WO2010070822A1

WO2010070822A1 - 除草剤の薬害軽減剤、薬害が軽減された除草性組成物及びそれを用いる薬害軽減方法

Info

Publication number: WO2010070822A1
Application number: PCT/JP2009/006464
Authority: WO
Inventors: 青木友; 金子功; 中野勇樹; 山脇大輔
Original assignee: クミアイ化学工業株式会社; イハラケミカル工業株式会社
Priority date: 2008-12-15
Filing date: 2009-11-30
Publication date: 2010-06-24
Also published as: JPWO2010070822A1

Abstract

【課題】　本発明は、除草効果を低減することなく栽培植物の薬害を軽減することに極めて好適であるイソチアゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有することを特徴とする除草剤の薬害軽減剤、該薬害軽減剤と除草剤を有効成分とする薬害軽減された除草性組成物、及び、それを用いる薬害軽減方法を提供する。　【解決手段】　一般式［Ｉ］ [式中、Ｘ^１及びＸ^２は、ハロゲン原子を示し、Ｒは、Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基、Ｃ_２－Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２－Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_３－Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_１－Ｃ_６ハロアルキル基、フェニル基又は酸素原子、硫黄原子もしくは窒素原子の少なくとも一つを含む５～１０員複素環基を示す。] で表される３，４－ジハロゲノイソチアゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有することを特徴とする除草剤の薬害軽減剤。

Description

除草剤の薬害軽減剤、薬害が軽減された除草性組成物及びそれを用いる薬害軽減方法

　本発明は、除草剤の薬害から栽培植物を保護する作用を有する化合物を有効成分とする薬害軽減剤、薬害が軽減された除草性組成物及びそれを用いる薬害軽減方法に関する。

　これまで、多種多様の除草剤が水田雑草、畑地雑草又は非農耕地雑草に対し高い除草活性を示し、又、広範囲の除草スペクトラムを有することが知られている。

　しかしながら、これらの除草剤の多くは、特定の農作物等の栽培植物に対してのみ安全に使用することができ、それ以外の栽培植物に対しては薬害を示すことがある。又、上記の安全に使用できるとされる栽培植物に対しても、浅植苗、移植直後又は播種直後の苗等に対して、或いは、温度、土壌、水管理等の不良環境条件下において、除草剤の使用により望ましくない薬害が発生することがあるし、不本意に又は偶発的に過剰量が使用される場合にも、薬害が生じることがある。

　このため、これらの除草剤について、安全に使用し得る栽培植物の範囲を拡大し、薬害を軽減する目的で、これまで各種の薬害軽減剤（Safener）が提案されてきている。しかしながら、これら従来の薬害軽減剤の作用は特異的であって、特定の栽培植物に使用される特定の除草剤のみに有効であり、普遍的に使用できるものではなかった。

　例えば非特許文献１には、トウモロコシに対して除草剤としてクロロアセトアミド系化合物のメトラクロールを用いた場合はベノキサコールが、ソルガムに対して同じ除草剤を用いた場合はシオメトリニルやフルキソフェニムが、又、コムギに対してアリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤のフェノキサプロップ・エチルを用いた場合はフェンクロラゾール・エチルが、ライムギ、オオムギに対して同じ除草剤を用いた場合はメフェンピル・ジエチルなどが有効な薬害軽減剤になることが記載されている。

　又、特許文献１には、ある種のイソチアゾール誘導体が除草性化合物の薬害に対し軽減作用を有していることが記載されている。

特表２００６－５２８２１７号公報

ペスティサイド・アウトルック（Pesticide Outlook）、２００１年１２月、１０－１５頁

　本発明の課題は、このような事情の下、広範な除草剤について、それを単に使用した場合には、水田、畑地又は非農耕地の栽培植物の生育障害、生育抑制、分げつ抑制、黄化などの薬害症状を生じさせるような除草活性成分量に相当するものであっても、これらの除草剤と併用することにより、共生する雑草類に対して十分な除草効果を発揮すると共に、栽培植物に対しては、薬害を軽減又は防止し得る薬害軽減剤、薬害が軽減された除草性組成物及びそれを用いる薬害軽減方法を提供することにある。

　本発明者らは、先に農園芸用植物病害防除剤として使用できる、一般式［Ｉａ］

［式中、Ｘ^１１及びＸ^１２は、ハロゲン原子を示し、
Ａ’は、酸素原子又は硫黄原子を示し、
Ｒ’は、Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい。）、Ｃ_２－Ｃ_５アルケニル基（該基はフェニル基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい。）、Ｃ_２－Ｃ_５アルキニル基、Ｃ_３－Ｃ_６シクロアルキル基、フェニル基（該基は置換基群α’から選択される同一又は異なった置換基によってモノ置換又はポリ置換されてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子若しくは窒素原子の少なくとも一つを含む５～１０員複素環基（該基は置換基群α’から選択される同一又は異なった置換基によってモノ置換又はポリ置換されてもよい。）を表す。］

［置換基群α’］
Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３－Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_１－Ｃ_６ハロアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ_１－Ｃ_５アシル基、カルボキシル基、Ｃ_１－Ｃ_６アルコキシカルボニル基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）カルバモイル基、アミノ基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）アミノ基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルアミド基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルスルホンアミド基、ニトロ基、ヒドロキシル基、Ｃ_１－Ｃ_６アルコキシ基、Ｃ_１－Ｃ_６アシルオキシ基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルスルホニル基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）スルファモイル基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）スルファモイル基

で表される３，４－ジハロゲノイソチアゾール誘導体又はその塩（ＷＯ２００８／００７４５９号公報）を見出したが、更に研究を重ねた結果、この化合物が、公知の除草剤に対して、除草効果を低減することなく栽培植物の薬害を軽減することに極めて好適であることを見出し、本発明を完成するに至った。

　即ち、本発明は、下記の（１）乃至（６）に関するものである。

（１）一般式［Ｉ］

［式中、Ｘ^１及びＸ^２は、ハロゲン原子を示し、
Ａは、酸素原子又は硫黄原子を示し、
Ｒは、Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい。）、Ｃ_２－Ｃ_５アルケニル基（該基はフェニル基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい。）、Ｃ_２－Ｃ_５アルキニル基、Ｃ_３－Ｃ_６シクロアルキル基、フェニル基（該基は置換基群αから選択される同一又は異なった置換基によってモノ置換又はポリ置換されてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子若しくは窒素原子の少なくとも一つを含む５～１０員複素環基（該基は置換基群αから選択される同一又は異なった置換基によってモノ置換又はポリ置換されてもよい。）を表す。］

［置換基群α］
Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３－Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_１－Ｃ_６ハロアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ_１－Ｃ_５アシル基、カルボキシル基、Ｃ_１－Ｃ_６アルコキシカルボニル基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）カルバモイル基、アミノ基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）アミノ基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルアミド基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルスルホンアミド基、ニトロ基、ヒドロキシル基、Ｃ_１－Ｃ_６アルコキシ基、Ｃ_１－Ｃ_６アシルオキシ基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルスルホニル基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）スルファモイル基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）スルファモイル基

で表される３，４－ジハロゲノイソチアゾール誘導体又はその塩からなることを特徴とする除草剤の薬害軽減剤。
（２）前記（１）に記載の薬害軽減剤と除草剤とを有効成分として含有することを特徴とする薬害が軽減された除草性組成物。
（３）前記（１）に記載の薬害軽減剤を除草剤と組み合わせて使用することを特徴とする除草剤の薬害軽減方法。
（４）前記（１）に記載の薬害軽減剤を
　（ａ）除草剤と同時に使用するか、
　（ｂ）除草剤と近接使用するか、又は
　（ｃ）栽培植物の種子又は生育中の植物本体に処理すること
を特徴とする除草性化合物の薬害軽減方法。
（５）栽培植物が、畑地の作物である前記（３）に記載の方法。
（６）栽培植物が、水田の作物である前記（３）に記載の方法。

　本発明による除草剤の薬害軽減剤、薬害が軽減された除草性組成物及びそれを用いる薬害軽減方法は、除草剤を単に使用した場合には、畑地、水田又は非農耕地等の栽培植物の生育障害や生育抑制、黄化等の薬害症状を生じさせるような除草活性成分量に相当するものであっても、共生する雑草類に対して十分な除草効果を発揮すると共に、対象作物の薬害症状を軽減又は防止しうるという顕著な効果を奏する。

　本明細書において、用いられる記号及び用語の定義を以下に示す。

　式［Ｉ］中の置換基Ｘ^１及びＸ^２は、ハロゲン原子を示し、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。

　式［Ｉ］中の置換基ＲにおけるＣ_１～Ｃ_６等の表記は、これに続く置換基の炭素数が、この場合では１～６であることを示す。

　Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１～６の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、１－メチルブチル、２－メチルブチル、３－メチルブチル、１－エチルプロピル、１，１－ジメチルプロピル、１，２－ジメチルプロピル、ネオペンチル、ｎ－へキシル、１－メチルペンチル、２－メチルペンチル、３－メチルペンチル、４－メチルペンチル、１－エチルブチル、２－エチルブチル、１，１－ジメチルブチル、１，２－ジメチルブチル、１，３－ジメチルブチル、２，２－ジメチルブチル、２，３－ジメチルブチル、３，３－ジメチルブチル、１，１，２－トリメチルプロピル、１，２，２－トリメチルプロピル、１－エチル－１－メチルプロピル、１－エチル－２－メチルプロピル等の基を挙げることができる。

　尚、Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基は、ハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換、具体的には、１～１３個のハロゲン原子により置換されてもよい。

