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6ハロアルコキシ基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基で置換されたC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基で置換されたC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。)を表し、
R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子;ニトロ基;シアノ基;C1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C8シクロアルキル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C2~C6ハロアルキニル基;C1~C6アルコキシ基;C1~C6ハロアルコキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C3~C8シクロアルキルオキシC1~C6アルキル基;ジ(C1~C6アルコキシ)C1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C6アルコキシイミノC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシイミノC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC2~C6アルケニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC2~C6アルキニル基;又はハロゲン原子を表し、
ここで、R2及びR3は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択されるヘテロ原子を含んでいてもよいC2~C5アルキレン鎖又は二重結合を1~2個含むC2~C5アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく、
Wは、次の式W-1から式W-5までの何れかを表し、
R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子;ニトロ基;シアノ基;C1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C8シクロアルキル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C2~C6ハロアルキニル基;C1~C6アルコキシ基;C1~C6ハロアルコキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C3~C8シクロアルキルオキシC1~C6アルキル基;ジ(C1~C6アルコキシ)C1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C6アルコキシイミノC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシイミノC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC2~C6アルケニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC2~C6アルキニル基;又はハロゲン原子を表し、
ここで、R2及びR3は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択されるヘテロ原子を含んでいてもよいC2~C5アルキレン鎖又は二重結合を1~2個含むC2~C5アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく、
Wは、次の式W-1から式W-5までの何れかを表し、
R4は、ヒドロキシル基;O-M+(M+はアルカリ金属カチオン又はアンモニウムカチオンを表す。);アミノ基;ハロゲン原子;シアノ基;イソチオシアネート基;イソシアネート基;ヒドロキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニルオキシ基;C1~C12アルコキシ基;C1~C6アルコキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;シアノメチレンオキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6アルキルカルボニルオキシ基;C1~C6ハロアルキルカルボニルオキシ基;C2~C6アルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6アルキニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルキニルカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルコキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C10アルキルスルホニルオキシ基;C1~C6ハロアルキルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニルオキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;C2~C6アルケニルチオ基;C2~C6アルケニルスルフィニル基;C2~C6アルケニルスルホニル基;C2~C6アルキニルチオ基;C2~C6アルキニルスルフィニル基;C2~C6アルキニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基;C1~C10アルキルアミノ基;ジ(C1~C10アルキル)アミノ基;C1~C6アルコキシカルボニルアミノ基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキルオキシ基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。)を表し、
A1は、次の一般式
A1は、次の一般式
で表される基を表し、
A2は、次の一般式
A2は、次の一般式
で表される基を表し、
A3は、次の一般式
A3は、次の一般式
で表される基を表し、
nは0、1、2を表し、
R5、R6、R8、R9、R35及びR36はそれぞれ独立して、水素原子又はC1~C6アルキル基を表し、
ここで、R5とR8はC2~C5アルキレン鎖又はC2~C5アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく、
また、R5とR35はC1~C5アルキレン鎖で結合して環を形成してもよく、
R7、R33及びR34はそれぞれ独立して、水素原子、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、又はC1~C6アルコキシ基を表し、
R14、R15、R16及びR17はそれぞれ独立して、水素原子、C1~C6アルキル基、C1~C6アルコキシ基、又は置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基を表し、
R18は、水素原子、C1~C6アルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、シアノメチル基、又はベンジル基を表し、
R20は、C1~C6アルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、C3~C8シクロアルキル基、又はC3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基を表し、
R21は、水素原子、C1~C6アルキル基、又はハロゲン原子を表し、
R23は、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C3~C8シクロアルキル基、C1~C10アルキルチオ基、C1~C10アルキルスルフィニル基、C1~C10アルキルスルホニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルチオ基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、又は置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基を表し、
R24は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6アルキル基、C3~C8シクロアルキル基、又はC1~C6アルコキシカルボニルアミノ基を表し、
R25は、C1~C6アルコキシカルボニル基、シアノ基、又はニトロ基を表し、
R31及びR32は、それぞれ独立して、水素原子;C1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C10アルキルチオカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;C1~C6ハロアルキル基;C3~C8シクロアルキル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C10アルキルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。)を表し、
ここで、R31及びR32はこれらが一緒になってこれらが結合している窒素原子と共に5~6員環を形成していてもよく、この際、この環中にR31及びR32が結合している窒素原子以外に硫黄原子及び/又は酸素原子が介在していても良い。
nは0、1、2を表し、
R5、R6、R8、R9、R35及びR36はそれぞれ独立して、水素原子又はC1~C6アルキル基を表し、
ここで、R5とR8はC2~C5アルキレン鎖又はC2~C5アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく、
また、R5とR35はC1~C5アルキレン鎖で結合して環を形成してもよく、
R7、R33及びR34はそれぞれ独立して、水素原子、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、又はC1~C6アルコキシ基を表し、
R14、R15、R16及びR17はそれぞれ独立して、水素原子、C1~C6アルキル基、C1~C6アルコキシ基、又は置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基を表し、
R18は、水素原子、C1~C6アルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、シアノメチル基、又はベンジル基を表し、
R20は、C1~C6アルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、C3~C8シクロアルキル基、又はC3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基を表し、
R21は、水素原子、C1~C6アルキル基、又はハロゲン原子を表し、
R23は、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C3~C8シクロアルキル基、C1~C10アルキルチオ基、C1~C10アルキルスルフィニル基、C1~C10アルキルスルホニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルチオ基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、又は置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基を表し、
R24は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6アルキル基、C3~C8シクロアルキル基、又はC1~C6アルコキシカルボニルアミノ基を表し、
R25は、C1~C6アルコキシカルボニル基、シアノ基、又はニトロ基を表し、
R31及びR32は、それぞれ独立して、水素原子;C1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C10アルキルチオカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;C1~C6ハロアルキル基;C3~C8シクロアルキル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C10アルキルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。)を表し、
ここで、R31及びR32はこれらが一緒になってこれらが結合している窒素原子と共に5~6員環を形成していてもよく、この際、この環中にR31及びR32が結合している窒素原子以外に硫黄原子及び/又は酸素原子が介在していても良い。
ここに、「置換基群α」は:
ハロゲン原子;ヒドロキシル基;C1~C6アルキル基;C3~C8シクロアルキル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C2~C6ハロアルキニル基;C3~C8ハロシクロアルキル基;C3~C8ハロシクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C1~C6アルキルカルボニルオキシ基;C1~C6ハロアルコキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;アミノ基;C1~C6アルキルカルボニルアミノ基;モノ(C1~C6アルキル)アミノ基;ジ(C1~C6アルキル)アミノ基;ヒドロキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルスルホニルC1~C6アルキル基;シアノC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルコキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6ハロアルコキシC1~C6アルコキシ基;シアノC1~C6アルコキシ基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C6アルコキシイミノC1~C6アルキル基;カルボキシル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;カルバモイル基;モノ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基;ジ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基;ニトロ基;シアノ基;フェニル基(該基のフェニル基は、1又は2~5個の同一もしくは異なる置換基βにより置換されてもよい。);酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環基(該基は、置換基群βから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);ならびに酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より任意に選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環オキシ基(該基は、置換基群βから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);からなる群を表し、
また、「置換基群β」は:
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C1~C6アルコキシ基、及びC1~C6ハロアルコキシ基からなる群である。]
で示されるピリドン誘導体又はその塩。
ハロゲン原子;ヒドロキシル基;C1~C6アルキル基;C3~C8シクロアルキル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C2~C6ハロアルキニル基;C3~C8ハロシクロアルキル基;C3~C8ハロシクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C1~C6アルキルカルボニルオキシ基;C1~C6ハロアルコキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;アミノ基;C1~C6アルキルカルボニルアミノ基;モノ(C1~C6アルキル)アミノ基;ジ(C1~C6アルキル)アミノ基;ヒドロキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルスルホニルC1~C6アルキル基;シアノC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルコキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6ハロアルコキシC1~C6アルコキシ基;シアノC1~C6アルコキシ基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C6アルコキシイミノC1~C6アルキル基;カルボキシル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;カルバモイル基;モノ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基;ジ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基;ニトロ基;シアノ基;フェニル基(該基のフェニル基は、1又は2~5個の同一もしくは異なる置換基βにより置換されてもよい。);酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環基(該基は、置換基群βから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);ならびに酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より任意に選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環オキシ基(該基は、置換基群βから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);からなる群を表し、
また、「置換基群β」は:
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C1~C6アルコキシ基、及びC1~C6ハロアルコキシ基からなる群である。]
で示されるピリドン誘導体又はその塩。
(2)前記一般式[1]のWが、W-1である前記(1)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(3)前記W-1におけるA1が[X1]であり、A2が[X3]であり、かつA3が[X9]である、前記(1)又は(2)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(4)前記[X1]におけるR5及びR6が水素原子若しくはC1~C6アルキル基であり、[X3]におけるR8及びR9が水素原子若しくはC1~C6アルキル基であり、かつ[X9]におけるR35及びR36が水素原子若しくはC1~C6アルキル基であるか、又はR5とR35が一緒になってC1~C5アルキレン鎖で結合して環を形成してもよい基である、前記(3)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(5)前記一般式[1]のWが、W-3である前記(1)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(6)前記W-3におけるR20がC1~C6アルキル基であり、かつR21が水素原子又はC1~C6アルキル基である前記(5)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(7)前記W-1、W-3におけるR4が、ヒドロキシル基、又はO-M+(M+はアルカリ金属カチオン又はアンモニウムカチオンを表す。)である前記(1)から(6)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩。
(8)前記一般式[1]におけるR1が、C1~C12アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C6シクロアルキル基;C3~C6シクロアルケニル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC1~C6アルキル基;及び同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は、置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよく、該複素環基が硫黄原子を含む場合は酸化されてスルホキシド又はスルホンとなってもよい。);同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよく、該複素環基が硫黄原子を含む場合は酸化されてスルホキシド又はスルホンとなってもよい。);からなる群から選ばれる基である、前記(1)から(7)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩。
(9)前記一般式[1]におけるR2が、ハロゲン原子;C1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;及び同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);からなる群から選ばれる基である前記(1)から(8)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩。
(10)前記(1)から(9)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩、及び農業上許容し得る担体を含有してなる農薬組成物。
(11)農薬組成物が、さらに界面活性剤を含有してなる前記(10)に記載の農薬組成物。
(12)前記(1)から(9)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩を活性成分として含有することを特徴とする除草剤。
(13)農園芸用植物を栽培する畑地又は水田における雑草に対して除草効力を有する除草剤である前記(12)に記載の除草剤。
(14)農園芸用植物が、育種法又は遺伝子組換え技術により耐性を付与された農園芸用植物である前記(13)に記載の除草剤。
(15)前記(12)から(14)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩を含有してなる除草剤の有効量を散布して土壌における雑草を除草する方法。
(16)土壌が、農地である前記(15)に記載の方法。
(3)前記W-1におけるA1が[X1]であり、A2が[X3]であり、かつA3が[X9]である、前記(1)又は(2)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(4)前記[X1]におけるR5及びR6が水素原子若しくはC1~C6アルキル基であり、[X3]におけるR8及びR9が水素原子若しくはC1~C6アルキル基であり、かつ[X9]におけるR35及びR36が水素原子若しくはC1~C6アルキル基であるか、又はR5とR35が一緒になってC1~C5アルキレン鎖で結合して環を形成してもよい基である、前記(3)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(5)前記一般式[1]のWが、W-3である前記(1)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(6)前記W-3におけるR20がC1~C6アルキル基であり、かつR21が水素原子又はC1~C6アルキル基である前記(5)に記載のピリドン誘導体又はその塩。
(7)前記W-1、W-3におけるR4が、ヒドロキシル基、又はO-M+(M+はアルカリ金属カチオン又はアンモニウムカチオンを表す。)である前記(1)から(6)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩。
(8)前記一般式[1]におけるR1が、C1~C12アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C6シクロアルキル基;C3~C6シクロアルケニル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC1~C6アルキル基;及び同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は、置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよく、該複素環基が硫黄原子を含む場合は酸化されてスルホキシド又はスルホンとなってもよい。);同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよく、該複素環基が硫黄原子を含む場合は酸化されてスルホキシド又はスルホンとなってもよい。);からなる群から選ばれる基である、前記(1)から(7)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩。
(9)前記一般式[1]におけるR2が、ハロゲン原子;C1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;及び同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);からなる群から選ばれる基である前記(1)から(8)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩。
(10)前記(1)から(9)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩、及び農業上許容し得る担体を含有してなる農薬組成物。
(11)農薬組成物が、さらに界面活性剤を含有してなる前記(10)に記載の農薬組成物。
(12)前記(1)から(9)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩を活性成分として含有することを特徴とする除草剤。
(13)農園芸用植物を栽培する畑地又は水田における雑草に対して除草効力を有する除草剤である前記(12)に記載の除草剤。
(14)農園芸用植物が、育種法又は遺伝子組換え技術により耐性を付与された農園芸用植物である前記(13)に記載の除草剤。
(15)前記(12)から(14)のいずれかに記載のピリドン誘導体又はその塩を含有してなる除草剤の有効量を散布して土壌における雑草を除草する方法。
(16)土壌が、農地である前記(15)に記載の方法。
本発明は、雑草を効果的に防除できる新規な一般式[1]で表される6-アシルピリジン-2-オン誘導体又はその塩を提供する。本発明の6-アシルピリジン-2-オン誘導体又はその塩は、特に畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、カミツレ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、ブタクサ、ヒナゲシ、アサガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生及び1年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。また、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草を防除することもできる。
また、本発明は有用作物及び有用植物に対する安全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、ソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ等に対して高い安全性を示す。
したがって、本発明は除草剤として極めて優れた効果を有する農薬組成物を提供する。
ここで、本明細書に記載された記号及び用語について説明する。
ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。
C1~C6等の表記は、これに続く置換基の炭素数が、例えば、この場合では1~6であることを示している。
C1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が1~6の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、1-エチルプロピル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、ネオペンチル、n-へキシル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-メチルプロピル等の基をあげることができる。
C1~C10アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が1~10の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えば上記C1~C6アルキル基の例示に加え、n-ヘプチル、1-メチルヘキシル、5-メチルヘキシル、1,1-ジメチルペンチル、2,2-ジメチルペンチル、4,4-ジメチルペンチル、1-エチルペンチル、2-エチルペンチル、1,1,3-トリメチルブチル、1,2,2-トリメチルブチル、1,3,3-トリメチルブチル、2,2,3-トリメチルブチル、2,3,3-トリメチルブチル、1-プロピルブチル、1,1,2,2-テトラメチルプロピル、n-オクチル、1-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、2-エチルヘキシル、5,5-ジメチルヘキシル、2,4,4-トリメチルペンチル、1-エチル-1-メチルペンチル、n-ノニル、1-メチルオクチル、2-メチルオクチル、3-メチルオクチル、7-メチルオクチル、1-エチルヘプチル、1,1-ジメチルヘプチル、6,6-ジメチルヘプチル、n-デシル、1-メチルノニル、2-メチルノニル、6-メチルノニル、1-エチルオクチル、1-プロピルヘプチル、n-ノニル、n-デシル等の基をあげることができる。
C3~C8シクロアルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が3~8のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシル等の基をあげることができる。
C3~C8ハロシクロアルキル基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分及びハロゲン原子が上記の意味であるハロゲン原子1~5個、好ましくは1~3により置換された炭素数が3~8のシクロアルキル基を示し、2,2-ジフルオロシクロプロピル、2,2-ジクロロシクロプロピル等の基を挙げることができる。
C3~C8ハロシクロアルキル基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分及びハロゲン原子が上記の意味であるハロゲン原子1~5個、好ましくは1~3により置換された炭素数が3~8のシクロアルキル基を示し、2,2-ジフルオロシクロプロピル、2,2-ジクロロシクロプロピル等の基を挙げることができる。
C3~C8ハロシクロアルキルC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分、アルキル部分及びハロゲン原子が上記の意味であるハロゲン原子1~5個、好ましくは1~3により置換された炭素数が3~8のシクロアルキル基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、2,2-ジフルオロシクロプロピルメチル、2,2-ジクロロシクロプロピルメチル等の基を挙げることができる。
ヒドロキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有する、ヒドロキシル基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-ヒドロキシエチル、3-ヒドロキシプロピル等の基を挙げることができる。
アミノC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有する、アミノ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-アミノエチル、3-アミノプロピル等の基を挙げることができる。
アミノC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有する、アミノ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-アミノエチル、3-アミノプロピル等の基を挙げることができる。
ニトロC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味であるニトロ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、ニトロメチル、2-ニトロエチル等の基を挙げることができる。
C1~C6ハロアルキル基とは、ハロゲン原子によって置換された、炭素数が1~6の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばフルオロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル、2-フルオロエチル、1-クロロエチル、2-クロロエチル、1-ブロモエチル、2-ブロモエチル、2,2-ジフルオロエチル、1,2-ジクロロエチル、2,2-ジクロロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、1,1,2,2-テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、2-ブロモ-2-クロロエチル、2-クロロ-1,1,2,2-テトラフルオロエチル、1-クロロ-1,2,2,2-テトラフルオロエチル、1-クロロプロピル、2-クロロプロピル、3-クロロプロピル、2-ブロモプロピル、3-ブロモプロピル、2-ブロモ-1-メチルエチル、3-ヨードプロピル、2,3-ジクロロプロピル、2,3-ジブロモプロピル、3,3,3-トリフルオロプロピル、3,3,3-トリクロロプロピル、3-ブロモ-3,3-ジフルオロプロピル、3,3-ジクロロ-3-フルオロプロピル、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル、1-ブロモ-3,3,3-トリフルオロプロピル、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル、2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエチル、ヘプタフルオロプロピル、1,2,2,2-テトラフルオロ-1-トリフルオロメチルエチル、2,3-ジクロロ-1,1,2,3,3-ペンタフルオロプロピル、2-クロロブチル、3-クロロブチル、4-クロロブチル、2-クロロ-1,1-ジメチルエチル、4-ブロモブチル、3-ブロモ-2-メチルプロピル、2-ブロモ-1,1-ジメチルエチル、2,2-ジクロロ-1,1-ジメチルエチル、2-クロロ-1-クロロメチル-2-メチルエチル、4,4,4-トリフルオロブチル、3,3,3-トリフルオロ-1-メチルプロピル、3,3,3-トリフルオロ-2-メチルプロピル、2,3,4-トリクロロブチル、2,2,2-トリクロロ-1,1-ジメチルエチル、4-クロロ-4,4-ジフルオロブチル、4,4-ジクロロ-4-フルオロブチル、4-ブロモ-4,4-ジフルオロブチル、2,4-ジブロモ-4,4-ジフルオロブチル、3,4-ジクロロ-3,4,4-トリフルオロブチル、3,3-ジクロロ-4,4,4-トリフルオロブチル、4-ブロモ-3,3,4,4-テトラフルオロブチル、4-ブロモ-3-クロロ-3,4,4-トリフルオロブチル、2,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロブチル、2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロブチル、2,2,2-トリフルオロ-1-メチル-1-トリフルオロメチルエチル、3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチルプロピル、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル、2,3,3,3-テトラフルオロ-2-トリフルオロメチルプロピル、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル、ノナフルオロブチル、4-クロロ-1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル、5-フルオロペンチル、5-クロロペンチル、5,5-ジフルオロペンチル、5,5-ジクロロペンチル、5,5,5-トリフルオロペンチル、6,6,6-トリフルオロヘキシル又は5,5,6,6,6-ペンタフルオロヘキシル等の基をあげることができる。
C2~C6アルケニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が2~6の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル、1-プロペニル、イソプロペニル、2-プロペニル、1-ブテニル、1-メチル-1-プロペニル、2-ブテニル、1-メチル-2-プロペニル、3-ブテニル、2-メチル-1-プロペニル、2-メチル-2-プロペニル、1,3-ブタジエニル、1-ペンテニル、1-エチル-2-プロペニル、2-ペンテニル、1-メチル-1-ブテニル、3-ペンテニル、1-メチル-2-ブテニル、4-ペンテニル、1-メチル-3-ブテニル、3-メチル-1-ブテニル、1,2-ジメチル-2-プロペニル、1,1-ジメチル-2-プロペニル、2-メチル-2-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1,2-ジメチル-1-プロペニル、2-メチル-3-ブテニル、3-メチル-3-ブテニル、1,3-ペンタジエニル、1-ビニル-2-プロペニル、1-ヘキセニル、1-プロピル-2-プロペニル、2-へキセニル、1-メチル-1-ペンテニル、1-エチル-2-ブテニル、3-ヘキセニル、4-ヘキセニル、5-ヘキセニル、1-メチル-4-ペンテニル、1-エチル-3-ブテニル、1-(イソブチル)ビニル、1-エチル-1-メチル-2-プロペニル、1-エチル-2-メチル-2-プロペニル、1-(イソプロピル)-2-プロペニル、2-メチル-2-ペンテニル、3-メチル-3-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1,3-ジメチル-2-ブテニル、1,1-ジメチル-3-ブテニル、3-メチル-4-ペンテニル、4-メチル-4-ペンテニル、1,2-ジメチル-3-ブテニル、1,3-ジメチル-3-ブテニル、1,1,2-トリメチル-2-プロペニル、1,5-ヘキサジエニル、1-ビニル-3-ブテニル又は2,4-ヘキサジエニル等の基をあげることができる。
C2~C6アルキニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が2~6の直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばエチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、1-メチル-2-プロピニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、1-エチル-2-プロピニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、1-メチル-2-ブチニル、4-ペンチニル、1-メチル-3-ブチニル、2-メチル-3-ブチニル、1-ヘキシニル、1-(n-プロピル)-2-プロピニル、2-ヘキシニル、1-エチル-2-ブチニル、3-ヘキシニル、1-メチル-2-ペンチニル、1-メチル-3-ペンチニル、4-メチル-1-ペンチニル、3-メチル-1-ペンチニル、5-ヘキシニル、1-エチル-3-ブチニル、1-エチル-1-メチル-2-プロピニル、1-(イソプロピル)-2-プロピニル、1,1-ジメチル-2-ブチニル又は2,2-ジメチル-3-ブチニル等の基をあげることができる。
C2~C6ハロアルケニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子1~4で置換されている炭素数が2~6の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば2-クロロビニル、2-ブロモビニル、2-ヨードビニル、3-クロロ-2-プロペニル、3-ブロモ-2-プロペニル、1-クロロメチルビニル、2-ブロモ-1-メチルビニル、1-トリフルオロメチルビニル、3,3,3-トリクロロ-1-プロペニル、3-ブロモ-3,3-ジフルオロ-1-プロペニル、2,3,3,3-テトラクロロ-1-プロペニル、1-トリフルオロメチル-2,2-ジフルオロビニル、2-クロロ-2-プロペニル、3,3-ジフルオロ-2-プロペニル、2,3,3-トリクロロ-2-プロペニル、4-ブロモ-3-クロロ-3,4,4-トリフルオロ-1-ブテニル、1-ブロモメチル-2-プロペニル、3-クロロ-2-ブテニル、4,4,4-トリフルオロ-2-ブテニル、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブテニル、3-ブロモ-3-ブテニル、3,4,4-トリフルオロ-3-ブテニル、3,4,4-トリブロモ-3-ブテニル、3-ブロモ-2-メチル-2-プロペニル、3,3-ジフルオロ-2-メチル-2-プロペニル、3,3,3-トリフルオロ-2-メチルプロペニル、3-クロロ-4,4,4-トリフルオロ-2-ブテニル、3,3,3-トリフルオロ-1-メチル-1-プロペニル、3,4,4-トリフルオロ-1,3-ブタジエニル、3,4-ジブロモ-1-ペンテニル、4,4-ジフルオロ-3-メチル-3-ブテニル、3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロ-1-ペンテニル、5,5-ジフルオロ-4-ペンテニル、4,5,5-トリフルオロ-4-ペンテニル、3,4,4,4-テトラフルオロ-3-トリフルオロメチル-1-ブテニル、4,4,4-トリフルオロメチル-3-メチル-2-ブテニル、3,5,5-トリフルオロ-2,4-ペンタジエニル、4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-2-ヘキセニル、3,4,4,5,5,5-ヘキサフルオロ-3-トリフルオロメチル-1-ペンテニル、4,5,5,5-テトラフルオロ-4-トリフルオロメチル-2-ペンテニル又は5-ブロモ-4,5,5-トリフルオロ-4-トリフルオロメチル-2-ペンテニル等をあげることができる。
C2~C6ハロアルキニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子1~4で置換されている炭素数が2~6の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えば、3-クロロ-2-プロピニル、3-ブロモ-2-プロピニル、3-ヨード-2-プロピニル、3-クロロ-1-プロピニル、5-クロロ-4-ペンチニル等をあげることができる。
C1~C6アルコキシ基とは、アルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6の(アルキル)-O-基を示し、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ又はヘキシルオキシ等の基をあげることができる。
C1~C6ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が前記の意味を有する、同一又は相異なるハロゲン原子1~13で置換されている炭素数が1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル-O-基を示し、例えばクロロメトキシ、ジフルオロメトキシ、クロロジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ又は2,2,2-トリフルオロエトキシ等の基をあげることができる。