　Ｃ_２－Ｃ_５アルケニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が２～５の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル、１－プロペニル、イソプロペニル、２－プロペニル、１－ブテニル、１－メチル－１－プロペニル、２－ブテニル、１－メチル－２－プロペニル、３－ブテニル、２－メチル－１－プロペニル、２－メチル－２－プロペニル、１，３－ブタジエニル、１－ペンテニル、１－エチル－２－プロペニル、２－ペンテニル、１－メチル－１－ブテニル、３－ペンテニル、１－メチル－２－ブテニル、４－ペンテニル、１－メチル－３－ブテニル、３－メチル－１－ブテニル、１，２－ジメチル－２－プロペニル、１，１－ジメチル－２－プロペニル、２－メチル－２－ブテニル、３－メチル－２－ブテニル、１，２－ジメチル－１－プロペニル、２－メチル－３－ブテニル、３－メチル－３－ブテニル、１，３－ペンタジエニル、１－ビニル－２－プロペニル等の基を挙げることができる。

　尚、Ｃ_２－Ｃ_５アルケニル基は、フェニル基によりモノ置換又はポリ置換、具体的には、１～９個のフェニル基により置換されてもよい。

　Ｃ_２－Ｃ_５アルキニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が２～５の直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばエチニル、１－プロピニル、２－プロピニル、１－ブチニル、１－メチル－２－プロピニル、２－ブチニル、３－ブチニル、１－ペンチニル、１－エチル－２－プロピニル、２－ペンチニル、３－ペンチニル、１－メチル－２－ブチニル、４－ペンチニル、１－メチル－３－ブチニル、２－メチル－３－ブチニル等の基を挙げることができる。

　Ｃ_３－Ｃ_６シクロアルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が３～６のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシル等の基を挙げることができる。

　式［Ｉ］中の置換基Ｒはフェニル基であってもよく、更にこのフェニル基は、以下の置換基群αから選択される同一又は異なった置換基によってモノ置換又はポリ置換されてもよい。

　上記置換基群αにおけるＣ_１－Ｃ_６ハロアルキル基とは、ハロゲン原子によって置換された、炭素数が１～６の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばフルオロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル、２－フルオロエチル、１－クロロエチル、２－クロロエチル、１－ブロモエチル、２－ブロモエチル、２，２－ジフルオロエチル、１，２－ジクロロエチル、２，２－ジクロロエチル、２，２，２－トリフルオロエチル、２，２，２－トリクロロエチル、１，１，２，２－テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、２－ブロモ－２－クロロエチル、２－クロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエチル、１－クロロ－１，２，２，２－テトラフルオロエチル、１－クロロプロピル、２－クロロプロピル、３－クロロプロピル、２－ブロモプロピル、３－ブロモプロピル、２－ブロモ－１－メチルエチル、３－ヨードプロピル、２，３－ジクロロプロピル、２，３－ジブロモプロピル、３，３，３－トリフルオロプロピル、３，３，３－トリクロロプロピル、３－ブロモ－３，３－ジフルオロプロピル、３，３－ジクロロ－３－フルオロプロピル、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル、１－ブロモ－３，３，３－トリフルオロプロピル、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル、２，２，２－トリフルオロ－１－トリフルオロメチルエチル、ヘプタフルオロプロピル、１，２，２，２－テトラフルオロ－１－トリフルオロメチルエチル、２，３－ジクロロ－１，１，２，３，３－ペンタフルオロプロピル、２－クロロブチル、３－クロロブチル、４－クロロブチル、２－クロロ－１，１－ジメチルエチル、４－ブロモブチル、３－ブロモ－２－メチルプロピル、２－ブロモ－１，１－ジメチルエチル、２，２－ジクロロ－１，１－ジメチルエチル、２－クロロ－１－クロロメチル－２－メチルエチル、４，４，４－トリフルオロブチル、３，３，３－トリフルオロ－１－メチルプロピル、３，３，３－トリフルオロ－２－メチルプロピル、２，３，４－トリクロロブチル、２，２，２－トリクロロ－１，１－ジメチルエチル、４－クロロ－４，４－ジフルオロブチル、４，４－ジクロロ－４－フルオロブチル、４－ブロモ－４，４－ジフルオロブチル、２，４－ジブロモ－４，４－ジフルオロブチル、３，４－ジクロロ－３，４，４－トリフルオロブチル、３，３－ジクロロ－４，４，４－トリフルオロブチル、４－ブロモ－３，３，４，４－テトラフルオロブチル、４－ブロモ－３－クロロ－３，４，４－トリフルオロブチル、２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロブチル、２，２，３，４，４，４－ヘキサフルオロブチル、２，２，２－トリフルオロ－１－メチル－１－トリフルオロメチルエチル、３，３，３－トリフルオロ－２－トリフルオロメチルプロピル、２，２，３，３，４，４，４－ヘプタフルオロブチル、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－トリフルオロメチルプロピル、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル、ノナフルオロブチル、４－クロロ－１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル、５－フルオロペンチル、５－クロロペンチル、５，５－ジフルオロペンチル、５，５－ジクロロペンチル、５，５，５－トリフルオロペンチル、６，６，６－トリフルオロヘキシル又は５，５，５，６，６，６－ペンタフルオロヘキシル等の基を挙げることができる。

　Ｃ_１－Ｃ_５アシル基とは、炭素数１～５の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アシル基を示し、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、イソプロピオニル、ブチリル又はピバロイル等の基を挙げることができる。

　Ｃ_１－Ｃ_６アルコキシカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－基を示し、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ－プロポキシカルボニル又はイソプロポキシカルボニル等の基を挙げることができる。

　モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）カルバモイル基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－基を示し、例えばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル又はプロピルカルバモイル等の基を挙げることができる。

　ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）カルバモイル基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６）_２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－基を示し、例えばジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル又はエチルメチルカルバモイル等の基を挙げることができる。

　モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）アミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）－ＮＨ－基を示し、例えばメチルアミノ又はエチルアミノ等の基を挙げることができる。

　ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）アミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）_２Ｎ－基を示し、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ又はジプロピルアミノ等の基を挙げることができる。

　Ｃ_１－Ｃ_６アルキルアミド基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－基を示し、例えばメチルアミド又はエチルアミド等の基を挙げることができる。

　Ｃ_１－Ｃ_６アルキルスルホンアミド基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）－ＳＯ_２－ＮＨ－基を示し、例えばメチルスルホンアミド又はエチルスルホンアミド等の基を挙げることができる。

　Ｃ_１－Ｃ_６アルコキシ基とは、アルキル部分が前記の意味を有する（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）－Ｏ－基を示し、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ又はヘキシルオキシ等の基を挙げることができる。

　Ｃ_１－Ｃ_６アシルオキシ基とは、炭素数１～６の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アシルオキシ基を示し、例えばホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ又はイソプロピオニルオキシ等の基を挙げることができる。

　Ｃ_１－Ｃ_６アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）－ＳＯ_２－基を示し、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル又はｎ－プロピルスルホニル等の基を挙げることができる。

　モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）スルファモイル基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）－ＮＨ－ＳＯ_２－基を示し、例えばメチルスルファモイル、エチルスルファモイル又はプロピルスルファモイル等の基を挙げることができる。

　ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）スルファモイル基とは、アルキル部分が上記の意味である（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）_２－Ｎ－ＳＯ_２－基を示し、例えばジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル、メチルエチルスルファモイル又はジプロピルスルファモイル等の基を挙げることができる。

　式［Ｉ］中の置換基Ｒは複素環基であってもよく、この複素環基は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子の少なくとも一つを含む５～１０員複素環基であり、例えばピリジン、ピロール、フラン、チオフェン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、ピラゾール、１，２，３－オキサジアゾール、１，２，３－チアジアゾール、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－オキサジアゾール、１，２，４－チアジアゾール、１，２，４－トリアゾール、１，２，５－オキサジアゾール、１，２，５－チアジアゾール、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾイソキサゾール、ベンゾイソチアゾール、インダゾール、１，２，３－ベンゾオキサジアゾール、１，２，３－ベンゾチアジアゾール、ベンゾトリアゾール、２，１，３－ベンゾオキサジアゾール又は２，１，３－ベンゾチアジアゾール等の基を挙げることができる。

　次に、一般式［Ｉ］で示される化合物の具体例を表１～表１５に記載する。しかしながら、一般式［Ｉ］で示される化合物はこれらの例に限定されるものではない。

　本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
例えばＭｅとはメチル基を示し、Ｅｔとはエチル基を示し、Ｐｒ－ｎとはｎ－プロピル基を示し、Ｐｒ－ｉとはイソプロピル基を示し、Ｐｒ－ｃとはシクロプロピル基を示し、Ｂｕ－ｎとはｎ－ブチル基を示し、Ｂｕ－ｓとはセカンダリーブチル基を示し、Ｂｕ－ｉとはイソブチル基を示し、Ｂｕ－ｔとはターシャリーブチル基を示し、Ｐｈとはフェニル基を示す。又、例えば２－ＯＭｅとは２位に置換したメトキシ基を示し、２，６－Ｃｌ_２とは２位及び６位に置換したクロル基を示す。

　尚、化合物番号は以後の記載において参照される。

　一般式［Ｉ］で示される化合物の代表的な製造方法を以下に例示するが、当該化合物の製造方法はこれらの方法に限定されるものではない。
［製造方法１］

（式中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＲは前記と同じ意味を示し、Ｙはハロゲン原子又はヒドロキシル基を示す。）

　（工程１）
　一般式［Ｉｂ］で表される化合物は、一般式［ＩＩ］で表されるアルコールと、一般式［ＩＩＩ］で表されるカルボン酸或いはカルボン酸ハロゲン化物とを、塩基存在下又は非存在下、又は、縮合剤の存在下又は非存在下、溶媒中又は溶媒非存在下で反応させることにより製造することができる。

　一般式［ＩＩＩ］で表される化合物の使用量は、一般式［ＩＩ］で表される化合物１ｍｏｌに対して０．８～２．０ｍｏｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０～１．２ｍｏｌである。

　本工程で使用できる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のカルボン酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物；水素化ナトリウム、水素化カリウム又は水素化カルシウム等の金属水素化物；トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセン（ＤＢＵ）等の有機塩基等が挙げられる。

　塩基の使用量は、一般式［ＩＩ］で表される化合物１ｍｏｌに対して０～１０ｍｏｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０～１．２ｍｏｌである。

　本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム又はジグライム等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素又はジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド又はＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３－ジメチル－２－イミダゾリノン等のウレア類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類；アセトニトリル等のニトリル類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。

　溶媒の使用量は、一般式［ＩＩ］で表される化合物１ｍｏｌに対して０～１００Ｌ（リットル）であり、好ましくは０．５～２．０Ｌである。

　本工程で使用できる縮合剤は、カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）などのカルボジイミド類；ベンゾトリアゾール－１－イルオキシトリス（ジエチルアミノ）ホスホニウム　ヘキサフルオロホスホネート（ＢＯＰ試薬）やアゾジカルボン酸ジイソプロピルとトリフェニルホスフィンの組み合わせ等が挙げられる。

　縮合剤の使用量は、一般式［ＩＩ］で表される化合物１ｍｏｌに対して０～１０ｍｏｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０～１．２ｍｏｌである。

　反応温度は、－２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃～１００℃の範囲で行うのがよい。

　反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常３０分～４８時間である。

　本工程の目的物である一般式［Ｉ］で表される化合物は、反応終了後、常法により反応系から採取される。得られた目的化合物は、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。

　本工程で使用する一般式［ＩＩＩ］で表される化合物は、常法により製造するか又は市販の試薬を用いてもよい。

　本工程で使用する一般式［ＩＩ］で表される化合物は、次の製造方法によって製造することができる。
［製造方法２］

（式中、Ｘ¹及びＸ²は前記と同じ意味を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）

　（工程２）
　一般式［Ｖ］で表される化合物は、一般式［ＩＶ］で表される化合物と、ハロゲン化試薬とを、溶媒中又は溶媒非存在下で反応させることによって製造することができる。

　本工程で使用できるハロゲン化試薬としては、例えばオキザリルクロリド又は塩化チオニルなどの酸クロリド等が挙げられる。又、必要に応じてＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド類を触媒量加えてもよい。

　ハロゲン化試薬の使用量は、一般式［ＩＶ］で表される化合物１ｍｏｌに対して１～１００ｍｏｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１～５ｍｏｌである。

　本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、モノグライム又はジグライム等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素又はジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。

　溶媒の使用量は、一般式［ＩＶ］で表される化合物１ｍｏｌに対して０～１００Ｌ（リットル）であり、好ましくは０～２．０Ｌである。

　反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常３０分～１０時間である。

　本工程の目的物である一般式［Ｖ］で表される化合物は、反応終了後、常法により反応系から採取される。得られた一般式［Ｖ］で表される化合物は、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。

　（工程３）
　一般式［ＩＩ］で表される化合物は、一般式［Ｖ］で表される化合物と還元剤とを、溶媒中又は溶媒非存在下で反応させることにより製造することができる。

　本工程で使用できる還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ素化合物等が挙げられる。

　還元剤の使用量は、一般式［Ｖ］で表される化合物１ｍｏｌに対して１～１００ｍｏｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１～５ｍｏｌである。

　本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム又はジグライム等のエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ－ブタノール等のアルコール類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素又はジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド又はＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３－ジメチル－２－イミダゾリノン等のウレア類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類；アセトニトリル等のニトリル類；水等を使用することができ、更にこれらの混合溶媒も使用することができる。

　又、溶媒の使用量は、一般式［Ｖ］で表される化合物１ｍｏｌに対して０～１００Ｌ（リットル）であり、好ましくは０．１～２．０Ｌである。

　反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分～１０時間である。

　反応の目的物である一般式［ＩＩ］で表される化合物は、反応終了後、常法により反応系から採取される。得られた一般式［ＩＩ］で表される化合物は、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。

　本発明の薬害が軽減された除草性組成物は、上記のような３，４－ジハロゲノイソチアゾール誘導体又はその塩からなる本発明に係る除草剤の薬害軽減剤と、除草剤とを有効成分として含有し、又、本発明に係る除草剤の薬害軽減方法は、前記薬害軽減剤と除草剤とを組み合わせるものであるが、これらにおいて使用できる除草剤（除草活性化合物）としては、以下の化合物を例示できる。

（１）アルカンアミド系化合物：ジフェナミド（diphenamid）、ナプロパミド（napropamide）
（２）アニリド系化合物：プロパニル（propanil）、ペンタノクロール（pentanochlor）
（３）アリールアミノプロピオン酸系化合物：フラムプロップ・Ｍ（flamprop-M）、
（４）アリールアミノプロピオン酸系化合物キザロホップ（quizalofop-ethyl）、キザロホップ・Ｐ・エチル（quizalofop-P-ethyl）、キザロホップ・Ｐ・テフリル（quizalofop-P-tefuryl）、クロジナホップ（clodinafop-propargyl）、ジクロホップ・メチル（diclofop-methyl）、シハロホップ・ブチル（cyhalofop-butyl）、ハロキシホップ（haloxyfop）、ハロキシホップ・Ｐ（haloxyfop-P）、フェノキサプロップ・Ｐ・エチル（fenoxaprop-P-ethyl）、フルアジホップ（fluazifop-butyl）、フルアジホップ・Ｐ（fluazifop-P-butyl）、プロパキザホップ（propaquizafop）、メタミホップ（metamifop）、ジクロホップ・Ｐ・メチル（diclofop-P-methyl）
（５）ベンズアミド系化合物：イソキサベン（isoxaben）、プロピザミド（propyzamide）
（６）ベンゼンジカルボン酸化合物：クロルタル・ジメチル（chlorthal-dimethyl）
ベンゾフラン系化合物：エトフメセート（ethofumesate）、ベンフレセート（benfuresate）
（７）安息香酸系化合物：２，３，６－ＴＢＡ、ジカンバ（dicamba）
（８）ベンゾニトリル系化合物：ジクロベニル（dichlobenil）、クロルチアミド（chlorthiamid）
（９）ベンゾチアジアジノン系化合物：ベンタゾン（bentazone）
（10）ベンゾチアゾロン系化合物：ベナゾリン（benazolin）

（11）ビピリジリウム系化合物ジクワット（diquat）、パラコート（paraquat dichloride）
（12）カルバマート系化合物：アシュラム（asulam）、カルベタミド（carbetamide）、クロルプロファム（chlorpropham）、プロファム（propham）
（13）クロロアセトアミド系化合物：Ｓ－メトラクロール（S-metolachlor）、アセトクロ－ル（acetochlor）、アラクロール（alachlor）、ジメタクロール（dimethachlor）、ジメテナミド（dimethenamid）、テニルクロール（thenylchlor）、ブタクロール（butachlor）、プレチラクロール（pretilachlor）、プロパクロール（propachlor）、プロピソクロール（propisochlor）、ペトキサミド（pethoxamid）、メタザクロール（metazachlor）、メトラクロール（metolachlor）
（14）シクロヘキサンジオンオキシム系化合物：アロキシジム（alloxydim）、クレトジム（clethodim）、シクロキシジム（cycloxydim）、セトキシジム（sethoxydim）、テプラロキシジム（tepraloxydim）、トラルコキシジム（tralkoxydim）、ブトロキシジム（butroxydim）、プロホキシジム（profoxydim）
（15）ジニトロアニリン系化合物：エタルフルラリン（ethalfluralin）、オリザリン（oryzalin）、ジニトラミン（dinitramine）、トリフルラリン（trifluralin）、ブトラリン（butralin）、ペンジメタリン（pendimethalin）、ベンフルラリン（benfluralin）
（16）ジニトフェノール系化合物：ＤＮＯＣ、ジノテルブ（dinoterb）
（17）ジフェニルエーテル系化合物：アシフルオルフェン（acifluorfen-sodium）、オキシフルオルフェン（oxyfluorfen）、ビフェノックス（bifenox）、フルオログリコフェン（fluoroglycofen-ethyl）、ホメサフェン（fomesafen）、ラクトフェン（lactofen）、ＨＣ－２５２、アクロニフェン（aclonifen）
（18）グリシン系化合物：グリホサート（glyphosate）、グリホサート・トリメシウム塩（glyphosate-trimesium）
ハロゲン化アルカン酸系化合物：ダラポン（dalapon）、フルプロパネート（flupropanate）
（19）ヒドロキシベンゾニトリル系化合物アイオキシニル（ioxynil）、ブロモキシニル（bromoxynil）
（20）イミダゾリノン系化合物：イマザキン（imazaquin）、イマザピク（imazapic）、イマザピル（imazapyr）、イマザメタベンズ（imazamethabenz-methyl）、イマザモックス（imazamox）、イマゼタピル（imazethapyr）

（21）イソキサゾール系化合物イソキサフルトール（isoxaflutole）
（22）イソキサゾリジノン系化合物：クロマゾン（clomazone）
（23）Ｎ－フェニルフタルイミド系化合物：シニドン・エチル（cinidon-ethyl）、フルミオキサジン（flumioxazin）、フルミクロラック・ペンチル（flumiclorac-pentyl）、クロルフタリム（chlorphthalim）
（24）オキサジアゾール系化合物：オキサジアゾン（oxadiazon）、オキサジアルギル（oxadiargyl）
オキサゾリジンジオン系化合物：ペントキサゾン（pentoxazone）
オキシアセトアミド系化合物：フルフェナセット（flufenacet ）、メフェナセット（mefenacet）
（25）フェノキシカルボン酸系化合物：２，４－Ｄ、２，４－ＤＢ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡ・チオエチル（MCPA-thioethyl）、ＭＣＰＢ、クロメプロップ（clomeprop）、ジクロルプロップ（dichlorprop）、ジクロルプロップ－Ｐ（dichlorprop-P）、メコプロップ（mecoprop）、メコプロップ－Ｐ・カリウム塩（mecoprop-P）
（26）フェニルカルバマート系化合物：デスメディファム（desmedipham）、フェンメディファム（phenmedipham）
（27）フェニルピラゾール系化合物：ピラフルフェン・エチル（pyraflufen-ethyl）、アミノピラリド（aminopyralid）
（28）フェニルピラゾリン系化合物：ピノキサデン（pinoxaden）
フェニルピリダジン系化合物ピリダフォル（pyridafol）ピリデート（pyridate）
（29）ホスフィン酸系化合物：グルホシネート（glufosinate-ammonium）、グルホシネートナトリウム塩（glufosinate-sodium）、ビラナホス（bilanafos）
（30）ホスホロアミデート系化合物：ブタミホス（butamifos）