C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とは、アルキル部分及びアルコキシ部分が前記の意味を有する、炭素数が1~6のアルコキシにより置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばメトキシメチル、エトキシメチル、イソプロポキシメチル、ペンチルオキシメチル、メトキシエチル又はブトキシエチル等の基をあげることができる。
C1~C6アルコキシC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とは、アルキル部分及びアルコキシ部分が前記の意味を有する、炭素数が1~6のアルコキシにより置換された炭素数が1~6のアルコキシにより置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-(2-メトキシエトキシ)エチル又は2-(2-エトキシエトキシ)エチル等の基をあげることができる。
フェニルC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びアルコキシ部分が上記の意味である、フェニルにより置換された炭素数が1~6のアルコキシ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばベンジルオキシメチル又はベンジルオキシエチル等の基を挙げることができる。
C1~C6ハロアルコキシC1~C6アルキル基とは、ハロアルコキシ部分及びアルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6のハロアルコキシにより置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばクロロメトキシメトキシ、ジフルオロメトキシメトキシ、クロロジフルオロメトキシメトキシ、トリフルオロメトキシメトキシ又は2,2,2-トリフルオロエトキシメトキシ等の基をあげることができる。
C1~C6ハロアルコキシC1~C6アルコキシ基とは、特に限定しない限り、ハロアルコキシ部分及びアルコキシ部分が前記の意味を有する、炭素数が1~6のハロアルコキシ基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基を示し、例えばクロロメトキシメトキシ、ジフルオロメトキシメトキシ、クロロジフルオロメトキシメトキシ、トリフルオロメトキシメトキシ又は2,2,2-トリフルオロエトキシメトキシ等の基を挙げることができる。
C3~C8シクロアルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分が上記の意味である炭素数が3~8の(シクロアルキル)-O-基を示し、例えばシクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ又はシクロヘキシルオキシ等の基をあげることができる。
C3~C8シクロアルキルオキシC1~C6アルキル基とは、アルキル部分及びシクロアルキル部分が上記の意味である炭素数が3~8の(シクロアルキル)-O-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルオキシメチル、シクロブチルオキシメチル、シクロペンチルオキシメチル又はシクロヘキシルオキシメチル等の基をあげることができる。
C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分及びアルキル部分が上記の意味である炭素数が3~8のシクロアルキルにより置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル、1-シクロプロピルエチル、2-シクロプロピルエチル、1-シクロプロピルプロピル、2-シクロプロピルプロピル、3-シクロプロピルプロピル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル又はシクロヘキシルメチル等の基をあげることができる。
C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分及びアルキル部分が上記の意味である炭素数が3~8のシクロアルキルにより置換された炭素数が1~6の(アルキル)-O-基を示し、例えばシクロプロピルメトキシ、1-シクロプロピルエトキシ、2-シクロプロピルエトキシ、1-シクロプロピルプロポキシ、2-シクロプロピルプロポキシ、3-シクロプロピルプロポキシ、シクロブチルメトキシ、シクロペンチルメトキシ又はシクロヘキシルメトキシ等の基をあげることができる。
C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分、アルコキシ部分及びシクロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が3~8のシクロアルキル基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチルオキシメチル、シクロブチルメチルオキシメチル、シクロペンチルメチルオキシメチル又はシクロヘキシルメチルオキシメチル等の基を挙げることができる。
(R31R32N-C=O)C1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味であるR31R32N-(C=O)により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、N、N-ジメチルアミノカルボニルメチル、N、N-ジメチルアミノカルボニルエチル、N-メチル-N-エチルアミノカルボニルメチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルコキシ部分及びアルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6のアルコキシカルボニル基で置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-メトキシ-2-オキソエチル、2-エトキシ-2-オキソエチル、2-tert-ブトキシ-2-オキソエチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルキルカルボニルC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキルカルボニル部分、アルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6のアルキルカルボニル基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-オキソプロピル、3-オキソプロピル、2-オキソブチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルキルカルボニルオキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6の(アルキル)-C(=O)O-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばアセトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、イソプロピオニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルキリデンアミノオキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキリデン部分及びアルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキリデン)=N-O-により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばメチレンアミノオキシメチル、2-(エチリデンアミノオキシ)エチル、2-(イソプロピリデンアミノオキシ)エチル等の基を挙げることができる。
C2~C6アルケニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルケニル)-O-基を示し、例えば2-プロペニルオキシ等をあげることができる。
C2~C6アルキニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルキニル)-O-基を示し、例えば2-プロピニルオキシ等をあげることができる。
フェニルオキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である、(フェニル)-O-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばフェノキシメチル、2-フェノキシエチル、3-フェノキシプロピル等の基を挙げることができる。
フェニルチオC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である、(フェニル)-S-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばフェニルチオメチル、2-フェニルチオエチル、3-フェニルチオプロピル等の基を挙げることができる。
フェニルスルフィニルC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である、(フェニル)-SO-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばフェニルスルフィニルメチル、2-フェニルスルフィニルエチル、3-フェニルスルフィニルプロピル等の基を挙げることができる。
フェニルスルホニルC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である、(フェニル)-SO2-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-フェニルスルホニルエチル、3-フェニルスルホニルプロピル、4-フェニルスルホニルブチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルコキシイミノ基とは、特に限定しない限り、アルコキシ部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルコキシ)-N=基を示し、例えばメトキシイミノ又はエトキシイミノ等をあげることができる。
フェノキシイミノ基とは、特に限定しない限り、(置換)(フェノキシ)-N=基を示す。
C1~C6アルコキシイミノC1~C6アルキル基とは、アルコキシイミノ部分及びアルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6のアルコキシイミノ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばメトキシイミノメチル又はエトキシイミノメチル等をあげることができる。
フェノキシイミノC1~C6アルキル基とは、フェノキシイミノ部分及びアルキル部分が上記の意味であるフェノキシイミノ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばフェノキシイミノメチル等をあげることができる。
ジ(C1~C6アルコキシ)C1~C6アルキル基とは、炭素数が1~6のアルコキシ基でジ置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば(2,2-ジメトキシ)エチル、(3,3-ジメトキシ)プロピル、(2,2-ジエトキシ)エチル基、(3,3-ジエトキシ)プロピル等をあげることができる。
ホルミルC1~C6アルキル基とは、アルキル部分が上記の意味である、ホルミル基で置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば(2-ホルミル)エチル、(3-ホルミル)プロピル等をあげることができる。
C1~C6アルキルチオ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)-S-基を示し、例えばメチルチオ、エチルチオ、n-プロピルチオ、イソプロピルチオ等をあげることができる。
C1~C10アルキルチオ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~10の(アルキル)-S-基を示し、例えば上記のC1~C6アルキルチオ基に加え、n-ヘプチルチオ、n-オクチルチオ、n-ノニルチオ、n-デシルチオ等をあげることができる。
C1~C6アルキルスルフィニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)-SO-基を示し、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n-プロピルスルフィニル又はイソプロピルスルフィニル等をあげることができる。
C1~C10アルキルスルフィニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~10の(アルキル)-S-基を示し、例えば上記のC1~C6アルキルスルフィニル基に加え、n-ヘプチルスルフィニル、n-オクチルスルフィニル、n-ノニルスルフィニル、n-デシルスルフィニル等をあげることができる。
C1~C6アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)-SO2-基を示し、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスルホニル又はイソプロピルスルホニル等をあげることができる。
C1~C10アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~10の(アルキル)-S-基を示し、例えば上記のC1~C6アルキルスルホニル基に加え、n-ヘプチルスルホニル、n-オクチルスルホニル、n-ノニルスルホニル、n-デシルスルホニル等をあげることができる。
C2~C6アルケニルチオ基とは、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルケニル)-S-基を示し、例えばアリルチオ等の基を挙げることができる。
C2~C6アルケニルスルフィニル基とは、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が3~6の(アルケニル)-SO-基を示し、例えばアリルスルフィニル等の基を挙げることができる。
C2~C6アルケニルスルホニル基とは、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルケニル)-SO2-基を示し、例えばアリルスルホニル等の基を挙げることができる。
C2~C6アルキニルチオ基とは、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルキニル)-S-基を示し、例えば2-プロピニルチオ等の基を挙げることができる。
C2~C6アルキニルスルフィニル基とは、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルキニル)-SO-基を示し、例えば2-プロピニルスルフィニル等の基を挙げることができる。
C2~C6アルキニルスルホニル基とは、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルキニル)-SO2-基を示し、例えば2-プロピニルスルホニル等の基を挙げることができる。
C1~C10アルキルスルホニルオキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~10の(アルキル)SO2-O-基を示し、例えばメチルスルホニルオキシ又はエチルスルホニルオキシ等をあげることができる。
C1~C6アルキルチオC1~C6アルキル基とは、アルキル部分及びアルキルチオ部分が前記の意味を有する炭素数が1~6のアルキルチオ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばメチルチオメチル又はエチルチオメチル等をあげることができる。
C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルキル基とは、アルキル部分及びアルキルスルフィニル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6のアルキルスルフィニル基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばメチルスルフィニルメチル又はエチルスルフィニルメチル等をあげることができる。
C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルキル基とは、アルキル部分及びアルキルスルホニル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6のアルキルスルホニル基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばメチルスルホニルメチル又はエチルスルホニルメチル等をあげることができる。
C1~C6アルコキシC1~C6アルコキシ基とは、アルコキシ部分が前記の意味を有する、炭素数が1~6のアルコキシにより置換された炭素数が1~6のアルコキシ基を示し、例えば、メトキシメトキシ、エトキシメトキシ、2-メトキシエトキシ、2-エトキシエトキシ等の基を挙げることができる。
C1~C6ハロアルキルチオC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びハロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が1~6の(ハロアルキル)-S-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば、ジフルオロメチルチオメチル、トリフルオロメチルチオメチル等の基を挙げることができる。
C1~C6ハロアルキルスルフィニルC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びハロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が1~6の(ハロアルキル)-SO-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばジフルオロメチルスルフィニルメチル、トリフルオロメチルスルフィニルメチル等の基を挙げることができる。
C1~C6ハロアルキルスルホニルC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキル部分及びハロアルキル部分が上記の意味である、炭素数が1~6の(ハロアルキル)-SO2-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば、ジフルオロメチルスルホニルメチル、トリフルオロメチルスルホニルメチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルキルチオC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキルチオ部分、アルコキシ部分及びアルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が1~6のアルキルチオ基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-メチルチオエトキシメチル、2-エチルチオエトキシメチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキルスルフィニル部分、アルコキシ部分及びアルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が1~6のアルキルスルフィニル基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-メチルスルフィニルエトキシメチル、2-エチルスルフィニルエトキシメチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルキルスルホニル部分、アルコキシ部分及びアルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が1~6のアルキルスルホニル基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-メチルスルホニルエトキシメチル、2-エチルスルホニルエトキシメチル等の基を挙げることができる。
C1~C6アルキルカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)-C(=O)-基を示し、例えばアセチル又はプロピオニル等をあげることができる。
C1~C6アルキルカルボニルオキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)-C(=O)-O-基を示し、例えばアセトキシ又はプロピオニルオキシ等をあげることができる。
C1~C6ハロアルキルカルボニルオキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(ハロアルキル)-C(=O)-O-基を示し、例えばクロロメチルカルボニルオキシ、ジフルオロメチルカルボニルオキシ、クロロジフルオロメチルカルボニルオキシ、トリフルオロメチルカルボニルオキシ又は2,2,2-トリフルオロエチルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
C2~C6アルケニルカルボニルオキシ基とは、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルケニル)-C(=O)-O-基を示し、例えば、1-プロペニルカルボニルオキシ、2-プロペニルカルボニルオキシ、1-ブテニルカルボニルオキシ、1-メチル-1-プロペニルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
C2~C6ハロアルケニルカルボニルオキシ基とは、ハロアルケニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(ハロアルケニル)-C(=O)-O-基を示し、例えば、3-クロロ-2-プロペニルカルボニルオキシ、3-ブロモ-2-プロペニルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
C2~C6アルキニルカルボニルオキシ基とは、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(アルキニル)-C(=O)-O-基を示し、例えば、1-プロピニルカルボニルオキシ、2-プロピニルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
C2~C6ハロアルキニルカルボニルオキシ基とは、ハロアルキニル部分が上記の意味である炭素数が2~6の(ハロアルキニル)-C(=O)-O-基を示し、例えば、3-クロロ-1-プロピニルカルボニルオキシ、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニルカルボニルオキシ等の基をあげることができる。
C2~C6アルキリデンアミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~5のアルキル-CH=N-基を示し、例えば、エチリデン又はプロピリデン等の基をあげることができる。
ジ(C1~C10アルキル)アミノC1~C6アルキリデンアミノ基とは、アルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~10のアルキル基でジ置換されたアミノ基により置換された炭素数が1~6のアルキリデン基で置換されたアミノ基を示し、例えば、ジメチルアミノメチリデンアミノ基又はジエチルアミノメチリデンアミノ基等の基をあげることができる。
C1~C10アルキルアミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~10の(アルキル)-NH-基を示し、例えばメチルアミノ又はエチルアミノ等をあげることができる。
ジ(C1~C10アルキル)アミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である(アルキル)2N-基を示し、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジプロピルアミノ又はジブチルアミノ等をあげることができる。
C1~C6アルキルアミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)-NH-基を示し、例えばメチルアミノ、エチルアミノ等の基を挙げることができる。
ジ(C1~C6アルキル)アミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)2N-基を示し、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ等の基を挙げることができる。
C1~C6アルキルアミノC1~C6アルキル基とは、アルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6のアルキルアミノ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばN-メチルアミノメチル、N-メチルアミノエチル等をあげることができる。
ジ(C1~C6アルキル)アミノC1~C6アルキル基とは、アルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6の(アルキル)2N-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばN、N-ジメチルアミノメチル、N、N-ジメチルアミノエチル等をあげることができる。
C1~C6アルコキシカルボニルアミノ基とは、アルコキシ部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルコキシ)-C(=O)-基で置換されたアミノ基を示し、例えばメトキシカルボニルアミノ又はエトキシカルボニルアミノ等をあげることができる。
C1~C6アルキルカルボニルアミノ基とは、特に限定しない限り、アルキルカルボニル部分が上記の意味である炭素数が1~6のアルキルカルボニル基により置換されたアミノ基を示し、ホルムアミド、アセトアミド、プロピオンアミド等の基を挙げることができる。
C1~C6アルコキシカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~10の(アルキル)-O-C(=O)-基を示し、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル又はイソプロポキシカルボニル等をあげることができる。
C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルコキシ基とは、アルコキシカルボニル部分、及びアルコキシ部分が上記の意味である炭素数が1~6のアルコキシカルボニル基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基を示し、例えばメトキシカルボニルメトキシ基、メトキシカルボニルエトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルエトキシ基等を挙げることができる。
C1~C10アルキルチオカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~10の(アルキル)-S-C(=O)-基を示し、例えばメチルチオカルボニル又はエチルチオカルボニル等をあげることができる。
C1~C6アルコキシカルボニルオキシ基とは、アルコキシカルボニル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルコキシ)-C(=O)-基で置換されたオキシ基を示し、例えばメトキシカルボニルオキシ又はエトキシカルボニルオキシ等をあげることができる。
C1~C6ハロアルキルチオ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1~4の(ハロアルキル)-S-基を示し、例えば、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ等をあげることができる。
C1~C6ハロアルキルスルフィニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1~4の(ハロアルキル)-SO-基を示し、例えばトリフルオロメチルスルフィニル又はジフルオロメチルスルフィニル等をあげることができる。
C1~C6ハロアルキルスルホニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1~4の(ハロアルキル)-SO2-基を示し、例えばクロルメチルスルホニル、ジフルオロメチルスルホニル又はトリフルオロメチルスルホニル等をあげることができる。
C1~C6ハロアルキルスルホニルオキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(ハロアルキル)SO2-O-基を示し、例えばクロルメチルスルホニルオキシ又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ等をあげることができる。
モノ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)-NH-C(=O)-基を示し、例えばメチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル等の基を挙げることができる。
モノ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)-NH-C(=O)-基を示し、例えばメチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル等の基を挙げることができる。
ジ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1~6の(アルキル)2N-C(=O)-基を示し、例えばジメチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、メチルエチルアミノカルボニル、ジプロピルアミノカルボニル、ジブチルアミノカルボニル等の基を挙げることができる。
シアノC1~C6アルキル基とは、アルキル部分が前記の意味を有する炭素数が1~6のシアノアルキル基を示し、シアノメチル、シアノエチル等をあげることができる。
シアノC1~C6アルコキシ基とは、アルコキシ部分が前記の意味を有する、シアノ基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基を示し、例えば2-シアノエトキシ、3-シアノプロポキシ等の基を挙げることができる。
シアノC1~C6アルコキシ基とは、アルコキシ部分が前記の意味を有する、シアノ基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基を示し、例えば2-シアノエトキシ、3-シアノプロポキシ等の基を挙げることができる。
シアノC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とは、特に限定しない限り、アルコキシ部分及びアルキル部分が前記の意味を有する、シアノ基により置換された炭素数が1~6のアルコキシ基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば2-シアノエトキシメチル、3-シアノプロポキシメチル等の基を挙げることができる。
フェニルC1~C6アルキル基とは、アルキル部分が前記の意味を有するフェニル基で置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばベンシル、フェネチル、フェニルプロピル等をあげることができる。
フェニルC2~C6アルケニル基とは、アルケニル部分が前記の意味を有するフェニル基で置換された炭素数が2~6のアルケニル基を示し、例えばスチリル、シンナミル等をあげることができる。
フェニルC2~C6アルキニル基とは、アルキニル部分が前記の意味を有するフェニル基で置換された炭素数が2~6のアルキニル基を示し、例えば(2-フェニル)エチニル、2-(3-フェニル)エチニル等をあげることができる。
フェニルカルボニルオキシ基とは、(フェニル)-C(=O)-O-基を示す。
フェニルカルボニルC1~C6アルキルオキシ基とは、(フェニル)-C(=O)-O-基により置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばフェニルカルボニルオキシメチル等をあげることができる。
を示す。
を示す。
フェニルチオ基とは、(フェニル)-S-基を示す。
フェニルスルフィニル基とは、(フェニル)-SO-基を示す。
フェニルスルホニル基とは、(フェニル)-SO2-基を示す。
フェニルスルホニルオキシ基とは、(フェニル)-SO2-O-基を示す。
同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基とは、例えばフラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンズイミダゾール、イソオキサゾール、イソオキサゾリン、オキサゾール、オキサゾリン、イソチアゾール、イソチアゾリン、チアゾール、テトラヒドロフラン又はチアゾリン等をあげることができる。
また、「酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環基」も前記した複素環基と同様である。
また、「酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環基」も前記した複素環基と同様である。
同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基とは、特に限定しない限り酸素原子に前記の意味を有する複素環が置換した基を示し例えば(テトラヒドロフラン-2-イル)オキシ、(4,5-ジヒドロイソキサゾール-5-イル)オキシ、(イソキサゾール-5-イル)オキシ、(チオフェン-2-イル)オキシ基等を挙げることができる。
また、「酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環オキシ基」も前記した複素環オキシ基と同様である。
また、「酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環オキシ基」も前記した複素環オキシ基と同様である。
同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキル基とは、アルキル部分及び複素環部分が前記の意味を有する複素環で置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば(2-フラン)メチル、(3-フラン)メチル、(2-チオフェン)メチル又は(3-チオフェン)メチル等をあげることができる。
同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基で置換されたC1~C6アルキル基とは、アルキル部分及び複素環部分が前記の意味を有する複素環オキシ基で置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えば(テトラヒドロフラン-2-イル)オキシメチル、(4,5-ジヒドロイソキサゾール-5-イル)オキシメチル、(イソキサゾール-5-イル)オキシメチル又は(チオフェン-2-イル)オキシメチル等をあげることができる。
同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とは、アルキル部分、アルコキシ部分及び複素環部分が前記の意味を有する複素環で置換された炭素数が1~6のアルコキシで置換された炭素数が1~6のアルキル基を示し、例えばテトラヒドフルフリルオキシエチル又はテトラヒドロフルフリルオキシメチル等をあげることができる。
同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキルオキシ基とは、複素環部分及びアルキルオキシ部分が前記の意味を有する複素環により置換された炭素数1~6のアルキルオキシ基を示し、例えば6-メチル-2-ピリジンメトキシ基又はテトラヒドロフルフリルオキシ基等をあげることができる。
同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基で置換されたC1~C6アルコキシC1~C6アルキル基とはとは、複素環部分、アルキルオキシ部分及びアルキル部分が前記の意味を有する複素環により置換された炭素数1~6のアルキルオキシ‐炭素数1~6のアルキル基を示し、例えば(テトラヒドロフラン-2-イル)オキシメトキシメチル、(4,5-ジヒドロイソキサゾール-5-イル)オキシエトキシメチル、(イソキサゾール-5-イル)オキシメトキシメチル又は(チオフェン-2-イル)オキシエトキシメチル等をあげることができる。
アルカリ金属とは、ナトリウム、カリウム等をあげることができる。
C2~C5アルキレン鎖とは、直鎖状又は枝分かれ鎖上の炭素数1~5の飽和炭化水素を意味し、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、ペンチレン又はヘキシレン等をあげることができる。
C2~C5アルケニレン鎖とは、少なくとも1つの二重結合を有する直鎖状又は枝分かれ鎖上のの炭素数1~5の炭化水素鎖を意味し、例えば、-CH2CH=CH-、-CH=CH-CH=CH-又は-CH2CH=CHCH2-等をあげることができる。
次に、一般式[1]で示される本発明化合物の具体例を表1~表40に記載する。しかしながら、本発明化合物はこれらの化合物に限定されるものではない。
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
例えばMeとはメチル基を示し、Etとはエチル基を示し、Pr-nとはn-プロピル基を示し、Pr-iとはイソプロピル基を示し、Pr-cとはシクロプロピル基を示し、Bu-nとはn-ブチル基を示し、Bu-sとはセカンダリーブチル基を示し、Bu-iとはイソブチル基を示し、Bu-tとはターシャリーブチル基を示し、Bu-cとはシクロブチル基を示し、Pen-nとはn-ペンチル基を示し、Pen-cとはシクロペンチル基を示し、Hex-nとはn-ヘキシル基を示し、Hex-cとはシクロヘキシル基を示し、Acとはアセチル基を示し、Phとはフェニル基を示し、Bnとはベンジル基を示し、Tsとはp-トルエンスルホニル基を示し、pyridylとはピリジル基を示し、pyrimidinylとはピリミジニル基を示す。また、例えばPh(2-OMe)とは2-メトキシフェニル基を示し、CH2Ph(2-OMe)とは2-メトキシベンジル基を示し、Ph(3,4-di-Cl)とは3,4-ジクロルフェニル基を示す。
例えばMeとはメチル基を示し、Etとはエチル基を示し、Pr-nとはn-プロピル基を示し、Pr-iとはイソプロピル基を示し、Pr-cとはシクロプロピル基を示し、Bu-nとはn-ブチル基を示し、Bu-sとはセカンダリーブチル基を示し、Bu-iとはイソブチル基を示し、Bu-tとはターシャリーブチル基を示し、Bu-cとはシクロブチル基を示し、Pen-nとはn-ペンチル基を示し、Pen-cとはシクロペンチル基を示し、Hex-nとはn-ヘキシル基を示し、Hex-cとはシクロヘキシル基を示し、Acとはアセチル基を示し、Phとはフェニル基を示し、Bnとはベンジル基を示し、Tsとはp-トルエンスルホニル基を示し、pyridylとはピリジル基を示し、pyrimidinylとはピリミジニル基を示す。また、例えばPh(2-OMe)とは2-メトキシフェニル基を示し、CH2Ph(2-OMe)とは2-メトキシベンジル基を示し、Ph(3,4-di-Cl)とは3,4-ジクロルフェニル基を示す。
本発明化合物である一般式[1]の6-アシルピリジン-2-オン誘導体化合物又はその塩は種々の方法で製造することができる。その代表的な製造方法を以下に例示するが、これらの方法に限定されるものではない。
<製造方法1>
本発明化合物の一種である一般式[1a]の化合物は下記に例示する反応式からなる方法により製造することができる。
本発明化合物の一種である一般式[1a]の化合物は下記に例示する反応式からなる方法により製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、A1、A2及びA3はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Qは、ハロゲン原子、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ハロアルキルカルボニルオキシ基、ハロアルコキシカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ピリジル基又はイミダゾリル基等の基を表す。)
(工程1)
一般式[2]の化合物と一般式[3a]の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより、一般式[4a]及び[4b]のエノールエステル化合物を製造することができる。
(工程1)
一般式[2]の化合物と一般式[3a]の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより、一般式[4a]及び[4b]のエノールエステル化合物を製造することができる。
ここで使用する一般式[3a]の使用量は、一般式[2]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
本工程で使用できる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、N,N-ジメチルアニリン若しくは1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン等の有機アミン類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム若しくは炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム若しくは炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類;酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム若しくは酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表される金属カルボン酸塩類;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド若しくはカリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム若しくは水酸化マグネシウム等の金属水酸化物;又は水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム若しくは水素化カルシウム等の金属水素化物等があげられる。塩基の使用量は、一般式[2]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、アセトニトリル等のニトリル類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム若しくはジグライム等のエーテル類;ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素若しくはテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン若しくはトルエン等の芳香族炭化水素類;N,N-ジメチルホルムアミド若しくはN,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類;1,3-ジメチル-2-イミダゾリノン等のイミダゾリノン類;又はジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、さらにこれらの混合溶媒も使用することができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。また、四級アンモニウム塩等の相間移動触媒を用いて、二層系で反応させることもできる。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
反応の目的物である一般式[4a]及び[4b]の化合物は、反応終了後、常法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
(工程2)
一般式[4a]及び[4b]の化合物は、一般式[2]と一般式[3b]の化合物とを、塩基の存在下/非存在下、脱水縮合剤存在下、溶媒中で反応させることによっても製造することができる。
一般式[4a]及び[4b]の化合物は、一般式[2]と一般式[3b]の化合物とを、塩基の存在下/非存在下、脱水縮合剤存在下、溶媒中で反応させることによっても製造することができる。