（31）ホスホロジチオエート系化合物：ベンスリド（bensulide）
フタルアアマート系化合物：ナプタラム（naptalam）
（32）ピラゾール系化合物：ピラゾキシフェン（pyrazoxyfen）、ピラゾリネート（pyrazolynate）、ベンゾフェナップ（benzofenap）、ピラスルホトール（pyrasulfotole）
（33）ピリダジノン系化合物：ノルフルラゾン（norflurazon）、クロリダゾン（chloridazon）
（34）ピリジン系化合物：ジチオピル（dithiopyr）、チアゾピル（thiazopyr）
ピリジンカルボキシアミド系化合物：ジフルフェニカン（diflufenican）、ピコリナフェン（picolinafen）
（35）ピリジンカルボン酸系化合物：クロピラリド（clopyralid）、トリクロピル（triclopyr）、ピクロラム（picloram）、フルロキシピル（fluroxypyr）
（36）ピリミジンジオン系化合物：ベンズフェンジゾン（benzfendizone）、ブタフェナシル（butafenacil）
ピリミジニルオキシ安息香酸系化合物：ピリチオバック・ナトリウム塩（pyrithiobac-sodium）、ビスピリバック・ナトリウム塩（bispyribac-sodium）、ピリフタリド（pyriftalid）、ピリベンゾキシム（pyribenzoxim）、ピリミノバック・メチル（pyriminobac-methyl）
（37）キノリンカルボン酸系化合物：キンクロラック（quinclorac）、キンメラック（quinmerac）
（38）セミカルバゾン系化合物：ジフルフェンゾピル（diflufenzopyr）
（39）スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物：フルカルバゾン・ナトリウム塩（flucarbazone-sodium）、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩（propoxycarbazone-sodium）
（40）スルホニルウレア系化合物：アジムスルフロン（azimsulfuron）、アミドスルフロン（amidosulfuron）、イマゾスルフロン（imazosulfuron）、エタメトスルフロン・メチル（ethametsulfuron-methyl）、エトキシスルフロン（ethoxysulfuron）、オキサスルフロン（oxasulfuron）、クロリムロン・エチル（chlorimuron-ethyl）、クロルスルフロン（chlorsulfuron）、シクロスルファムロン（cyclosulfamuron）、シノスルフロン（cinosulfuron）、スルフォスルフロン（sulfosulfuron）、スルホメツロン・メチル（sulfometuron-methyl）、チフェンスルフロン・メチル（thifensulfuron-methyl）、トリアスルフロン（triasulfuron）、トリトスルフロン（tritosulfuron）、　トリフルスルフロン・メチル（triflusulfuron-methyl）、トリフロキシスルフロンナトリウム塩（trifloxysulfuron-sodium）、トリベニュロン・メチル（tribenuron-methyl）、ニコスルフロン（nicosulfuron）、ハロスルフロン・メチル（halosulfuron-methyl）、ピラゾスルフロン・エチル（pyrazosulfuron-ethyl）、フォラムスルフロン（foramsulfuron）、フラザスルフロン（flazasulfuron）、プリミスルフロン（primisulfuron-methyl）、フルピルスルフロン（flupyrsulfuron-methyl-sodium）、プロスルフロン（prosulfuron）、ベンスルフロン・メチル（bensulfuron-methyl）、メソスフロン・メチル（mesosulfuron-methyl）、メトスルフロン・メチル（metsulfuron-methyl）、ヨードスルフロンメチルナトリウム塩（iodosulfulon-methyl-sodium）、リムスルフロン（rimsulfuron）、イオドスルフロン（iodosulfulon-methyl-sodium）、オルトスルファムロン（orthosulfamuron）、フルセトスルフロン（flucetosulfuron）、ＴＨ－５４７

（41）テトラゾリノン系化合物：フェントラザミド（fentrazamide）
（42）チアジアゾール系化合物：フルチアセット・メチル（fluthiacet-methyl）
（43）チアジアゾール系化合物チジアジミン（thidiazimin）
（44）チオカルバマート系化合物：ピリブチカルブ（pyributicarb）、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ（esprocarb）、オルベンカルブ（orbencarb）、シクロエート（cycloate）、ジメピペレート（dimepiperate）、チオベンカルブ（thiobencarb）、トリアレート（tri-allate）、ブチレート（butylate）、プロスルホカルブ（prosulfocarb）、ペブレート（pebulate）、モリネート（molinate）
（45）トリアジン系化合物：アトラジン（atrazine）、アメトリン（ametryn）、シアナジン（cyanazine）、シマジン（simazine）、ジメタメトリン（dimethametryn）、シメトリン（simetryn）、テルブチラジン（terbuthylazine）、テルブトリン（terbutryn）、テルブメトン（terbumeton）、トリエタジン（trietazine）、プロパジン（propazine）、プロメトリン（prometryn）、プロメトン（prometon）、ヘキサジノン（hexazinone）、メタミトロン（metamitron）、メトリブジン（metribuzin）
（46）トリアゾール系化合物アミトロール（amitrole）、フルポキサム（flupoxame）、アザフェニジン（azafenidin）
（47）トリアゾリノン系化合物：アミカルバゾン（amicarbazone）、カルフェントラゾン・エチル（carfentrazone-ethyl）、スルフェントラゾン（sulfentrazone）
（48）トリアゾロピリミジン系化合物：クロランスラム・メチル（cloransulam-methyi）、ジクロスラム（diclosulam）、フルメツラム（flumetsulam）、フロラスラム（florasulam）、ペノキススラム（penoxsulam）、メトスラム（metosulam）
（49）トリケトン系化合物：スルコトリオン（sulcotrione）、メソトリオン（mesotrione）、テフリルトリオン（tefuryltrion）、テンボトリオン（tembotrione）
（50）ウラシル系化合物：ターバシル（terbacil）、ブロマシル（bromacil）、レナシル（lenacil）

（51）ウレア系化合物：イソウロン（isouron）、イソプロツロン（isoproturon）、クロロトルロン（chlorotoluron）、ジウロン（diuron）、シデュロン（siduron）、ジメフロン（dimefuron）、テブチウロン（tebuthiuron）、ネブロン（neburon）、フルオメツロン（fluometuron）、メタベンズチアズロン（methabenzthiazuron）、メトキスロン（metoxuron ）、モノリニュロン（monolinuron）、リニュロン（linuron）、カルブチレート（karbutilate）
（52）その他の化合物：アニロホス（anilofos）、カフェンストロール（cafenstrole）、ピペロホス（piperophos）、フルフェンピル・エチル（flufenpyr-ethyl）、フルリドン（fluridone）、フルルタモン（flurtamone）、フルロクロリドン（flurochloridone）、ブロモブチド（bromobutide）、ベフルブタミド（beflubutamid）、ベンゾビシクロン（benzobicyclon）、ジフェンゾコート（difenzoquat）、イプフェンカルバゾン（ipfencarbazone）、ピラクロニル（pyraclonil）、ピリミスルファン（pyrimisulfan）、インダノファン（indanofan）、エトベンザニド（etobenzanid）、オキサジクロメフォン（oxaziclomefone）、クミルロン（cumyluron）、シンメチリン（cinmethylin）、ダイムロン（daimuron）、チエンカルバゾン（thiencarbazone）、トプラメゾン（topramezone）、トリアジフラム（triaziflam）、ピロキサスルホン（pyroxasulfone）、フェノキサスルフォン(fenoxasulfone)、ピロクススラム（pyroxsulam）、プロジアミン（prodiamine）、ベンカルバゾン（bencarbazone）、ビシクロピロン（bicyclopyron）又は次の式

［式中、ｐは０～２の整数を表し、Ｔ^１及びＴ^２は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基又はＣ_１～Ｃ_６アルキル基を示し、Ｇ^１及びＧ^２は互いに独立して、水素原子、Ｃ_１～Ｃ_６アルキル基又はＣ_１～Ｃ_６ハロアルキル基を示し、Ｗは（１～５個の同一又若しくは相異なるＶで置換された）フェニル基を表し、Ｖは水素原子、｛同一若しくは相異なる１～３個のハロゲン原子、Ｃ_１～Ｃ_６アルコキシ基、水酸基、Ｃ_１～Ｃ_６アルキルチオ基、Ｃ_１～Ｃ_６アルキルスルフィニル基、Ｃ_１～Ｃ_６アルキルスルホニル基、Ｃ_１～Ｃ_６アルキルアミノ基、Ｃ_１～Ｃ_６ジアルキルアミノ基、シアノ基又は（置換されていてもよい。）フェノキシで置換されていてもよい｝Ｃ_１～Ｃ_６アルキル基、（同一若しくは相異なる１～３個のハロゲン原子、Ｃ_１～Ｃ_６アルコキシ基、Ｃ_２～Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_１～Ｃ_６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１～Ｃ_６アルキルカルボニル基又はＣ_３～Ｃ_８シクロアルキル基で置換されていてもよい。）Ｃ_１～Ｃ_６アルコキシ基、Ｃ_３～Ｃ_８のシクロアルキルオキシ基或いはハロゲン原子を表す。］で示されるイソオキサゾリン誘導体。

　これらの除草剤は、ザ・ペスティサイド・マニュアル（The Pesticide Manual）第１４版［ブリティッシュ・クロップ・プロテクション・カウンシル（British Crop Protection Council）発行、２００６年］又はシブヤ・インデックス（SHIBUYA INDEX）第１３版［シブヤ・インデックス研究会（SHIBUYA INDEX Research Group）発行、２００８年］に記載されているか、公知のものである。

　本発明に係る除草剤の薬害軽減剤の使用量については特に限定されるものではないが、使用する面積１ヘクタール当たり、通常、一般式［Ｉ］で表される化合物又はその塩が１～１００００ｇ、好ましくは５～５０００ｇ、更に好ましくは１０～３０００ｇとなる範囲で選ばれる。

　本発明の除草性組成物において、本発明の薬害軽減剤と、除草剤との使用割合又は混合割合は、両者の種類、対象作物の種類や生育時期、作物移植期などにより適宜変動することがあるが、除草剤の質量に対して一般式［Ｉ］で表される化合物又はその塩の質量が通常０．１～１０００の範囲で選ばれる。

　本発明の除草剤の薬害軽減剤及び除草性組成物は、必要に応じ農薬製剤に通常用いられる添加成分を含有することができる。

　この添加成分としては、固体担体又は液体担体等の担体、界面活性剤、結合剤や粘着付与剤、増粘剤、着色剤、拡展剤、展着剤、凍結防止剤、固結防止剤、崩壊剤、分解防止剤等が挙げられる。

　その他必要に応じ、防腐剤や、植物片等を添加成分に用いてもよいし、これらの添加成分は１種用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　上記添加成分について説明する。

　固体担体としては、例えば石英、クレー、カオリナイト、ピロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライト、珪藻土等の天然鉱物質類、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、塩化カリウム等の無機塩類、合成ケイ酸、合成ケイ酸塩、デンプン、セルロース、植物粉末等の有機固体担体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック担体等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　液体担体としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等の一価アルコール類や、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類に大別されるアルコール類；プロピレン系グリコールエーテル等の多価アルコール誘導体類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ノルマルパラフィン、ナフテン、イソパラフィン、ケロシン、鉱油等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、ジイソプロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、アジピン酸ジメチル等のエステル類；γ－ブチロラクトン等のラクトン類；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－アルキルピロリジノン等のアミド類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類；大豆油、ナタネ油、綿実油、ヒマシ油等の植物油；水等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　界面活性剤は特に制限されないが、好ましくは水中でゲル化するか、或いは膨潤性を示すものであり、例えばソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ジエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンジアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、アルキルポリオキシエチレンポリプロピレンブロックポリマーエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレン脂肪酸ビスフェニルエーテル、ポリアルキレンベンジルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル、アセチレンジオール、ポリオキシアルキレン付加アセチレンジオール、ポリオキシエチレンエーテル型シリコン、エステル型シリコン、フッ素系界面活性剤、ポリオキシエチレンひまし油、ポリオキシエチレン硬化ひまし油等の非イオン性界面活性剤；アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、脂肪酸塩、ポリカルボン酸塩、Ｎ－メチル－脂肪酸サルコシネート、樹脂酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸塩等のアニオン性界面活性剤；ラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン塩酸塩、オレイルアミン塩酸塩、ステアリルアミン酢酸塩、ステアリルアミノプロピルアミン酢酸塩、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルジメチルベンザルコニウムクロライド等のアルキルアミン塩等のカチオン界面活性剤；アミノ酸型又はベタイン型等の両性界面活性剤等が挙げられる。

　これらの界面活性剤は１種用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　又、結合剤や粘着付与剤としては、例えばカルボキシメチルセルロースやその塩、デキストリン、水溶性デンプン、キサンタンガム、グアーガム、蔗糖、ポリビニルピロリドン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸ナトリウム、平均分子量６０００～２００００のポリエチレングリコール、平均分子量１０万～５００万のポリエチレンオキサイド、天然燐脂質（例えばセフアリン酸、レシチン等）等が挙げられる。

　増粘剤としては、例えばキサンタンガム、グアーガム、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、アクリル系ポリマー、デンプン誘導体、多糖類のような水溶性高分子、高純度ベントナイト、ホワイトカーボンのような無機微粉等が挙げられる。

　着色剤としては、例えば酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルーのような無機顔料、アリザリン染料、アゾ染料、金属フタロシアニン染料のような有機染料等が挙げられる。

　拡展剤としては、例えばシリコン系界面活性剤、セルロース粉末、デキストリン、加工デンプン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、架橋ポリビニルピロリドン、マレイン酸とスチレン類、メタアクリル酸共重合体、多価アルコールのポリマーとジカルボン酸無水物とのハーフエステル、ポリスチレンスルホン酸の水溶性塩等が挙げられる。

　展着剤としては、例えばジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルなどの種々の界面活性剤、パラフィン、テルペン、ポリアミド樹脂、ポリアクリル酸塩、ポリオキシエチレン、ワックス、ポリビニルアルキルエーテル、アルキルフェノールホルマリン縮合物、合成樹脂エマルション等が挙げられる。

　凍結防止剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類等が挙げられる。

　固結防止剤としては、例えばデンプン、アルギン酸、マンノース、ガラクトース等の多糖類、ポリビニルピロリドン、ホワイトカーボン、エステルガム、石油樹脂等が挙げられる。

　崩壊剤としては、例えばトリポリリン酸ソーダ、ヘキサメタリン酸ソーダ、ステアリン酸金属塩、セルロース粉末、デキストリン、メタクリル酸エステルの共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、スルホン化スチレン・イソブチレン・無水マレイン酸共重合体、デンプン・ポリアクリロニトリルグラフト共重合体等が挙げられる。

　分解防止剤としては、例えばゼオライト、生石灰、酸化マグネシウムのような乾燥剤；フェノール系、アミン系、硫黄系、リン酸系等の酸化防止剤；サリチル酸系、ベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤等が挙げられる。

　防腐剤としては、例えばソルビン酸カリウム、１，２－ベンズチアゾリン－３－オン等が挙げられる。

　植物片としては、例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸、タバコ茎等が挙げられる。

　本発明の除草剤の薬害軽減剤及び除草性組成物において、上記添加成分を含有させる場合、その含有割合については、質量基準で、担体では通常５～９５％、好ましくは２０～９０％、界面活性剤では通常０．１％～３０％、好ましくは０．５～１０％、その他の添加剤は０．１～３０％、好ましくは０．５～１０％の範囲で選ばれる。

　本発明の除草剤の薬害軽減剤及び除草性組成物は、液剤、乳剤、水和剤、粉剤、油剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ジャンボ剤、サスポエマルション等の任意の剤型に製剤化して使用される。

　尚、本発明の除草剤の薬害軽減剤及び除草性組成物は、必要に応じて、他の肥料、農薬、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、坑ウイルス剤、誘引剤、植物成長調節剤、本発明の薬害軽減を目的としない除草剤等と混用、併用することができ、この場合に一層優れた効果を示すこともある。

　混合又は併用することができる他の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤の化合物を次に例示する。