本工程で使用する一般式[3b]の使用量は、一般式[2]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、N-(3‐ジメチルアミノプロピル)-N’-エチルカルボジイミド(EDC又はWSC)、N,N-カルボニルジイミダゾール、2-クロロ-1,3-ジメチルイミダゾリウムクロリド又はヨウ化-2-クロロ-1-ピリジニウム等を用いることができる。
本工程で使用できる塩基及び溶媒としては、工程1で説明した同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
(工程3)
一般式[1a]の化合物は、前記工程2又は3で製造された一般式[4a]及び[4b]の化合物とシアノ化合物とを塩基の存在下反応させることによって製造することができる。
一般式[1a]の化合物は、前記工程2又は3で製造された一般式[4a]及び[4b]の化合物とシアノ化合物とを塩基の存在下反応させることによって製造することができる。
本工程で使用できる塩基としては、工程1で説明した塩基と同様のものをあげることができる。塩基の使用量は、一般式[4a]及び[4b]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
本工程で使用できるシアノ化合物としては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素又はシアン化水素を保持したポリマー等をあげることができる。シアノ化合物の使用量は、一般式[4a]及び[4b]1モルに対して0.01~1.0モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.05~0.2モルである。
また、本工程では、少量のクラウンエーテル等の相間移動触媒を用いてもよい。
本反応で使用できる溶媒としては、工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
尚、本工程において、工程1又は工程2で製造される一般式[4a]及び[4b]を単離することなく用いても、一般式[1a]の化合物を製造することができる。
(工程4)
一般式[1a]の化合物は、一般式[2]の化合物と一般式[3c]の化合物とを、塩基又はルイス酸存在下、反応させることによっても製造することもできる。
一般式[1a]の化合物は、一般式[2]の化合物と一般式[3c]の化合物とを、塩基又はルイス酸存在下、反応させることによっても製造することもできる。
本工程で使用する一般式[3c]の使用量は、一般式[2]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
ルイス酸としては、塩化亜鉛、塩化アルミニウム等が使用できる。
本工程で使用できる塩基としては、工程1で説明した塩基と同様のものをあげることができる。塩基の使用量は、一般式[2]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
本反応で使用できる溶媒としては、工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
<製造方法2>
前記製造方法1で製造した一般式[1a]は、以下の反応式によってなる方法により、シクロヘキサン環の水酸基を他の置換基に変換することが可能である。
前記製造方法1で製造した一般式[1a]は、以下の反応式によってなる方法により、シクロヘキサン環の水酸基を他の置換基に変換することが可能である。
(式中、R1、R2、R3、A1、A2、A3、及びXはそれぞれ前記と同じ意味を表し、
R4aはアミノ基;シアノ基;イソチオシアネート基;イソシアネート基;ヒドロキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;シアノメチレンオキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6アルキルカルボニルオキシ基;C1~C6ハロアルキルカルボニルオキシ基;C2~C6アルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6アルキニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルキニルカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルコキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C10アルキルスルホニルオキシ基;C1~C6ハロアルキルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニルオキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;C2~C6アルケニルチオ基;C2~C6アルケニルスルフィニル基;C2~C6アルケニルスルホニル基;C2~C6アルキニルチオ基;C2~C6アルキニルスルフィニル基;C2~C6アルキニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基;C1~C10アルキルアミノ基;ジ(C1~C10アルキル)アミノ基;C1~C6アルコキシカルボニルアミノ基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルコキシ基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。];同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基[該基は1又は2~5個の同一もしくは異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。];又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。]を表し、
Xはハロゲン原子を表す。)
すなわち、一般式[1a]の化合物とハロゲン化剤とを反応させることにより、一般式[1b]の化合物を製造し、さらに一般式[1b]の化合物と求核試薬とを塩基の存在下、反応させることにより一般式[1c]を製造することができる。
R4aはアミノ基;シアノ基;イソチオシアネート基;イソシアネート基;ヒドロキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;シアノメチレンオキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6アルキルカルボニルオキシ基;C1~C6ハロアルキルカルボニルオキシ基;C2~C6アルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6アルキニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルキニルカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルコキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C10アルキルスルホニルオキシ基;C1~C6ハロアルキルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニルオキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;C2~C6アルケニルチオ基;C2~C6アルケニルスルフィニル基;C2~C6アルケニルスルホニル基;C2~C6アルキニルチオ基;C2~C6アルキニルスルフィニル基;C2~C6アルキニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基;C1~C10アルキルアミノ基;ジ(C1~C10アルキル)アミノ基;C1~C6アルコキシカルボニルアミノ基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルコキシ基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。];同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基[該基は1又は2~5個の同一もしくは異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。];又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。]を表し、
Xはハロゲン原子を表す。)
すなわち、一般式[1a]の化合物とハロゲン化剤とを反応させることにより、一般式[1b]の化合物を製造し、さらに一般式[1b]の化合物と求核試薬とを塩基の存在下、反応させることにより一般式[1c]を製造することができる。
一般式[1a]から一般式[1b]の工程で、使用できるハロゲン化剤としては、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド又はメルドラム酸トリブロミド等があげられる。ハロゲン化剤の使用量は、一般式[1a]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる溶媒としては、製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
一般式[1b]から一般式[1c]の工程で、求核試薬とは例えば一般式R4a-Hで表わされる化合物であり、メタノール、エタノール若しくはベンジルアルコール等のアルコール類、メチルメルカプタン若しくはエチルメルカプタン等のメルカプタン類、アンモニア、メチルアミン若しくはエチルアミン等のアミン類、p-クレゾール若しくはフェノール等のフェノール類、p-クロロチフェノール等のチオフェノール類、酢酸等のC1~C6アルキルカルボン酸類、又は安息香酸類等をあげることができる。求核試薬の使用量は、一般式[1b]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる塩基としては、製造法1の工程1で説明した塩基と同様のものをあげることができる。
使用できる溶媒としては製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
<製造方法3>
一般式[1c]のうち一般式[1d]で表わされるの化合物は、以下の反応式からなる方法によっても製造することができる。
一般式[1c]のうち一般式[1d]で表わされるの化合物は、以下の反応式からなる方法によっても製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、A1、A2及びA3はそれぞれ前記と同じ意味を表し、
R4bは、ヒドロキシカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基;C1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C8シクロアルキル基;シアノメチル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C10アルキルチオカルボニル基;C1~C6ハロアルキルカルボニル基;C2~C6アルケニルカルボニル基;C2~C6ハロアルケニルカルボニル基;C2~C6アルキニルカルボニル基;C2~C6ハロアルキニルカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルキル基;C1~C10アルキルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキル基;又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。]を表す。)
すなわち、一般式[1a]の化合物と求電子試薬とを、溶媒中、塩基の存在下/非存在下、反応させることにより、一般式[1d]の化合物を製造することができる。
R4bは、ヒドロキシカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基;C1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C8シクロアルキル基;シアノメチル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C10アルキルチオカルボニル基;C1~C6ハロアルキルカルボニル基;C2~C6アルケニルカルボニル基;C2~C6ハロアルケニルカルボニル基;C2~C6アルキニルカルボニル基;C2~C6ハロアルキニルカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルキル基;C1~C10アルキルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキル基;又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。]を表す。)
すなわち、一般式[1a]の化合物と求電子試薬とを、溶媒中、塩基の存在下/非存在下、反応させることにより、一般式[1d]の化合物を製造することができる。
求電子試薬とは、例えば一般式R4b-La(Laは脱離基を示す)で表わされる化合物であり、ヨウ化メチル若しくは塩化プロピル等のC1~C6アルキルハロゲン化物;臭化ベンジル等のハロゲン化ベンジル;塩化アセチル若しくは塩化プロピオニル等のC1~C6アルキルカルボニルハロゲン化物;塩化ベンゾイル等のハロゲン化ベンゾイル;塩化メタクリル若しくは塩化クロトニル等のC2~C6アルケニルカルボニルハロゲン化物;塩化4-ペンチオノイル等のC2~C6アルキニルカルボニルハロゲン化物;塩化メタンスルホニル若しくは塩化エタンスルホニル等のC1~C6アルキルスルホン酸ハロゲン化物;塩化ベンゼンスルホニル若しくは塩化p-トルエンスルホニル等のベンゼンスルホン酸ハロゲン化物;又はジメチル硫酸若しくはジエチル硫酸等のジC1~C6アルキル硫酸エステル等があげられる。求電子試薬の使用量は、一般式[1a]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる塩基としては、製造法1の工程1で説明した塩基と同様のものをあげることができる。塩基の使用量は、一般式[1a]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる溶媒としては製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
尚、本発明の一般式[1a]には、多数の互変異性体が存在するが、これらのすべてが本発明に含まれる。
<製造方法4>
本発明の一般式[1e]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
本発明の一般式[1e]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、R14、R15、R16、R17、R18及びQはそれぞれ前記と同じ意味を表す 。)
すなわち、一般式[5a]の化合物と一般式[3a]の化合物とを、溶媒中、ルイス塩基の存在下で反応させることにより、一般式[1e]の化合物を製造することができる。
すなわち、一般式[5a]の化合物と一般式[3a]の化合物とを、溶媒中、ルイス塩基の存在下で反応させることにより、一般式[1e]の化合物を製造することができる。
一般式[3a]の使用量は、一般式[5a]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できるルイス塩基としては、メチルリチウム、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム若しくはベンジルリチウム等の有機リチウム化合物;よう化メチルマグネシウム若しくは臭化エチルマグネシウム等のグリニャール試薬;リチウム、カリウム若しくはナトリウム等の金属化合物;グリニャール試薬若しくは有機金属化合物と1価の銅塩から調製した有機銅化合物;リチウムジイソプロピルアミド(LDA)等のアルカリ金属アミド;又はトリエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、N,N-ジメチルアニリン若しくは1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン等の有機アミン等があげられ、特に好ましくは、n-ブチルリチウム又はリチウムジイソプロピルアミド(LDA)である。ルイス塩基の使用量は、一般式[5a]1モルに対して0.5~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができ、特に好ましくはジエチルエーテル又はテトラヒドロフランである。反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
尚、本発明の一般式[1e]には、多数の互変異性体が存在するが、これらのすべてが本発明に含まれる。
<製造方法5>
一般式[1f]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
一般式[1f]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、R20、R21及びQはそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
すなわち、一般式[5]の化合物と一般式[3a]の化合物とを、溶媒中塩基の存在下、反応させることにより一般式[4c]の化合物を製造し、さらに一般式[4c]の化合物とシアン化合物とを塩基存在下で反応させることにより、一般式[1f]の化合物を製造することができる。
すなわち、一般式[5]の化合物と一般式[3a]の化合物とを、溶媒中塩基の存在下、反応させることにより一般式[4c]の化合物を製造し、さらに一般式[4c]の化合物とシアン化合物とを塩基存在下で反応させることにより、一般式[1f]の化合物を製造することができる。
上記の反応において、一般式[5]から一般式[4c]の工程で、一般式[3a]の使用量は、一般式[5]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる塩基及び溶媒としては、前記製造法1の工程1で説明した同様のものをあげることができる。反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
上記の反応において、一般式[4c]から一般式[1f]の工程で、使用できるシアン化合物としては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素又はシアン化水素を保持したポリマー等があげられる。シアン化合物の使用量は、一般式[5]1モルに対して0.01~1.0モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.05~0.2モルである。
使用できる塩基としては、前記製造法1の工程1で説明した塩基と同様のものをあげることができる。塩基の使用量は、一般式[5]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
尚、本発明の一般式[1f]には、多数の互変異性体が存在するが、これらのすべてが本発明に含まれる。
<製造方法6>
ピラゾール環の置換基を変換した一般式[1h]の化合物は、前記で合成した一般式[1f]の化合物を用いて以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
ピラゾール環の置換基を変換した一般式[1h]の化合物は、前記で合成した一般式[1f]の化合物を用いて以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、R20、R21及びXはそれぞれ前記と同じ意味を表し、
R22aは、アミノ基;シアノ基;イソチオシアネート基;イソシアネート基;ヒドロキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;シアノメチレンオキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6アルキルカルボニルオキシ基;C1~C6ハロアルキルカルボニルオキシ基;C2~C6アルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6アルキニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルキニルカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルコキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C10アルキルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニルオキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;C2~C6アルケニルチオ基;C2~C6アルケニルスルフィニル基;C2~C6アルケニルスルホニル基;C2~C6アルキニルチオ基;C2~C6アルキニルスルフィニル基;C2~C6アルキニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基;C1~C10アルキルアミノ基;ジ(C1~C10アルキル)アミノ基;C1~C6アルコキシカルボニルアミノ基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルコキシ基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。];同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。];又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基[該基は1又は2~5個の同一もしくは異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。]を表し、Xはハロゲン原子を表す。)
すなわち、一般式[1f]の化合物とハロゲン化剤とを反応させて、一般式[1g]の化合物とし、さらに求核試薬と反応させることにより、一般式[1h]の化合物を製造することができる。
R22aは、アミノ基;シアノ基;イソチオシアネート基;イソシアネート基;ヒドロキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;シアノメチレンオキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6アルキルカルボニルオキシ基;C1~C6ハロアルキルカルボニルオキシ基;C2~C6アルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルケニルカルボニルオキシ基;C2~C6アルキニルカルボニルオキシ基;C2~C6ハロアルキニルカルボニルオキシ基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルコキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C10アルキルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニルオキシ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニルオキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;C2~C6アルケニルチオ基;C2~C6アルケニルスルフィニル基;C2~C6アルケニルスルホニル基;C2~C6アルキニルチオ基;C2~C6アルキニルスルフィニル基;C2~C6アルキニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルチオ基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基;C1~C10アルキルアミノ基;ジ(C1~C10アルキル)アミノ基;C1~C6アルコキシカルボニルアミノ基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルコキシ基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。];同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。];又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環オキシ基[該基は1又は2~5個の同一もしくは異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。]を表し、Xはハロゲン原子を表す。)
すなわち、一般式[1f]の化合物とハロゲン化剤とを反応させて、一般式[1g]の化合物とし、さらに求核試薬と反応させることにより、一般式[1h]の化合物を製造することができる。
上記の反応において一般式[1f]から一般式[1g]の工程で、使用できるハロゲン化剤としては、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド又はメルドラム酸トリブロミド等があげられる。ハロゲン化剤の使用量は、一般式[1f]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
一般式[1g]から一般式[1h]の工程で、求核試薬とは例えば一般式R22a-Hで表わされる化合物であり、メタノール、エタノール若しくはベンジルアルコール等のアルコール類;メチルメルカプタン若しくはエチルメルカプタン等のメルカプタン類;アンモニア、メチルアミン若しくはエチルアミン等のアミン類;p-クレゾール若しくはフェノール等のフェノール類;p-クロロチフェノール等のチオフェノール類;酢酸等のC1~C6アルキルカルボン酸類;又は安息香酸類等があげられる。求核試薬の使用量は、一般式[1g]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
<製造方法7>
一般式[1j]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
一般式[1j]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、R20及びR21はそれぞれ前記と同じ意味を表し、
R22bは、ヒドロキシカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基;C1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C8シクロアルキル基;シアノメチル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C10アルキルチオカルボニル基;C1~C6ハロアルキルカルボニル基;C2~C6アルケニルカルボニル基;C2~C6ハロアルケニルカルボニル基;C2~C6アルキニルカルボニル基;C2~C6ハロアルキニルカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルキル基;C1~C10アルキルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキル基;又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。)
すなわち、一般式[1f]の化合物と求電子試薬とを、溶媒中、塩基の存在下/非存在下、反応させることにより、一般式[1j]の化合物を製造することができる。
R22bは、ヒドロキシカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基;C1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C8シクロアルキル基;シアノメチル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C10アルキルチオカルボニル基;C1~C6ハロアルキルカルボニル基;C2~C6アルケニルカルボニル基;C2~C6ハロアルケニルカルボニル基;C2~C6アルキニルカルボニル基;C2~C6ハロアルキニルカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニルC1~C6アルキル基;C1~C10アルキルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルカルボニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルカルボニルC1~C6アルキル基;又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基[該基は1又は2~5個の同一もしくは相異なる置換基群αから選ばれる置換基により置換されてもよい。)
すなわち、一般式[1f]の化合物と求電子試薬とを、溶媒中、塩基の存在下/非存在下、反応させることにより、一般式[1j]の化合物を製造することができる。
使用できる求電子試薬とは、例えば一般式R22b-La(Laは脱離基を示す)で表わされる化合物であり、ヨウ化メチル若しくは塩化プロピル等のC1~C6アルキルハロゲン化物;臭化ベンジル等のハロゲン化ベンジル;塩化アセチル若しくは塩化プロピオニル等のC1~C6アルキルカルボニルハロゲン化物;塩化ベンゾイル等のハロゲン化ベンゾイル;塩化メタクリル若しくは塩化クロトニル等のC2~C6アルケニルカルボニルハロゲン化物;塩化4-ペンチオノイル等のC2~C6アルキニルカルボニルハロゲン化物;塩化メタンスルホニル若しくは塩化エタンスルホニル等のC1~C6アルキルスルホン酸ハロゲン化物;塩化ベンゼンスルホニル若しくは塩化p-トルエンスルホニル等のベンゼンスルホン酸ハロゲン化物;又はジメチル硫酸若しくはジエチル硫酸等のジC1~C6アルキル硫酸エステル等があげられる。求電子試薬の使用量は、一般式[1f]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
本反応で使用できる塩基、溶媒としては前記製造法1の工程1で説明したものと同様のものをあげることができる。
塩基の使用量は、一般式[1f]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
<製造方法8>
一般式[1k]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
一般式[1k]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、R24、R25及びQはそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
すなわち、一般式[7]の化合物と一般式[3a]の化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより、一般式[4d]の化合物を製造し、その後、一般式[4d]の化合物とシアン化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式[1k]の化合物を製造することができる。
すなわち、一般式[7]の化合物と一般式[3a]の化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより、一般式[4d]の化合物を製造し、その後、一般式[4d]の化合物とシアン化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式[1k]の化合物を製造することができる。
一般式[7]から一般式[4d]の工程で、一般式[3a]の使用量は、一般式[7]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる塩基としては前記製造法1の工程1で説明した塩基と同様のものをあげることができる。塩基の使用量は、一般式[7]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
一般式[4d]から一般式[1k]の工程で、使用できるシアノ化合物としては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素又はシアン化水素を保持したポリマー等があげられる。シアノ化合物の使用量は、一般式[4d]1モルに対して0.01~1.0モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.05~0.2モルである。
使用できる塩基としては前記製造法1の工程1で説明したものと同様のものをあげることができる。塩基の使用量は、一般式[4d]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
尚、本発明の一般式[1k]には、多数の互変異性体が存在するが、これらのすべてが本発明に含まれる。
<製造方法9>
一般式[1m]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
一般式[1m]の化合物は、以下の反応式からなる方法によって製造することができる。
(式中、R1、R2、R3及びR24はそれぞれ前記と同じ意味を表し、R25aはC1~C6アルコキシカルボニル基を表し、R26はC1~C6アルコキシ基、C1~C6ハロアルコキシ基、C3~C8シクロアルキルオキシ基又はジメチルアミノ基を表し、R27はC1~C6アルキル基又はベンジル基を表す。)
(工程1)
本工程においては、一般式[1k]と酸とを、不活性溶媒中又は溶媒を使用することなく反応させることにより一般式[8a]を製造することができる。
(工程1)
本工程においては、一般式[1k]と酸とを、不活性溶媒中又は溶媒を使用することなく反応させることにより一般式[8a]を製造することができる。
本工程で使用できる酸としてはp-トルエンスルホン酸等のスルホン酸類をあげることができる。酸の使用量は、一般式[1k]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
本工程で使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
(工程2)
一般式[8a]とN,N-ジメチルアセトアミドジメチルアセタールとを反応させるか又は無水酢酸中オルト蟻酸エステル化合物とをを反応させることにより、一般式[8b]を製造することができる。N,N-ジメチルアミドジメチルアセタール及びオルト蟻酸エステルの使用量は、一般式[8a]1モルに対して各々0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~3.0モルである。
一般式[8a]とN,N-ジメチルアセトアミドジメチルアセタールとを反応させるか又は無水酢酸中オルト蟻酸エステル化合物とをを反応させることにより、一般式[8b]を製造することができる。N,N-ジメチルアミドジメチルアセタール及びオルト蟻酸エステルの使用量は、一般式[8a]1モルに対して各々0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~3.0モルである。
反応温度は-20℃から溶媒として使用するN,N-ジメチルアセトアミドジメチルアセタールまたは無水酢酸の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~150℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
(工程3)
一般式[8a]と二硫化炭素とを反応させ、さらにハロゲン化物を反応させることにより、一般式[8c]を製造することができる。
一般式[8a]と二硫化炭素とを反応させ、さらにハロゲン化物を反応させることにより、一般式[8c]を製造することができる。
ハロゲン化物とは例えばヨウ化メチル、臭化メチル、塩化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチル、塩化エチル、臭化ベンジル、塩化ベンジル等をあげることができる。
二硫化炭素の使用量は、一般式[8a]1モルに対して各々0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルであり、ハロゲン化物の使用量は、一般式[8a]1モルに対して各々0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは2.0~2.4モルである。
二硫化炭素の使用量は、一般式[8a]1モルに対して各々0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルであり、ハロゲン化物の使用量は、一般式[8a]1モルに対して各々0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは2.0~2.4モルである。
本工程で使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
(工程4、工程5)
前記工程2又は前記工程3で製造した一般式[8b]又は[8c]とヒドロキシルアミン塩酸塩とを溶媒中で反応させることにより一般式[1m]を製造することができる。
前記工程2又は前記工程3で製造した一般式[8b]又は[8c]とヒドロキシルアミン塩酸塩とを溶媒中で反応させることにより一般式[1m]を製造することができる。
ヒドロキシルアミン塩酸塩の使用量は、一般式[8b]又は[8c]1モルに対して0.1~10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0~1.2モルである。
本工程で使用できる溶媒としては前記製造法1の工程1で説明した溶媒と同様のものをあげることができる。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
〈中間体製造法1〉
一般式[3b]の化合物は以下の反応式からなる方法で製造することができる。
一般式[3b]の化合物は以下の反応式からなる方法で製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、Xはそれぞれ前記と同じ意味を表し、R1a、R1b、R1cは水素原子、ハロゲン原子又はC1~C6アルキル基を表し、R28はC1~C6アルキル基を表す。)
(ルートa)
すなわち、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、第35巻、第18号、第2819頁(1995年)に記載の方法に準じて、一般式[9]とアルコール体とをDIPAD(イソプロピルアゾジカルボキシレート)及びPPh3(トリフェニルホスフィン)存在下で反応させることによって一般式[10-1]の化合物を製造し、次に一般式[10-1]を加水分解することによって一般式[3b]の化合物を製造することができる。
(ルートb)
一般式[10-1]の化合物は、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、第36巻、第49号、第8917頁(1995年)に記載の方法に準じて、一般式[9]とアルキル化剤(R1X)とを反応させることによって製造することもできる。但しこの反応では、R1Xが[T-1]の時、副生成した一般式[10-2]は、一般式[10-1]との混合した状態で、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)やテトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(0)等のパラジウム触媒存在下、溶媒中で反応させることにより、転位反応によって一般式[10-1]に変換され、副生成物である一般式[10-2]は消失する。一般式[10-1]は加水分解することによって一般式[3b]の化合物を製造することができる。
(ルートa)
すなわち、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、第35巻、第18号、第2819頁(1995年)に記載の方法に準じて、一般式[9]とアルコール体とをDIPAD(イソプロピルアゾジカルボキシレート)及びPPh3(トリフェニルホスフィン)存在下で反応させることによって一般式[10-1]の化合物を製造し、次に一般式[10-1]を加水分解することによって一般式[3b]の化合物を製造することができる。
(ルートb)
一般式[10-1]の化合物は、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、第36巻、第49号、第8917頁(1995年)に記載の方法に準じて、一般式[9]とアルキル化剤(R1X)とを反応させることによって製造することもできる。但しこの反応では、R1Xが[T-1]の時、副生成した一般式[10-2]は、一般式[10-1]との混合した状態で、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)やテトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(0)等のパラジウム触媒存在下、溶媒中で反応させることにより、転位反応によって一般式[10-1]に変換され、副生成物である一般式[10-2]は消失する。一般式[10-1]は加水分解することによって一般式[3b]の化合物を製造することができる。
なお、一般式[9]の化合物は、オーガニック・レターズ(Organic Letters)第285頁(2008年)、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Journal of Organic Chemistry)第44巻、第1887頁(1979年)、テトラヘドロン(Tetrahedron)第52巻、第2591頁(1996年)に記載されている方法に準じて製造することができる。
〈中間体製造法2〉
一般式[3b-1]の化合物は以下の反応式からなる方法で製造することができる。
一般式[3b-1]の化合物は以下の反応式からなる方法で製造することができる。
(式中、R1は前記と同じ意味を表す。)
すなわち、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Journal of Organic Chemistry 第1213頁(1951年)に記載されている方法に準じて、一般式[11]とアミノ体とを反応させることによって、一般式[3b-1]の化合物を製造する。
すなわち、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Journal of Organic Chemistry 第1213頁(1951年)に記載されている方法に準じて、一般式[11]とアミノ体とを反応させることによって、一般式[3b-1]の化合物を製造する。
なお、一般式[11]の化合物は、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Journal of Organic Chemistry 第1213頁(1951年)に記載されている方法に準じて製造することができる。
〈中間体製造法3〉
一般式[3a]の化合物は以下の反応式からなる方法で製造することができる。
一般式[3a]の化合物は以下の反応式からなる方法で製造することができる。
(式中、R1、R2、R3、Qはそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
すなわち一般式[3a]は、一般式[3b]と適当なハロゲン化剤とを溶媒中又は無溶媒中で反応させることによって製造することができる。
すなわち一般式[3a]は、一般式[3b]と適当なハロゲン化剤とを溶媒中又は無溶媒中で反応させることによって製造することができる。
使用できるハロゲン化剤としては、例えば塩化オキザリル、塩化チオニル等があげられる。
ハロゲン化剤の使用量は、式[3b]1モルに対して0.01~20モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1~10モルである。
溶媒としては例えばジクロロメタン若しくはクロロホルム等のハロゲン炭化水素類;ジエチルエーテル若しくはテトラハイドロフラン等のエーテル類;又はベンゼン若しくはトルエン等の芳香族炭化水素類があげられる。
溶媒の使用量は、式[3b]1モルに対して0.01~100Lであり、好ましくは0.1~10Lである。
反応温度は-20℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃~100℃の範囲で行なうのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分~48時間である。
本発明は、一般式[1]で表される6-アシルピリジン-2-オン誘導体(ピリドン誘導体)又はその塩を製造するために有用な中間体である、一般式[3b]、[3a]、又は[3b-1]で表される化合物又はその塩を提供するものでもある。
次に、前記中間体の具体例を表41~表54に記載するが、これらの化合物に限定されるものではない。