　アセタミプリド（acetamiprid）、クロチアニジン（clothianidin）、ジノテフラン（dinotefuran）、イミダクロプリド（imidacloprid）、ニテンピラム（nitenpyram）、チアクロプリド（thiacloprid）、チアメトキサム（thiamethoxam）、エチプロール（ethiprole）、フィプロニル（fipronil）、アセトプロール（acetoprol）、クロマフェノイド（chromafenozide）、ハロフェノジド（halofenozide）、メトキシフェノジド（methoxyfenozide）、テブフェノジド（tebufenozide）、アクリナトリン（acrinathrin）、アレスリン（allethrin）、アルファ－シペルメトリン（alpha-cypermethrin）、ベータ・シフルトリン（beta-cyfluthrin）、ベータ－シペルメトリン（beta-cypermethrin）、ビフェントリン（bifenthrin）、ビオアレトリン（bioallethrin）、ビオレスメトリン（bioresmethrin）、シクロプロトリン（cycloprothrin）、シフルトリン（cyfluthrin）、シハロトリン（cyhalothrin）、シペルメトリン（cypermethrin）、シフェノトリン（cyphenothrin ）、デルタメトリン（deltamethrin）、エンペントリン（empenthrin ）、エスフェンバレレート（esfenvalerate）、フェンプロパトリン（fenpropathrin）、フェンバレレート（fenvalerate）、フルシトリネート（flucythrinate）、フルメトリン（flumethrin）、ガンマ・シハロトリン（gamma-cyhalothrin）、イミプロトリン（imiprothrin）、ラムダ・シハロトリン（lambda-cyhalothrin）、メトトリン（methothrin）、ペルメトリン（permethrin）、フェノトリン（phenothrin）、プラレトリン（prallethrin）、レスメトリン（resmethrin）、カデスリン（Kadethrin）、タウフルバリネート（tau-fluvalinate）、テフルトリン（tefluthrin）、テトラメスリン（tetramethrin）、ゼタ・シペルメトリン（zeta-cypermethrin）、トラロメトリン（tralomethrin）、トランスフルトリン、（transfluthrin）、エトフェンプロックス（etofenprox）、ハルフェンプロックス（halfenprox）、シラフルオフェン（silafluofen）、ベンスルタップ（bensultap）、カルタップ（cartap）、チオシクラム（thiocyclam）、チオスルタップ（thiosultap-sodium）、アセフェート（acephate）、アザメチホス（azamethiphos）、アジンホス・エチル（azinphos-ethyl）、アジンホス・メチル（azinphos-methyl）、カズサホス（cadusafos）、クロルエトキシホス（chlorethoxyfos）、クロルフェンビンホス（chlorfenvinphos）、クロルメホス（chlormephos）、クロルピリホス（chlorpyrifos）、クロルピリホス・メチル（chlorpyrifos-methyl）、クマホス（coumaphos）、シアノホス（cyanophos）、デメトン・Ｓ・メチル（demeton-S-methyl）、ダイアジノン（diazinon）、ジクロルボス（dichlorvos）、ジクロトホス（dicrotophos）、ジメトエート（dimethoate）、ジメチルビンホス（dimethylvinphos）、ジスルホトン（disulfoton）、ＥＰＮ、エチオン（ethion）、エトプロホス（ethoprophos）、ファムフル（famphur）、フェナミホス（fenamiphos）、フェニトロチオン（fenitrothion ）、フェンチオン（fenthion）、ホスチアゼート（fosthiazate）、ヘプテノホス（heptenophos）、イソカルボホス（isocarbophos）、イソキサチオン（isoxathion）、マラチオン（malathion）、メカルバム（mecarbam）、メタミドホス（methamidophos）、メチダチオン（methidathion）、メビンホス（mevinphos）、モノクロトホス（monocrotophos）、ナレッド（naled）、オメトエート（omethoate）、オキシジメトン・メチル（oxydemeton-methyl）、パラチオン（parathion）、パラチオン・メチル（parathion-methyl）、フェントエート（phenthoate）、ホレート（phorate）、ホサロン（phosalone）、ホスメット（phosmet）、ホスファミドン（phosphamidon）、ホキシム（phoxim）、ピリミホス・メチル（pirimiphos-methyl）、プロフェノフォス（profenofos）、プロペタムホス（propetamphos）、プロチオホス（prothiofos）、ピラクロホス（pyraclofos）、ピダフェンチオン（pyridaphenthion）、キナルホス（quinalphos）、スルホテップ（sulfotep）、テブピリムホス（tebupirimfos）、テメホス（temephos）、テルブホス（terbufos）、テトラクロルビンホス（tetrachlorvinphos）、チオメトン（thiometon）、トリアゾホス（triazophos）、トリクロルホン（trichlorfon）、バミドチオン（vamidothion）、イミシアホス（imicyafos）、フルピラゾホス（flupyrazofos）、アルジカルブ（aldicarb）、ベンダイオカルブ（bendiocarb）、ベンフラカルブ（benfuracarb）、カルバリル（carbaryl）、カルボフラン（carbofuran）、カルボスルファン（carbosulfan）、エチオフェンカルブ（ethiofencarb）、フェノブカルブ（fenobucarb）、ホルメタネート（formetanate）、フラチオカルブ（furathiocarb）、イソプロカルブ（isoprocarb）、メチオカルブ（methiocarb）、メソミル（methomyl）、メトルカルブ（metolcarb）、オキサミル（oxamyl）、ピリミカルブ（pirimicarb）、プロピキスル（propoxur）、トリメタカルブ（trimethacarb）、ＸＭＣ、キシリルカルブ（xylylcarb）、アラニカルブ（alanycarb）、ブトカルボキシム（butocarboxim）、ブトキシカルボキシム（butoxycarboxim）、チオジカルブ（thiodicarb ）、チオファノックス（thiofanox）、ビストリフルロン（bistrifluron）、クロルフルアズウロン（chlorfluazuron）、ジフルベンズウロン（diflubenzuron ）、フルシクロクスウロン（flucycloxuron）、フルフェノクスウロン（flufenoxuron）、ヘキサフルムロン（hexaflumuron）、ルフェヌロン（lufenuron）、ノバルロン（novaluron）、ノビフルムロン（noviflumuron）、テフルベンズウロン（teflubenzuron）、トリフルムロン（triflumuron）、アバメクチン（abamectin）、エマメクチン（emamectin）、クロルフェナピル（chlorfenapyr）、フェノキシカルブ（fenoxycarb）、ハイドロプレン（hydroprene）、キノプレン（kinoprene）、メトプレン（methoprene）、ピリプロキシフェン（pyriproxyfen）、ジエノクロル（dienochlor）、サノピラフェン（cyenopyrafen）、シフルメトフェン（cyflumetofen）、スピロメシフェン（spiromesifen）、スピロジクロフェン（spirodiclofen）、スピロテトラマト（スピロテトラマト）、フルベンジアミド（Flubendiamide）、フルリムフェン（フルフェネリム）（flurimfen）、フロニカミド（flonicamid）、メタフルミゾン（metaflumizon）、リナキシピル（rynaxypyr）、レピメクチン（lepmectin）、ピリダリル（pyridalyl）、フルアクリピリム（fluacrypyrim）、インドキサカルブ（indoxacarb）、ブロモプロピレート（bromopropylate）、トリアザメート（triazamate）、フェナザキン（fenazaquin）、フェンピロキシメート（fenpyroximate）、ピリダベン（pyridaben）、テブフェンピラド（tebufenpyrad）、クロフェンテジン（clofentezine）、エトキサゾール（etoxazole）、ヘキサチアゾクス（hexythiazox）、ピメトロジン（pymetrozine）、ブプロフェジン（buprofezin）、１．３ジクロロプロペン(1.3-D)、イソカルボホス（isocarbophos）、Ｎ－メチルジチオカルバミン酸アンモニウム(NCS)、アゾシクロチン(azocyclotin)、エンドスルファン (endosulfan)、クロルデン(chlordane)、クロルピクリン(chloropicrin)、シヘキサチン(cyhexatin)、スピノサド (spinosad)、ナトリウム＝メチルジチオカルバマート(Sodium dimethyldithiocarbamate)、フェンブタンチン・オキシド(fenbutatin oxide)、フルスルファミド(flusulfamide)、メチルイソチオシアネート(MITC)、ロテノン(rotenone)、ＣＬ９００１６７、フッ化アルミニウムナトリウム（Sodium aluminium fluoride）、ピリフルキナゾン（pyrifluquinazon）、シアントラニプロール（cyantraniliprole）、ＲＵ－１５５２５、ＸＤＥ－１７５、ＺＸＩ－８９０１。