次に、前記中間体の具体例を表41~表54に記載するが、これらの化合物に限定されるものではない。
本発明の化合物は、優れた除草効力を有し、かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示し農地における農薬組成物、特に除草剤として有用である。すなわち本発明の化合物は、農園芸用植物を栽培する畑地の茎葉処理及び土壌処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
アカバナ科雑草:オオマツヨイグサ(Oenothera erythrosepala)、コマツヨイグサ(Oenothera laciniata);
キンポウゲ科雑草:トゲミノキツネノボタン(Ranunculus muricatus)、イボミキンポウゲ(Ranunculus sardous);
タデ科雑草:ソバカズラ(Polygonum convolvulus)、サナエタデ(Polygonum lapathifolium)、アメリカサナエタデ(Polygonum pensylvanicum)、ハルタデ(Polygonum persicaria)、ナガバギシギシ(Rumex crispus)、エゾノギシギシ(Rumex obtusifolius)、イタドリ(Poligonum cuspidatum);
スベリヒユ科雑草:スベリヒユ(Portulaca oleracea);
ナデシコ科雑草:ハコベ(Stellaria media)、オランダミミナグサ(Cerastium glomeratum);
アカザ科雑草:シロザ(Chenopodium album)、ホウキギ(Kochia scoparia);
ヒユ科雑草:アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲイトウ(Amaranthus hybridus);
アブラナ科雑草:ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum)、ノハラガラシ(Sinapis arvensis)、ナズナ(Capsella bursa-pastoris)、マメグンバイナズナ(Lepidium virginicum);
マメ科雑草:アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata)、エビスグサ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガーウィード(Desmodium tortuosum)、シロツメクサ(Trifolium repens)、オオカラスノエンドウ(Vicia sativa)、コメツブウマゴヤシ(Medicago lupulina);
アオイ科雑草:イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(Sida spinosa);
スミレ科雑草:フィールドパンジー(Viola arvensis)、ワイルドパンジー(Viola tricolor);
アカネ科雑草:ヤエムグラ(Galium aparine);
ヒルガオ科雑草:アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea)、マルバアサガオ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomoea hederacea var integriuscula)、マメアサガオ(Ipomoea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arvensis);
シソ科雑草:ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lamium amplexicaule);
ナス科雑草:シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium)、イヌホオズキ(Solanum nigrum);
ゴマノハグサ科雑草:オオイヌノフグリ(Veronica persica)、タチイヌノフグリ(Veronica arvensis)、フラサバソウ(Veronica hederaefolia);
キク科雑草:オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Helianthus annuus)、カミツレ(Matricaria chamomilla)、イヌカミツレ(Matricaria perforata or inodora)、コーンマリーゴールド(Chrysanthemum segetum)、コシカギク(Matricaria matricarioides)、ブタクサ(Ambrosia artemisiifolia)、オオブタクサ(Ambrosia trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron canadensis)、ヨモギ(Artemisia princeps)、セイタカアワダチソウ(Solidago altissima)、セイヨウタンポポ(Taraxacum officinale);
ムラサキ科雑草:ワスレナグサ(Myosotis arvensis);
ガガイモ科雑草:オオトウワタ(Asclepias syriaca);
トウダイグサ科雑草:トウダイグサ(Euphorbia helioscopia)、オオニシキソウ(Euphorbia maculata);
フウロソウ科雑草:アメリカフウロ(Geranium carolinianum);
カタバミ科雑草:ムラサキカタバミ(Oxalis corymbosa);
ウリ科雑草:アレチウリ(Sicyos angulatus);
イネ科雑草:イヌビエ(Echinochloa crus-galli)、エノコログサ(Setaria viridis)、アキノエノコログサ(Setaria faberi)、メヒシバ(Digitaria sanguinalis)、オヒシバ(Eleusine indica)、スズメノカタビラ(Poa annua)、ブラックグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Avena fatua)、セイバンモロコシ(Sorghum halepense)、シバムギ(Agropyron repens)、ウマノチャヒキ(Bromus tectorum)、ギョウギシバ(Cynodone dactylon)、オオクサキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム(Panicum texanum)、シャターケーン(Sorghum vulgare)、スズメノテッポウ(Alopecurus geniculatus);
ツユクサ科雑草:ツユクサ(Commelina communis);
トクサ科雑草:スギナ(Equisetum arvense);
カヤツリグサ科雑草:コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rotundus)、キハマスゲ(Cyperus esculentus)。
キンポウゲ科雑草:トゲミノキツネノボタン(Ranunculus muricatus)、イボミキンポウゲ(Ranunculus sardous);
タデ科雑草:ソバカズラ(Polygonum convolvulus)、サナエタデ(Polygonum lapathifolium)、アメリカサナエタデ(Polygonum pensylvanicum)、ハルタデ(Polygonum persicaria)、ナガバギシギシ(Rumex crispus)、エゾノギシギシ(Rumex obtusifolius)、イタドリ(Poligonum cuspidatum);
スベリヒユ科雑草:スベリヒユ(Portulaca oleracea);
ナデシコ科雑草:ハコベ(Stellaria media)、オランダミミナグサ(Cerastium glomeratum);
アカザ科雑草:シロザ(Chenopodium album)、ホウキギ(Kochia scoparia);
ヒユ科雑草:アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲイトウ(Amaranthus hybridus);
アブラナ科雑草:ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum)、ノハラガラシ(Sinapis arvensis)、ナズナ(Capsella bursa-pastoris)、マメグンバイナズナ(Lepidium virginicum);
マメ科雑草:アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata)、エビスグサ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガーウィード(Desmodium tortuosum)、シロツメクサ(Trifolium repens)、オオカラスノエンドウ(Vicia sativa)、コメツブウマゴヤシ(Medicago lupulina);
アオイ科雑草:イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(Sida spinosa);
スミレ科雑草:フィールドパンジー(Viola arvensis)、ワイルドパンジー(Viola tricolor);
アカネ科雑草:ヤエムグラ(Galium aparine);
ヒルガオ科雑草:アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea)、マルバアサガオ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomoea hederacea var integriuscula)、マメアサガオ(Ipomoea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arvensis);
シソ科雑草:ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lamium amplexicaule);
ナス科雑草:シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium)、イヌホオズキ(Solanum nigrum);
ゴマノハグサ科雑草:オオイヌノフグリ(Veronica persica)、タチイヌノフグリ(Veronica arvensis)、フラサバソウ(Veronica hederaefolia);
キク科雑草:オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Helianthus annuus)、カミツレ(Matricaria chamomilla)、イヌカミツレ(Matricaria perforata or inodora)、コーンマリーゴールド(Chrysanthemum segetum)、コシカギク(Matricaria matricarioides)、ブタクサ(Ambrosia artemisiifolia)、オオブタクサ(Ambrosia trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron canadensis)、ヨモギ(Artemisia princeps)、セイタカアワダチソウ(Solidago altissima)、セイヨウタンポポ(Taraxacum officinale);
ムラサキ科雑草:ワスレナグサ(Myosotis arvensis);
ガガイモ科雑草:オオトウワタ(Asclepias syriaca);
トウダイグサ科雑草:トウダイグサ(Euphorbia helioscopia)、オオニシキソウ(Euphorbia maculata);
フウロソウ科雑草:アメリカフウロ(Geranium carolinianum);
カタバミ科雑草:ムラサキカタバミ(Oxalis corymbosa);
ウリ科雑草:アレチウリ(Sicyos angulatus);
イネ科雑草:イヌビエ(Echinochloa crus-galli)、エノコログサ(Setaria viridis)、アキノエノコログサ(Setaria faberi)、メヒシバ(Digitaria sanguinalis)、オヒシバ(Eleusine indica)、スズメノカタビラ(Poa annua)、ブラックグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Avena fatua)、セイバンモロコシ(Sorghum halepense)、シバムギ(Agropyron repens)、ウマノチャヒキ(Bromus tectorum)、ギョウギシバ(Cynodone dactylon)、オオクサキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム(Panicum texanum)、シャターケーン(Sorghum vulgare)、スズメノテッポウ(Alopecurus geniculatus);
ツユクサ科雑草:ツユクサ(Commelina communis);
トクサ科雑草:スギナ(Equisetum arvense);
カヤツリグサ科雑草:コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rotundus)、キハマスゲ(Cyperus esculentus)。
本発明の化合物は、トウモロコシ(Zea mays)、コムギ(Triticum aestivum)、オオムギ(Hordeum vulgare)、イネ(Orysa sativa)、ソルガム(Sorghum bicolor)、ダイズ(Glycine max)、ワタ(Gossypium spp.)、テンサイ(Beta vulgaris)、ピーナッツ(Arachis hypogaea)、ヒマワリ(Helianthus annuus)、ナタネ(Brassica napus)等の主要作物、花卉、蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さない。
また、本発明の化合物は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草する事ができ、しかも、作物に対しては問題となるような薬害を示さない。
本発明の化合物は、水田において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
イネ科雑草:タイヌビエ(Echinochloa oryzicola);
ゴマノハグサ科雑草:アゼナ(Lindernia procumbens);
ミソハギ科雑草:キカシグサ(Rotala indica)、ヒメミソハギ(Ammannia multiflora);
ミゾハコベ科雑草:ミゾハコベ(Elatine triandra);
カヤツリグサ科雑草:タマガヤツリ(Cyperus difformis)、ホタルイ(Scirpus hotarui)、マツバイ(Eleocharis acicularis)、ミズガヤツリ(Cyperus serotinus)、クログワイ(Eleocharis kuroguwai)、イヌホタルイ(Scirpus juncoides);
ミズアオイ科雑草:コナギ(Monochoria vaginalis);
オモダカ科雑草:ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、オモダカ(Sagittaria trifolia)、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum);
ヒルムシロ科雑草:ヒルムシロ(Potamogeton distinctus);
セリ科雑草:セリ(Oenanthe javanica)。
ゴマノハグサ科雑草:アゼナ(Lindernia procumbens);
ミソハギ科雑草:キカシグサ(Rotala indica)、ヒメミソハギ(Ammannia multiflora);
ミゾハコベ科雑草:ミゾハコベ(Elatine triandra);
カヤツリグサ科雑草:タマガヤツリ(Cyperus difformis)、ホタルイ(Scirpus hotarui)、マツバイ(Eleocharis acicularis)、ミズガヤツリ(Cyperus serotinus)、クログワイ(Eleocharis kuroguwai)、イヌホタルイ(Scirpus juncoides);
ミズアオイ科雑草:コナギ(Monochoria vaginalis);
オモダカ科雑草:ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、オモダカ(Sagittaria trifolia)、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum);
ヒルムシロ科雑草:ヒルムシロ(Potamogeton distinctus);
セリ科雑草:セリ(Oenanthe javanica)。
しかも本発明の化合物は、移植水稲に対して問題となるような薬害を示さない。
さらに、本発明の化合物は、例えば、堤防ののり面、河川敷、道路の路肩及びのり面、鉄道敷、公園緑地、グランド、駐車場、空港、工場及び貯蔵設備等の工業施設用地、休耕地、あるいは、市街の遊休地等の雑草の生育を制御する必要のある非農耕地、あるいは、樹園地、牧草地、芝生地、林業地等に発生する広範囲の雑草を除草できる。また本発明の化合物は、河川、水路、運河、貯水池等に発生する、ホテイアオイ(Eichhornia crassipes)等の水生雑草に除草効力を有する。
本発明でいう農園芸用植物とは、例えば、トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ及びタバコ等の農作物類;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ及びサトイモ等の野菜類;仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ及びアブラヤシ等の果実類;チャ、クワ、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等)、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ及びカナメモチ等の果樹以外の樹木類;シバ類(ノシバ、コウライシバ等)、バミューダグラス類(ギョウギシバ等)、ベントグラス類(コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等)、ブルーグラス類(ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等)、フェスク類(オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等)、ライグラス類(ネズミムギ、ホソムギ等)、カモガヤ及びオオアワガエリ等の芝生類;オイルパーム及びナンヨウアブラギリ等の油糧作物類;花卉類(バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、バーベナ、シンビジューム、ベゴニア等);観葉植物等を例示できるがこれらに限定されるものではない。
本発明でいう農園芸用植物とは、イソキサフルトール等のHPPD阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のALS阻害剤、グリホサート等のEPSP合成酵素阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤、フルミオキサジン等のPPO阻害剤、ブロモキシニル、ジカンバ及び2,4-D等の除草剤に対する耐性を古典的な育種法、ならびに遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
古典的な育種法により耐性を付与された「農園芸用植物」の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系ALS阻害型除草剤に耐性のナタネ、コムギ、ヒマワリ、イネ、トウモロコシがありClearfield<登録商標>の商品名で既に販売されている。
同様に古典的な育種法によるチフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ALS阻害型除草剤に耐性のダイズがあり、STSダイズの商品名で既に販売されている。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された農園芸用植物の例としてSRコーン等がある。アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された農園芸用植物はプロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ(Proc.Natl.Acad.Sci.USA)87巻、7175~7179頁(1990年)等に記載されている。またアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルCoAカルボキシラーゼがウィード・サイエンス(Weed Science)53巻、728~746頁(2005年)等に報告されており、こうした変異アセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により植物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を作物アセチルCoAカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の植物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術(Gura T. 1999. Repairing the Genome’s Spelling Mistakes. Science 285: 316-318)に代表される塩基置換変異導入核酸を植物細胞内に導入して作物(アセチルCoAカルボキシラーゼ/除草剤標的)遺伝子に部位特異的アミノ酸置換変異を引き起こすことにより、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤/除草剤に耐性の植物を作出することができる。
遺伝子組換え技術により耐性を付与された農園芸用植物の例として、グリホサート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ、テンサイ品種があり、ラウンドアップレディ(RoundupReady)<登録商標>、AgrisureGT等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるグルホシネート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ品種があり、リバティーリンク(LibertyLink)<登録商標>等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるブロモキシニル耐性のワタはBXNの商品名で既に販売されている。
上記「農園芸用植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった植物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される殺虫性毒素としては、例えばバチルス・セレウス(Bacillus cereus)やバチルス・ポピリエ(Bacillus popilliae)由来の殺虫性タンパク;バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9C等のδ-エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3又はVIP3A等の殺虫性タンパク;線虫由来の殺虫性タンパク;さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素;糸条菌類毒素;植物レクチン;アグルチニン;トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤;リシン、トウモロコシ-RIP、アブリン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク(RIP);3-ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド-UDP-グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素;エクダイソン阻害剤;HMG-CoAリダクターゼ;ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤;幼若ホルモンエステラーゼ;利尿ホルモン受容体;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ等が挙げられる。
またこの様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9C等のδ-エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3又はVIP3A等の殺虫性タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型毒素のアミノ酸の1つ又は複数が置換されている。
これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、例えばEP-A-0374753、WO93/07278、WO95/34656、EP-A-0427529、EP-A-451878、WO03/052073等の特許文献に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、鞘翅目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
また、1つもしくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、イールドガード(YieldGard)<登録商標>(Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種)、イールドガードルートワーム(YieldGard Rootworm)<登録商標>(Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種)、イールドガードプラス(YieldGard Plus)<登録商標>(Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種)、ハーキュレックスI(Herculex I)<登録商標>(Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与するためのホスフィノトリシン N-アセチルトランスフェラーゼ(PAT)を発現するトウモロコシ品種)、NuCOTN33B<登録商標>(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)、ボルガードI(Bollgard I)<登録商標>(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)、ボルガードII(Bollgard II)<登録商標>(Cry1AcとCry2Ab毒素を発現するワタ品種)、VIPCOT<登録商標>(VIP毒素を発現するワタ品種)、ニューリーフ(NewLeaf)<登録商標>(Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種)、ネイチャーガード アグリシュアー GT アドバンテージ(NatureGard<登録商標>Agrisure<登録商標>GT Advantage)(GA21グリホサート耐性形質)、アグリシュアー CB アドバンテージ(Agrisure<登録商標> CB Advantage)(Bt11コーンボーラー(CB)形質)、プロテクタ(Protecta)<登録商標>等が挙げられる。
上記「農園芸用植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質としては、例えばPRタンパク(PRPs、EP-A-0392225に記載されている);ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤(ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている)等のイオンチャネル阻害剤;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ;ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子(植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO03/000906に記載されている)等の微生物が産生する物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP-A-0392225、WO95/33818、EP-A-0353191等に記載されている。
上記「農園芸用植物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した作物も含まれる。例として、VISTIVE<登録商標>(リノレン含量を低減させた低リノレン大豆)あるいは、high-lysine(hig hoil) corn(リジンあるいはオイル含有量を増量したコーン)等が挙げられる。
さらに、上記の古典的な除草剤形質あるいは除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。
本発明の農薬組成物は、本発明の6-アシルピリジン-2-オン誘導体(ピリドン誘導体)又はその塩、及び農業上許容し得る担体を含有してなるものである。さらに、本発明の農薬組成物は、必要に応じ農薬製剤に通常用いられる添加成分を含有することができる。
この添加成分としては、固体担体又は液体担体等の担体、界面活性剤、結合剤や粘着付与剤、増粘剤、着色剤、拡展剤、展着剤、凍結防止剤、固結防止剤、崩壊剤、分解防止剤等が挙げられる。
その他必要に応じ、防腐剤や、植物片等を添加成分に用いてもよい。
これらの添加成分は1種用いてもよいし、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記添加成分について説明する。
固体担体としては、例えば石英、クレー、カオリナイト、ピロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライト、珪藻土等の天然鉱物質類、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、塩化カリウム等の無機塩類、合成ケイ酸、合成ケイ酸塩、デンプン、セルロース、植物粉末等の有機固体担体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック担体等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
液体担体としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等の一価アルコール類や、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類に大別されるアルコール類、プロピレン系グリコールエーテル等の多価アルコール誘導体類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、エチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ノルマルパラフィン、ナフテン、イソパラフィン、ケロシン、鉱油等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、ジイソプロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、アジピン酸ジメチル等のエステル類、γ-ブチロラクトン等のラクトン類、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-アルキルピロリジノン等のアミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類、大豆油、ナタネ油、綿実油、ヒマシ油等の植物油、水等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
界面活性剤は特に制限されないが、好ましくは水中でゲル化するか、あるいは膨潤性を示すものであり、例えばソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ジエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンジアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、アルキルポリオキシエチレンポリプロピレンブロックポリマーエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレン脂肪酸ビスフェニルエーテル、ポリアルキレンベンジルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル、アセチレンジオール、ポリオキシアルキレン付加アセチレンジオール、ポリオキシエチレンエーテル型シリコーン、エステル型シリコーン、フッ素系界面活性剤、ポリオキシエチレンひまし油、ポリオキシエチレン硬化ひまし油等の非イオン性界面活性剤、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、脂肪酸塩、ポリカルボン酸塩、N-メチル-脂肪酸サルコシネート、樹脂酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸塩等のアニオン性界面活性剤、ラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン塩酸塩、オレイルアミン塩酸塩、ステアリルアミン酢酸塩、ステアリルアミノプロピルアミン酢酸塩、アルキルトリメチルアンモニウムクロリド、アルキルジメチルベンザルコニウムクロリド等のアルキルアミン塩等のカチオン界面活性剤、アミノ酸型又はベタイン型等の両性界面活性剤等が挙げられる。
これらの界面活性剤は1種用いてもよいし、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、結合剤や粘着付与剤としては、例えばカルボキシメチルセルロースやその塩、デキストリン、水溶性デンプン、キサンタンガム、グアーガム、蔗糖、ポリビニルピロリドン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸ナトリウム、平均分子量6000~20000のポリエチレングリコール、平均分子量10万~500万のポリエチレンオキサイド、天然燐脂質(例えばセフアリン酸、レシチン等)等が挙げられる。
増粘剤としては、例えばキサンタンガム、グアーガム、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、アクリル系ポリマー、デンプン誘導体、多糖類のような水溶性高分子、高純度ベントナイト、ホワイトカーボンのような無機微粉等が挙げられる。
着色剤としては、例えば酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルーのような無機顔料、アリザリン染料、アゾ染料、金属フタロシアニン染料のような有機染料等が挙げられる。
拡展剤としては、例えばシリコーン系界面活性剤、セルロース粉末、デキストリン、加工デンプン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、架橋ポリビニルピロリドン、マレイン酸とスチレン類、メタアクリル酸共重合体、多価アルコールのポリマーとジカルボン酸無水物とのハーフエステル、ポリスチレンスルホン酸の水溶性塩等が挙げられる。
展着剤としては、例えばジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルなどの種々の界面活性剤、パラフィン、テルペン、ポリアミド樹脂、ポリアクリル酸塩、ポリオキシエチレン、ワックス、ポリビニルアルキルエーテル、アルキルフェノールホルマリン縮合物、合成樹脂エマルション等が挙げられる。
凍結防止剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類等が挙げられる。
固結防止剤としては、例えばデンプン、アルギン酸、マンノース、ガラクトース等の多糖類、ポリビニルピロリドン、ホワイトカーボン、エステルガム、石油樹脂等が挙げられる。
崩壊剤としては、例えばトリポリリン酸ソーダ、ヘキサメタリン酸ソーダ、ステアリン酸金属塩、セルロース粉末、デキストリン、メタクリル酸エステルの共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、スルホン化スチレン・イソブチレン・無水マレイン酸共重合体、デンプン・ポリアクリロニトリルグラフト共重合体等が挙げられる。
分解防止剤としては、例えばゼオライト、生石灰、酸化マグネシウムのような乾燥剤、フェノール系、アミン系、硫黄系、リン酸系等の酸化防止剤、サリチル酸系、ベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤等が挙げられる。
防腐剤としては、例えばソルビン酸カリウム、1,2-ベンズチアゾリン-3-オン等が挙げられる。
本発明の農薬組成物において、上記添加成分を含有させる場合、その含有割合については、質量基準で、担体では通常5~95%、好ましくは20~90%、界面活性剤では通常0.1%~30%、好ましくは0.5~10%、その他の添加剤は0.1~30%、好ましくは0.5~10%の範囲で選ばれる。
本発明の農薬組成物は、液剤、乳剤、水和剤、粉剤、油剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ジャンボ剤、サスポエマルション等の任意の剤型に製剤化して使用される。
使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するか又は直接施用する。
本発明の農薬組成物は茎葉散布、土壌施用又は水面施用等により使用することができる。本発明の農薬組成物、特に除草剤は、土壌、特に農園芸用植物を栽培する畑地又は水田の農地に使用される。
本発明の農薬組成物における、有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤等とする場合は0.01~10%(重量)、好ましくは0.05~5%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。乳剤及び水和剤等とする場合は1~50%(重量)、好ましくは5~30%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。また、フロアブル剤等とする場合は1~40%(重量)、好ましくは5~30%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の農薬組成物の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわる。例えば、本発明の農薬組成物を除草剤として、粉剤及び粒剤等のようにそのまま使用する場合は、有効成分として1ヘクタール当り1g~50kg、好ましくは10g~10kgの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤、水和剤及びフロアブル剤等とする場合のように液状で使用する場合は、0.1~50,000ppm、好ましくは10~10,000ppmの範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の農薬組成物は、除草活性に優れており、除草剤として特に有用である。
また、本発明の農薬組成物は、本発明の化合物の他に使用目的に応じて、少なくとも一種の他の農薬活性成分、例えば他の病害防除剤成分、殺虫剤成分、殺ダニ剤成分、殺線虫剤成分、協力剤成分、誘引剤成分、忌避剤成分、除草剤成分、薬害軽減剤成分、微生物農薬成分、植物成長調節剤成分や、肥料、土壌改良剤等と製剤化、混合又は併用してもよい。
他の農薬活性成分や肥料と併用する場合、それぞれの単独成分の製剤を施用時に混合して用いることもできる。更に、それぞれの単独成分の製剤各々を逐次的に用いても良いし、或いは日数をあけて施用しても良い。日数をあけて施用する場合は、使用する他の成分によって異なるが例えばその間隔が1日~40日程度の間隔をおいて処理してもよい。
本発明の農薬組成物で、一般式[1]で表される6-アシルピリジン-2-オン誘導体(ピリドン誘導体)及びその塩から選ばれる少なくとも一つ以上の化合物と、他の農薬活性成分から選ばれる少なくとも一種以上を混用して施用する場合、通常は100:1~1:100、好ましくは20:1~1:20、特に10:1~1:10の質量比で施用される。
以下に本発明の農薬組成物において、本発明の化合物と混合又は併用してもよい他の農薬活性成分のうち公知の除草剤又は植物生長調節剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。
〔除草剤〕
A1.アセチルCoAカルボキシラーゼ(ACCase)阻害型除草剤
(A1-1) アリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物:クロジナホップ(clodinafop-propargyl)、シハロホップ・ブチル(cyhalofop-butyl)、ジクロホップ・メチル(diclofop-methyl)、ジクロホップ・P・メチル(diclofop-P-methyl)、フェノキサプロップ・P・エチル(fenoxaprop-P-ethyl)、フルアジホップ(fluazifop-butyl)、フルアジホップ・P(fluazifop-P-butyl)、ハロキシホップ(haloxyfop)、ハロキシホップ-エトティル(haloxyfop-etotyl)ハロキシホップ・P(haloxyfop-P)、メタミホップ(metamifop)、プロパキザホップ(propaquizafop)、キザロホップ(quizalofop-ethyl)、キザロホップ・P・エチル(quizalofop-P-ethyl)、キザロホップ・P・テフリル(quizalofop-P-tefuryl)、フェンチアプロップ・エチル(fenthiaprop-ethyl)
(A1-2) シクロヘキサンジオン系化合物:アロキシジム(alloxydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、クレトジム(clethodim)、シクロキシジム(cycloxydim)、プロホキシジム(profoxydim)、セトキシジム(sethoxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)
(A1-3) フェニルピラゾリン系化合物:アミノピラリド(aminopyralid)、ピノキサデン(pinoxaden)
A1.アセチルCoAカルボキシラーゼ(ACCase)阻害型除草剤
(A1-1) アリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物:クロジナホップ(clodinafop-propargyl)、シハロホップ・ブチル(cyhalofop-butyl)、ジクロホップ・メチル(diclofop-methyl)、ジクロホップ・P・メチル(diclofop-P-methyl)、フェノキサプロップ・P・エチル(fenoxaprop-P-ethyl)、フルアジホップ(fluazifop-butyl)、フルアジホップ・P(fluazifop-P-butyl)、ハロキシホップ(haloxyfop)、ハロキシホップ-エトティル(haloxyfop-etotyl)ハロキシホップ・P(haloxyfop-P)、メタミホップ(metamifop)、プロパキザホップ(propaquizafop)、キザロホップ(quizalofop-ethyl)、キザロホップ・P・エチル(quizalofop-P-ethyl)、キザロホップ・P・テフリル(quizalofop-P-tefuryl)、フェンチアプロップ・エチル(fenthiaprop-ethyl)
(A1-2) シクロヘキサンジオン系化合物:アロキシジム(alloxydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、クレトジム(clethodim)、シクロキシジム(cycloxydim)、プロホキシジム(profoxydim)、セトキシジム(sethoxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)
(A1-3) フェニルピラゾリン系化合物:アミノピラリド(aminopyralid)、ピノキサデン(pinoxaden)
B.アセト乳酸合成酵素(ALS)阻害型除草剤
(B-1) イミダゾリノン系化合物:イマザメタベンズ(imazamethabenz-methyl)、イマザモックス(imazamox)、イマザピク(imazapic)(アミン等との塩を含む)、イマザピル(imazapyr)(イソプロピルアミン等の塩を含む)、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)
(B-2) ピリミジニルオキシ安息香酸系化合物:ビスピリバック・ナトリウム塩(bispyribac-sodium)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド(pyriftalid)、ピリミノバック・メチル(pyriminobac-methyl)、ピリチオバック・ナトリウム塩(pyrithiobac-sodium)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)
(B-3) スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物:フルカルバゾン・ナトリウム塩(flucarbazone-sodium)、チエンカルバゾン(thiencarbazone)(ナトリウム塩、メチルエステル等を含む)、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩(propoxycarbazone-sodium)、プロカルバゾン・ナトリウム塩(procarbazone-sodium)
(B-4) スルホニルウレア系化合物:アミドスルフロン(amidosulfuron)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、ベンスルフロン・メチル(bensulfuron-methyl)、クロリムロン・エチル(chlorimuron-ethyl)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、シノスルフロン(cinosulfuron)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、エタメトスルフロン・メチル(ethametsulfuron-methyl)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron-methyl-sodium)、フォラムスルフロン(foramsulfuron)、ハロスルフロン・メチル(halosulfuron-methyl)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム塩(iodosulfulon-methyl-sodium)、メソスフロン・メチル(mesosulfuron-methyl)、メトスルフロン・メチル(metsulfuron-methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、プリミスルフロン(primisulfuron-methyl)、プロスルフロン(prosulfuron)、ピラゾスルフロン・エチル(pyrazosulfuron-ethyl)、リムスルフロン(rimsulfuron)、スルホメツロン・メチル(sulfometuron-methyl)、スルフォスルフロン(sulfosulfuron)、チフェンスルフロン・メチル(thifensulfuron-methyl)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベニュロン・メチル(tribenuron-methyl)、トリフロキシスルフロンナトリウム塩(trifloxysulfuron-sodium)、トリフルスルフロン・メチル(triflusulfuron-methyl)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、オルトスルファムロン(orthosulfamuron)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron)、メタゾスルフロン(metazosukfuron)フルセトスルフロン(flucetosulfuron)
(B-5) トリアゾロピリミジン系化合物:クロランスラム・メチル(cloransulam-methyi)、ジクロスラム(diclosulam)、フロラスラム(florasulam)、フルメツラム(flumetsulam)、メトスラム(metosulam)、ペノキススラム(penoxsulam)、ピロクススラム(pyroxsulam)
(B-1) イミダゾリノン系化合物:イマザメタベンズ(imazamethabenz-methyl)、イマザモックス(imazamox)、イマザピク(imazapic)(アミン等との塩を含む)、イマザピル(imazapyr)(イソプロピルアミン等の塩を含む)、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)
(B-2) ピリミジニルオキシ安息香酸系化合物:ビスピリバック・ナトリウム塩(bispyribac-sodium)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド(pyriftalid)、ピリミノバック・メチル(pyriminobac-methyl)、ピリチオバック・ナトリウム塩(pyrithiobac-sodium)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)
(B-3) スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物:フルカルバゾン・ナトリウム塩(flucarbazone-sodium)、チエンカルバゾン(thiencarbazone)(ナトリウム塩、メチルエステル等を含む)、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩(propoxycarbazone-sodium)、プロカルバゾン・ナトリウム塩(procarbazone-sodium)
(B-4) スルホニルウレア系化合物:アミドスルフロン(amidosulfuron)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、ベンスルフロン・メチル(bensulfuron-methyl)、クロリムロン・エチル(chlorimuron-ethyl)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、シノスルフロン(cinosulfuron)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、エタメトスルフロン・メチル(ethametsulfuron-methyl)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron-methyl-sodium)、フォラムスルフロン(foramsulfuron)、ハロスルフロン・メチル(halosulfuron-methyl)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム塩(iodosulfulon-methyl-sodium)、メソスフロン・メチル(mesosulfuron-methyl)、メトスルフロン・メチル(metsulfuron-methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、プリミスルフロン(primisulfuron-methyl)、プロスルフロン(prosulfuron)、ピラゾスルフロン・エチル(pyrazosulfuron-ethyl)、リムスルフロン(rimsulfuron)、スルホメツロン・メチル(sulfometuron-methyl)、スルフォスルフロン(sulfosulfuron)、チフェンスルフロン・メチル(thifensulfuron-methyl)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベニュロン・メチル(tribenuron-methyl)、トリフロキシスルフロンナトリウム塩(trifloxysulfuron-sodium)、トリフルスルフロン・メチル(triflusulfuron-methyl)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、オルトスルファムロン(orthosulfamuron)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron)、メタゾスルフロン(metazosukfuron)フルセトスルフロン(flucetosulfuron)
(B-5) トリアゾロピリミジン系化合物:クロランスラム・メチル(cloransulam-methyi)、ジクロスラム(diclosulam)、フロラスラム(florasulam)、フルメツラム(flumetsulam)、メトスラム(metosulam)、ペノキススラム(penoxsulam)、ピロクススラム(pyroxsulam)
C1.光化学系II(Photosystem II)での光合成阻害除草剤1
(C1-1)フェニルカルバマート系除化合物:デスメディファム(desmedipham)、フェンメディファム(phenmedipham)
(C1-2)ピリダジノン系化合物:クロリダゾン(chloridazon)、ブロムピラゾン(brompyrazon)
(C1-3)トリアジン系化合物:アメトリン(ametryn)、アトラジン(atrazine)、シアナジン(cyanazine)、デスメトリン(desmetryne)、ジメタメトリン(dimethametryn)、エグリナジン(eglinazine-ethyl)、プロメトン(prometon)、プロメトリン(prometryn)、プロパジン(propazine)、シマジン(simazine)、シメトリン(simetryn)、テルブメトン(terbumeton)、テルブチラジン(terbuthylazine)、テルブトリン(terbutryn)、トリエタジン(trietazine)
(C1-4)トリアジノン系化合物:メタミトロン(metamitron)、メトリブジン(metribuzin)
(C1-5)トリアゾリノン系化合物:アミカルバゾン(amicarbazone)
(C1-6)ウラシル系化合物:ブロマシル(bromacil)、レナシル(lenacil)、ターバシル(terbacil)
C2.光化学系II(Photosystem II)での光合成阻害除草剤2
(C2-1)アミド系化合物:ペンタノクロール(pentanochlor)、プロパニル(propanil)
(C2-2)尿素系化合物:クロルブロムロン(chlorbromuron)、クロロトルロン(chlorotoluron)、クロロクスロン(chloroxuron)、ジメフロン(dimefuron)、ジウロン(diuron)、エチジムロン(ethidimuron)、フェニュロン(fenuron)、フルオメツロン(fluometuron)、イソプロツロン(isoproturon)、イソウロン(isouron)、リニュロン(linuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、メトブロムロン(metobromuron)、メトキスロン(metoxuron)、モノリニュロン(monolinuron)、ネブロン(neburon)、シデュロン(siduron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メトベンズロン(metobenzuron)
C3.光化学系II(Photosystem II)での光合成阻害除草剤3
(C3-1)ベンゾチアジアゾン系化合物:ベンタゾン(bentazone)
(C3-2)ニトリル系化合物:ブロモフェノキシム(bromofenoxim)、ブロモキシニル(bromoxynil)(酪酸、オクタン酸又はヘプタン酸等のエステル体を含む)、アイオキシニル(ioxynil)
(C3-3)フェニルピラジン系除草性化合物:ピリダフォル(pyridafol)、ピリデート(pyridate)
(C1-1)フェニルカルバマート系除化合物:デスメディファム(desmedipham)、フェンメディファム(phenmedipham)
(C1-2)ピリダジノン系化合物:クロリダゾン(chloridazon)、ブロムピラゾン(brompyrazon)
(C1-3)トリアジン系化合物:アメトリン(ametryn)、アトラジン(atrazine)、シアナジン(cyanazine)、デスメトリン(desmetryne)、ジメタメトリン(dimethametryn)、エグリナジン(eglinazine-ethyl)、プロメトン(prometon)、プロメトリン(prometryn)、プロパジン(propazine)、シマジン(simazine)、シメトリン(simetryn)、テルブメトン(terbumeton)、テルブチラジン(terbuthylazine)、テルブトリン(terbutryn)、トリエタジン(trietazine)
(C1-4)トリアジノン系化合物:メタミトロン(metamitron)、メトリブジン(metribuzin)
(C1-5)トリアゾリノン系化合物:アミカルバゾン(amicarbazone)
(C1-6)ウラシル系化合物:ブロマシル(bromacil)、レナシル(lenacil)、ターバシル(terbacil)
C2.光化学系II(Photosystem II)での光合成阻害除草剤2
(C2-1)アミド系化合物:ペンタノクロール(pentanochlor)、プロパニル(propanil)
(C2-2)尿素系化合物:クロルブロムロン(chlorbromuron)、クロロトルロン(chlorotoluron)、クロロクスロン(chloroxuron)、ジメフロン(dimefuron)、ジウロン(diuron)、エチジムロン(ethidimuron)、フェニュロン(fenuron)、フルオメツロン(fluometuron)、イソプロツロン(isoproturon)、イソウロン(isouron)、リニュロン(linuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、メトブロムロン(metobromuron)、メトキスロン(metoxuron)、モノリニュロン(monolinuron)、ネブロン(neburon)、シデュロン(siduron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メトベンズロン(metobenzuron)
C3.光化学系II(Photosystem II)での光合成阻害除草剤3
(C3-1)ベンゾチアジアゾン系化合物:ベンタゾン(bentazone)
(C3-2)ニトリル系化合物:ブロモフェノキシム(bromofenoxim)、ブロモキシニル(bromoxynil)(酪酸、オクタン酸又はヘプタン酸等のエステル体を含む)、アイオキシニル(ioxynil)
(C3-3)フェニルピラジン系除草性化合物:ピリダフォル(pyridafol)、ピリデート(pyridate)
D.光化学系Iからのラジカル生成型除草性剤
(D-1)ビピリジウム系化合物:ジクワット(diquat)、パラコート(paraquat dichloride)
(D-1)ビピリジウム系化合物:ジクワット(diquat)、パラコート(paraquat dichloride)
E.プロトポルフィノリーゲンオキシダーゼ(PPO)阻害型除草剤
(E-1)ジフェニルエーテル系化合物:アシフルオルフェン(acifluorfen-sodium)、ビフェノックス(bifenox)、クロメトキシフェン(chlomethoxyfen)、エトキシフェン(ethoxyfen-ethyl)、フルオログリコフェン(fluoroglycofen-ethyl)、ホメサフェン(fomesafen)、ラクトフェン(lactofen)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)
(E-2)N-フェニルフタルイミド系化合物:シニドン・エチル(cinidon-ethyl)、フルミクロラック・ペンチル(flumiclorac-pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、クロルフタリム(chlorphthalim)
(E-3)オキシジアゾール系化合物:オキサジアルギル(oxadiargyl)、オキサジアゾン(oxadiazon)
(E-4)オキサゾリジンジオン系化合物:ペントキサゾン(pentoxazone)
(E-5)フェニルピラゾール系化合物:フルアゾレート(fluazolate)、ピラフルフェン・エチル(pyraflufen-ethyl)
(E-6)ピリミジンジオン系化合物:ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ブタフェナシル(butafenacil)、サフルフェナシル(saflufenacil)
(E-7)チアジアゾール系化合物:フルチアセット・メチル(fluthiacet-methyl)、チジアジミン(thidiazimin)
(E-8)トリアゾリノン系化合物:アザフェニジン(azafenidin)、カルフェントラゾン・エチル(carfentrazone-ethyl)、スルフェントラゾン(sulfentrazone)、ベンカルバゾン(bencarbazone)
(E-9)その他の化合物:フルフェンピル・エチル(flufenpyr-ethyl)、プロフルアゾール(profluazol)、ピラクロニル(pyraclonil)、SYP-298(コード番号)、SYP-300(コード番号)
(E-1)ジフェニルエーテル系化合物:アシフルオルフェン(acifluorfen-sodium)、ビフェノックス(bifenox)、クロメトキシフェン(chlomethoxyfen)、エトキシフェン(ethoxyfen-ethyl)、フルオログリコフェン(fluoroglycofen-ethyl)、ホメサフェン(fomesafen)、ラクトフェン(lactofen)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)
(E-2)N-フェニルフタルイミド系化合物:シニドン・エチル(cinidon-ethyl)、フルミクロラック・ペンチル(flumiclorac-pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、クロルフタリム(chlorphthalim)
(E-3)オキシジアゾール系化合物:オキサジアルギル(oxadiargyl)、オキサジアゾン(oxadiazon)
(E-4)オキサゾリジンジオン系化合物:ペントキサゾン(pentoxazone)
(E-5)フェニルピラゾール系化合物:フルアゾレート(fluazolate)、ピラフルフェン・エチル(pyraflufen-ethyl)
(E-6)ピリミジンジオン系化合物:ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ブタフェナシル(butafenacil)、サフルフェナシル(saflufenacil)
(E-7)チアジアゾール系化合物:フルチアセット・メチル(fluthiacet-methyl)、チジアジミン(thidiazimin)
(E-8)トリアゾリノン系化合物:アザフェニジン(azafenidin)、カルフェントラゾン・エチル(carfentrazone-ethyl)、スルフェントラゾン(sulfentrazone)、ベンカルバゾン(bencarbazone)
(E-9)その他の化合物:フルフェンピル・エチル(flufenpyr-ethyl)、プロフルアゾール(profluazol)、ピラクロニル(pyraclonil)、SYP-298(コード番号)、SYP-300(コード番号)
F1.フィトエンデサチュラーゼ(PDS)阻害剤除草剤
(F1-1)ピリダジノン系化合物:ノルフルラゾン(norflurazon)
(F1-2)ピリミジンカルボキサミド系化合物:ジフルフェニカン(diflufenican)、ピコリナフェン(picolinafen)
(F1-3)その他の化合物
ベフルブタミド(beflubutamid)、フルリドン(fluridone)、フルロクロリドン(flurochloridone)、フルルタモン(flurtamone)
F2.4-ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ(HPPD)阻害型除草剤
(F2-1)カリステモン系化合物:メソトリオン(mesotrione)
(F2-2)イソキサゾール系化合物:ピラスルホトール(pyrasulfotole)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、イソキサクロルトール(isoxachlortole)
(F2-3)ピラゾール系化合物:ベンゾフェナップ(benzofenap)、ピラゾリネート(pyrazolynate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)
(F2-4)トリケトン系化合物:スルコトリオン(sulcotrione)、テフリルトリオン(tefuryltrion)、テムボトリオン(tembotrione)、ピラスルホトール(pyrasulfotole)、トプラメゾン(topramezone)、ビシクロピロン(bicyclopyrone)
F3.カロチノイド生合成阻害剤(ターゲット未知)除草剤
(F3-1)ジフェニルエーテル系化合物:アクロニフェン(aclonifen)
(F3-2)イソキサゾリジノン系化合物:クロマゾン(clomazone)
(F3-3)トリアゾール系化合物:アミトロール(amitrole)
(F1-1)ピリダジノン系化合物:ノルフルラゾン(norflurazon)
(F1-2)ピリミジンカルボキサミド系化合物:ジフルフェニカン(diflufenican)、ピコリナフェン(picolinafen)
(F1-3)その他の化合物
ベフルブタミド(beflubutamid)、フルリドン(fluridone)、フルロクロリドン(flurochloridone)、フルルタモン(flurtamone)
F2.4-ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ(HPPD)阻害型除草剤
(F2-1)カリステモン系化合物:メソトリオン(mesotrione)
(F2-2)イソキサゾール系化合物:ピラスルホトール(pyrasulfotole)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、イソキサクロルトール(isoxachlortole)
(F2-3)ピラゾール系化合物:ベンゾフェナップ(benzofenap)、ピラゾリネート(pyrazolynate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)
(F2-4)トリケトン系化合物:スルコトリオン(sulcotrione)、テフリルトリオン(tefuryltrion)、テムボトリオン(tembotrione)、ピラスルホトール(pyrasulfotole)、トプラメゾン(topramezone)、ビシクロピロン(bicyclopyrone)
F3.カロチノイド生合成阻害剤(ターゲット未知)除草剤
(F3-1)ジフェニルエーテル系化合物:アクロニフェン(aclonifen)
(F3-2)イソキサゾリジノン系化合物:クロマゾン(clomazone)
(F3-3)トリアゾール系化合物:アミトロール(amitrole)
G.EPSPシンターゼ合成阻害(芳香族アミノ酸生合成阻害)型除草剤
(G-1)グリシン系化合物:グリホサート(glyphosate)(ナトリウム、アミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン又はトリメシウム等の塩を含む)
(G-1)グリシン系化合物:グリホサート(glyphosate)(ナトリウム、アミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン又はトリメシウム等の塩を含む)
H.グルタミン合成阻害剤除草剤
(H-1)ホスフィン酸系化合物:ビラナホス(bilanafos)、グルホシネート(glufosinate)(アミン又はナトリウム等の塩を含む)
(H-1)ホスフィン酸系化合物:ビラナホス(bilanafos)、グルホシネート(glufosinate)(アミン又はナトリウム等の塩を含む)
I.ジヒドロプテロエート(DHP)阻害剤除草剤
(I-1)カルバマート系化合物:アシュラム(asulam)
(I-1)カルバマート系化合物:アシュラム(asulam)
K1.微小管の集合阻害型除草性剤
(K1-1)ベンズアミド系化合物:プロピザミド(propyzamide)、テブタム(tebutam)
(K1-2)安息香酸系化合物:クロルタル・ジメチル(chlorthal-dimethyl)
(K1-3)ジニトロアニリン系化合物:ベンフルラリン(benfluralin)、ブトラリン(butralin)、ジニトラミン(dinitramine)、エタルフルラリン(ethalfluralin)、フルクロラリン(fluchloralin)、オリザリン(oryzalin)、ペンジメタリン(pendimethalin)、プロジアミン(prodiamine)、トリフルラリン(trifluralin)
(K1-4)ホスホロアミデート系化合物:アミプロホス・メチル(amiprofos-methyl)、ブタミホス(butamifos)
(K1-5)ピリジン系化合物:ジチオピル(dithiopyr)、チアゾピル(thiazopyr)
K2.有糸分裂/微小管組織形成阻害型除草剤
(K2-1)カルバマート系化合物:カルベタミド(carbetamide)、クロルプロファム(chlorpropham)、プロファム(propham)、スエップ(swep)、カルブチレート(karbutilate)
K3.超長鎖脂肪酸伸長酵素(VLCFA)阻害型除草剤
(K3-1)アセトアミド系化合物:ジフェナミド(diphenamid)、ナプロパミド(napropamide)、ナプロアニリド(naproanilide)
(K3-2)クロロアセトアミド系化合物:アセトクロール(acetochlor)、アラクロール(alachlor)、ブタクロール(butachlor)、ブテナクロール(butenachlor)、ジエタチル(diethatyl-ethyl)、 ジメタクロール(dimethachlor)、ジメテナミド(dimethenamid)、ジメテナミド・P(dimethenamid-P)、メタザクロール(metazachlor)、メトラクロール(metolachlor)、ペトキサミド(pethoxamid)、プレチラクロール(pretilachlor)、プロパクロール(propachlor)、プロピソクロール(propisochlor)、S-メトラクロール(S-metolachlor)、テニルクロール(thenylchlor)
(K3-3)オキシアセトアミド系化合物:フルフェナセット(flufenacet )、メフェナセット(mefenacet)
(K3-4)テトラドリノン系化合物:フェントラザミド(fentrazamide)
(K3-5)その他の化合物:アニロホス(anilofos)、ブロモブチド(bromobutide)、カフェンストロール(cafenstrole)、インダノファン(indanofan)、ピペロホス(piperophos)、フェノキサスルホン(fenoxasulfone)、ピロキサスルホン(pyroxasulfone)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)
(K1-1)ベンズアミド系化合物:プロピザミド(propyzamide)、テブタム(tebutam)
(K1-2)安息香酸系化合物:クロルタル・ジメチル(chlorthal-dimethyl)
(K1-3)ジニトロアニリン系化合物:ベンフルラリン(benfluralin)、ブトラリン(butralin)、ジニトラミン(dinitramine)、エタルフルラリン(ethalfluralin)、フルクロラリン(fluchloralin)、オリザリン(oryzalin)、ペンジメタリン(pendimethalin)、プロジアミン(prodiamine)、トリフルラリン(trifluralin)
(K1-4)ホスホロアミデート系化合物:アミプロホス・メチル(amiprofos-methyl)、ブタミホス(butamifos)
(K1-5)ピリジン系化合物:ジチオピル(dithiopyr)、チアゾピル(thiazopyr)
K2.有糸分裂/微小管組織形成阻害型除草剤
(K2-1)カルバマート系化合物:カルベタミド(carbetamide)、クロルプロファム(chlorpropham)、プロファム(propham)、スエップ(swep)、カルブチレート(karbutilate)
K3.超長鎖脂肪酸伸長酵素(VLCFA)阻害型除草剤
(K3-1)アセトアミド系化合物:ジフェナミド(diphenamid)、ナプロパミド(napropamide)、ナプロアニリド(naproanilide)
(K3-2)クロロアセトアミド系化合物:アセトクロール(acetochlor)、アラクロール(alachlor)、ブタクロール(butachlor)、ブテナクロール(butenachlor)、ジエタチル(diethatyl-ethyl)、 ジメタクロール(dimethachlor)、ジメテナミド(dimethenamid)、ジメテナミド・P(dimethenamid-P)、メタザクロール(metazachlor)、メトラクロール(metolachlor)、ペトキサミド(pethoxamid)、プレチラクロール(pretilachlor)、プロパクロール(propachlor)、プロピソクロール(propisochlor)、S-メトラクロール(S-metolachlor)、テニルクロール(thenylchlor)
(K3-3)オキシアセトアミド系化合物:フルフェナセット(flufenacet )、メフェナセット(mefenacet)
(K3-4)テトラドリノン系化合物:フェントラザミド(fentrazamide)
(K3-5)その他の化合物:アニロホス(anilofos)、ブロモブチド(bromobutide)、カフェンストロール(cafenstrole)、インダノファン(indanofan)、ピペロホス(piperophos)、フェノキサスルホン(fenoxasulfone)、ピロキサスルホン(pyroxasulfone)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)
L.セルロース合成阻害剤除草剤
(L-1)ベンズアミド系化合物:イソキサベン(isoxaben)
(L-2)ニトリル系化合物:ジクロベニル(dichlobenil)、クロルチアミド(chlorthiamid)
(L-3)トリアゾロカルボキサミド系化合物:フルポキサム(flupoxame)
(L-1)ベンズアミド系化合物:イソキサベン(isoxaben)
(L-2)ニトリル系化合物:ジクロベニル(dichlobenil)、クロルチアミド(chlorthiamid)
(L-3)トリアゾロカルボキサミド系化合物:フルポキサム(flupoxame)
M. アンカップラー(細胞膜破裂)型除草剤
(M-1)ジニトロフェノール系化合物:ジノテルブ(dinoterb)、DNOC(アミン又はナトリウム等の塩を含む)
(M-1)ジニトロフェノール系化合物:ジノテルブ(dinoterb)、DNOC(アミン又はナトリウム等の塩を含む)
N.脂質生合成(ACCase阻害以外)阻害型除草剤
(N-1)ベンゾフラン系化合物:ベンフレセート(benfuresate)、エトフメセート(ethofumesate)
(N-2)ハロゲン化カルボン酸系化合物:ダラポン(dalapon)、フルプロパネート(flupropanate)、TCA(ナトリウム、カルシウム又はアンモニア等の塩を含む)
(N-3)ホスホロジチオエート系化合物:ベンスリド(bensulide)
(N-4)チオカルバマート系化合物:ブチレート(butylate)、シクロエート(cycloate)、ジメピペレート(dimepiperate)、EPTC、エスプロカルブ(esprocarb)、モリネート(molinate)、オルベンカルブ(orbencarb)、ペブレート(pebulate)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、チオベンカルブ(thiobencarb)、チオカルバジル(tiocarbazil)、トリアレート(tri-allate)、バーナレート(vernolate)
(N-1)ベンゾフラン系化合物:ベンフレセート(benfuresate)、エトフメセート(ethofumesate)
(N-2)ハロゲン化カルボン酸系化合物:ダラポン(dalapon)、フルプロパネート(flupropanate)、TCA(ナトリウム、カルシウム又はアンモニア等の塩を含む)
(N-3)ホスホロジチオエート系化合物:ベンスリド(bensulide)
(N-4)チオカルバマート系化合物:ブチレート(butylate)、シクロエート(cycloate)、ジメピペレート(dimepiperate)、EPTC、エスプロカルブ(esprocarb)、モリネート(molinate)、オルベンカルブ(orbencarb)、ペブレート(pebulate)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、チオベンカルブ(thiobencarb)、チオカルバジル(tiocarbazil)、トリアレート(tri-allate)、バーナレート(vernolate)
O.合成オーキシン型除草剤
(O-1)安息香酸系化合物:クロランベン(chloramben)、2,3,6-TBA、ジカンバ(dicamba)(アミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、ジグリコールアミン、ナトリウム又はリチウム等の塩を含む)
(O-2)フェノキシカルボン酸系化合物:2,4,5‐T、2,4-D(アミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、イソプロピルアミン、ナトリウム又はリチウム等の塩を含む)、2,4-DB、クロメプロップ(clomeprop)、ジクロルプロップ(dichlorprop)、ジクロルプロップ-P(dichlorprop-P)、MCPA、MCPA・チオエチル(MCPA-thioethyl)、MCPB(ナトリウム塩、エチルエステル等を含む)、メコプロップ(mecoprop)(ナトリウム、カリウム、イソプロピルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミン等の塩を含む)、メコプロップ-P・カリウム塩(mecoprop-P)
(O-3)ピリジンカルボン酸系化合物:クロピラリド(clopyralid)、フルロキシピル(fluroxypyr)、ピクロラム(picloram)、トリクロピル(triclopyr)、トリクロピル-ブトティル(triclopyr-butotyl)
(O-4)キノリンカルボン酸系化合物:キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)
(O-5)その他の化合物:ベナゾリン(benazolin)
(O-1)安息香酸系化合物:クロランベン(chloramben)、2,3,6-TBA、ジカンバ(dicamba)(アミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、ジグリコールアミン、ナトリウム又はリチウム等の塩を含む)
(O-2)フェノキシカルボン酸系化合物:2,4,5‐T、2,4-D(アミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、イソプロピルアミン、ナトリウム又はリチウム等の塩を含む)、2,4-DB、クロメプロップ(clomeprop)、ジクロルプロップ(dichlorprop)、ジクロルプロップ-P(dichlorprop-P)、MCPA、MCPA・チオエチル(MCPA-thioethyl)、MCPB(ナトリウム塩、エチルエステル等を含む)、メコプロップ(mecoprop)(ナトリウム、カリウム、イソプロピルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミン等の塩を含む)、メコプロップ-P・カリウム塩(mecoprop-P)
(O-3)ピリジンカルボン酸系化合物:クロピラリド(clopyralid)、フルロキシピル(fluroxypyr)、ピクロラム(picloram)、トリクロピル(triclopyr)、トリクロピル-ブトティル(triclopyr-butotyl)
(O-4)キノリンカルボン酸系化合物:キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)
(O-5)その他の化合物:ベナゾリン(benazolin)
P.オーキシン輸送阻害型除草剤
(P-1)フタラマート(Phthalamates)系化合物:ナプタラム(naptalam)(ナトリウム等との塩を含む)
(P-2)セミカルバゾン系化合物:ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr)
(P-1)フタラマート(Phthalamates)系化合物:ナプタラム(naptalam)(ナトリウム等との塩を含む)
(P-2)セミカルバゾン系化合物:ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr)
Z.作用性未知の除草剤
フラムプロップ・M(flamprop-M)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、フラムプロップ(flamprop)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、クロルフルレノール(chlorflurenol-methyl)、シンメチリン(cinmethylin)、クミルロン(cumyluron)、ダイムロン(daimuron)、メチルダイムロン(methyldymuron)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、エトベンザニド(etobenzanid)、ホサミン(fosamine)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、アクロレイン(acrolein)、AE-F‐150944(コード番号)、アミノシクロピラクロル(aminocyclopyrachlor)、シアナミド(cyanamide)、heptamaloxyloglucan、インダジフラム(indaziflam)、トリアジフラム(triaziflam)、キノクラミン(quinoclamine)、エンドタール二ナトリウム塩(endothal-disodium)、フェニソファム(phenisopham)
フラムプロップ・M(flamprop-M)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、フラムプロップ(flamprop)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、クロルフルレノール(chlorflurenol-methyl)、シンメチリン(cinmethylin)、クミルロン(cumyluron)、ダイムロン(daimuron)、メチルダイムロン(methyldymuron)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、エトベンザニド(etobenzanid)、ホサミン(fosamine)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、アクロレイン(acrolein)、AE-F‐150944(コード番号)、アミノシクロピラクロル(aminocyclopyrachlor)、シアナミド(cyanamide)、heptamaloxyloglucan、インダジフラム(indaziflam)、トリアジフラム(triaziflam)、キノクラミン(quinoclamine)、エンドタール二ナトリウム塩(endothal-disodium)、フェニソファム(phenisopham)
〔植物生長調節化合物剤〕
1‐メチルシクロプロペン(1-methylcyclopropene)、1‐ナフチルアセトアミド(1-naphthylacetamide)、2,6‐ジイソプロピルナフタレン(2,6-diisopropylnaphthalene)、4‐CPA、ベンジルアミノプリン(benzylaminopurine)、アンシミドール(ancymidol)、アビグリシン(aviglycine)、カルボネ(carvone)、クロルメコート(chlormequat)、クロプロップ(cloprop)、クロキシホナック(cloxyfonac)、クロキシホナック・カリウム塩(cloxyfonac-potassium)、シクラニリド(cyclanilide)、サイトカイニン(cytokinins)ダミノジット(daminodide)、ジケグラック(dikegulac)、ジメチピン(dimethipin)、エテホン(ethephon)、エチクロゼート(ethychlozate)、フルメトラリン(flumetralin)、フルレノール(flurenol)、フルルプリミドール(flurprimidol)、ホルクロルフェニュロン(forchlorfenuron)、ジベレリン(gibberellin acid)、イナベンフィド(inabenfide)、インドール酢酸(indol acetic acid)、インドール酪酸(indol butyric acid)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、メフルイジド(mefluidide)、メピコート・クロリド(mepiquat chloride)、デシルアルコール(n-decanol)、パクロブトラゾール(paclobutrazol)、プロヘキサジオン・カルシウム塩(prohexadione-calcium)、プロヒドロジャスモン(prohydrojasmon),シントフェン(sintofen)、チジアズロン(thidiazuron)、トリアコンタノール(triacontanol)、トリネキサパック・エチル(trinexapac-ethyl)、ウニコナゾール(uniconazole)、ウニコナゾール-P(uniconazole-P)
1‐メチルシクロプロペン(1-methylcyclopropene)、1‐ナフチルアセトアミド(1-naphthylacetamide)、2,6‐ジイソプロピルナフタレン(2,6-diisopropylnaphthalene)、4‐CPA、ベンジルアミノプリン(benzylaminopurine)、アンシミドール(ancymidol)、アビグリシン(aviglycine)、カルボネ(carvone)、クロルメコート(chlormequat)、クロプロップ(cloprop)、クロキシホナック(cloxyfonac)、クロキシホナック・カリウム塩(cloxyfonac-potassium)、シクラニリド(cyclanilide)、サイトカイニン(cytokinins)ダミノジット(daminodide)、ジケグラック(dikegulac)、ジメチピン(dimethipin)、エテホン(ethephon)、エチクロゼート(ethychlozate)、フルメトラリン(flumetralin)、フルレノール(flurenol)、フルルプリミドール(flurprimidol)、ホルクロルフェニュロン(forchlorfenuron)、ジベレリン(gibberellin acid)、イナベンフィド(inabenfide)、インドール酢酸(indol acetic acid)、インドール酪酸(indol butyric acid)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、メフルイジド(mefluidide)、メピコート・クロリド(mepiquat chloride)、デシルアルコール(n-decanol)、パクロブトラゾール(paclobutrazol)、プロヘキサジオン・カルシウム塩(prohexadione-calcium)、プロヒドロジャスモン(prohydrojasmon),シントフェン(sintofen)、チジアズロン(thidiazuron)、トリアコンタノール(triacontanol)、トリネキサパック・エチル(trinexapac-ethyl)、ウニコナゾール(uniconazole)、ウニコナゾール-P(uniconazole-P)
以下に本発明の化合物と混合又は併用してもよい公知の薬害軽減剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。