　混合又は併用することができる他の殺菌剤、抗ウイルス剤の化合物を次に例示する。

　ＢＡＧ‐０１０（コード番号）、ＢＡＦ‐０４５（コード番号）、ペンフルフェン（peｎflufen）、copper dioctanoate、ＤＢＥＤＣ、ＩＫＦ－３０９（コード番号）、ＯＫ－５２０３（コード番号）、Ｓ－２１８８（コード番号）、ＳＹＰ‐Ｚ‐０４８（コード番号）、ＴＰＴＡ、ＴＰＴＣ、ＴＰＴＨ、アシベンゾラル・Ｓ・メチル（acibenzolar-S-methyl）、アゾキシストロビン（azoxystrobin）、アミスルブロム（amisulbrom）、アメトクラジン(ametocradin)、アルジモルフ（aldimorph）、硫黄（sulfur）、イソチアニル（isotianil）、イソピラザム（isopyrazam）、イソプロチオラン（isoprothiolane）、イプコナゾール（ipconazole）、イプロジオン（iprodione）、イプロバリカルブ（iprovalicarb）、イプロベンホス（iprobenfos）、イマザリル（imazalil）、イミノクタジン・アルベシル酸塩（iminoctadine-albesilate）、イミノクタジン酢酸塩（iminoctadine-triacetate）、イミベンコナゾール（imibenconazole）、エジフェンホス（edifenphos）、エタボキサム（ethaboxam）、エトキシキン（ethoxyquin）、エトリジアゾール（etridiazole）、エネストロブリン（enestroburin）、エポキシコナゾール（epoxiconazole）、塩基性塩化銅　（copper oxychloride）、オキサジキシル（oxadixyl）、オキサジニラゾール（oxazinylazole）、オキシカルボキシン（oxycarboxin）、オキシキノリン銅（oxine-copper）、オキシテトラサイクリン（oxytetracycline）、オキスポコナゾールフマル酸塩（oxpoconazole fumarate）、オキソリニック酸（oxolinic acid）、オクチリノン（octhilinone）、オフラセ（ofurace）、オリサストロビン（orysastrobin）、オルソフェニルフェノール（o-phenylphenol）、カスガマイシン（kasugamycin）、カプタホール（captafol）、カルプロパミド（carpropamid）、カルベンダジム（carbendazim）、カルボキシン（carboxin）、キノキシフェン（quinoxyfen）、キノメチオネート（chinomethionat）、キャプタン（captan）、銀（silver）、キントゼン（quintozene ）、グアザチン（guazatine）、クレソキシム・メチル（kresoxim-methyl）、クロロタロニル（chlorothalonil）、クロロネブ（chloroneb）、酸化第一銅（cuprous oxide）、シアゾファミド（cyazofamid ）、ジエトフェンカルブ（diethofencarb）、ジクロシメット（diclocymet ）、ジクロフルアニド（dichlofluanid）、ジクロメジン（diclomezine）、ジクロラン（dicloran）、ジチアノン（dithianon）、ジニコナゾール（diniconazole）、ジネブ（zineb）、ジノカップ（dinocap）、ジフェニール（biphenyl）、ジフェニルアミン（diphenylamine）、ジフェノコナゾール（difenoconazole）、ジフェンゾコート（difenzoquat）、シフルフェナミド（cyflufenamid）、ジフルメトリム（diflumetorim）、シプロコナゾール（cyproconazole）、シプロジニル（cyprodinil）、シメコナゾール（simeconazole）、ジメトモルフ（dimethomorph）、シモキサニル（cymoxanil）、ジモキシストロビン（dimoxystrobin）、ジラム（ziram）、シルチオファム（silthiofam）、水酸化第二銅（copper hydroxide）、ストレプトマイシン（streptomycin）、スピロキサミン（spiroxamine）、セダキサン（sedaxane）、ゾキサミド（zoxamide）、ダゾメット（dazomet）、炭酸水素カリウム（potassium bicarbonate）、チアジニル（tiadinil）、チアベンダゾール（thiabendazole）、チオファネート・メチル（thiophanate-methyl）、チフルザミド（thifluzamide）、チラム（thiram）、テクナゼン（tecnazene）、テクロフタラム（tecloftalam）、テトラコナゾール（tetraconazole）、デバカルブ（debacarb）、テブコナゾール（tebuconazole）、テブフロキン（tebufloquin）、ドジン（dodine）、ドデモルフ（dodemorph）、トリアジメノール（triadimenol）、トリアジメホン（triadimefon）、トリアゾキシド（triazoxide）、トリシクラゾール（tricyclazole）、トリチコナゾール（triticonazole）、トリデモルフ（tridemorph）、トリフルミゾール（triflumizole）、トリフロキシストロビン（trifloxystrobin）、トリホリン（triforine）、トリルフルアニド（tolylfluanid）、トルクロホス・メチル（tolclofos-methyl ）、トルニファニド（tolnifanide）、ナーバム（nabam）、ニトロタル・イソプロピル（nitrothal-isopropyl）、ヌアリモール（nuarimol）、ノニルフェノールスルホン酸銅（copper (nonylphenyl)sulphonate）、バリダマイシン（validamycin）、バリフェナレート（valifenalate）、ビキサフェン（bixafen）、ピコキシストロビン（picoxystrobin）、ビテルタノール（bitertanol）、ピペラリン（piperalin）、ヒメキサゾール（hymexazol）、ピラクロストロビン（pyraclostrobin）、ピラゾホス（pyrazophos）、ピラメトストロビン（pyrametostrobin）、ピリフェノックス（pyrifenox）、ピリブチカルブ（pyributicarb）、ピリベンカルブ（pyribencarb）、ピリメタニル（pyrimethanil）、ピロキロン（pyroquilon）、ビンクロゾリン（vinclozolin）、ファーバム（ferbam）、ファモキサドン（famoxadone）、フェナミドン（fenamidone）、フェナリモル（fenarimol）、フェノキサニル（fenoxanil）、フェリムゾン（ferimzone）、フェンブコナゾール（fenbuconazole）、フェンフラム（fenfuram）、フェンプロピジン（fenpropidin）、フェンプロピモルフ（fenpropimorph）、フェンヘキサミド（fenhexamid）、フォルペット（folpet）、フサライド（phthalide）、ブピリメート（bupirimate）、フベリダゾール（fuberidazole）、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、フラメトピル（furametpyr）、フララキシル（furalaxyl）、フルアジナム（fluazinam）、フルオキサストロビン（fluoxastrobin ）、フルオピコリド（fluopicolide）、フルオピラム（fluopyram）、フルオルイミド（fluoroimide）、フルキンコナゾール（fluquinconazole）、フルジオキソニル（fludioxonil）、フルシラゾール（flusilazole）、フルスルファミド（flusulfamide）、フルチアニル（flutianil）、フルトラニル（flutolanil）、フルトリアホール（flutriafol）、フルモルフ（flumorph）、プロキナジド（proquinazid）、プロクロラズ（prochloraz）、プロシミドン（procymidone）、プロチオコナゾール（prothioconazole）、ブロノポール（bronopol）、プロパモカルブ塩酸塩（propamocarb-hydrochloride）、プロピコナゾール（propiconazole）、プロピネブ（propineb）、プロベナゾール（probenazole）、ブロムコナゾール（bromuconazole）、ヘキサコナゾール（hexaconazole）、ベナラキシル（benalaxyl）、ベナラキシル・Ｍ（benalaxyl-M）、ベノミル（benomyl）、ペフラゾエート（pefurazoate）、ペンコナゾール（penconazole）、ペンシクロン（pencycuron）、ベンチアバリカルブ・イソプロピル（benthiavalicarb-isopropyl）、ペンチオピラド（penthiopyrad　）、ボスカリド（boscalid）、ホセチル（fosetyl-alminium）、ポリオキシン（polyoxin）、ポリカーバメート（polycarbamate）、ボルドー液（Bordeaux mixture）、マンカッパー（mancopper）、マンコゼブ（mancozeb）、マンジプロパミド（mandipropamid）、マンネブ（maneb）、ミクロブタニル（myclobutanil）、ミルディオマイシン（mildiomycin）、メタスルホカルブ（methasulfocarb）、メタム（metam）、メタラキシル（metalaxyl）、メタラキシル・Ｍ（metalaxyl-M）、メトコナゾール（metconazole）、メトミノストロビン（metominostrobin）、メトラフェノン（metrafenone）、メパニピリム（mepanipyrim）、メプロニル（mepronil）、硫酸オキシキノリン（oxyquinoline sulfate）及び硫酸銅（copper sulfate）。

　以上の農薬は例えば、ザ・ペスティサイド・マニュアル（The Pesticide Manual）第１３版［ブリティッシュ・クロップ・プロテクション・カウンシル（British Crop Protection Council）発行、２００４年］、シブヤインデックス　第１０版、第１１版、及び第１２版（SHIBUYA INDEX 10th Edition、11th Edition、and　12th Edition、発行者：SHIBUYA INDEX研究会）、月刊ファインケミカル２００６　第３５巻　第７号 (シーエムシー出版発行、２００６年)に記載されているか、公知のものである。

　又、本発明の除草剤の薬害軽減剤及び除草性組成物は、上記任意の組み合わせを水溶性フィルムで包装した形態にしてもよく、このようにすると、その使用に際し、省力化に資し、又、安全性を高めることができる。

　又、本発明の除草剤の薬害軽減剤又は除草性組成物をイネに対して用いる場合、イネを本田に移植する前に育苗箱に使用することによって用いることもできる。

　一方、本発明による除草剤の薬害軽減方法は、前記３，４－ジハロゲノイソチアゾール誘導体又はその塩からなる本発明の薬害軽減剤を、上記に記載した除草剤と共に、栽培植物に使用又はこれを処理するものであるが、この薬害軽減方法においては、上記薬害軽減剤と除草剤を同時に使用してもよいし、又、近接使用してもよい。ここで近接使用とは、除草剤による対象作物の薬害が顕現しないうちに、除草剤の使用からの期間を近接させて薬害軽減剤を使用することを意味する。具体的な期間としては、除草剤によっても異なるが１～３０日、好ましくは２～２０日、より好ましくは３～１５日である。

　又、同時使用については、レディミックスの形態で適用することができ、例えばあらかじめ製剤化された本発明の除草性組成物を用いてもよいし、又、上記薬害軽減剤と除草剤とを別個に用意し、使用時に混合される現場調合物の形態で、即ちタンクミックスの形態で適用することもできる。

　更に、本発明による除草剤の薬害軽減方法は、上記薬害軽減剤と除草剤により、栽培植物の種子又は苗等の生育中の植物本体に処理することもできる。

　本発明の薬害軽減剤及び除草性組成物が適用できる畑地及び水田の栽培植物の種類は特に限定されないが、水田の栽培植物としてはイネ、ハス等があげられ、畑地の栽培植物としては、コムギ、ライムギ、オオムギ、エンバク等の麦類、トウモロコシ、ソルガム等の雑穀類、ダイズ、ラッカセイ等の豆類、ダイコン、ネギ等の野菜類、バレイショ等のいも類、カンキツ、リンゴ、ナシ、ブドウ、バナナ、オリーブなど果樹類、カーネーション、バラ等の花き類、ヘデラ等の観葉植物、ツツジ、サクラ、ウメ等の樹木類、ワタ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、テンサイ、チャ、タバコ、コーヒー、牧草、シバ、イグサ、イネ等、が挙げられ、コムギ、ライムギ、オオムギ、エンバク、イネ、トウモロコシ、ソルガム、ワタ又はダイズ等が好適であり、特にイネが好適である。

　本発明の除草剤の薬害軽減剤及び除草性組成物の製造方法は特に制限されないが、通常、以下の方法が用いられる。
１．全原料の混合品に適当量の水を加えて混練後、一定の大きさの穴をあけたスクリーンから押し出し造粒し乾燥する方法。
２、上記一般式［Ｉ］で表される化合物又はその塩と除草剤、及び、必要に応じ界面活性剤を有機溶剤に溶解又は懸濁し、担体に吸着させる方法。
３．全原料の混合品を、適当な粉砕機で混合粉砕する方法。

　以下、一般式［Ｉ］で表される化合物の製造例、本発明の薬害軽減剤で用いる製剤例並びに試験例を下記に具体的に説明するが、本発明はこれらの例に何ら制約されるものではない。尚、以下の説明において「％」は質量百分率を示す。

　［製造例１］
　（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　ベンゾエートの製造（化合物番号ＩＩ‐１）
　３，４－ジクロロイソチアゾール－５－カルボン酸４．０ｇ（２０．３ｍｍｏｌ）に、オキザリルクロリド８ｍｌと触媒量のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を加え、５０℃で３０分撹拌した。反応混合物を減圧下で濃縮して３，４－ジクロロイソチアゾール－５－カルボン酸クロリドを得た。

　水素化ホウ素ナトリウム１．９ｇ（５０．５ｍｍｏｌ）を水４０ｍｌに懸濁させ、この懸濁液に、前記で製造した３，４－ジクロロイソチアゾール－５－カルボン酸クロリドのＴＨＦ（４ｍｌ）溶液を１０～１５℃で滴下した。１５℃で３０分撹拌した後、クエン酸水溶液を加えて弱酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。得られた結晶をヘキサンで洗浄し、無色結晶（融点９４－９５℃）の（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メタノール３．０ｇ（収率８１％）を得た。
　　　^１Ｈ－ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ　δ（ｐｐｍ））：2.28(1H, bs), 4.96(2H, s)ppm