ベノキサコル(benoxacor)、フリラゾール(furilazole)、ジクロルミド(dichlormid)、ジシクロノン(dicyclonone)、DKA-24(N1,N2-ジアリル-N2-ジクロロアセチルグリシンアミド)、AD-67(4-ジクロロアセチル-1-オキサ-4-アザスピロ[4.5]デカン)、PPG-1292(2,2-ジクロロ-N-(1,3-ジオキサン-2-イルメチル)-N-(2-プロペニル)アセトアミド)、R-29148(3-ジクロロアセチル-2,2,5-トリメチル-1,3-オキサゾリジン)、クロキントセット-メキシル(cloquintcet-mexyl)、ナフタル酸無水物(1,8-Naphthalic Anhydride)、メフェンピル-ジエチル(mefenpyr-diethyl)、メフェンピル(mefenpyr)、メフェンピルエチル(mefenpyr-ethyl)、フェンクロラゾール-エチル(fenchlorazole O ethyl)、フェンクロリム(fenclorim)、MG-191(2-ジクロロメチル-2-メチル-1,3-ジオキサン)、シオメトリニル(cyometrinil)、フルラゾール(flurazole)、フルキソフェニム(fluxofenim)、イソキサジフェン(isoxadifen)、イソキサジフェン-エチル(isoxadifen-ethyl)、メコプロップ(mecoprop)、MCPA、ダイムロン(daimuron)、2,4-D、MON4660(コード番号)、オキサベトリニル(oxabetrinil)、シプロスルファミド(cyprosulfamide)及びTI‐35(コード番号)。
以下に本発明化合物と混合又は併用してもよい他の農薬活性成分のうち公知の植物病害防除剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。
1. 核酸生合成阻害剤
アシルアラニン化合物:ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシル・M(benalaxyl-M)、フララキシル(furalaxyl)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル・M(metalaxyl-M);
オキサゾリジノン系化合物:オキサジキシル(oxadixyl);
ブチロラクトン系化合物:クロジラコン(clozylacon)、オフラセ(ofurace);
ヒドロキシ‐(2‐アミノ)ピリミジン系化合物:ブピリメート(bupirimate)、ジメチリモル(dimethirimol)、エチリモル(ethirimol);
イソキサゾール系化合物:ヒメキサゾール(hymexazol);
イソチアゾロン系化合物:オクチリノン(octhilinone);
カルボン酸系化合物:オキソリニック酸(oxolinic acid)
アシルアラニン化合物:ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシル・M(benalaxyl-M)、フララキシル(furalaxyl)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル・M(metalaxyl-M);
オキサゾリジノン系化合物:オキサジキシル(oxadixyl);
ブチロラクトン系化合物:クロジラコン(clozylacon)、オフラセ(ofurace);
ヒドロキシ‐(2‐アミノ)ピリミジン系化合物:ブピリメート(bupirimate)、ジメチリモル(dimethirimol)、エチリモル(ethirimol);
イソキサゾール系化合物:ヒメキサゾール(hymexazol);
イソチアゾロン系化合物:オクチリノン(octhilinone);
カルボン酸系化合物:オキソリニック酸(oxolinic acid)
2. 有糸分裂及び細胞分裂阻害剤
ベンゾイミダゾール系化合物:ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、フベリダゾール(fuberidazole)、チアベンダゾール(thiabendazole);
チオファネート系化合物:チオファネート(thiophanate)、チオファネート・メチル(thiophanate-methyl);
N‐フェニルカルバマート系化合物:ジエトフェンカルブ(diethofencarb );
トルアミド系化合物:ゾキサミド(zoxamide);
フェニルウレア系化合物:ペンシクロン(pencycuron);
ピリニジルメチルベンズアミド系化合物:フルオピコリド(fluopicolide)
ベンゾイミダゾール系化合物:ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、フベリダゾール(fuberidazole)、チアベンダゾール(thiabendazole);
チオファネート系化合物:チオファネート(thiophanate)、チオファネート・メチル(thiophanate-methyl);
N‐フェニルカルバマート系化合物:ジエトフェンカルブ(diethofencarb );
トルアミド系化合物:ゾキサミド(zoxamide);
フェニルウレア系化合物:ペンシクロン(pencycuron);
ピリニジルメチルベンズアミド系化合物:フルオピコリド(fluopicolide)
3. 呼吸阻害剤
ピリミジンアミン系化合物:ジフルメトリム(diflumetorim);
カルボキサミド系化合物:ベノダニル(benodanil)、フルトラニル(flutolanil)、メプロニル(mepronil)、フルオピラム(fluopyram)、フェンフラム(fenfuram)、カルボキシン(carboxin)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、チフルザミド(thifluzamide)、ビキサフェン(bixafen)、フラメトピル(furametpyr)、イソピラザム(isopyrazam)、ペンフルフェン(penflufen)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、セダキサン(sedaxane)、ボスカリド(boscalid);
メトキシアクリレート系化合物:アゾキシストロビン(azoxystrobin)、エネストロブリン(enestroburin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin);
メトキシカルバマート系化合物:ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラメトストロビン(pyrametostrobin);
オキシイミノアセテート化合物:クレソキシム・メチル(kresoxim-methyl)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin);
オキシイミノセトアミド系化合物:ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサストロビン(orysastrobin);
オキサゾリジンジオン系化合物:ファモキサドン(famoxadone);
ジヒドロジオキサジン系化合物:フルオキサストロビン(fluoxastrobin);
イミダゾリノン系化合物:フェナミドン(fenamidone);
ベンジルカルバマート系化合物:ピリベンカルブ(pyribencarb);
シアノイミダゾール系化合物:シアゾファミド(cyazofamid);
スルファモイルトリアゾール系化合物:アミスルブロム(amisulbrom);
ジニトロフェニルクロトン酸系化合物:ビナパクリル(binapacryl)、メプチルジノカップ(meptyldinocap)、ジノカップ(dinocap);
2,6‐ジニトロアニリン系化合物:フルアジナム(fluazinam);
ピリミジノンヒドラゾン系化合物:フェリムゾン(ferimzone);
トリフェニルスズ系化合物:TPTA(TPTA)、TPTC(TPTC)、TPTH(TPTH);
チオフェンカルボキサミド系化合物:シルチオファム(silthiofam);
トリアゾロピリミジルアミン系化合物:アメトクトラジン(ametoctradin)
ピリミジンアミン系化合物:ジフルメトリム(diflumetorim);
カルボキサミド系化合物:ベノダニル(benodanil)、フルトラニル(flutolanil)、メプロニル(mepronil)、フルオピラム(fluopyram)、フェンフラム(fenfuram)、カルボキシン(carboxin)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、チフルザミド(thifluzamide)、ビキサフェン(bixafen)、フラメトピル(furametpyr)、イソピラザム(isopyrazam)、ペンフルフェン(penflufen)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、セダキサン(sedaxane)、ボスカリド(boscalid);
メトキシアクリレート系化合物:アゾキシストロビン(azoxystrobin)、エネストロブリン(enestroburin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin);
メトキシカルバマート系化合物:ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラメトストロビン(pyrametostrobin);
オキシイミノアセテート化合物:クレソキシム・メチル(kresoxim-methyl)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin);
オキシイミノセトアミド系化合物:ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサストロビン(orysastrobin);
オキサゾリジンジオン系化合物:ファモキサドン(famoxadone);
ジヒドロジオキサジン系化合物:フルオキサストロビン(fluoxastrobin);
イミダゾリノン系化合物:フェナミドン(fenamidone);
ベンジルカルバマート系化合物:ピリベンカルブ(pyribencarb);
シアノイミダゾール系化合物:シアゾファミド(cyazofamid);
スルファモイルトリアゾール系化合物:アミスルブロム(amisulbrom);
ジニトロフェニルクロトン酸系化合物:ビナパクリル(binapacryl)、メプチルジノカップ(meptyldinocap)、ジノカップ(dinocap);
2,6‐ジニトロアニリン系化合物:フルアジナム(fluazinam);
ピリミジノンヒドラゾン系化合物:フェリムゾン(ferimzone);
トリフェニルスズ系化合物:TPTA(TPTA)、TPTC(TPTC)、TPTH(TPTH);
チオフェンカルボキサミド系化合物:シルチオファム(silthiofam);
トリアゾロピリミジルアミン系化合物:アメトクトラジン(ametoctradin)
4. アミノ酸及びタンパク質合成阻害剤
アニリノピリミジン系化合物:シプロジニル(cyprodinil)、メパニピリム(mepanipyrim)、ピリメタニル(pyrimethanil);
エノピランウロン酸系抗生物質:ブラストサイジン-S(blasticidin-S)、ミルディオマイシン(mildiomycin);
へキソピラノシル系抗生物質:カスガマイシン(kasugamycin);
グルコピラノシル系抗生物質:ストレプトマイシン(streptomycin);
テトラサイクリン系抗生物質:オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)
アニリノピリミジン系化合物:シプロジニル(cyprodinil)、メパニピリム(mepanipyrim)、ピリメタニル(pyrimethanil);
エノピランウロン酸系抗生物質:ブラストサイジン-S(blasticidin-S)、ミルディオマイシン(mildiomycin);
へキソピラノシル系抗生物質:カスガマイシン(kasugamycin);
グルコピラノシル系抗生物質:ストレプトマイシン(streptomycin);
テトラサイクリン系抗生物質:オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)
5. シグナル伝達系に作用する剤
キノリン系化合物:キノキシフェン(quinoxyfen);
キナゾリン系化合物:プロキナジド(proquinazid);
フェニルピロール系化合物:フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil);
ジカルボキシミド系化合物:クロゾリネート(chlozolinate)、イプロジオン(iprodione)、プロシミドン(procymidone)、ビンクロゾリン(vinclozolin)
キノリン系化合物:キノキシフェン(quinoxyfen);
キナゾリン系化合物:プロキナジド(proquinazid);
フェニルピロール系化合物:フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil);
ジカルボキシミド系化合物:クロゾリネート(chlozolinate)、イプロジオン(iprodione)、プロシミドン(procymidone)、ビンクロゾリン(vinclozolin)
6. 脂質及び細胞膜合成阻害剤
ホスホロチオレート系化合物:エジフェンホス(edifenphos)、イプロベンホス(iprobenfos)、ピラゾホス(pyrazophos);
ジチオラン系化合物:イソプロチオラン(isoprothiolane);
芳香族炭化水素系化合物:ビフェニル(biphenyl)、クロロネブ(chloroneb)、ジクロラン(dicloran)、キントゼン(quintozene )、テクナゼン(tecnazene)、トルクロホス・メチル(tolclofos-methyl);
1,2,4‐チアジアゾール系化合物:エトリジアゾール(etridiazole);
カルバマート系化合物:ヨードカルブ(iodocarb)、プロパモカルブ塩酸塩(propamocarb-hydrochloride)、プロチオカルブ(prothiocarb);
桂皮酸アミド系化合物:ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph);
バリンアミドカルバマート系化合物:ベンチアバリカルブ・イソプロピル(benthiavalicarb-isopropyl)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、バリフェナレート(valifenalate);
マンデル酸アミド系化合物:マンジプロパミド(mandipropamid);
バチルスズブチリス及び殺菌性リポペプチド生産物:バチルスズブチリス(Bacillus subtilis)(strain:QST 713)
ホスホロチオレート系化合物:エジフェンホス(edifenphos)、イプロベンホス(iprobenfos)、ピラゾホス(pyrazophos);
ジチオラン系化合物:イソプロチオラン(isoprothiolane);
芳香族炭化水素系化合物:ビフェニル(biphenyl)、クロロネブ(chloroneb)、ジクロラン(dicloran)、キントゼン(quintozene )、テクナゼン(tecnazene)、トルクロホス・メチル(tolclofos-methyl);
1,2,4‐チアジアゾール系化合物:エトリジアゾール(etridiazole);
カルバマート系化合物:ヨードカルブ(iodocarb)、プロパモカルブ塩酸塩(propamocarb-hydrochloride)、プロチオカルブ(prothiocarb);
桂皮酸アミド系化合物:ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph);
バリンアミドカルバマート系化合物:ベンチアバリカルブ・イソプロピル(benthiavalicarb-isopropyl)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、バリフェナレート(valifenalate);
マンデル酸アミド系化合物:マンジプロパミド(mandipropamid);
バチルスズブチリス及び殺菌性リポペプチド生産物:バチルスズブチリス(Bacillus subtilis)(strain:QST 713)
7. ステロール生合成阻害剤
ピペラジン系化合物:トリホリン(triforine);
ピリジン系化合物:ピリフェノックス(pyrifenox);
ピリミジン系化合物:フェナリモル(fenarimol)、ヌアリモル(nuarimol);
イミダゾール系化合物:イマザリル(imazalil)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole-fumarate)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プロクロラズ(prochloraz)、トリフルミゾール(triflumizole);
トリアゾール系化合物:アザコナゾール(azaconazole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾール・M(diniconazole-M)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、エタコナゾ-ル(etaconazole)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ペンコナゾール(penconazole)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリチコナゾール(triticonazole)、フルコナゾール(furconazole)、フルコナゾール・シス(furconazole -cis)、キンコナゾール(quinconazole);
モルホリン系化合物:アルジモルフ(aldimorph)、ドデモルフ(dodemorph)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、トリデモルフ(tridemorph);
ピペリジン系化合物:フェンプロピジン(fenpropidin)、ピペラリン(piperalin);
スピロケタールアミン系化合物:スピロキサミン(spiroxamine);
ヒドロキシアニリド系化合物:フェンヘキサミド(fenhexamid);
チオカルバマート系化合物:ピリブチカルブ(pyributicarb);
アリルアミン系化合物:ナフティフィン(naftifine)、テルビナフィン(terbinafine)
ピペラジン系化合物:トリホリン(triforine);
ピリジン系化合物:ピリフェノックス(pyrifenox);
ピリミジン系化合物:フェナリモル(fenarimol)、ヌアリモル(nuarimol);
イミダゾール系化合物:イマザリル(imazalil)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole-fumarate)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プロクロラズ(prochloraz)、トリフルミゾール(triflumizole);
トリアゾール系化合物:アザコナゾール(azaconazole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾール・M(diniconazole-M)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、エタコナゾ-ル(etaconazole)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ペンコナゾール(penconazole)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリチコナゾール(triticonazole)、フルコナゾール(furconazole)、フルコナゾール・シス(furconazole -cis)、キンコナゾール(quinconazole);
モルホリン系化合物:アルジモルフ(aldimorph)、ドデモルフ(dodemorph)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、トリデモルフ(tridemorph);
ピペリジン系化合物:フェンプロピジン(fenpropidin)、ピペラリン(piperalin);
スピロケタールアミン系化合物:スピロキサミン(spiroxamine);
ヒドロキシアニリド系化合物:フェンヘキサミド(fenhexamid);
チオカルバマート系化合物:ピリブチカルブ(pyributicarb);
アリルアミン系化合物:ナフティフィン(naftifine)、テルビナフィン(terbinafine)
8. グルカン合成阻害剤
グルコピラノシル系抗生物質:バリダマイシン(validamycin);
ペプチジルピリジンヌクレオチド化合物:ポリオキシン(polyoxin)
グルコピラノシル系抗生物質:バリダマイシン(validamycin);
ペプチジルピリジンヌクレオチド化合物:ポリオキシン(polyoxin)
9. メラニン合成阻害剤
イソベンゾフラノン系化合物:フサライド(phthalide);
ピロロキノリン系化合物:ピロキロン(pyroquilon);
トリアゾロベンゾチアゾール系化合物:トリシクラゾール(tricyclazole);
カルボキサミド系化合物:カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet);
プロピオンアミド系化合物:フェノキサニル(fenoxanil)
イソベンゾフラノン系化合物:フサライド(phthalide);
ピロロキノリン系化合物:ピロキロン(pyroquilon);
トリアゾロベンゾチアゾール系化合物:トリシクラゾール(tricyclazole);
カルボキサミド系化合物:カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet);
プロピオンアミド系化合物:フェノキサニル(fenoxanil)
10. 植物病害抵抗性を誘導する剤
ベンゾチアジアゾール系化合物:アシベンゾラル・S・メチル(acibenzolar-S-methyl);
ベンゾイソチアゾール系化合物:プロベナゾール(probenazole);
チアジアゾールカルボキサミド系化合物:チアジニル(tiadinil)、イソチアニル(isotianil);
天然物:ラミナリン
ベンゾチアジアゾール系化合物:アシベンゾラル・S・メチル(acibenzolar-S-methyl);
ベンゾイソチアゾール系化合物:プロベナゾール(probenazole);
チアジアゾールカルボキサミド系化合物:チアジニル(tiadinil)、イソチアニル(isotianil);
天然物:ラミナリン
11.作用性不明及び多作用点の剤
銅化合物:水酸化第二銅(copper hydroxide)、オクタン酸銅(copper dioctanoate)、塩基性塩化銅(copper oxychloride)、硫酸銅(copper sulfate)、酸化第一銅(cuprous oxide)、オキシキノリン銅(oxine-copper)、ボルドー液(Bordeaux mixture)、ノニルフェノールスルホン酸銅(copper nonyl phenol sulphonate);
硫黄化合物:硫黄(sulfur);
ジチオカルバマート系化合物:ファーバム(ferbam)、マンコゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チウラム(thiram)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、クフラネブ(cufraneb);
フタルイミド系化合物:キャプタン(captan)、フォルペット(folpet)、カプタホール(captafol);
クロロニトリル系化合物:クロロタロニル(chlorothalonil);
スルファミド系化合物:ジクロフルアニド(dichlofluanid)、トリルフルアニド(tolylfluanid);
グアニジン系化合物:グアザチン(guazatine)、イミノクタジン・アルベシル酸塩(iminoctadine-albesilate)、イミノクタジン酢酸塩(iminoctadine-triacetate)、ドジン(dodine);
その他の化合物:アニラジン(anilazine)、ジチアノン(dithianon)、シモキサニル(cymoxanil)、ホセチル(fosetyl)(alminium, calcium, sodium)、亜リン酸及び塩(phosphorous acid and salts)、テクロフタラム(tecloftalam)、トリアゾキシド(triazoxide)、フルスルファミド(flusulfamide)、ジクロメジン(diclomezine)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、エタボキサム(ethaboxam)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、メトラフェノン(metrafenone)、炭酸水素カリウム(potassium bicarbonate)、炭酸水素ナトリウム(sodium bicarbonate)、BAF‐045(コード番号)、BAG‐010(コード番号)、ベンチアゾール(benthiazole)、ブロノポール(bronopol)、カルボネ(carvone)、キノメチオネート(chinomethionat)、ダゾメット(dazomet)、DBEDC(DBEDC)、デバカルブ(debacarb)、ジクロロフェン(dichlorophen)、ジフェンゾコート(difenzoquat-methyl sulfate)、ジメチルジスルフィド(dimethyl disulfide)、ジフェニルアミン(diphenylamine)、エトキシキン(ethoxyquin)、フルメトベル(flumetover)、フルオルイミド(fluoroimide)、フルチアニル(flutianil)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フランカルボン酸(furancarboxylic acid)、メタム(metam)、ナーバム(nabam)、ナタマイシン(natamycin)、ニトラピリン(nitrapyrin)、ニトロタル・イソプロピル(nitrothal-isopropyl)、オルソフェニルフェノール(o-phenylphenol)、オキサジニラゾール(oxazinylazole)、硫酸オキシキノリン(oxyquinoline sulfate)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、ポリカーバメート(polycarbamate)、ピリオフェノン(pyriofenone)、S-2188(コード番号)、銀(silver)、SYP‐Z‐048(コード番号)、テブフロキン(tebufloquin)、トルニファニド(tolnifanide)、トリクラミド(trichlamide)、ミネラルオイル(mineral oils)、オーガニックオイル(organic oils);
銅化合物:水酸化第二銅(copper hydroxide)、オクタン酸銅(copper dioctanoate)、塩基性塩化銅(copper oxychloride)、硫酸銅(copper sulfate)、酸化第一銅(cuprous oxide)、オキシキノリン銅(oxine-copper)、ボルドー液(Bordeaux mixture)、ノニルフェノールスルホン酸銅(copper nonyl phenol sulphonate);
硫黄化合物:硫黄(sulfur);
ジチオカルバマート系化合物:ファーバム(ferbam)、マンコゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チウラム(thiram)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、クフラネブ(cufraneb);
フタルイミド系化合物:キャプタン(captan)、フォルペット(folpet)、カプタホール(captafol);
クロロニトリル系化合物:クロロタロニル(chlorothalonil);
スルファミド系化合物:ジクロフルアニド(dichlofluanid)、トリルフルアニド(tolylfluanid);
グアニジン系化合物:グアザチン(guazatine)、イミノクタジン・アルベシル酸塩(iminoctadine-albesilate)、イミノクタジン酢酸塩(iminoctadine-triacetate)、ドジン(dodine);
その他の化合物:アニラジン(anilazine)、ジチアノン(dithianon)、シモキサニル(cymoxanil)、ホセチル(fosetyl)(alminium, calcium, sodium)、亜リン酸及び塩(phosphorous acid and salts)、テクロフタラム(tecloftalam)、トリアゾキシド(triazoxide)、フルスルファミド(flusulfamide)、ジクロメジン(diclomezine)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、エタボキサム(ethaboxam)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、メトラフェノン(metrafenone)、炭酸水素カリウム(potassium bicarbonate)、炭酸水素ナトリウム(sodium bicarbonate)、BAF‐045(コード番号)、BAG‐010(コード番号)、ベンチアゾール(benthiazole)、ブロノポール(bronopol)、カルボネ(carvone)、キノメチオネート(chinomethionat)、ダゾメット(dazomet)、DBEDC(DBEDC)、デバカルブ(debacarb)、ジクロロフェン(dichlorophen)、ジフェンゾコート(difenzoquat-methyl sulfate)、ジメチルジスルフィド(dimethyl disulfide)、ジフェニルアミン(diphenylamine)、エトキシキン(ethoxyquin)、フルメトベル(flumetover)、フルオルイミド(fluoroimide)、フルチアニル(flutianil)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フランカルボン酸(furancarboxylic acid)、メタム(metam)、ナーバム(nabam)、ナタマイシン(natamycin)、ニトラピリン(nitrapyrin)、ニトロタル・イソプロピル(nitrothal-isopropyl)、オルソフェニルフェノール(o-phenylphenol)、オキサジニラゾール(oxazinylazole)、硫酸オキシキノリン(oxyquinoline sulfate)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、ポリカーバメート(polycarbamate)、ピリオフェノン(pyriofenone)、S-2188(コード番号)、銀(silver)、SYP‐Z‐048(コード番号)、テブフロキン(tebufloquin)、トルニファニド(tolnifanide)、トリクラミド(trichlamide)、ミネラルオイル(mineral oils)、オーガニックオイル(organic oils);
12.微生物及び微生物生産物
アグロバクテリウム・ラジオバクター(Agrobacterium radiobacter)、麹菌生産物(Fermented product from Aspergillus spp.)、バチルス属菌(Bacillus spp.)、Harpinタンパク質(Harpin protein)、エルビニア・カロトボーラ(Erwinia carotovora)、フザリウム・オキシスポラム(Fusarium oxysporum)、グリオクラディウム属菌(Gliocladium spp.)、ラッカーゼ(Laccase)、シュードモナス属菌(Pseudomonas spp.)、タラロマイセス属菌(Talaromyces spp.)、トリコデルマ属菌(Trichoderma spp.)、シイタケ菌糸体抽出物(Extract from mushroom)、バクテリオファージ(Bacteriophage)
以下に本発明化合物と混合又は併用してもよい他の農薬活性成分のうち公知の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤物、協力剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。
アグロバクテリウム・ラジオバクター(Agrobacterium radiobacter)、麹菌生産物(Fermented product from Aspergillus spp.)、バチルス属菌(Bacillus spp.)、Harpinタンパク質(Harpin protein)、エルビニア・カロトボーラ(Erwinia carotovora)、フザリウム・オキシスポラム(Fusarium oxysporum)、グリオクラディウム属菌(Gliocladium spp.)、ラッカーゼ(Laccase)、シュードモナス属菌(Pseudomonas spp.)、タラロマイセス属菌(Talaromyces spp.)、トリコデルマ属菌(Trichoderma spp.)、シイタケ菌糸体抽出物(Extract from mushroom)、バクテリオファージ(Bacteriophage)
以下に本発明化合物と混合又は併用してもよい他の農薬活性成分のうち公知の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤物、協力剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。
〔殺虫活剤、殺ダニ剤、殺線虫剤〕
1.アセチルコリンエステラーゼ阻害剤:
(1A)カルバマート化合物:アラニカルブ(alanycarb)、アルジカルブ(aldicarb)、アルドキシカルブ(aldoxycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、カルバリル(carbaryl)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、ホルメタネート(formetanate)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、メチオカルブ(methiocarb)、メソミル(methomyl)、メトルカルブ(metolcarb)、オキサミル(oxamyl)、ピリミカルブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオファノックス(thiofanox)、トリアザメート(triazamate)、トリメタカルブ(trimethacarb)、3,5-xylyl methylcarbamate (XMC)、キシリルカルブ(xylylcarb)
(1B)有機リン化合物:アセフェート(acephate)、アザメチホス(azamethiphos)、アジンホス・エチル(azinphos-ethyl)、アジンホス・メチル(azinphos-methyl)、カズサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルメホス(chlormephos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホス・メチル(chlorpyrifos-methyl)、クマホス(coumaphos)、シアノホス(cyanophos)、デメトン・S・メチル(demeton-S-methyl)、ジアミダホス(diamidafos)、ダイアジノン(diazinon)、ジクロルボス(dichlorvos)、ジクロトホス(dicrotophos)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos)、ジスルホトン(disulfoton)、DSP(DSP)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、ファムフル(famphur)、フェナミホス(fenamiphos)、フェニトロチオン(fenitrothion)、フェンチオン(fenthion)、フォノホス(fonofos)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホスチエタン(fosthietan)、ヘプテノホス(heptenophos)、イサミドホス(isamidofos)、イサゾホス(isazophos)、イソフェンホス(isofenphos-methyl)、イソプロピル O-(メトキシアミノチオホソホリル)サリチレート(isopropyl O-(methoxyaminothio-phosphoryl) salicylate)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メカルバム(mecarbam)、メタミドホス(methamidophos)、メチダチオン(methidathion)、メビンホス(mevinphos)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled)、オメトエート(omethoate)、オキシジメトン・メチル(oxydemeton-methyl)、オキシデプロホス(oxydeprofos)、パラチオン(parathion)、パラチオン・メチル(parathion-methyl)、フェントエート(phenthoate)、ホレート(phorate)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet)、ホスファミドン(phosphamidon)、ホキシム(phoxim)、ピリミホス・メチル(pirimiphos-methyl)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロペタムホス(propetamphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclofos)、ピリダフェンチオン(pyridaphenthion)、キナルホス(quinalphos)、スルホテップ(sulfotep)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テルブホス(terbufos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、チオメトン(thiometon)、チオナジン(thionazin)、トリアゾホス(triazophos)、トリクロルホン(trichlorfon)、バミドチオン(vamidothion)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、イミシアホス(imicyafos)、イソカルボホス(isocarbophos)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、フルピラゾホス(flupyrazofos)
1.アセチルコリンエステラーゼ阻害剤:
(1A)カルバマート化合物:アラニカルブ(alanycarb)、アルジカルブ(aldicarb)、アルドキシカルブ(aldoxycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、カルバリル(carbaryl)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、ホルメタネート(formetanate)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、メチオカルブ(methiocarb)、メソミル(methomyl)、メトルカルブ(metolcarb)、オキサミル(oxamyl)、ピリミカルブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオファノックス(thiofanox)、トリアザメート(triazamate)、トリメタカルブ(trimethacarb)、3,5-xylyl methylcarbamate (XMC)、キシリルカルブ(xylylcarb)
(1B)有機リン化合物:アセフェート(acephate)、アザメチホス(azamethiphos)、アジンホス・エチル(azinphos-ethyl)、アジンホス・メチル(azinphos-methyl)、カズサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルメホス(chlormephos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホス・メチル(chlorpyrifos-methyl)、クマホス(coumaphos)、シアノホス(cyanophos)、デメトン・S・メチル(demeton-S-methyl)、ジアミダホス(diamidafos)、ダイアジノン(diazinon)、ジクロルボス(dichlorvos)、ジクロトホス(dicrotophos)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos)、ジスルホトン(disulfoton)、DSP(DSP)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、ファムフル(famphur)、フェナミホス(fenamiphos)、フェニトロチオン(fenitrothion)、フェンチオン(fenthion)、フォノホス(fonofos)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホスチエタン(fosthietan)、ヘプテノホス(heptenophos)、イサミドホス(isamidofos)、イサゾホス(isazophos)、イソフェンホス(isofenphos-methyl)、イソプロピル O-(メトキシアミノチオホソホリル)サリチレート(isopropyl O-(methoxyaminothio-phosphoryl) salicylate)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メカルバム(mecarbam)、メタミドホス(methamidophos)、メチダチオン(methidathion)、メビンホス(mevinphos)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled)、オメトエート(omethoate)、オキシジメトン・メチル(oxydemeton-methyl)、オキシデプロホス(oxydeprofos)、パラチオン(parathion)、パラチオン・メチル(parathion-methyl)、フェントエート(phenthoate)、ホレート(phorate)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet)、ホスファミドン(phosphamidon)、ホキシム(phoxim)、ピリミホス・メチル(pirimiphos-methyl)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロペタムホス(propetamphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclofos)、ピリダフェンチオン(pyridaphenthion)、キナルホス(quinalphos)、スルホテップ(sulfotep)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テルブホス(terbufos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、チオメトン(thiometon)、チオナジン(thionazin)、トリアゾホス(triazophos)、トリクロルホン(trichlorfon)、バミドチオン(vamidothion)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、イミシアホス(imicyafos)、イソカルボホス(isocarbophos)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、フルピラゾホス(flupyrazofos)
2.GABA受容体(クロライドチャネル)阻害剤
(2A)シクロジエン有機塩素系化合物:クロルデン(chlordane)、エンドスルファン(endosulfan)、ガンマ‐BHC(gamma-BCH)
(2B)フェニルピラゾール系化合物:アセトプロール(acetoprol)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、ピリプロール(pyriprole)、RZI‐02‐003(コード番号)
(2A)シクロジエン有機塩素系化合物:クロルデン(chlordane)、エンドスルファン(endosulfan)、ガンマ‐BHC(gamma-BCH)
(2B)フェニルピラゾール系化合物:アセトプロール(acetoprol)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、ピリプロール(pyriprole)、RZI‐02‐003(コード番号)
3.ナトリウムチャネルに作用する剤
(3A)ピレスロイド系化合物:アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)[d-cis-trans、d-transを含む]、ビフェントリン(bifenthrin)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオアレスリンS‐シクロペンテニル(bioallethrin S-cyclopentenyl)ビオレスメトリン(bioresmethrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)[beta-を含む]、シハロトリン(cyhalothrin)[gamma-,lambda-を含む]、シペルメトリン(cypermethrin)[alpha-,beta-,theta-,zeta-を含む]、シフェノトリン(cyphenothrin)[(1R)-trans-isomersを含む]、デルタメトリン(deltamethrin)、エンペントリン(empenthrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(etofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルメトリン(flumethrin)、タウフルバリネート[tau -を含む]、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、ペルメトリン(permethrin)、フェノトリン(phenothrin)[(1R)-trans-isomerを含む]、プラレトリン(prallethrin)、プロフルトリン(profluthrin)、ピレトリン(pyrethrine)、レスメトリン(resmethrin)、RU15525(コード番号)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、ZXI8901(コード番号)、フルバリネート(fluvalinate)、テトラメチルフルスリン(tetramethylfluthrin)、メペルフルスリン(meperfluthrin)
(3B)DDT系化合物:DDT、メトキシクロル(methoxychlor)
(3A)ピレスロイド系化合物:アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)[d-cis-trans、d-transを含む]、ビフェントリン(bifenthrin)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオアレスリンS‐シクロペンテニル(bioallethrin S-cyclopentenyl)ビオレスメトリン(bioresmethrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)[beta-を含む]、シハロトリン(cyhalothrin)[gamma-,lambda-を含む]、シペルメトリン(cypermethrin)[alpha-,beta-,theta-,zeta-を含む]、シフェノトリン(cyphenothrin)[(1R)-trans-isomersを含む]、デルタメトリン(deltamethrin)、エンペントリン(empenthrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(etofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルメトリン(flumethrin)、タウフルバリネート[tau -を含む]、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、ペルメトリン(permethrin)、フェノトリン(phenothrin)[(1R)-trans-isomerを含む]、プラレトリン(prallethrin)、プロフルトリン(profluthrin)、ピレトリン(pyrethrine)、レスメトリン(resmethrin)、RU15525(コード番号)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、ZXI8901(コード番号)、フルバリネート(fluvalinate)、テトラメチルフルスリン(tetramethylfluthrin)、メペルフルスリン(meperfluthrin)
(3B)DDT系化合物:DDT、メトキシクロル(methoxychlor)
4.ニコチン性アセチルコリン受容体アゴニスト/アンタゴニスト
(4A)ネオニコチノイド系化合物:アセタミプリド(acetamiprid)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam) (4B)ニコチン系化合物:硫酸ニコチン(nicotine-sulfate)
(4A)ネオニコチノイド系化合物:アセタミプリド(acetamiprid)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam) (4B)ニコチン系化合物:硫酸ニコチン(nicotine-sulfate)
5.ニコチン性アセチルコリン受容体アロステリックアクチベーター スピノシン系化合物:スピネトラム(spinetoram)、スピノサド(spinosad)
6.クロライドチャネルを活性化する剤
アバメクチン、ミルベマイシン系化合物:アバメクチン(abamectin)、エマメクチンベンゾエート(emamectin benzoate)、レピメクチン(lepimectin)、ミルベメクチン(milbemectin)、イベルメクチン(ivermectin)、ポリナクチン複合体(polynactins)
アバメクチン、ミルベマイシン系化合物:アバメクチン(abamectin)、エマメクチンベンゾエート(emamectin benzoate)、レピメクチン(lepimectin)、ミルベメクチン(milbemectin)、イベルメクチン(ivermectin)、ポリナクチン複合体(polynactins)
7.幼若ホルモン様の剤
ジオフェノラン(diofenolan)、ハイドロプレン(hydroprene)、キノプレン(kinoprene)、メトトリン(methothrin)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)
ジオフェノラン(diofenolan)、ハイドロプレン(hydroprene)、キノプレン(kinoprene)、メトトリン(methothrin)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)
8.非特異的作用(多作用点)の剤
1,3‐ジクロロプロペン(1,3-dichloropropene)、DCIP、エチレンジブロミド(ethylene dibromide)、メチルブロマイド(methyl bromide)、クロルピクリン(chloropicrin)、フッ化スルフリル(sulfuryl fluoride)
1,3‐ジクロロプロペン(1,3-dichloropropene)、DCIP、エチレンジブロミド(ethylene dibromide)、メチルブロマイド(methyl bromide)、クロルピクリン(chloropicrin)、フッ化スルフリル(sulfuryl fluoride)
9.摂食阻害剤
ピメトロジン(pymetrozine)、フロニカミド(flonicamid)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)
ピメトロジン(pymetrozine)、フロニカミド(flonicamid)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)
10.ダニの成長制御剤
クロフェンテジン(clofentezine)、ジフロビダジン(diflovidazin)、ヘキサチアゾクス(hexythiazox)、エトキサゾール(etoxazole)
クロフェンテジン(clofentezine)、ジフロビダジン(diflovidazin)、ヘキサチアゾクス(hexythiazox)、エトキサゾール(etoxazole)
11.昆虫腸内膜を破壊する剤
BT剤:Bacillus sphaericus、Bacillus thuringiensis subsp. aizawai、Bacillus thuringiensis subsp. israelensis、Bacillus thuringiensis subsp. kurstaki、Bacillus thuringiensis subsp. tenebrionis、Bt crop proteins(Cry1Ab, Cry1Ac, Cry1Fa, Cry2Ab, mCry3A, Cry3Ab, Cry3Bb, Cry34/35Ab1)、Bacillus popilliae、Bacillus subtillis
BT剤:Bacillus sphaericus、Bacillus thuringiensis subsp. aizawai、Bacillus thuringiensis subsp. israelensis、Bacillus thuringiensis subsp. kurstaki、Bacillus thuringiensis subsp. tenebrionis、Bt crop proteins(Cry1Ab, Cry1Ac, Cry1Fa, Cry2Ab, mCry3A, Cry3Ab, Cry3Bb, Cry34/35Ab1)、Bacillus popilliae、Bacillus subtillis
12.ATP 生合成酵素阻害剤
ジアフェンチウロン(diafenthiuron);
有機スズ化合物:アゾシクロチン(azocyclotin)、シヘキサチン(cyhexatin)、フェンブタンチン・オキシド(fenbutatin oxide);
プロパルギット(propargite)、テトラジホン(tetradifon)
ジアフェンチウロン(diafenthiuron);
有機スズ化合物:アゾシクロチン(azocyclotin)、シヘキサチン(cyhexatin)、フェンブタンチン・オキシド(fenbutatin oxide);
プロパルギット(propargite)、テトラジホン(tetradifon)
13.脱共役剤
クロルフェナピル(chlorfenapyr)、DNOC(DNOC)
クロルフェナピル(chlorfenapyr)、DNOC(DNOC)
14.ニコチン性アセチルコリンチャネルブロッカー剤
ネライストキシン系化合物:ベンスルタップ(bensultap)、カルタップ(cartap)、チオシクラム(thiocyclam)、チオスルタップ(thiosultap)
ネライストキシン系化合物:ベンスルタップ(bensultap)、カルタップ(cartap)、チオシクラム(thiocyclam)、チオスルタップ(thiosultap)
15.キチン生合成阻害剤(タイプ0)
ベンゾイルウレア系化合物:ビストリフルロン(bistrifluron)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、フルアズロ(fluazuron)
ベンゾイルウレア系化合物:ビストリフルロン(bistrifluron)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、フルアズロ(fluazuron)
16.キチン生合成阻害剤(タイプ1)
ブプロフェジン(buprofezin)
ブプロフェジン(buprofezin)
17.脱皮阻害剤(双翅目対象)
シロマジン(cyromazine)
シロマジン(cyromazine)
18.エクダイソンアゴニスト(脱皮促進)
ジアシルヒドラジン系化合物:クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)
ジアシルヒドラジン系化合物:クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)
19.オクトパミンアゴニスト
アミトラズ(amitraz)
アミトラズ(amitraz)
20.ミトコンドリア電子伝達系(複合体III)阻害剤
シフルメトフェン(cyflumetofen)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、アセキノシル(acequinocyl)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)
シフルメトフェン(cyflumetofen)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、アセキノシル(acequinocyl)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)
21.ミトコンドリア電子伝達系(複合体I)阻害剤
METI殺ダニ剤:フェナザキン(fenazaquin)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)
その他:ロテノン(rotenone)
METI殺ダニ剤:フェナザキン(fenazaquin)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)
その他:ロテノン(rotenone)
22.ナトリウムチャネル阻害剤
インドキサカルブ(indoxacarb)、メタフルミゾン(metaflumizon)
インドキサカルブ(indoxacarb)、メタフルミゾン(metaflumizon)
23.脂質生合成阻害剤
テトラニック系殺虫/殺ダニ剤:スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマト(spirotetramat)
テトラニック系殺虫/殺ダニ剤:スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマト(spirotetramat)
24.ミトコンドリア電子伝達系(複合体IV)阻害剤
りん化アルミニウム(aluminium phosphide)、りん化水素(phosphine)、りん化亜鉛(zinc phosphide)、石灰窒素(calcium cyanide)
りん化アルミニウム(aluminium phosphide)、りん化水素(phosphine)、りん化亜鉛(zinc phosphide)、石灰窒素(calcium cyanide)
25.神経阻害(作用機作不明)剤
ビフェナゼート(bifenazate)
ビフェナゼート(bifenazate)
26.アコニターゼ阻害剤
フルオロ酢酸ナトリウム塩(sodium fluoroacetate)
フルオロ酢酸ナトリウム塩(sodium fluoroacetate)
27.リアノジン受容体に作用する剤
クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、フルベンジアミド(flubendiamide)、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)
クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、フルベンジアミド(flubendiamide)、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)
28.その他(作用性が不明)の剤
アザディラクチン(azadirachtin)、アミドフルメット(amidoflumet)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、CL900167(コード番号)、クリオライト(cryolite)、ジコホル(dicofol)、ジシクラニル(dicyclanil)、ジエノクロル(dienochlor)、ジノブトン(dinobuton)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フルエンスルホン(fluensulfone)、フルフェネリム(flufenerim)、フルスルファミド(flusulfamide)、カランジン(karanjin)、メタム(metham)、メトプレン(methoprene)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、スルコフロン(sulcofuron-sodium)、スルフラミド(sulflramid)、スルホキサフロル(sulfoxaflor)
アザディラクチン(azadirachtin)、アミドフルメット(amidoflumet)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、CL900167(コード番号)、クリオライト(cryolite)、ジコホル(dicofol)、ジシクラニル(dicyclanil)、ジエノクロル(dienochlor)、ジノブトン(dinobuton)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フルエンスルホン(fluensulfone)、フルフェネリム(flufenerim)、フルスルファミド(flusulfamide)、カランジン(karanjin)、メタム(metham)、メトプレン(methoprene)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、スルコフロン(sulcofuron-sodium)、スルフラミド(sulflramid)、スルホキサフロル(sulfoxaflor)
29.協力剤
ピペロニルブトキシド(piperonyl butoxide)、DEF(DEF)
以下、本発明化合物による一般式[1]の化合物の製造法、製剤例並びに用途を下記の実施例で詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら制約されるものではない。尚、以下の説明において「%」は重量百分率を示し、「部」は重量部を示す。
ピペロニルブトキシド(piperonyl butoxide)、DEF(DEF)
以下、本発明化合物による一般式[1]の化合物の製造法、製剤例並びに用途を下記の実施例で詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら制約されるものではない。尚、以下の説明において「%」は重量百分率を示し、「部」は重量部を示す。
〔実施例1〕1-アリル-6-(2-ヒドロキシ-6-オキソシクロヘキサ-1-エンカルボニル)-3-トリフルオロメチルピリジン-2(1H)-オンの製造(化合物番号I-11)
1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸と0.97g(7.66mmol)のオキザリルクロリド1.00g(3.83mmol)を室温下、シクロロメタン20ml中で攪拌した。この中へジメチルホルムアミドを一滴滴下して、そのまま2時間攪拌した。反応溶液を減圧濃縮して短黄色油状物の1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドを得た。次に1,3-シクロヘキサジオン0.64g(5.75mmol)とトリエチルアミン0.58g(5.75mmol)を氷冷下、ジクロロメタン20ml中で攪拌した。この中へ先ほど調製した1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドをジクロロメタン10mlに溶解してゆっくりと滴下した。そのまま30分間攪拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ溶媒を減圧濃縮させた。得られた残渣をアセトニトリル20mlに溶解しトリエチルアミン0.58g(5.75mmol)とアセトンシアンヒドリン0.04g(0.38mmol)を加えて30分間過熱還流した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かして酢酸エチルで洗浄した。水層をクエン酸で酸性とした後、クロロホルムで抽出して硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮した後、得られた結晶をメタノールで洗浄して、1-アリル-6-(2-ヒドロキシ-6-オキソシクロヘキサ-1-エンカルボニル)-3-トリフルオロメチルピリジン-2(1H) -オン0.64g(収率49%)を得た。
1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸と0.97g(7.66mmol)のオキザリルクロリド1.00g(3.83mmol)を室温下、シクロロメタン20ml中で攪拌した。この中へジメチルホルムアミドを一滴滴下して、そのまま2時間攪拌した。反応溶液を減圧濃縮して短黄色油状物の1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドを得た。次に1,3-シクロヘキサジオン0.64g(5.75mmol)とトリエチルアミン0.58g(5.75mmol)を氷冷下、ジクロロメタン20ml中で攪拌した。この中へ先ほど調製した1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドをジクロロメタン10mlに溶解してゆっくりと滴下した。そのまま30分間攪拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ溶媒を減圧濃縮させた。得られた残渣をアセトニトリル20mlに溶解しトリエチルアミン0.58g(5.75mmol)とアセトンシアンヒドリン0.04g(0.38mmol)を加えて30分間過熱還流した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かして酢酸エチルで洗浄した。水層をクエン酸で酸性とした後、クロロホルムで抽出して硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮した後、得られた結晶をメタノールで洗浄して、1-アリル-6-(2-ヒドロキシ-6-オキソシクロヘキサ-1-エンカルボニル)-3-トリフルオロメチルピリジン-2(1H) -オン0.64g(収率49%)を得た。
〔実施例2〕1-アリル-6-(5-ヒドロキシ-1-メチル-ピラゾール-4-カルボニル)-3-(トリフルオロメチル)ピリジン-2(1H) -オンの製造(化合物番号IV-11)
1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸1.50g(6.07mmol)とオキザリルクロリド1.54g(12.14mmol)を室温下、シクロロメタン30ml中で攪拌した。この中へジメチルホルムアミドを一滴滴下してそのまま2時間攪拌した。反応溶液を減圧濃縮して短黄色油状物の1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドを得た。次に1-メチル-4-ヒドロキシピラゾール塩酸塩1.22g(9.10mmol)とトリエチルアミン1.53g(15.17mmol)を氷冷下、ジクロロメタン30ml中で攪拌した。この中へ先ほど調製した1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドをジクロロメタン15mlに溶解してゆっくりと滴下した。そのまま30分間攪拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ溶媒を減圧濃縮させた。得られた残渣を30mlのアセトニトリルに溶解しトリエチルアミン0.92g(9.10mmol)とアセトンシアンヒドリン0.05g(0.61mmol)を加えて30分間過熱還流した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かして酢酸エチルで洗浄した。水層をクエン酸で酸性とした後、クロロホルムで抽出して硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮した後得られた結晶をメタノールで洗浄して、1-アリル-6-(5-ヒドロキシ-1-メチル-ピラゾール-4-カルボニル)-3-(トリフルオロメチル)ピリジン-2(1H)-オン1.06g(収率53%)を得た。
1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸1.50g(6.07mmol)とオキザリルクロリド1.54g(12.14mmol)を室温下、シクロロメタン30ml中で攪拌した。この中へジメチルホルムアミドを一滴滴下してそのまま2時間攪拌した。反応溶液を減圧濃縮して短黄色油状物の1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドを得た。次に1-メチル-4-ヒドロキシピラゾール塩酸塩1.22g(9.10mmol)とトリエチルアミン1.53g(15.17mmol)を氷冷下、ジクロロメタン30ml中で攪拌した。この中へ先ほど調製した1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドをジクロロメタン15mlに溶解してゆっくりと滴下した。そのまま30分間攪拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ溶媒を減圧濃縮させた。得られた残渣を30mlのアセトニトリルに溶解しトリエチルアミン0.92g(9.10mmol)とアセトンシアンヒドリン0.05g(0.61mmol)を加えて30分間過熱還流した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かして酢酸エチルで洗浄した。水層をクエン酸で酸性とした後、クロロホルムで抽出して硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮した後得られた結晶をメタノールで洗浄して、1-アリル-6-(5-ヒドロキシ-1-メチル-ピラゾール-4-カルボニル)-3-(トリフルオロメチル)ピリジン-2(1H)-オン1.06g(収率53%)を得た。
〔実施例3〕4-(1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボニル)-1-メチル-ピラゾール-5-イル プロパン-1-スルホン酸エステルの製造(化合物番号IV-13)
1-アリル-6-(5-ヒドロキシ-1-メチル-ピラゾール-4-カルボニル)-3-トリフルオロメチルピリジン-2(1H)-オン0.71g(2.17mmol)をジクロロメタン20mlに溶解し室温で攪拌した。この中へトリエチルアミン0.22g(2.17mmol)と1-プロパンスルホニルクロリド0.31g(2.17mmol)を加えて、そのまま一晩反応させた。溶媒を減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hex:AcOE t=2:1)で精製して、4-(1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボニル)-1-メチル-ピラゾール-5-イル プロパン-1-スルホン酸エステル0.68g(収率72%)を得た。
1-アリル-6-(5-ヒドロキシ-1-メチル-ピラゾール-4-カルボニル)-3-トリフルオロメチルピリジン-2(1H)-オン0.71g(2.17mmol)をジクロロメタン20mlに溶解し室温で攪拌した。この中へトリエチルアミン0.22g(2.17mmol)と1-プロパンスルホニルクロリド0.31g(2.17mmol)を加えて、そのまま一晩反応させた。溶媒を減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hex:AcOE t=2:1)で精製して、4-(1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボニル)-1-メチル-ピラゾール-5-イル プロパン-1-スルホン酸エステル0.68g(収率72%)を得た。
〔実施例4〕6-(2-ヒドロキシ-4-オキソビシクロ[3.2.1]オクト-2-エンカルボニル)-1-メチル-3-トリフルオロメチルピリジン-2(1H)-オン(化合物番号III-1)
1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸1.31g(5.92mmol)と塩化チオニル1.41g(11.8mmol)を、トルエン30ml中で1時間過熱還流した。反応溶液を減圧濃縮して短黄色油状物の1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドを得た。次にビシクロ[3.2.1]オクタン-2,4-ジオン1.23g(8.89mmol)とトリエチルアミン0.90g(8.89mmol)を氷冷下、ジクロロメタン30ml中で攪拌した。この中へ先ほど調製した1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドをジクロロメタン15mlに溶解してゆっくりと滴下した。そのまま30分間攪拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ溶媒を減圧濃縮させた。得られた残渣をアセトニトリル30mlに溶解しトリエチルアミン0.90g(8.89mmol)とアセトンシアンヒドリン0.05g(0.6mmol)を加えて30分間過熱還流した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かして酢酸エチルで洗浄した。水層をクエン酸で酸性とした後、クロロホルムで抽出して硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮した後得られた結晶をメタノールで洗浄して、6-(2-ヒドロキシ-4-オキソビシクロ[3.2.1]オクタ-2-エンカルボニル)-1-メチル-3-トリフルオロメチルピリジン-2(1H) -オン0.84g(収率44%)を得た。
1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸1.31g(5.92mmol)と塩化チオニル1.41g(11.8mmol)を、トルエン30ml中で1時間過熱還流した。反応溶液を減圧濃縮して短黄色油状物の1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドを得た。次にビシクロ[3.2.1]オクタン-2,4-ジオン1.23g(8.89mmol)とトリエチルアミン0.90g(8.89mmol)を氷冷下、ジクロロメタン30ml中で攪拌した。この中へ先ほど調製した1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸クロリドをジクロロメタン15mlに溶解してゆっくりと滴下した。そのまま30分間攪拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ溶媒を減圧濃縮させた。得られた残渣をアセトニトリル30mlに溶解しトリエチルアミン0.90g(8.89mmol)とアセトンシアンヒドリン0.05g(0.6mmol)を加えて30分間過熱還流した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かして酢酸エチルで洗浄した。水層をクエン酸で酸性とした後、クロロホルムで抽出して硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮した後得られた結晶をメタノールで洗浄して、6-(2-ヒドロキシ-4-オキソビシクロ[3.2.1]オクタ-2-エンカルボニル)-1-メチル-3-トリフルオロメチルピリジン-2(1H) -オン0.84g(収率44%)を得た。
〔実施例5〕3-(2-ヒドロキシ-6-シクロヘキサ-1-エンカルボニル)-2-メチルイソキノリン-1(2H) -オンの製造(化合物番号I-123)
(1)3-オキソシクロヘキサ-1-エニル 2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸エステルの製造
2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸2.38g(0.117mol)と塩化チオニル1.67g(0.141mol)をトルエン30ml中で30分間過熱還流した。溶媒を濃縮して粗生成物の2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸クロリドを得た。次に1,3-シクロヘキサンジオン1.97g(0.0176mol)とトリエチルアミン1.78g(0.176mol)を氷冷下、ジクロロメタン30ml中で攪拌し、この中へ先に調整した2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸クロリドをジクロロメタン10mlに溶解して滴下した。そのまま1時間攪拌後クロロホルムで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮し、目的物2.85g(収率82%)を得た。
(1)3-オキソシクロヘキサ-1-エニル 2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸エステルの製造
2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸2.38g(0.117mol)と塩化チオニル1.67g(0.141mol)をトルエン30ml中で30分間過熱還流した。溶媒を濃縮して粗生成物の2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸クロリドを得た。次に1,3-シクロヘキサンジオン1.97g(0.0176mol)とトリエチルアミン1.78g(0.176mol)を氷冷下、ジクロロメタン30ml中で攪拌し、この中へ先に調整した2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸クロリドをジクロロメタン10mlに溶解して滴下した。そのまま1時間攪拌後クロロホルムで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮し、目的物2.85g(収率82%)を得た。
(2)3-(2-ヒドロキシ-6-シクロヘキサ-1-エンカルボニル)-2-メチルイソキノリン-1(2H)-オンの製造
3-オキソシクロヘキサ-1-エニル 2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸エステル1.55g(5.21mmol)をアセトニトリル100mlに溶解し、この中へシアン化カリウム0.51g(7.82mmol)を細かく砕いて加え1時間過熱還流した。溶媒を濃縮し残渣を水に溶かして、エーテルで洗浄し、水層をクエン酸で酸性とした。クロロホルムで抽出後水洗して、硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮し得られた粗結晶をメタノールで洗浄して、目的物0.51g(7.82mmol)を得た。
3-オキソシクロヘキサ-1-エニル 2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸エステル1.55g(5.21mmol)をアセトニトリル100mlに溶解し、この中へシアン化カリウム0.51g(7.82mmol)を細かく砕いて加え1時間過熱還流した。溶媒を濃縮し残渣を水に溶かして、エーテルで洗浄し、水層をクエン酸で酸性とした。クロロホルムで抽出後水洗して、硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮し得られた粗結晶をメタノールで洗浄して、目的物0.51g(7.82mmol)を得た。
前記実施例に準じて合成した一般式[1]で表わされる本発明化合物の物性値(融点又は性状)を、前記実施例に記載の化合物を含めて、次の表55及び表56に示す。
尚、表中の数値は融点(℃)を示し、化合物番号は前記した表に記載した番号である。
尚、表中の数値は融点(℃)を示し、化合物番号は前記した表に記載した番号である。
本発明の一般式[1]で表される化合物の製造中間体である、一般式[3a]、[3b]及び[3b-1]の製造例を以下に示す。
〔参考例1〕1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸の製造
(1)メチル 1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸エステルの製造
6-ヒドロキシ-5-トリフルオロメチルピコリン酸メチルエステル4.00g(0.0180mol)を氷冷下、ジメチルホルムアミド32mlとジメトキシエタン8mlの混合溶媒中で攪拌し60%水素化ナトリウム0.72g(0.0180mol)を加えて15分間攪拌した。この中へ臭化リチウム3.14g(0.0360mol)とヨウ化メチル5.14g(0.0360mol)を加えて攪拌し室温まで昇温させた。更に60℃まで昇温して2時間攪拌した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させジエチルエーテルで抽出した。有機層を水洗後硫酸マグネシウムで乾燥させて溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hex:AcOEt=3:1)で精製して、メチル 1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸エステル2.24g(収率53%)を得た。
(1)メチル 1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸エステルの製造
6-ヒドロキシ-5-トリフルオロメチルピコリン酸メチルエステル4.00g(0.0180mol)を氷冷下、ジメチルホルムアミド32mlとジメトキシエタン8mlの混合溶媒中で攪拌し60%水素化ナトリウム0.72g(0.0180mol)を加えて15分間攪拌した。この中へ臭化リチウム3.14g(0.0360mol)とヨウ化メチル5.14g(0.0360mol)を加えて攪拌し室温まで昇温させた。更に60℃まで昇温して2時間攪拌した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させジエチルエーテルで抽出した。有機層を水洗後硫酸マグネシウムで乾燥させて溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hex:AcOEt=3:1)で精製して、メチル 1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸エステル2.24g(収率53%)を得た。
(2)1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸の製造
1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸メチル2.88g(0.0122mol)を室温下、エタノール30ml中で攪拌した。この中へ25%水酸化ナトリウム3.92g(0.0244mol)水溶液を加えて一晩攪拌した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かしてジエチルエーテルで洗浄した。水層を1N塩酸水溶液で酸性とした後、酢酸エチルで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮し、1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸2.66g(収率99%)を得た。
1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸メチル2.88g(0.0122mol)を室温下、エタノール30ml中で攪拌した。この中へ25%水酸化ナトリウム3.92g(0.0244mol)水溶液を加えて一晩攪拌した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かしてジエチルエーテルで洗浄した。水層を1N塩酸水溶液で酸性とした後、酢酸エチルで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮し、1-メチル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸2.66g(収率99%)を得た。
〔参考例2〕1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸の製造
(1)メチル 1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸エステルの製造
6-ヒドロキシ-5-トリフルオロメチルピコリン酸メチルエステル2.50g(0.0113mol)を氷冷下、ジメチルホルムアミド50ml中で攪拌し60%水素化ナトリウム0.45g(0.0113mol)を加えて30分間攪拌した。この中へ臭化アリル1.44g(0.0113mol)を加えて攪拌し室温まで昇温させた。塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させジエチルエーテルで抽出した。有機層を水洗後硫酸マグネシウムで乾燥させて溶媒を留去し2-アリルオキシ-3-トリフルオロメチルピリジン-4-カルボン酸エチルと1-アリル-3-トリフルオロメチル-2-ピリドン-4-カルボン酸エチルの混合物を得た。この混合物をジクロロメタン50mlに溶解させ、この中へビス(アセトニトリル)塩化パラジウム0.29g(0.00113mol)を加えて室温下一晩攪拌した。溶媒を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hex:AcOEt=3:1)で精製して、メチル 1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸エステル2.35g(収率80%)を得た。
(1)メチル 1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸エステルの製造
6-ヒドロキシ-5-トリフルオロメチルピコリン酸メチルエステル2.50g(0.0113mol)を氷冷下、ジメチルホルムアミド50ml中で攪拌し60%水素化ナトリウム0.45g(0.0113mol)を加えて30分間攪拌した。この中へ臭化アリル1.44g(0.0113mol)を加えて攪拌し室温まで昇温させた。塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させジエチルエーテルで抽出した。有機層を水洗後硫酸マグネシウムで乾燥させて溶媒を留去し2-アリルオキシ-3-トリフルオロメチルピリジン-4-カルボン酸エチルと1-アリル-3-トリフルオロメチル-2-ピリドン-4-カルボン酸エチルの混合物を得た。この混合物をジクロロメタン50mlに溶解させ、この中へビス(アセトニトリル)塩化パラジウム0.29g(0.00113mol)を加えて室温下一晩攪拌した。溶媒を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hex:AcOEt=3:1)で精製して、メチル 1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸エステル2.35g(収率80%)を得た。
(2)1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸の製造
1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸メチル1.54g(5.90mmol)を室温下のエタノール20ml中で攪拌し、この中へ25%水酸化ナトリウム水溶液1.88g(11.79mmol)を加えてそのまま1時間攪拌した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かしてジエチルエーテルで洗浄した。水層を1N塩酸水溶液で酸性とした後、酢酸エチルで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮し、1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸1.50g(収率 定量的)を得た。
1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸メチル1.54g(5.90mmol)を室温下のエタノール20ml中で攪拌し、この中へ25%水酸化ナトリウム水溶液1.88g(11.79mmol)を加えてそのまま1時間攪拌した。溶媒を減圧濃縮した後、残渣を水に溶かしてジエチルエーテルで洗浄した。水層を1N塩酸水溶液で酸性とした後、酢酸エチルで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧濃縮し、1-アリル-6-オキソ-5-トリフルオロメチル-1,6-ジヒドロピリジン-2-カルボン酸1.50g(収率 定量的)を得た。