　前記で製造した（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メタノール３．０ｇ（１６．３ｍｍｏｌ）とベンゾイルクロライド２．５２ｇ（１７．９ｍｍｏｌ）をトルエン７０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン１．９８ｇ（１９．６ｍｍｏｌ）を氷冷下で滴下した。室温で３時間撹拌した後、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた結晶をヘキサンで洗浄し、無色結晶（融点７９－８０℃）の（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　ベンゾエート４．１ｇ（収率８７％）を得た。
^１Ｈ－ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ　δ（ｐｐｍ））：5.54(2H, s), 7.45-7.50(2H, m), 7.59-7.64(1H, m), 8.05-8.08(2H,m)

　［製造例２］
　（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　チオアセテートの製造（化合物番号Ｉ‐２８）
　トリフェニルホスフィン２．８５ｇ（１０．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５０ｍｌ溶液に、氷冷下アゾジカルボン酸ジイソプロピル２．２ｇ（１０．９ｍｍｏｌ）を加え３０分撹拌した。この溶液に（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メタノール１．０ｇ（５．４３ｍｍｏｌ）とチオ酢酸０．８３ｇ（１０．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液を加え、室温で５時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡赤色油状物質（屈折率１．５８５５）の（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　チオアセテート０．４２ｇ(収率３２％)を得た。
^１Ｈ－ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ　δ（ｐｐｍ））：2.41(3H, s), 4.24(2H, s)

　［製造例３］
　（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　４－ｔｅｒｔ-ブチルベンゾエートの製造（化合物番号ＩＩ‐１９０）
　（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メタノール１．０ｇ（５．４３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル１５ｍｌ溶液に炭酸カリウム０．９８ｇ（７．０９ｍｍｏｌ）を加えて撹拌し、氷冷下４－ｔｅｒｔ－ブチルベンゾイルクロリドライド１．２８ｇ（６．５１ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で１時間反応後、反応液を水にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、得られた結晶をメタノールで洗浄することで無色結晶（融点５２-５５℃）の（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　４－ｔｅｒｔ-ブチルベンゾエート１．３ｇ（収率７０％）を得た。
^１Ｈ－ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ　δ（ｐｐｍ））：1.34(9H, s), 5.51(2H, s), 7.49(2H, d), 7.99(2H, d)

　［製造例４］
　（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　３，４－ジクロロベンゾエートの製造（化合物番号ＩＩ‐２９５）
　（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メタノール０．３５ｇ（１．９０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル５ｍｌ溶液に炭酸カリウム０．３２ｇ（２．３２ｍｍｏｌ）を加えて撹拌し、氷冷下３，４－ジクロロベンゾイルクロライド０．４４ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で１時間反応後、反応液を水にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、得られた結晶をメタノールで洗浄することで無色結晶（融点１２４-１２６℃）の（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　３，４－ジクロロベンゾエート０．５ｇ（収率７４％）を得た。
^１Ｈ－ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ　δ（ｐｐｍ））：5.54(2H, s), 7.57(1H, d), 7.88(1H, m), 8.13(1H,d)

　［製造例５］
　（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　２，６－ジクロロイソニコチネートの製造（化合物番号ＩＩＩ‐１）
　（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メタノール１．５ｇ（８．１５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン１５ｍｌ溶液にトリエチルアミン０．９９ｇ（９．７８ｍｍｏｌ）を加えて撹拌し、氷冷下２，６－ジクロロイソニコチン酸クロライド１．８ｇ（８．５５ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で１時間反応後、反応液を水にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、得られた結晶をメタノールで洗浄することで無色結晶（融点９２-９３℃）の（３，４－ジクロロイソチアゾール－５－イル）メチル　２，６－ジクロロイソニコチネート２．４２ｇ（収率８３％）を得た。
^１Ｈ－ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ　δ（ｐｐｍ））：5.58(2H, s), 7.82(2H, s)

　前記製造法に準じて製造した化合物［Ｉ］の物性値を、前記製造例を含め表１６に示す。

　次に代表的な製剤例を挙げて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は質量部を意味する。

　［製剤例１］　粉剤
　化合物番号Ｉ－１の化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２部
　珪藻土　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
　クレー　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９３部
　以上を均一に混合粉砕して粉剤とした。又、化合物番号Ｉ－１に代えて、表１～表１５に記載の化合物各々を用いて同様に粉剤を得ることができる。

　［製剤例２］　水和剤
　化合物番号ＩＩ－１９０の化合物　　　　　　　　　　　　　　　５０部
　珪藻土　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５部
　ジナフチルメタンスルホン酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　２部
　リグニンスルホン酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　３部
　以上を均一に混合粉砕して水和剤とした。又、化合物番号ＩＩ－１９０に代えて、表１～表１５に記載の化合物各々を用いて同様に水和剤を得ることができる。

　［製剤例３］　水和剤
　化合物番号ＩＩ－７の化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　１０部
　クレー　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６９部
　珪藻土　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
　β－ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩　　　０．５部
　ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル　　　　　　　　０．５部
　以上を均一に混合粉砕して水和剤とした。又、化合物番号ＩＩ－１７に代えて、表１～表１０に記載の化合物各々を用いて同様に水和剤を得ることができる。

　［製剤例４］　乳剤
　化合物番号ＩＩ－１８４の化合物　　　　　　　　　　　　　　　３０部
　シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
　ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル　　　　　　　　　１１部
　アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム　　　　　　　　　　　　　４部
　メチルナフタリン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５部
　以上を均一に溶解して乳剤とした。又、化合物番号ＩＩ－１８４に代えて、表１～表１５に記載の化合物各々を用いて同様に乳剤を得ることができる。

　［製剤例５］　粒剤
　化合物番号ＩＩ－１８８の化合物　　　　　　　　　　　　　　　　４部
　ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩　　　　　　　　　２部
　リグニンスルホン酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
　カルボキシメチルセルロース　　　　　　　　　　　　　　　　　　２部
　クレー　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８７部
　以上を均一に混合粉砕した。この混合物に水２０部相当量を加えて練合し、押出式造粒機を用いて１４～３２メッシュの粒状に加工したのち、乾燥して粒剤とした。又、化合物番号ＩＩ－１８８に代えて、表１～表１５に記載の化合物各々を用いて同様に粒剤を得ることができる。

　［試験例］
　製剤例２に準じて調製した上記薬害軽減剤の水和剤を所定の濃度になるように水で希釈した溶液５ｍＬと除草剤を所定の濃度になるように希釈し、溶液１００μＬを試験管に注入した。この試験管を撹拌しながら１％寒天溶液２０ｍＬを加えることにより、所定濃度の薬害軽減剤及び除草剤を含む寒天培地を調製した。この寒天培地上に、テクリードＣフロアブル２００倍での１５℃、１日間の種子消毒に加え１５℃、４日間の浸種を行った後３０℃で催芽させたイネ籾（品種コシヒカリ）４粒を播種し、２８℃で栽培した。播種７日後に茎葉部の長さを測定し、無処理区に対する比率を算出した。結果を表１７に示す。

　以上より、一般式［Ｉ］で示される化合物を添加した試験区の方が、除草剤のみを用いた比較区に比し、地上部の生育抑制度が小さく、対無処理比（薬害軽減率）が高い。これより本発明の薬害軽減剤の有用性が確認できる。

　本発明による除草剤の薬害軽減剤、薬害が軽減された除草性組成物及びそれを用いる薬害軽減方法除草性組成物は、除草剤を単に使用した場合には薬害症状を生じさせるような除草活性成分量に相当するものであっても、共生する雑草類に対して十分な除草効果を発揮すると共に、対象作物の薬害症状を軽減又は防止しうるという顕著な効果を奏する。

Claims

　一般式［Ｉ］

［式中、Ｘ^１及びＸ^２は、ハロゲン原子を示し、
Ａは、酸素原子又は硫黄原子を示し、
Ｒは、Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい。）、Ｃ_２－Ｃ_５アルケニル基（該基はフェニル基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい。）、Ｃ_２－Ｃ_５アルキニル基、Ｃ_３－Ｃ_６シクロアルキル基、フェニル基（該基は置換基群αから選択される同一又は異なった置換基によってモノ置換又はポリ置換されてもよい。）又は酸素原子、硫黄原子若しくは窒素原子の少なくとも一つを含む５～１０員複素環基（該基は置換基群αから選択される同一又は異なった置換基によってモノ置換又はポリ置換されてもよい。）を表す。］
［置換基群α］
Ｃ_１－Ｃ_６アルキル基、Ｃ_３－Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_１－Ｃ_６ハロアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ_１－Ｃ_５アシル基、カルボキシル基、Ｃ_１－Ｃ_６アルコキシカルボニル基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）カルバモイル基、アミノ基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）アミノ基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルアミド基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルスルホンアミド基、ニトロ基、ヒドロキシル基、Ｃ_１－Ｃ_６アルコキシ基、Ｃ_１－Ｃ_６アシルオキシ基、Ｃ_１－Ｃ_６アルキルスルホニル基、モノ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）スルファモイル基、ジ（Ｃ_１－Ｃ_６アルキル）スルファモイル基
で表される３，４－ジハロゲノイソチアゾール誘導体又はその塩からなることを特徴とする除草剤の薬害軽減剤。
　請求項１に記載の薬害軽減剤と除草剤とを有効成分として含有することを特徴とする薬害が軽減された除草性組成物。
　請求項１に記載の薬害軽減剤を除草剤と組み合わせて使用することを特徴とする除草剤の薬害軽減方法。
　請求項１に記載の薬害軽減剤を
（ａ）除草剤と同時に使用するか、
（ｂ）除草剤と近接使用するか、又は
（ｃ）栽培植物の種子又は生育中の植物本体に処理すること
を特徴とする除草剤の薬害軽減方法。
　栽培植物が、畑地の作物である請求項３に記載の方法。
　栽培植物が、水田の作物である請求項３に記載の方法。