〔参考例3〕2-メチル-1-オキソ-1,2-ジヒドロイソキノリン-3-カルボン酸の製造
1-オキソ-1H-イソチオクロメン-3-カルボン酸2.65g(0.0129mol)をエタノール100ml中で攪拌し、この中へ30%メチルアミン水溶液100mlを加えて、4時間過熱還流した。室温まで冷却した後、反応混合物に濃塩酸を加えて析出した結晶をろ取した。真空中で乾燥し、目的物2.38g(収率91%)を得た。
1-オキソ-1H-イソチオクロメン-3-カルボン酸2.65g(0.0129mol)をエタノール100ml中で攪拌し、この中へ30%メチルアミン水溶液100mlを加えて、4時間過熱還流した。室温まで冷却した後、反応混合物に濃塩酸を加えて析出した結晶をろ取した。真空中で乾燥し、目的物2.38g(収率91%)を得た。
前記参考例に準じて製造した化合物の構造式と物性値を、前記参考例に記載した化合物を含めて次に示す。尚、化合物番号は前記した表に記載の番号である。
以下に1H-NMRデータ(TMS基準、δ(ppm)値)を示す。溶媒名がないものはCDCl3で測定された値である。
化合物番号VI-3:
0.97(3H,t,J=5.5Hz), 1.80(2H,m), 4.31(2H,t,J=5.5Hz),
6.94(1H,d,J=5.5Hz), 7.80(1H,d,J=5.5Hz)
化合物番号VI-11:
5.11(2H,d,J=5.5Hz), 5.20(1H,d,J=15.9Hz), 5.25(1H,d,J=9.6Hz),
5.88-6.01(1H,m), 6.98(1H,d,J=7.4Hz), 7.85(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-19:
1.75(3H,s), 4.45(1H,s), 4.88(1H,s), 5.10(2H,s),
6.95(1H,d,J=7.4Hz), 7.82(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-24:
2.29(1H,dt,J=1.0Hz,2.5Hz), 5.31(2H,dd,J=1.0Hz,2.5Hz),
7.07(1H,d,J=7.1Hz), 7.79(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号VI-60:(測定溶媒:DMSO‐d6)
1.25(3H,t,J=7.4Hz), 3.15(2H,q,J=7.4Hz), 6.04(2H,bs),
7.07(1H,d,J=7.4hz), 8.13(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-62:(測定溶媒:DMSO‐d6)
5.51(2H,s), 6.83(1H,d,J=7.4Hz), 7.11-7.14(2H,m),
7.25-7.36(3H,m), 8.06(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-63:(測定溶媒:DMSO‐d6)
5.45(2H,s), 6.84(1H,d,J=5.7Hz), 7.13-7.21(4H,m), 8.06(1H,d,J=5.7Hz)
化合物番号VI-64:
5.69(2H,s), 6.89-7.01(3H,m), 7.21-7.28(2H,m), 7.84(1H,d,J=7.7Hz)
化合物番号VI-65:
5.67(2H,s), 6.93-7.00(3H,m), 7.23-7.30(3H,s), 7.80(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-68:
5.66(2H,s), 6.97(1H,d,J=7.4Hz), 7.15(2H,d,J=8.5Hz),
8.25(2H,d,J=8.5Hz), 7.84(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-71:
2.29(3H,s), 5.67(2H,s), 6.88(1H,d,J=7.4Hz), 7.05-7.11(4H,m),
7.79(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-74:
3.76(3H,s), 5.65(2H,s), 6.80(2H,d,J=8.5Hz), 6.87(1H,d,J=7.1Hz),
7.17(2H,d,J=8.5Hz), 7.78(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号VI-92:
2.19(3H,s), 5.64(2H,s), 6.85-6.94(3H,m), 7.06(1H,t,J=8.2Hz),
7.81(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-93:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.80(3H,s), 5.40(2H,s), 6.82(1H,d,J=5.5Hz), 6.92(1H,d,J=6.7Hz),
7.04(1H,dd,J=1.4Hz,9.2Hz), 7.12(1H,t,J=6.7Hz), 8.05(1H,d,J=5.5Hz)
化合物番号VI-97:
5.61(2H,s), 5.91(2H,s), 6.69-6.79(3H,m), 7.31(1H,s),
7.74(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-101:
4.19(4H,s), 5.60(2H,s), 6.68-6.74(3H,m), 6.90(1H,d,J=7.1Hz),
7.80(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号VI-105:(測定溶媒:DMSO‐d6)
1.89(3H,s), 2.79(1H,dd,J=4.4Hz,17.6Hz),
3.12(1H,dd,J=9.6Hz,17.6Hz), 4.44-4.50(1H,m), 4.58-4.64(2H,m),
6.81(1H,d,J=7.4Hz), 8.03(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-126:
5.72(2H,s), 7.08-7.09(1H,m), 7.24-7.27(2H,m), 7.80(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-190:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.61(3H,s), 6.85(1H,d,J=7.1Hz), 7.22-7.28(2H,m), 7.42-7.46(2H,m),
7.56(1H,d,J=7.1Hz), 14.13(1H,bs)
化合物番号VI-191:
3.83(3H,s), 7.09(2H,d,J=7.4Hz), 7.35-7.48(3H,m), 7.54(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-192:
3.83(3H,s), 7.08-7.14(3H,m), 7.48(1H,d,J=7.4Hz), 7.68-7.73(2H,m)
化合物番号VI-200:
3.83(3H,s), 3.84(3H,s), 6.95(2H,dt,J=9.1Hz,2.7Hz),
7.09(1H,d,J=7.4Hz), 7.48(1H,d,J=7.4Hz), 7.68(2H,dt,J=9.1Hz,2.7Hz)
化合物番号VI-258:(測定溶媒:DMSO‐d6)
2.06(3H,s), 3.57(3H,s), 3.86(3H,s), 7.78(1H,d,J=7.1Hz),
7.49(1H,d,J=7.1Hz), 14.21(1H,bs)
化合物番号VI-260:
2.73(3H,s), 3.79(3H,s), 6.98(1H,d,J=7.4Hz), 8.09(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-261:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.61(3H,s), 6.69(1H,d,J=7.1Hz), 7.98(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号VI-262:
1.32(9H,s), 3.80(3H,s), 6.99(1H,d,J=7.4Hz), 7.50(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-263:
3.92(3H,s), 7.13-7.26(2H,m), 7.51(1H,d,J=4.1Hz),
7.77(1H,dd,J=1.1Hz,4.1Hz), 7.86(1H,d,J=7.7Hz)
化合物番号VI-264:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.64(3H,s), 7.34(1H,s), 7.64(1H,t,J=6.6Hz), 7.75-7.84(2H,m),
8.25(1H,d,J=8.0Hz), 13.86(1H,bs)
化合物番号VI-265:(測定溶媒:DMSO‐d6)
1.27(3H,t,J=5.2Hz), 4.25(2H,q,J=5.2Hz), 7.29(1H,s),
7.61-7.64(2H,m), 7.25(1H,d,J=6.0Hz)
化合物番号VI-266:(測定溶媒:DMSO‐d6)
0.86(3H,t,J=7.4Hz), 1.60-1.73(2H,m), 4.23(2H,t,J=8.0Hz),
7.31(1H,s), 7.60-7.66(1H,m), 7.75-7.7.83(2H,m),
8.25(1H,d,J=8.0Hz), 13.92(1H,bs)
化合物番号VI-267:(測定溶媒:DMSO‐d6)
157(6H,d,J=4.9Hz), 4.54(1H,m), 7.10(1H,s), 7.58-7.62(1H,m),
7.73-7.77(2H,m), 8.22(1H,d,J=6.1Hz)
化合物番号VI-313:(測定溶媒:DMSO‐d6)
5.65(2H,s), 7.10(2H,d,J=6.8Hz), 7.19-7.32(3H,m), 7.39(1H,s),
7.64-7.70(1H,m), 7.78-7.87(2H,m), 8.28(1H,d,J=8.0H), 13.82(1H,bs)
化合物番号VI-323:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.77(3H,s), 5.56(2H,s), 6.79-6.84(2H,m), 6.96(1H,d,J=6.1Hz),
7.18-7.23(1H,m), 7.37(1H,s), 7.63(1H,t,J=5.8Hz), 7.77-7.86(2H,m),
8.23(1H,d,J=5.8Hz), 13.70(1H,bs)
化合物番号VI-324:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.69(3H,s), 5.63(2H,s), 6.63(1H,d,J=7.4Hz), 6.67(1H,s),
6.80(1H,dd,J=2.5Hz,8.2Hz), 7.20(1H,t,J=8.2Hz), 7.39(1H,s),
7.67(1H,t,=8.2Hz), 7.79-7.87(2H,m), 8.28(1H,d,J=8.2Hz),
13.84(1H,bs)
化合物番号VI-325:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.70(3H,s), 5.59(2H,s), 6.85(2H,d,J=7.4Hz), 7.06(2H,d,J=7.4Hz),
7.34(1H,s,), 7.65(1H,t,J=6.6Hz), 7.76-7.86(2H,m),
8.28(1H,d,J=8.0Hz), 13.82(1H,bs)
化合物番号VI-341:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.81(3H,s), 7.00(2H,d,J=8.8Hz), 7.20(2H,d,J=8.8Hz), 7.28(1H,s),
7.65(1H,t,J=7.7Hz), 7.79-7.88(2H,m), 8.23(1H,d,J=7.7Hz),
13.40(1H, bs)
化合物番号VI-344:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.00(2H,t,J=8.0Hz), 4.44(2H,t,J=8.0Hz), 7.20-7.36(6H,m),
7.65(1H,t,J=8.0Hz), 7.77-7.85(2H,m), 8.28(1H,d,J=8.0Hz),
13.93(1H,bs)
化合物番号VI-345:(測定溶媒:DMSO‐d6)
2.92(2H,t,J=8.0Hz), 3.72(3H,s), 4.39(2H,t,J=8.0Hz),
6.86(1H,d,J=8.5Hz), 7.14(1H,d,J=8.5Hz), 7.34(1H,s),
7.64(1H,t,J=6.6Hz), 7.76-7.85(2H,m),
8.27(1H,d,J=8.2Hz), 13.91(1H,bs)
化合物番号VI-393:(測定溶媒:DMSO‐d6)
2.83(3H,s), 3.56(3H,s), 7.23(1H,s), 7.38(1H,d,J=4.8Hz),
7.57-7.63(2H,m), 13.81(1H,bs)
化合物番号VI-394:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.56(3H,s), 7.28(1H,d,J=2.2Hz), 7.32-7.36(1H,m),
7.63(1H,d,J=7.7Hz), 7.72-7.79(2H,m), 14.00(1H,bs)
化合物番号VI-395:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.65(3H,s), 7.31(1H,s), 7.76(1H,dd,J=4.4Hz,8.2Hz),
8.28(1H,dd,J=1.6Hz,8.2Hz), 8.88(1H,dd,J=1.6Hz,4.4Hz)
化合物番号VI-396:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.63(3H,s), 7.55(1H,d,J=5.2Hz), 7.60(1H,s),
7.82(1H,d,J=5.2Hz), 13.92(1H,bs)
化合物番号VI-397:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.66(3H,s), 7.44(1H,s), 7.49(1H,d,J=5.2Hz),
8.11(1H,d,J=5.2Hz), 13.90(1H,bs)
化合物番号VI-3:
0.97(3H,t,J=5.5Hz), 1.80(2H,m), 4.31(2H,t,J=5.5Hz),
6.94(1H,d,J=5.5Hz), 7.80(1H,d,J=5.5Hz)
化合物番号VI-11:
5.11(2H,d,J=5.5Hz), 5.20(1H,d,J=15.9Hz), 5.25(1H,d,J=9.6Hz),
5.88-6.01(1H,m), 6.98(1H,d,J=7.4Hz), 7.85(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-19:
1.75(3H,s), 4.45(1H,s), 4.88(1H,s), 5.10(2H,s),
6.95(1H,d,J=7.4Hz), 7.82(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-24:
2.29(1H,dt,J=1.0Hz,2.5Hz), 5.31(2H,dd,J=1.0Hz,2.5Hz),
7.07(1H,d,J=7.1Hz), 7.79(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号VI-60:(測定溶媒:DMSO‐d6)
1.25(3H,t,J=7.4Hz), 3.15(2H,q,J=7.4Hz), 6.04(2H,bs),
7.07(1H,d,J=7.4hz), 8.13(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-62:(測定溶媒:DMSO‐d6)
5.51(2H,s), 6.83(1H,d,J=7.4Hz), 7.11-7.14(2H,m),
7.25-7.36(3H,m), 8.06(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-63:(測定溶媒:DMSO‐d6)
5.45(2H,s), 6.84(1H,d,J=5.7Hz), 7.13-7.21(4H,m), 8.06(1H,d,J=5.7Hz)
化合物番号VI-64:
5.69(2H,s), 6.89-7.01(3H,m), 7.21-7.28(2H,m), 7.84(1H,d,J=7.7Hz)
化合物番号VI-65:
5.67(2H,s), 6.93-7.00(3H,m), 7.23-7.30(3H,s), 7.80(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-68:
5.66(2H,s), 6.97(1H,d,J=7.4Hz), 7.15(2H,d,J=8.5Hz),
8.25(2H,d,J=8.5Hz), 7.84(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-71:
2.29(3H,s), 5.67(2H,s), 6.88(1H,d,J=7.4Hz), 7.05-7.11(4H,m),
7.79(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-74:
3.76(3H,s), 5.65(2H,s), 6.80(2H,d,J=8.5Hz), 6.87(1H,d,J=7.1Hz),
7.17(2H,d,J=8.5Hz), 7.78(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号VI-92:
2.19(3H,s), 5.64(2H,s), 6.85-6.94(3H,m), 7.06(1H,t,J=8.2Hz),
7.81(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-93:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.80(3H,s), 5.40(2H,s), 6.82(1H,d,J=5.5Hz), 6.92(1H,d,J=6.7Hz),
7.04(1H,dd,J=1.4Hz,9.2Hz), 7.12(1H,t,J=6.7Hz), 8.05(1H,d,J=5.5Hz)
化合物番号VI-97:
5.61(2H,s), 5.91(2H,s), 6.69-6.79(3H,m), 7.31(1H,s),
7.74(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-101:
4.19(4H,s), 5.60(2H,s), 6.68-6.74(3H,m), 6.90(1H,d,J=7.1Hz),
7.80(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号VI-105:(測定溶媒:DMSO‐d6)
1.89(3H,s), 2.79(1H,dd,J=4.4Hz,17.6Hz),
3.12(1H,dd,J=9.6Hz,17.6Hz), 4.44-4.50(1H,m), 4.58-4.64(2H,m),
6.81(1H,d,J=7.4Hz), 8.03(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-126:
5.72(2H,s), 7.08-7.09(1H,m), 7.24-7.27(2H,m), 7.80(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-190:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.61(3H,s), 6.85(1H,d,J=7.1Hz), 7.22-7.28(2H,m), 7.42-7.46(2H,m),
7.56(1H,d,J=7.1Hz), 14.13(1H,bs)
化合物番号VI-191:
3.83(3H,s), 7.09(2H,d,J=7.4Hz), 7.35-7.48(3H,m), 7.54(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-192:
3.83(3H,s), 7.08-7.14(3H,m), 7.48(1H,d,J=7.4Hz), 7.68-7.73(2H,m)
化合物番号VI-200:
3.83(3H,s), 3.84(3H,s), 6.95(2H,dt,J=9.1Hz,2.7Hz),
7.09(1H,d,J=7.4Hz), 7.48(1H,d,J=7.4Hz), 7.68(2H,dt,J=9.1Hz,2.7Hz)
化合物番号VI-258:(測定溶媒:DMSO‐d6)
2.06(3H,s), 3.57(3H,s), 3.86(3H,s), 7.78(1H,d,J=7.1Hz),
7.49(1H,d,J=7.1Hz), 14.21(1H,bs)
化合物番号VI-260:
2.73(3H,s), 3.79(3H,s), 6.98(1H,d,J=7.4Hz), 8.09(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-261:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.61(3H,s), 6.69(1H,d,J=7.1Hz), 7.98(1H,d,J=7.1Hz)
化合物番号VI-262:
1.32(9H,s), 3.80(3H,s), 6.99(1H,d,J=7.4Hz), 7.50(1H,d,J=7.4Hz)
化合物番号VI-263:
3.92(3H,s), 7.13-7.26(2H,m), 7.51(1H,d,J=4.1Hz),
7.77(1H,dd,J=1.1Hz,4.1Hz), 7.86(1H,d,J=7.7Hz)
化合物番号VI-264:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.64(3H,s), 7.34(1H,s), 7.64(1H,t,J=6.6Hz), 7.75-7.84(2H,m),
8.25(1H,d,J=8.0Hz), 13.86(1H,bs)
化合物番号VI-265:(測定溶媒:DMSO‐d6)
1.27(3H,t,J=5.2Hz), 4.25(2H,q,J=5.2Hz), 7.29(1H,s),
7.61-7.64(2H,m), 7.25(1H,d,J=6.0Hz)
化合物番号VI-266:(測定溶媒:DMSO‐d6)
0.86(3H,t,J=7.4Hz), 1.60-1.73(2H,m), 4.23(2H,t,J=8.0Hz),
7.31(1H,s), 7.60-7.66(1H,m), 7.75-7.7.83(2H,m),
8.25(1H,d,J=8.0Hz), 13.92(1H,bs)
化合物番号VI-267:(測定溶媒:DMSO‐d6)
157(6H,d,J=4.9Hz), 4.54(1H,m), 7.10(1H,s), 7.58-7.62(1H,m),
7.73-7.77(2H,m), 8.22(1H,d,J=6.1Hz)
化合物番号VI-313:(測定溶媒:DMSO‐d6)
5.65(2H,s), 7.10(2H,d,J=6.8Hz), 7.19-7.32(3H,m), 7.39(1H,s),
7.64-7.70(1H,m), 7.78-7.87(2H,m), 8.28(1H,d,J=8.0H), 13.82(1H,bs)
化合物番号VI-323:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.77(3H,s), 5.56(2H,s), 6.79-6.84(2H,m), 6.96(1H,d,J=6.1Hz),
7.18-7.23(1H,m), 7.37(1H,s), 7.63(1H,t,J=5.8Hz), 7.77-7.86(2H,m),
8.23(1H,d,J=5.8Hz), 13.70(1H,bs)
化合物番号VI-324:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.69(3H,s), 5.63(2H,s), 6.63(1H,d,J=7.4Hz), 6.67(1H,s),
6.80(1H,dd,J=2.5Hz,8.2Hz), 7.20(1H,t,J=8.2Hz), 7.39(1H,s),
7.67(1H,t,=8.2Hz), 7.79-7.87(2H,m), 8.28(1H,d,J=8.2Hz),
13.84(1H,bs)
化合物番号VI-325:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.70(3H,s), 5.59(2H,s), 6.85(2H,d,J=7.4Hz), 7.06(2H,d,J=7.4Hz),
7.34(1H,s,), 7.65(1H,t,J=6.6Hz), 7.76-7.86(2H,m),
8.28(1H,d,J=8.0Hz), 13.82(1H,bs)
化合物番号VI-341:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.81(3H,s), 7.00(2H,d,J=8.8Hz), 7.20(2H,d,J=8.8Hz), 7.28(1H,s),
7.65(1H,t,J=7.7Hz), 7.79-7.88(2H,m), 8.23(1H,d,J=7.7Hz),
13.40(1H, bs)
化合物番号VI-344:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.00(2H,t,J=8.0Hz), 4.44(2H,t,J=8.0Hz), 7.20-7.36(6H,m),
7.65(1H,t,J=8.0Hz), 7.77-7.85(2H,m), 8.28(1H,d,J=8.0Hz),
13.93(1H,bs)
化合物番号VI-345:(測定溶媒:DMSO‐d6)
2.92(2H,t,J=8.0Hz), 3.72(3H,s), 4.39(2H,t,J=8.0Hz),
6.86(1H,d,J=8.5Hz), 7.14(1H,d,J=8.5Hz), 7.34(1H,s),
7.64(1H,t,J=6.6Hz), 7.76-7.85(2H,m),
8.27(1H,d,J=8.2Hz), 13.91(1H,bs)
化合物番号VI-393:(測定溶媒:DMSO‐d6)
2.83(3H,s), 3.56(3H,s), 7.23(1H,s), 7.38(1H,d,J=4.8Hz),
7.57-7.63(2H,m), 13.81(1H,bs)
化合物番号VI-394:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.56(3H,s), 7.28(1H,d,J=2.2Hz), 7.32-7.36(1H,m),
7.63(1H,d,J=7.7Hz), 7.72-7.79(2H,m), 14.00(1H,bs)
化合物番号VI-395:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.65(3H,s), 7.31(1H,s), 7.76(1H,dd,J=4.4Hz,8.2Hz),
8.28(1H,dd,J=1.6Hz,8.2Hz), 8.88(1H,dd,J=1.6Hz,4.4Hz)
化合物番号VI-396:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.63(3H,s), 7.55(1H,d,J=5.2Hz), 7.60(1H,s),
7.82(1H,d,J=5.2Hz), 13.92(1H,bs)
化合物番号VI-397:(測定溶媒:DMSO‐d6)
3.66(3H,s), 7.44(1H,s), 7.49(1H,d,J=5.2Hz),
8.11(1H,d,J=5.2Hz), 13.90(1H,bs)
以下に本発明除草剤に関する製剤例を示すが、有効成分化合物、添加物及び添加割合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で変更可能である。製剤実施例中の部は質量部を示す。
〈製剤例1〉 水和剤
一般式[1]で表される化合物10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β-ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の20部、クレーの69部を混合粉砕し、水和剤を得た。
一般式[1]で表される化合物10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β-ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の20部、クレーの69部を混合粉砕し、水和剤を得た。
〈製剤例2〉 フロアブル剤
一般式[1]で表される化合物20部を水69部に分散させ、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩4部、エチレングリコール7部を加えるとともにシリコーンAF-118N(旭化成工業株式会社製)を製剤に対し200ppm加え、高速攪拌機にて30分間混合した後、湿式粉砕機にて粉砕しフロアブル剤を得た。
一般式[1]で表される化合物20部を水69部に分散させ、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩4部、エチレングリコール7部を加えるとともにシリコーンAF-118N(旭化成工業株式会社製)を製剤に対し200ppm加え、高速攪拌機にて30分間混合した後、湿式粉砕機にて粉砕しフロアブル剤を得た。
〈製剤例3〉 乳剤
一般式[1]で表される化合物30部にキシレンとイソホロンの等量混合物60部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の10部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得た。
一般式[1]で表される化合物30部にキシレンとイソホロンの等量混合物60部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の10部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得た。
〈製剤例4〉 粒剤
一般式[1]で表される化合物10部、タルクとベントナイトを1:3の割合の混合した増量剤の80部、ホワイトカーボンの5部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の5部に水10部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径0.7mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に0.5~1mmの長さに切断し、粒剤を得た。
一般式[1]で表される化合物10部、タルクとベントナイトを1:3の割合の混合した増量剤の80部、ホワイトカーボンの5部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の5部に水10部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径0.7mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に0.5~1mmの長さに切断し、粒剤を得た。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
〈試験例1〉 水田土壌処理による除草効果試験
100cm2プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ、コナギ、イヌホタルイの種子を播種し、水深3cmに湛水した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を、1ヘクタール当り1000gとした。その後、温室内で育成し、処理後21日目に表57の基準に従って除草効果を調査し、その結果を表58及び表59に示す。
〈試験例1〉 水田土壌処理による除草効果試験
100cm2プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ、コナギ、イヌホタルイの種子を播種し、水深3cmに湛水した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を、1ヘクタール当り1000gとした。その後、温室内で育成し、処理後21日目に表57の基準に従って除草効果を調査し、その結果を表58及び表59に示す。
〈試験例2〉 畑地土壌処理による除草効果試験
80cm2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ、エノコログサ、イチビ、アオゲイトウの種子を播種して覆土した。製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、1ヘクタール当り有効成分が1000gになるように、1ヘクタール当り1000リットル相当を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理21日目に前記した表57に記載の基準に従って、除草効果を調査した。結果を次の表60及び表61に示す。
80cm2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ、エノコログサ、イチビ、アオゲイトウの種子を播種して覆土した。製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、1ヘクタール当り有効成分が1000gになるように、1ヘクタール当り1000リットル相当を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理21日目に前記した表57に記載の基準に従って、除草効果を調査した。結果を次の表60及び表61に示す。
〈試験例3〉 畑地茎葉処理による除草効果試験
80cm2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イチビ、アオゲイトウ、イヌビエ、エノコログサの種子を播種し、温室内で2週間育成後、製剤例1に準じて調製した水和剤を水に希釈し、1ヘクタール当り有効成分が1000gになる様に、1ヘクタール当り1000リットルを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理14日目に表57の基準に従って、除草効果を調査した。その結果を表62及び表63に示す。
80cm2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イチビ、アオゲイトウ、イヌビエ、エノコログサの種子を播種し、温室内で2週間育成後、製剤例1に準じて調製した水和剤を水に希釈し、1ヘクタール当り有効成分が1000gになる様に、1ヘクタール当り1000リットルを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理14日目に表57の基準に従って、除草効果を調査した。その結果を表62及び表63に示す。
これらの試験の結果、本発明の化合物が、優れた除草活性を有していることがわかった。
Claims (5)
- 一般式[1]
R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子;ニトロ基;シアノ基;C1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C3~C8シクロアルキル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C2~C6ハロアルキニル基;C1~C6アルコキシ基;C1~C6ハロアルコキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C3~C8シクロアルキルオキシC1~C6アルキル基;ジ(C1~C6アルコキシ)C1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C6アルコキシイミノC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルオキシイミノC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC2~C6アルケニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルC2~C6アルキニル基;又はハロゲン原子を表し、
ここで、R2及びR3は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択されるヘテロ原子を含んでいてもよいC2~C5アルキレン鎖又は二重結合を1~2個含むC2~C5アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく、
Wは、次の式W-1から式W-5までの何れかを表し、
A1は、次の一般式
A2は、次の一般式
A3は、次の一般式
nは0、1、2を表し、
R5、R6、R8、R9、R35及びR36はそれぞれ独立して、水素原子又はC1~C6アルキル基を表し、
ここで、R5とR8はC2~C5アルキレン鎖又はC2~C5アルケニレン鎖で結合して環を形成してもよく、
また、R5とR35はC1~C5アルキレン鎖で結合して環を形成してもよく、
R7、R33及びR34はそれぞれ独立して、水素原子、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、又はC1~C6アルコキシ基を表し、
R14、R15、R16及びR17はそれぞれ独立して、水素原子、C1~C6アルキル基、C1~C6アルコキシ基、又は置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基を表し、
R18は、水素原子、C1~C6アルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、シアノメチル基、又はベンジル基を表し、
R20は、C1~C6アルキル基、C2~C6アルケニル基、C2~C6アルキニル基、C3~C8シクロアルキル基、又はC3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基を表し、
R21は、水素原子、C1~C6アルキル基、又はハロゲン原子を表し、
R23は、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C3~C8シクロアルキル基、C1~C10アルキルチオ基、C1~C10アルキルスルフィニル基、C1~C10アルキルスルホニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルチオ基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルフィニル基、置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、又は置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基を表し、
R24は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6アルキル基、C3~C8シクロアルキル基、又はC1~C6アルコキシカルボニルアミノ基を表し、
R25は、C1~C6アルコキシカルボニル基、シアノ基、又はニトロ基を表し、
R31及びR32は、それぞれ独立して、水素原子;C1~C6アルキル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C10アルキルチオカルボニル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;C1~C6ハロアルキル基;C3~C8シクロアルキル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C10アルキルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいフェニルスルホニル基;置換基群αから選ばれる置換基で置換されてもよいベンジルスルホニル基;同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);又は同一若しくは相異なってよい酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を有する炭素数3~10の複素環で置換されたC1~C6アルキル基(該基は置換基群αから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。)を表し、
ここで、R31及びR32はこれらが一緒になってこれらが結合している窒素原子と共に5~6員環を形成していてもよく、この際、この環中にR31及びR32が結合している窒素原子以外に硫黄原子及び/又は酸素原子が介在していても良い。
ここに、「置換基群α」は:
ハロゲン原子;ヒドロキシル基;C1~C6アルキル基;C3~C8シクロアルキル基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキル基;C2~C6アルケニル基;C2~C6アルキニル基;C1~C6ハロアルキル基;C2~C6ハロアルケニル基;C2~C6ハロアルキニル基;C3~C8ハロシクロアルキル基;C3~C8ハロシクロアルキルC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシ基;C3~C8シクロアルキルオキシ基;C2~C6アルケニルオキシ基;C2~C6アルキニルオキシ基;C1~C6アルキルカルボニルオキシ基;C1~C6ハロアルコキシ基;C1~C10アルキルチオ基;C1~C10アルキルスルフィニル基;C1~C10アルキルスルホニル基;C1~C6ハロアルキルチオ基;C1~C6ハロアルキルスルフィニル基;C1~C6ハロアルキルスルホニル基;アミノ基;C1~C6アルキルカルボニルアミノ基;モノ(C1~C6アルキル)アミノ基;ジ(C1~C6アルキル)アミノ基;ヒドロキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6アルキルスルホニルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルチオC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルスルフィニルC1~C6アルキル基;C1~C6ハロアルキルスルホニルC1~C6アルキル基;シアノC1~C6アルキル基;C1~C6アルコキシC1~C6アルコキシ基;C3~C8シクロアルキルC1~C6アルキルオキシ基;C1~C6ハロアルコキシC1~C6アルコキシ基;シアノC1~C6アルコキシ基;C1~C6アルキルカルボニル基;C1~C6アルコキシイミノC1~C6アルキル基;カルボキシル基;C1~C6アルコキシカルボニル基;カルバモイル基;モノ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基;ジ(C1~C6アルキル)アミノカルボニル基;ニトロ基;シアノ基;フェニル基(該基のフェニル基は、1又は2~5個の同一もしくは異なる置換基βにより置換されてもよい。);酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環基(該基は、置換基群βから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);ならびに酸素原子、硫黄原子及び窒素原子より任意に選択される1~5個のヘテロ原子を有する炭素数2~10の複素環オキシ基(該基は、置換基群βから選ばれる1個又は同一もしくは相異なる2~5個の置換基により置換されてもよい。);からなる群を表し、
また、「置換基群β」は:
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C1~C6アルキル基、C1~C6ハロアルキル基、C1~C6アルコキシ基、及びC1~C6ハロアルコキシ基からなる群である。]
で示されるピリドン誘導体又はその塩。 - 請求項1に記載のピリドン誘導体又はその塩、及び農業上許容し得る担体を含有してなる農薬組成物。
- 請求項1に記載のピリドン誘導体又はその塩を活性成分として含有することを特徴とする除草剤。
- 請求項1に記載のピリドン誘導体又はその塩を含有してなる除草剤の有効量を散布して土壌における雑草を除草する方法。
- 土壌が、農園芸用植物を栽培する畑地又は水田の農地である請求項4に記載の方法。
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